JPS62202008A - 酸化鉄の還元方法 - Google Patents
酸化鉄の還元方法Info
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- JPS62202008A JPS62202008A JP4339086A JP4339086A JPS62202008A JP S62202008 A JPS62202008 A JP S62202008A JP 4339086 A JP4339086 A JP 4339086A JP 4339086 A JP4339086 A JP 4339086A JP S62202008 A JPS62202008 A JP S62202008A
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Landscapes
- Manufacture Of Iron (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は粉鉄鉱石を焼成、造粒することなく、直接流動
還元し、電気炉、転炉、溶融還元炉等の溶解炉に供給し
て銑鉄・鋼の製造用原料とする工程、又は脈石分の少な
い高純度鉱石を流動還元して鉄粉を製造する工程等にお
(プる酸化鉄の還元方法に関するものである。
還元し、電気炉、転炉、溶融還元炉等の溶解炉に供給し
て銑鉄・鋼の製造用原料とする工程、又は脈石分の少な
い高純度鉱石を流動還元して鉄粉を製造する工程等にお
(プる酸化鉄の還元方法に関するものである。
[従来の技術]
又、鉄鉱石と炭材の流動還元法に於いて、排ガスの成分
が一定となるように鉄鉱石と炭材の比率を変えることに
より還元率、金属化率を一定に制御する方法が知られて
いる(特公昭6O−14802)。
が一定となるように鉄鉱石と炭材の比率を変えることに
より還元率、金属化率を一定に制御する方法が知られて
いる(特公昭6O−14802)。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、酸化鉄粒体と炭素質粒体の混合流動還元に於て
は、)!元剤として例えば炭素粒体として石炭を使用し
、且つ実機での経済性を考え排ガスを循環する場合につ
いて考察してみと、以下の如くなる。すなわち、流@層
内に供給された石炭は高温還元雰囲気内に於て、揮発分
が気化し、水素、炭化水素系のガスを発生してコークス
(チャー)化し、更に炭化水素の一部は酸化鉄粒体との
還元反応により生成したH20或はCO2と反応し、H
2及びCQを生成する。
は、)!元剤として例えば炭素粒体として石炭を使用し
、且つ実機での経済性を考え排ガスを循環する場合につ
いて考察してみと、以下の如くなる。すなわち、流@層
内に供給された石炭は高温還元雰囲気内に於て、揮発分
が気化し、水素、炭化水素系のガスを発生してコークス
(チャー)化し、更に炭化水素の一部は酸化鉄粒体との
還元反応により生成したH20或はCO2と反応し、H
2及びCQを生成する。
次にチャーは還元反応により生成lノたH20やCO2
或は供給固体やガス中の820やCO2と反応し、H2
及びCOを生成する。この時の反応を式で表わすと以下
のようになる。
或は供給固体やガス中の820やCO2と反応し、H2
及びCOを生成する。この時の反応を式で表わすと以下
のようになる。
今、前記式■、■の反応が1回ずつ進むと、結果として
Cを3モル消費し、H2は変わらず、COが3モル発生
する。
Cを3モル消費し、H2は変わらず、COが3モル発生
する。
次に、前記式■、■の反応を2回ずつ繰り返すと、結果
としてCを6モル消費し、H2は変わらず、COが6モ
ル発生する。
としてCを6モル消費し、H2は変わらず、COが6モ
ル発生する。
又、前記式■、■の反応の場合は、繰り返す毎にCの消
費モル分だけCOが増加する。
費モル分だけCOが増加する。
