JPS62145031A - 接触アルキレ−シヨン法およびその装置 - Google Patents
接触アルキレ−シヨン法およびその装置Info
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- JPS62145031A JPS62145031A JP61284105A JP28410586A JPS62145031A JP S62145031 A JPS62145031 A JP S62145031A JP 61284105 A JP61284105 A JP 61284105A JP 28410586 A JP28410586 A JP 28410586A JP S62145031 A JPS62145031 A JP S62145031A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は接触アルキレーション法およびその装置に関す
る。ある一つの態様においては、本発明は接触アルキレ
ーション法およびその装置における酸静置槽の炭化水素
相の温度制御に関するものである。 イソパラフィンのようなアルキル化可能の炭化水素をオ
レフィンのようなアルキル化剤によって触媒の存在下に
アルキル化する従来法においては、数多くのプロセスが
知られている。成功をおさめている商業的システムの中
では、弗酸や硫酸のような酸型触媒を反応ゾーン、分離
ゾーン、冷却ゾーンへと通しざらに反応ゾーンへ戻す循
環を行うものがある。 炭化水素のアルキル化を行うそのようなプロセスの一つ
に６いては、好適なアルキル化反応条件に維持されてい
るアルキル反応ゾーンの下部にある酸触媒の中へ、炭化
水素が導入される。触媒、アルキル生成物および未反応
物より成る流れが反応ゾーンを上昇し、反応ゾーンの上
部から触媒沈降分離槽へと流入する。この分離槽では炭
化水素相と触媒相とが分離する。沈降ゾーンの触媒相か
ら抜出された触媒は冷却され、反応ゾーンへ戻される。 このようなプロセスは系内で触媒を繰返して使うもので
ある。炭化水素の流れは炭化水素相から抜出され、次い
でアルキル生成物から未反応のイソパラフィンを分離精
留することを含む次段の処理が行われる。 よく知られていることだが、酸触媒中に多量の水が存在
すると、アルキル化および触媒系に対して極めて腐食性
となる。酸触媒は実質的に無水の状態で用いられるのが
一般的ではあるが、酸触媒が系内で繰返して使用される
とアルキル化系に水が蓄積される傾向がある。また、酸
溶性油として知られる物質がアルキル反応において生成
すること、およびこの物質が触媒相の希釈剤として動く
ことが知られている。一般には、この酸溶性油は、触媒
の希釈に必要または望ましい以上に可成り過剰に生成さ
れる。 従って、酸型触媒を採用するアルキレーション系に、少
なくとも触媒の一部を通して水および酸溶性油を除去す
るいわゆる触媒［リラン（ｒｅｒｕｎ） Ｊ工程を設け
ることが一般的である。このリラン工程とは触媒相が酸
沈時分１１１１ｔ！ｌから反応器へ戻る間にその一部を
汲出するようにしたものである。この後出された触媒相
は、主に水および少しの酸溶性油より成る液相および主
に触媒、未反応原料、それに少量のアルキレートより成
る蒸気相へと相分離させるに十分な温度にまで加熱され
る。この加熱された触媒相は次いで触媒リラン分離塔へ
送られる。水Ｊ３よび酸溶性油は、このリラン分離塔塔
底から汲出され、一方気相のほうは酸沈時分離槽へと循
環される。 原Ｙ３＋中にブタジェンまたは他の不純物が存在してい
ると、アルキル化反応での酸溶性油の生成がより多くな
る。アルキレーション反応流出物における酸溶性油の濃
度が高くなると、リラン塔により多くの伍を流す必要が
生じ、逆に酸沈時分離により多くの新しい触媒相を戻す
必要が生じてくる。 （圧力を維持するために）新しい高温の触媒相からの熱
を回収するためには、酸沈時分離槽の炭化水素相へ高温
触媒相の少なくとも一部を通すことが望ましい。しかし
、炭化水素相における高温触媒相の凝縮熱のため、炭化
水素相が温度、圧力とも異常に上昇することがあり得る
。アルキレーション反応器は、触媒の流れに関しては連
続のループになっているので、反応器へ高圧の酸を導入
すると、循環イソブタンを反応器へ流すに足るだけの高
圧でアルキレート／イソブタン分留塔を運転する必要が
生じる。これは、高圧機器が必要になり、リボイラーに
