JPS62198111A - Metal evaporated film and capacitor - Google Patents

Metal evaporated film and capacitor

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JPS62198111A
JPS62198111A JP61039442A JP3944286A JPS62198111A JP S62198111 A JPS62198111 A JP S62198111A JP 61039442 A JP61039442 A JP 61039442A JP 3944286 A JP3944286 A JP 3944286A JP S62198111 A JPS62198111 A JP S62198111A
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deposited
layer
metal
capacitor
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達也 伊藤
慎一 渡辺
勝洋 土屋
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Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 木弁明は、蒸着金属とプラスチックフィルムとの接着性
の改良された金属蒸着フィルム及びかかるフィルムを用
いたコンデンサーに関するもので必る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application The present invention relates to a metal-deposited film with improved adhesion between a metal-deposited metal and a plastic film, and a capacitor using such a film.

口、従来の技術 プラスチックフィルムに金属蒸着を施して使用すること
は、包装用途あるいはコンデンサー用途にJ5いて極め
てVA繁に行なわれている。
BACKGROUND OF THE INVENTION The use of plastic films coated with metal vapor deposition is very frequently used in packaging or capacitor applications.

かかる蒸着フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムやポリプロピレンフィルムにA1やZnな
どを真空蓋るしたものがよくλ口られている。特にポリ
オレフィン系のフィルムにおいては、蒸着金属とポリマ
ーとの化学的親和性を付与するために、該フィルム上に
コロナ放電処理を行なったものに金属蒸着することが普
通でおる(特公昭40−7393等)。
As such a vapor-deposited film, a polyethylene terephthalate film or a polypropylene film vacuum-covered with A1, Zn, etc. is often used. In particular, in the case of polyolefin films, in order to impart chemical affinity between the deposited metal and the polymer, it is common to perform corona discharge treatment on the film and then deposit the metal (Japanese Patent Publication No. 40-7393 etc).

またフィルムコンデンサーとしては、上記蒸着フィルム
を2枚巻回して素子を製造したもの、蒸着フィルムを多
数枚積岡し、その後チップ状に裁断したもの等が知られ
ている。また、静電容量の変化(ΔC〉を抑えるために
、金属蒸着電極のエツジ部に半導電層を形成するなど特
殊な構造を有するコンデンサーもj定業されている(特
開昭50−85860、特開昭50−85861>。
Also known as film capacitors are those in which an element is manufactured by winding two layers of the above vapor-deposited film, and those in which a large number of vapor-deposited films are piled up and then cut into chips. In addition, in order to suppress changes in capacitance (ΔC), capacitors with a special structure, such as forming a semiconducting layer on the edge of a metal vapor-deposited electrode, are also commercially available (Japanese Patent Laid-Open No. 50-85860, JP-A-50-85861>.

ハ0発明が解決しようとする問題点 しかし、プラスチックフィルムの多くは、表面張力が小
さいため、蒸着性に劣る。特に極性基を含まないポリオ
レフィンでは、金属蒸着を行なった場合、蒸着金属とポ
リマーとの化学的親和性がないため、容易に蒸着膜が剥
離してしまう。そこでかかるフィルムにコロナ放電処理
を施す場合があるが、かかるコロナ放電処理では、高電
界がフィルムにかかるため電荷注入が生じ、特にポリオ
レフィンの様な体積固有抵抗が大ぎく、かつ無極性のポ
リマーでは注入された電荷は除電処理のプロセスを加え
たとしても、容易に除去することができず、エレクトレ
ット状態となる。そして、エレクトレット状態となった
フィルムは、空気中のゴミを吸いつける等の問題の他、
金属蒸着時に加わった熱のために電荷が解放されて放電
現象を生じ、蒸着むらの1爪刃となることがある。
Problems to be Solved by the Invention However, many plastic films have low surface tension and therefore have poor vapor deposition properties. In particular, when metal vapor deposition is performed on polyolefins that do not contain polar groups, the vapor-deposited film easily peels off because there is no chemical affinity between the vapor-deposited metal and the polymer. Therefore, such films are sometimes subjected to corona discharge treatment, but in such corona discharge treatment, charge injection occurs because a high electric field is applied to the film, especially for polymers such as polyolefins, which have a large specific volume resistivity and are nonpolar. The injected charge cannot be easily removed even if a static elimination process is applied, and the material becomes an electret state. The film in the electret state has problems such as attracting dust in the air.
Due to the heat applied during metal deposition, charges are released and a discharge phenomenon occurs, which can lead to uneven deposition.

また、コロナ放電処理では、表層に形成された極性基の
モヒリティーが大きいために、処理効果は経時と共に低
下し、通常約3カ月程度でその効果が失われる。ざらに
、近年、製膜プロセスの高速化、広幅化により、コロナ
放電処理の不均一性を生じ、結果として、金属とフィル
ムの接着力の弱い、かつ蒸着膜の不均一なフィルムとな
っていた。
Furthermore, in the corona discharge treatment, since the polar groups formed on the surface layer have high mobility, the treatment effect decreases over time, and usually loses its effect after about 3 months. In addition, in recent years, the speed and width of the film forming process has increased, resulting in non-uniformity in the corona discharge treatment, resulting in weak adhesive strength between the metal and the film and non-uniform deposited films. .

また、全屈蒸希望コンデンサーでは、前述の如く交流印
加時に、次第に静電容量が減少していく現象が発生する
。この原因は全屈蒸看膜のエツジ部あるいは尖頭部に発
生し易いコロナ放電のために、蒸着金属が腐蝕し、酸化
物となり、結果として実効電極面積が減少するためであ
る。近年のコンデンサーの高耐圧化はこの現象を促進す
る方向にあり、種々の対策が検討されているが前述の如
き金属蒸着電極のエツジ部に半導電層を形成する技術で
は、オーミックロス等が発生し、誘電10失が極めて大
きくなるという欠点があった。また半導体層形成による
コストアップも無視できない問題であった。
Further, in a fully evaporated capacitor, as described above, a phenomenon occurs in which the capacitance gradually decreases when an alternating current is applied. This is because the deposited metal corrodes and becomes an oxide due to the corona discharge that tends to occur at the edges or peaks of the fully curved evaporation film, resulting in a reduction in the effective electrode area. The recent increase in the withstand voltage of capacitors is promoting this phenomenon, and various countermeasures are being considered, but the technique described above, which forms a semiconducting layer on the edge of a metal vapor-deposited electrode, causes ohmic loss, etc. However, there was a drawback that the dielectric loss was extremely large. Furthermore, the increase in cost due to the formation of the semiconductor layer was also a problem that could not be ignored.

