JPS62181360A - High polymer material composition having improved light stability - Google Patents

High polymer material composition having improved light stability

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JPS62181360A
JPS62181360A JP2262086A JP2262086A JPS62181360A JP S62181360 A JPS62181360 A JP S62181360A JP 2262086 A JP2262086 A JP 2262086A JP 2262086 A JP2262086 A JP 2262086A JP S62181360 A JPS62181360 A JP S62181360A
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Abstract

PURPOSE:A high polymer material composition having improved light stability, obtained by blending a high polymer material with a copolymer of a specific benzotriazole monomer and an alpha,beta-unsaturated carboxylic acid compound. CONSTITUTION:A composition obtained by blending 100pts.wt. high polymer material with 0.001-5pts.wt. copolymer which is obtained by polymerizing a 2-(2-hydroxy-3-allyl-5-substituted phenyl)benzotriazole compound with an alpha,beta-unsaturated carboxylic acid compound by the use of an organic peroxide, etc., and has a repeating unit shown by formula I (R1 is H, halogen or alkyl; R2 is alkyl or aralkyl; R3 and R4 are H or alkyl) and a repeating unit shown by formula II (R5 is H, alkyl or group shown by formula III; R6 is group shown by formula III or formula IV; R7 is H, alkyl, group shown by formula III or formula V; R5 and R6 may be bonded to form group shown by formula VI; X1 and X2 are O or group shown by formula VII; R8 and R9 are H, alkyl, etc.,) and 500-50,000mol.wt.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高分子量のヘンシトリアゾール化合物を添加
してなる高分子材料組成物、詳しくは、2−(2−ヒド
ロキシ−3−アリル−5−置換フェニル)ベンゾトリア
ゾール化合物と、α、β−不飽和カルボン酸化合物との
コポリマーを添加することにより光安定性が改良された
高分子材料組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a polymeric material composition prepared by adding a high molecular weight hensitriazole compound, specifically, 2-(2-hydroxy-3-allyl-5 The present invention relates to a polymeric material composition with improved photostability by adding a copolymer of a -substituted phenyl)benzotriazole compound and an α,β-unsaturated carboxylic acid compound.

〔従来の技術及びその問題点〕[Conventional technology and its problems]

ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、スチレン系樹脂等の
高分子材料は、光の作用により劣化し、変色或いは機械
的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐えないこ
とが知られている。
It is known that polymer materials such as polypropylene, polyvinyl chloride, and styrene resins deteriorate due to the action of light, causing discoloration or a decrease in mechanical strength, and thus cannot withstand long-term use.

そこで、この光による高分子材料の劣化を防止するため
に、従来から種々の安定剤が用いられており、2−ヒド
ロキシフェニルベンゾトリアゾール類は安定化効果の比
較的大きい光安定剤であることが知られている。
Therefore, in order to prevent the deterioration of polymeric materials due to this light, various stabilizers have been used in the past, and 2-hydroxyphenylbenzotriazoles are known to be light stabilizers with a relatively large stabilizing effect. Are known.

しかしながら、従来用いられているヘンシトリアゾール
化合物は、高分子材料の加工中に揮散したり、或いは水
、有機溶媒に抽出され易い欠点を有しており、実用上満
足し得るものではなかった。
However, the hensitriazole compounds conventionally used have the disadvantage that they tend to volatilize during processing of polymeric materials or are easily extracted by water or organic solvents, and are not practically satisfactory.

このため、分子中にアクリロイル基を有するヘンシトリ
アゾール化合物の(共)重合体を用いることも提案され
たが、これらの化合物は合成法が煩雑であるばかりでな
く、加水分解によりベンゾトリアゾール化合物が脱離し
てしまう欠点を有しており、未だ満足し得るものではな
かった。
For this reason, it has been proposed to use (co)polymers of hensitriazoles having an acryloyl group in the molecule, but not only are the synthesis methods of these compounds complicated, but the benzotriazole compounds are eliminated by hydrolysis. However, it has the disadvantage of causing separation, and has not yet been satisfactory.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者は、高分子材料に対する光安定化効果に優れ、
しかも耐熱性、耐水性、耐溶剤性の良好な化合物を得る
べく鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(+)で表され
る繰り返し単位及び下記一般式(n)で表される繰り返
し単位を有するコポリマーが上記課題を全て解決し、高
分子材料に添加した場合、高分子材料の光安定性を著し
く改善することを見出し、本発明に到達した。
The present inventor has an excellent photostabilizing effect on polymeric materials,
Moreover, as a result of intensive studies to obtain a compound with good heat resistance, water resistance, and solvent resistance, we found that the repeating unit represented by the following general formula (+) and the repeating unit represented by the following general formula (n) were The present inventors have discovered that a copolymer having the above-mentioned compound solves all of the above problems and, when added to a polymeric material, significantly improves the photostability of the polymeric material, and has thus arrived at the present invention.

即ち、本発明は、高分子材料100重量部に、下記一般
式(()で表される繰り返し単位及び下記一般式(II
)で表される繰り返し単位を有する分子量500〜50
. 000ノ:+ホ’Jマー0.001〜5重量部を配
合してなる、光安定性の改良された高分子材料組成物を
提供するものである。
That is, the present invention provides 100 parts by weight of a polymeric material with a repeating unit represented by the following general formula (()) and the following general formula (II
) having a repeating unit represented by a molecular weight of 500 to 50
.. The present invention provides a polymeric material composition with improved photostability, which contains 0.001 to 5 parts by weight of 000NO:+Ho'Jmer.

(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基
を示し、R2はアルキル基又はアラルキル基を示し、R
3及びR4は各々水素原子又はアルキル基を示す。) (式中、R2は水素原子、アルキル基又はCo  X+
  R@を示し、 Rhは−Co  X+  Rs又は CHCHz  Co  X+  Rsを示し、Co  
X+  R++ R1は水素原子、アルキル基、−CO−X +   R
s又は−CHz  Co  X+  Rsを示し、また
、X+及びX、は各々−〇−又は−N(R9)−を示し
、R8及びR7は各々水素原子、アルキル基1;++1
   L)h 子、オキシル、アルキル基又はアシル基を示し、R1は
アルキル基を示す。〕 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。
(In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, R2 represents an alkyl group or an aralkyl group, and R
3 and R4 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. ) (wherein, R2 is a hydrogen atom, an alkyl group, or Co
R@, Rh represents -Co X+ Rs or CHCHz Co X+ Rs, Co
X+ R++ R1 is a hydrogen atom, an alkyl group, -CO-X + R
s or -CHz Co
L) h represents an oxyl, alkyl group or an acyl group, and R1 represents an alkyl group. ] The polymer material composition of the present invention will be described in detail below.

