JPS62199354A - Automatic lapping finish method and device for crystalline plate and the like - Google Patents

Automatic lapping finish method and device for crystalline plate and the like

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JPS62199354A
JPS62199354A JP61036631A JP3663186A JPS62199354A JP S62199354 A JPS62199354 A JP S62199354A JP 61036631 A JP61036631 A JP 61036631A JP 3663186 A JP3663186 A JP 3663186A JP S62199354 A JPS62199354 A JP S62199354A
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JP
Japan
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thickness
workpiece
pressure
lapping
lap
Prior art date
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Pending
Application number
JP61036631A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhisa Ogawa
勝久 小川
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KASHIO DENKI KK
Original Assignee
KASHIO DENKI KK
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Filing date
Publication date
Application filed by KASHIO DENKI KK filed Critical KASHIO DENKI KK
Priority to JP61036631A priority Critical patent/JPS62199354A/en
Publication of JPS62199354A publication Critical patent/JPS62199354A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve a yield, thickness precision and productivity by keeping pressure and the number of revolutions at a predetermined level after the bootstrapping thereof in turn on a preset lap pattern, shutting down said pressure and number in turn when a work thickness has reached a predetermined value and finishing lapping work when the work thickness has become a target value. CONSTITUTION:A setting device 5 is turned to a lap pattern for the number of revolutions and pressure information for each bootstrapping time, steady operation and each shutdown thickness, and said pattern is stored in a memory device 6. An instruction means 7 enters the output signals of a timer means 3 and a thickness measurement means 4 and discriminates time and thickness, thereby outputting the number of revolutions and pressure information from the memory device 6. And a control means 8 controls the number of revolutions and pressure, according to the output signal of the instruction means 7. Therefore, lapping work becomes easy very much, a yield is remarkably improved, a target thickness is kept at a good precision level and productivity is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は結晶板等の自動ラップ仕上方法及びその装置に
関し1%に結晶板等のラップ作業が極めて容易で、しか
も結晶板等の巻止りが著しく向上するとともに、目標厚
みに対する精度も良く、さらに生産性も向上することを
特徴とするものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an automatic lapping method and device for crystal plates, etc., which makes it extremely easy to wrap crystal plates, etc., and prevents the wrapping of crystal plates, etc. It is characterized by a marked improvement in the thickness, a good accuracy with respect to the target thickness, and an improvement in productivity.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

IC等の制作に使用される結晶板等においては、厚みか
精度良く所望の一定値で、しかも表面が完全な平面であ
ることが望ましい。このため、結晶体等からスライスし
た結晶板等のワークをラップ仕上することが行われてい
る。
For crystal plates and the like used in the production of ICs and the like, it is desirable that the thickness be precisely at a desired constant value and that the surface be perfectly flat. For this reason, a workpiece such as a crystal plate sliced from a crystal body or the like is subjected to lapping finishing.

かかるラップ仕上装置は従来から種々提供されているが
、基本的には対向させて設けた回転及びワークに加圧自
在のラップ板からなるものであり、ワークをラップ板間
に保持し、加圧して回転させることによってラップ仕上
をするものであった。
Various types of such lapping finishing devices have been provided in the past, but basically they consist of rotating and lapping plates that are placed opposite each other and can freely apply pressure to the workpiece, and the workpiece is held between the lapping plates and pressurized. It was used to create a lapping finish by rotating it.

しかしながら、上記従来のラップ仕上装置は、いずれも
単に回転計及び圧力計等の計測器を備えているだけであ
り、ラップ仕上中の回転数及び圧力は操作者の操作によ
って決定されるものであったので、操作者は経験と勘に
頼って圧力及び回転数を変化させてラップ作業を行って
いた。このため、熟練を要するとともに再現性が悪く、
目標厚みに対するy*度及び歩止りが悪いという欠点が
あった。
However, all of the conventional lapping devices described above are simply equipped with measuring instruments such as a tachometer and a pressure gauge, and the number of rotations and pressure during lapping are determined by the operator's operations. Therefore, the operator relied on experience and intuition to perform lapping work by varying the pressure and rotational speed. For this reason, skill is required and reproducibility is poor.
There were drawbacks such as poor yield and y* degree relative to the target thickness.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は上記従来技術の欠点を除去するもので、結晶板
等のラップ作業が極めて容易で、しかも結晶板等の歩止
りが著しく向上するとともに、目標厚みに対する精度も
良く、さらに生産性も向上する自動ラップ仕上方法及び
その装置を提供しようとするものである、 〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するため、牙lの発明の自動ラップ仕
上方法は、まず、結晶板等のワークを対向した回転及び
ワークに加圧自在のラップ板間に保持する。次に予め設
定したラップパターンで、ワークKかかる圧力及びラッ
プ板の回転数を、ラップ開始時から時間経過につれて順
次立ち上けた後設定した一定値に維持する。その後ワー
クの厚みが設定値に達したときから該ワークの厚みが薄
くなるにつれて上記圧力及び回転数を順次立ち下げ、ワ
ークの厚みが目標値w:aしたときにラップ仕上を終了
せしめる。
The present invention eliminates the above-mentioned drawbacks of the prior art, and makes it extremely easy to wrap crystal plates, etc., and the yield of crystal plates, etc. is significantly improved, and the precision with respect to the target thickness is good, and productivity is also improved. [Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the automatic lapping method of the invention of Fang first consists of the following steps: A workpiece such as the above is held between opposing lap plates that rotate and can freely pressurize the workpiece. Next, according to a preset lapping pattern, the pressure applied to the workpiece K and the number of rotations of the lapping plate are gradually increased as time passes from the start of lapping, and then maintained at the set constant values. After that, when the thickness of the workpiece reaches the set value, the pressure and rotational speed are sequentially decreased as the thickness of the workpiece becomes thinner, and the lapping is completed when the thickness of the workpiece reaches the target value w:a.