高圧スチームが必要になるのでコストが高くなる。外部
冷却器を用いて触媒相のの温度を制御することは可能で
はあるが、高温の酸を冷却するように設計された冷却器
は購入、維持するのに高価である。 従って、高温のリラン触媒のための高価な冷却器を用い
ることなしに、酸沈時分離槽中の炭化水素相の温度を制
御する手段を提供することは極めて望ましいことである
。また、アルキレート／イソブタン分留塔へ入る炭化水
素の流れの圧力を制御することも望ましい。 本発明の方法によれば、酸沈時分離槽中の炭化水素液相
の温度（従ってそれに対応する圧力）が、酸沈時分離槽
中の炭化水素相へ入る触媒リラン塔からの酸蒸気の聞に
よって調節されることを特徴とする、アルキレーション
法が提供される。設定点以上の、炭化水素相の検出温度
（またはこれに対応する圧力）に応じて、酸セトラー槽
の炭化水素相へ流れるリラン触媒蒸気の流れが減少され
る。 炭化水素相への流れをこのように減少すると、同時に、
酸沈時分離槽の触媒相へのリラン触媒蒸気の流れが増加
するようになる。 ある特定の態様においては、生成アルキレート、未反応
原料炭化水素および酸型触媒より成る接触アルキル化反
応流出物が第１反応ゾーンへ送られ、ここでは反応流出
物は、第１分離ゾーンの上部の炭化水素相と下部の触媒
相とに分離され得るに好適な条件に維持される。なお、
触媒相は酸型触媒と酸溶性油とを含有している。 炭化水素流がこの炭化水素流から法用され、一方触媒相
は分離されて酸型触媒を主として含むリラン触媒流とア
ルキル化剤とを得る。リラン触媒流の第一部分は第１分
離ゾーンの上部の炭化水素相へ送られ、リラン触媒流の
第２部分は第１分離ゾーンの下部の触媒ゾーンへ送られ
る。リラン触媒流の第１部分の流量は、第１分離ゾーン
の炭化水素相の検出温度または圧力に対応して変える。 リラン触媒流の第２部分の８！量は、高温または高圧が
検出されている間は、過剰なリラン触媒を受入れてこれ
が炭化水素相へ流れこまないように、変えることができ
る。 上記の方法を実施する装置も本発明によって提供される
。
る。ある一つの態様においては、本発明は接触アルキレ
ーション法およびその装置における酸静置槽の炭化水素
相の温度制御に関するものである。 イソパラフィンのようなアルキル化可能の炭化水素をオ
レフィンのようなアルキル化剤によって触媒の存在下に
アルキル化する従来法においては、数多くのプロセスが
知られている。成功をおさめている商業的システムの中
では、弗酸や硫酸のような酸型触媒を反応ゾーン、分離
ゾーン、冷却ゾーンへと通しざらに反応ゾーンへ戻す循
環を行うものがある。 炭化水素のアルキル化を行うそのようなプロセスの一つ
に６いては、好適なアルキル化反応条件に維持されてい
るアルキル反応ゾーンの下部にある酸触媒の中へ、炭化
水素が導入される。触媒、アルキル生成物および未反応
物より成る流れが反応ゾーンを上昇し、反応ゾーンの上
部から触媒沈降分離槽へと流入する。この分離槽では炭
化水素相と触媒相とが分離する。沈降ゾーンの触媒相か
ら抜出された触媒は冷却され、反応ゾーンへ戻される。 このようなプロセスは系内で触媒を繰返して使うもので
ある。炭化水素の流れは炭化水素相から抜出され、次い
でアルキル生成物から未反応のイソパラフィンを分離精
留することを含む次段の処理が行われる。 よく知られていることだが、酸触媒中に多量の水が存在
すると、アルキル化および触媒系に対して極めて腐食性
となる。酸触媒は実質的に無水の状態で用いられるのが
一般的ではあるが、酸触媒が系内で繰返して使用される
とアルキル化系に水が蓄積される傾向がある。また、酸
溶性油として知られる物質がアルキル反応において生成
すること、およびこの物質が触媒相の希釈剤として動く
ことが知られている。一般には、この酸溶性油は、触媒
の希釈に必要または望ましい以上に可成り過剰に生成さ
れる。 従って、酸型触媒を採用するアルキレーション系に、少
なくとも触媒の一部を通して水および酸溶性油を除去す
るいわゆる触媒［リラン（ｒｅｒｕｎ） Ｊ工程を設け
ることが一般的である。このリラン工程とは触媒相が酸
沈時分１１１１ｔ！ｌから反応器へ戻る間にその一部を
汲出するようにしたものである。この後出された触媒相
は、主に水および少しの酸溶性油より成る液相および主
に触媒、未反応原料、それに少量のアルキレートより成
る蒸気相へと相分離させるに十分な温度にまで加熱され