本発明は、かかる金属蒸着フィルム及びこれを用いたコ
ンデンサーの欠点を解消し、蒸着膜の均一性、付着性の
高い蒸着フィルム及び電気特性の改良されたコンデンサ
ーを提供せんとするものである。
The present invention aims to eliminate the drawbacks of such metallized films and capacitors using the same, and to provide a vapor-deposited film with high uniformity and adhesion, and a capacitor with improved electrical properties.

二9問題点を解決するための手段 本発明は、プラスチックフィルムの少なくとも片面に、
融解開始温度が25〜900℃で融解終了温度が100
℃以上である1、2ポリブタジエン層を設け、かつ該1
.2ポリブタジエン層の表面に全屈蒸@層を設けたこと
を特徴とする金属蒸着フィルム及びこれを用いたコンデ
ンサーに関するものでおる。
29 Means for Solving the Problems The present invention provides at least one side of the plastic film,
Melting start temperature is 25-900℃ and melting end temperature is 100℃
℃ or higher, and the 1 and 2 polybutadiene layers are provided, and the 1
.. The present invention relates to a metal vapor deposited film characterized in that a fully vaporized layer is provided on the surface of a polybutadiene layer, and a capacitor using the same.

本発明において、プラスチックフィルムとは、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等のポリオレフィンあるいはポリ
ニスデル、ポリアミド等をフィルムとしたものであって
、特に限定されるものではないが、この中でも、ポリオ
レフィンフィルム、すなわらポリエチレンフィルム、ポ
リプロピレンフィルム等の場合、後述する1、2ポリブ
タジエン(以下1.2PBDとl08V)との接着力か
太きいため好ましい。また、コンデンサー用途において
は、電気特性、熱的安定性の点からポリプロピレンフィ
ルムが特に好ましい。ここでいうポリプロピレンフィル
ムとは、ポリプロピレンを主体とし、エチレン、ブテン
等のコモノマーとの共重合体あるいはこれら重合体との
ブレンド物でおっても良いが、アイソタクヂックインデ
ックス(I I)は92%以上、より好ましくは95%
以上とすることが絶縁破壊電圧を高くする観点から好ま
しい。
In the present invention, the plastic film is a film made of polyolefin such as polyethylene, polypropylene, polynisder, polyamide, etc., and is not particularly limited, but among these, polyolefin film, i.e., polyethylene film, In the case of a polypropylene film, etc., it is preferable because it has strong adhesive strength with 1,2 polybutadiene (hereinafter referred to as 1.2 PBD and 108V), which will be described later. Furthermore, for capacitor applications, polypropylene films are particularly preferred from the viewpoint of electrical properties and thermal stability. The polypropylene film mentioned here is mainly composed of polypropylene, and may be a copolymer with comonomers such as ethylene and butene, or a blend with these polymers, but the isotactic index (II) is 92. % or more, more preferably 95%
The above is preferable from the viewpoint of increasing the dielectric breakdown voltage.

また、極限粘度[η]は、絶縁破壊電圧及び製膜性を良
くするためには1.3〜2.8dD、/g、より好まし
くは1.7〜2.5dQ/c+と吏る。
In addition, the intrinsic viscosity [η] should be 1.3 to 2.8 dD,/g, more preferably 1.7 to 2.5 dQ/c+, in order to improve the dielectric breakdown voltage and film formability.

また該フィルムの配向も、無配向、1軸配向、2軸配向
を用途に応じ選択すれば良いが、機械特性、絶縁破壊特
性の点で2軸配向でおることが好ましく、ざらに211
’lll配向の場合、面配向を5X1o−3〜25X1
0−3とすると絶縁破壊特性及び機械II性が良好とな
るので好ましい。
Further, the orientation of the film may be selected from non-oriented, uniaxially oriented, or biaxially oriented depending on the application, but biaxially oriented is preferable from the viewpoint of mechanical properties and dielectric breakdown properties, and roughly 211
In the case of 'lll orientation, the plane orientation is 5X1o-3 to 25X1
A value of 0-3 is preferable because dielectric breakdown characteristics and mechanical II properties become good.

次に該プラスチックフィルムの表面のうち、少なくとも
金属蒸着を行なう面には、1.21)BD層が積層され
ていることが必要である。
Next, it is necessary that 1.21) a BD layer is laminated on at least the surface of the plastic film on which metal vapor deposition is performed.

該1.2PBD層の熱特性は、融解開始温度が25〜9
00℃で必ることが必要であり、好ましくは、40〜8
0℃である。融解開始温度が上記範囲よりも低いと、フ
ィルム同士のブロッキングが著しくなり、使用に耐えな
い。また、融解開始温度が上記範囲より高いと、蒸着金
属付着力が低くなる。さらに、該1.2PBDの融解終
了温度は、100℃以上であることが必要であり、好ま
しくは、120℃以上である。融解終了温度が上記範囲
J:り低いと、蒸着性に、熱負(ブ(表層ポリマーが溶
融し、白化する現象)が生じ、蒸着面品質が低下する。
The thermal characteristics of the 1.2 PBD layer include a melting start temperature of 25 to 9
00℃, preferably 40 to 8
It is 0°C. If the melting start temperature is lower than the above range, blocking between the films will become significant and the film will not be usable. Furthermore, if the melting start temperature is higher than the above range, the adhesion of the deposited metal will be low. Furthermore, the melting end temperature of the 1.2PBD needs to be 100°C or higher, preferably 120°C or higher. If the melting end temperature is lower than the above range J, heat negative (a phenomenon in which the surface polymer melts and whitens) occurs in vapor deposition, and the quality of the vapor deposition surface deteriorates.

また、該ポリマーの結晶化度は、付着力を良好とし、熱
負【プの発生を減少させるためには、好ましくは20〜
50%、より好ましくは30・〜50%である。
In addition, the crystallinity of the polymer is preferably 20 to 20 in order to obtain good adhesion and reduce the occurrence of heat negative drop.
50%, more preferably 30-50%.

また、該ポリマーの1.2結合率(R1,2>は、蒸着
金属付着力を向上させるために、好ましくは70%以上
、より好ましくは90%以上とする。
Further, the 1.2 bonding ratio (R1,2>) of the polymer is preferably 70% or more, more preferably 90% or more, in order to improve the adhesion of the deposited metal.