実際の還元炉内の反応は、温度、圧力とH20/H2、
CO2/Goの分圧等の関係から完全に上式が進むわけ
ではないが傾向として、Cの消費量の増加と共に還元炉
内の還元性ガス中のH2/Goのモル比はCOが増加す
る方向に進む。
CO2/Goの分圧等の関係から完全に上式が進むわけ
ではないが傾向として、Cの消費量の増加と共に還元炉
内の還元性ガス中のH2/Goのモル比はCOが増加す
る方向に進む。
このことから、石炭の供給初期には、揮発分からのH2
により還元性ガス中の142モル比が増え、その後チャ
ーの滞留時間と共にCOのモル比が徐々に増加すること
がわかる。
により還元性ガス中の142モル比が増え、その後チャ
ーの滞留時間と共にCOのモル比が徐々に増加すること
がわかる。
ところで、流動層に於ては、炉内の滞留時間、滞留mは
以下の関係から求まる。
以下の関係から求まる。
ここで、AT:滞留時間 m1n
AP:流動層内圧損 kg/cm2
S:流動円断面積 cm2
Q:排出fiz kMmin
又、滞留量は流動層圧損に見合って決まり、ff1P−
3となる。この式より例えば、ff1P一定でQを増せ
ばATは短かくなるので、ATを長くするにはAP@増
すか、Qを少なくすればよい。
3となる。この式より例えば、ff1P一定でQを増せ
ばATは短かくなるので、ATを長くするにはAP@増
すか、Qを少なくすればよい。
以上の関係から、例えば排ガスの82%が減少したので
石炭供給量を増した場合について考えて見ると、 (1)滞留時間を一定とした場合は、排ガス中のH2が
増えるがCOも増加してしまう、(ti) 排ガス成
分を一定にするように滞留時間を変えると金属化率も変
わってしまう、 (資)排ガスのωが増加する、 00 排出量を一定にしておくと、炉内滞留量が増加
し、滞留時間が変わってしまう、 等の結果となり、このことばH2が増加した場合や、0
0%の増減から石炭供給量を増減した場合にも同様の結
果が起る。
石炭供給量を増した場合について考えて見ると、 (1)滞留時間を一定とした場合は、排ガス中のH2が
増えるがCOも増加してしまう、(ti) 排ガス成
分を一定にするように滞留時間を変えると金属化率も変
わってしまう、 (資)排ガスのωが増加する、 00 排出量を一定にしておくと、炉内滞留量が増加
し、滞留時間が変わってしまう、 等の結果となり、このことばH2が増加した場合や、0
0%の増減から石炭供給量を増減した場合にも同様の結
果が起る。
従って、鉄鉱石/石炭の比を変えることのみでは、排ガ
スの成分を一定に制御することは困難でおり、もし仮に
できたとしても還元炉内の条件が全て一定になるわけで
はないので、金属化率が一定となるよう制御するのは困
難である。
スの成分を一定に制御することは困難でおり、もし仮に
できたとしても還元炉内の条件が全て一定になるわけで
はないので、金属化率が一定となるよう制御するのは困
難である。
[問題点を解決するための手段]
上述の従来の問題点を解決することを目的として本発明
では、還元炉内に加熱された還元性ガスの上昇流を形成
し、この上昇気流中に酸化鉄粒体と炭素質粒体を供給し
て雨粒体の混合流e層を形成し、単位時間当り供給する
酸化鉄粒体中の仝鉄原子数と還元性ガス及び炭素質流体
中の全水素原子数の比により還元率若しくは金属化率を
制御するようにした。
では、還元炉内に加熱された還元性ガスの上昇流を形成
し、この上昇気流中に酸化鉄粒体と炭素質粒体を供給し
て雨粒体の混合流e層を形成し、単位時間当り供給する
酸化鉄粒体中の仝鉄原子数と還元性ガス及び炭素質流体
中の全水素原子数の比により還元率若しくは金属化率を
制御するようにした。
[作 用]
酸化鉄粒体と炭素質粒体の粒径及び還元性ガスの流速を
適宜選択すると混合流動層が形成され、炭素質粒体から
水素及び水素系ガスが発生してチャー化すると共に、酸
化鉄粒体は還元性ガス、水素及び水素系ガス等により還