る。この加熱された触媒相は次いで触媒リラン分離塔へ
送られる。水Ｊ３よび酸溶性油は、このリラン分離塔塔
底から汲出され、一方気相のほうは酸沈時分離槽へと循
環される。 原Ｙ３＋中にブタジェンまたは他の不純物が存在してい
ると、アルキル化反応での酸溶性油の生成がより多くな
る。アルキレーション反応流出物における酸溶性油の濃
度が高くなると、リラン塔により多くの伍を流す必要が
生じ、逆に酸沈時分離により多くの新しい触媒相を戻す
必要が生じてくる。 （圧力を維持するために）新しい高温の触媒相からの熱
を回収するためには、酸沈時分離槽の炭化水素相へ高温
触媒相の少なくとも一部を通すことが望ましい。しかし
、炭化水素相における高温触媒相の凝縮熱のため、炭化
水素相が温度、圧力とも異常に上昇することがあり得る
。アルキレーション反応器は、触媒の流れに関しては連
続のループになっているので、反応器へ高圧の酸を導入
すると、循環イソブタンを反応器へ流すに足るだけの高
圧でアルキレート／イソブタン分留塔を運転する必要が
生じる。これは、高圧機器が必要になり、リボイラーに
高圧スチームが必要になるのでコストが高くなる。外部
冷却器を用いて触媒相のの温度を制御することは可能で
はあるが、高温の酸を冷却するように設計された冷却器
は購入、維持するのに高価である。 従って、高温のリラン触媒のための高価な冷却器を用い
ることなしに、酸沈時分離槽中の炭化水素相の温度を制
御する手段を提供することは極めて望ましいことである
。また、アルキレート／イソブタン分留塔へ入る炭化水
素の流れの圧力を制御することも望ましい。 本発明の方法によれば、酸沈時分離槽中の炭化水素液相
の温度（従ってそれに対応する圧力）が、酸沈時分離槽
中の炭化水素相へ入る触媒リラン塔からの酸蒸気の聞に
よって調節されることを特徴とする、アルキレーション
法が提供される。設定点以上の、炭化水素相の検出温度
（またはこれに対応する圧力）に応じて、酸セトラー槽
の炭化水素相へ流れるリラン触媒蒸気の流れが減少され
る。 炭化水素相への流れをこのように減少すると、同時に、
酸沈時分離槽の触媒相へのリラン触媒蒸気の流れが増加
するようになる。 ある特定の態様においては、生成アルキレート、未反応
原料炭化水素および酸型触媒より成る接触アルキル化反
応流出物が第１反応ゾーンへ送られ、ここでは反応流出
物は、第１分離ゾーンの上部の炭化水素相と下部の触媒
相とに分離され得るに好適な条件に維持される。なお、
触媒相は酸型触媒と酸溶性油とを含有している。 炭化水素流がこの炭化水素流から法用され、一方触媒相
は分離されて酸型触媒を主として含むリラン触媒流とア
ルキル化剤とを得る。リラン触媒流の第一部分は第１分
離ゾーンの上部の炭化水素相へ送られ、リラン触媒流の
第２部分は第１分離ゾーンの下部の触媒ゾーンへ送られ
る。リラン触媒流の第１部分の流量は、第１分離ゾーン
の炭化水素相の検出温度または圧力に対応して変える。 リラン触媒流の第２部分の８！量は、高温または高圧が
検出されている間は、過剰なリラン触媒を受入れてこれ
が炭化水素相へ流れこまないように、変えることができ
る。 上記の方法を実施する装置も本発明によって提供される
。
図面は、本発明の態様の一つであるアルキレーション工
程の概略系統図である。 発明の詳細な説明 本発明は、循環使用される酸型触媒を用いる反応器で実
施することができる。本発明の望ましい系は、炭化水素
供給混合物が液状に保たれる循環触媒系である。弗化水
素１−Ｉ Ｆ触媒を用いる系は米国特許第第３．２）３
．１５７号に詳細に記述されている。 °酸沈時分離槽は、上層部、中間層部および下層部より
成っており、アルキル化反応ゾーンからの反応流出物を
上部の炭化水素相と下部の触媒相とに分離できるような
設計になっている。ちなみに、下部触媒相は酸型触媒と
酸溶性油を含んでいる。 酸沈時分離槽は一般に反応ゾーン流出物およびリラン触
媒をその中で炭化水素相と触媒相とに分離する手段を含
有する。これらの手段とは、酸セトラー槽へ反応ゾーン
流出物を導入する位置におかれた垂直じゃま板Ｊ３よび
下降管、接触Ｎ、および分離棚板なとである。 酸沈時分園槽は、反応流出物の導入口の近くで槽内の下
方に伸びる内部垂直邪魔板を有している。 酸沈時分！ＩＩ槽はまた内部の異った高さのところに接
触域を右しており、また同時に複数の下降管を有してい
る。さらに、一番下の下降管は邪魔板から一番はなれて