本発明で用いられる前記コポリマーにおいて、R+ 、
RtlRx、Ra、R5、R?、Re、Rq、R+。及
びR1で表されるアルキル基としては、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、第2ブチル、第3
ブチル、アミル、第37ミル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、2−エチルヘキシル、第3オクチル、ノニル、
デシル、ドデシル、テトラデシル、オクタデシル等が挙
げられ、R2で表されるアラルキル基としては、ベンジ
ル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル等
が挙げられる。
In the copolymer used in the present invention, R+,
RtlRx, Ra, R5, R? , Re, Rq, R+. The alkyl group represented by R1 is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tertiary-butyl,
Butyl, amyl, 37th mil, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, tertiary octyl, nonyl,
Examples include decyl, dodecyl, tetradecyl, octadecyl, etc., and examples of the aralkyl group represented by R2 include benzyl, α-methylbenzyl, α, α-dimethylbenzyl, and the like.

また、R6゜で表されるアシル基としては、ホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチロイル、アクリロイル、
ベンゾイル等が挙げられる。
In addition, as the acyl group represented by R6゜, formyl,
acetyl, propionyl, butyroyl, acryloyl,
Examples include benzoyl.

本発明で用いられる前記コポリマーにおいて、前記一般
式(I)で表される繰り返し単位を与える七ツマ−は、
式(Ia) C式中、R+ 、Rz 、R3及びR4は、前記一般式
(I)における場合と同じ。〕 で表されるものであり、その具体例としては、2−(2
−ヒドロキシ−3−アリル−4−メチルフェニル)ヘン
シトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−
5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
、2−(2−ヒドロキシ−3−メタリル−5−メチルフ
ェニル)ヘンシトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−
3−アリル−5−メチルフェニル)−5−メチルヘンシ
トリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−5
−第3ブチルフエニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−3−アリル−5−第3オクチルフエニル
)ベンゾトリアゾール、2− (2−ヒドロキシ−3−
アリル−5−クミルフェニル)ヘンシトリアゾール、2
− (2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−5−アリルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
In the copolymer used in the present invention, the heptamer providing the repeating unit represented by the general formula (I) is:
In the formula (Ia) C, R+, Rz, R3 and R4 are the same as in the general formula (I). ], and a specific example is 2-(2
-Hydroxy-3-allyl-4-methylphenyl)hencytriazole, 2-(2-hydroxy-3-allyl-
5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2-hydroxy-3-methallyl-5-methylphenyl)hencytriazole, 2-(2-hydroxy-
3-allyl-5-methylphenyl)-5-methylhensitriazole, 2-(2-hydroxy-3-allyl-5
-tert-butylphenyl)benzotriazole, 2-(2
-Hydroxy-3-allyl-5-tertiary octylphenyl)benzotriazole, 2-(2-hydroxy-3-
Allyl-5-cumylphenyl)hencytriazole, 2
-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-allylphenyl)benzotriazole and the like.

これらのモノマーは、特公昭41−19179号公報に
記載されている如く、公知の化合物であり、2−ヒドロ
キシフェニルベンゾトリアゾール化合物とアリルハライ
ド化合物を背嚢させた後、転移させることにより容易に
製造し得る。
These monomers are known compounds as described in Japanese Patent Publication No. 41-19179, and can be easily produced by combining a 2-hydroxyphenylbenzotriazole compound and an allyl halide compound and then transferring them. obtain.

また、前記一般式(II)で表される繰り返し単位を与
えるモノマーは、式(Ila) R。
Further, the monomer providing the repeating unit represented by the general formula (II) is represented by the formula (Ila) R.

で表される、α、β−不飽和モノ〜ポリカルボンI’l
及びそのエステル、アマイド、イミド又は無水物であり
、上記α、β−不飽和カルボン酸の具体例としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、イソクロトンン酸、マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸
、1−ブテン−2,3゜4−トリカルボン酸等が挙げら
れ、上記エステルとしては、上記α、β−不飽和カルポ
ン酸のメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、
ドデシル−エステル等のアルキルエステル及び2,2゜
6.6−テトラメチル−4−ピペリジル、1.2゜2.
6.6−ベンタメチルー4−ピペリジル、9−7ザー3
−エチル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5
−ジオキサスピロ(5,5)−3−ウンデシルメチル−
エステル等のピペリジン環を有するエステルが挙げられ
、上記アマイドとしては、上記α、β−不飽和カルボン
酸のメチルアミド、ブチルアミド、ジブチルアミド、オ
クチルアミド、第3オクチルアミド等のアルキルアミド
及び2,2,6.6−テトラメチル−4−ピペリジルア
ミド、N−ブチル−N−(2,2,6゜6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)アミド等のテトラメチルピペリジ
ル基を有するアマイドが挙げられ、またイミドとしては
、マレイミド、イタコンイミド、N−ブチルマレイミド
、N−オクチルマレイミド、N−2,2,6,6−テト
ラメチルー4−ピペリジルマレイミド等が挙げられる。
α,β-unsaturated mono-polycarbonyl I'l represented by
and its esters, amides, imides, or anhydrides. Specific examples of the α,β-unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, isocrotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid. Examples of the esters include methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl,
Alkyl esters such as dodecyl-ester and 2,2°6.6-tetramethyl-4-piperidyl, 1.2°2.
6.6-bentamethyl-4-piperidyl, 9-7zar3
-ethyl-8,8,10,10-tetramethyl-1,5
-dioxaspiro(5,5)-3-undecylmethyl-
Examples of the amides include esters having a piperidine ring such as esters, and examples of the amides include alkylamides of the α,β-unsaturated carboxylic acids such as methylamide, butylamide, dibutylamide, octylamide, and tertiary octylamide; Amides having a tetramethylpiperidyl group such as 6.6-tetramethyl-4-piperidylamide, N-butyl-N-(2,2,6゜6-tetramethyl-4-piperidyl)amide, and imide Examples include maleimide, itaconimide, N-butylmaleimide, N-octylmaleimide, N-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylmaleimide, and the like.

本発明で用いられる前記一般式(I)及び(■)で表さ
れる繰り返し単位を有するコポリマーは、前記一般式(
I a)で表されるヘンヅトリアヅールモノマーと前記
一般式(Ha)で表されるα、β−不飽和カルボン酸誘
導体を、有機過酸化物或いはアゾニトリル化合物等の通
常の重合開始剤を用いて重合させ、その後必要に応して
、エステル化或いはアマイド化することによって容易に
製造することができる。
The copolymer having repeating units represented by the general formulas (I) and (■) used in the present invention has the general formula (I) and (■).
The hendztriadur monomer represented by I a) and the α, β-unsaturated carboxylic acid derivative represented by the general formula (Ha) are mixed with a conventional polymerization initiator such as an organic peroxide or an azonitrile compound. It can be easily produced by polymerizing the compound using a compound, followed by esterification or amide conversion, if necessary.

