JPS62213136A - Stepper and repeater - Google Patents

Stepper and repeater

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Publication number
JPS62213136A
JPS62213136A JP61054574A JP5457486A JPS62213136A JP S62213136 A JPS62213136 A JP S62213136A JP 61054574 A JP61054574 A JP 61054574A JP 5457486 A JP5457486 A JP 5457486A JP S62213136 A JPS62213136 A JP S62213136A
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JP
Japan
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wafer
probe
support
repeat
devices
Prior art date
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Pending
Application number
JP61054574A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
レツクス ハインド サンドバツチ
アラン プール
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KOODEINEETO TECHNOL Ltd
Original Assignee
KOODEINEETO TECHNOL Ltd
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Publication date
Application filed by KOODEINEETO TECHNOL Ltd filed Critical KOODEINEETO TECHNOL Ltd
Priority to JP61054574A priority Critical patent/JPS62213136A/en
Publication of JPS62213136A publication Critical patent/JPS62213136A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 1東上り旦■会工 本発明は、はぼ平面状のコンポーネントに対してなんら
かの作用をなすために使用されるステップ及びリピート
装置に関する。このようなコンポーネントは、平坦な面
上に配置された矩形アレイを有することを特徴とする、
多数のもののうちの1つとすることができる。本装置は
、連続的に配置されたコンポーネントに対し繰返し作用
をなすために使用されることができる。ステップ及びリ
ピート装置の例として、マイクロプロセッサ−ウェファ
−のプローブ、印刷回路製造装置、レーザトリマ、その
伯のハイブリッド回路製造のための装置を挙げることが
できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 1. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a step and repeat device used to perform some action on a substantially planar component. Such a component is characterized in that it has a rectangular array arranged on a flat surface,
It can be one of many things. The device can be used to perform repetitive actions on components arranged in series. Examples of step and repeat devices include microprocessor-wafer probes, printed circuit manufacturing devices, laser trimmers, and devices for hybrid circuit manufacturing.

従来の技術及びそのp 11、 ウェファ−のプローブ装置は、ウェファ−をプローブヘ
ッドに対して移動させ正確に位置決めすることが要求さ
れる。ウェファ−が一旦置かれると、持上げられてプロ
ーブに接触する。従来の装置は、第1デイメンジヨンに
おいて正確に移動可能な第1ベツド、該第1ベツド上に
装着され、第1デイメンジヨンに垂直な第2デイメンジ
ヨンにおいて正確に移動可能な第2ベツド、及び第2ベ
ツド上に配置されたサポートを備えている。該サポート
は、ウェファ−がプローブに接触せしめられると、リフ
トメカニズムにより上昇せしめられる。
Prior Art and Its Page 11 A wafer probe device is required to move and accurately position the wafer relative to a probe head. Once the wafer is placed, it is lifted into contact with the probe. The conventional apparatus includes a first bed that is precisely movable in a first dimension, a second bed that is mounted on the first bed and that is precisely movable in a second dimension that is perpendicular to the first dimension, and a second bed that is precisely movable in a second dimension. It has a support placed on top. The support is raised by a lift mechanism when the wafer is brought into contact with the probe.

リフトメカニズムは、ウェファ−全体を該ウェファ−へ
の下降のために正確に上昇せしめる必要があるため、か
なり複雑なものとなっている。ウェファ−の位置は、顕
微鏡を使用することにより観察される。設計上の困難は
、顕微鏡、ベッド及びリフトメカニズムを着座状態の使
用者の膝と目との間隔内に納めるように配置することに
ある。
The lift mechanism is fairly complex due to the need to accurately raise the entire wafer for lowering onto the wafer. The position of the wafer is observed using a microscope. The design difficulty lies in locating the microscope, bed, and lift mechanism within knee and eye distance of a seated user.

R皿五里工 本発明によれば、コンポーネントを含むワークピースを
支持するためのサポートとリフト装置とを備え、該サポ
ートはアームにより該サポートを二次元方向に移動させ
るメカニズムに結合されており、前記アームは前記サポ
ートから離れた位置において前記メカニズムに回動可能
に結合されており、前記リフ1〜装置は前記二次元方向
に垂直に且つ前記回動可能な結合部回りに前記サポート
を移動し得るようにされていることを特徴とする電子的
に複合操作可能なステップ及びリピート装置が提供され
る。
According to the present invention, a support for supporting a workpiece including a component and a lifting device are provided, the support being coupled by an arm to a mechanism for moving the support in a two-dimensional direction, and the support being coupled to a mechanism for moving the support in two dimensions, an arm is rotatably coupled to the mechanism at a position remote from the support, and the lift 1-device is capable of moving the support perpendicular to the two-dimensional direction and about the rotatable coupling; An electronically multioperable step and repeat device is provided, characterized in that the step and repeat device is characterized in that:

リフト装置は前記メカニズムから離反していてもよい。The lifting device may be separate from the mechanism.

前記メカニズムは、使用者の膝から目の間における本装
置の長さを短くするために、顕微鏡の下方に配置されな
いのが望ましい。
Preferably, the mechanism is not located below the microscope in order to reduce the length of the device between the user's knees and eyes.

前記メカニズムをwi重ねる必要性を排除することによ
り大きな利点が得られる。リフト装置は、簡単で軽量な
構造とすることができる。前記メカニズムは、リフト装
置を支持するために剛性を有したかなり重量のあるベッ
ドを必ずしも備える必要はない。前記メカニズムは、ダ
ストカバーの下方に覆い隠されることができるが、ワー
クピースと共に移動するベッドはカバーされるのが困難
である。前記メカニズムを覆い隠すことにより騒音が減
少する。ワークピースに対しある作用をなす手段、例え
ばウェファ−取扱装置、レーザマーキング装置、プロー
ブ、ライン幅測定装置等は、簡易化される。本装置の製
造は容易であり、その結果コストが低減する。
Significant benefits are obtained by eliminating the need to overlap the mechanisms described above. The lifting device can be of simple and lightweight construction. The mechanism need not necessarily include a rigid and fairly heavy bed to support the lifting device. The mechanism can be hidden under a dust cover, but the bed moving with the workpiece is difficult to cover. Hiding the mechanism reduces noise. The means for performing certain actions on the workpiece, such as wafer handling equipment, laser marking equipment, probes, line width measuring equipment, etc., are simplified. The device is easy to manufacture, resulting in reduced costs.