また、第2の発明の自動ラップ仕上装置は、第1の発明
の方法を実施するための装置であって、対向させて設け
た回転及びワークに加圧自在のラップ板と、ラップ開始
時からの経過時間を計測するタイマー手段と、ワークの
厚み計測手段とが設けられる。、さらに、設定器、記憶
装置、指令手段及び制御手段を設けて構成される。
Moreover, the automatic lapping finishing apparatus of the second invention is an apparatus for carrying out the method of the first invention, and includes a lapping plate which is arranged to rotate and can freely apply pressure to the workpiece, and a lapping plate that can rotate and apply pressure to the workpiece from the time of starting lapping. A timer means for measuring the elapsed time and a workpiece thickness measuring means are provided. , further comprising a setting device, a storage device, a command means, and a control means.

設定器は各立上げ時間、定常運転及び各立下げ厚みに対
する回転数及び圧力情報からなるラップパターンを設定
するものであり、設定されたラップパターンは記憶装置
に記憶される。ま走、指令手段は、上記タイマー手段及
び厚み計測手段の出力信号が入力され、経過時間及びワ
ークの厚みを判別してその状態に対応した回転数及び圧
力情報を上記記憶装置から取り出して出力するものであ
る。さらに、制御手段は該指令手段の出力信号を受けて
対応した回転数及び圧力に制御するものであ、る。
The setting device is used to set a lap pattern consisting of rotation speed and pressure information for each startup time, steady operation, and each fall thickness, and the set lap pattern is stored in the storage device. The output signal of the timer means and the thickness measuring means is input to the command means, which determines the elapsed time and the thickness of the workpiece, and extracts and outputs the rotation speed and pressure information corresponding to the state from the storage device. It is something. Further, the control means receives the output signal from the command means and controls the rotation speed and pressure to correspond to the output signal.

〔作用〕[Effect]

本発明によれば、予め設定したラップパターンで、ワー
クにかかる圧力及びラップ板の回転数がラップ開始時か
ら時間経過につれて順次立ち上がった後設定した一定値
に維持される。
According to the present invention, in a preset lapping pattern, the pressure applied to the workpiece and the number of revolutions of the lapping plate are gradually increased as time elapses from the start of lapping, and then maintained at the set constant value.

このため、ラップ開始轟初に発生しやすいワークの損傷
が防止されるとともに、ラップ仕上にかかる時間が短縮
されて生産性が向上するものである。
Therefore, damage to the workpiece that is likely to occur at the beginning of lapping is prevented, and the time required for lapping is shortened, improving productivity.

すなわち、ラップ開始時には、スライスされたワークの
表面は粗れており微細な突起があるので、高圧力を加え
ると該突起に応力が集中してしまい、ワークが破損して
しまう。しかし、本発明ではラップ開始時は低圧力とさ
れるのでワークの損傷が防止されるものである。また、
ラップが進行するに従って上記突起が徐々に削られてい
き、ラップ板とワークとの接触面積が拡大していくため
、ワークは徐々に高圧力に耐え得るようになること、及
び一般的にワークは回転数が高いほど高圧力に耐え得る
ことから。
That is, at the start of lapping, the surface of the sliced workpiece is rough and has minute protrusions, so when high pressure is applied, stress is concentrated on the protrusions, resulting in damage to the workpiece. However, in the present invention, since the pressure is low at the start of lapping, damage to the workpiece is prevented. Also,
As the lapping progresses, the above protrusions are gradually shaved off, and the contact area between the lapping plate and the workpiece expands, so the workpiece gradually becomes able to withstand high pressure, and in general, the workpiece The higher the rotation speed, the higher the pressure it can withstand.

本発明では圧力及び回転数か順次立ち上り、その後比較
的高い圧力及び回転数の定常運転に移行するため、ワー
クが破損しない範囲で可能な限りラップ仕上にかかる時
間が短縮されるものである。
In the present invention, the pressure and rotational speed increase sequentially and then shift to steady operation at relatively high pressure and rotational speed, so the time required for lapping is shortened as much as possible without damaging the workpiece.

さらに、本発明によれば、上記定常運転が続けられワー
クの厚みが設定値に達すると、該ワークの厚みが薄くな
るにつれて圧力及び回転数が順次立ち下がり、ワークの
厚みが目標値に達するとラップ仕上が終了するため、ワ
ークの目標厚みに対する精度が上がるとともに、ワーク
の破損も防止されるものである。すなわち、ワークの厚
みが目標値に達する直前には回転数が十分に下げられて
いるため、目標値に達し九時点で即ラップ板の回転を停
止させることができるので、ラップ板の慣性力によって
ラップし過ぎてしまうこと等がなく、ワークの目標厚み
に対する精度が向上するものである。また、ワークは低
回転数では高圧力に耐えられずに破損してしまうが、本
発明では回転数と同時に圧力も下げるものであるから、
ワークの破損も防止されるものである。
Furthermore, according to the present invention, when the steady operation is continued and the thickness of the workpiece reaches the set value, the pressure and rotational speed decrease sequentially as the thickness of the workpiece becomes thinner, and when the thickness of the workpiece reaches the target value, Since the lapping finish is completed, the precision with respect to the target thickness of the workpiece is improved, and damage to the workpiece is also prevented. In other words, the rotation speed is sufficiently lowered just before the thickness of the workpiece reaches the target value, so the rotation of the lap plate can be stopped immediately when the target value is reached. This prevents excessive lapping, etc., and improves accuracy with respect to the target thickness of the workpiece. In addition, the workpiece cannot withstand high pressure and breaks at low rotational speeds, but in the present invention, the pressure is lowered at the same time as the rotational speed.
Damage to the workpiece is also prevented.