この場合、前記一般式(!a)で表されるモノマーと前
記一般式(Ha)で表されるモノマーとのモル比は、好
ましくは1:50〜50:1、更に好ましくはl:20
〜20:lの範囲から選択される。
In this case, the molar ratio of the monomer represented by the general formula (!a) to the monomer represented by the general formula (Ha) is preferably 1:50 to 50:1, more preferably 1:20.
-20:l.

また、本発明で用いられる前記コポリマーを製造スる際
に、更に小割合のスチレン、アルキルビニルエーテル、
酢酸ビニル等の共重合可能な他のモノマーを共重合させ
ても良い。
In addition, when producing the copolymer used in the present invention, a small proportion of styrene, alkyl vinyl ether,
Other copolymerizable monomers such as vinyl acetate may also be copolymerized.

本発明で用いられる前記コポリマーは、その分子量が5
00未満であると、コポリマー自体の耐熱性が乏しく、
加工条件下で渾発し易く、また5o、oo、oを超える
と、高分子材料との相容性が悪くなる。
The copolymer used in the present invention has a molecular weight of 5
If it is less than 00, the copolymer itself has poor heat resistance,
It tends to swell under processing conditions, and if it exceeds 5o, oo, or o, it becomes less compatible with polymeric materials.

以下に本発明で用いられる前記コポリマーの合成例を示
し、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら
の合成例によって制限を受けるものではない。
The present invention will be explained in further detail by showing synthesis examples of the copolymer used in the present invention below, but the present invention is not limited by these synthesis examples.

合成例1 2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−5−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアソール26.5 g (0,1モル)
、無水マレイン酸9.8g(0,1モル)及びアゾビス
(イソブチロニトリル)3.63gをキシレン80m1
に溶解し、窒素気流下80℃で15時間撹拌した。
Synthesis Example 1 2-(2-hydroxy-3-allyl-5-methylphenyl)benzotriazole 26.5 g (0.1 mol)
, 9.8 g (0.1 mol) of maleic anhydride and 3.63 g of azobis(isobutyronitrile) were added to 80 ml of xylene.
and stirred at 80° C. for 15 hours under a nitrogen stream.

減圧下に脱溶媒した後、エタノール中で磨砕し、白色固
体の生成物(共重合体−1)を得た。
After removing the solvent under reduced pressure, the mixture was ground in ethanol to obtain a white solid product (copolymer-1).

この生成物は、軟化点240〜260℃、分子量約25
00であり、赤外分光分析の結果、酸無水物に基づく吸
収が1850cm−’、  1780cm−’及び92
0cm−’に、ベンゾトリアゾールに基づく吸収が15
60co+−’及び750cm+−’にそれぞれあり、
また1 640cm−’の二重結合に基づく吸収が消失
しており、目的物であることを確認した。
This product has a softening point of 240-260°C and a molecular weight of about 25
00, and as a result of infrared spectroscopy, the absorption based on acid anhydride is 1850 cm-', 1780 cm-' and 92
At 0 cm-', the absorption based on benzotriazole is 15
There are 60co+-' and 750cm+-' respectively,
In addition, the absorption based on the double bond at 1640 cm-' disappeared, confirming that it was the desired product.

合成例2 合成例1で得た共重合体−110g、n−ブタノール1
5g及びパラトルエンスルホン酸0.5gをキシレンに
溶解し、窒素気流下、水を除きながら6時間還流した。
Synthesis Example 2 110 g of copolymer obtained in Synthesis Example 1, 1 n-butanol
5 g and 0.5 g of para-toluenesulfonic acid were dissolved in xylene and refluxed for 6 hours under a nitrogen stream while removing water.

水洗、乾燥後、微攪の不溶物を濾別し、濾液を脱溶媒後
、エタノール中で磨砕し、白色粉末の生成物(共重合体
−2)を得た。
After washing with water and drying, the slightly agitated insoluble matter was filtered off, and the filtrate was desolvented and ground in ethanol to obtain a white powder product (copolymer-2).

この生成物は、軟化点290〜300℃、分子量約30
00であり、赤外分光分析の結果、エステルに基づく吸
収が1120cm−’にあり、また1850ca+−’
、  1780cm−’及び920cm−’の酸無水物
に基づ(吸収が消失しており、目的物であることを確認
した。
This product has a softening point of 290-300°C and a molecular weight of about 30
00, and as a result of infrared spectroscopy, the absorption based on ester was found at 1120 cm-', and 1850 ca+-'
, 1780 cm-' and 920 cm-' based on the acid anhydride (absorption disappeared, confirming that it was the target product.

合成例3 2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−5−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアソーJ115.3 g (0,02モ
ル)、無水マレイン酸2.35 g (0,024モル
)及びジ第3ブチルパーオキサイド0.38gをキシレ
ン10m1に溶解し、窒素気流下125℃で18時間攪
拌した。次いで、ジ第3ブチルパーオキサイド0.19
 g及び無水マレイン酸0.2g(0゜002モル)を
追加し・、同温度で更に18時間攪拌した。
Synthesis Example 3 2-(2-hydroxy-3-allyl-5-methylphenyl)benzotriazole J 115.3 g (0.02 mol), maleic anhydride 2.35 g (0.024 mol) and di-tertiary 0.38 g of butyl peroxide was dissolved in 10 ml of xylene and stirred at 125° C. for 18 hours under a nitrogen stream. Then di-tert-butyl peroxide 0.19
g and 0.2 g (0.002 mol) of maleic anhydride were added thereto, and the mixture was further stirred at the same temperature for 18 hours.

その後、パラトルエンスルホン酸0.2g及びn−ブタ
ノール5gを加え、還流下、水を除きながら6時間攪拌
した。
Thereafter, 0.2 g of para-toluenesulfonic acid and 5 g of n-butanol were added, and the mixture was stirred for 6 hours under reflux while removing water.

水洗、乾燥後、微量の不溶物を濾別し、濾液を脱溶媒し
、微黄色ガラス状固体の生成物(共重合体−3)を得た
After washing with water and drying, a trace amount of insoluble matter was filtered off, and the filtrate was desolvented to obtain a pale yellow glassy solid product (copolymer-3).

この生成物は、軟化点50〜60℃、分子量約3500
であり、赤外分光分析の結果、エステルに基づく吸収が
1720cm−1に、ベンゾトリアゾールに基づく吸収
が1560cm−’及び750cffi−’にそれぞれ
あり、また1 640cm−’の二重結合に基づく吸収
が消失しており、目的物であることを確認した。
This product has a softening point of 50-60°C and a molecular weight of about 3500.
As a result of infrared spectroscopy, there is an absorption based on ester at 1720 cm-1, an absorption based on benzotriazole at 1560 cm-' and 750 cffi-', and an absorption based on a double bond at 1640 cm-1. It had disappeared, confirming that it was the object.