元され、該還元反応により生成された1−bo及びCO
2との下記反応 1」2 o十c−+H2+GO GO2±C→ 2CO により炭素質粒体の一部が消費され、残りの炭素質粒体
がチャーとして、前記還元性ガス等により還元された還
元鉄と共に還元炉外に排出される。
適宜選択すると混合流動層が形成され、炭素質粒体から
水素及び水素系ガスが発生してチャー化すると共に、酸
化鉄粒体は還元性ガス、水素及び水素系ガス等により還
元され、該還元反応により生成された1−bo及びCO
2との下記反応 1」2 o十c−+H2+GO GO2±C→ 2CO により炭素質粒体の一部が消費され、残りの炭素質粒体
がチャーとして、前記還元性ガス等により還元された還
元鉄と共に還元炉外に排出される。
以上の還元反応において、単位時間当り供給する酸化鉄
粒体中の仝鉄原子数と還元性ガス及び炭素質粒体中の全
水素原子数の比を所定の割合にすることにより還元率若
しくは金属化率を制御することができる。
粒体中の仝鉄原子数と還元性ガス及び炭素質粒体中の全
水素原子数の比を所定の割合にすることにより還元率若
しくは金属化率を制御することができる。
[実 施 例]
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。
第1図は本発明の方法の実施に使用する酸化鉄還元設面
の一例を示すもので、1は流動層式の還元炉、2は循環
する高温の還元性ガス、3は酸化鉄粒体、4は炭素質粒
体、5は流動層内の酸化鉄粒体、6は流動層内の炭素質
粒体、7は半還元鉄又は還元鉄、8はチャー、9は排ガ
ス、10はダスト、11は清浄排ガス、12は加熱器、
13は散気管、14は散気管用のヘッダー、15はホッ
パー、16は装入装置、17はシュートでおり、還元炉
1の頂部に接続し・た排ガスダクト・25の下流側にサ
イクロン18を設りて排ガス9からダスト10を分離し
、史に下流側にCO2リムーバー19、t−1zoリム
ーバー20を設置して清浄排ガス11から夫々GO2、
H20を除去し、還元性成分を多聞に含む還元性ガスを
ファン21で昇圧し、加熱器12により加熱した後、高
温の還元性ガス2として散気管13用のヘッダー14か
ら散気管13により還元炉1内に送給するようにしであ
る。
の一例を示すもので、1は流動層式の還元炉、2は循環
する高温の還元性ガス、3は酸化鉄粒体、4は炭素質粒
体、5は流動層内の酸化鉄粒体、6は流動層内の炭素質
粒体、7は半還元鉄又は還元鉄、8はチャー、9は排ガ
ス、10はダスト、11は清浄排ガス、12は加熱器、
13は散気管、14は散気管用のヘッダー、15はホッ
パー、16は装入装置、17はシュートでおり、還元炉
1の頂部に接続し・た排ガスダクト・25の下流側にサ
イクロン18を設りて排ガス9からダスト10を分離し
、史に下流側にCO2リムーバー19、t−1zoリム
ーバー20を設置して清浄排ガス11から夫々GO2、
H20を除去し、還元性成分を多聞に含む還元性ガスを
ファン21で昇圧し、加熱器12により加熱した後、高
温の還元性ガス2として散気管13用のヘッダー14か
ら散気管13により還元炉1内に送給するようにしであ
る。
図中22はクーラー、23は排出装置、24はスクリー
ンである。
ンである。
還元炉1に加熱された還元性ガス2をヘッダー14を介
して還元炉1内の散気管13より導入し、上昇流を形成
する。この上昇気流中に還元炉1上部よりホッパー15
、装入装置16、シュー1−17を介して酸化鉄粒体3
と炭素質粒体4を連続的に供給し、還元炉1内に所定の
高さHの流動層を形成する。流動層内に於て循環導入さ
れた還元性ガス2のH2とCOにより酸化鉄粒体5を還
元する。更に炭素質粒体6より発生ずるH2及び1」2
系ガスによっても還元させると共に、生成された1」2
0を炭素質粒体6のCと反応させてH2とCOとし還元
させる。還元炉1より排出された排ガス9は、サイクロ
ン18でダスト10を除塵された後、CO2リムーバー
