JPS6210522B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6210522B2 JPS6210522B2 JP16754379A JP16754379A JPS6210522B2 JP S6210522 B2 JPS6210522 B2 JP S6210522B2 JP 16754379 A JP16754379 A JP 16754379A JP 16754379 A JP16754379 A JP 16754379A JP S6210522 B2 JPS6210522 B2 JP S6210522B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- meth
- ester
- weight
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 47
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 46
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 46
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 30
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 claims description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 7
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- -1 saturated cyclic carboxylic acid anhydride Chemical class 0.000 description 15
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 6
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 5
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical class C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propoxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEXBEKLLSUWSIM-UHFFFAOYSA-N 2-Butyl-4-methylphenol Chemical group CCCCC1=CC(C)=CC=C1O FEXBEKLLSUWSIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- MHIBEGOZTWERHF-UHFFFAOYSA-N heptane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCC(O)O MHIBEGOZTWERHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(CC)CC NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
この発明は、ビスフエノール系の液状エポキシ
樹脂が、芳香族多価カルボン酸の半エステル化合
物と酸性リン酸エステルとによつて付加された特
殊な官能基を有する変性エポキシ樹脂をベースポ
リマーとして含有する光硬化性組成物に係るもの
である。この発明の光硬化性組成物は、光硬化速
度が速く、光硬化後の光硬化物の種々の物性(例
えば、鉛筆硬度、耐屈曲性、密着性・接着性な
ど)が高い水準にあると共に、耐熱性(半田耐熱
性)および電気絶縁性が優れており、コーテイン
グ用、電気部品材料用として使用することができ
るものである。
特公昭49−14128号公報には、ヒドロキシ基含
有ビニル単量体と飽和環状カルボン酸無水物とを
エステル化反応させて得られる化合物(半エステ
ル化合物)を、エポキシ樹脂に反応させて得られ
た両末端にビニル基を有する変性エポキシ樹脂を
ベースポリマーとする光硬化性組成物について記
載されている。しかし、前記の変性エポキシ樹脂
を主体とする公知の光硬化性組成物は、その光硬
化膜において、金属(アルミ、ブリキ、銅)、合
成樹脂などの表面に対する密着性が充分に満足す
べきものではなかつた。
この発明者らは、光硬化膜において、密着性
(接着性)が、合成樹脂、アルミ、ブリキ、銅な
どのいずれの表面に対しても充分に高くなるよう
な変性エポキシ樹脂を主体とする光硬化性組成物
について鋭意研究した結果、この発明の特殊な変
性エポキシ樹脂を主体とする光硬化性組成物に到
達した。
すなわち、この発明は、ビスフエノール系の液
状エポキシ樹脂の全エポキシ基の約25〜65%が、
芳香族多価カルボン酸類とヒドロキシ基含有(メ
タ)アクリレートとのエステル化反応で得られた
半エステル化合物によつて付加されていると共
に、前記エポキシ樹脂の残余のエポキシ基の80%
以上が、(メタ)アクリロイル基を有する酸性リ
ン酸エステルによつて付加されている変性エポキ
シ樹脂をベースポリマーとして含有する光硬化性
組成物に関するものである。
ここで、エポキシ樹脂のエポキシ基が、半エス
テル化合物または酸性リン酸エステルによつて付
加されているというのは、一般に、エポキシ樹脂
のエポキシ環が、各化合物の酸性基によつて開環
され、開環と同時に、各化合物とエステル結合さ
れることによつて、エポキシ樹脂と前記化合物と
が一体に結合されていることを意味するのであ
る。
したがつて、この発明の変性エポキシ樹脂は、
半エステル化合物の付加による官能基と、酸性リ
ン酸エステルの付加による官能基とを、いずれも
有している特殊なエポキシ樹脂の変性物である。
この発明の光硬化性組成物は、変性エポキシ樹
脂の特殊な官能基の作用で、非常に優れた密着性
(接着性)を有する光硬化膜となると共に、その
光硬化における光硬化速度(ベルトスピートで示
す)が極めて速く、また、前記光硬化膜が、高い
物性値(鉛筆硬度、耐屈曲性など)を示すのであ
る。
さらに、この光硬化性組成物は、光硬化によつ
て、半田耐熱性が高く、しかも電気絶縁性の優れ
た光硬化物となるのである。
一般に、特開昭48−12889号公報に示されてい
るように、エポキシ基を有する化合物(エポキシ
樹脂)と共に酸性リン酸エステルを使用した光硬
化性組成物が、電気絶縁性よりも、むしろ電導性
を有する光硬化物となることが知られていたのに
対して、この発明の光硬化性組成物が、酸性リン
酸エステルで部分的に変性されているエポキシ樹
脂を主成分としているにもかかわらず、その光硬
化物の電気絶縁性(体積抵抗率)が優れているこ
とは、予想外のことであり、この発明の特長であ
る。
この発明において、変性エポキシ樹脂は、ビス