合成例4〜7 エステル化に用いるアルコールのWi類を下表の如く代
えた以外は合成例3と同様にして、下表に示す分子量の
コポリマー(共重合体−4〜7)をそれぞれ製造した。
Synthesis Examples 4 to 7 Copolymers (copolymers-4 to 7) having the molecular weights shown in the table below were produced in the same manner as in Synthesis Example 3, except that the Wis of alcohols used for esterification were changed as shown in the table below. .

合成例8 2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−5へメチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾールlo、6g(0,04モル)、
ジー2−エチルへキシルマレート13゜6g(0,04
モル)及びジ第3ブチルパーオキサイド2.4gをキシ
レンに溶解し、窒素気流下125℃で30時間撹拌した
Synthesis Example 8 2-(2-hydroxy-3-allyl-5-methylphenyl)benzotriazole lo, 6 g (0.04 mol),
Di-2-ethylhexyl malate 13°6g (0.04
mol) and di-tert-butyl peroxide (2.4 g) were dissolved in xylene and stirred at 125° C. for 30 hours under a nitrogen stream.

その後、還流下3時間攪拌し、減圧下に脱溶媒し、分子
量約2000の淡黄色液体の生成物(共重合体−8)を
得た。
Thereafter, the mixture was stirred under reflux for 3 hours, and the solvent was removed under reduced pressure to obtain a pale yellow liquid product (copolymer-8) with a molecular weight of about 2,000.

合成例9 2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−5−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール26.5g(0,1モル)、メ
タクリル酸ブチル14.2g(0,1モル)及びアゾビ
スイソブチロニトリル0.4 gをベンゼン40m1に
溶解し、窒素気流下、還流温度で12時間攪拌した。
Synthesis Example 9 2-(2-hydroxy-3-allyl-5-methylphenyl)benzotriazole 26.5 g (0.1 mol), butyl methacrylate 14.2 g (0.1 mol) and azobisisobutyronitrile 0.4 g was dissolved in 40 ml of benzene and stirred at reflux temperature for 12 hours under a nitrogen stream.

この溶液を多量のエタノール中に注ぎ、生成した沈澱を
濾別し、軟化点250℃以上1分子量約20000の白
色固体の生成物(共重合体−9)をj)た。
This solution was poured into a large amount of ethanol, and the formed precipitate was filtered to obtain a white solid product (copolymer-9) with a softening point of 250° C. or more and a molecular weight of about 20,000.

合成例10〜19 コポリマーの合成に用いるモノマーの種類及びモル比を
下表の如く代えた以外は合成例4又は合成例5と同様に
して、下表に示す分子量のコポリマー(共重合体−10
〜19)をそれぞれ製造した。
Synthesis Examples 10 to 19 Copolymers with the molecular weights shown in the table below (Copolymer-10
~19) were produced, respectively.

(前表の続き) 本発明は、前記一般式(I)で表される繰り返し単位及
び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する
コポリマーを高分子材料に添加してその安定性、特に光
安定性を改善するものであり、その添加量は、通常、高
分子材料100重量部に対し0.001〜5重量部、好
ましくは0.01〜3重量部である。
(Continuation of the previous table) The present invention improves the stability of a polymer material by adding a copolymer having a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the general formula (II) to a polymer material. In particular, it improves photostability, and the amount added is usually 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymeric material.

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−3−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニ
ル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三
元共重合体、m化とニル−スチレン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩化とニ
ル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化と
ニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等
の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリ
スチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリ
ロニトリル、スチレン又はα−メチルスチレンと他の単
量体(例えば無水マレイン酸、ブタジェン、アクリロニ
トリル等)との共重合体、アクリロニトリル−ブタジェ
ン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジェ
ン−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジ
ェン−スチレン共重合体、ポリメチルメタクリレート等
のメタクリレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンチレフクレート等の直鎖
ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、
ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレタン、繊
維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シ
リコーン樹脂等を挙げることができる。更に、イソプレ
ンゴム、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェ
ン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム等のゴ
ム類やこれらの樹脂のブレンド品であってもよい。また
、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋ポリ
エチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡させた
発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。
Examples of polymeric materials whose stability is to be improved in the present invention include α-olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene, and poly-3-methylbutene, ethylene-vinyl acetate copolymers, and ethylene-propylene copolymers. Polyolefins such as polymers and their copolymers, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinylidene fluoride, brominated polyethylene, chlorinated rubber, vinyl chloride vinyl acetate copolymer,
Vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-propylene copolymer, vinyl chloride-styrene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-styrene-trimaleic anhydride Original copolymer, m-conversion and nyl-styrene-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-butadiene copolymer, chloride and nyl-isoprene copolymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride- Vinyl acetate terpolymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, vinyl chloride-methacrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, internal plasticization Halogen-containing synthetic resins such as polyvinyl chloride, petroleum resins, coumaron resins, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resins, polyacrylonitrile, styrene or α-methylstyrene and other monomers (e.g. maleic anhydride, butadiene, acrylonitrile, etc.) ), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylic ester-butadiene-styrene copolymer, methacrylic ester-butadiene-styrene copolymer, methacrylate resin such as polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinyl Linear polyesters such as formal, polyvinyl butyral, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polyamide,
Examples include polycarbonate, polyacetal, polyurethane, cellulose resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. Furthermore, rubbers such as isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, and blends of these resins may also be used. Also included are crosslinked polymers such as crosslinked polyethylene crosslinked with peroxide or radiation, and foamed polymers such as expanded polystyrene foamed with a foaming agent.

本発明の組成物に更にフェノール系の抗酸化剤を添加す
ることによってその酸化安定性を一層改善することがで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては、例えば、2
.6−ジー第3ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフ
ェニル−4−オクトキシフェノール、ステアリル−(3
,5−ジ−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオグリ
コレート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジー第3ブチルフエニル)プロピオネート、ジステア
リル−3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、2,4.6−)すス(3’  、5”
−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシヘンシルチオ)l、
3.5.−トリアジン、ジステアリル(4−ヒドロキシ
−3−メチル−5−第3ブチル)ベンジルマロネート、
トリエチレングリコールビス(3−第3ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニルプロピオネート)、3゜
9−ビス〔1,1−ジメチル−2−(3−第3ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルフェニルプロピオニルオキ
シ)エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5〕ウンデカン、2゜2°−メチレンビス(4−
メチル−6−第37’チルフエノール)、ビス〔3,5
−ビス(4−ヒドロキシ−3−第3ブチルフエニル)ブ
チリンクアシドコグリコールエステル、4,4°−ブチ
リデンビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)、2゜
2°−エチリデンビス(4,6−ジー第3ブチルフエノ
ール)、2,2“−エチリデンビス(4−第2ブチル−
6−第3ブチルフエノール)、■。
By further adding a phenolic antioxidant to the composition of the present invention, its oxidative stability can be further improved. As this phenolic antioxidant, for example, 2
.. 6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,6-diphenyl-4-octoxyphenol, stearyl-(3
, 5-di-methyl-4-hydroxybenzyl)thioglycolate, stearyl-β-(4-hydroxy-3,5
-di-tert-butyl phenyl) propionate, distearyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphonate, 2,4.6-) soot (3', 5"
-tert-butyl-4-hydroxyhensylthio)l,
3.5. - triazine, distearyl (4-hydroxy-3-methyl-5-tert-butyl)benzylmalonate,
Triethylene glycol bis(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenylpropionate), 3゜9-bis[1,1-dimethyl-2-(3-tert-butyl-
4-Hydroxy-5-methylphenylpropionyloxy)ethyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecane, 2°2°-methylenebis(4-
methyl-6-37'thylphenol), bis[3,5
-bis(4-hydroxy-3-tert-butylphenyl)butyrin acid coglycol ester, 4,4°-butylidenebis(6-tert-butyl-m-cresol), 2°2°-ethylidenebis(4,6- (di-tert-butylphenol), 2,2"-ethylidene bis(4-tert-butyl-
6-tert-butylphenol), ■.