ついており一番下の下降管の出口は邪魔板の下端より下
にある。 リラン触媒流の第１部分は、酸沈時分離槽上部へ導入さ
れるが、その位置は複数の接触点の一番上のところのす
ぐ下のところである。リラン触媒流の第２部分は、リラ
ン触媒流の下部へ導入されるが、その位置は複数の接触
点の一番下のところのすぐ下のところである。これら複
数の接触域は３個以上の液−液接触棚板を有しており、
それぞれ上部、中間部、下部棚板ということになる。リ
ラン触媒流の第１部分は、酸沈時分離槽へ導入されるが
、その位置は液−液接触棚板の間である。 リラン触媒流の第２部分は、酸沈時分離槽の液−液接触
棚板の下へ導入される。 リラン触媒流の第１および第２部分の流量は、それぞれ
他の流量に応じて変えることができるし、酸沈時分１ｕ
ｌｌ槽°の炭化水素相に関連したプロセス変数（温度ま
たは圧力）の測定値に対応する。本発明は、以下温度測
定値に関して記述するものとするが、所望ならば圧力測
定値を用いることができる。 従来的には、ＨＦ触媒リすン塔からの高温リラン触媒蒸
気は酸沈時分離槽の液状炭化水素相へ供給される。する
と、この蒸気流は炭化水素液中で凝縮し、凝縮熱を発生
し、炭化水素液を加熱する。 本発明によれば、高温リラン触媒用の高価な冷却ｉ器を
用いずして、設定最高温度以下に、炭化水素液の温度を
維持することができる。このことは、Ｗａ沈降分離槽の
温度が高くなると槽が高圧になり生産能力（すなわちオ
レフィンの什込旦）が制限されることになるので、また
、この時はアルキレーション反応器へ送りこまれる循環
ＨＦ触媒液側の圧力も上げることにもなるので、望まし
いことである。 酸セトラー槽の炭化水素相の温度が設定点以上に増大し
たことが検出されると、リラン触媒蒸気の炭化水素相へ
の流量が減少される。触媒蒸気の酸セトラー相への流量
が総括的には一定の流量としたい時には、触媒蒸気を触
媒相へ流す手段を設けることができ、この時には炭化水
素相への流量の減少に応じて触媒相への流量を増大させ
る。酸セトラー槽の触媒相へ入る高温リラン触媒蒸気の
ために増大する熱は、相の底部から除去される。 本発明の方法および装置の態様の一つが図面に示されて
いる。１１Ｆ触媒によるオレフィンによるイソパラフィ
ンのアルキレーションを例としてこの態様を以下に説明
する。 図面について説明すると、原料イソパラフィンは、線１
から、オレフィン原料は線２から）−ＩＦＦ触媒線３か
ら導入される。通常運転時には、イソパラフィン、オレ
フィンおよび触媒は反応槽４の下部に混合物としてまた
は個別に導入される。この系の反応器、冷却器、および
他の機器には触媒が満杯になっており、反応ゾーンの触
媒は酸セトラー槽５の入口まで一杯になっている。従っ
てアルキレーション系に存在する触媒の場は原料炭化水
素の吊より多く、系内では触媒の連続相となっている。 反応槽４からの流出物は線６を経て酸セ・トラ一槽５へ
排出される。酸セトラー槽５では、上層の炭化水素相と
下層の触媒相とに流出物が分離される。炭化水素相は線
７を経て分留塔８へ抜出され、ここでイソパラフィンは
反応混合物から分離され、系へ線１０を経て循環される
。循環触媒は、放散塔９で反応混合物から分離され、線
１１を経て系内へ循環される。残りの炭化水素生成物は
、次いで常法により処理される。触媒相は酸セトラー槽
５の下部から抜出される。触媒相の第１部分は線１２を
経て冷ＩＡ器１３へ流れ、線３を経て反応槽４へＩＩ！
ｌ環する。触媒相の第２部分は線１２を経て加熱器１４
へ流れる。加熱された触媒相は次いで線１５を経てリラ
ン分離塔１６へ流れる。リラン分離塔１６では、主に水
および少量の酸溶性油より成る塔底物が分離され５１１
７によって排出される。このリラン分雛塔の塔頂物は、
高温リラン触媒蒸気と触媒相中に存在するイソパラフィ
ンとより成るものであるが、線１８を経て排出される。 本発明の目的は、酸セトラー槽５から分留塔８へ流れる
炭化水素液の温度をあらかじめ設定された値より下に維
持することである。熱雷対のような温度検出器と一緒に
用いる温度変換器３１が管７に付設されており、管７を
流れる炭化水素相の実際温度、つまり酸セトラー槽５上
部の炭化水素相温度を代表する信号３２を出力する。信
号３２は温度調節器３４へのプロセス変化入力として伝
えられる。また、この温度調節器３４には、酸セトラー
槽５の上部にある炭化水素相に対する最高許容温度を示
す設定点信号３５が入力される。 温度調ＷＪ器３４には、比例、比例−積分、比例−微分