X−簾一あ 以下、本発明を、添附図面に示す実施例と共により詳細
に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention will now be described in more detail with reference to embodiments shown in the accompanying drawings.

図示の装置(寸法は必ずしも正確でない)は、アーム(
2)の一端に配置されてワークピースを支持するサポー
ト(1)を備えている。アーム(2)はサポート(1)
から離れた位置にあるヒンジ(3)により回動可能に支
持されている。該回動は、水平軸線回りになされ、ウェ
ファ−を垂直方向に移動させてプローブと接触させるこ
とができるようになっている。ワークピースは、吸引装
置による減圧を作用させることによりサポートに固定さ
れることができる。
The device shown (dimensions not necessarily exact) has an arm (
2) with a support (1) arranged at one end to support the workpiece. Arm (2) is support (1)
It is rotatably supported by a hinge (3) located at a distance from. The rotation is about a horizontal axis, allowing the wafer to be moved vertically into contact with the probe. The workpiece can be secured to the support by applying reduced pressure by means of a suction device.

アーム(2)及びサポート(1)が重心回りに回動し得
るように、カウンタバランス(4)が配置されている。
A counterbalance (4) is arranged so that the arm (2) and the support (1) can rotate around the center of gravity.

これにより、アームは構造簡単とされ庶価な板金構造と
することができる。このカウンタバランスに代えて、装
置の慣性を減少させるためにスプリングを用いることも
できる。モータ(5)は、サポート(1)のチャック又
は受は皿(6)に結合された覆い隠されているチェーン
ループ(図示せず)を駆動する。チャック(6)は、垂
直軸線<2)回りに回転可能とされている。
This allows the arm to have a simple and inexpensive sheet metal structure. As an alternative to this counterbalance, a spring can also be used to reduce the inertia of the device. A motor (5) drives a concealed chain loop (not shown) which is connected to the chuck or receiver of the support (1) to the pan (6). The chuck (6) is rotatable about a vertical axis <2).

モータ(5)は、チャック(6)に固定されたワークピ
ースの各変位(θ)を調節するための手段として作用す
る。
The motor (5) acts as a means for adjusting the respective displacement (θ) of the workpiece fixed on the chuck (6).

ヒンジ(3)は、アーム及びサポートを2つの相互に垂
直な方向(×及びy)に移動可能とするメカニズムに結
合されている。
The hinge (3) is connected to a mechanism that allows the arm and support to move in two mutually perpendicular directions (x and y).

ヒンジ(3)が垂下しているブロック(7)は、正確に
機械加工されたバー(8)上においてX軸方向に摺動し
得るように配置されている。モーター(10)により駆
動されるボールねじ(9)は、ブロック(7)内のボー
ルナツトと係合し、ブロック(7)をバー(8)に沿っ
て駆動する。バー(8)のエンドサポート(11)、(
12)は正確に機械加工されたバー(13)、(14)
上において各々y軸方向に摺動可能に配置されている。
The block (7) from which the hinge (3) depends is arranged so that it can slide in the X-axis direction on a precisely machined bar (8). A ball screw (9) driven by a motor (10) engages a ball nut in the block (7) and drives the block (7) along the bar (8). End support (11) of bar (8), (
12) Precisely machined bars (13), (14)
They are each arranged slidably in the y-axis direction on the top.

バー(13)、(14)はバー(8)に対して垂直に設
けられている。モーター(17)により駆動されるボー
ルねじ(15)及びチェーンドライブ(16)は、エン
ドサポート(11)を駆動する。
Bars (13), (14) are provided perpendicularly to bar (8). A ball screw (15) and chain drive (16) driven by a motor (17) drives the end support (11).

(xly)メカニズムは、4つの正確に機械加工された
サポート(18)上に配置されている。
(xly) The mechanism is placed on four precisely machined supports (18).

Z軸回りのチャック(6)の回動は、リフトメカニズム
(19)により制御される。リフトメカニズム(19)
は、ドライブベルト(20)及びモータ(2])により
駆動されるねじ装置の如きものである。チャック(6)
は、リフトメカニズム上に単に置かれているだけであっ
て固着されてはいない。
Rotation of the chuck (6) around the Z-axis is controlled by a lift mechanism (19). Lift mechanism (19)
is like a screw device driven by a drive belt (20) and a motor (2). Chuck (6)
is simply placed on the lift mechanism and is not attached to it.

本発明の利点は、装置の組立て段階を考慮すれば明らか
である。
The advantages of the invention are clear when considering the assembly stage of the device.

まず最初に、ベースプレート(図示せず)を機械加工す
ることにより4つの相互に平面をなす丈ボート又は設置
部(18)が形成される。X軸及びy軸方向に延びるベ
ッドを備えた従来の装置は、その重量全体を支持するよ
うにベースプレート全体を機械加工することを必要とし
た。
First, four mutually planar length boats or mounts (18) are formed by machining a base plate (not shown). Previous devices with beds extending in the X and Y axes required the entire base plate to be machined to support its entire weight.

相互に平行なシャフト(13)、(14)が、設置部(
18)に結合された廉価な循環式ボールブツシュを通し
て配置される。シャフト(13)、(]4)はゲージを
使用して容易に位置決めされる。
Shafts (13) and (14) parallel to each other are connected to the installation part (
18) through an inexpensive recirculating ball bushing connected to 18). The shafts (13), (4) are easily positioned using gauges.

クロスバ−(8)は、バー(13)、(14)間のエン
ドサポート(11)、(12〉上に装着される。従来の
装置においては、直交する軸上で移動可能とされたベッ
ド間にクロステーブルが吊り下げられていた。
The crossbar (8) is mounted on the end supports (11), (12) between the bars (13), (14). A cross table was suspended from the ceiling.

アーム(2)はバー(8)上に装@される。バー(8)
の直角度は、サポート(1)上に装着されたウェファ−
の正確に直角をなすグリッドを利用することにより容易
に確かめられる。
The arm (2) is mounted on the bar (8). Bar (8)
The squareness of the wafer mounted on the support (1)
This can be easily verified by using an exactly perpendicular grid.