そして、本発明では、以上の如き圧力及び回転数の変化
が、予め設定されたラップパターンに従って自動的に行
われるため、再現性が良く操作も簡単となるものである
Further, in the present invention, the above-described changes in pressure and rotational speed are automatically performed according to a preset lap pattern, resulting in good reproducibility and easy operation.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面に示す実施例に基づき本発明の方法及びその
装置を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The method and apparatus of the present invention will be explained below based on embodiments shown in the drawings.

第1図は本発明の装置の基本的な構成を示すブロック図
である。本発明の装置では、第2図示のごとく、対向さ
せて設けた回転及び結晶板等のワークIK加圧自在のラ
ップ板2と、ラップ開始時からの経過時間を開側するタ
イマー手段3と、ワーク1の厚み計測手段4とが設けら
れる。さらに設定器5、記憶装置6、指令手段7及び制
御手段8を設けて構成される。上記設定器5は各立上は
時間、定祁運転及び各立下は厚みに対する回転数及び圧
力情報からなるラップパターンを設定するものであり、
設定されたラップパターンは記憶装置61c記憶される
。また、上記指令手段7は、上記タイマー手段3及び厚
みit ma」手段4の出力信号か入力され、経過時間
及びワーク1の厚みを判別してその状態に対応した回転
数及び圧力情報を上記記憶装置6から取り出して出力す
るものである。さらに1±上記御手段8は該指令手段7
の出力信号を受けて対応した回転数及び圧力に制御する
ものである。
FIG. 1 is a block diagram showing the basic configuration of the apparatus of the present invention. In the apparatus of the present invention, as shown in the second diagram, a lapping plate 2 which is provided facing each other and is capable of pressurizing a workpiece IK such as a rotating and crystal plate, and a timer means 3 which opens the time elapsed from the start of lapping, A thickness measuring means 4 for the workpiece 1 is provided. Furthermore, a setting device 5, a storage device 6, a command means 7, and a control means 8 are provided. The setting device 5 sets a lap pattern consisting of time for each start-up, rotation speed and pressure information for each constant run and thickness for each fall,
The set wrap pattern is stored in the storage device 61c. Further, the command means 7 receives the output signals of the timer means 3 and the thickness it ma" means 4, determines the elapsed time and the thickness of the workpiece 1, and stores the rotation speed and pressure information corresponding to the state. It is taken out from the device 6 and output. Further, 1± the control means 8 is the command means 7.
The rotation speed and pressure are controlled according to the output signal of the engine.

劃・2図乃至第6図は本発明の装置のさらに具体的な実
施例を示すものである。
Figures 2 to 6 show more specific embodiments of the apparatus of the present invention.

2はラップ板で、上ラップ板2αと下ラップ板2hが対
向させて設けられている。該上下ラップ板2α、2bは
主モータ9によって各ギヤーボックスIOW 、 IO
bを介してそれぞれ所定の比率の回転数で回転するよう
に構成されている。
2 is a wrap plate, and an upper wrap plate 2α and a lower wrap plate 2h are provided facing each other. The upper and lower wrap plates 2α, 2b are connected to each gear box IOW, IO by the main motor 9.
They are configured to rotate at a predetermined ratio of rotational speeds via the respective rotation speeds.

また、上ラップ板2αは連結部11を介してシリンダー
12のピストンロッド13に連結されており、上下ラッ
プ板2α、2bの間に保持したワーク1に加圧自在とな
っている。すなわち、エアーコンプレッサー14から1
1HB*15を介してシリンダー12のヘッドカバー側
隔室16及びロッドカバー側隔室17に高圧のエアーを
供給できるようになっているとともlc、t、磁弁15
を介してヘッドカバー側隔室16及びロッドカバー側隔
室17を大気に開放できるようになってbる。し念がっ
て、電al15を制御するだけで、ヘッドカバー側隔室
16及びロッドカバー側隔室17内の気圧を変化させる
ことかでき、その気圧差によってピストン18及び該ピ
ストン18に連結された上ラップ板2αを上下動させる
ことができるとともに、上ラップ板2αがワークに加え
る圧力を自在に制御できるものである。なお、上記連結
部11とピストンロッド13との連結は、上ラップ板2
αの回転を妨げぬようにボールベアリング等(図示せず
)か使用されている。
Further, the upper lap plate 2α is connected to the piston rod 13 of the cylinder 12 via a connecting portion 11, and can pressurize the workpiece 1 held between the upper and lower lap plates 2α and 2b. That is, air compressor 14 to 1
High-pressure air can be supplied to the head cover side compartment 16 and rod cover side compartment 17 of the cylinder 12 through the 1HB*15.
The head cover side compartment 16 and the rod cover side compartment 17 can be opened to the atmosphere via. With this in mind, it is possible to change the air pressure in the head cover side compartment 16 and the rod cover side compartment 17 by simply controlling the electric Al 15, and the difference in pressure between the piston 18 and the piston 18 connected to the piston 18 can be changed. The upper lap plate 2α can be moved up and down, and the pressure applied by the upper lap plate 2α to the workpiece can be freely controlled. Note that the connection between the connecting portion 11 and the piston rod 13 is performed using the upper lap plate 2.
A ball bearing or the like (not shown) is used so as not to interfere with the rotation of α.

表お、図面実施例の場合、ワーク1は単に上下ラップ板
2α、2bI′1JIK、保持されるだけでなく、遊星
運動するように構成され、さらに均一に研磨できるよう
になっている。すなわち、第2図及び第3図示の如く、
固定された外ギヤ19と、該外ギヤ19の中心部に設け
られ、副モータ20により回転させられる内ギヤ21と
、上記外ギヤ19及び内ギヤ21に噛合わされた適数の
ワーク保持ギヤ板22とか設けられている。
In the case of the embodiment shown in the drawings, the workpiece 1 is not only held by the upper and lower lap plates 2α, 2bI'1JIK, but is also configured to move planetarily, so that it can be polished more uniformly. That is, as shown in FIGS. 2 and 3,
A fixed outer gear 19, an inner gear 21 provided at the center of the outer gear 19 and rotated by an auxiliary motor 20, and an appropriate number of work holding gear plates meshed with the outer gear 19 and the inner gear 21. There are 22 or so.