、または比例−積分一徹分制御のようないろいろな制御
モードを用いることができる。望ましい態様では、温度
調節器３４は、比例−積分一徹分制御器であるが、二つ
の入力信号を受け、この二つの入力信号の差を示すスケ
ール化信号を出力できる制御器ならどんなものでもよい
。 調節器による出力信号のスケール化は制御系技術におい
て周知である。制御器の出力は本質的にはどんな所望の
因子または変数を示すようにスケール化することができ
る。この場合、以下に詳細に述べるように、温度調節器
３４の出力を所望の弁開度位置を示すようにスケール化
することである。 信号３２および３５を受けて、温度制御器３４は、信号
３２と３５との差に等しい出力信号３６を発信する。前
述のように、信号３６は、酸セトラー槽の炭化水素相の
実際温度を信号３５で示される温度以下に維持するに必
要な調節弁２２の開度を示すようにスケール化されてい
る。信号３６は、調節弁２２用の制御信号として温度調
節器３４から出力され、調節弁２２はこれによって操作
される。 本質的には、信号３２で示される温度が信号３５で示さ
れる温度を越えはじまる時までは、ＩＩ弁２２が線１９
を流れる流れに関しては全開するように操作される。こ
の条件が満たされはじまると、調節弁２２は線１つの流
れを制限しはじめ、この流れを線２０の酸セトラー槽５
の下部の触媒相へと分岐する。このようにして、酸セト
ラー槽の炭化水素相の温度は、信号３５で示される最高
温度以下に維持されるのである。 線７の酸セトラー槽からの炭化水素流温度が高くなると
、線１９から炭化水素相へ流入する高温リラン触媒の流
れが減少し、一方これに対応して、触媒相へ線２０から
流入する高温リラン触媒の流れが増加する。酸セトラー
層５の触媒相へ流入す □る高温リラン触媒の増加
した分は、酸セトラー槽５の槽底から抜出される。 このようにして、温度調節器３４で検出される、′ＩＱ
７から流出する炭化水素液温度如何によって、線１８の
高温リラン触媒は酸セトラー槽の上部へ線１９を経て流
入するか、あるいは酸セトラー槽の下部へ線２０を経て
流入するかのどちらかになる。 実施例 図面に示される本発明の方法を用いて二つの極端な場合
について以下の操作条件を咋出した。 １）リラン塔頂物のすべてが炭化水素相で凝縮する場合
、と２）リラン塔頂物のすべてが酸触媒相で凝縮する場
合の二つである。 ゛ ケースエ ケース■ リラン蒸気の凝縮場所 炭化水素相 酸 相酸相温度
、下 １００ １０５棚板温度、〒
１３２ １０５炭化水素相
１３２ １０５セトラー槽圧力１（＋）ｓｉ
Ｏ） １２０ ９０１ 槽の頂部にて 上記の算出は、ブチレンのアルキレーションの場合であ
る。酸冷却器の冷却水入口温度は８５下で、温度上昇は
ケースエで３．７下、ケース■で５下であった。冷却水
の総流量および熱交換器の面積は一定に保った。 上記の結果の示すところにＪ：れば、リラン蒸気の流ω
を変化することににつて、セトラー槽の圧力をケース■
と■との間に制御づることができること、従ってセトラ
ーの相の温度をも制御できるということである。
程の概略系統図である。 発明の詳細な説明 本発明は、循環使用される酸型触媒を用いる反応器で実
施することができる。本発明の望ましい系は、炭化水素
供給混合物が液状に保たれる循環触媒系である。弗化水
素１−Ｉ Ｆ触媒を用いる系は米国特許第第３．２）３
．１５７号に詳細に記述されている。 °酸沈時分離槽は、上層部、中間層部および下層部より
成っており、アルキル化反応ゾーンからの反応流出物を
上部の炭化水素相と下部の触媒相とに分離できるような
設計になっている。ちなみに、下部触媒相は酸型触媒と
酸溶性油を含んでいる。 酸沈時分離槽は一般に反応ゾーン流出物およびリラン触
媒をその中で炭化水素相と触媒相とに分離する手段を含
有する。これらの手段とは、酸セトラー槽へ反応ゾーン
流出物を導入する位置におかれた垂直じゃま板Ｊ３よび
下降管、接触Ｎ、および分離棚板なとである。 酸沈時分園槽は、反応流出物の導入口の近くで槽内の下
方に伸びる内部垂直邪魔板を有している。 酸沈時分！ＩＩ槽はまた内部の異った高さのところに接
触域を右しており、また同時に複数の下降管を有してい
る。さらに、一番下の下降管は邪魔板から一番はなれて
ついており一番下の下降管の出口は邪魔板の下端より下
にある。 リラン触媒流の第１部分は、酸沈時分離槽上部へ導入さ