X1yメカニズムのメインテナンスは、サポート(1)
の妨げにはならない。これに対し従来の装置においては
、サポートはx1yメカニズム上に載置されていたため
この利点が得られなかった。
Maintenance of the X1y mechanism is supported (1)
It will not be a hindrance. In contrast, in conventional devices this advantage was not available because the support was placed on the x1y mechanism.

x、yメカニズムが軽量な構造となっているため、本装
置のために軽量な循環式ボールねじを使用することがで
きる。従来の装置では、より高価なボールねじ又は親ね
じが使用されていた。
The lightweight construction of the x,y mechanism allows the use of lightweight recirculating ball screws for the device. Previous devices used more expensive ball screws or leadscrews.

本発明は、ウェファ−のプローブ、ウェザトリマー、そ
の他の複合回路及び他の電子的コンポーネントの製造装
置に適用することができる。
The present invention can be applied to manufacturing equipment for wafer probes, weather trimmers, other composite circuits, and other electronic components.

前述の構成に加えて、本装置には、マイクロプロセッサ
−によるコンi・ロールシステム、テストされるウェフ
ァ−のエツジを検出するエツジセンサー、及び不良チッ
プにインクマークを付けるためのマーカーを備えること
ができる。本装置は使用の際に、プローブの接触子(コ
ンタクツ)に結合されたチップをテスi・するためのホ
ストコンピュータシステムに結合される。
In addition to the above configuration, the apparatus may include a microprocessor-based control system, an edge sensor for detecting the edge of the wafer being tested, and a marker for marking defective chips with ink. can. In use, the apparatus is coupled to a host computer system for testing the tips coupled to the contacts of the probe.

該コントロールシステムは、チャックの高さ及び姿勢に
関し顕微鏡により認識され得る程度の精度を以て使用者
が手動により及び自動的に位置をコントロールすること
を可能にする。該コントロールシステムは、メインサブ
システム及び2つのモータコントロールサブシステムと
いう3つのサブシステムを備えている。メインサブシス
テムは、キーボード及び表示管(VDU)ディスプレイ
等のユーザーシステムのインターフェースを作動させる
役割をなす。モーターを作動させるモーターコントロー
ルサブシステムの運転は、メインサブシステムにより制
御される。メインサブシステムはまた、ホストコンピュ
ータと連絡をなし、ホストコンピュータのインターフェ
ースを制御し、エツジ検出装置及びチップマーカーを制
御する。
The control system allows the user to manually and automatically control the position of the chuck with microscopically perceivable precision regarding the height and orientation of the chuck. The control system includes three subsystems: a main subsystem and two motor control subsystems. The main subsystem is responsible for operating the user system interface, such as the keyboard and display unit (VDU) display. The operation of the motor control subsystem that operates the motor is controlled by the main subsystem. The main subsystem also communicates with the host computer, controls the host computer interface, and controls the edge detection device and chip markers.

モーターコントロールサブシステムは、ホストコンピュ
ータと連絡を取り、各々のモーターを作動させるだめの
シグナルを発する。モーターの加速及び減速並びに保護
機能はこれらのザブシステムにより制御される。ユーザ
ーシステムのインターフェースにおけるキーボードは次
のキーを備えることができる。
The motor control subsystem communicates with the host computer and issues signals to activate each motor. Acceleration and deceleration of the motor as well as protection functions are controlled by these subsystems. The keyboard at the user system interface may include the following keys:

1)DISP−このキーはシステムの開始及び終了をさ
せる。
1) DISP - This key starts and stops the system.

ii>HOME−このキーは゛)−(OME”の段階又
はロードポジションへの復帰をなす。
ii>HOME--This key returns to the ")-(OME" stage or load position.

iii>PAUSE−このキーはオペレータにポーズ又
は機能の一時停止をさせる。
iii>PAUSE - This key causes the operator to pause or pause a function.

1V)VAC−このキーは減圧を維持し又は解除する回
路をオペレーターが入切するのを可能にする。
1V) VAC - This key allows the operator to turn on and off the circuit that maintains or releases the vacuum.

l LCL−このキーは装置が支障を来たし又は誤動作
をなした時にオペレーターがホストコンピュータを停止
させることを可能にする。
l LCL - This key allows the operator to shut down the host computer when the device malfunctions or malfunctions.

vi)MARK−このキーは疑問が生じたときに使用さ
れるサブ機能に基づく幾つかの機能を有している。
vi) MARK - This key has several functions based on sub-functions that are used when a question arises.

vii)CONT−このキーは’PAUSED”のキー
操作の後にオペレーターが作動を継続するのを可能にす
る。
vii) CONT - This key allows the operator to continue operation after a 'PAUSED' keystroke.

viii)DEL−このキーは先に入れられたデータを
オペレータがデリートすることを可能にする。
viii) DEL - This key allows the operator to delete previously entered data.

1X)ENTER−このキーはオペレータが選択した機
能又はサブ機能を取り込ませること、又は一連のデータ
付与を終了させることを可能にする。
1X) ENTER - This key allows the operator to enter a selected function or subfunction, or to terminate a series of data presentations.

x)”numer i c”−これらのキーはオペレー
タが、インデックスサイズ、Z軸方向リフトパラメータ
等を選択又は修正するために数字データを入れることを
可能にする。
x) "Numer ic" - These keys allow the operator to enter numerical data to select or modify index size, Z-axis lift parameters, etc.

ホストシステムは、26本のバスに沿って各モーターコ
ントロールサブシステムと連絡をする。
The host system communicates with each motor control subsystem along 26 buses.