そして、ワーク保持ギヤ板22!?:はワーク保持孔2
3が構成されており、ワーク1を嵌合できるようになっ
ている。したかって、ワークlは。
And the work holding gear plate 22! ? : Work holding hole 2
3 is configured so that the workpiece 1 can be fitted therein. I want to do work l.

副モータ20により遊星運動させられる屯のである。も
つとも、必ずしもワークlを遊星運動させる必要はない
ものである。なお、上記ワーク保持ギヤ板22の厚みは
ワークlの目標厚みより薄くされており、ラップ中は常
にワークlの両面が上下ラップ板2α、2bに当接する
ようになっている。
This is a ton that is caused to move planetarily by an auxiliary motor 20. However, it is not always necessary to make the work l move in a planetary motion. The thickness of the work holding gear plate 22 is made thinner than the target thickness of the work l, so that both surfaces of the work l always come into contact with the upper and lower lap plates 2α and 2b during lapping.

次に、第4図について説明すると、24はクロック発生
器、25は該クロック発生器24の出力が入力されるカ
ウンタであり、該カウンタ25の出力側はマイクロコン
ピュータ26のインターフェイス29に接続されている
。そして。
Next, referring to FIG. 4, 24 is a clock generator, 25 is a counter to which the output of the clock generator 24 is input, and the output side of the counter 25 is connected to the interface 29 of the microcomputer 26. There is. and.

カウンタ25はラップ開始時にリセットされるようにな
っている。したがって、カウンタ25からラップ開始時
からの経過時間は対応する信号が出力されることとなる
。上記クロック発生器24及びカウンタ25が21図に
おけるタイマー手段3に相当する。
The counter 25 is reset at the start of a lap. Therefore, the counter 25 outputs a signal corresponding to the elapsed time from the start of the lap. The clock generator 24 and counter 25 correspond to the timer means 3 in FIG. 21.

また、30は固定部30αと可動部30bとからなるリ
ニアスケールで、固定部30αに対する可動部30Aの
移動距離に対応した数のパルス信号を出力するものであ
る。そして、上記固定部30αはシリンダー12の本体
に取付けられ、可動部30bはシリンダー12のピスト
ンロッド13に取付けられている。また、リニアスケー
ル30の出力はカウンタ31に入力され、該カウンタ3
1の出力側はマイクロコンピュータ26のインターフェ
イス29に接続されている。
Further, 30 is a linear scale consisting of a fixed part 30α and a movable part 30b, which outputs a number of pulse signals corresponding to the moving distance of the movable part 30A with respect to the fixed part 30α. The fixed part 30α is attached to the main body of the cylinder 12, and the movable part 30b is attached to the piston rod 13 of the cylinder 12. Further, the output of the linear scale 30 is input to the counter 31, and the output of the linear scale 30 is input to the counter 31.
The output side of 1 is connected to the interface 29 of the microcomputer 26.

したがって、予め較正しておけば、ワーク1に圧力を加
えたときの上下ラップ板2α、2b間の距離、す々わち
ワーク1の淳みに対応する出力信号かカウンタ31から
出力されるものである。
Therefore, if calibrated in advance, the distance between the upper and lower lap plates 2α and 2b when pressure is applied to the workpiece 1, or the output signal corresponding to the thickness of the workpiece 1, or the output signal output from the counter 31. It is.

つまり、リニアスケール30及びカウンタ31が第1図
におけるワーク1の厚み計測手段4に相当するものであ
る。
That is, the linear scale 30 and the counter 31 correspond to the thickness measuring means 4 of the workpiece 1 in FIG.

また、32はキーボード、33は表示器で。Also, 32 is a keyboard, and 33 is a display.

それぞれマイクロコンピュータ26のインターフェイス
29に接続されており、マイクロコンピュータ26とと
もに、21図における設定器5を構成している。すなわ
ち、ラップパターンを構成する各立上げ時間、定常運転
及び各立下げ厚みに対する回転数及び圧力情報を各々問
う表示がマイクロコンピュータ26から信号を受けた表
示器33に表示され、その表示を見ながら操作者がキー
ボード32からラップパターンを入力することができる
ものである。そして、入力されたラップパターン(1マ
イクロコンピユータ26のメモリ28の所定番地に記憶
されるものである。つまり、図面実施例の場合、マイク
ロコンピュータ26は第1図における記憶装置i!6と
しても機能するものである。
Each is connected to an interface 29 of the microcomputer 26, and together with the microcomputer 26, constitutes the setting device 5 in FIG. That is, a display asking for the rotation speed and pressure information for each start-up time, steady operation, and each fall thickness that make up the lap pattern is displayed on the display 33 that receives a signal from the microcomputer 26, and while looking at the display, The operator can input a lap pattern using the keyboard 32. The input wrap pattern (1) is stored in a predetermined location in the memory 28 of the microcomputer 26. In other words, in the embodiment shown in the drawings, the microcomputer 26 also functions as the storage device i!6 in FIG. It is something to do.

なお、マイクロコンピュータ26は主にマイクロプロセ
ッサ(中央演算装置)27と、メモリ(記憶装置)28
とインターフェイス(入出力信号処理回路)29とから
構成されており、図面実施例の場合、上述の如き設定器
5の一部及び記憶装置6として機能する他、後に説明す
るように、指令手段7及び制御手段8の一部等としても
機能するものである。
The microcomputer 26 mainly includes a microprocessor (central processing unit) 27 and a memory (storage device) 28.
and an interface (input/output signal processing circuit) 29, and in the case of the embodiment shown in the drawing, in addition to functioning as a part of the setting device 5 and a storage device 6 as described above, as will be explained later, a command means 7 It also functions as a part of the control means 8.

