JPS61801U - 気液接触装置 - Google Patents

気液接触装置

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JPS61801U
JPS61801U JP8528984U JP8528984U JPS61801U JP S61801 U JPS61801 U JP S61801U JP 8528984 U JP8528984 U JP 8528984U JP 8528984 U JP8528984 U JP 8528984U JP S61801 U JPS61801 U JP S61801U
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JP
Japan
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gas
packing
variable
contact device
liquid contact
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Application number
JP8528984U
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English (en)
Inventor
晴夫 小栗
勝彦 松尾
Original Assignee
石川島播磨重工業株式会社
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Publication date
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例の概略図、第２図は第１図の
Ａ部拡大図、第３図は第２図の可変充填板の拡大図、第
４図は第２図のＢ−Ｂ断面図、第５図は従来例の概略図
、第６図は異なる従来例の概略図である。 図において、１・・・・・・塔本体、２・・・・・・ス
プレ、３・・・・・・排ガス導入口、３ａ・・・・・・
排ガス、４・・・・・・可変充填板、５・・・・・・固
定軸、６・・・・・・ストッパー、７・・・・・・散希
液滴、８・・・・・・可変充填グリット、１０１・・・
・・・充填層、１０１ａ・・・・・・充填物、１０２・
・・・・・スプレ、１０３・・・・・・排カス。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 排ガス導入口より上方に充填物を配設したスプレイ塔方
    式の気液接触装置において、塔本体内部に適宜間隔を置
    いて水平に並設された固定軸を中心とする可変充填物と
    該可変充填物に対応して該可変充填物間に設けられたス
    トッパー、とよりなる可変充填グリッドを設け、かつ開
    孔比（塔本体断面積と充填物通過断面積の比）を０．３
    〜０．８の範囲に保つように排ガス量または気一液比を
    調整したことを特徴とする気液接触装置。
JP8528984U 1984-06-08 1984-06-08 気液接触装置 Pending JPS61801U (ja)

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JP8528984U JPS61801U (ja) 1984-06-08 1984-06-08 気液接触装置

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JP8528984U JPS61801U (ja) 1984-06-08 1984-06-08 気液接触装置

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JPS61801U true JPS61801U (ja) 1986-01-07

Family

ID=30635551

Family Applications (1)

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JP8528984U Pending JPS61801U (ja) 1984-06-08 1984-06-08 気液接触装置

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