バス(ローカルバス)は次のものを含んでいる。The bus (local bus) includes:

データアウト(Data 0ut) −バイナリ−コード化されたデシマルデータのライン4
本 データイン(Data In ) 一バイナリーコード化されたデシマルデータのライン4
本 スティタスイン(Status In )−周辺装置(
co−processor )の状態表示のためのライ
ン4本 スティタスアラl−(Status 0ut)−中央処
理装置(ma i n−prOcessOr )の状態
表示のためのライン4本 ドライブ セレクトアウト(Drive 5elect
 0ut)−任意の時点でバスを分断(share )
 シて最大8個の周辺袋@ (co−processo
rs >を許容するライン8本 基準電源(Reference 5upplies>−
=QVから5■のロジック電圧を発生するように組合せ
られるライン2本 ローカルバスに沿って授受されたデータは2種類の主要
なタイプの数値を有している。
Data 0ut - Line 4 of binary-encoded decimal data
Main data in (Data In) Line 4 of binary coded decimal data
Status In - Peripheral equipment (
4 lines for displaying the status of the co-processor (Status 0ut) - 4 lines for displaying the status of the central processing unit (main-processor) Drive select out (Drive 5 select)
0ut) - share the bus at any time
Up to 8 peripheral bags @ (co-processo
8 line reference power supply that allows rs > -
The data passed along the two lines local bus which are combined to produce a logic voltage of =QV to 5■ has two main types of values.

i)絶対的な位置データ(2つの軸のためのもの)ii
)条件付停止位置(”5top *hen ” pos
itiondata )データ(2つの軸のためのもの
)ホストコンピュータ コミュニケーションシステムは
、制御を実行可能とし、システムの遠隔からの、即ちオ
ンラインによるウェファ−パラメータの、設定又は修正
を可能にする。
i) Absolute position data (for two axes) ii
) Conditional stop position ("5top *hen" pos
tiondata) data (for the two axes) The host computer communication system enables control and allows setting or modification of wafer parameters remotely, ie on-line, of the system.

2つのコミュニケーションシステムのいずれかを経た情
報交換は、次の2つのカテゴリーに分類される。
Information exchange via either of the two communication systems falls into two categories:

i)「バラシーブ(PaSSiVe ) J D?ラン
ド−のコマンドはコマンド実行後に位置の変化を生ぜし
めないものである。
i) The PaSSiVe JD?Land command does not cause a change in position after the command is executed.

ATE/テスター インターフェースは、使用者がプロ
ーブシステムとテストシステムとを結合するのを容易に
する。
The ATE/Tester interface facilitates the user to couple the probe system and the test system.

システムの補助ポートは、エツジ検出システムのモニタ
ー、及び3つのインク付与装置(1nkerdrive
 )回路の起動を可能にする。
The system's auxiliary ports include a monitor for the edge detection system, and three ink applicators (one kerdrive).
) enable activation of the circuit.

パスワード保護システムは、本装置に含まれたデータを
偶然に又は不当に知られるのを防止する。
A password protection system prevents accidental or unauthorized disclosure of the data contained on the device.

本装置は、ウェファ−のエツジを検出し、該ウェファ−
をチップに配置する時間を最小限にとどめるための手段
と共働する。
This device detects the edge of the wafer and
2. Collaborate with measures to minimize the time it takes to place a chip on a chip.

このための従来の手段は、ブレーク設定スイッチのよう
なエツジセンサーとして知られたプローブを2つ用い、
相交られせだアッセンブリとして使用することである。
The conventional means for this is to use two probes known as edge sensors, such as break setting switches.
It is to be used as an intersecting assembly.

ウェファ−との接触があったときにスイッチは開く。接
点が開くことにより、ウェファ−の上にプローブによる
固着物(fixture )が固定されたことが示され
る。接点が閉じたままであるとぎはプローブがウェファ
−のエツジを越えて進んだことを示す。このウェファ−
エツジを越えた進行は、ステージを1つのインデックス
サイズだけy軸方向に前進させる。
The switch opens when there is contact with the wafer. Opening of the contacts indicates that a probe fixture has been secured onto the wafer. A break in which the contacts remain closed indicates that the probe has advanced beyond the edge of the wafer. This wafer
Advancement past the edge advances the stage one index size in the y-axis direction.

本発明装置の好ましい例においては、先行するデバイス
の位置に関するデバイス全体の位置をテストシて決定し
得る機能を備えている。
A preferred embodiment of the device according to the invention is provided with the ability to test and determine the position of the entire device with respect to the position of the preceding device.

システムが左右位置の増減を必要とするか否かを決定す
るため、及び列状に配置されたプローブされるべきデバ
イス全体の長さを決定するために、システムはまずプロ
ーブがウェファ−の4象限のうらのいずれにあるかを決
定する。
To determine whether the system requires an increase or decrease in left-right position, and to determine the overall length of devices to be probed in a row, the system first detects the probes in each of the four quadrants of the wafer. Determine which part of the back of the room is located.

前記4象限は次のように決められる。The four quadrants are determined as follows.

A センターの上か部分一時計文字盤の9時から12時
の間に相当する部分 B センターの上布部分一時計文字盤の12時から3時
の間に相当する部分 Cセンターの1左部分一時計文字盤の6時から9時の間
に相当する部分 D センターの下布部分一時計文字盤の3時から6時の
間に相当する部分。
A: The upper part of the center, which corresponds to the time between 9 o'clock and 12 o'clock on the clock face. B: The upper cloth part of the center, which corresponds to between 12 o'clock and 3 o'clock on the clock face. C: The 1st left part of the center, where the clock face is. The part corresponding to between 6 o'clock and 9 o'clock on D. The lower cloth part in the center. The part corresponding to between 3 o'clock and 6 o'clock on the clock face.

ステージがプローブにより固着すべき物に対し象限Aに
あり、移動方向が左でおる場合は、象限Bに到達するま
で計算は必要とされない。
If the stage is in quadrant A relative to the object to be secured by the probe and the direction of movement is to the left, no calculations are required until quadrant B is reached.

移動方向が右である場合は、エツジが次の右方向のイン
デックスに予知されると、ステージは1つのインデック
スだけ進行し列を左側から短縮する必要がある。
If the direction of movement is right, then when an edge is predicted to the next rightward index, the stage must advance one index and shorten the column from the left.

ステージがプローブにより固着すべき物の位置に関し象
限Bにあり、移動方向が右でおる場合は、象限Aが到達
するまで計算は必要とされない。移動方向が左である場
合は、エツジが次の左方向のインデックスに予知される
と、ステージは1つのインデックスだけ進行し列を右側
から短縮する必要がある。
If the stage is in quadrant B with respect to the position of the object to be fixed by the probe and the direction of movement is to the right, no calculations are needed until quadrant A is reached. If the direction of movement is left, then when an edge is predicted to the next leftward index, the stage must advance one index and shorten the column from the right.

