JPS62112626A - Polyamide resin and its production - Google Patents

Polyamide resin and its production

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JPS62112626A
JPS62112626A JP25062785A JP25062785A JPS62112626A JP S62112626 A JPS62112626 A JP S62112626A JP 25062785 A JP25062785 A JP 25062785A JP 25062785 A JP25062785 A JP 25062785A JP S62112626 A JPS62112626 A JP S62112626A
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JP
Japan
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general formula
polyamide resin
iodo
formula
diamine
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Yoshio Imai
淑夫 今井
Masaaki Kakimoto
雅明 柿本
Masaru Yoneyama
米山 賢
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TOKYO SHINKU KIKAI KK
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TOKYO SHINKU KIKAI KK
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Abstract

PURPOSE:To obtain a polyamide resin being soluble in various organic solvents and having a high glass transition point and a high decomposition point and excellent processability, by reacting a diamine having a 1-iodo-3,5-phenylene group with a dicarboxylic acid under specified conditions. CONSTITUTION:A diamine of formula I (wherein Ar is a 1-iodo-3,5-phenylene group when one kind of Ar is used and one Ar is a 1-iodo-3,5-phenylene group and the other Ar groups are bivalent aromatic groups when two or more kinds of Ar are used), e.g., 3,5-diaminoiodobenzene, is prepared. This diamine is reacted with a dicarboxylic acid of formula II (wherein R is a bivalent aromatic group), e.g., terephthalic acid, in an organic solvent in the presence of an aromatic phosphite (e.g., triphenyl phosphite) and pyridine (derivative) to obtain the purpose polyamide resin of formula III (wherein n is 10-200).

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はポリアミド樹脂、特に各種有機溶媒に可溶で、
なおかつ高いガラス転移温度を有する新規ポリアミド樹
脂及びその製造方法に関す゛る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention provides polyamide resins, particularly soluble in various organic solvents,
The present invention also relates to a new polyamide resin having a high glass transition temperature and a method for producing the same.

(従来の技術) 従来、全芳香族ポリアミド樹脂は、高ガラス転移点、高
分解点を荷する材料として期待されてきtこ。しかし、
これまで製造された多くの芳香族ポリアミドは、有機溶
媒に不溶であり、300℃以上のガラス転移点を有して
いるため、その成形性にはなお問題があった。また、高
い熱安定性を有しているにもかかわらず、成形性が悪く
、耐熱性と加工性とを共に具備する全芳香族ポリアミド
樹脂がないことが、この樹脂を商業的に利用しようとす
る際に大きな問題点となっていた。
(Prior Art) In the past, fully aromatic polyamide resins have been expected to be materials with high glass transition points and high decomposition points. but,
Many of the aromatic polyamides produced so far are insoluble in organic solvents and have a glass transition point of 300° C. or higher, so there are still problems with their moldability. In addition, although it has high thermal stability, it has poor moldability and there is no fully aromatic polyamide resin that has both heat resistance and processability, making it difficult to use this resin commercially. This was a big problem when doing so.

(発明が解決しようとする問題点) したがって、本発明は有機溶媒に可溶で、なおかつ高い
ガラス転移点を有し、同時に高い分解点を有する、加工
性に優れた新規ポリアミド樹脂及びその製造方法を促供
する問題を解決することを目的とする。
(Problems to be Solved by the Invention) Therefore, the present invention provides a novel polyamide resin that is soluble in organic solvents, has a high glass transition point, and at the same time has a high decomposition point, and has excellent processability, and a method for producing the same. The purpose is to solve problems that facilitate.

(問題点を解決するための手段) 本発明の第1の発明は、前記問題点を解決しうる構造及
び特性を有する新規ポリアミド樹脂であり、すなわら、
一般式 %式%() (式中、Rは1種又は2種以上の二価の芳香族基、Ar
はArが1種の場合は 1−ヨード−3,5−)1二し
ン基、Arが2種以上の場合はその中の1種としで 1
−ヨード−3,5−フェニレン基、他の種どして二価の
芳香族基を示し、nは10〜200の整数である) で表されるポリアミド樹脂である。
(Means for solving the problems) The first invention of the present invention is a novel polyamide resin having a structure and characteristics capable of solving the above problems, namely:
General formula % Formula % () (wherein, R is one or more divalent aromatic groups, Ar
When there is one type of Ar, it is a 1-iodo-3,5-)1 dicine group, and when there are two or more types of Ar, it is one of them. 1
-Iodo-3,5-phenylene group, other species are divalent aromatic groups, and n is an integer of 10 to 200.