フエノール系の液状エポキシ樹脂の全エポキシ基
の約25〜65%、好ましくは30〜60%が、芳香族多
価カルボン酸とヒドロキシ基含有(メタ)アクリ
レートとのエステル化反応で得られた半エステル
化合物によつて付加されていると共に、前記エポ
キシ樹脂の残余のエポキシ基の80%以上、好まし
くは90%以上が、(メタ)アクリロイル基を有す
る酸性リン酸エステルによつて付加されているも
のである。
前記の変性エポキシ樹脂の原料であるビスフエ
ノール系の液状エポキシ樹脂とは、ビスフエノー
ル化合物〔例えば、2・2−ビス(4′−ヒドロキ
シフエニル)プロパン、ビス(4′−ヒドロキシフ
エニル)メタン、あるいはそれらのハロゲン化物
など〕と、エピクロルヒドリンとから得られるエ
ポキシ基を有する化合物の液状樹脂であつて、回
転粘度(25℃)が90〜50000センチポアズ、特に
100〜20000センチポアズ程度であつて、そのエポ
キシ当量が140〜250、特に、150〜220程度である
ものであればよい。
前記の液状エポキシ樹脂に付加される半エステ
ル化合物は、芳香族多価カルボン酸類の酸無水基
またはカルボキシ基が、ヒドロキシ基含有(メ
タ)アクリレートによつてエステル化されて製造
されたものであり、その半エステル化合物の1分
子中に、少なくとも1個のカルボキシ基を有する
と共に、少なくとも1個の(メタ)アクリロイル
基を有する化合物であつて、特にその半エステル
化合物の分子量が、1000以下、さらに500以下で
あるものが好適である。
その半エステル化合物は、例えば、オルソ、メ
タたはパラ−フタル酸、トリメリツト酸、ピロメ
リツト酸、2・3・3′・4′−ビフエニルテトラカ
ルボン酸、3・3′・4・4′−ビフエニルテトラカ
ルボン酸、3・3′・4・4′−ベンゾフエノンテト
ラカルボン酸、あるいはそれらの酸無水物などの
芳香族多価カルボン酸類と、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレートなどのヒドロ
キシ基含有アクリレートまたはメタアクリレート
とを、公知の半エステル化反応条件で反応させて
得られたものであればよい。
前述のエポキシ樹脂の全エポキシ基の約25〜65
%を、前記半エステル化合物によつて開環してエ
ステル化するには、前述の液状エポキシ樹脂と半
エステル化合物とを、トリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウ
ムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロラ
イド、メチルトリエチルアンモニウムアイオダイ
ドなどの有機第4級アンモニウム塩のようなエス
テル化触媒の存在下に、無溶媒または有機溶媒
中、60〜100℃、特に70〜90℃で、5〜10時間反
応させればよいのである。前記反応方法におい
て、液状エポキシ樹脂と半エステル化合物との使
用割合は、液状エポキシ樹脂100重量部に対し
て、半エステル化合物が80〜300重量部程度とな
るような割合が好ましい。
前記の液状エポキシ樹脂に付加される(メタ)
アクリロイル基を有する酸性リン酸エステルと
は、(メタ)アクリロイル基を末端に少なくとも
1個、特に1〜3個有すると共に、リン原子に直
接結合した水酸基(酸性基)を少なくとも1個、
特に1〜2個有する酸性リン酸エステルであり、
例えば、一般式
〔ただし、前記一般式において、Rは水素または
メチル基であり、Aはジオール化合物またはその
他の多価アルコール化合物の前式のエステル結合
に用いられた水酸基を除いた残基であり、さらに
添字xは1〜3であり、nは1〜2である。〕で
示される酸性リン酸エステルを好適に挙げること
ができる。
その酸性リン酸エステルは、前述のようなリン
酸エステルを製造することができれば、公知のど
のような方法で製造されたものであつてもよい。
前記一般式で示される酸性リン酸エステルの製
造方法としては、例えば、ヒドロキシ基を有する
(メタ)アクリレート化合物を、塩化ホスホリル
(POCl3)、リン酸、五酸化リンなどと反応させる
ことによつて製造する方法を挙げることができ
る。前記製造方法に使用するヒドロキシ基を有す
る(メタ)アクリレートとしては、前述の半エス
テル化合物を製造する際に使用したと同様のヒド
ロキシ基含有(メタ)アクリレートを挙げること
ができる。
液状エポキシ樹脂のエポキシ基に、酸性リン酸
エステルによつて付加するには、例えば、液状エ
ポキシ樹脂と酸性リン酸エステルとを、無溶媒た
は有機溶媒中、約5〜80℃、特に10〜50℃の反応
温度で、約0.1時間以上、特に0.5〜5時間程度撹
拌して反応させればよい。
変性エポキシ樹脂の製造において、液状エポキ
シ樹脂に、半エステル化合物および酸性リン酸エ
ステルを、付加反応させる際の順序は、どちらの
化合物を先に付加反応させてもよく、あるいは両
者を同時に付加反応させることもできるが、特
に、酸性リン酸エステルが高温において不安定で
あり、エポキシ樹脂に対する反応性が半エステル
化合物よりはるかに高いので、まず、最初に、エ
ポキシ樹脂に半エステル化合物を付加反応させ、
次いでその中間反応物に酸性リン酸エステルを付
加反応させる変性エポキシ樹脂の製造方法が、好
適である。前述の方法によれば、液状エポキシ樹
脂のエポキシ基は、ほとんど完全に、半エステル
化合物および酸性リン酸エステルによつて、付加
されるので、得られる変性エポキシ樹脂の残存エ
ポキシ基がほとんどなくなつてしまい、その変性
エポキシ樹脂の貯蔵安定性が優れたものが得られ
る。
なお、この発明では、この変性エポキシ樹脂
は、前述の半エステル化合物および酸性リン酸エ
ステルの付加によつて結合した各官能基を有して
いるほかに、その他の酸性化合物(例えば、リン
酸、酸性リン酸アルキルエステル、亜リン酸、酸
性亜リン酸エステルなどのリン化合物、または塩
酸、硝酸などの無機酸、酢酸、プロピオン酸、マ
レイン酸、フマル酸、フタル酸、ピロメリツト
酸、ビフエニルテトラカルボン酸などの有機酸な
ど)が、(変性)エポキシ樹脂のエポキシ基に一
部付加して結合した官能基または置換基を有する
ものであつてもよい。
この発明において、光硬化性組成物は、前述の
変性エポキシ樹脂をベースポリマーとするもので
あつて、その変性エポキシ樹脂のほかに、公知の
光硬化性組成物に配合される光重合性単量体、光
増感剤、その他添加剤が、配合されていてもよ
い。
この発明では、前述の変性エポキシ樹脂100重
量部、光重合性単量体30〜800重量部、特に50〜
700重量部、および、光増感剤、0.5〜15重量部、
特に0.5〜10重量部を含有している光硬化性組成
物が好ましい。
前記の光重合性単量体としては、光重合性を有
する不飽和結合を有する化合物であれば、どのよ
うな化合物であつてもよく、この発明では特に、
アクリル酸またはメタクリル酸から得られた(メ
タ)アクリレート化合物が好ましい。その(メ
タ)アクリレート系の光重合性単量体としては、
例えば、グリコール化合物(その縮合物を含