ステージがプローブにより固着すべき物位置に関して象
限Cにあり、移動方向が左である場合は、象限りが到達
するまで計算は必要とされない。移動方向が右である場
合は、次の右方向のインデックスにエツジが予知される
と、ステージは1つのインデックスだけ進行し列は左側
から増加せしめられる必要がある。
If the stage is in quadrant C with respect to the object position to be fixed by the probe and the direction of movement is to the left, no calculations are required until the quadrant is reached. If the direction of movement is right, then when an edge is predicted at the next rightward index, the stage must advance one index and the columns must be incremented from the left.

ステージがプローブにより固着すべき物の位置に関して
象限りにあり、移動方向が右である場合は、象限Cが到
達するまで計算は必要とされない。移動方向が左である
場合は、次の左方向のインデックスにエツジが予知され
るとステージは1つのインデックスだけ進行し列は右側
から増加せしめられる必要がある。
If the stage is in a quadrant with respect to the position of the object to be fixed by the probe and the direction of movement is to the right, no calculations are required until quadrant C is reached. If the direction of movement is to the left, then when an edge is predicted at the next index to the left, the stage must advance one index and the columns must be incremented from the right.

次の進行位置を決定されるための基本的な方法は以下の
質問を含んでいる。
The basic method for determining the next proceeding position includes the following questions.

a)ステージはセンターの左右いずれにめるかb〉ステ
ージはいずれの方向に移動しているかC)前記a)及び
b)から判断して列の長さは増加又は減少のいずれをな
しているか 殆んどの場合システムは、移動方向を既に知得しており
、a)及びC)のみの計算が必要となろう。
a) Is the stage placed to the left or right of the center? b) Which direction is the stage moving? C) Judging from a) and b) above, is the length of the row increasing or decreasing? In most cases the system will already know the direction of movement and will only need to calculate a) and C).

以下は、必要とされる2つのアルゴリズムの例である。Below are examples of the two algorithms required.

co ord 1eft: ; ; cheek lel co−ordinitrsH
if error move to next for
 ri9htok 1eft a: call 1ndex 1eft    H1ndex
 1eftok 1tfts ffiDI/ al、0ffh      Xok f
lagleft−持叱一: 011 al、0ffh      Hset fla
gset lefjjiil−al jq 1eft−failj3 pos−neLquad+ P・s)oリリゴd: 1eft fail 1 1eft−fail−Skip−1x left rail 1a: endof−sliceノefts left fail 2富 call  calc next−tight    
 He@rrectleft fail 2 x: call 1ndex dov    ; do口1e
ft fail 2a: 1eft fail 3: call cale next−right  ; c
orrectleft fail 3at call 1ndex 1eft    1 do口1
eft−fail−skipj: !IOV  al、O;  set  chan9e 
 direetj。
co ord 1ef: ; ; cheek lel co-ordinitrsH
if error move to next for
ri9htok 1eft a: call 1ndex 1eft H1ndex
1eftok 1tfts ffiDI/ al, 0ffh Xok f
lagleft-Mochishoichi: 011 al, 0ffh Hset fla
gset lefjjiil-al jjq 1ft-failj3 pos-neLquad+ P・s)olirigo d: 1ef fail 1 1ef-fail-Skip-1x left rail 1a: endof-sli ce no left fail 2 wealth call calc next-tight
He@rrectleft fail 2 x: call 1ndex dov; do mouth 1e
ft fail 2a: 1ef fail 3: call cale next-right; c
orrectleft fail 3at call 1ndex 1eft 1 do mouth 1
eft-fail-skipj: ! IOV al, O; set chan9e
direetj.

jmp 1eft−test−end    ; 1o
op backco−ord−riot: 富 ok−riclht−al call 1ndex−riot    + 1nep
x rightok−ri蛸t: mv al、0ffh       Hok flag
tighI−test−end+ CQI al、0ffh      ; sel fl
agset right−fail−at jmp right−fail−2; pos−neg−quad−right:pos Jo
s Juajrightx9p 5hort oL−r
j%t−a   H1aop passedf15ht
−fail−1: right−failja: end−of−slice−right:right−
fail−2: call cale−next−1eft   ; c
orrectrightゴaij2−x: right−fail−2a: vIgh電−fail−3+ call caler+exすert    ; co
rrect、tight−fail−3as 幽−cal−upt do cal dawaH ’)mp TaTa6−6o       i ((r
ad) K (rad) −(deB−ckw) X 
(6pst−dounlJ由(all 1r: public das−fit、up−fロdo端fロ
f ok down a: call 1ndex rkkIni do口社−―; m0w  al、Drfh             
Hak  fla+3dcw−test−end+ clIPal、0ffh     B set fla
gset 6□)all−at jq down−fai13 posJos−quad−m1+Tl+pos−neg
−quad6oVns これらのアルゴリズムは、プローブにより固着すべき物
に関してウェファ−の1つの点がいずれに位置するかを
決定する。テストされるべき[ダイ(die ) J又
はデバイスは常に2つの方向についてであるので、ソフ
トウェアは「ダイ」を理論的なウェファ−エリア内に「
フィツト」するように寸法決めをなす必要がある。
jmp 1eft-test-end; 1o
op backco-ord-riot: wealth ok-rich-al call 1ndex-riot + 1nep
x rightok-ri octopus: mval, 0ffh Hok flag
tighI-test-end+ CQI al, 0ffh; sel fl
agset right-fail-at jmp right-fail-2; pos-neg-quad-right:pos Jo
s Juajrightx9p 5hort oL-r
j%t-a H1aop passedf15ht
-fail-1: right-failja: end-of-slice-right: right-
fail-2: call cale-next-1eft; c
orrectrightgoaij2-x: right-fail-2a: vIghden-fail-3+ call caler+exert; co
rrect, tight-fail-3as ゆ-cal-upt do cal dawaH')mp TaTa6-6o i ((r
ad) K (rad) −(deB-ckw) X
(6pst-dounlJ Yu (all 1r: public das-fit, up-fro do endfro fok down a: call 1ndex rkkIni doguchisha---; m0w al, Drfh
Hak fla+3dcw-test-end+ clIPal, 0ffh B set fla
gset 6□) all-at jq down-fai13 posJos-quad-m1+Tl+pos-neg
-quad6oVns These algorithms determine where a point on the wafer is located with respect to the object to be fixed by the probe. Since the die or device to be tested is always about two directions, the software places the die within the theoretical wafer area.
It is necessary to determine the dimensions to ensure a good fit.