また、該ポリマーのメルI〜フローインデックス(MF
I)は、1〜50Q/10分のものが製膜性が良好とな
るので好ましい。
In addition, the mel I ~ flow index (MF
I) is preferably 1 to 50Q/10 minutes because it provides good film forming properties.

また、該ポリマーの結晶化度(χ。)は、絶縁破壊特性
及び製膜性を良好とする点から20〜50%、より好ま
しくは30〜50%である。
Further, the crystallinity (χ) of the polymer is 20 to 50%, more preferably 30 to 50%, from the viewpoint of improving dielectric breakdown characteristics and film formability.

また該ポリマーの灰分がa o p pm以下で塩素濃
度が2oppm以下であると、絶縁破壊電圧が向上し、
ΔCが減少するので好ましい。
Further, when the ash content of the polymer is less than ao p pm and the chlorine concentration is less than 2 oppm, the dielectric breakdown voltage is improved,
This is preferable because ΔC decreases.

ざらに1.2PBDEiの厚みは、熱負けを防ぐ観点か
ら、極力薄くするのが良く、5μm以下が好ましい。特
に、1.2PBDの絶縁破壊電圧がポリプロピレンのそ
れより低いことからも、より薄くする方が良い。かかる
点から、より好ましくは、2.5μmである。下限につ
いては特に限定されないが、1.2PBD層の均一性の
点から0゜05μm以上か好ましい。また、上記観点か
ら該層の厚みは基体となるプラスチックフィルム厚みの
10%を超えないことが好ましい。
The thickness of roughly 1.2 PBDEi is preferably made as thin as possible from the viewpoint of preventing heat loss, and is preferably 5 μm or less. In particular, since the dielectric breakdown voltage of 1.2PBD is lower than that of polypropylene, it is better to make it thinner. From this point of view, the thickness is more preferably 2.5 μm. The lower limit is not particularly limited, but from the viewpoint of uniformity of the 1.2 PBD layer, it is preferably 0.05 μm or more. Further, from the above point of view, it is preferable that the thickness of the layer does not exceed 10% of the thickness of the plastic film serving as the base.

また該1.2PBD層には、耐ブロッキング性を付与す
るために無は粒子を添加しても良い。無機粒子としては
、シリカ、酸化チタン等が挙げられる。粒径は、0.0
1〜1μm、添加量としては、0.01〜1wt%の範
囲が好ましい。さらに、1.2PB[)F3中には、他
の樹脂、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等をブレ
ンドしても良いが、蒸着性を良好とするために、他の樹
脂は20wt%以下、より好ましくは’lQwt%以下
としておくのが良い。
Further, particles may be added to the 1.2PBD layer in order to impart anti-blocking properties. Examples of inorganic particles include silica and titanium oxide. Particle size is 0.0
The thickness is preferably 1 to 1 μm, and the amount added is preferably in the range of 0.01 to 1 wt%. Furthermore, other resins such as polyethylene, polypropylene, etc. may be blended into 1.2PB[)F3, but in order to improve vapor deposition properties, the amount of other resins should be 20 wt% or less, more preferably ' It is preferable to keep it below lQwt%.

また、脂肪酸アミド等のすへり剤の添加も、蒸着性にブ
リードアウトし蒸着性が悪化するので好ましくない。極
力添加しないか、添加する場合でも、基体プラスデック
フィルムに添加するのみにしておくのが好ましい。
Further, the addition of a scouring agent such as a fatty acid amide is also undesirable because it bleeds out to the vapor deposition property and deteriorates the vapor deposition property. It is preferable not to add it as much as possible, or even if it is added, it is preferably added only to the base plus deck film.

上記積層フィルムには、仝層にわたって、おるには、表
層のみに凹凸加工がはどこされていてもよい。凹凸の程
度は、その目的に応じ変更すればJ:いか、通常Raは
、0.1〜100μmでおる。
The laminated film may be textured on all layers, or only on the surface layer. The degree of unevenness may be changed depending on the purpose, and usually Ra is 0.1 to 100 μm.

凹凸加工の方法としては、エンボス加工する方法、基体
プラスチックフィルムに非相溶性の樹脂、無機粒子を添
加しておき、延伸することが挙げられる。
Examples of the method for forming the unevenness include embossing, and adding an incompatible resin or inorganic particles to the base plastic film and then stretching the film.

椎体プラスチックフィルムは、原1’Elペレットを押
出はを用いて溶融押出しし、Tダイや円形ダイににす、
シート状に成形し、必要に応じ1軸必るいは2軸方向に
延伸される。
The vertebral body plastic film is made by melt-extruding raw 1'El pellets using an extruder and molding them into a T-die or circular die.
It is formed into a sheet and stretched in one or two axes as necessary.

該ポリオレフィンフィルム上に1.2ポリブタジエン庖
を形成する方法としては、下記の方法が挙げられる。
Examples of the method for forming the 1.2 polybutadiene film on the polyolefin film include the following method.

■ 共押出法:ポリエチレン等の180℃以下の押出が
可能なポリマーに関し、複数の押出機よりぞれぞれのポ
リマーを同一の口金内に導いて積層し、押出す。押出温
度が180℃を超える場合、ポリブタジェンが分解ある
いは、架橋するため好ましくない。
■ Co-extrusion method: For polymers such as polyethylene that can be extruded at temperatures below 180°C, each polymer is introduced into the same die from multiple extruders, laminated, and extruded. If the extrusion temperature exceeds 180°C, the polybutadiene will decompose or crosslink, which is not preferable.

■ 溶融押出ラミネート:装膜した基体フィルム上に別
の押出機を用いでラミネートする。
■ Melt extrusion lamination: Laminate onto the coated base film using a separate extruder.

■ ホソトメル1〜コーティング:メル1〜バス中J:
り溶融した1、2PBDを口金必るいはコーティング[
1−ルを用いて基体フィルム上にラミネートする。
■Hosotomel 1~Coating: Mel 1~Bath J:
The cap must be coated or coated with 1 or 2 PBD melted [
Laminate onto the base film using 1-L.

■ 溶液コーティング:1゜2PBDをトルエン、四塩
化炭素等の有機溶媒に溶解し、コーティングする。
■ Solution coating: 1°2 PBD is dissolved in an organic solvent such as toluene or carbon tetrachloride and coated.