れるが、その位置は複数の接触点の一番上のところのす
ぐ下のところである。リラン触媒流の第２部分は、リラ
ン触媒流の下部へ導入されるが、その位置は複数の接触
点の一番下のところのすぐ下のところである。これら複
数の接触域は３個以上の液−液接触棚板を有しており、
それぞれ上部、中間部、下部棚板ということになる。リ
ラン触媒流の第１部分は、酸沈時分離槽へ導入されるが
、その位置は液−液接触棚板の間である。 リラン触媒流の第２部分は、酸沈時分離槽の液−液接触
棚板の下へ導入される。 リラン触媒流の第１および第２部分の流量は、それぞれ
他の流量に応じて変えることができるし、酸沈時分１ｕ
ｌｌ槽°の炭化水素相に関連したプロセス変数（温度ま
たは圧力）の測定値に対応する。本発明は、以下温度測
定値に関して記述するものとするが、所望ならば圧力測
定値を用いることができる。 従来的には、ＨＦ触媒リすン塔からの高温リラン触媒蒸
気は酸沈時分離槽の液状炭化水素相へ供給される。する
と、この蒸気流は炭化水素液中で凝縮し、凝縮熱を発生
し、炭化水素液を加熱する。 本発明によれば、高温リラン触媒用の高価な冷却ｉ器を
用いずして、設定最高温度以下に、炭化水素液の温度を
維持することができる。このことは、Ｗａ沈降分離槽の
温度が高くなると槽が高圧になり生産能力（すなわちオ
レフィンの什込旦）が制限されることになるので、また
、この時はアルキレーション反応器へ送りこまれる循環
ＨＦ触媒液側の圧力も上げることにもなるので、望まし
いことである。 酸セトラー槽の炭化水素相の温度が設定点以上に増大し
たことが検出されると、リラン触媒蒸気の炭化水素相へ
の流量が減少される。触媒蒸気の酸セトラー相への流量
が総括的には一定の流量としたい時には、触媒蒸気を触
媒相へ流す手段を設けることができ、この時には炭化水
素相への流量の減少に応じて触媒相への流量を増大させ
る。酸セトラー槽の触媒相へ入る高温リラン触媒蒸気の
ために増大する熱は、相の底部から除去される。 本発明の方法および装置の態様の一つが図面に示されて
いる。１１Ｆ触媒によるオレフィンによるイソパラフィ
ンのアルキレーションを例としてこの態様を以下に説明
する。 図面について説明すると、原料イソパラフィンは、線１
から、オレフィン原料は線２から）−ＩＦＦ触媒線３か
ら導入される。通常運転時には、イソパラフィン、オレ
フィンおよび触媒は反応槽４の下部に混合物としてまた
は個別に導入される。この系の反応器、冷却器、および
他の機器には触媒が満杯になっており、反応ゾーンの触
媒は酸セトラー槽５の入口まで一杯になっている。従っ
てアルキレーション系に存在する触媒の場は原料炭化水
素の吊より多く、系内では触媒の連続相となっている。 反応槽４からの流出物は線６を経て酸セ・トラ一槽５へ
排出される。酸セトラー槽５では、上層の炭化水素相と
下層の触媒相とに流出物が分離される。炭化水素相は線
７を経て分留塔８へ抜出され、ここでイソパラフィンは
反応混合物から分離され、系へ線１０を経て循環される
。循環触媒は、放散塔９で反応混合物から分離され、線
１１を経て系内へ循環される。残りの炭化水素生成物は
、次いで常法により処理される。触媒相は酸セトラー槽
５の下部から抜出される。触媒相の第１部分は線１２を
経て冷ＩＡ器１３へ流れ、線３を経て反応槽４へＩＩ！
ｌ環する。触媒相の第２部分は線１２を経て加熱器１４
へ流れる。加熱された触媒相は次いで線１５を経てリラ
ン分離塔１６へ流れる。リラン分離塔１６では、主に水
および少量の酸溶性油より成る塔底物が分離され５１１
７によって排出される。このリラン分雛塔の塔頂物は、
高温リラン触媒蒸気と触媒相中に存在するイソパラフィ
ンとより成るものであるが、線１８を経て排出される。 本発明の目的は、酸セトラー槽５から分留塔８へ流れる
炭化水素液の温度をあらかじめ設定された値より下に維
持することである。熱雷対のような温度検出器と一緒に
用いる温度変換器３１が管７に付設されており、管７を
流れる炭化水素相の実際温度、つまり酸セトラー槽５上
部の炭化水素相温度を代表する信号３２を出力する。信
号３２は温度調節器３４へのプロセス変化入力として伝
えられる。また、この温度調節器３４には、酸セトラー
槽５の上部にある炭化水素相に対する最高許容温度を示
す設定点信号３５が入力される。 温度調ＷＪ器３４には、比例、比例−積分、比例−微分
、または比例−積分一徹分制御のようないろいろな制御
