JPS62181419U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62181419U JPS62181419U JP7005586U JP7005586U JPS62181419U JP S62181419 U JPS62181419 U JP S62181419U JP 7005586 U JP7005586 U JP 7005586U JP 7005586 U JP7005586 U JP 7005586U JP S62181419 U JPS62181419 U JP S62181419U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- stopper
- window glass
- glass stopper
- hook
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010902 straw Substances 0.000 description 1
Description
第１図は、この考案の一実施例を示すウインド
ウガラスのストツパー構造の概略拡大断面図、第
２図は、ストツパー構造の作動状態を示す説明断
面図、第３図及び第４図はそれぞれ要部の斜視図
、第５図は、従来のウインドウガラスの昇降機構
の説明図、第６図は、第５図中矢示―線に沿
う拡大断面図、そして第７図は、ウインドウガラ
スとウエザーストリツプとの当接状態の説明図で
ある。 １……ウインドウガラス、２……レギユレータ
、３……ガラスストツパー、８……インナスタビ
ライザー、９，２０……フツク、１１……アウタ
スタビライザー、２５……緩衝体、２６……スプ
リング（弾性体）。
ウガラスのストツパー構造の概略拡大断面図、第
２図は、ストツパー構造の作動状態を示す説明断
面図、第３図及び第４図はそれぞれ要部の斜視図
、第５図は、従来のウインドウガラスの昇降機構
の説明図、第６図は、第５図中矢示―線に沿
う拡大断面図、そして第７図は、ウインドウガラ
スとウエザーストリツプとの当接状態の説明図で
ある。 １……ウインドウガラス、２……レギユレータ
、３……ガラスストツパー、８……インナスタビ
ライザー、９，２０……フツク、１１……アウタ
スタビライザー、２５……緩衝体、２６……スプ
リング（弾性体）。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 レギユレータにて昇降自在とされるウインドウ
ガラスの下方にガラスストツパーを備え、且つ車
体に設けられたスタビライザーにガラスストツパ
ーに対応するフツクを備え、そしてウインドウガ
ラスの上昇時ガラスストツパーをフツクに当接さ
せてウインドウガラスの上端の位置規制を行うウ
インドウガラスのストツパー構造に於いて、 上記フツクの内側に、弾性体を介して少なくと
も上下方向に変位自在な緩衝体を設け、そしてガ
ラスストツパーの上昇時緩衝体にてガラスストツ
パーに弾性体反力を付与せしめたことを特徴とす
るウインドウガラスのストツパー構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7005586U JPS62181419U (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7005586U JPS62181419U (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62181419U true JPS62181419U (ja) | 1987-11-18 |
Family
ID=30911339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7005586U Pending JPS62181419U (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62181419U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7906414B2 (en) | 2002-08-19 | 2011-03-15 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Single-shot semiconductor processing system and method having various irradiation patterns |
| US8859436B2 (en) | 1996-05-28 | 2014-10-14 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Uniform large-grained and grain boundary location manipulated polycrystalline thin film semiconductors formed using sequential lateral solidification and devices formed thereon |
| US9466402B2 (en) | 2003-09-16 | 2016-10-11 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Processes and systems for laser crystallization processing of film regions on a substrate utilizing a line-type beam, and structures of such film regions |
-
1986
- 1986-05-12 JP JP7005586U patent/JPS62181419U/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8859436B2 (en) | 1996-05-28 | 2014-10-14 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Uniform large-grained and grain boundary location manipulated polycrystalline thin film semiconductors formed using sequential lateral solidification and devices formed thereon |
| US7906414B2 (en) | 2002-08-19 | 2011-03-15 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Single-shot semiconductor processing system and method having various irradiation patterns |
| US8479681B2 (en) | 2002-08-19 | 2013-07-09 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Single-shot semiconductor processing system and method having various irradiation patterns |
| US9466402B2 (en) | 2003-09-16 | 2016-10-11 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Processes and systems for laser crystallization processing of film regions on a substrate utilizing a line-type beam, and structures of such film regions |