JPS62181419U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS62181419U JPS62181419U JP7005586U JP7005586U JPS62181419U JP S62181419 U JPS62181419 U JP S62181419U JP 7005586 U JP7005586 U JP 7005586U JP 7005586 U JP7005586 U JP 7005586U JP S62181419 U JPS62181419 U JP S62181419U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- stopper
- window glass
- glass stopper
- hook
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010902 straw Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Window Of Vehicle (AREA)
Description
第1図は、この考案の一実施例を示すウインド
ウガラスのストツパー構造の概略拡大断面図、第
2図は、ストツパー構造の作動状態を示す説明断
面図、第3図及び第4図はそれぞれ要部の斜視図
、第5図は、従来のウインドウガラスの昇降機構
の説明図、第6図は、第5図中矢示―線に沿
う拡大断面図、そして第7図は、ウインドウガラ
スとウエザーストリツプとの当接状態の説明図で
ある。 1……ウインドウガラス、2……レギユレータ
、3……ガラスストツパー、8……インナスタビ
ライザー、9,20……フツク、11……アウタ
スタビライザー、25……緩衝体、26……スプ
リング(弾性体)。
ウガラスのストツパー構造の概略拡大断面図、第
2図は、ストツパー構造の作動状態を示す説明断
面図、第3図及び第4図はそれぞれ要部の斜視図
、第5図は、従来のウインドウガラスの昇降機構
の説明図、第6図は、第5図中矢示―線に沿
う拡大断面図、そして第7図は、ウインドウガラ
スとウエザーストリツプとの当接状態の説明図で
ある。 1……ウインドウガラス、2……レギユレータ
、3……ガラスストツパー、8……インナスタビ
ライザー、9,20……フツク、11……アウタ
スタビライザー、25……緩衝体、26……スプ
リング(弾性体)。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 レギユレータにて昇降自在とされるウインドウ
ガラスの下方にガラスストツパーを備え、且つ車
体に設けられたスタビライザーにガラスストツパ
ーに対応するフツクを備え、そしてウインドウガ
ラスの上昇時ガラスストツパーをフツクに当接さ
せてウインドウガラスの上端の位置規制を行うウ
インドウガラスのストツパー構造に於いて、 上記フツクの内側に、弾性体を介して少なくと
も上下方向に変位自在な緩衝体を設け、そしてガ
ラスストツパーの上昇時緩衝体にてガラスストツ
パーに弾性体反力を付与せしめたことを特徴とす
るウインドウガラスのストツパー構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7005586U JPS62181419U (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7005586U JPS62181419U (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62181419U true JPS62181419U (ja) | 1987-11-18 |
Family
ID=30911339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7005586U Pending JPS62181419U (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62181419U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7906414B2 (en) | 2002-08-19 | 2011-03-15 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Single-shot semiconductor processing system and method having various irradiation patterns |
US8859436B2 (en) | 1996-05-28 | 2014-10-14 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Uniform large-grained and grain boundary location manipulated polycrystalline thin film semiconductors formed using sequential lateral solidification and devices formed thereon |
US9466402B2 (en) | 2003-09-16 | 2016-10-11 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Processes and systems for laser crystallization processing of film regions on a substrate utilizing a line-type beam, and structures of such film regions |
-
1986
- 1986-05-12 JP JP7005586U patent/JPS62181419U/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8859436B2 (en) | 1996-05-28 | 2014-10-14 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Uniform large-grained and grain boundary location manipulated polycrystalline thin film semiconductors formed using sequential lateral solidification and devices formed thereon |
US7906414B2 (en) | 2002-08-19 | 2011-03-15 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Single-shot semiconductor processing system and method having various irradiation patterns |
US8479681B2 (en) | 2002-08-19 | 2013-07-09 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Single-shot semiconductor processing system and method having various irradiation patterns |
US9466402B2 (en) | 2003-09-16 | 2016-10-11 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Processes and systems for laser crystallization processing of film regions on a substrate utilizing a line-type beam, and structures of such film regions |