1.3−)リス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第
3ブチルフエニル)ブタン、ビス(2−i3ブチル−4
−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3 フチルー
5−メチルヘンシル)フェニル〕テレフタレート、1,
3.5−)リス(2゜6−シメチルー3−ヒドロキシ−
4−第3ブチル)ヘンシルイソシアヌレート、1.3.
5−トリス(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキン
ベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、テトラ
キス〔メチレン−3−(3,5−ジー第3〕゛チル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、1,
3.5−4リス(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)イソシアヌレート、1.3.5−トリス
((3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル
)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、2−
オクチルチオ−4,6−ジ(4−ヒドロキシ−3,5−
ジー第3ブチル)フェノキシ−1,3,5−トリアジン
、4.4’−チオビス(6−第3ブチル−m−クレゾー
ル)等が挙げられる。
1.3-) Lis(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane, bis(2-i3butyl-4
-Methyl-6-(2-hydroxy-3-tert-phthyl-5-methylhensyl)phenyl]terephthalate, 1,
3.5-) Lis(2゜6-dimethyl-3-hydroxy-
4-tert-butyl)hensyl isocyanurate, 1.3.
5-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroquinbenzyl)-2,4,6-trimethylbenzene, tetrakis[methylene-3-(3,5-di-tert.]ethyl-4
-Hydroxyphenyl)propionate comethane, 1,
3.5-4-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate, 1.3.5-tris((3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl) ] Isocyanurate, 2-
Octylthio-4,6-di(4-hydroxy-3,5-
Examples include di-tert-butyl)phenoxy-1,3,5-triazine, 4,4'-thiobis(6-tert-butyl-m-cresol), and the like.

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。
It is also possible to further add a sulfur-based antioxidant to the composition of the present invention to improve its oxidative stability.

この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−5ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価ア
ルコール(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレート)のエステル(例
えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロビオ
ネート)が挙げられる。
Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl,
Dialkyl thiodipropionates such as similystyl, distearyl, and butyl, octyl-5 lauryl
, alkylthiopropionic acid polyhydric alcohols such as stearyl (e.g. glycerin, trimethylolethane,
trimethylolpropane, pentaerythritol, trishydroxyethyl isocyanurate) (eg pentaerythritol tetralauryl thioprobionate).

本発明の組成物に更にホスファイト等の含リン化合物を
添加することによってその耐光性及び耐熱性を一層改善
することができる。この含リン化合物としては、例えば
、トリオクチルホスファイト、トリデシルホスファイト
、オクチル−ジフェニルホスファイト、トリス(2,4
−ジー第3ブチルフエニル)ホスファイト、トリフェニ
ルホスファイト、トリス(モノ・ジ混合ノニルフェニル
)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイ
ト、ジステアリンペンタエリスリトールジホスファイト
、ヘキサ(トリデシル)−1,1゜3−トリス(2−メ
チル−5〜第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ントリホスファイト、テトラ(C+ t〜1.混合アル
キル)−4,4″ −イソプロピリデンジフェニルジホ
スファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’  −ブ
チリデンビス(3−メチル−6−第3ブチルフエノール
)ジホスファイト、ビス(オクチルフェニル) ・ビス
〔4,4°−ブチリデンビス(3−メチル−6−第3ブ
チルフエノール)〕 ・1.6−ヘキサンジオールジホ
スファイト、フェニル・4,4゛−イソプロピリデンジ
フェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス(2,4−ジー第3ブチルフエニル)ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ビス(2,6−ジー第3ブチル
−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、4.4゛−イソプロピリデンビス(2−
第3ブチルフエノール)・ジ(ノニルフェニル)ホスフ
ァイト、9.10−ジーハイドロ−9−オキサ−1O−
フォスファフェナンスレンーIO−オキサイド、テトラ
キス(2,4−ジー第3ブチルフエニル)−4,4’−
ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられる。
By further adding a phosphorus-containing compound such as phosphite to the composition of the present invention, its light resistance and heat resistance can be further improved. Examples of the phosphorus-containing compound include trioctyl phosphite, tridecyl phosphite, octyl-diphenyl phosphite, tris(2,4
-di-tert-butylphenyl) phosphite, triphenyl phosphite, tris (mono-di mixed nonylphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, distearin pentaerythritol diphosphite, hexa(tridecyl)-1,1° 3-tris(2-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)butane triphosphite, tetra(C+ t~1. mixed alkyl)-4,4''-isopropylidene diphenyl diphosphite, tetra(tridecyl) -4,4'-Butylidenebis(3-methyl-6-tert-butylphenol) diphosphite, bis(octylphenyl) ・Bis[4,4°-butylidenebis(3-methyl-6-tert-butylphenol)] ・1 .6-hexanediol diphosphite, phenyl 4,4'-isopropylidene diphenol pentaerythritol diphosphite, bis(2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis(2,6- Di-tert-butyl-4-methylphenyl)pentaerythritol diphosphite, di(nonylphenyl)pentaerythritol diphosphite, 4.4゛-isopropylidene bis(2-
tert-butylphenol) di(nonylphenyl) phosphite, 9.10-dihydro-9-oxa-1O-
Phosphaphenanthrene-IO-oxide, tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)-4,4'-
Examples include biphenylene diphosphonite.