19、[」20リムーバー20により夫々CO2、H2
Oを順次除去され、ファン21で昇圧され、加熱器12
で加熱後還元炉1に循環導入される。
して還元炉1内の散気管13より導入し、上昇流を形成
する。この上昇気流中に還元炉1上部よりホッパー15
、装入装置16、シュー1−17を介して酸化鉄粒体3
と炭素質粒体4を連続的に供給し、還元炉1内に所定の
高さHの流動層を形成する。流動層内に於て循環導入さ
れた還元性ガス2のH2とCOにより酸化鉄粒体5を還
元する。更に炭素質粒体6より発生ずるH2及び1」2
系ガスによっても還元させると共に、生成された1」2
0を炭素質粒体6のCと反応させてH2とCOとし還元
させる。還元炉1より排出された排ガス9は、サイクロ
ン18でダスト10を除塵された後、CO2リムーバー
19、[」20リムーバー20により夫々CO2、H2
Oを順次除去され、ファン21で昇圧され、加熱器12
で加熱後還元炉1に循環導入される。
一方還元炉1内の酸化鉄粒体5は還元され還元鉄7とな
り、炭素質粒体6は揮発分がぬけてチャー8となる。還
元炉1内に於て、流動層高Hの圧損につり合った量の酸
化鉄粒体5と炭素質粒体6が滞留しているが、通常はこ
の圧損を一定に保ちつつ供給と排出を行なう。滞留時間
は排出の速度を変えることにより、又はこれらと共に圧
損を変えることにより制御する。排出゛された還元鉄7
とチャー8はクーラー22で冷却俊排出装置23を通り
炉外に排出される。そして例えば粒径差を利用したスク
リーン24により或はVa選により分離される。
り、炭素質粒体6は揮発分がぬけてチャー8となる。還
元炉1内に於て、流動層高Hの圧損につり合った量の酸
化鉄粒体5と炭素質粒体6が滞留しているが、通常はこ
の圧損を一定に保ちつつ供給と排出を行なう。滞留時間
は排出の速度を変えることにより、又はこれらと共に圧
損を変えることにより制御する。排出゛された還元鉄7
とチャー8はクーラー22で冷却俊排出装置23を通り
炉外に排出される。そして例えば粒径差を利用したスク
リーン24により或はVa選により分離される。
第1図に示す設備により、酸化鉄粒体3として鉄鉱石、
炭素質粒体4として石炭を使用し、還元温度920℃で
金属化率90%以上を目標に種々ガス循環方式による試
験を実施した。表−1に一部の代表的な試験流データー
を示す。又表−2に使用した鉄鉱石、表−3に各種石炭
の組成等を示す。
炭素質粒体4として石炭を使用し、還元温度920℃で
金属化率90%以上を目標に種々ガス循環方式による試
験を実施した。表−1に一部の代表的な試験流データー
を示す。又表−2に使用した鉄鉱石、表−3に各種石炭
の組成等を示す。
表−2鉱石の成分・粒径
表−35炭の成分
表−1により、炭種、循環ガス闇/鉄鉱石供給量、鉄鉱
石/石炭比、滞留時間、循環ガス中f」z、Coモル比
等大幅なバラつきがあるにもかかわらず、いずれも金属
化率88〜92%とほぼ90%が達成されていることが
わかる。
石/石炭比、滞留時間、循環ガス中f」z、Coモル比
等大幅なバラつきがあるにもかかわらず、いずれも金属
化率88〜92%とほぼ90%が達成されていることが
わかる。
又、循環ガス組成は、炭種、鉄鉱石/石炭比、滞留時間
等により変わるが、H2:43〜55、CO:34〜4
5の範囲内で平衡することかわかる。
等により変わるが、H2:43〜55、CO:34〜4
5の範囲内で平衡することかわかる。
これらの諸データーに基づき金属化率に真に影響を及ぼ
す要因についての考察を行なった。
す要因についての考察を行なった。
炉頂ガス中のH2/H20とCO/CO2の関係を第2
図に示す。第2図において実線はこれらの平衡値を示す
が、試験の結果は平衡値よりCO/CO2の大きい値の
方へずれており、H2による還元の方が優先的に進行し
ていることを示している。又、第2図において、滞留時
間35分以下と以上に別けてみると、滞留時間が短いと