む)、有機ジオール(ブタンジオール、ヘプタン
ジオール、ヘキサンジオールなど)、または多価
アルコール、あるいはそれらと有機多価カルボン
酸とのオリゴエステルが、(メタ)アクリル酸と
エステル化反応されて得られる各種の(メタ)ア
クリレート化合物、および、酢酸、プロピオン
酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、ピロメリ
ツト酸、ビフエニルテトラカルボン酸などの有機
酸、または、リン酸、亜リン酸、硝酸などの無機
酸が、ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートと
エステル化反応されて得られる各種の(メタ)ア
クリレート化合物を、好適に挙げることができ
る。したがつて、この発明では、変性エポキシ樹
脂の製造に使用する半エステル化合物および酸性
リン酸エステル、さらに、半エステル化合物およ
び酸性リン酸エステルの製造に使用するヒドロキ
シ基含有(メタ)アクリレートは、いずれも、
(メタ)アクリロイル基を有しており、前記光重
合性単量体として、好適に使用できるのである。
前記、光重合性単量体としては、前記各化合物
のほかに、例えば、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポ
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1・3−ブチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1・6−ヘキサンジオールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレートなどを、好適に挙げることがで
きる。
前記の光増感剤としては、例えば、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインプロピルエーテル、ベンゾインブチルエ
ーテル、ベンゾイン、α−メチルベンゾイン、α
−クロルジオキシベンゾイン、ベンゾフエノン、
ジメトキシフエニルアセトフエノン、ベンジルな
どを挙げることができる。
この発明の光硬化性組成物には、熱重合性安定
剤として、ハイドロキノン、2・6−ジ第3級ブ
チルパラクレゾール、パラベンゾキノンなどを、
全光硬化性組成物に対して5重量%以下、特に3
重量%以下の使用量で使用することが好ましい。
この発明の光硬化性組成物を調製する方法(各
成分の配合方法)としては、特に限定されるもの
ではない。
この発明では、前述の変性エポキシ樹脂の製造
の際に、反応溶媒として、エステル化反応に不活
性な光重合性単量体を使用すれば、その付加反応
後に、変性エポキシ樹脂と光重合性単量体との混
合物が反応液として得られるので、その反応液
に、光増感剤のみを配合するか、または光増感剤
と追加の光重合性単量体とを配合することによつ
て光硬化性組成物を調製したものが、好適であ
る。
この発明の光硬化性組成物は、無色の透明な液
状物であり、回転粘度(25℃)が、100〜50000セ
ンチポアズ、特に150〜10000センチポアズ程度で
あることが好ましい。
この発明の光硬化性組成物は、改質剤として、
高級脂肪酸アミド、ワツクス類を少量添加しても
よく、また、粘度調節剤として単量体、有機溶媒
などを少量添加してもよく、さらに無機顔料、有
機顔料を添加してもよい。
以下、実施例、比較例および参考例を示す。
実施例および比較例において、光硬化性組成物
の光硬化速度は、脱脂したアルミニウム板に光硬
化性組成物を約10μの厚さに塗布したものを、長
さ25cmの2KWの高圧水銀灯(岩崎電気株式会社
製)の垂直下9cmに水平に移動するベルトを設け
た紫外線照射器のベルト上にのせて、ベルトを所
定の速度で走らせて光硬化性組成物塗膜を光硬化
し、光硬化後の組成物塗膜表面に指を押しあてた
後、塗膜表面の指紋やくもりを観察し、塗膜表面
に指紋やくもりが生じないときのベルトの最大送
り速度(m/min)で示した。
光硬化塗膜の密着性(接着性)は、光硬化速度
を測定したと同じ条件で光硬化して得られたアル
ミニウム、ブリキ、または銅板あるいはアルキツ
ド樹脂板上の光硬化塗膜に、縦横各2mm幅の直線
の切れ目を入れて100個のゴバン目をつくり、セ
ロテープ(登録商標)を張付け、ついでテープを
引きはがして、アルミニウム、ブリキ、銅板また
はアルキツド樹脂板上に残つたゴバン目の数で示
した。
光硬化塗膜の耐煮沸性(煮沸後の密着性)は、
アルミニウム、ブリキまたはアルキツド樹脂板上
に、各光硬化性組成物を約30μの厚さで塗布し、
ベルト送り速度1m/minで3回光硬化させて得
た光硬化塗膜を、100℃の熱水に1時間浸漬した
後、前述の密着性試験と同様にして、残存ゴバン
目の数で示した。
光硬化塗膜の鉛筆硬度は、光硬化速度を測定し
たと同じ条件で光硬化した光硬化膜を用いて、
JIS−K5400−6.14に従つて測定した。
光硬化塗膜の耐屈曲性は、JIS−K5400に規定
された鉄板上に、光硬化性組成物を約30μの厚さ
に塗布し、ベルト送り速度1mg/minで3回光硬
化させて得られた試料を使用して、JIS−K5400
−6.13に従つて測定した。
半田耐熱性は、溶融した270℃の半田に、光硬
化膜を被覆した銅板を、30秒間浸漬し、塗膜の状
態を観察して、判断した。
体積抵抗率は、タケダ理研株式会社製の微小電
流電位差計を使用し、厚さ1mm、直径100mmの試
料(光硬化物)で測定した。
参考例 1〜5
(半エステル化合物の製造)
2−ヒドロキシエチルアクリレート(以下、2
−HEAという)116重量部と無水フタル酸98.8重
量部とを、2・6−第3級ブチル−パラクレゾー
ル0.3重量部の存在下で95℃で8時間反応させ
て、カルボキシ基を1個有しアクリロイル基を1
個有する半エステル化合物82.0重量%含有し、2
−HEA(未反応)を18.0重量%含有している反
応液を得た。前記のエステル化反応は、無水フタ
ル酸の酸無水環の赤外線吸収スペクトルの吸収ピ
ーク(1850cm-1および1770cm-1)の消失によつ
て、終了したことを認めた。
(変性エポキシ樹脂の製造)
ビスフエノールA型のエポキシ樹脂(シエル社
製、エピコート828、エポキシ当量190、分子量約
380)190重量部に、前述のようにして製造した半
エステル化合物を含有する反応液322重量部(た
だし、半エステル含有率82重量%、2−HEA含
有率18重量%)、および、2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート(以下、2−HPAという)128重
量部を添加した混合液を調製し、その混合液に、
触媒としてトリエチルベンジルアンモニウムクロ
リド1.9重量部および熱重合安定剤として2・6
−第3級ブチル−パラクレゾール0.6重量部を添
加し、全混合液によつて、85℃で、第1表に示す
時間、付加反応させて、第1表に示すような割合
でエポキシ樹脂のエポキシ基が半エステル化合物