本発明の第2の発明は、前記一般式1で表されるポリア
ミド樹脂を製造するにあたり、一般式8式%() (式中、ArはArが1種の場合は1−ヨード−3,5
−フェニレン基、Arが2種以上の場合はその「t]の
1種として 1−ヨード−3,5−フェニレン基、他の
種として二価の芳香族基を示す)で表されるジアミンの
1種又は2種以上と、一般式 %式% (:式中、Rは二価の芳香族基を示す)で表されるジカ
ルボン酸の1種又は2種以上とを芳香族亜リン酸エステ
ルとピリジン誘導体の存在下、有機溶媒中で反応させる
ポリアミド樹脂の製;A ’5法である。
The second aspect of the present invention is that when producing a polyamide resin represented by the general formula 1, the general formula 8% () (wherein, Ar is 1-iodo-3, 5
-phenylene group, in the case of two or more types of Ar, one type of "t" is a 1-iodo-3,5-phenylene group, and the other type is a divalent aromatic group). One or more types of dicarboxylic acids represented by the general formula % (wherein R represents a divalent aromatic group) and one or more types of dicarboxylic acids are combined to form an aromatic phosphite ester. Production of a polyamide resin by reacting it with a pyridine derivative in an organic solvent in the presence of a pyridine derivative; method A'5.

本発明の1)i′I記一般式Tで表されるポリアミド樹
脂は、 H2N−Ar −NH2([) (式中、ArはArが1種の場合は1−ヨード−3,5
−フェニレン基、Arが2種以上の場合はその中の1種
として 1−ヨード−3,5−フェニレン基、他の種ど
じて二価の芳香族基を示す)で表されるジアミンの1種
又は2種以上と、一般式 %式%) (式中、Rは二価の芳香族基を、Xはハロゲン原子を示
す) で表されるジカルボン酸シバライドの1種又は2種以上
とを有機溶媒中で反応させて製造することもできる。
The polyamide resin represented by the general formula T in 1)i'I of the present invention is H2N-Ar-NH2([) (wherein, Ar is 1-iodo-3,5 when there is only one type of Ar).
-phenylene group, if Ar is two or more types, one of them is 1-iodo-3,5-phenylene group, other types are divalent aromatic groups). species or two or more species and one or more dicarboxylic acid cybalides represented by the general formula % (% formula %) (wherein R represents a divalent aromatic group and X represents a halogen atom) It can also be produced by reacting in an organic solvent.

前記一般式1で表されるポリアミド樹脂は、前記一般式
■で表されるジアミンと面記一般式■で表されるジカル
ボン酸、又は前記一般式■で表されるジカルボン酸シバ
ライドから製i%されるが、ジアミンどしては八rが、
1−ヨード−3,5−フェニレン基からなるジアミンを
単独で使用することもできるし、あるいは、20〜99
モル%の前記Arが1−ヨード−3,5−フェニレン基
からなるジアミンに、80〜1モル%の前記Arが1種
または2種以上の二価の芳香族基からなるジアミンを、
混合して使用することもできる。ジアミンを混合して使
用する場合、1−ヨード−3,5−フェニレン基からな
るジアミンが、20モル%未満となると本発明の特徴で
ある、有機溶媒への可溶性及び熱成形性をじゅうぶん満
足しなくなる。前記一般式■で表されるジアミンとして
Arが 1−ヨード−3,5−フェニレン基からなるジ
アミンを単独で使用し、前記一般式■で表されるジカル
ボン酸、又は前記一般式■で表されるジカルボン酸シバ
ライドの1種または2種以上を混合して使用することも
できる。
The polyamide resin represented by the general formula 1 is made from a diamine represented by the general formula (1) and a dicarboxylic acid represented by the general formula (2), or a dicarboxylic acid civalide represented by the general formula (2). However, as for diamine, 8r is
A diamine consisting of a 1-iodo-3,5-phenylene group can be used alone, or a diamine consisting of 20 to 99
A diamine in which mol% of the Ar consists of a 1-iodo-3,5-phenylene group, and a diamine in which 80 to 1 mol% of the Ar consists of one or more divalent aromatic groups,
They can also be used in combination. When using a mixture of diamines, if the diamine consisting of 1-iodo-3,5-phenylene group is less than 20 mol%, the solubility in organic solvents and thermoformability, which are the characteristics of the present invention, are not fully satisfied. It disappears. As the diamine represented by the above general formula (2), a diamine in which Ar is a 1-iodo-3,5-phenylene group is used alone, and a dicarboxylic acid represented by the above general formula (2) or a dicarboxylic acid represented by the above general formula (2) is used. It is also possible to use one type or a mixture of two or more types of dicarboxylic acid cybalides.