H2による還元の方がより優先的に進行することを示し
ている。これは還元性ガス中のH2が50%程度、CO
が40%程度の雰囲気では、H2による還元が優先し、
滞留時間を長くとると徐々にCOによる還元も進行する
ためと考えられる。
図に示す。第2図において実線はこれらの平衡値を示す
が、試験の結果は平衡値よりCO/CO2の大きい値の
方へずれており、H2による還元の方が優先的に進行し
ていることを示している。又、第2図において、滞留時
間35分以下と以上に別けてみると、滞留時間が短いと
H2による還元の方がより優先的に進行することを示し
ている。これは還元性ガス中のH2が50%程度、CO
が40%程度の雰囲気では、H2による還元が優先し、
滞留時間を長くとると徐々にCOによる還元も進行する
ためと考えられる。
又、炭種による滞留時間と金属化率の関係を第3図示す
。滞留時間が短いと褐炭の方が金属化率が高くなる。こ
れは褐炭の揮発分(水素源)が多く、還元性ガス雰囲気
中のH2分圧が高くなるためと考えられる。逆に滞留時
間が長くなると炭種による影響はなくなる。これは金属
化率が90%を越えると平衡に近づくこと、及び還元性
ガス雰囲気中の00分圧が高くなり、CO還元が進むこ
とによると考えられる。以上から、滞留時間30分程度
では、H2による還元が優先的に進行すること、水素弁
の多い褐炭の還元率の方が高くなることがわかった。
。滞留時間が短いと褐炭の方が金属化率が高くなる。こ
れは褐炭の揮発分(水素源)が多く、還元性ガス雰囲気
中のH2分圧が高くなるためと考えられる。逆に滞留時
間が長くなると炭種による影響はなくなる。これは金属
化率が90%を越えると平衡に近づくこと、及び還元性
ガス雰囲気中の00分圧が高くなり、CO還元が進むこ
とによると考えられる。以上から、滞留時間30分程度
では、H2による還元が優先的に進行すること、水素弁
の多い褐炭の還元率の方が高くなることがわかった。
又、鉄鉱石/石炭比については、金属化率との関係は明
確でない。これは、滞留時間、供給ガス組成、還元性ガ
ス間/鉄鉱石等が還元条件に複雑に影響を及ぼしている
ためでおる。
確でない。これは、滞留時間、供給ガス組成、還元性ガ
ス間/鉄鉱石等が還元条件に複雑に影響を及ぼしている
ためでおる。
次に、金属化率に真に影響を及ぼすと思われる水素比と
いう概念を導入し、この水素比と金属化率の関係を示す
と第4図の如くなる。こで水素比とは以下の様に定義す
る。
いう概念を導入し、この水素比と金属化率の関係を示す
と第4図の如くなる。こで水素比とは以下の様に定義す
る。
(供給還元性ガス中の全水素原子数/時間十炭素質粒体
中の全水素原子数/時間)/(酸化鉄粒体中の全水素原
子数/時間)第4図中の実線は実機を想定した関係線で
、各プロットした点より金属化率が高めとなっている。
中の全水素原子数/時間)/(酸化鉄粒体中の全水素原
子数/時間)第4図中の実線は実機を想定した関係線で
、各プロットした点より金属化率が高めとなっている。
本試験は流動層直径が約100市と小さく、しかも流動
層高が直径の3乃至4倍にも達し、スラッギングが激し
くガスと粒子との接触が悪くなっているのに対し、直径
の大きくなる実機ではH/Dの比をより小さくすること
ができ、スラッギング無しで安定な流動層となることが
想定できるので金属化率は試験の場合より高めに予想し
ている。
層高が直径の3乃至4倍にも達し、スラッギングが激し
くガスと粒子との接触が悪くなっているのに対し、直径
の大きくなる実機ではH/Dの比をより小さくすること
ができ、スラッギング無しで安定な流動層となることが
想定できるので金属化率は試験の場合より高めに予想し
ている。
第4図より以下の知見が得られた。
(1〉 炭種の如何によらず水素比と金属化率は一定
の関係になる。
の関係になる。
(b 金属化率は滞留時間、鉄鉱石/石炭比率、循環ガ
ス量、循環ガス組成等の変動にかかわらず、水素比と一