ウェファ−のエツジは通常、次の2つの理由から僅かに
非円形とされている。
The edges of the wafer are typically slightly non-circular for two reasons.

i)方向決め及び加工のために「平坦」部分を有するも
のが使用される。
i) Those with "flat" parts are used for orientation and processing.

ii)ウェファ−のエツジは面取りをされる。ii) The edges of the wafer are chamfered.

本発明装置によれば、非円形ウェファ−により生じる種
々の難点は次のような仮定をおくことにより克服される
。即ちウェファ−における「平坦コな部分は、工業的標
準により決められる寸法を補足して扱う。また面取り部
分は、ウェファ−の周縁部において完全であるデバイス
から、テストすべき部分を一部排除したものとして扱う
According to the apparatus of the present invention, various difficulties caused by non-circular wafers are overcome by making the following assumptions. That is, flat areas on the wafer are treated as supplementary to the dimensions determined by industry standards, and chamfers are used to remove part of the part to be tested from the complete device at the periphery of the wafer. Treat it as a thing.

この問題はウェファ−上に残存するスペースに1個半の
デバイスをフィツトさせることができるか否かを計算す
るという、前掲のアルゴリズムに似通った方法により解
決される。この方法を使用することにより、複数のエツ
ジセンサを設ける必要がなくなり、適切な縦横比のウェ
ファ−の場合に従来の装置において発生し得たチェック
の完全性の欠如を回避することができる。
This problem is solved by a method similar to the algorithm described above, which calculates whether one and a half devices can fit into the space remaining on the wafer. Using this method eliminates the need for multiple edge sensors and avoids the lack of completeness of the check that can occur in conventional equipment with wafers of proper aspect ratio.

プローブカードのチップは、一般的に共通な面内に存在
するように配置される。プローブカードの支障に対して
3つの理由が見出された。
The tips of the probe card are generally arranged so that they lie in a common plane. Three reasons were found for probe card failure.

i)チャック面に対するワークピースホルダーの機械的
な配置ミスにより生じるウェファ−面とプローブにより
固着すべき物との間の平面性の欠如 11)プローブシステムが、不完全なデバイスをプロー
ブすることにより不均一な応力をプローブに生ぜしめる
こと。殆んどの場合、これは通常のエツジ検出技術を使
用する際の過度の動作(トラベル)により発生する。
i) lack of planarity between the wafer surface and the object to be secured by the probe caused by mechanical misalignment of the workpiece holder relative to the chuck surface; To create uniform stress on the probe. In most cases, this is caused by excessive travel when using conventional edge detection techniques.

1ii)既に死滅した如き不適切なリフト動作をするチ
ャックを用いる場合、即ちソレノイドにより作動するチ
ャックリフトメカニズムを用いる場合である。これは、
ウェファ−及びプローブ(より固着すべき物に適用され
た場合に、過度の瞬間的な力を発生する。これに起因す
るプローブチップの[スイッチバウンド(SWitCh
l)Quince ) Jにより予測不可能な接触に伴
う現象が生じ、パラメータに基づくテスト結果に劇的な
影響を与える。
1ii) When using a chuck with improper lifting action, such as one that is already dead, i.e. when using a solenoid actuated chuck lift mechanism. this is,
When applied to wafers and probes, it creates excessive instantaneous force, which can cause probe tip switch bounce (SWitCh).
l) Quince) J causes unpredictable contact-related phenomena that dramatically affect parametric test results.

本発明はこれらの問題を次のようにして解決する。The present invention solves these problems as follows.

前述の如くエツジ検出装置を備えることにより、不完全
なデバイスをプローブする危険を排除する。
Providing an edge detection device as described above eliminates the risk of probing a defective device.

エツジ検出回路を高さ検出機能のみに基づいて使用する
ように制限する(ウェファ−の到着をウェファ−に対向
するようにして検出する)ことによりチャックは必要な
高さだけリフトを行ない、プローブにより固着すべき物
をバウンドさせることはない。
By restricting the edge detection circuit to use only the height sensing function (detecting the arrival of the wafer facing the wafer), the chuck can be lifted to the required height and the probe It doesn't bounce things that should stick.

チャックリフトメカニズムの機械的な精度は、独特の[
[l−リフト(platter−1ift) Jプッシ
ャーアッセンブリにより得られる。切断工程又はスライ
ス工程に起因するウェファ−におけるどのように小さな
テーパにも適合するような微小なチャックリフトの増加
がこれにより可能となる。
The mechanical precision of the chuck lift mechanism is unique [
[l-lift (platter-1ift) obtained by J-pusher assembly. This allows for small chuck lift increases to accommodate any small taper in the wafer due to the cutting or slicing process.

前述のシステムにおけるチャックリフトは、上下への各
ステップ後約6.3X 10−’ctn(0,0002
5インチ)の精度で行なうことができる。このような精
度のよいチャックリフトにより、信頼性のある正確なプ
ローブ力が維持され得る。
The chuck lift in the system described above is approximately 6.3X 10-'ctn (0,0002
This can be done with an accuracy of 5 inches). With such precise chuck lift, reliable and accurate probe force can be maintained.

本装置は、ウェファ−が検出された最後の位置における
高さをストアー可能とすることができる。
The apparatus may be capable of storing the height at the last position at which the wafer was detected.

ウェファ−のテーパの許容幅を+1.27X10−一〜
−1、27x 10−3as(±0.0005インチ)
としてサーチを行なうことにより、エツジセンサの誤動
作によるプローブにより固着すべき物の破損の虞れを排
除することができる。
Increase the allowable width of the wafer taper by +1.27X10-1~
-1, 27x 10-3as (±0.0005 inch)
By performing the search as follows, it is possible to eliminate the possibility of damage to the object to be fixed by the probe due to malfunction of the edge sensor.