で付加されている中間生成物を含有する反応液
()を得た。
次いで、その反応液()に第1表に示す量の
酸性リン酸エチレンアクリレートエステル(日本
化薬株式会社製、酸価:322.5)を添加して、約
30〜50℃で約1時間撹拌して、中間生成物の残存
エポキシ基が酸性リン酸エステルで付加されてい
る変性エポキシ樹脂を含有する反応液()を得
た。
前述の反応液()の組成、および反応液
()の変性エポキシ樹脂の含有量とその反応液
()の回転粘度(25℃)とを、第1表に示す。
なお、反応液()には、変性エポキシ樹脂の
ほかに、反応液()中に存在する半エステル化
合物、2−HEAおよび2−HPEがそのまま実質
的に同量含有されており、未反応の酸性リン酸エ
ステルが実質的に含有されていなかつた。
参考例 6
(半エステル化合物の製造)
前述の参考例1とまつたく同様にして半エステ
ル化合物を82重量%および2−HEA12重量%含
有する反応液を得た。
(変性エポキシ樹脂の製造)
参考例1と同様のビスフエノールA型のエポキ
シ樹脂174.4重量部に、前述のようにして製造し
た半エステル化合物を含有する反応液298重量
部、およびオリゴエステルジアクリレート(東亜
合成株式会社製、アロニツクス6100)200重量部
を添加した混合液を調製し、その混合液に、触媒
としてトリエチルベンジルアンモニウムクロリド
1.8重量部および熱重合安定剤として2・6−第
3級ブチル−パラクレゾール1.5重量部を添加
し、その全混合液によつて、90℃で約20時間、付
加反応させて、第1表に示すような割合でエポキ
シ樹脂のエポキシ基が半エステル化合物で付加さ
れている中間生成物を含有する反応液()を得
た。
次いで、その反応液()に第1表に示す量の
酸性リン酸エチレンアクリレートエステル(日本
化薬株式会社製、カヤマ−PM2、酸価:285)お
よびオリゴエステルジアクリレート(東亜合成株
式会社製、アロニツクス6100)294重量部を添加
して、約30〜50℃で約2時間撹拌して、中間生成
物の残在エポキシ基が酸性リン酸エステルで付加
されている変性エポキシ樹脂を含有する反応液
()を得た。
前述の反応液()の組成、および反応液
()の変性エポキシ樹脂の含有量とその反応液
()の回転粘度(25℃)とを、第1表に示す。
なお、反応液()には、未反応の酸性リン酸
エステルが実質的に含有されていなかつた。
In this invention, a bisphenol-based liquid epoxy resin contains, as a base polymer, a modified epoxy resin having a special functional group added by a half-ester compound of an aromatic polycarboxylic acid and an acidic phosphoric acid ester. This relates to a photocurable composition. The photocurable composition of the present invention has a fast photocuring speed, and various physical properties of the photocured product after photocuring (e.g., pencil hardness, bending resistance, adhesion/adhesiveness, etc.) are at a high level. It has excellent heat resistance (soldering heat resistance) and electrical insulation, and can be used for coatings and electrical component materials. Japanese Patent Publication No. 49-14128 discloses that a compound obtained by esterifying a hydroxy group-containing vinyl monomer and a saturated cyclic carboxylic acid anhydride (half-ester compound) is reacted with an epoxy resin. A photocurable composition whose base polymer is a modified epoxy resin having vinyl groups at both ends is described. However, the known photocurable compositions containing the above-mentioned modified epoxy resins do not have sufficiently satisfactory adhesion to the surfaces of metals (aluminum, tinplate, copper), synthetic resins, etc. in their photocured films. Nakatsuta. The inventors developed a photocurable film based on a modified epoxy resin that has sufficiently high adhesion (adhesiveness) to any surface such as synthetic resin, aluminum, tinplate, copper, etc. As a result of intensive research into curable compositions, we have arrived at a photocurable composition mainly composed of the special modified epoxy resin of this invention. That is, in this invention, about 25 to 65% of the total epoxy groups in the bisphenol-based liquid epoxy resin are
It is added by a half-ester compound obtained by the esterification reaction of aromatic polyhydric carboxylic acids and hydroxy group-containing (meth)acrylate, and 80% of the remaining epoxy groups in the epoxy resin are added.