定の関係にある。
ス量、循環ガス組成等の変動にかかわらず、水素比と一
定の関係にある。
(3) 水素比7迄の間は、水素比の上昇と共に金属
化率が急激に上昇し、水素比7で90%の金属化率を達
成し、以降の金属化率の上昇は少ない。
化率が急激に上昇し、水素比7で90%の金属化率を達
成し、以降の金属化率の上昇は少ない。
以上より、酸化鉄粒体と炭素質粒体の混合流動層に於て
、酸化鉄粒体の還元率若しくは金属化率を制御する方法
として、水素比制御が有効であり、還元温度900〜1
000℃の範囲で、水素比7で90%以上の金属化率が
得られる。
、酸化鉄粒体の還元率若しくは金属化率を制御する方法
として、水素比制御が有効であり、還元温度900〜1
000℃の範囲で、水素比7で90%以上の金属化率が
得られる。
以上の試験は還元温度920℃で行なったが、92.0
〜1000℃でも水素比7で90%以上の金属化率の達
成を確認している。
〜1000℃でも水素比7で90%以上の金属化率の達
成を確認している。
ここで、水素比は、例えば還元炉排ガスの流量と排ガス
中のH2,820モル比から全水素原子数を求め、鉄鉱
石装入量からその比を求める。次に、水素比は石炭供給
ω、)1■留時間(P又は排出量制御)、時間ガス中の
脱H20率、循環ガス量、系外からのH2やH2Oの補
給等により制御することができる。
中のH2,820モル比から全水素原子数を求め、鉄鉱
石装入量からその比を求める。次に、水素比は石炭供給
ω、)1■留時間(P又は排出量制御)、時間ガス中の
脱H20率、循環ガス量、系外からのH2やH2Oの補
給等により制御することができる。
なお、上記水素比は全水素原子数と酸化鉄粒体中の全F
e203 、Fe304としての酸化鉄の全酸素原子数
との比としてもよい。
e203 、Fe304としての酸化鉄の全酸素原子数
との比としてもよい。
Fe2O3の場合、水素比7は4.7に相当する。
次に、本発明の還元方法をコストの面から検討する。
前記第1図に示した還元設備において、第5図に示すよ
うに還元ガスとして100%H2或はH2+N2の種々
の割合の混合ガスを供給し、種々石炭/鉱石比に於ける
滞留時間と金属化率の試験を行なった。その結果は第5
図に示す如くであり、100%H2の時短い滞留時間で
90%の金属化率が1qられた。その結果と表−1の循
環試験の試験N011,2の結果の諸比較を表−4に示
す。
うに還元ガスとして100%H2或はH2+N2の種々
の割合の混合ガスを供給し、種々石炭/鉱石比に於ける
滞留時間と金属化率の試験を行なった。その結果は第5
図に示す如くであり、100%H2の時短い滞留時間で
90%の金属化率が1qられた。その結果と表−1の循
環試験の試験N011,2の結果の諸比較を表−4に示
す。
表−4100%Hz 、循環ガス試験諸比較腰衣−4よ
り、100%H2供給ガス方式より循環ガス方式の方が
水素比が低くなる。又還元性ガスと石炭の単位消費量の
点から単純コスト比較をH2:60円/Nm3.石炭2
0円/に9として行うと、 100%H2の場合: H2: 1.43〜1.46 Nm’ /kg−鉱石
85.8〜87.6円石炭: 0.43〜0.34kg
/kg−鉱石 8.6〜6.8円94.4 94.
4円 循環ガスの場合: 循環ガス二〇 〇石
炭 : 0.43〜0.82kQ /kg−鉱石 8
.6〜16.4日8.6〜16.4円 (循環ガス源は供給石炭であり、材料費はO)となり、
循環ガス方式の方が大幅に安くなる。
り、100%H2供給ガス方式より循環ガス方式の方が
水素比が低くなる。又還元性ガスと石炭の単位消費量の
点から単純コスト比較をH2:60円/Nm3.石炭2
0円/に9として行うと、 100%H2の場合: H2: 1.43〜1.46 Nm’ /kg−鉱石
85.8〜87.6円石炭: 0.43〜0.34kg
/kg−鉱石 8.6〜6.8円94.4 94.