不良デバイスは、直径7.6X 10−2on(0,0
30インチ)までのインクドツトによりマークされる。
The defective device has a diameter of 7.6X 10-2on (0,0
marked by an ink dot up to 30 inches).

プローブにより固着すべき物のチップをインクドツトを
くぐらせて移動することに起因して他の問題が生じる。
Other problems arise due to moving the tip of the object to be fixed by the probe past the ink dot.

インクドツト装置は、2.0X10−”arp(0,0
08インチ)から2.3X10−”cm (0,009
インチ)の高さを以てウェファ−面の上方に存在するた
め、プローブチップはマーキングインクにより被覆され
る虞れがある。この場合は、テストシステムとテストさ
れるべきデバイスとの間に部分的な又は全体的な電気絶
縁が生じることがある。
The ink dot device is 2.0X10-” arp(0,0
08 inches) to 2.3X10-”cm (0,009
inches) above the wafer surface, the probe tip may be coated with marking ink. In this case, partial or total electrical isolation may occur between the test system and the device to be tested.

この問題を解決するため、隣りのデバイスへ進む次のイ
ンデックスの間該デバイスがマークされていた(インク
を付与されていた)が否かを記憶する機能を有している
。取扱中のデバイスがインクを付着したものである場合
は、障害となるインクの「山」を除去するために予めプ
ログラムされた量だけチャックが下降せしめられる。デ
バイスがテストをバスした場合、チャックは必要な量だ
け下降し、ウェファ−の清浄な面にプローブチップが作
用することを確実とされる。
To solve this problem, it has the ability to remember whether a device was marked (inked) or not during the next indexing proceeding to the neighboring device. If the device being handled has ink on it, the chuck is lowered a preprogrammed amount to remove the obstructing "pile" of ink. If the device passes the test, the chuck is lowered the required amount to ensure that the probe tip interacts with the clean side of the wafer.

プローブにより固着すべき物の寿命がエツジセンサーの
誤動作に基づき不当に早められるという更に他の問題が
ある。この問題を解決するために、チャックリフトサイ
クルにおいて物理的なポイントが設置されている。この
点においてエツジセンサは開閉するようにされている。
Yet another problem is that the life of the object to be secured by the probe is unduly accelerated due to edge sensor malfunction. To solve this problem, physical points are installed in the chuck lift cycle. At this point, the edge sensor is adapted to open and close.

所定の開閉動作をエツジセンサが行なわない場合は、チ
ャックシステムは動作を停止し、オペレータは問題が生
じたことを知らされる。これにより、プローブにより固
着すべき物及びテスト中のウェファ−に更に損傷が及ぶ
ことが防止される。
If the edge sensor does not perform the predetermined opening/closing motion, the chuck system will cease operation and the operator will be notified that a problem has occurred. This prevents further damage to the object to be secured by the probe and to the wafer under test.

ステップ及びリピート装置システムのソフトウェアは、
ユーザーがアクセスしないローカルバスを内部に備えて
いる。
The step and repeat device system software is
It has an internal local bus that is not accessed by users.

このローカルバスは、前述の如く物理的に形成されてい
る。ローカルバスは、1つのコントローラーインターフ
ェースと2つのモーターコントロール周辺プロセッサー
とをサポートする。
This local bus is physically formed as described above. The local bus supports one controller interface and two motor control peripheral processors.

ローカルバスインターフェースは、任意の相互に好都合
な時に、選択された周辺プロセッサーに対し情報のリー
ド及びライトを行なうという容易さを有している。この
好都合な「時」は、空回線と使用中回線とのポーリング
を行なうメインプロセッサーにより確かめられる。
The local bus interface facilitates reading and writing information to selected peripheral processors at any mutually convenient time. This convenient "time" is ascertained by the main processor which polls free and busy lines.

メインプロセッサーは、1つ又は全ての適用可能な周辺
プロセッサー又はバス(O〜16500を包含する)の
現在位置の開始を行なう能力を有する。
The main processor has the ability to initiate the current location of one or all applicable peripheral processors or buses (including 0 to 16500).

メインプロセッサーはまた、トラベルの任意の地点にお
けるステージの位置を質問する(読出す)能力をも有す
る。
The main processor also has the ability to interrogate (read) the position of the stage at any point of travel.

メインプロセッサーは、所望の位置(0〜16500)
を破壊コマンドとして送ることにより、周辺プロセッサ
ーを各々の軸上の位置に移動するように命令することが
できる。
Main processor at desired position (0-16500)
The peripheral processors can be commanded to move to positions on their respective axes by sending them as destruction commands.

メインプロセッサーは、以下に示すように翻訳される単
一の4ビツトコマンドを周辺プロセッサーに容易に送る
ことができる。
The main processor can easily send a single 4-bit command to the peripheral processor, which is translated as shown below.

0000:rメイン」を時計方向に早く回転させる 0001 : rメイン」を時h゛!!方向くらいの速
度で回転する 0010:rメイン」を時計方向にゆっくり回転させる 0011:rメイン」を時計方向に1ステツプ送る 0100:r補助」を時計方向に停止させられるまで回
転させる 0101 : r補助」を時計方向に1ステツプ送る 0110:次のデータは絶対的な位置である0111:
次のデータは絶対的な目的地を示す1000:rメイン
」を反時計方向に早く回転させる 1001 : rメイン」を反時計方向に中くらいの速
度で回転させる 1010:rメイン」を反時計方向にゆっくり回転させ
る 1011:rメイン」を反時計方向に1ステンプ送る 1100:r補助」を反時計方向に停止させられるまで
回転させる 1101:r補助」を反時計方向に1ステツプ送る 1110: rメイン」軸をリミット“n 99まで駆
動する 1111 : r補助」軸をリミット“n′′まで駆動
する
0000: Rotate r main clockwise quickly 0001: Rotate r main at h゛! ! 0010: Rotate the "r main" clockwise slowly 0011: Send the "r main" one step clockwise 0100: Rotate the "r auxiliary" clockwise until it stops 0101: r auxiliary " is sent one step clockwise 0110: The next data is the absolute position 0111:
The following data indicates the absolute destination 1000: Rotate r main quickly counterclockwise 1001 Rotate r main counterclockwise at medium speed 1010: Rotate r main counterclockwise 1011: Slowly rotate "r main" one step counterclockwise 1100: Rotate "r auxiliary" counterclockwise until it stops 1101: Send "r auxiliary" one step counterclockwise 1110: r main ” drive the axis to the limit “n 99” 1111: Drive the “r auxiliary” axis to the limit “n''