1の方法では、1.2PBD層と基体フィルムとは強固
に接着されてあり、接着性を高めるために後処理は必要
としない。しかしながら、2〜4の方法では、単にコー
ティングしたたりでは、塗膜の接着性がなく、引き続く
熱処理が必要であるっ処理温度は、1.2PBDの融点
以上、プラスチックフィルムの融点以下とする。また、
本手法の中で極力薄くポリブタジェン層を形成する方法
としては、基体プラスチックフィルムを無配向(未延伸
)のまま使用する場合、4の手法が好ましく、また1軸
配向、又は2軸配向フイルムとして用いる場合は、延伸
前に1〜3の方法によりポリブタジェン層を形成してお
き、延伸を行なうと、ポリブタジェン層が薄くなり好ま
しい。特にステンタ一式逐次2軸延伸によりフィルムを
製膜する場合、基体プラスチックフィルムを1軸延伸し
た後にホットメルトコーティングによりポリブタジェン
層を形成し、引き続き横延伸することにより、1μm以
下のポリブタジェン層を容易に形成できる。
In method 1, the 1.2PBD layer and the base film are firmly adhered, and no post-treatment is required to improve the adhesion. However, in methods 2 to 4, the coating film does not have adhesion when simply dripping, and a subsequent heat treatment is required.The treatment temperature is set to be above the melting point of 1.2 PBD and below the melting point of the plastic film. Also,
In this method, method 4 is preferred for forming a polybutadiene layer as thin as possible when the base plastic film is used without orientation (unstretched), or as a uniaxially oriented or biaxially oriented film. In this case, it is preferable to form a polybutadiene layer by methods 1 to 3 before stretching and then perform stretching because the polybutadiene layer becomes thinner. Particularly when forming a film by sequential biaxial stretching with a set of stents, it is easy to form a polybutadiene layer of 1 μm or less by uniaxially stretching the base plastic film, forming a polybutadiene layer by hot melt coating, and then laterally stretching. can.

かかるフィルムを金属蒸着する方法としては、通常の抵
抗加熱、電子ビームにJ:る方法、スパッター、イオン
ブレーティング法等があるが、特にイ」着強度の小さい
抵抗加熱法、電子ビーム法による蒸着を行なう時に効果
的である。さらに、蒸着表面)温度は、1.2PBDの
融解終了温度以下にコントロールしてあくことが、熱負
けを発生させない上で好ましい。
Methods for depositing metals on such films include ordinary resistance heating, electron beam deposition, sputtering, and ion blasting, but resistance heating and electron beam deposition, which have a particularly low deposition strength, are available. It is effective when doing Furthermore, it is preferable to control the vapor deposition surface temperature to a temperature below the melting end temperature of 1.2 PBD in order to prevent heat loss.

また、蒸着金属については、特に限定はないが、く、A
 I、Zn、N i、Cu、Au、AQ等一般に蒸6し
得るものなら何でも良い。但し、コンデンサー用途に用
いる場合は電気特性の安定性等の点からA1又はZn、
あるいはA1とznの多層蒸着膜、合金蒸着膜が好まし
い。
In addition, there are no particular limitations on the vapor-deposited metal, but
In general, anything that can be steamed may be used, such as I, Zn, Ni, Cu, Au, AQ, etc. However, when used for capacitor applications, A1 or Zn,
Alternatively, a multilayer deposited film of A1 and zn, or an alloy deposited film is preferable.

以上の如き金属蒸着フィルムの形態としては、種々のも
のが考えられる。例えば、基体となるプラスチックフィ
ルムの片面に1.2PBD層を設【ブ該層上にのみ金属
蒸着したもの、反対面(1゜2PBDFiが設けられて
いない而)にも金属蒸着が施されたもの、また基体とな
るプラスデックフィルムの両面に1.2PBD層を設り
両面又は片面に金属蒸着が施されたものなどでおる。要
するに、少なくとも、基体プラスチックフィルムの片面
に1.2PBD層か形成され、該層に金属蒸着がなされ
ていることを必要とするものである。
There are various possible forms of the metal vapor deposited film as described above. For example, a 1.2 PBD layer is provided on one side of the base plastic film, and metal vapor deposition is performed only on this layer, and a metal vapor deposition layer is also applied to the opposite side (where 1.2 PBDFi is not provided). Alternatively, a 1.2PBD layer is provided on both sides of a Plus Deck film serving as a base, and metal vapor deposition is performed on both or one side. In short, it requires that at least a 1.2 PBD layer be formed on one side of the base plastic film, and that the layer be metal-deposited.

かかる金属蒸着フィルムは、前述の如く、蒸着金属のフ
ィルムl\の接着性が良いため、これをコンデンサーの
誘電体及び電極として用いた場合、いわゆるΔCが小さ
くなるなど浸れた電気特性を発揮するのである。
As mentioned above, such a metal vapor deposited film has good adhesive properties, so when it is used as a dielectric material and an electrode of a capacitor, it exhibits excellent electrical properties such as a small ΔC. be.

コンデンサーの製造に関しては、通常の蒸着型コンデン
サーの製造方法が適用できる。すなわち、片面に蒸むし
7たフィルムを用いる場合は、これを2枚イノ[せて巻
回する。この場合2枚の蒸措フイ・ルムとして本願発明
にかかるフィルムを用いるのが最も良いか、1枚を従来
知られている蒸着フィルムとしても差しつかえない。ま
た、両面に蒸着したフィルムを用いる場合は、もう一方
の誘電体を溝成するために、金属蒸着されていないプラ
スチックフィルムを併せて巻回する。かかる素子に、必
要にJ:り熱処理、熱プレス等の処理、端部への金属の
吹き付け、リード線の取り付け、絶縁油の○浸、ディッ
ピング又はケーシング等の工程を付加する。
Regarding the manufacture of the capacitor, a conventional method for manufacturing a vapor-deposited capacitor can be applied. That is, when using a film that has been steamed on one side, two sheets of this are rolled together. In this case, it is best to use the film according to the present invention as two evaporation films, or one of the films may be a conventionally known evaporation film. When using a film deposited on both sides, a plastic film not deposited with metal is also wound to form a groove on the other dielectric. Such an element is subjected to processes such as heat treatment, heat pressing, etc., spraying of metal onto the ends, attachment of lead wires, immersion in insulating oil, dipping, or casing, as necessary.