前記一般式■で表されるジアミンのうち、Arが1−ヨ
ード−3,5−フェニレン基からなるジアミンとは、下
記式Vの構造を有する、1−ヨード−3,5−フェニレ
ン基からなるジアミンが適当である。
Among the diamines represented by the general formula (1), the diamine in which Ar is a 1-iodo-3,5-phenylene group is a diamine consisting of a 1-iodo-3,5-phenylene group having the structure of the following formula V. Diamines are suitable.

(式中、Jはヨウ素原子を示す) このジアミンは工業的に安価に入手できる1、3−ジニ
トロベンゼンとヨウ素を原料として製造しうる、3.5
−ジニトロ−1−ヨードベンぎンを、従来公知の各種j
シ元法により還元することにより得られる。
(In the formula, J represents an iodine atom) This diamine can be produced using 1,3-dinitrobenzene and iodine, which are industrially available at low cost, as raw materials.
- Dinitro-1-iodobengyne can be added to various conventionally known j
Obtained by reduction using the oxidation method.

前記一般式■で表されるジアミンのうら、二価の芳香族
基からなるジアミンとしては、たとえばメタフェニレン
ジアミン、パラフェニレンジアミン、4,4′−ジアミ
ノごフェニル、3.3′ −メチレンジアニリン、4.
4′ −メチレンジアニリン、4.4′ −エチレンジ
アニリン、4.4′ −イソプロピリデンジアニリン、
3.4′ −オキシジアニリン、4.4′−オキシジア
ニリン、4゜4′−ブオジアニリン、3.3′ −カル
ボニルジアニリン、4.4’  −カルボニルジアニリ
ン、3.3′ −スルホニルジアニリン、4,4′−ス
ルボニルジアニリン、i 、 4−ナフタレンジアミン
、1.5−ナフタレンジアミン、2.6−ナフタレンジ
アミン等をあげることができる。
Examples of diamines containing a divalent aromatic group behind the diamine represented by the general formula (1) include meta-phenylene diamine, para-phenylene diamine, 4,4'-diaminophenyl, and 3,3'-methylene dianiline. ,4.
4'-methylene dianiline, 4.4'-ethylene dianiline, 4.4'-isopropylidene dianiline,
3.4'-oxydianiline, 4.4'-oxydianiline, 4゜4'-buodianiline, 3.3'-carbonyldianiline, 4.4'-carbonyldianiline, 3.3'-sulfonyldianiline Examples include aniline, 4,4'-sulfonyldianiline, i,4-naphthalenediamine, 1,5-naphthalenediamine, and 2,6-naphthalenediamine.

前記一般式■で表される二価の芳香族基からなるジカル
ボン酸としては、次のようなジカルボン酸を例示するこ
とができる。ずなわら、テレフタIし酸、イソフタル酸
、1,4−ナフタレンジカルボン酸、 1.5−ナフタ
レンジカルボン酸、2.6−ナフタレンジカルボンM、
4.4’ −ジフェニルエーテルジカルボン酸、3.3
′ −ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′ −
ジフェニルメタンジカルボン 4、4′ −ジフェニルスルホンジカルボン酸、3、3
′ −ジフェニルスルホンジカルボン酸などを例示する
ことができる。
As the dicarboxylic acid consisting of a divalent aromatic group represented by the general formula (2), the following dicarboxylic acids can be exemplified. Zunawara, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,4-naphthalene dicarboxylic acid, 1,5-naphthalene dicarboxylic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid,
4.4'-diphenyl ether dicarboxylic acid, 3.3
' -diphenyl ether dicarboxylic acid, 4,4' -
diphenylmethanedicarboxylic acid, 4,4'-diphenylsulfonedicarboxylic acid, 3,3
'-diphenylsulfonedicarboxylic acid and the like can be exemplified.

前記一般式■で表される二価の芳香族基からなるジカル
ボン酸シバライドとしては、次のようなジカルボン酸の
ジクロリド、ジフルオリド及びジブロミドを例示するこ
とができる。すなわち、テレフタル酸、イソフタル酸、
1.4−ナフタレンジカルボン酸、 1,5−ナフタレ
ンジカルボン酸2.6−ナフタレンジカルボン酸、4,
4′ −ジフェニルエーテルジカルボン テルジカルボン酸、4.4′ −ジフェニルメタンジカ
ルボン酸、3.3′ −ジフェニルメタンジカルボン3
、3′ −ジフェニルスルホンジカルボンジクロリド、
ジフルオリド及びジブロミドを′/11示することかで
きる。
As the dicarboxylic acid cybaride consisting of a divalent aromatic group represented by the general formula (2), the following dicarboxylic acid dichloride, difluoride, and dibromide can be exemplified. Namely, terephthalic acid, isophthalic acid,
1.4-naphthalene dicarboxylic acid, 1,5-naphthalene dicarboxylic acid 2.6-naphthalene dicarboxylic acid, 4,
4'-diphenyl ether dicarboxylic acid, 4.4'-diphenylmethane dicarboxylic acid, 3.3'-diphenylmethane dicarboxylic acid 3
, 3'-diphenylsulfone dicarbonichloride,
Difluoride and dibromide can be expressed as '/11.