今、上記キーボード32によって、例えば第5図示の如
きラップパターンを設定し、該ラップパターンかメモリ
28の所定番地に記憶されているもの“とする。このラ
ップパターンは、各立上げ時間To−,’l’ 7−y
 ’!’コ、各立王立下みI)2− D/ #Do1’
J:0に対する圧力?、及び回転数N、 、 T1に対
する圧力゛P2及び回転数N2.112に対する圧力P
J及び回転数N! (このラップパターンの場合、定常
運転である)、立下げ厚みDiに対すなお、図中?0は
ラップ開始時を示し、厚みり。
Now, it is assumed that a wrap pattern as shown in FIG. 'l' 7-y
'! 'Ko, each standing position I) 2-D/ #Do1'
J: Pressure against 0? , and rotation speed N, , pressure ゛P2 for T1 and pressure P for rotation speed N2.112
J and rotation speed N! (In the case of this wrap pattern, it is steady operation). 0 indicates the start of wrapping, which is the thickness.

はワーク1の最終的な目標厚みを示すものである。なお
、このラップパターンの場合、当然に、TO<17<T
2 、D2>Di>D□ 、 Pi<Pr<PJ−PJ
>PJ>P、g 、 Ni <N2<N3. NJ>N
弘>N、の関係が成立しており、その具体的な値はワー
ク1の特性を考慮して決定される。なお、第5図示のラ
ップパターンの場合、圧力及び回転数は、3段階に立上
がり及び立下がるものであるが、さらに多くの段階で立
上がり及び立下がるものにしてもよく、その段数をキー
ボードの入力により変更自在とすることもできる。また
、第5図示のラップパターンの場合、圧力及び回転数が
同時に立上がり及び立下がるものであるが、必ずしも同
時にする必要はない、さらに、定常運転時は一定の圧力
P3及び回転数NJとしているが、必要に応じて定常運
転中に第5図中の破線の如く適当時間経過ととに短時間
だけ圧力を下げるようなラップパターンとすれば、圧力
を下げた際にラップ剤がラップ板2とワーク1の接触面
全体にいきわたりやすくなるものである。
indicates the final target thickness of the workpiece 1. In addition, in the case of this wrap pattern, naturally TO<17<T
2, D2>Di>D□, Pi<Pr<PJ-PJ
>PJ>P, g, Ni <N2<N3. NJ>N
The relationship Hiroshi>N holds true, and its specific value is determined in consideration of the characteristics of the workpiece 1. In the case of the lap pattern shown in Figure 5, the pressure and rotational speed rise and fall in three stages, but they may rise and fall in more stages, and the number of stages can be entered by inputting the number of stages on the keyboard. It can also be changed freely. In addition, in the case of the lap pattern shown in Figure 5, the pressure and the rotation speed rise and fall at the same time, but they do not necessarily have to occur at the same time.Furthermore, during steady operation, the pressure P3 and the rotation speed NJ are constant. If necessary, if a wrapping pattern is used in which the pressure is lowered for a short period of time during steady operation as shown by the broken line in Fig. 5, the wrapping agent will contact the wrapping plate 2 when the pressure is lowered. This makes it easier to spread over the entire contact surface of the workpiece 1.

次に、指令手段7としてのマイクロコンピュータ26の
機能を、上記第5図示のラップパターンとした場合にお
いて説明する。第6図は該機能を実行するフローチャー
トである。なお、図中[相]〜@はフローチャートの各
ステップ奪示す・ ワーク1を上下ラップ板2α、2A間に保持し。
Next, the function of the microcomputer 26 as the command means 7 will be explained in the case where the wrap pattern shown in FIG. 5 is used. FIG. 6 is a flowchart for executing the function. In the figure, [phase] to @ indicate each step of the flowchart. Work 1 is held between upper and lower lap plates 2α and 2A.

ラップパターンの設定が終了した後、図示なきスイッチ
をONすると、あるいは他から供給され九ラップパター
ン設定終了信号を受けると、ステップ[相]でスタート
する。
After the lap pattern setting is completed, when a switch (not shown) is turned on, or when a nine lap pattern setting end signal supplied from another device is received, the process starts at step [phase].

■でメモリ28からPハN/ s r/データが読み出
され、@でP/、N、データが出力される。次に@でカ
ウンタ25からラップ開始時からの経過時間Tが読み込
まれ、■で経過時間TがTIデータと比較される。TI
を経過していなければ@及び■が繰り返される。111
を経過すると@に移行する。
At ①, PcN/sr/ data is read from the memory 28, and at @, P/, N, and data are output. Next, at @, the elapsed time T from the start of the lap is read from the counter 25, and at ■, the elapsed time T is compared with the TI data. T.I.
If the time has not passed, @ and ■ are repeated. 111
After , it changes to @.

@でP1Nコ、T−データが読み出され、@でP2 、
 N−データが出力される。次に@で再び経過時間Tが
読み込まれ、@で経過時間TがT2データと比較される
。T2を経過していなげれば@及び@が繰り返される。
At @, P1Nco, T-data is read, at @, P2,
N-data is output. Next, the elapsed time T is read again at @, and the elapsed time T is compared with the T2 data at @. If T2 has not elapsed, @ and @ are repeated.

T−を経過すると@に移行する。After passing T-, it changes to @.

@でPj 、 N3 、 Dλデータが読み出され、[
相]でPJ 、 NJデータが出力される。次に[相]
でカウンタ31からワークlの厚みDが読み込まれ、@
で厚みDがDコデータと比較される。
Pj, N3, Dλ data are read at @, and [
PJ and NJ data are output at [phase]. Next [phase]
The thickness D of the work l is read from the counter 31, and @
The thickness D is compared with the Dco data.

Dコより厚ければ■及び@が繰り返される。If it is thicker than D, ■ and @ are repeated.

D−に達すると6)に移行する。When D- is reached, the process moves to 6).