なお、その他にも蒸着フィルムを多数枚重ね、その後細
かく裁断するチップ型のコンデンサーなど種々の形態が
考えられるが、本発明においては、何らかかる形態を限
定するものではない。
In addition, various forms such as a chip-type capacitor in which a large number of vapor-deposited films are stacked and then cut into small pieces can be considered, but the present invention is not limited to such forms in any way.

以下に本発明に関する用語及び測定法について説明する
Terms and measurement methods related to the present invention will be explained below.

(1)  融解開始温度(TS)、融解終了温度(Te
):走査型熱量計(パーキンエルマー社製DSC−H2
)を用い、融解に伴う吸熱ピークのベースラインからず
れ始める温度をTSとする。また、融解吸熱ピークがベ
ースラインと再び交わるlをTeとする。
(1) Melting start temperature (TS), melting end temperature (Te
): Scanning calorimeter (DSC-H2 manufactured by PerkinElmer)
), and let TS be the temperature at which the endothermic peak associated with melting begins to deviate from the baseline. Further, l at which the melting endothermic peak intersects the baseline again is assumed to be Te.

なあ、測定条件は、試お15mc+、品温速度20℃/
分、窒素雰囲気で行う。
By the way, the measurement conditions are trial 15mc+, product temperature speed 20℃/
minutes in a nitrogen atmosphere.

<2>1.2結合率(Rt、2)  :試おlフィルム
より、二硫化炭素を用いてポリブタジェンを抽出する。
<2> 1.2 Bonding Ratio (Rt, 2): Polybutadiene is extracted from the sample film using carbon disulfide.

抽出されたポリブタジェン15mc+を再度10mMの
二硫化炭素に溶解し、10100O0’から700Cm
−1の赤外吸収スペクトルを測定する。
The extracted polybutadiene 15mc+ was dissolved again in 10mM carbon disulfide, and 10100O0' to 700Cm
Measure the infrared absorption spectrum of -1.

(AλC)を読みとりモレロ法に基づき下式ににり計算
する。
(AλC) is read and calculated according to the following formula based on the Morello method.

C= (1,7455A λC−0,0151A λT
)V= (0,3746A 、l y −0,0070
A λC)T=(0,4292A λTO,0129A
 λy−0,0454A λC) R1,2(%)=(V/(C+V+T))xloo(3
)結晶化度(χ。):密度勾配管法により、1.2PB
D試料の20℃における密度(dS)を測定し、結晶の
密度(do)、非晶の密度(d8〉とすると結晶化度(
χ。)は次の式により得られる。
C= (1,7455A λC-0,0151A λT
)V=(0,3746A,ly-0,0070
A λC)T=(0,4292A λTO,0129A
λy−0,0454A λC) R1,2(%)=(V/(C+V+T))xloo(3
) Crystallinity (χ.): 1.2PB by density gradient tube method
Measure the density (dS) of sample D at 20°C, and let the crystal density (do) and the amorphous density (d8) be the crystallinity (
χ. ) is obtained by the following formula.

χ = ((d  −d  )/(do−da”))C
S     a Xloo   (%) d  =0.889 (q/cm 3)(4)メルトフ
ローインデックス(MFI):ASTM  D1238
に従い、温度150℃(ポリブタジェン)、190℃(
ポリエチレン)、荷重2160Qにて測定し、Cl/1
0分中位で表わす。
χ = ((d-d)/(do-da”))C
S a Xloo (%) d = 0.889 (q/cm 3) (4) Melt flow index (MFI): ASTM D1238
According to the temperature 150℃ (polybutadiene), 190℃ (
polyethylene), measured at a load of 2160Q, Cl/1
It is expressed in the middle of 0 minutes.

(5)平均表面粗さくRa):JIS  80601−
1976に従い、カットオフ0.25mmで測定する。
(5) Average surface roughness Ra): JIS 80601-
1976 with a cutoff of 0.25 mm.

(6〉  全屈蒸着性:原反フィルムロールを抵抗加熱
式蒸着にてアルミニウムを約500人となる様に蒸着し
て蒸着性を評価した。
(6) Total bending vapor deposition property: The vapor deposition property was evaluated by vapor depositing aluminum on the original film roll by resistance heating vapor deposition to a thickness of about 500.

また、原反フィルムのカットシートを、該フィルムの融
点より10℃低い温度で10分間アニールした後に、ベ
ルジV一式蒸@機にてアルミニウムを約500人となる
ように蒸着し評価した。
In addition, a cut sheet of the original film was annealed for 10 minutes at a temperature 10° C. lower than the melting point of the film, and then aluminum was vapor-deposited in a Verge V set steamer to a thickness of about 500 for evaluation.

(7)  蒸着膜付着カニ蒸着面にセロファン粘着テー
プにヂバン(株)¥J“セロテープパ)を貼り(=lけ
、急速にテープを剥離し、A1蒸着膜の剥離状態を次の
様にして評価する。
(7) Apply a cellophane adhesive tape (Diban Co., Ltd.) to the vapor-deposited surface (=1), rapidly peel off the tape, and check the peeling state of the A1 vapor-deposited film as follows. evaluate.

ランク1:蒸着膜のほとんどが剥離する。Rank 1: Most of the deposited film peels off.

ランク2コ約25%の蒸着膜が残存する。Rank 2: Approximately 25% of the deposited film remains.

ランク3:約50%の蒸着膜が残存する。Rank 3: Approximately 50% of the deposited film remains.

ランク4:約75%の蒸着膜が残存する。Rank 4: About 75% of the deposited film remains.

ランク5:蒸着膜のほとんどが残存する。Rank 5: Most of the deposited film remains.

(8)表面ヌレ張カニJIS  K6768ポリエヂレ
ン及びポリプロピレンフィルムのヌレ試験法に従う。
(8) Surface wetting according to JIS K6768 wetting test method for polyethylene and polypropylene films.

(9)アイソタクチック+f(II):試料のフィルム
を約1cm平方の大ぎざに切断し、重=W(mq)の試
料を取り、これをソックスレー抽出器に入れて、沸tl
tW n−へブタンで6時間抽出する。
(9) Isotactic + f (II): Cut the sample film into large serrations of about 1 cm square, take a sample of weight = W (mq), put it in a Soxhlet extractor, and boil it at tl.
Extract with tW n-hebutane for 6 hours.