The above relates to a photocurable composition containing, as a base polymer, a modified epoxy resin added with an acidic phosphoric acid ester having a (meth)acryloyl group. Here, the fact that the epoxy group of the epoxy resin is added with a half-ester compound or an acidic phosphate ester means that the epoxy ring of the epoxy resin is generally opened by the acidic group of each compound, This means that the epoxy resin and the compound are bonded together by forming an ester bond with each compound at the same time as ring opening. Therefore, the modified epoxy resin of this invention is
It is a modified product of a special epoxy resin that has both a functional group created by the addition of a half-ester compound and a functional group created by the addition of an acidic phosphoric acid ester. The photocurable composition of the present invention becomes a photocurable film with extremely excellent adhesion (adhesiveness) due to the action of the special functional group of the modified epoxy resin, and the photocuring speed (belt The photocured film exhibits high physical properties (pencil hardness, bending resistance, etc.). Further, by photocuring, this photocurable composition becomes a photocured product with high solder heat resistance and excellent electrical insulation properties. Generally, as shown in JP-A No. 48-12889, a photocurable composition using an acidic phosphate ester together with a compound having an epoxy group (epoxy resin) has an electrically conductive property rather than an electrically insulating property. Although it was known that the photocurable composition of the present invention is a photocurable product that has properties as a main component, it is Regardless, it is unexpected that the photocured product has excellent electrical insulation properties (volume resistivity), and is a feature of the present invention. In this invention, in the modified epoxy resin, about 25 to 65%, preferably 30 to 60%, of the total epoxy groups in the bisphenol-based liquid epoxy resin are aromatic polyhydric carboxylic acids and hydroxy group-containing (meth)acrylates. 80% or more, preferably 90% or more of the remaining epoxy groups of the epoxy resin have a (meth)acryloyl group. It is added by an ester. The bisphenol-based liquid epoxy resin, which is a raw material for the above-mentioned modified epoxy resin, is a bisphenol compound [for example, 2,2-bis(4'-hydroxyphenyl)propane, bis(4'-hydroxyphenyl)methane] , or their halides) and epichlorohydrin, and has a rotational viscosity (at 25°C) of 90 to 50,000 centipoise, especially
It may be about 100 to 20,000 centipoise and its epoxy equivalent is about 140 to 250, particularly about 150 to 220. The half-ester compound added to the liquid epoxy resin is produced by esterifying the acid anhydride group or carboxyl group of aromatic polyvalent carboxylic acids with a hydroxy group-containing (meth)acrylate, A compound having at least one carboxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule of the half-ester compound, in particular, the molecular weight of the half-ester compound is 1000 or less, more preferably 500 The following are preferred. The half-ester compounds are, for example, ortho-, meta- or para-phthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3',4,4'- Aromatic polycarboxylic acids such as biphenyltetracarboxylic acid, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, or their acid anhydrides, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2- Hydroxy group-containing acrylate or methacrylate such as hydroxypropyl (meth)acrylate, diethylene glycol mono(meth)acrylate, dipropylene glycol mono(meth)acrylate, and triethylene glycol mono(meth)acrylate under known half-esterification reaction conditions. Any product obtained by reaction may be used. Approximately 25 to 65 of the total epoxy groups in the aforementioned epoxy resin
% with the half-ester compound, the liquid epoxy resin and the half-ester compound are mixed with triethylbenzylammonium chloride, methyltriethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, methyltriethylammonium iodine. The reaction can be carried out for 5 to 10 hours at 60 to 100°C, especially 70 to 90°C, in the presence of an esterification catalyst such as an organic quaternary ammonium salt such as dide, without a solvent or in an organic solvent. . In the reaction method, the ratio of the liquid epoxy resin and the half-ester compound used is preferably such that the half-ester compound is used in an amount of about 80 to 300 parts by weight per 100 parts by weight of the liquid epoxy resin. Added to the above liquid epoxy resin (meth)
An acidic phosphoric acid ester having an acryloyl group is defined as having at least one (meth)acryloyl group at the end, especially 1 to 3, and at least one hydroxyl group (acidic group) directly bonded to a phosphorus atom.
In particular, it is an acidic phosphoric acid ester having 1 to 2 esters,
For example, the general formula [However, in the above general formula, R is hydrogen or a methyl group, A is a residue other than the hydroxyl group used in the ester bond in the previous formula of a diol compound or other polyhydric alcohol compound, and further the subscript x is 1-3, and n is 1-2. Acidic phosphoric acid esters shown by ] can be preferably mentioned. The acidic phosphoric acid ester may be produced by any known method as long as the above-mentioned phosphoric ester can be produced. As a method for producing the acidic phosphoric acid ester represented by the above general formula, for example, by reacting a (meth)acrylate compound having a hydroxy group with phosphoryl chloride (POCl 3 ), phosphoric acid, phosphorus pentoxide, etc. The manufacturing method can be mentioned. As the (meth)acrylate having a hydroxy group used in the above production method, the same hydroxy group-containing (meth)acrylate as used in producing the above-mentioned half-ester compound can be mentioned. In order to add an acidic phosphoric ester to the epoxy group of a liquid epoxy resin, for example, the liquid epoxy resin and the acidic phosphoric ester are heated at about 5 to 80°C, especially at 10 to 80°C, without a solvent or in an organic solvent. The reaction may be carried out with stirring at a reaction temperature of 50° C. for about 0.1 hour or more, particularly about 0.5 to 5 hours. In the production of modified epoxy resin, the order in which a half-ester compound and an acidic phosphoric acid ester are added to a liquid epoxy resin may be such that either compound may be added first, or both may be subjected to an addition reaction at the same time. However, in particular, acidic phosphoric acid esters are unstable at high temperatures and have much higher reactivity with epoxy resins than half-ester compounds, so first, add the half-ester compound to the epoxy resin,