前記一般式■によって表されるポリアミド樹脂の製造は
、前記一般式IF−r表されるジアミンと、前記一般式
■で表されるジカルボン酸とを、芳占族亜リン酸エステ
ルとピリジン誘導体の存在下に、20〜200℃で数分
間から数日間反応させることにより行われるものである
。この方法において一般式丁で表されるポリアミド樹脂
の分子量は、一般式■で表されるジアミンと一般式■で
表されるジカルボン酸の仕込量によって制限され、これ
らの反応成分を等モル聞使用すると高分子量の一般式工
で表されるポリアミド樹脂を製造することができる。
The production of the polyamide resin represented by the general formula (2) is carried out by combining the diamine represented by the general formula (IF-r) and the dicarboxylic acid represented by the general formula (2) with an aromatic phosphite and a pyridine derivative. The reaction is carried out by reacting at 20 to 200° C. for several minutes to several days in the presence of a chemical. In this method, the molecular weight of the polyamide resin represented by the general formula D is limited by the amount of the diamine represented by the general formula II and the dicarboxylic acid represented by the general formula II, and equimolar amounts of these reaction components are used. Then, a high molecular weight polyamide resin represented by the general formula can be produced.

本発明において使用する芳香族亜すンPIiエステルと
しては、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニル、
亜リン酸トリー 〇ートリル、亜リン酸ジー 0−トリ
ル、亜リン酸トリーm−1−リル、亜リン酸ジーmート
リル、亜リン# I−リ−p− トリル、亜すン酸ジー
p−hリル、亜リン酸トリー 〇−タロロフIニル、亜
リン酸ジー0−クロロフェニル、亜リン酸トリーp−ク
ロロフェニル、亜リン酸ジーp−クロロフェニル等をあ
げることができる。
The aromatic substinthium PIi ester used in the present invention includes triphenyl phosphite, diphenyl phosphite,
Phosphite trilyl, phosphite di-tolyl, phosphorous acid trilyl, phosphorous acid di-m-tolyl, phosphorous acid trilyl, phosphorous acid trilyl, phosphorous acid di-p-tolyl, phosphorous acid di-p- Examples include hryl, tri-o-talolophenyl phosphite, di-0-chlorophenyl phosphite, tri-p-chlorophenyl phosphite, and di-p-chlorophenyl phosphite.

本発明において使用するピリジン誘導体としては、ピリ
ジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコリン、2
,4−ルチジン、2,6−ルチジン、3.5−ルチジン
等をあげることができる。
Pyridine derivatives used in the present invention include pyridine, 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline, 2-picoline,
, 4-lutidine, 2,6-lutidine, 3,5-lutidine and the like.

この方法に使用しうる有機溶媒として代表的なものは、
N−メチルピロリドンやN、N−ジメチルアセトアミド
等のアミド系溶媒である。ここで重合度の大きいポリア
ミド樹脂を得るために、塩化リチウムや塩化カルシウム
などの無n塩類や、トリエチルアミン塩酸塩、テトラブ
チルアンモニウムクロリド、セチルトリメチルアンモニ
ウムクロリドなどの有機塩類をこの反応系に添加するこ
ともできる。
Typical organic solvents that can be used in this method are:
These are amide solvents such as N-methylpyrrolidone and N,N-dimethylacetamide. In order to obtain a polyamide resin with a high degree of polymerization, non-n salts such as lithium chloride and calcium chloride, and organic salts such as triethylamine hydrochloride, tetrabutylammonium chloride, and cetyltrimethylammonium chloride are added to this reaction system. You can also do it.

更に、前記一般式■で表されるポリアミド樹脂の製造は
、有機溶媒中、前記一般式■で表されるジアミンと前記
一般式IVで表されるジカルボン酸シバライドとを、−
20〜200℃で数分間から数日間反応させることによ
り行われるものである。この方法において一般式1で表
されるポリアミド樹脂の分子量は前記一般式■で表され
るジアミンと前記一般式IVで表されるジカルボン酸シ
バライドの仕込■によって制限され、これらの反応成分
を等モル聞使用すると高分子量の前記一般式1で表され
るポリアミド樹脂を製造することができる。
Furthermore, in the production of the polyamide resin represented by the general formula (1), the diamine represented by the general formula (1) and the dicarboxylic acid civalide represented by the general formula (IV) are mixed in an organic solvent.
This is carried out by reacting at 20 to 200°C for several minutes to several days. In this method, the molecular weight of the polyamide resin represented by the general formula 1 is limited by the charge (2) of the diamine represented by the general formula (1) and the dicarboxylic acid civalide represented by the general formula IV, and these reaction components are mixed in equimolar amounts. When used for a long time, a high molecular weight polyamide resin represented by the general formula 1 can be produced.