継いで、この試料を取り出し、アセトンで十分洗浄した
後、60℃で6時間真空乾燥し、重量を測定する。
Subsequently, this sample is taken out, thoroughly washed with acetone, dried under vacuum at 60° C. for 6 hours, and weighed.

その重量をW′(mci>とすると、アイソタクチック
度は次式で求められる。
If the weight is W'(mci>), the degree of isotacticity is determined by the following formula.

II(%)=100xW−/W (10)極限粘度([η]):AsTM  D−160
1に従って、135°C、テトラリン中で測定したもの
で、dD、/Ω単位で表わす。
II (%) = 100xW-/W (10) Intrinsic viscosity ([η]): AsTM D-160
1 in tetralin at 135°C and is expressed in dD,/Ω.

(11)面配向(ΔN):アツベの屈折計を用いて、フ
ィルムの長手方向の屈折率(Ny>幅方向の屈折率(N
x)及び厚み方向の屈折率(Nz>を測定し、次式で求
める。
(11) Planar orientation (ΔN): Using Atsube's refractometer, refractive index in the longitudinal direction of the film (Ny> refractive index in the width direction (N
x) and the refractive index in the thickness direction (Nz>) are measured and calculated using the following formula.

ΔN= (Nx+Ny>/2−’Nz なあ、測定時の光源は、ナトリウムD線を用い、マウン
ト液はサリヂル酸メチルを用いる。
ΔN=(Nx+Ny>/2-'Nz During the measurement, sodium D line is used as the light source, and methyl salidylate is used as the mounting liquid.

(I2)灰分:ブタジェンポリマーサンプルをJIS−
C2330に従って測定する。なお、ブタジェンポリマ
ーはトルエンにて抽出する。
(I2) Ash content: JIS-
Measured according to C2330. Note that the butadiene polymer is extracted with toluene.

(13)塩素温度:ブタジェンポリマーサンプルを放則
化分析法に従い測定する。なJバブタジエンポリマーは
、トルエンにて抽出する。
(13) Chlorine temperature: Measure the butadiene polymer sample according to the randomization analysis method. The J-babutadiene polymer is extracted with toluene.

(kl>  シート状絶縁破壊電圧(BDV):AST
M  D149に従って挙温で測定した。
(kl> Sheet breakdown voltage (BDV): AST
Measured at elevated temperature according to MD149.

(1つ  コンデン瞥ナーテスト二以下の条件にてテス
トを行なった。
(1) Condenser Test 2 The test was conducted under the following conditions.

A、蒸着 蒸着金属としては、アルミニウムを表面抵抗が2Ω/口
となるJ:う蒸着厚みをコントロールした。
A: The metal used was aluminum with a surface resistance of 2Ω/mouth. J: The thickness of the evaporation was controlled.

B、コンデンサーの作成 容量が5μFとなるよう、常法により作成した。B. Making a capacitor It was prepared by a conventional method so that the capacitance was 5 μF.

なお、含浸油としてはポリブテンを用いた。Note that polybutene was used as the impregnating oil.

C0課電テス士 ベースフィルム厚み10μmの場合、電圧450V (
60Hz) 、14μmの場合600V (60Hz、
)、雰囲気温度70℃にてテストを行ない、40日後で
の容量変化率を次式で求める。
When the thickness of the C0 charging tester base film is 10 μm, the voltage is 450 V (
60Hz), 600V for 14μm (60Hz,
), the test is conducted at an ambient temperature of 70° C., and the rate of change in capacity after 40 days is determined by the following formula.

ΔC(%>=((Ct−02)/CI)X100ここで
、C1:初期容量(μF) C2:/IQ日後の容量(μF) また、tanδの測定も同様に行った。
ΔC(%>=((Ct-02)/CI)X100 where C1: initial capacity (μF) C2: capacity after /IQ days (μF) Tan δ was also measured in the same manner.

二、実施例 次に実施例により本発明を具体的に説明する。2. Examples Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

実施例1゜ ポリプロピレン(三井東圧化学(株)“ノーブレン”I
I=97%、[η]=2.25d12/g)を押出はを
用い、280℃にて押出し冷却ドラム上で固化した後、
145°Cにて5倍に機械方向に延伸した。次に、ホッ
トメルトコーターを用い、150″Cにて溶融したポリ
ブタジェン(Ts=40℃、Te=130°C,MFI
=3C1/10分、R1,2=92%)を該1輔延伸フ
イルムに10μm厚みとなるようにコーティングした。
Example 1 Polypropylene (Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. “Noblen” I)
I = 97%, [η] = 2.25d12/g) was extruded using an extruder, and after solidifying on an extrusion cooling drum at 280 °C,
It was stretched 5 times in the machine direction at 145°C. Next, polybutadiene (Ts=40°C, Te=130°C, MFI
=3C1/10min, R1,2=92%) was coated on the stretched film to a thickness of 10 μm.

該積層フィルムを引き続き160℃のステンターに導き
、横方向に10倍に延伸し、5%のリラックスを許しな
がら熱固定し、巻き取った。こうして得られた複合フィ
ルムの構成はPP厚み15μm、ポリブタジェン厚み1
μmであった。
The laminated film was then introduced into a stenter at 160° C., stretched 10 times in the transverse direction, heat set while allowing 5% relaxation, and wound up. The composite film obtained in this way has a PP thickness of 15 μm and a polybutadiene thickness of 1 μm.
It was μm.

このフィルムを、抵抗加熱式蒸@機によりアルミ蒸着を
行ない500人の厚みとした。該金属化フィルムは第1
表の如く蒸着膜の均一性は良好であり、また接着力も熱
処理前後でセロテープ剥離もランク5と良好でめった。
This film was aluminum-deposited using a resistance heating type evaporator to have a thickness of 500 mm. The metallized film is a first metallized film.
As shown in the table, the uniformity of the deposited film was good, and the adhesion and peeling of cellophane tape before and after heat treatment were good, ranking 5.

比較例1 実施例1において、1.2PBDII5を設けずに製膜
した単膜の2軸配向ポリプロピレンフイルムを放電処理
等の表面処理をせずに、実施例1と同様に蒸着を行なっ
た。こうして得られた金属蒸着フィルムの特性を第1表
に実施例と比較して示した。
Comparative Example 1 A single biaxially oriented polypropylene film formed without 1.2PBDII5 was vapor-deposited in the same manner as in Example 1 without surface treatment such as discharge treatment. The properties of the metallized film thus obtained are shown in Table 1 in comparison with those of Examples.