A method for producing a modified epoxy resin in which the intermediate reaction product is then subjected to an addition reaction with an acidic phosphoric acid ester is suitable. According to the above-mentioned method, the epoxy groups of the liquid epoxy resin are almost completely added by the half-ester compound and the acidic phosphoric acid ester, so that the resulting modified epoxy resin has almost no remaining epoxy groups. As a result, a modified epoxy resin with excellent storage stability can be obtained. In addition, in this invention, this modified epoxy resin has each functional group bonded by addition of the aforementioned half-ester compound and acidic phosphoric acid ester, and also has other acidic compounds (for example, phosphoric acid, Phosphorus compounds such as acidic phosphoric acid alkyl esters, phosphorous acid, and acidic phosphite esters, or inorganic acids such as hydrochloric acid and nitric acid, acetic acid, propionic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, pyromellitic acid, and biphenyltetracarboxylic acid. organic acids such as acids) may have a functional group or substituent partially added to and bonded to the epoxy group of the (modified) epoxy resin. In this invention, the photocurable composition has the above-mentioned modified epoxy resin as a base polymer, and in addition to the modified epoxy resin, a photopolymerizable monomer blended in a known photocurable composition is used. A photosensitizer, a photosensitizer, and other additives may be included. In this invention, 100 parts by weight of the above-mentioned modified epoxy resin, 30 to 800 parts by weight of the photopolymerizable monomer, especially 50 to 800 parts by weight,
700 parts by weight, and photosensitizer, 0.5 to 15 parts by weight,
In particular, a photocurable composition containing 0.5 to 10 parts by weight is preferred. The photopolymerizable monomer may be any compound as long as it has a photopolymerizable unsaturated bond, and in this invention, in particular,
(Meth)acrylate compounds obtained from acrylic acid or methacrylic acid are preferred. The (meth)acrylate photopolymerizable monomer is
For example, glycol compounds (including their condensates), organic diols (butanediol, heptanediol, hexanediol, etc.), polyhydric alcohols, or oligoesters of these and organic polycarboxylic acids are used to (meth)acrylic acid Various (meth)acrylate compounds obtained by esterification reaction with organic acids such as acetic acid, propionic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, pyromellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or phosphoric acid, Preferred examples include various (meth)acrylate compounds obtained by esterifying inorganic acids such as phosphorous acid and nitric acid with hydroxy group-containing (meth)acrylates. Therefore, in this invention, the half-ester compound and acidic phosphate ester used in the production of the modified epoxy resin, and the hydroxy group-containing (meth)acrylate used in the production of the half-ester compound and the acidic phosphate ester, are too,
It has a (meth)acryloyl group and can be suitably used as the photopolymerizable monomer. In addition to the above-mentioned compounds, examples of the photopolymerizable monomer include 2-ethylhexyl (meth)
Acrylate, lauryl (meth)acrylate,
Ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate,
propylene glycol di(meth)acrylate,
Polypropylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate
Preferred examples include acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and the like. Examples of the photosensitizer include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin butyl ether, benzoin, α-methylbenzoin, α
- chlordioxybenzoin, benzophenone,
Examples include dimethoxyphenylacetophenone and benzyl. The photocurable composition of the present invention contains hydroquinone, 2,6-di-tertiary butylpara-cresol, parabenzoquinone, etc. as a thermally polymerizable stabilizer.
5% by weight or less, especially 3% by weight based on the total photocurable composition
It is preferable to use it in an amount of % by weight or less. The method for preparing the photocurable composition of the present invention (the method for blending each component) is not particularly limited. In this invention, when producing the above-mentioned modified epoxy resin, if a photopolymerizable monomer that is inactive in the esterification reaction is used as a reaction solvent, the modified epoxy resin and the photopolymerizable monomer can be combined with each other after the addition reaction. A mixture of the photosensitive monomer and the photopolymerizable monomer is obtained as a reaction solution. Preferably, a photocurable composition is prepared. The photocurable composition of the present invention is a colorless transparent liquid, and preferably has a rotational viscosity (at 25° C.) of about 100 to 50,000 centipoise, particularly about 150 to 10,000 centipoise. The photocurable composition of this invention has, as a modifier,
Small amounts of higher fatty acid amides and waxes may be added, monomers, organic solvents, etc. may be added as viscosity modifiers, and inorganic pigments and organic pigments may also be added. Examples, comparative examples, and reference examples are shown below. In the Examples and Comparative Examples, the photocuring speed of the photocurable composition was determined by applying the photocurable composition to a thickness of approximately 10μ on a degreased aluminum plate using a 2KW high-pressure mercury lamp (Iwasaki) with a length of 25cm. (manufactured by Denki Co., Ltd.) is placed on the belt of an ultraviolet irradiator equipped with a belt that moves horizontally 9 cm vertically downward, and the photocurable composition coating is photocured by running the belt at a predetermined speed. After pressing your finger against the surface of the coating film, observe the surface of the coating film for fingerprints or cloudiness, and indicate the belt's maximum feed speed (m/min) when no fingerprints or cloudiness occur on the coating surface. Ta. The adhesion (adhesiveness) of a photo-cured coating film is measured by applying a photo-cured coating film vertically and horizontally on an aluminum, tin plate, copper plate, or alkyd resin plate obtained by photo-curing under the same conditions as those used to measure the photo-curing speed. Make 100 goblets by making 2mm wide straight cuts, apply Sellotape (registered trademark), then peel off the tape and calculate the number of goblets remaining on the aluminum, tin, copper plate, or alkyd resin plate. Indicated. The boiling resistance (adhesion after boiling) of the photocured coating film is
Each photocurable composition is applied to a thickness of about 30μ on an aluminum, tinplate or alkyd resin plate,
The photocured coating film obtained by photocuring three times at a belt feed speed of 1 m/min was immersed in hot water at 100°C for 1 hour, and then the adhesion test was performed in the same manner as the adhesion test described above to determine the number of remaining goblets. Ta. The pencil hardness of the photo-cured coating film was determined using a photo-cured film that was photo-cured under the same conditions as those used to measure the photo-curing speed.