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明装置の1実施例を示す斜面図でおる。 (1)・・・サポート、 (2)・・・アーム、 (3)・・・ヒンジ、 (6)・・・チャック又は皿、 (13)、(14)・・・バー、 (19)・・・リフト装置。 (以 上) The figure is a perspective view showing one embodiment of the device of the present invention. (1)...Support, (2) Arm, (3)...hinge, (6)...Chuck or plate, (13), (14)...bar, (19)...Lift device. (that's all)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)コンポーネントを含むワークピースを支持するた
めのサポートとリフト装置とを備え、該サポートはアー
ムにより該サポートを二次元方向に移動させるメカニズ
ムに結合されており、前記アームは前記サポートから離
れた位置において前記メカニズムに回動可能に結合され
ており、前記リフト装置は前記二次元方向に垂直に且つ
前記回動可能な結合部回りに前記サポートを移動し得る
ようにされていることを特徴とする電子的に複合操作可
能なステップ及びリピート装置。 (2)前記リフト装置が前記メカニズムから離れた位置
にあり、前記サポートを移動させ得るようにされている
特許請求の範囲第1項に記載のステップ及びリピート装
置。 ワークピースに接触せしめられるプローブにより固着す
べき物を更に備え、前記アームの回動軸、ワークピース
との接触位置及びプローブにより固着すべき物が共通の
水平面に配置されている特許請求の範囲第1項又は第2
項に記載のステップ及びリピート装置。 (4)ウエフアー上の連続的に配置されたデバイスに接
触するプローブにより固着すべき物と、前記連続的に配
置されたデバイスを前記プローブにより固着すべき物に
対して並べ且つ接触させるように前記サポートを自動的
に移動させるための装置と、前記ウエフアー上の連続的
に配置されたデバイス全体の位置を決めるための装置と
を備えている特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項
に記載のステップ及びリピート装置。 (5)前記プローブにより固着すべき物を、前記ウエフ
アーのエッジにあるいずれかの不完全デバイスと接触し
ないようにするための安全装置を更に備えている特許請
求の範囲第4項に記載のステップ及びリピート装置。 (6)前記ウエフアーのエッジの位置を検出するための
エッジセンサーと、エッジが検出されない場合に前記エ
ッジセンサーが前にウエフアーのエッジを検出したか否
かを決定するための安全装置とを備え、該安全装置はエ
ッジが検出されるべきであつた場合に前記サポートの移
動を阻止するようにされている特許請求の範囲第5項に
記載のステップ及びリピート装置。 (7)デバイスが前記プローブにより固着すべき物と接
触し垂直方向位置をストアするためのメモリと、連続的
に配置されたデバイスが取り得る垂直方向の位置を計算
するための装置とを更に備えている特許請求の範囲第5
項又は第6項に記載のステップ及びリピート装置。 (8)拒否されたデバイスにマークを付与するためのマ
ーカーと、該マークの位置を計算してストアし、前記プ
ローブのリングが前記マーカーに接触しないようにする
ための装置とを更に備えている特許請求の範囲第5項、
第6項又は第7項に記載のステップ及びリピート装置。 (9)前記ウエフアーを4つの象限に分割し、該4つの
象限に関する前記プローブにより固着すべき物の位置を
決定し、 前記ウエフアー上のデバイスの列の端部の位置を決定し
、 前記デバイスの列の始点の位置を計算し、 前記デバイスの列の長さを計算することにより、前記ウ
エフアー上に列をなして配置されたデバイス全体を位置
決めするようにされている特許請求の範囲第4項から第
8項のいずれかに記載のステップ及びリピート装置。
Claims: (1) A support and a lifting device for supporting a workpiece including a component, the support being coupled to a mechanism for moving the support in two dimensions by an arm, the arm is pivotally coupled to the mechanism at a location remote from the support, and the lifting device is adapted to move the support perpendicular to the two-dimensional direction and about the pivotable coupling. An electronically multioperable step and repeat device, characterized in that: 2. The step and repeat device of claim 1, wherein the lifting device is remote from the mechanism and is adapted to move the support. The invention further comprises an object to be fixed by a probe brought into contact with the workpiece, and the rotation axis of the arm, the contact position with the workpiece, and the object to be fixed by the probe are arranged in a common horizontal plane. Paragraph 1 or 2
Step and repeat devices as described in Section. (4) an object to be fixed by a probe that contacts successively arranged devices on the wafer; Claims 1, 2 or 3, comprising a device for automatically moving the support and a device for positioning the entire series of devices arranged on the wafer. Step and repeat devices as described in Section. (5) The step according to claim 4, further comprising a safety device to prevent the object to be fixed by the probe from coming into contact with any imperfect devices at the edge of the wafer. and repeat equipment. (6) comprising an edge sensor for detecting the position of the edge of the wafer, and a safety device for determining whether the edge sensor has previously detected an edge of the wafer if no edge is detected; 6. A step and repeat device according to claim 5, wherein the safety device is adapted to prevent movement of the support if an edge is to be detected. (7) further comprising a memory for storing the vertical position of the device in contact with the object to be fixed by the probe, and a device for calculating possible vertical positions of the successively arranged devices; Claim No. 5
7. Step and repeat device according to paragraph 6. (8) The device further includes a marker for adding a mark to a rejected device, and a device for calculating and storing the position of the mark and preventing the ring of the probe from coming into contact with the marker. Claim 5,
Step and repeat device according to clause 6 or 7. (9) Divide the wafer into four quadrants, determine the position of the object to be fixed by the probe with respect to the four quadrants, determine the position of the end of the row of devices on the wafer, and Claim 4, wherein the entire device arranged in a row on the wafer is positioned by: calculating the position of a starting point of the row; and calculating the length of the row of devices. 9. The step and repeat device according to any one of clauses 8 to 8.
JP61054574A 1986-03-11 1986-03-11 Stepper and repeater Pending JPS62213136A (en)

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