[相]でP弘# N4c −D/データが読み出され、
■でplAa N4cデータが出力される、次に[相]
でカウンタ31からワーク1の厚みDが読み込まれ。
Phiro #N4c-D/data is read in [phase],
plAa N4c data is output in ■, then [phase]
The thickness D of the workpiece 1 is read from the counter 31.

■で厚みDがD/データと比較される。DIより厚けれ
ば[相]及び■が繰り返される。D、にでPj、 Hz
データが出力される。次に■でカウンタ31からワーク
1の厚みDが読み込まれ、[相]で厚みDがDoデータ
と比較される。DOより厚ければ[相]及び[相]が繰
り返される。Doに達すると@に移行する。
In (2), the thickness D is compared with D/data. If it is thicker than DI, [phase] and ■ are repeated. D, Pj, Hz
Data is output. Next, the thickness D of the workpiece 1 is read from the counter 31 in step 3, and the thickness D is compared with the Do data in phase. If it is thicker than DO, [phase] and [phase] are repeated. When it reaches Do, it changes to @.

を0にする信号が出力され、@で指令手段7としての機
能が終了する。
A signal is output to set the value to 0, and the function as the command means 7 is terminated at @.

また、図面実施例の場合、上記シリンダー12のヘッド
カバー側隔室16及びロッドカバー側隔室17の気圧を
それぞれ検出する圧力センサー70.71が設けられて
いる。該圧力センサー70.71は増巾器72.73及
びム/D変換器74.75を介してマイクロコンピュー
タ26のインターフェイス29に接続されている。そし
て、これらがワークIVcかかる圧力を計測する圧力計
測手段76を!jli!l、ており、ヘッドカバー側隔
室16及びロッドカバー側隔室17の気圧に対応する信
号がマイクロコンピュータ26に入力され、マイクロコ
ンピュータ26で上記圧力に換算されるものである。
Further, in the case of the embodiment shown in the drawings, pressure sensors 70 and 71 are provided for detecting the air pressure in the head cover side compartment 16 and the rod cover side compartment 17 of the cylinder 12, respectively. The pressure sensor 70.71 is connected to the interface 29 of the microcomputer 26 via an amplifier 72.73 and a MU/D converter 74.75. And a pressure measuring means 76 that measures the pressure exerted by these on the workpiece IVc! jli! 1, a signal corresponding to the atmospheric pressure in the head cover side compartment 16 and the rod cover side compartment 17 is input to the microcomputer 26, and is converted into the above pressure by the microcomputer 26.

また、マイクロコンピュータ26のインターフェイス2
9には電磁弁駆動装置77が接続され、核電磁弁駆動装
置77の出力側は電磁弁15に接続されている。そして
、マイクロコンピュータ26は上記指令手段7としての
機能により順次出力された圧カデータP、、P2−−−
−(実際にはインターフェイス29から出力されるわけ
ではなく、マイクロコンピュータ26内で処理されるも
のである)と上記実際に計測した現実の圧力とを比較し
て、その差分に相当する信号をインターフェイス29か
ら出力し、電磁弁駆動装置77はその信号を受けて電磁
弁15を駆動するものである。すなわち、ワークIKか
かる圧力はいわゆるフィードバック制御されて各圧力デ
ータp、 、 pλ−一一一によって定まる圧力に保た
れるものであり、マイクロコンピュータ26はオ1図に
おける制御手段8の一部としても機能するようになって
いる。もつとも。
Also, the interface 2 of the microcomputer 26
9 is connected to a solenoid valve drive device 77 , and the output side of the nuclear solenoid valve drive device 77 is connected to the solenoid valve 15 . The microcomputer 26 functions as the command means 7 and sequentially outputs the pressure data P, , P2---
- (This is not actually output from the interface 29, but is processed within the microcomputer 26) and the actual pressure actually measured above, and a signal corresponding to the difference is sent to the interface. The electromagnetic valve driving device 77 receives the signal and drives the electromagnetic valve 15. That is, the pressure applied to the workpiece IK is maintained at a pressure determined by each pressure data p, , pλ-111 through so-called feedback control, and the microcomputer 26 is also used as part of the control means 8 in FIG. It's supposed to work. Motoo.

他の加圧手段を採用すれは、必ずし本フィードバック制
御する必要はなく、オーブンループ制御としてもよい。
If other pressurizing means are employed, this feedback control is not necessarily required, and oven loop control may be used.

さらに、マイクロコンピュータ26のインターフェイス
29にはモータ速度制御装置78が接続され、該モータ
速度制御装置78の出力側は主モータ9及び副モータ2
0に接続されている。したがって、マイクロコンピュー
タ26のインターフェイス29から上記指令手段として
の機能により順次出力された回転数データNl。
Further, a motor speed control device 78 is connected to the interface 29 of the microcomputer 26, and the output side of the motor speed control device 78 is connected to the main motor 9 and the sub motor 2.
Connected to 0. Therefore, the rotation speed data Nl are sequentially outputted from the interface 29 of the microcomputer 26 by the function as the command means.

NJ−−−一かモータ速度制御装置78に入力される。NJ---one is input to the motor speed controller 78.

該モータ速度制御装置78は例えばD/A変換器、イン
バータ等から構成され、上記回転数データN、 、 N
J−k対応した回転数で主モータ9及び副モータ20を
回転させるものである。すなわち、図面実施例の場合、
回転数についてはオーブンループ制御とされている本の
である。
The motor speed control device 78 is composed of, for example, a D/A converter, an inverter, etc., and receives the rotation speed data N, , N
The main motor 9 and the sub motor 20 are rotated at a rotation speed corresponding to J-k. That is, in the case of the drawing example,
Regarding the rotation speed, the book says oven loop control is used.

なお、図中79はラップ剤収用タンク、80は攪拌モー
タ、81はポンプモータであり、攪拌モータ80によっ
て攪覚されたラップ剤がポンプモータ81によってラッ
プ板2とワーク1との間に供給されるようになっている
In the figure, 79 is a lapping agent collection tank, 80 is a stirring motor, and 81 is a pump motor, and the lapping agent stirred by the stirring motor 80 is supplied between the lapping plate 2 and the workpiece 1 by the pump motor 81. It has become so.