Measured according to JIS-K5400-6.14. The bending resistance of a photocurable coating film is obtained by applying a photocurable composition to a thickness of approximately 30 μm on an iron plate specified in JIS-K5400 and photocuring it three times at a belt feed rate of 1 mg/min. JIS-K5400 using the sample
- Measured in accordance with 6.13. Solder heat resistance was determined by immersing a copper plate coated with a photocured film in molten solder at 270°C for 30 seconds and observing the state of the coating film. The volume resistivity was measured using a microcurrent potentiometer manufactured by Takeda Riken Co., Ltd. on a sample (photocured product) with a thickness of 1 mm and a diameter of 100 mm. Reference Examples 1 to 5 (Production of half-ester compound) 2-hydroxyethyl acrylate (hereinafter referred to as 2
-HEA) and 98.8 parts by weight of phthalic anhydride were reacted at 95°C for 8 hours in the presence of 0.3 parts by weight of 2,6-tert-butyl-para-cresol to form a carboxyl group containing one carboxy group. and 1 acryloyl group
Contains 82.0% by weight of a half-ester compound with 2
-A reaction solution containing 18.0% by weight of HEA (unreacted) was obtained. The completion of the esterification reaction was confirmed by the disappearance of the absorption peaks (1850 cm -1 and 1770 cm -1 ) in the infrared absorption spectrum of the acid anhydride ring of phthalic anhydride. (Manufacture of modified epoxy resin) Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Ciel, Epicoat 828, epoxy equivalent 190, molecular weight approx.
380) 190 parts by weight, 322 parts by weight of a reaction solution containing the half-ester compound produced as described above (half-ester content: 82% by weight, 2-HEA content: 18% by weight), and 2- A mixed solution was prepared by adding 128 parts by weight of hydroxypropyl acrylate (hereinafter referred to as 2-HPA), and to the mixed solution,
1.9 parts by weight of triethylbenzylammonium chloride as a catalyst and 2.6 parts by weight as a thermal polymerization stabilizer
- Add 0.6 parts by weight of tertiary butyl-para-cresol and carry out an addition reaction with the entire mixture at 85°C for the time shown in Table 1 to form an epoxy resin in the proportions shown in Table 1. A reaction solution () containing an intermediate product in which an epoxy group was added with a half-ester compound was obtained. Next, acidic phosphoric acid ethylene acrylate ester (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., acid value: 322.5) in the amount shown in Table 1 was added to the reaction solution (2000) to give a
The mixture was stirred at 30 to 50°C for about 1 hour to obtain a reaction solution (2) containing a modified epoxy resin in which the remaining epoxy groups of the intermediate product were added with acidic phosphoric acid ester. Table 1 shows the composition of the aforementioned reaction solution (), the content of modified epoxy resin in the reaction solution (), and the rotational viscosity (25° C.) of the reaction solution (). In addition, in addition to the modified epoxy resin, the reaction solution () contains substantially the same amount of half-ester compounds, 2-HEA, and 2-HPE that are present in the reaction solution (), and contains unreacted epoxy resin. Substantially no acidic phosphoric acid ester was contained. Reference Example 6 (Production of half-ester compound) A reaction solution containing 82% by weight of a half-ester compound and 12% by weight of 2-HEA was obtained in the same manner as in Reference Example 1 above. (Production of modified epoxy resin) 174.4 parts by weight of the same bisphenol A type epoxy resin as in Reference Example 1, 298 parts by weight of a reaction solution containing the half-ester compound produced as described above, and oligoester diacrylate ( A mixed solution was prepared by adding 200 parts by weight of Aronix 6100 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and triethylbenzylammonium chloride was added as a catalyst to the mixed solution.
1.8 parts by weight and 1.5 parts by weight of 2,6-tert-butyl-para-cresol as a thermal polymerization stabilizer were added, and the entire mixture was subjected to an addition reaction at 90°C for about 20 hours. A reaction solution (2) was obtained containing an intermediate product in which the epoxy groups of the epoxy resin were added with a half-ester compound in the proportions shown in . Next, acidic phosphoric acid ethylene acrylate ester (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayama-PM 2 , acid value: 285) and oligoester diacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) were added to the reaction solution () in the amounts shown in Table 1. , Aronix 6100) and stirred at about 30 to 50°C for about 2 hours to form a reaction containing a modified epoxy resin in which the remaining epoxy groups of the intermediate product have been added with acidic phosphoric acid ester. A liquid () was obtained. Table 1 shows the composition of the aforementioned reaction solution (), the content of modified epoxy resin in the reaction solution (), and the rotational viscosity (25° C.) of the reaction solution (). Note that the reaction solution (2) contained substantially no unreacted acidic phosphoric acid ester.
【表】
実施例1〜3および比較例1〜2
参考例1〜5において製造した反応液()を
適当量使用し、その反応液()に、2−
HPA100重量部、ペンタエリスリトールトリアク
リレート(以下、PETAという)50重量部、およ
び光増感剤としてベンゾインエチルエーテル(全
光硬化性組成物に対して5重量%)をそれぞれ添
加して、第2表に示す組成および回転粘度(25
℃)の光硬化性組成物(コーテイング用)を調製
した。
それらの光硬化性組成物の光硬化速度(ベルト
送りスピード)、および光硬化化膜の各種材料
(アルキツト樹脂、アルミニウムおよびブリキ)
の板の表面に対する密着性と耐煮沸性とを第2表
に示す。
比較例 3
参考例3で製造された中間生成物を含有する反
応液()を適当量使用して、その反応液()
に、2−HPA100重量部、PETA50重量部、およ
び光増感剤としてベンゾインエチルエーテル(全
光硬化性組成物に対して5重量%)をそれぞれ添
加して、第2表に示す組成および回転粘度(25
℃)の光硬化性組成物を調製した。
その光硬化性組成物の光硬化速度、および光硬
化膜の密着性と耐煮沸性とを第2表に示す。
なお、第2表の光硬化性組成物の組成として、
光増感剤などについては記載しなかつた。[Table] Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2 An appropriate amount of the reaction solution () produced in Reference Examples 1 to 5 was used, and 2-
100 parts by weight of HPA, 50 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (hereinafter referred to as PETA), and benzoin ethyl ether (5% by weight based on the total photocurable composition) as a photosensitizer were added, and Table 2 The composition and rotational viscosity (25
A photocurable composition (for coating) was prepared. The photocuring speed (belt feeding speed) of those photocurable compositions, and the various materials of the photocurable film (archite resin, aluminum, and tinplate)
Table 2 shows the adhesion to the surface of the plate and the boiling resistance. Comparative Example 3 Using an appropriate amount of the reaction solution () containing the intermediate product produced in Reference Example 3, the reaction solution ()
100 parts by weight of 2-HPA, 50 parts by weight of PETA, and benzoin ethyl ether (5% by weight based on the total photocurable composition) as a photosensitizer were added to give the composition and rotational viscosity shown in Table 2. (twenty five
℃) was prepared. Table 2 shows the photocuring speed of the photocurable composition and the adhesion and boiling resistance of the photocured film. In addition, as the composition of the photocurable composition in Table 2,
Photosensitizers and the like were not described.