この方法に使用しうる有機溶媒としては、N 。The organic solvent that can be used in this method is N.

N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン等のアミド系溶媒、ベンゼン、アニソール、ジフェニ
ルエーテル、ニトロベンゼン、ベンゾニトリルのような
芳香族系溶媒、及びクロロホルム、ジクロロメタン、1
.2−ジクロロエタン、1.1,2.2−テトラクロロ
エタンのようなハロゲン系溶媒などの有機溶媒を例示す
ることができる。
Amide solvents such as N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, aromatic solvents such as benzene, anisole, diphenyl ether, nitrobenzene, and benzonitrile, and chloroform, dichloromethane, 1
.. Examples include organic solvents such as halogenated solvents such as 2-dichloroethane and 1.1,2.2-tetrachloroethane.

このような有機溶媒と共にピリジン、トリエチルアミン
などの酸受容体を共存させたり、水と互いに混合しない
溶媒の場合にアルカリ水溶液とのニ泪系を用いたりして
反応を行うと効果的である。
It is effective to carry out the reaction by allowing an acid acceptor such as pyridine or triethylamine to coexist with such an organic solvent, or by using a two-way system with an alkaline aqueous solution in the case of a solvent that is immiscible with water.

待にN  、N−ジメチルアセトアミド又はN−メチル
−2−ピロリドン等のアミド系溶媒を使用すると、これ
らの溶媒自身が酸受容体となり高重合体のポリアミド樹
脂を得ることができる。
First, when an amide solvent such as N,N-dimethylacetamide or N-methyl-2-pyrrolidone is used, these solvents themselves become acid acceptors and a high polymer polyamide resin can be obtained.

前記一般式工で表されるポリアミド樹脂においでnを1
0〜200の整数に限定した理由は、nが10より小で
はフィルム等に成形した成形品の機械特性や耐熱性等の
特性がじゅうぶんでなく、nが200を越えると有償溶
媒等への溶解性が悪くなるからである。
In the polyamide resin represented by the above general formula, n is 1
The reason for limiting n to an integer between 0 and 200 is that if n is smaller than 10, the mechanical properties and heat resistance of the molded product formed into a film etc. will not be sufficient, and if n exceeds 200, it will be difficult to dissolve in paid solvents, etc. This is because the sex becomes worse.

かくして製造された前記一般式工で表されるポリアミド
樹脂は、使用した前記一般式■で表されるジアミンと使
用した前記一般式■で表されるジカルボン酸又は一般式
■で表されるジカルボン酸シバライドの種類により特に
その溶解性が変化するが、クロロホルム、テトラクロロ
エタン、N。
The thus produced polyamide resin represented by the above general formula is composed of the diamine represented by the above general formula (1) used and the dicarboxylic acid represented by the above general formula (2) or the dicarboxylic acid represented by the general formula (2) used. The solubility varies depending on the type of sybaride, but chloroform, tetrachloroethane, N.

N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、クレゾール、クロロベン
ゼン、0−クロロフェノール及びピリジン等の溶媒のす
べてに又は一部に可溶となる。
It becomes soluble in all or part of solvents such as N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, cresol, chlorobenzene, 0-chlorophenol, and pyridine.

@記一般式1で表されるポリアミド樹脂は 400℃付
近まで加熱しても顕著なffl!2変化は認められない
The polyamide resin represented by the general formula 1 has remarkable ffl even when heated to around 400℃! 2 No change observed.

(実施例) 以下、本発明を参考例及び、実施例によりざらに詳細に
説明する。
(Example) Hereinafter, the present invention will be roughly described in detail using reference examples and examples.