該フィルムは蒸着金属と基体フィルムとの接着力が小さ
いために、蒸着後巻き取る際に摩擦により容易に剥離し
、又セロテープ剥離ではランク1でめった。
Since the adhesive force between the vapor-deposited metal and the base film was small, the film easily peeled off due to friction when it was rolled up after vapor deposition, and it failed at rank 1 when peeled with cellophane tape.

比較例2 比較例1の単膜2軸配向フイルムに空気中でコロナ放電
処理を行ない、表面張力を39dyn/cmとした。該
処理フィルムは除電処理を行なっているものの、蒸着時
にエレクトレットの放電と思われる蒸着むらを生じるこ
とが判った。また、該コロナ放電処理フィルムを150
℃110分間熱処理した復に蒸着した場合の蒸着強度は
セロテープ剥離でランク2と著しく低下した(第1表)
Comparative Example 2 The single biaxially oriented film of Comparative Example 1 was subjected to a corona discharge treatment in air, and the surface tension was set to 39 dyn/cm. Although the treated film had been subjected to static elimination treatment, it was found that uneven vapor deposition occurred during vapor deposition, which was thought to be due to electret discharge. In addition, the corona discharge treated film was
After heat treatment at ℃ for 110 minutes, the deposition strength was significantly lowered to rank 2 after peeling off cellophane tape (Table 1).
.

実施例2 実施例1において、1.2PBD層を設りずに製膜した
単膜の2軸配向ポリプロピレンフイルムに、粒径0.1
μmの酸化ヂタンをQ、5wt%加えたTs=30″C
,Te=120℃,MFI=3C1/10分の1.2P
BDを用い、この5wt%のトルエン溶液をコーティン
グし、厚さ0.5μmの1.2PBlを形成した。該コ
ーティングフィルムは、さらに150℃の雰囲気で5分
間アニールを行った。
Example 2 In Example 1, a single biaxially oriented polypropylene film formed without a 1.2 PBD layer was coated with a grain size of 0.1
Q, 5wt% of μm titanium oxide added Ts = 30″C
, Te=120℃, MFI=3C1/10/1.2P
This 5 wt % toluene solution was coated using BD to form 1.2 PBI with a thickness of 0.5 μm. The coating film was further annealed in an atmosphere of 150° C. for 5 minutes.

該フィルムを実施例1と同様に蒸着評価したところ、実
施例1と同様に蒸着性及び接着強度共にな良好であり、
熱処理俊の変化もなかった(第1表)。
When the film was evaluated for vapor deposition in the same manner as in Example 1, it had good vapor deposition properties and adhesive strength as in Example 1.
There was no change in heat treatment properties (Table 1).

比較例3 1.2PBD(Ts=15°C,Te=95>を実施例
2と同様にして、コーティング溶液を作成し、0.5μ
mのポリブタジェン層を形成し、150℃5分間アニー
ルした。この様にして得られた積層フィルムをロール状
に巻き取り、窄温にて1週間放首した後巻き出そうとし
たが、巻き出し時、ブロッキング音を発生し、途中フィ
ルムは破断した。
Comparative Example 3 A coating solution was prepared using 1.2PBD (Ts=15°C, Te=95> as in Example 2, and 0.5μ
A polybutadiene layer of m was formed and annealed at 150° C. for 5 minutes. The thus obtained laminated film was wound up into a roll, left to stand for one week at a reduced temperature, and then attempted to be unwound, but a blocking sound was generated during unwinding, and the film broke midway through.

実施例3 低密度ポリエチレン(MFJ=4.OQ/10分、密1
宴0.92 Q/cm3) ト実IM例1 テ用イタ1
.2PBDとをそれぞれ押出機を用いて円形ダイに導き
、デユープ状に押出し、インフレーション製膜にJ:り
複合フィルムを得た。この結果、低密度ポリエチレンと
1.2PBDとの厚みは、それぞれ14μm、2μmと
なった。該フィルムの蒸着性は、第1表に示すように実
施例1と同様に良好であった。
Example 3 Low density polyethylene (MFJ = 4.OQ/10 minutes, density 1
Banquet 0.92 Q/cm3) To real IM example 1 Te for ita 1
.. 2PBD and 2PBD were each introduced into a circular die using an extruder and extruded into a duplex shape to obtain a composite film by inflation film formation. As a result, the thicknesses of low density polyethylene and 1.2 PBD were 14 μm and 2 μm, respectively. The vapor deposition properties of the film were as good as in Example 1, as shown in Table 1.

実施例4 エチレンプロピレンランダムコポリマー([η]=1.
811/q、ニー1)し’:z含fiffi4wt%)
 ト実流側1で用いた1、2PBDとをそれぞれ押出機
により溶融押出し、同一のTダイに導き、サンドブラス
ト処理を施した冷却ドラム上で冷却固化した。この時、
1.2PBDは非ドラム面側になる様にし、表面は平滑
であり、またドラム面側はサンドプラス1〜面が転写さ
れ、Ra=2μmとなる様に粗面化した。この時、エチ
レンプロピレンランダムコポリマーと1.2PBDの厚
さは40μrT’l、15μmであった。該フィルムを
蒸着評価したところ、1.2PBD層が厚い分だけ曇を
生じたが、黙る膜の接着性は、アニール面接で変化なく
、ランク5と惨めで良好であった。
Example 4 Ethylene propylene random copolymer ([η]=1.
811/q, knee 1): z included fiffi4wt%)
1 and 2 PBD used in the actual flow side 1 were each melt-extruded using an extruder, introduced into the same T-die, and cooled and solidified on a cooling drum subjected to sandblasting. At this time,
1.2 PBD was placed on the non-drum surface side, and the surface was smooth, and the drum surface side was roughened so that Sand Plus 1~ surface was transferred and Ra = 2 μm. At this time, the thickness of the ethylene propylene random copolymer and 1.2 PBD was 40 μrT'l and 15 μm. When the film was evaluated by vapor deposition, clouding occurred due to the thickness of the 1.2 PBD layer, but the adhesion of the silent film did not change upon annealing and was ranked 5, which was poor and good.

実施例5 実施例1に従い、複合2輔配向フイルムを得た。Example 5 According to Example 1, a composite two-layer oriented film was obtained.

但し、1.2PBD層の厚みは1μm1ポリプロピレン
フイルムの厚みは14μm1而配向15×10−3とし
た。
However, the thickness of the 1.2 PBD layer was 1 μm, the thickness of the polypropylene film was 14 μm, and the orientation was 15×10 −3 .