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができる。この光安定
剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベ
ンゾフェノン、2゜2゛−ジ−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2.4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン等のヒドロキシヘンシフエノン類、2−(2°−ヒド
ロキシ−3°−t−ブチル−5°−エチルフェニル)−
5−クロロヘンシトリアゾール、2−(2°−ヒドロキ
シ−3“ 、5°−ジ−t−ブチルフェニル)−5−ク
ロロヘンシトリアゾール、2−(2”−ヒドロキシ−5
°−メチルフェニル)ヘンシトリアゾール、2−(2’
−ヒドロキシ−3“ 5゛−ジ−t−アミルフェニル)
ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、フェニ
ルサリソレート、p −L −プチルフェニルサリル−
ト、2.4−ジーし一ブチルフェニルー3.5−ノーL
−ブチル−4−ヒドロキシヘンゾエート、ヘキサデシル
−3,5−ジーし一ブチルー4−ヒドロキシベンゾエー
ト等のヘンヅエー1−類、2゜2°−チオビス(4−L
−オクチルフェノール)N1塩、〔2,2°−チオビス
(4−t−オクチルフェノラート)〕−〕n−ブチルア
ミンNi、 (3゜5−ジーt−)゛チル−−4−ヒド
ロニトシヘンジル)ホスホン酸モノエチルエステルNi
塩等のニッケル化合物類、α−シアノ−β−メチル−β
−(p −メトキシフェニル)アクリル酸メチル等の置
換アクリロニトリル類、N−2−エチルフェニル−N”
−2−エトキシ−5−第3ブチルフエニルシユウ酸ジア
ミド、N−2−エチルフェニル−N′−2−エトキシフ
ェニルシュウ酸ジアミド等のシェラ酸ジアニリド類、及
び2,2,6.6−テトラメチル−4−ピペリジルベン
ゾエート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)セバケート、ビス(I,2,2,6,6−
ベンタメチルー4−ピペリジル)セバケート、ビス(I
,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)−
2−ブチル−2−(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)マロネート、テトラキス(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,
4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)・ジ(トリデシ
ル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート
、ビス(I,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペ
リジル)・ジ(トリデシル)−1,2゜3.4−ブタン
テトラカルボキシレート、N−ヒドロキシエチル−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン
/コハク酸ジメチル縮合物、2−第3オクチルアミノ−
4,6−ジクロロトリアジン/1,6−ビス(2,2,
6,6−テ1−ラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキ
サン縮合物、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/1゜2−ジブ
ロモエタン縮合物、2,2.4−.4−テトラメチル−
7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ(5,1,11
,2)ヘンエイコサン−21−オン、3.9−ビス〔1
,l−ジメチル−2−トリス(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジルオキシカルボニル)ブチルカル
ボニルオキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキ
サスピロ(5,5)ウンデカン、3.9−ビス〔1゜1
−ジメチル−2−トリス(I,2,2,6,6−バンク
メチル−4−ピペリジルオキシカルボニル)ブチルカル
ボニルオキシエチル)−2,4゜8.10−テトラオキ
サスピロ(5,53ウンデカン、1.3.8−トリアザ
−3−ドデシル−8−アセチル−7,7,9,9−テト
ラメチルスピロ(4,’5)デカン−2,4−ジオン、
1,5゜8.12−テトラキス〔4,6−ビス〔N−ブ
チル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)アミン)−1,3,5−)リアジン−2−イル
〕 ドデカン等のヒンダードアミン化合物が挙げられる
By adding other light stabilizers to the compositions of the invention, their lightfastness can be further improved. Examples of the light stabilizer include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2゜2゛-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone, and 2,4-dihydroxybenzophenone. Hydroxyhensiphenones such as 2-(2°-hydroxy-3°-t-butyl-5°-ethylphenyl)-
5-chlorohencytriazole, 2-(2°-hydroxy-3", 5°-di-t-butylphenyl)-5-chlorohencytriazole, 2-(2"-hydroxy-5
°-Methylphenyl)hencytriazole, 2-(2'
-Hydroxy-3"5"-di-t-amylphenyl)
Benzotriazoles such as benzotriazole, phenyl salisolate, p-L-butylphenyl salyl-
t, 2.4-di-1-butyl phenyl-3.5-no L
-butyl-4-hydroxybenzoate, hexadecyl-3,5-di-butyl-4-hydroxybenzoate, etc., 2゜2゜-thiobis(4-L
-octylphenol) N1 salt, [2,2°-thiobis(4-t-octylphenolate)]-]n-butylamine Ni, (3°5-di-t-)゛thyl-4-hydronitoshenzyl) Phosphonic acid monoethyl ester Ni
Nickel compounds such as salts, α-cyano-β-methyl-β
Substituted acrylonitriles such as -(p-methoxyphenyl)methyl acrylate, N-2-ethylphenyl-N"
-2-ethoxy-5-tert-butylphenyl oxalic acid diamide, N-2-ethylphenyl-N'-2-ethoxyphenyl oxalic acid diamide, etc., and 2,2,6,6-tetra Methyl-4-piperidylbenzoate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-
piperidyl) sebacate, bis(I,2,2,6,6-
Bentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(I
,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl)-
2-Butyl-2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonate, tetrakis(2,2,6
,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,2,3,
4-Butanetetracarboxylate, bis(2,2,6
, 6-tetramethyl-4-piperidyl) di(tridecyl)-1,2,3,4-butanetetracarboxylate, bis(I,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl) di(tridecyl) )-1,2゜3.4-butanetetracarboxylate, N-hydroxyethyl-2,
2,6,6-tetramethyl-4-hydroxypiperidine/dimethyl succinate condensate, 2-tertiary octylamino-
4,6-dichlorotriazine/1,6-bis(2,2,
6,6-tetramethyl-4-piperidylamino)hexane condensate, 1,6-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylamino)hexane/1°2-dibromoethane condensate , 2, 2.4-. 4-tetramethyl-
7-Oxa-3,20-diazadispiro(5,1,11
,2) Heneicosan-21-one, 3.9-bis[1
, l-dimethyl-2-tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxycarbonyl)butylcarbonyloxyethyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro(5,5)undecane, 3.9-Bis [1゜1
-dimethyl-2-tris(I,2,2,6,6-bankmethyl-4-piperidyloxycarbonyl)butylcarbonyloxyethyl)-2,4°8.10-tetraoxaspiro(5,53 undecane, 1 .3.8-triaza-3-dodecyl-8-acetyl-7,7,9,9-tetramethylspiro(4,'5)decane-2,4-dione,
1,5゜8.12-Tetrakis[4,6-bis[N-butyl-N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)amine)-1,3,5-)riazine- 2-yl] Hindered amine compounds such as dodecane are mentioned.

その他必要に応じて、本発明の組成物には重合属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有m錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
In addition, as necessary, the composition of the present invention may include a polymerization group deactivator, a nucleating agent, a metal soap, a tin compound, a plasticizer, an epoxy compound, a pigment, a filler, a blowing agent, an antistatic agent, Flame retardants, lubricants, processing aids, etc. can be included.

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種
成型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤
、接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用い
ることができる。
The polymeric materials stabilized according to the invention can be used in a wide variety of forms, for example as films, fibers, tapes, sheets, various molded articles, and also as binders for paints, lacquers, adhesives, putties and photographic materials. It can also be used as a base material.

C実施例〕 次に本発明を実施例によって具体的に説明する。C Example] Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。
However, the present invention is not limited to these examples.