参考例1 m−ジニトロベンゼンeo9(0,357mol >と
ヨウ素47g (0,185mol )を25%発煙硫
酸に溶解し、徐々に 150℃まで加熱した。この温度
で白煙が発生しなくなるまでかくはんした後、反応混合
物を冷却し、氷に投入して組成物の結晶を得た。純粋な
3.5−ジニトロヨードベンゼンは、エタノールから再
結晶して得た。収ffi 72.6y (69%)。融
点96℃(文献値99〜100℃) 参考例2 エタノール300−に、3.5−ジニトロヨードベンゼ
ン29.4g (0,1m0l ) 、塩化第1スズ1
80.5g (0,8mol )を溶解し、窒素気流下
、70℃で30分間かくはんした。反応後、反応混合物
を、氷水に投入し、5%重炭酸ナトリウム水溶液でpH
7〜8に調整した。jqられた溶液を酢酸エチルで抽出
し、fA酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。
Reference Example 1 m-Dinitrobenzene eo9 (0,357 mol) and 47 g (0,185 mol) of iodine were dissolved in 25% oleum and gradually heated to 150°C. Stirred at this temperature until no white smoke was generated. After that, the reaction mixture was cooled and poured into ice to obtain crystals of the composition.Pure 3,5-dinitroiodobenzene was obtained by recrystallization from ethanol. Yield: 72.6y (69%) .Melting point: 96°C (Literature value: 99-100°C) Reference Example 2 In 300°C of ethanol, 29.4g (0.1ml) of 3,5-dinitroiodobenzene, 1% stannous chloride
80.5 g (0.8 mol) was dissolved and stirred at 70° C. for 30 minutes under a nitrogen stream. After the reaction, the reaction mixture was poured into ice water and adjusted to pH with 5% aqueous sodium bicarbonate solution.
Adjusted to 7-8. The resulting solution was extracted with ethyl acetate, dried over sodium fA acid, and then the solvent was distilled off under reduced pressure.

得られた3、5−ジアミノヨードベンゼンは、ベンゼン
から再結晶した。収量 8,16 y (35%)。
The obtained 3,5-diaminoiodobenzene was recrystallized from benzene. Yield 8,16 y (35%).

融点128℃ 実施例1 イソフタル酸0.83 g (5mmol)、3,5−
ジアミノヨードベンゼンi、17 y (5mmol)
 、亜リン酸トリフェニル3.10 g (10mmo
l) 、ピリジン2.5叔、塩化リチウム0.509お
よびN−メチル−2−ピロリドン10蛾を、窒素雰囲気
下、100℃で3時間かくはんした。反応後重合溶液を
メタノールに投入しポリマーを得た。収FJ 1.82
 g(100%)。固有粘度0.59   (硫酸中0
.59/dLの41,30℃で測定)。
Melting point 128°C Example 1 Isophthalic acid 0.83 g (5 mmol), 3,5-
Diaminoiodobenzene i, 17 y (5 mmol)
, triphenyl phosphite 3.10 g (10 mmo
1) 2.5 parts of pyridine, 0.50 parts of lithium chloride and 10 parts of N-methyl-2-pyrrolidone were stirred at 100 DEG C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction, the polymerization solution was poured into methanol to obtain a polymer. Income FJ 1.82
g (100%). Intrinsic viscosity 0.59 (0 in sulfuric acid)
.. 59/dL of 41, measured at 30°C).

熱重量測定法による10%重最減少温度、415℃熱機
械測定法によるガラス転移温度、278℃生成したポリ
マーの溶解性は表1に示す。
Table 1 shows the 10% weight loss temperature determined by thermogravimetry, the glass transition temperature at 415°C by thermomechanical measurement, and the solubility of the produced polymer at 278°C.

実施例2 テレフタル酸0.83 g(5m+++ol)、3.5
−ジアミノヨードベンゼン1.179(5mmol) 
、亜リン酸トリフェニル3.10 g (10mmol
) 、ピリジン2.5−1塩化リチウム0,50 、お
よびN−メチル−2−ピロリドン10−を、窒素雰囲気
F、 100℃で3時間−かくはんした。反応後、重合
溶液をメタノールに投入しポリマーを得た。収5i 1
.82 。
Example 2 Terephthalic acid 0.83 g (5m+++ol), 3.5
-Diaminoiodobenzene 1.179 (5 mmol)
, triphenyl phosphite 3.10 g (10 mmol
), pyridine 2.5-1 lithium chloride 0.50, and N-methyl-2-pyrrolidone 10- were stirred at 100° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere F. After the reaction, the polymerization solution was poured into methanol to obtain a polymer. Collection 5i 1
.. 82.

(ioo%)。固有粘度0.73(Ili!!酸中0.
5./dlの濃度、30℃で測定)。
(ioo%). Intrinsic viscosity 0.73 (Ili!! 0.73 in acid)
5. /dl, measured at 30°C).

熱重量測定法による10%重量減少温度、435℃熱機
械測定法によるガラス転移温度、318℃生成したポリ
マーの溶解性は表1に示す。
The 10% weight loss temperature determined by thermogravimetry, the glass transition temperature determined by thermomechanical measurement at 435°C, and the solubility of the produced polymer at 318°C are shown in Table 1.

