JPS6186930U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6186930U JPS6186930U JP17123684U JP17123684U JPS6186930U JP S6186930 U JPS6186930 U JP S6186930U JP 17123684 U JP17123684 U JP 17123684U JP 17123684 U JP17123684 U JP 17123684U JP S6186930 U JPS6186930 U JP S6186930U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- processing liquid
- substrate
- tip
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
図面は、本考案による基板の回収処理装置の縦
断側面図である。 １…ノズル、１ａ…ノズル先端部、２…基板、
３…回転体、４…回転手段、５…チヤンバー、６
…排気管、７…排液管、８…処理液回収箱、９…
回収容器、１０…回収された処理液、１１…エア
ーシリンダ、１２…ロツド、１３…ノズル受け、
Ａ…処理液供給位置、Ｂ…退行位置。
断側面図である。 １…ノズル、１ａ…ノズル先端部、２…基板、
３…回転体、４…回転手段、５…チヤンバー、６
…排気管、７…排液管、８…処理液回収箱、９…
回収容器、１０…回収された処理液、１１…エア
ーシリンダ、１２…ロツド、１３…ノズル受け、
Ａ…処理液供給位置、Ｂ…退行位置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ チヤンバー内にあつて基板を保持し回転させ
る回転体と、基板の表面に処理液を供給するノズ
ルと、ノズル先端部の処理液の変質を防止する手
段とを具備して成る基板の回転処理装置において
、 ノズル先端部の処理液の変質を防止する手段が
、チヤンバーの下方に設けられチヤンバーの排液
管より流下する処理液を回収する処理液回収箱と
、この処理液回収箱に連通しノズル退行位置でノ
ズル先端部に対向すべく配置されたノズル受けと
、処理液供給位置とノズル退行位置との間でノズ
ルを移動するノズル移動手段とによつて構成され
たことを特徴とする基板の回転処理装置。 ２ 処理液がフオトレジスト液である実用新案登
録請求の範囲第１項に記載した基板の回転処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984171236U JPH0132358Y2 (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984171236U JPH0132358Y2 (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186930U true JPS6186930U (ja) | 1986-06-07 |
| JPH0132358Y2 JPH0132358Y2 (ja) | 1989-10-03 |
Family
ID=30728932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984171236U Expired JPH0132358Y2 (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0132358Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0226668A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-29 | Hitachi Ltd | 塗布装置 |
| JPH02132444A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-05-21 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5632724A (en) * | 1979-08-24 | 1981-04-02 | Hitachi Ltd | Photoresist applying apparatus |
| US4281031A (en) * | 1979-07-25 | 1981-07-28 | Machine Technology, Inc. | Method and apparatus for processing workpieces |
| JPS57135066A (en) * | 1981-02-14 | 1982-08-20 | Tatsumo Kk | Rotary applying machine |
-
1984
- 1984-11-12 JP JP1984171236U patent/JPH0132358Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4281031A (en) * | 1979-07-25 | 1981-07-28 | Machine Technology, Inc. | Method and apparatus for processing workpieces |
| JPS5632724A (en) * | 1979-08-24 | 1981-04-02 | Hitachi Ltd | Photoresist applying apparatus |
| JPS57135066A (en) * | 1981-02-14 | 1982-08-20 | Tatsumo Kk | Rotary applying machine |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02132444A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-05-21 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
| JPH0226668A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-29 | Hitachi Ltd | 塗布装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0132358Y2 (ja) | 1989-10-03 |