モードを用いることができる。望ましい態様では、温度
調節器３４は、比例−積分一徹分制御器であるが、二つ
の入力信号を受け、この二つの入力信号の差を示すスケ
ール化信号を出力できる制御器ならどんなものでもよい
。 調節器による出力信号のスケール化は制御系技術におい
て周知である。制御器の出力は本質的にはどんな所望の
因子または変数を示すようにスケール化することができ
る。この場合、以下に詳細に述べるように、温度調節器
３４の出力を所望の弁開度位置を示すようにスケール化
することである。 信号３２および３５を受けて、温度制御器３４は、信号
３２と３５との差に等しい出力信号３６を発信する。前
述のように、信号３６は、酸セトラー槽の炭化水素相の
実際温度を信号３５で示される温度以下に維持するに必
要な調節弁２２の開度を示すようにスケール化されてい
る。信号３６は、調節弁２２用の制御信号として温度調
節器３４から出力され、調節弁２２はこれによって操作
される。 本質的には、信号３２で示される温度が信号３５で示さ
れる温度を越えはじまる時までは、ＩＩ弁２２が線１９
を流れる流れに関しては全開するように操作される。こ
の条件が満たされはじまると、調節弁２２は線１つの流
れを制限しはじめ、この流れを線２０の酸セトラー槽５
の下部の触媒相へと分岐する。このようにして、酸セト
ラー槽の炭化水素相の温度は、信号３５で示される最高
温度以下に維持されるのである。 線７の酸セトラー槽からの炭化水素流温度が高くなると
、線１９から炭化水素相へ流入する高温リラン触媒の流
れが減少し、一方これに対応して、触媒相へ線２０から
流入する高温リラン触媒の流れが増加する。酸セトラー
層５の触媒相へ流入す □る高温リラン触媒の増加
した分は、酸セトラー槽５の槽底から抜出される。 このようにして、温度調節器３４で検出される、′ＩＱ
７から流出する炭化水素液温度如何によって、線１８の
高温リラン触媒は酸セトラー槽の上部へ線１９を経て流
入するか、あるいは酸セトラー槽の下部へ線２０を経て
流入するかのどちらかになる。 実施例 図面に示される本発明の方法を用いて二つの極端な場合
について以下の操作条件を咋出した。 １）リラン塔頂物のすべてが炭化水素相で凝縮する場合
、と２）リラン塔頂物のすべてが酸触媒相で凝縮する場
合の二つである。 ゛ ケースエ ケース■ リラン蒸気の凝縮場所 炭化水素相 酸 相酸相温度
、下 １００ １０５棚板温度、〒
１３２ １０５炭化水素相
１３２ １０５セトラー槽圧力１（＋）ｓｉ
Ｏ） １２０ ９０１ 槽の頂部にて 上記の算出は、ブチレンのアルキレーションの場合であ
る。酸冷却器の冷却水入口温度は８５下で、温度上昇は
ケースエで３．７下、ケース■で５下であった。冷却水
の総流量および熱交換器の面積は一定に保った。 上記の結果の示すところにＪ：れば、リラン蒸気の流ω
を変化することににつて、セトラー槽の圧力をケース■
と■との間に制御づることができること、従ってセトラ
ーの相の温度をも制御できるということである。
図面は、１１Ｆ触媒を用いたオレフィンによるイソパラ
フィンのアルキレーションのケースの接触アルキレーシ
ョン法のフロー図を示ず。
フィンのアルキレーションのケースの接触アルキレーシ
ョン法のフロー図を示ず。
Claims (10)
- （１）酸セトラー槽の下部には触媒相を有し、一方上部
には炭化水素相を有し、しかも該炭化水素相には、酸型
触媒と酸溶解油より成るリラン触媒流が導入されている
、接触アルキレーシヨン法に関する酸セトラー中の炭化
水素相のプロセス変数を操作する方法において、 該酸セトラー槽の炭化水素相に関する該プロセス変数の
実際値を示す第１信号を定め、 該プロセス変数の所望最大値を示す第２信号を定め、 該第１信号と該第２信号とを比較し、次いで該第１信号
と該第２信号との差に対応する第３信号を定め、そして 該プロセス変数の実際値をば、実質的に該第２信号で示
される所望最大値以下に維持するように該第３信号に応
じて該酸セトラー槽の該炭化水素相への該リラン触媒流
の流れを操作することを特徴とする、接触アルキレーシ
ヨン法の酸セトラー槽炭化水素相プロセス変数操作法。 - （２）該プロセス変数の実際値を、該第２信号で示され
る実質的に所望最大値以下に維持するに必要な弁開度位
置を示すように、該第３信号がスケール化されているこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第１項に記載の方法。 - （３）該第１信号で示される該プロセス変数が該第２信