該フィルムのシート状のBDVは310V/μmと良好
でめった。次に]ンデン1ナーとしての特性評1簡のた
め前述の方法でコンデンサーを作成した。その結果、t
anδ及びΔCはそれぞれ0゜01%、0.1%と優れ
た特性であった。
The sheet-like BDV of the film was 310 V/μm, which was good. [Next,] A capacitor was prepared by the above-mentioned method in order to briefly evaluate its characteristics as a densifier. As a result, t
An δ and ΔC were 0°01% and 0.1%, respectively, which were excellent characteristics.

比較例4 比較例2のフィルムを用い、実施例5と同様にコンデン
サーとしての特性を測定した。その結果、tanδは0
.03%、ΔCは1.0%と極めて悪いことが¥1つだ
。ここで、tanδが悪化する理由は、蒸谷全屈電(水
の消失のために、電4〜の実T1的な抵抗が増大したた
めである。
Comparative Example 4 Using the film of Comparative Example 2, the characteristics as a capacitor were measured in the same manner as in Example 5. As a result, tanδ is 0
.. 03%, ΔC is 1.0%, which is extremely bad. Here, the reason why tan δ deteriorates is that the actual T1 resistance of the electric currents 4 to 4 increases due to the disappearance of water.

実施例6 1 I=98%、[η]=1.85dα/qのポリV[
]ピレンペレットからステンタ一式逐次2軸延伸装置を
用いて、面配向16X10−3、厚み10μmの2軸配
向フイルムを得た。
Example 6 1 Poly V[ with I=98%, [η]=1.85dα/q
] A biaxially oriented film with a plane orientation of 16×10 −3 and a thickness of 10 μm was obtained from pyrene pellets using a sequential biaxial stretching device with a stenter set.

ここで、Ts=40℃,Te=135°C1R1,2=
94%、MFI=3C1/10分のブタジェンポリマー
を1〜ルエンに溶解し、6wt%の溶液を作成した。
Here, Ts=40°C, Te=135°C1R1,2=
A butadiene polymer of 94%, MFI=3C 1/10 min was dissolved in 1 to 1 to 1 toluene to create a 6 wt % solution.

この溶液をコーティング装置を用い、先に製膜した2軸
配向PPフイルムの片面に]−トし、120℃雰囲気で
溶媒を乾燥俊、140℃にて空気雰囲気でアニールし、
PP厚み10μm、ブタジェンポリマー厚み0.5μm
の複合フィルムを得た。
This solution was applied to one side of the previously formed biaxially oriented PP film using a coating device, the solvent was dried in an atmosphere of 120°C, annealed at 140°C in an air atmosphere,
PP thickness 10μm, butadiene polymer thickness 0.5μm
A composite film was obtained.

該フィルムのシート状BDVは320V/μmと良好で
あり、また第1表に示す様にコンデンサーデス1〜でも
良好であった。
The sheet-like BDV of the film was 320 V/μm, which was good, and as shown in Table 1, the film had a good capacitor density of 1 to 1.

比較例5 実施例6て装膜した2[111口配向PPフィルムにコ
ロナ放電処理を行い、スパック−蒸着法にてシリコン金
属(S i )を蒸着し、100人の蒸着膜を形成し、
引き続きlを蒸着し、]ンデンリー−を作成した。
Comparative Example 5 The 2[111-way oriented PP film coated in Example 6 was subjected to corona discharge treatment, and silicon metal (S i ) was vapor-deposited by spuck-evaporation method to form a vapor-deposited film of 100 people.
Subsequently, 1 was vapor-deposited to create a layer.

その結果、第1表のように極めて悪いものであった。The results were extremely poor as shown in Table 1.

以上の如く、本発明品は経時変化の小さい安定性良好な
]ンデンザーであることが判った。
As described above, the product of the present invention was found to be a highly stable densifier with little change over time.

ホ0発明の効果 本発明の効果を以下に列挙する。Effect of Ho0 invention The effects of the present invention are listed below.

本発明に係る金属蒸着フィルムは、 ■ 椎体フィルムとに= n金属の接着力が強固でおる
The metal-deposited film according to the present invention has the following characteristics: (1) strong adhesion of the metal to the vertebral body film;

■ コロナ放電処理を施さないため、ゴミの吸引がなく
、また放電現象ににる蒸着むらもない。
■ Since no corona discharge treatment is applied, there is no suction of dust, and there is no uneven deposition due to discharge phenomena.

■ 基体フィルムと蒸行全屈の接着力の経時変化が小ざ
く、いつまでも均一な蒸着膜を有する。
■ There is little change over time in the adhesion between the base film and the total evaporation flexure, resulting in a consistently uniform evaporation film.

本発明に係る金属コンデンサーは、 ■ 交流電圧印加時の静電容量の経時変化が極めて小さ
く、誘電1員失の経時変化も小ざい。
The metal capacitor according to the present invention has the following features: (1) Changes in capacitance over time when AC voltage is applied are extremely small, and changes in dielectric loss over time are also small.

■ コスト的に極めて右利で必る。■ It is extremely advantageous in terms of cost.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プラスチックフィルムの少なくとも片面に、融解
開始温度が25〜90℃で融解終了温度が100℃以上
である1、2ポリブタジエン層を設け、かつ該1、2ポ
リブタジエン層の表面に金属蒸着層を設けたことを特徴
とする金属蒸着フィルム。
(1) A 1 and 2 polybutadiene layer having a melting start temperature of 25 to 90°C and a melting end temperature of 100°C or higher is provided on at least one side of the plastic film, and a metal vapor deposition layer is provided on the surface of the 1 and 2 polybutadiene layer. A metal-deposited film characterized by the following:
(2)プラスチックフィルムの少なくとも片面に、融解
開始温度が25〜900℃で融解終了温度が100℃以
上である1、2ポリブタジエン層を設け、かつ該1、2
ポリブタジエン層の表面に金属蒸着層を設けた金属蒸着
フィルムを用いたことを特徴とするコンデンサー。
(2) At least one side of the plastic film is provided with 1 and 2 polybutadiene layers having a melting start temperature of 25 to 900°C and a melting end temperature of 100°C or higher, and
A capacitor characterized by using a metallized film in which a metallized layer is provided on the surface of a polybutadiene layer.
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