上記構成の本発明によれば、まず、結晶板等のワーク1
が上下ラップ板2α、2h間に保持される。
According to the present invention having the above configuration, first, a workpiece 1 such as a crystal plate, etc.
is held between the upper and lower wrap plates 2α and 2h.

次に、キーボード32によってラップパターンが設定さ
れる。なお、この設定にあたってはその都度各立上げ時
間、定常運転及び各立下げ厚みに対する回転数及び圧力
情報を設定するのではなく、予め設定しておいた数種類
のラップパターンの中から選択してもよいものである。
Next, a wrap pattern is set using the keyboard 32. In addition, when making this setting, instead of setting the rotation speed and pressure information for each start-up time, steady operation, and each fall thickness each time, you can select from among several preset wrap patterns. It's good.

その後1図示なきスイッチをONすると、あるいはラッ
プパターン設定終了使号を受けて。
After that, when a switch (not shown) is turned on, or when the lap pattern setting end signal is received.

マイクロコンピュータ26は上述の矛6図示のフローチ
ャートを実行する。
The microcomputer 26 executes the flowchart shown in the above-mentioned arrow 6.

したがって、設定したラップパターンで、ワーク1にか
かる圧力及びラップ板2の回転数が。
Therefore, the pressure applied to the workpiece 1 and the number of rotations of the lapping plate 2 are controlled according to the set lapping pattern.

ラップ開始時から時間経過につれて順次立ち上がった後
、一定値(定常運転)K維持されることとなる。
After rising sequentially as time passes from the start of the lap, the constant value K (steady operation) is maintained.

このため、ラップ開始当初に発生しやすいワーク1の損
傷が防止されるとともに、ラップ仕上にかかる時間が短
縮されて生産性が向上するものである。
Therefore, damage to the workpiece 1, which is likely to occur at the beginning of lapping, is prevented, and the time required for finishing lapping is shortened, thereby improving productivity.

すなわち、ラップ開始時には、スライスされたワーク1
の表面は粗れており微細な突起があるので、高圧力を加
えると該突起に応力が集中してしまい、ワーク1が破損
してしまう。しかし1本発明ではラップ開始時は低圧力
とされるのでワーク1の損傷が防止されるものであるi
また。ラップが進行するに従って上記突起が徐々に削ら
れていき、ラップ板2とワーク1との接触面積が拡大し
ていくため、ワーク1は徐々に高圧力に耐え得るように
なること、及び一般的にワーク1は回転数が高いほど高
圧力に耐え得ることから1本発明では圧力及び回転数が
順次立ち上り、その後比較的高い圧力及び回転数の定常
運転に移行するため、ワークlが破損しない範囲で可能
な限りラップ仕上にかかる時間が短縮されるものである
In other words, at the start of wrapping, the sliced work 1
Since the surface of the workpiece 1 is rough and has minute protrusions, when high pressure is applied, stress will be concentrated on the protrusions and the workpiece 1 will be damaged. However, in the present invention, since the pressure is low at the start of lapping, damage to the workpiece 1 is prevented.
Also. As the lapping progresses, the protrusions are gradually shaved off and the contact area between the lapping plate 2 and the workpiece 1 expands, so the workpiece 1 gradually becomes able to withstand high pressure, and the general Since the workpiece 1 can withstand higher pressure as the rotational speed is higher, in the present invention, the pressure and rotational speed rise sequentially and then shift to steady operation at a relatively high pressure and rotational speed, so that the workpiece 1 is within a range where it will not be damaged. This reduces the time required for lapping as much as possible.

さらに1本発明によれば、上記定常運転が続けられ、ワ
ーク1の厚みが設定値に達すると。
Furthermore, according to the present invention, when the steady operation is continued and the thickness of the workpiece 1 reaches the set value.

該ワーク1の厚みが薄くなるにつれて圧力及び回転数が
順次立ち下がり、ワーク1の厚みが目標値に達するとラ
ップ仕上が終了することとなる。このため、ワーク1の
目標厚みに対する精度が上がるとともにワーク1の破損
も防止されるものである。
As the thickness of the workpiece 1 becomes thinner, the pressure and the number of rotations decrease sequentially, and when the thickness of the workpiece 1 reaches a target value, lapping is completed. Therefore, the precision with respect to the target thickness of the workpiece 1 is improved, and damage to the workpiece 1 is also prevented.

すなわち、ワーク1の厚みが目標値に達する直前には回
転数が十分忙下げられているため。
That is, the rotation speed is sufficiently reduced just before the thickness of the workpiece 1 reaches the target value.

目標値に達した時点で即ラップ板の回転を停止させるこ
とができるので、ラップ板1の慣性力によってラップし
過ぎてしまうこと等がなく。
Since the rotation of the lapping plate can be stopped immediately when the target value is reached, there is no possibility of excessive lapping due to the inertial force of the lapping plate 1.

ワーク1の目標厚みに対する精度が向上するものである
。また、ワーク1は低回転数では高圧力に耐えられずに
破損してしまうが1本発明では回転数と同時に圧力も下
げるものであるから。
This improves the accuracy with respect to the target thickness of the workpiece 1. Further, the workpiece 1 cannot withstand high pressure at low rotational speeds and is damaged, but in the present invention, the pressure is lowered at the same time as the rotational speed.

ワーク1の破損も防止されるものである。Damage to the workpiece 1 is also prevented.

そして1本発明では1以上の如き圧力及び回転数の変化
が、予め設定されたラップパターンに従って自動的に行
われるため、再現性が良く操作も簡単となるものである
In the present invention, one or more changes in pressure and rotational speed are automatically performed according to a preset lap pattern, resulting in good reproducibility and easy operation.