実施例1 く配 合〉 ポリプロピレン     100  重量部ステアリン
酸カルシウム   0.2 安定剤(下記表−1参照)0.2 上記配合にて厚さ0.31のプレスシートを作成し、こ
のンー1−について高圧水銀ランプを用いての耐光性試
験を行った。また、80℃の熱水に48時間浸清後のシ
ートについても耐光性試験を行った。その結果を下記表
−1に示す。
Example 1 Blend> Polypropylene 100 Parts by weight Calcium stearate 0.2 Stabilizer (see Table 1 below) 0.2 A press sheet with a thickness of 0.31 mm was prepared using the above blend, and this sheet was subjected to high pressure. A light resistance test was conducted using a mercury lamp. In addition, a light resistance test was also conducted on the sheet after being soaked in hot water at 80° C. for 48 hours. The results are shown in Table 1 below.

表−1 実施例2 本発明の組成物に更にヒンダードアミン系の光安定剤を
併用した時の効果をみるために、次の配合により、実施
例1と同様にしてシートを作成した。
Table 1 Example 2 In order to examine the effect of using a hindered amine light stabilizer in combination with the composition of the present invention, a sheet was prepared in the same manner as in Example 1 using the following formulation.

このシートを用いて、高圧水銀ランプによる耐光性試験
を行った。その結果を下記表−2に示す。
Using this sheet, a light resistance test using a high-pressure mercury lamp was conducted. The results are shown in Table 2 below.

く配 合〉 ポリプロピレン     100  重量部ステアリン
酸カルシウム   0.2 共重合体−30,1 表−2 (表−2の続き) 実施例3 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。
Blend> Polypropylene 100 parts by weight Calcium stearate 0.2 Copolymer-30,1 Table 2 (continued from Table 2) Example 3 Ordinary stabilizers evaporate and decompose during high-temperature processing of resin, resulting in their effects being reduced. is known to be significantly lost.

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。
In this example, the influence of high temperature processing was confirmed by repeatedly performing extrusion processing.

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで5分間部合し
た後、押し出し機でコンバンドを作成したくシリンダ一
温度230’C1240’c、ヘッドダイス温度250
t、回転数20rpm)。押し出しを5回繰り返し行っ
た後このコンバンドを用いて試験片を射出成形機で作成
した(シリンダ一温度240℃、ノズル温度250℃、
射出圧475Kg/ci)。
After combining the resin and additives in a mixer for 5 minutes using the following formulation, I would like to create a combination using an extruder.Cylinder temperature 230'C1240'C, head die temperature 250
t, rotation speed 20 rpm). After extrusion was repeated 5 times, a test piece was made using this combination using an injection molding machine (cylinder temperature 240°C, nozzle temperature 250°C,
Injection pressure 475Kg/ci).

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し1回のものについても同様に試
験した。その結果を下記表−3に示す。
A light resistance test was conducted using the obtained test piece using a high-pressure mercury lamp. In addition, the same test was conducted for a sample that had been extruded once. The results are shown in Table 3 below.

〈配 合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂100 重量部ステア
リン酸カルシウム      0.2ジラウリルチオジ
プロピオネート0.2安定剤(下記表−3参照)0.2 表−3 実施例4 〈配 合〉 ポリエチレン        10Q  重量部ステア
リン酸カルシウム     1.0ジステアリルチオジ
プロピオネート0.3安定剤(下記表−4参照)o、2 上記配合物を混練後プレスして厚さく1.5m+eのシ
ートを作成した。このシートを用いてウェザオフ−ター
中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。
<Blend> Ethylene-propylene copolymer resin 100 parts by weight Calcium stearate 0.2 Dilauryl thiodipropionate 0.2 Stabilizer (see Table 3 below) 0.2 Table 3 Example 4 <Blend> Polyethylene 10Q Parts by weight Calcium stearate 1.0 Distearyl thiodipropionate 0.3 Stabilizer (see Table 4 below) o, 2 The above blend was kneaded and pressed to form a sheet with a thickness of 1.5 m+e. Using this sheet, the light resistance was measured in a weather oven, and the time until it became brittle was measured.

その結果を下記表−4に示す。The results are shown in Table 4 below.

表−4 実施例5 く配 合〉            重量部ポリ塩化ビ
ニル(ビニ力37H)    100ジー2−エチルへ
キシルフタレート  45ステアリン酸バリウム   
     O13バリウムノニルフェネート0.3 ステアリン酸亜鉛          0.6オクチル
ジフエニルホスフアイト   0,5ソルビタンモノパ
ルミテート     2.0メチレンビスステアリルア
ミド    0.3安定剤(下記表−5参照)0.1 上記配合により、混練ロールで厚さ0.11I+mのフ
ィルムを作成した。このフィルムを用いてウエザオフ−
ター中での耐候性試験を行った。その結果を下記表−5
に示す。
Table 4 Example 5 Blend> Part by weight Polyvinyl chloride (Vinyl chloride 37H) 100 Di-2-ethylhexyl phthalate 45 Barium stearate
O13 Barium nonylphenate 0.3 Zinc stearate 0.6 Octyl diphenyl phosphite 0.5 Sorbitan monopalmitate 2.0 Methylene bisstearylamide 0.3 Stabilizer (see Table 5 below) 0.1 Above combination A film having a thickness of 0.11 I+m was prepared using a kneading roll. Weather off using this film
A weather resistance test was conducted in a turret. The results are shown in Table 5 below.
Shown below.

表−5 実施例6 〈配 合〉 ABS樹脂          100  重量部安定
剤(下記表−6参照)       0.25上記配合
物をロール練り後プレスして厚さ3ffl111のシー
トを作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中
で800時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果
を下記表−6に示す。
Table 5 Example 6 <Blend> ABS resin 100 Parts by weight Stabilizer (see Table 6 below) 0.25 The above blend was kneaded with rolls and then pressed to create a sheet with a thickness of 3ffl111. Using this sheet, the residual tensile strength was measured after 800 hours of irradiation in a weather heater. The results are shown in Table 6 below.

表−6 実施例7 く配 合〉 ステアリン酸バリウム       0.7ステアリン
酸亜鉛         0,32.6−ジー第3ブチ
ル−p−クレゾール 0.1安定剤(下記表−7参照)
0.5 上記配合物を70°Cで5分間ロール上で混練し、12
0℃で5分間プレスして厚さ0.5 mmのシートを作
成した。このシートを用いてフェードメーターにて50
時間照射後の伸び残率を測定した。その結果を下記表−
7に示す。
Table 6 Example 7 Mixture> Barium stearate 0.7 Zinc stearate 0,32.6-di-tert-butyl-p-cresol 0.1 Stabilizer (see Table 7 below)
0.5 The above formulation was kneaded on a roll for 5 minutes at 70°C,
A sheet with a thickness of 0.5 mm was prepared by pressing at 0° C. for 5 minutes. 50 on a fade meter using this sheet
The residual elongation rate after time irradiation was measured. The results are shown in the table below.
7.