【表】
実施例4〜5および比較例4〜5
参考例1、3、5および6で製造された反応液
()を使用して、その各反応液に、光増感剤と
してベンゾインエチルエーテル(全光硬化性組成
物に対して 重量%)をそれぞれ添加して第3表
に示す組成および回転粘度(25℃)の光硬化性組
成物(電気部材用)を調製した。
それらの光硬化性組成物の光硬化速度(ベルト
送りスピード)、およびそれら光硬化性組成物の
光硬化試験結果(鉛筆強度、屈曲性、銅板密着
性、半田耐熱性および体積抵抗率)を第3表に示
す。
比較例 6
参考例3で製造された中間生成物を含有する反
応液()を適当量使用したほかは、実施例4と
同様に光増感剤を添加して、光硬化性組成物を調
製した。
その結果を第3表に示す。[Table] Examples 4 to 5 and Comparative Examples 4 to 5 Using the reaction solutions produced in Reference Examples 1, 3, 5, and 6, benzoin ethyl ether was added to each reaction solution as a photosensitizer. (% by weight based on the total photocurable composition) were added to prepare photocurable compositions (for electrical components) having the composition and rotational viscosity (25° C.) shown in Table 3. The photocuring speed (belt feeding speed) of these photocurable compositions and the photocuring test results (pencil strength, flexibility, copper plate adhesion, soldering heat resistance, and volume resistivity) of these photocurable compositions are It is shown in Table 3. Comparative Example 6 A photosensitizer was added in the same manner as in Example 4, except that an appropriate amount of the reaction solution () containing the intermediate product produced in Reference Example 3 was used, and a photocurable composition was prepared. did. The results are shown in Table 3.
Claims (1)
ポキシ基の約25〜65%が、芳香族多価カルボン酸
類とヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとの
エステル化反応で得られた半エステル化合物によ
つて付加されていると共に、前記エポキシ樹脂の
残余のエポキシ基の80%以上が、(メタ)アクリ
ロイル基を有する酸性リン酸エステルによつて付
加されている変性エポキシ樹脂をベースポリマー
として含有する光硬化性組成物。1 Approximately 25 to 65% of the total epoxy groups in a bisphenol-based liquid epoxy resin are added by a half-ester compound obtained by an esterification reaction between an aromatic polyhydric carboxylic acid and a hydroxy group-containing (meth)acrylate. A photocurable composition containing, as a base polymer, a modified epoxy resin in which 80% or more of the remaining epoxy groups of the epoxy resin are added by an acidic phosphoric acid ester having a (meth)acryloyl group. thing.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16754379A JPS5690802A (en) | 1979-12-25 | 1979-12-25 | Photocurable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16754379A JPS5690802A (en) | 1979-12-25 | 1979-12-25 | Photocurable composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5690802A JPS5690802A (en) | 1981-07-23 |
JPS6210522B2 true JPS6210522B2 (en) | 1987-03-06 |
Family
ID=15851649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16754379A Granted JPS5690802A (en) | 1979-12-25 | 1979-12-25 | Photocurable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5690802A (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62133425A (en) * | 1985-12-06 | 1987-06-16 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Composition of sealing material for liquid crystal cell |
-
1979
- 1979-12-25 JP JP16754379A patent/JPS5690802A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5690802A (en) | 1981-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001506693A (en) | Method for producing radiation-crosslinkable polymer acrylate or methacrylate | |
TW200951156A (en) | Carboxyl group-containing resin, curable composition containing carboxyl group-containing resin, and cured product of the composition | |
JPS6115081B2 (en) | ||
JPS5880313A (en) | Liquid polyester insulating resin composition | |
JPS6211006B2 (en) | ||
JPH083633B2 (en) | Photosensitive composition for heat-resistant film formation | |
JPS6036237B2 (en) | Method for producing reactive curable binder mixtures and cured articles | |
JPS6210522B2 (en) | ||
JPS6039283B2 (en) | Method for producing polybutadiene-modified unsaturated polyester | |
JPH1160540A (en) | Aromatic ester (meth)acrylate dendrimer and curable resin composition | |
JPH0239530B2 (en) | SHIGAISENKOKAGATAJUSHISOSEIBUTSU | |
JPH01123805A (en) | Photocurable resin composition | |
JPS62143940A (en) | Coating composition and production of synthetic resin molded article using same | |
JPS5910732B2 (en) | Heat-resistant photosensitive material | |
JP2003147072A (en) | (meth)acrylate compound, composition, cured product and method of producing (meth)acrylate compound | |
JPS5827760A (en) | Ultraviolet-curing ink composition for printed circuit | |
JPH0569816B2 (en) | ||
JP3006180B2 (en) | Photocurable moisture-proof insulating paint and method of manufacturing moisture-proof insulated electronic components | |
JPS5952649B2 (en) | photocurable composition | |
JP4427741B2 (en) | Resin composition, resin composition for electrical insulation, and method for producing electrical equipment insulator | |
JP5133559B2 (en) | Powder coating composition | |
JPH0334772B2 (en) | ||
JP5292683B2 (en) | Method for producing (meth) acrylate-modified epoxy resin | |
JPS6198725A (en) | Novel epoxy acrylate mixture and ultraviolet curable resin composition containing same | |
JPS58167567A (en) | Photopolymerizable imide monomer |