号で示される該プロセス変数を越えはじめるまでの時間
までは、該酸セトラー槽の該炭化水素相への該リラン触
媒流の流量に関しては該調節弁が全開となつており、そ
れからは該酸セトラー槽の該アルキレート生成物相への
該リラン触媒流の流量を制限しはじめ、該酸セトラー槽
の該触媒相へ該リラン触媒流の流れを分岐することを特
徴とする、特許請求の範囲第２項に記載の方法。 - （４）該酸セトラー槽の該炭化水素相の該プロセス変数
が温度であることを特徴とする特許請求の範囲第１〜第
３項に記載の方法。 - （５）該酸セトラー槽の該炭化水素相の該プロセス変数
が圧力であることを特徴とする、上記特許請求の範囲第
１〜３項のいずれかに記載の方法。 - （６）酸セトラー槽の下部には触媒相を有し、一方上部
には炭化水素相を有し、しかも該炭化水素相には、酸型
触媒と酸溶解油より成るリラン触媒流（１１）が導入さ
れている、接触アルキレーシヨン法に関する酸セトラー
槽中の炭化水素相のプロセス変数を操作する装置におい
て、 該酸セトラー槽中の該炭化水素相に関するプロセス変数
の実際値を示す第１信号を発生するために用いられる変
換器を含むプロセス変数検出器（３１）、 設定点信号を含むプロセス変数制御器（３４）、該プロ
セス変数の所望最大値を示す該プロセス変数制御器の該
設定点信号から第２信号（３５）を定める手段、 該第１信号と該第２信号を比較し、該第１信号と該第２
信号との差を示す第３信号をば該プロセス変数制御器か
ら発生させる手段、および 該プロセス変数の実際値を実質的に該第２信号（３５）
で示される所望最大値以下に維持するために、該プロセ
ス制御器（３４）からの該第３信号（３６）に対応して
、該酸セトラー槽（５）中の該炭化水素相への該リラン
触媒流の流れを操作する手段（２２）を特徴とする、接
触アルキレーシヨン法の酸セトラー槽炭化水素相プロセ
ス変数操作装置。 - （７）該第３信号（３６）が制御弁（２２）の開度位置
を示すものであり、かつ該制御弁（２２）が、該プロセ
ス変数の実際値を実質的に該第２信号で示される所望最
大値以下に維持するために用いられることを特徴とする
、上記特許請求の範囲第６項に記載の装置。 - （８）該第１信号ど示される該プロセス変数が該第２信
号で示される該プロセス変数を越えはじめるまでの時間
までは、該酸セトラー槽（５）中の該炭化水素相への該
リラン触媒流（１１）の流れに関しては、該制御弁（２
２）が全開になつており、それからは該制御弁（２２）
が該酸セトラー槽の該炭化水素相への該リラン触媒流の
流れを制限しはじめ、該酸セトラー槽の該触媒相へ該リ
ラン触媒流の流れを分岐することを特徴とする、上記特
許請求の範囲第６項に記載の装置。 - （９）該酸セトラー槽中の該炭化水素相の該プロセス変
数が温度であることを特徴とする上記特許請求の範囲第
６〜８項のいずれかに記載の装置。 - （１０）該酸セトラー槽中の該炭化水素相の該プロセス
変数が圧力であることを特徴とする、上記特許請求の範
囲第６〜８項のいずれかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| US06/804,730 US4677244A (en) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | Catalytic alkylation process and apparatus |
| US804730 | 1985-11-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| EP (1) | EP0224882B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62145031A (ja) |
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| AU (1) | AU577968B2 (ja) |
| BR (1) | BR8605849A (ja) |
| CA (1) | CA1251474A (ja) |
| DE (1) | DE3678108D1 (ja) |
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