4円 循環ガスの場合: 循環ガス二〇 〇石
炭 : 0.43〜0.82kQ /kg−鉱石 8
.6〜16.4日8.6〜16.4円 (循環ガス源は供給石炭であり、材料費はO)となり、
循環ガス方式の方が大幅に安くなる。
尚、本発明の酸化鉄の還元方法は上述の実施例のみに限
定されるものではなく、例えば本方法の下流に溶融還元
炉を組合わせ、本方法により酸化鉄粒体の予備還元を行
ない、生成された半還元鉄を溶融還元炉で最終還元と溶
解・精錬を行なって銑鉄・鋼を製造することら可能であ
ること等本発明の要旨を逸脱しない範囲内に、13いて
秤々変史を加え19ることは勿論である。
定されるものではなく、例えば本方法の下流に溶融還元
炉を組合わせ、本方法により酸化鉄粒体の予備還元を行
ない、生成された半還元鉄を溶融還元炉で最終還元と溶
解・精錬を行なって銑鉄・鋼を製造することら可能であ
ること等本発明の要旨を逸脱しない範囲内に、13いて
秤々変史を加え19ることは勿論である。
[発明の効果]
以上説明したように本発明の酸化鉄の還元方法にれば、
下記の如き種々の優れた効果を発揮する。
下記の如き種々の優れた効果を発揮する。
<I) 炉況の変化により還元率、金属化率が変化し
た時に、水素比一定となる様例えば炭素質粒体供給量、
滞留時間(AP又は排出量制御)、循環ガス量、循環ガ
ス中の全水素量等を制御することにより、金属化率の安
定化を図ることができる。従来に於ては、炭素質粒体供
給量等の上記諸条件を変えた場合、真に金属化率に影響
を及ぼす要因がつかめていなかったため、かえって炉況
のバランスをくずすことにもなりかねなかったが、本発
明の方法によりこのようなことがなくなる。
た時に、水素比一定となる様例えば炭素質粒体供給量、
滞留時間(AP又は排出量制御)、循環ガス量、循環ガ
ス中の全水素量等を制御することにより、金属化率の安
定化を図ることができる。従来に於ては、炭素質粒体供
給量等の上記諸条件を変えた場合、真に金属化率に影響
を及ぼす要因がつかめていなかったため、かえって炉況
のバランスをくずすことにもなりかねなかったが、本発
明の方法によりこのようなことがなくなる。
<II) 実機の設計・製作、操業に於て、設置場所
の地理的制約から鉱石種、炭種等が限定される場合がの
るが、これらの原料事情や金属化率等の製品ニーズに対
し、本発明の方法の水素比の概念を導入する事により、
設備費、生産費等の面で最適の設R1、操業が可能とな
る。
の地理的制約から鉱石種、炭種等が限定される場合がの
るが、これらの原料事情や金属化率等の製品ニーズに対
し、本発明の方法の水素比の概念を導入する事により、
設備費、生産費等の面で最適の設R1、操業が可能とな
る。
■ 炭素質粒体として、例えば水素含有量の少ない、コ
ークス紛、木炭粉等を使用することも、水素比一定の制
御を行なうことによって可能となる。
ークス紛、木炭粉等を使用することも、水素比一定の制
御を行なうことによって可能となる。
N 還元温度900〜1ooo℃で、水素比7とするこ
とにより、金属化率90%以上が得られると共に水素比
7以上にすることにより還元速度を早めることができる
。
とにより、金属化率90%以上が得られると共に水素比
7以上にすることにより還元速度を早めることができる
。
(V) 鉄鉱石と石炭の混合流動層に於て、流動還元
する方法では、表−1に示すように炭種、鉄鉱石/石炭
比率、滞留時間等の還元条件により排ガス組成は変わる
が、H2:40〜60%、CO:45%以下の範囲内で
平衡した循環ガスとして、還元炉内へ再導入でき、その
時金属化率90%以上を達成することができる。この循
環ガス源は石炭のみによるもので、純水素の如き高価な
還元ガスを供給することなく、安価な褐炭等によって水
素比の維持ができる。
する方法では、表−1に示すように炭種、鉄鉱石/石炭
比率、滞留時間等の還元条件により排ガス組成は変わる
が、H2:40〜60%、CO:45%以下の範囲内で
平衡した循環ガスとして、還元炉内へ再導入でき、その
時金属化率90%以上を達成することができる。この循
環ガス源は石炭のみによるもので、純水素の如き高価な
還元ガスを供給することなく、安価な褐炭等によって水
素比の維持ができる。
の 炉外の排出されたガスの還元性成分を所定の割合に
調整して循環使用すると、水素を使用する場合に比ベコ
ストが大幅に低減する。
調整して循環使用すると、水素を使用する場合に比ベコ
ストが大幅に低減する。
發 還元炉内に常に炭素質粒体が流動しているため、炉
内でH2OはH2o+C−+1−t2 十CQの反応に
よりH2を生成する。従って、水素比中の水素原子源と
して安価なI」20も含まれる。H2Oの供給方法とし
ては、系外からの供給以外に、炉排ガスを循環供給する
際の脱H20除去率を制御する方法でもよく、きわめて
経済的である。
内でH2OはH2o+C−+1−t2 十CQの反応に
よりH2を生成する。従って、水素比中の水素原子源と
して安価なI」20も含まれる。H2Oの供給方法とし
ては、系外からの供給以外に、炉排ガスを循環供給する
際の脱H20除去率を制御する方法でもよく、きわめて
経済的である。
第1図は本発明の還元方法の実施に用いる酸化鉄還元設