表−7 実施例8 本発明の安定剤成分(コポリマー)は塗料用の光安定剤
としても有用である0本実施例においては金B顔料を含
有するベースコート及び透明なトップコートからなる二
層金属光沢塗料についてその効果をみた。
Table 7 Example 8 The stabilizer component (copolymer) of the present invention is also useful as a light stabilizer for paints. In this example, a two-layer metal coating consisting of a base coat containing a gold B pigment and a transparent top coat was used. We looked at the effect of glossy paint.

a)ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100g、アクリル酸n−ブチル6
6g、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル30g1メ
タクリル酸4g1キシレン80g及びn−ブタノール2
0gをとり、110℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソ
ブチロニトリル2g、ドデシルメルカプタン0.5g、
キシレン80g及びn−ブタノール20 gからなる溶
液を3時間で滴下した。その後同温度で2時間撹拌し、
樹脂固形分50%のアクリル樹脂溶液を調製した。
a) Base coat paint methyl methacrylate 100g, n-butyl acrylate 6
6g, 2-hydroxyethyl methacrylate 30g1 methacrylic acid 4g1 xylene 80g and n-butanol 2
0g, heated to 110°C while stirring, added 2g of azobisisobutyronitrile, 0.5g of dodecylmercaptan,
A solution consisting of 80 g of xylene and 20 g of n-butanol was added dropwise over 3 hours. After that, stir at the same temperature for 2 hours,
An acrylic resin solution having a resin solid content of 50% was prepared.

上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン(三井東圧社製;ニーパン203E60;樹
脂固形分60%)2.5重量部、セルロースアセテ−I
・ブチレート樹脂(20%酢酸ブチル溶液)50重置部
、アルミニウム顔料(東洋アルミニウム社製;アルペー
スト1123N)5.5爪面部、キシレン10重量部、
酢酸ブチル20重星部及び銅フクロソアニンブルー〇、
2重量部をとりベースコート塗料とした。
12 parts by weight of the above acrylic resin solution, 2.5 parts by weight of butoxylated methylolmelamine (manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.; Kneepan 203E60; resin solid content 60%), cellulose acetate-I
・50 parts of butyrate resin (20% butyl acetate solution), 5.5 parts of aluminum pigment (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd.; Alpaste 1123N), 10 parts by weight of xylene,
Butyl acetate 20 double star parts and copper fucrosoanine blue〇,
2 parts by weight was taken and used as a base coat paint.

b))ツブコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキソ化メチロー
ルメラミン10重世部、キシレン10重量部、ブチルグ
リコールアセテ−1・4重量部及び安定剤(下記表−8
参照)0.15重量部(固形分に対し0.5%)をとり
、トップコート塗料とした。
b)) Tubucoat paint 48 parts by weight of the above acrylic resin solution, 10 parts by weight of butoxated methylolmelamine, 10 parts by weight of xylene, 1.4 parts by weight of butyl glycol acetate, and stabilizer (Table 8 below)
Reference) 0.15 parts by weight (0.5% based on solid content) was taken and used as a top coat paint.

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が20μになるようにスプレーし、IO分間放置後トッ
プコート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプレー
した。15分間放直後140°Cで30分間焼付し試片
とした。
A base coat paint was sprayed onto the primed steel plate so that the dry film thickness was 20 μm, and after being left for 10 minutes, a top coat paint was sprayed so that the dry film thickness was 30 μm. Immediately after leaving it for 15 minutes, it was baked at 140°C for 30 minutes to obtain a test piece.

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を下記表−8に示す
The above sample was placed in a weatherometer and the time until cracking of the coating film appeared was measured. The results are shown in Table 8 below.

表−8 手続補正書 1、事件の表示 特願昭61−22620号 2、発明の名称 光安定性の改良された高分子材料組成物3、補正をする
者 事件との関係  特許出願人 アデカ・アーガス化学株式会社 4、代理人 東京都港区赤坂九丁目6番29号 バシフィノク乃木坂601号 自発補正(出願日から1年3月以内の補正)6、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
Table 8 Procedural amendment 1, indication of the case Japanese Patent Application No. 1983-22620 2, name of the invention Polymer material composition with improved photostability 3, person making the amendment Relationship with the case Patent applicant Adeka. Argus Chemical Co., Ltd. 4, Agent No. 601 Nogizaka, 9-6-29 Akasaka, Minato-ku, Tokyo Voluntary amendment (amendment within 1 year and 3 months from the filing date) 6. Detailed description of the invention in the specification to be amended column.

7、補正の内容7. Contents of correction

Claims (1)

【特許請求の範囲】 高分子材料100重量部に、下記一般式( I )で表さ
れる繰り返し単位及び下記一般式(II)で表される繰り
返し単位を有する分子量500〜50,000のコポリ
マー0.001〜5重量部を配合してなる、光安定性の
改良された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル
基を示し、R_2はアルキル基又はアラルキル基を示し
、R_3及びR_4は各々水素原子又はアルキル基を示
す。) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_5は水素原子、アルキル基又は−CO−X
_1−R_8を示し、 R_6は−CO−X_1−R_6又は ▲数式、化学式、表等があります▼を示し、 R_7は水素原子、アルキル基、−CO−X_1−R_
8又は−CH_2−CO−X_1−R_8を示し、また
、R_5とR_6は共同して▲数式、化学式、表等があ
ります▼を示しても良い。 X_1及びX_2は各々−O−又は−N(R_9)−を
示し、R_8及びR_9は各々水素原子、アルキル基又
は▲数式、化学式、表等があります▼を示し、Zは▲数
式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼を示し、R_1_0
は水素原子、オキシル、アルキル基又はアシル基を示し
、R_1_1はアルキル基を示す。)
Scope of Claims: A copolymer having a molecular weight of 500 to 50,000 and having a repeating unit represented by the following general formula (I) and a repeating unit represented by the following general formula (II) in 100 parts by weight of a polymeric material. A polymeric material composition with improved photostability, which contains .001 to 5 parts by weight. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (I) (In the formula, R_1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, R_2 represents an alkyl group or an aralkyl group, and R_3 and R_4 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. ) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the formula, R_5 is a hydrogen atom, an alkyl group, or -CO-X
_1-R_8, R_6 is -CO-X_1-R_6 or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, R_7 is a hydrogen atom, an alkyl group, -CO-X_1-R_
8 or -CH_2-CO-X_1-R_8, and R_5 and R_6 may also jointly represent ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼. X_1 and X_2 each represent -O- or -N(R_9)-, R_8 and R_9 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, or ▲a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc., and Z represents a ▲a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc. etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Indicates R_1_0
represents a hydrogen atom, oxyl, an alkyl group, or an acyl group, and R_1_1 represents an alkyl group. )
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