なお、ワークlの仕上げ厚みを問題とせず。Note that the finished thickness of the work l is not a problem.

単に表面仕上げのみ行う場合には、定常運転中にワーク
1の厚みが設定値に達したときから薄くなるにつれて圧
力及び回転数を順次立ち下げ。
If only surface finishing is to be performed, the pressure and rotational speed are gradually reduced from when the thickness of the workpiece 1 reaches the set value during steady operation as it becomes thinner.

ワーク1の厚みが目標値に達したときにラップ仕上げを
終了させていた代りに、定常運転を設定した時間だけ行
い、その後時間経過につれて圧力及び回転数を順次立ち
下げ、ラップ仕上げを終了せしめればよいものである。
Instead of finishing lapping when the thickness of workpiece 1 reaches the target value, steady operation is performed for a set time, and then the pressure and rotational speed are gradually reduced as time elapses to finish lapping. It's a good thing.

このj合のラップ仕上げ装置としては、ラップパターン
の設定及び指令手段7におけるフローチャートを若干変
更すればよいことは明白であり1両者の機能を備えたラ
ップ仕上げ装置とすることもできるものである。
It is clear that this lapping apparatus can be constructed by slightly changing the setting of the lapping pattern and the flowchart in the command means 7, and it is also possible to create a lapping apparatus having both functions.

なお、上記図面実施例の説明においては、厚み計測手段
4及び圧力計測手段76の読み込み値が実際の厚みある
いは圧力に直接対応するものとしたが、実際には、その
読み込み値は圧力あるいはラップ板の減り具合等の状態
によって異なるため、予め補正値データをメモリ28に
記憶させ、その計測状態に応じて補正した値を使用する
ことが望ましい。
In the explanation of the embodiments in the drawings, it is assumed that the read values of the thickness measuring means 4 and the pressure measuring means 76 directly correspond to the actual thickness or pressure, but in reality, the read values correspond to the pressure or the lap plate. It is desirable to store the correction value data in the memory 28 in advance and use the corrected value according to the measurement condition.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、ラップ作業が極めて容易で。 According to the present invention, wrapping work is extremely easy.

しかも結晶板等の巻止りが著しく向上するとともに、目
標厚みに対する精度もよく、ラップ時間を短縮でき生産
性が向上する効果が得られるものである。
In addition, the winding of the crystal plate, etc. is significantly improved, the precision with respect to the target thickness is also good, the lapping time can be shortened, and productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は本発明の一実施例を示すもので、矛1図はブロッ
ク図、矛2図は構成図、矛3図は牙2図におげろムーA
線断面図、、1%4図は回路図。 、?5図はラップパターンの説明図、矛6図はフローチ
ャートである。 1・・・ワーク、2・・−ラップ板、3・・・タイマー
手段、4・・・厚み計測手段、5・・・設定器、6・・
・記憶装置、7・・・指令手段、8・・・制御手段。
The drawings show one embodiment of the present invention, and Figure 1 is a block diagram, Figure 2 is a configuration diagram, and Figure 3 is a diagram of Fang 2.
Line cross-sectional view, 1%4 figure is a circuit diagram. ,? Figure 5 is an explanatory diagram of the wrap pattern, and Figure 6 is a flowchart. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Workpiece, 2...-lap plate, 3...Timer means, 4...Thickness measuring means, 5...Setting device, 6...
- Storage device, 7... Command means, 8... Control means.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)結晶板等のワークを対向した回転及びワークに加
圧自在のラップ板間に保持し、予め設定したラップパタ
ーンで、ワークにかかる圧力及びラップ板の回転数を、
ラップ開始時から時間経過につれて順次立ち上げた後設
定した一定値に維持し、その後ワークの厚みが設定値に
達したときから該ワークの厚みが薄くなるにつれて順次
立ち下げ、ワークの厚みが目標値に達したときにラップ
仕上を終了せしめることを特徴とする結晶板等の自動ラ
ップ仕上方法。
(1) A workpiece such as a crystal plate is held between opposing rotating lap plates that can freely apply pressure to the workpiece, and the pressure applied to the workpiece and the number of rotations of the lap plate are adjusted according to a preset lap pattern.
It starts up sequentially as time passes from the start of lapping, and then maintains it at the set constant value, and then when the thickness of the workpiece reaches the set value, it starts down sequentially as the thickness of the workpiece becomes thinner, until the thickness of the workpiece reaches the target value. An automatic lapping method for crystal plates, etc., characterized in that lapping is terminated when .
(2)対向させて設けた回転及びワークに加圧自在のラ
ップ板と、ラップ開始時からの経過時間を計測するタイ
マー手段と、ワークの厚み計測手段と、各立上げ時間、
定常運転及び各立下げ厚みに対する回転数及び圧力情報
からなるラップパターンを設定する設定器と、該設定器
により設定されたラップパターンを記憶する記憶装置と
、上記タイマー手段及び厚み計測手段の出力信号が入力
され、経過時間及びワークの厚みを判別してその状態に
対応した回転数及び圧力情報を上記記憶装置から取り出
して出力する指令手段と、該指令手段の出力信号を受け
て対応した回転数及び圧力に制御する制御手段とからな
ることを特徴とする結晶板等の自動ラップ仕上装置。
(2) lapping plates arranged to face each other and capable of rotating and pressuring the workpiece; a timer means for measuring the elapsed time from the start of lapping; a means for measuring the thickness of the workpiece; each start-up time;
A setting device for setting a wrap pattern consisting of rotation speed and pressure information for steady operation and each falling thickness, a storage device for storing the wrap pattern set by the setting device, and output signals of the timer means and thickness measuring means. is input, a command means for determining the elapsed time and the thickness of the workpiece, and retrieving and outputting the rotation speed and pressure information corresponding to the state from the storage device; and a command means for receiving the output signal of the command means and outputting the corresponding rotation speed. and a control means for controlling pressure.
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