実施例3 2.6−ナフタレンジカルボン酸LO8g(5mlIl
ol)、3.5−ジアミノヨードベンゼン1,17 。
Example 3 2.6-naphthalene dicarboxylic acid LO8g (5mlIl
ol), 3,5-diaminoiodobenzene 1,17.

(5mmol)、亜すン酸トリVxニル3,10 g 
(40miol) 、ピリジン2.5−1塩化リチウム
0.50 pおよびN−メチル−2−ピロリドン10−
を、窒素雰囲気下。100℃で3時間かくはんした。反
応後、重合溶液をメタノールに投入しポリマーを得た、
収fl 2.07 、 (400%)。固有粘度i、i
+  (硫酸中0.59/dLの濃度、30℃で測定)
(5 mmol), triVxylsulfite 3.10 g
(40 miol), pyridine 2.5-1 lithium chloride 0.50 p and N-methyl-2-pyrrolidone 10-
, under a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 100°C for 3 hours. After the reaction, the polymerization solution was poured into methanol to obtain a polymer.
Yield fl 2.07, (400%). Intrinsic viscosity i, i
+ (concentration of 0.59/dL in sulfuric acid, measured at 30°C)
.

熱@量測定法による10%重覆減少湿度、445℃生成
したポリマーの溶解性は表1に示す。
Table 1 shows the solubility of the polymer produced at 445° C. with a 10% overlapping reduction in humidity by heat measurement.

実施例4 3.5−ジアミノヨードベンゼン1,17g(5m…0
1)を10帷のN、N−ジメチルアセトアミドに溶解し
、ドライアイス−アセトン浴上で完全に凍結した。生成
した固体にイソフタル酸クロリド1.029(5mmo
l)を加え、0℃、窒素雰囲気下3時間かくはんした。
Example 4 1.17 g of 3.5-diaminoiodobenzene (5 m...0
1) was dissolved in 10 strips of N,N-dimethylacetamide and completely frozen on a dry ice-acetone bath. 1.029 (5 mmo) of isophthalic acid chloride was added to the generated solid.
1) was added, and the mixture was stirred at 0°C under a nitrogen atmosphere for 3 hours.

反応後、重合溶液を水に投入しポリマーを得た。収量 
1.829(100%)。
After the reaction, the polymerization solution was poured into water to obtain a polymer. yield
1.829 (100%).

固有粘度0.43(tii1酸中0.59/dLの濃度
。30℃で測定)。
Intrinsic viscosity 0.43 (concentration of 0.59/dL in tiii1 acid, measured at 30°C).

熱重量測定法による10%重量減少温度。414℃熱機
械1Q11定法によるガラス転移温度。278℃生成し
たポリマーの溶解性は表1に示す。
10% weight loss temperature by thermogravimetry. 414℃ Glass transition temperature according to thermomechanical 1Q11 standard method. The solubility of the polymer produced at 278°C is shown in Table 1.

実施例5 3.5−ジアミノヨードベンゼン1.17 、  (5
m+1101)を10m1のN21N−ジメチルアセト
アミドに溶解し、ドライアイス−7セトン浴上で完全に
凍結した。生成した固体にテレフタル酸クロリド1.0
2 g (5mmol)をhaえ、o’c、窒素雰囲気
下3時間かくはんした。反応後、重合溶液をメタノール
に投入しポリマーを1坪た。 18.m 1.82 g
(100%)。固有粘度0.75   (硫酸中0.5
9/dl−の温度、30°Cで測定)。
Example 5 3.5-diaminoiodobenzene 1.17, (5
m+1101) was dissolved in 10 ml of N21N-dimethylacetamide and completely frozen on a dry ice-7 setone bath. 1.0% of terephthalic acid chloride was added to the generated solid.
2 g (5 mmol) was dried and stirred under a nitrogen atmosphere for 3 hours. After the reaction, the polymerization solution was poured into methanol to cover 1 tsubo of polymer. 18. m 1.82 g
(100%). Intrinsic viscosity 0.75 (0.5 in sulfuric acid
9/dl- measured at 30°C).

熱重量測定法による10%重(j減少(温度、417℃
熱機絨測定法によるガラス転移温度、318°C生成し
たポリマーの溶解性は表1に示す。
10% weight loss (temperature, 417°C) by thermogravimetry
Table 1 shows the glass transition temperature of 318° C. and the solubility of the produced polymer as determined by thermomechanical cell measurement.