備の一例を示す説明図、第2図は炉頂排ガス中(7)H
2/H20とCO/CO2との関係を示す線図、第3図
は炭種による平均滞留時間と金属化率との関係を示ず線
図、第4図は水素比と金属化率の関係を示す線図、第5
図は各種供給還元性ガス、石炭/鉱石比に於ける平均滞
沼時間と金属化率との関係を示す線図である。 1は還元炉、2は還元性ガス、3は酸化鉄粒体、4は炭
素質粒体、5は流動層内の酸化鉄粒体、6は流動層内の
炭素質粒体、7は半還元鉄又は還元鉄、8はヂャー、9
は排ガス、11は清浄排ガス、12は加熱器、13は散
気管、14は散気管用のヘッダー、15はホッパー、1
Gは装入装置、17はシュート、18はサイクロン、1
9はCO2リムーバー、10はH20リムーバー、21
はファン、22はクーラー、23は排出装置を示す。
備の一例を示す説明図、第2図は炉頂排ガス中(7)H
2/H20とCO/CO2との関係を示す線図、第3図
は炭種による平均滞留時間と金属化率との関係を示ず線
図、第4図は水素比と金属化率の関係を示す線図、第5
図は各種供給還元性ガス、石炭/鉱石比に於ける平均滞
沼時間と金属化率との関係を示す線図である。 1は還元炉、2は還元性ガス、3は酸化鉄粒体、4は炭
素質粒体、5は流動層内の酸化鉄粒体、6は流動層内の
炭素質粒体、7は半還元鉄又は還元鉄、8はヂャー、9
は排ガス、11は清浄排ガス、12は加熱器、13は散
気管、14は散気管用のヘッダー、15はホッパー、1
Gは装入装置、17はシュート、18はサイクロン、1
9はCO2リムーバー、10はH20リムーバー、21
はファン、22はクーラー、23は排出装置を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)還元炉内に加熱された還元性ガスの上昇流を形成し
、この上昇気流中に酸化鉄粒体と炭素質粒体を供給して
両粒体の混合流動層を形成し、単位時間当り供給する酸
化鉄粒体中の全鉄原子数と還元性ガス及び炭素質粒体中
の全水素原子数の比により還元率若しくは金属化率を制
御することを特徴とする酸化鉄の還元方法。 2)還元性ガスとして、還元炉排ガスを再加熱して、還
元炉底部から導入循環させる特許請求の範囲第1)項記
載の酸化鉄の還元方法。 3)還元温度が900〜1000℃の範囲で全水素原子
数を全鉄原子数の7倍以上に維持し、還元時間を短縮す
る特許請求の範囲第1)項又は第2)項記載の酸化鉄の
還元方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4339086A JPS62202008A (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 酸化鉄の還元方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4339086A JPS62202008A (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 酸化鉄の還元方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62202008A true JPS62202008A (ja) | 1987-09-05 |
Family
ID=12662467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4339086A Pending JPS62202008A (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 酸化鉄の還元方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62202008A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008053074A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用開閉装置 |
JP2008140587A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Mitsubishi Electric Corp | 接地開閉器 |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP4339086A patent/JPS62202008A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008053074A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用開閉装置 |
JP2008140587A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Mitsubishi Electric Corp | 接地開閉器 |
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