実施例6 3.5−ジアミノヨードベンゼン1.+79(5mmo
f>を10m1のN、N−ジメチルアセトアミドに溶解
し、ドライアイス−アセトン浴上で完全に凍結した。生
成した固体に2.6−ナフタレンジカルホ> 酸’y 
口’)ド1,27 g (5mmol)を加え、O′C
1窒素雰囲気下3時間かくはんした。反l;i5後、重
合溶液を水に投入しポリマーを(qた。収ψ2,03 
Example 6 3.5-Diaminoiodobenzene 1. +79 (5 mmo
f> was dissolved in 10 ml of N,N-dimethylacetamide and completely frozen on a dry ice-acetone bath. 2.6-naphthalene dicarpho>acid'y in the generated solid
Add 1.27 g (5 mmol) of O'C
1. The mixture was stirred for 3 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction l; i5, the polymerization solution was poured into water and the polymer was (q. Yield ψ2,03
.

(98%)。固有粘度0.47  (硫酸中0.59/
dLの濃度、30℃で測定〉。
(98%). Intrinsic viscosity 0.47 (0.59/in sulfuric acid)
dL concentration, measured at 30°C>.

熱重量11111定法による10%重量減少温度、44
4°C生成したポリマーの溶解性は表1に示づ。
Thermogravimetric 11111 10% weight loss temperature by standard method, 44
The solubility of the polymer produced at 4°C is shown in Table 1.

表   1 NMP:N−メチル−2−ピロリドン DMAc  :N、N−ジメチルアセトアミドDMF:
N、N−ジメチルホルムアミドDMSOニジメチルスル
ホキシド (発明の効渠) 本光明は前記一般式■で表されるポリアミド樹脂及びこ
のポリアミド樹脂の有利な製造方法を促供する。本発明
のポリアミド樹脂は、従来の芳香族ポリアミド樹脂が、
有機溶媒に不溶であり、熱的に不融であり、成形性に問
題を残していたのに対し、各種有機溶媒に可溶であって
溶液成形が可能であるとともに、加熱成形可能なエンジ
ニアリングプラスチックとして工業的価値が高い。
Table 1 NMP: N-methyl-2-pyrrolidone DMAc: N,N-dimethylacetamide DMF:
N,N-dimethylformamide DMSO dimethyl sulfoxide (Effects of the Invention) The present invention provides a polyamide resin represented by the general formula (1) and an advantageous method for producing the polyamide resin. The polyamide resin of the present invention is different from the conventional aromatic polyamide resin.
Engineering plastics that are insoluble in organic solvents and thermally infusible, leaving problems with moldability, are soluble in various organic solvents and can be solution molded, as well as heat moldable. It has high industrial value.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは1種又は2種以上の二価の芳香族基、Ar
はArが1種の場合は1−ヨード−3,5−フェニレン
基、Arが2種以上の場合はその中の1種として1−ヨ
ード−3,5−フェニレン基、他の種として二価の芳香
族基を示し、nは10〜200の整数である) で表されるポリアミド樹脂。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは1種又は2種以上の二価の芳香族基、Ar
はArが1種の場合は1−ヨード−3,5−フェニレン
基、Arが2種以上の場合はその中の1種として1−ヨ
ード−3,5−フェニレン基、他の種として二価の芳香
族基を示し、nは10〜200の整数である)で表され
るポリアミド樹脂を製造するにあたり、一般式 H_2N−Ar−NH_2 (式中、ArはArが1種の場合は1−ヨード−3,5
−フェニレン基、Arが2種以上の場合はその中の1種
として1−ヨード−3,5−フェニレン基、他の種とし
て二価の芳香族基を示す) で表されるジアミンの1種又は2種以上と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは二価の芳香族基を示す) で表されるジカルボン酸の1種又は2種以上とを芳香族
亜リン酸エステルとピリジン誘導体の存在下、有機溶媒
中で反応させることを特徴とするポリアミド樹脂の製造
方法。
[Claims] 1. General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R is one or more divalent aromatic groups, Ar
is a 1-iodo-3,5-phenylene group when there is one type of Ar, and a 1-iodo-3,5-phenylene group when there are two or more types of Ar, and a divalent group as the other type. (n is an integer of 10 to 200) A polyamide resin represented by: 2. General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R is one or more divalent aromatic groups, Ar
is a 1-iodo-3,5-phenylene group when there is one type of Ar, and a 1-iodo-3,5-phenylene group when there are two or more types of Ar, and a divalent group as the other type. is an aromatic group, and n is an integer of 10 to 200. Iodine-3,5
- phenylene group, if there are two or more types of Ar, one type of diamine is a 1-iodo-3,5-phenylene group, and the other type is a divalent aromatic group) or two or more types, and one or more dicarboxylic acids represented by the general formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R represents a divalent aromatic group) A method for producing a polyamide resin, which comprises reacting in an organic solvent in the presence of a phosphite and a pyridine derivative.
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