JPS6176459A - Imide containing acetylene group - Google Patents

Imide containing acetylene group

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JPS6176459A
JPS6176459A JP59196426A JP19642684A JPS6176459A JP S6176459 A JPS6176459 A JP S6176459A JP 59196426 A JP59196426 A JP 59196426A JP 19642684 A JP19642684 A JP 19642684A JP S6176459 A JPS6176459 A JP S6176459A
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JP
Japan
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formula
bis
group
acetylene
dicarboxyphenoxy
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Mitsutoshi Aritomi
有富 充利
Hideyori Fujiwara
英資 藤原
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:The acetylene group-containing imide compound of formula I (X is group of formula II, CH2, S, O, SO2, CO, CF2, group of formula III or nil, n is 0 or 1). EXAMPLE:2,2-Bis{4-[N-(3-ethynylphenyl)phthalimid-4-oxy]phenyl}-propane. USE:Useful as a varnish for impregnation, lamination, adhesion, film, or prepreg in the form of an organic solvent solution, and useful as a molding resin by compounding with an inorganic filler, flame-retardant, pigment, etc. It can be cured under a relatively mild condition, and the cured material is an insoluble and infusible heat-resistant polymer having remarkable heat-resistance and excellent mechanical properties. PREPARATION:The compound of formula I can be prepared, e.g. by reacting the ether group-containing aromatic tetracarboxylic acid of formula IV with the acetylene compound of formula V, and imidating the reaction product.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリプレグ、注型材、積層材用樹脂として有
用なアセチレン基含有イミドに関するものであ、る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an acetylene group-containing imide useful as a resin for prepregs, casting materials, and laminate materials.

〔従来技術およびその問題点〕[Prior art and its problems]

近年、回転電気機器、電気配線回路基板などにおいては
、その大電気容量化と小型軽量化が進むに従って、これ
らに使用される絶縁材料において本、その耐熱性の極め
て優れた熱硬化性樹脂が要望されている。また、航空機
用複合材料において本高性能化にともなって構造部材用
コンポジットのマトリクスレジンとして用いられる熱硬
化性樹脂の耐熱性向上が要望されている。
In recent years, as rotating electrical equipment, electrical wiring circuit boards, etc. have become larger in electric capacity, smaller, and lighter, there has been a demand for thermosetting resins with extremely high heat resistance as insulating materials used in these devices. has been done. In addition, as the performance of aircraft composite materials increases, there is a demand for improved heat resistance of thermosetting resins used as matrix resins of composites for structural members.

一方、従来から種々の耐熱性高分子材料の研究がおこな
われているが、複層板胴、塗料用、含浸用の耐熱性高分
子材料の場合、その硬化物にボイド(空隙)が残らない
ことが重要な要件の1つである。この要件を満たす材料
としては付加硬化型の耐熱性高分子材料が知られている
On the other hand, research has been carried out on various heat-resistant polymer materials, but in the case of heat-resistant polymer materials for multilayer plate bodies, paints, and impregnations, it has been found that no voids remain in the cured product. This is one of the important requirements. Addition-curing heat-resistant polymer materials are known as materials that meet this requirement.

この様な付加型の耐熱性高分子材料としては、特公昭4
6−23250号公報に示されビスマレイミド樹脂(商
品名“ケルイミド、ロース・ブーラン社製)などの付加
重合型ポリイミド樹脂が提案されている。このビスマレ
イミド樹脂は二重結合へのジアミン類の付加反応(マイ
ケル付加反応)及び二重結合の重合によって硬化1〜、
優れた耐熱性を与える硬化樹脂となる。しかし、ビスマ
レイミド樹脂は、硬化速度が遅く、硬化に長時間装する
。また、マイケル付加反応に由来する構造を含有し、こ
の樹脂はその長期間の使用が高々的260℃に限られる
As such an additive type heat-resistant polymer material,
No. 6-23250 discloses addition polymerization type polyimide resins such as bismaleimide resin (trade name: Kelimide, manufactured by Loos-Boulin). Curing by reaction (Michael addition reaction) and double bond polymerization 1~,
It becomes a cured resin that provides excellent heat resistance. However, bismaleimide resin has a slow curing speed and takes a long time to cure. Furthermore, this resin contains a structure derived from Michael addition reaction, and its long-term use is limited to 260°C at most.

また、同様に、硬化時にガス状生成物の放出を回避する
ために、付加反応によって硬化するアセチレン置換ポリ
イミドオリゴマーが提案されている(%開閉50−53
48号公報)。このアセチレン置換ポリイミドオリゴマ
ーij、200〜300℃で硬化【7、その硬化物の加
熱減量特性(TGA)による熱分解開始温度は460℃
であり極めて優れた耐熱性を有する。しかし、このアセ
チレン置換ポリイミドオリゴマーは融点が高く、また、
溶解性に劣るため成形加工性が悪い。また、原料合成が
複雑で収率が低いためおよび製造が困雛であるためその
価格が高い。
Similarly, acetylene-substituted polyimide oligomers that cure by addition reaction have been proposed to avoid the release of gaseous products during curing (% opening/closing 50-53
Publication No. 48). This acetylene-substituted polyimide oligomer ij is cured at 200 to 300°C [7] The thermal decomposition onset temperature of the cured product is 460°C according to thermal loss characteristics (TGA)
It has extremely excellent heat resistance. However, this acetylene-substituted polyimide oligomer has a high melting point and
Poor moldability due to poor solubility. In addition, the price is high because the raw material synthesis is complicated, the yield is low, and the production is difficult.

以上の様にこのアセチレン置換ポリイミドオリゴマーは
高性能であるが改良すべき点が多い。
As described above, this acetylene-substituted polyimide oligomer has high performance, but there are many points that need improvement.

〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明は、ガス状生成物の放出なく加熱硬化でき、得た
硬化物は高度の耐熱性を有し、しかも成形加工性の優れ
た耐熱性高分子材料を与えるアセチレン基含有イミドを
与えるものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides a heat-resistant polymer material that can be cured by heating without emitting gaseous products, the obtained cured product has a high degree of heat resistance, and has excellent moldability. This gives an acetylene group-containing imide that gives the following.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明は、次式(I)で示されるエーテル基を含有する
アセチレン末端イミドを提供するものである。
The present invention provides an acetylene-terminated imide containing an ether group represented by the following formula (I).

占H8 n1l(フェニル基が直接、隣接しているフェニル基に
結合していること)であり、nけ0または1である。〕 (製造方法) 上記式(,1)で示すアセチレン基含有イミドケ、次式
(lI)または(I)で示されるエーテル基含有芳香族
テトラカルボン酸、その低級アルキルテトラエステル、
または、対応する二酸無水物と、一般式(転)であられ
されるアセチレン化合物とを反応させて一般式(■であ
られされるエーテル基含有アセチレン末端イミド化合物
前駆体であるアミド酸またはその低級アルキルエステル
化合物を得、これをイミド化することにより製造される
The numeral H8 is n1l (the phenyl group is directly bonded to the adjacent phenyl group), and n is 0 or 1. ] (Production method) An acetylene group-containing imidoke represented by the above formula (,1), an ether group-containing aromatic tetracarboxylic acid represented by the following formula (lI) or (I), a lower alkyl tetraester thereof,
Alternatively, the corresponding diacid anhydride and the acetylene compound represented by the general formula (■) are reacted to form an amic acid or its lower It is produced by obtaining an alkyl ester compound and imidizing it.

(v) 〔式釦、(lIl)および(7)において、Xとnと式
(1)と同じであり、RtiHまたは炭素数1〜4のア
ルキル基である。〕 上記式(Il’lおよび(nで示されるエーテル基含有
芳香族テトラカルボン酸、その低級アルキルテトラエス
テル、またはそれに対応する二酸無水物としては、2,
2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕プロパンニ酸無水物、ビス(4−(3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)フェニル〕メタンニ酸無水物、
4.4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフイドニ酸無水物、4.4’−ビス(3,
4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二
酸無水物、4.4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)ジフェニルエーテルニ酸無水物、4.4’−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスル
ホンニ酸無水物、4.4’−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェノキシ)ペンゾフエノンニ酸無水物、ビスC4−
(,3゜4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕ジフ
ルオロメタンニ酸無水物、2,2−ビス(4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル) −1,1,L
(v) [In formula buttons, (lIl) and (7), X and n are the same as in formula (1), and are RtiH or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ] As the ether group-containing aromatic tetracarboxylic acid represented by the above formulas (Il'l and (n), its lower alkyl tetraester, or its corresponding dianhydride, 2,
2-bis(4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl)propanedioic anhydride, bis(4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl)methanedioic anhydride,
4.4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfide dianhydride, 4.4'-bis(3,
4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide diacid anhydride, 4.4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylether diacid anhydride, 4.4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl Sulfonic anhydride, 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)penzophenone dianhydride, bisC4-
(,3゜4-dicarboxyphenoxy)phenyl]difluoromethanedioic anhydride, 2,2-bis(4-(3,4
-dicarboxyphenoxy)phenyl) -1,1,L
.

3.3.3−ヘキサフルオロブロバンニ酸無水物、4.
4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ピフェ
ニル、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)ベンゼンニ酸無水物、1,3−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェノキシ)ベンゼンニ酸無水物、1,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼンニ酸無水
物、2,2−ビス(4−2,3−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル〕フロパンニ酸m水物、ビス(: 4− 
(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕メタン
ニ酸無水物、4.4’−ビス(2,3−ジカルボキシフ
ェノキシ)ジフェニルスルフイド二酸無水物、4.4’
−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニル
エーテルニ酸無水物、4.4’−ビス(2,3−ジカル
ボキシフェノキシ)ジフェニルスルホンニ酸無水物、4
.4’−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ペン
ゾフエノンニ酸無水物、ビス[4−(2,3−ジカルボ
キシフェノキシ)フェニル〕ジフルオロメタンニ酸無水
物、2.2−ビス(4−(2,3−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロプロパンニ酸無水物、4.4’−ビス(2,3
−ジカルボキシフェノキシ)ビフェニルニ酸無水物、1
,4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼ
ンニ酸無水物、1,3−ビス(2,3−ジカルボキシフ
ェノキシ)ベンゼンニ酸無水物、1,2−ビス(2,3
−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼンニ酸無水物等、お
よびそれに対応するカルボン酸またはアルキルエステル
を使用することができる。
3.3.3-hexafluoroborobanniic anhydride, 4.
4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)piphenyl, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzenioic anhydride, 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzenioic acid anhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzenic acid anhydride, 2,2-bis(4-2,3-dicarboxyphenoxy)phenyl]furopaniic acid mhydrate, bis(: 4 −
(2,3-dicarboxyphenoxy)phenyl]methanedioic anhydride, 4.4'-bis(2,3-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfide diacid anhydride, 4.4'
-bis(2,3-dicarboxyphenoxy)diphenyl ether dianhydride, 4.4'-bis(2,3-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfonic anhydride, 4
.. 4'-bis(2,3-dicarboxyphenoxy)penzophenone dianhydride, bis[4-(2,3-dicarboxyphenoxy)phenyl]difluoromethanedioic anhydride, 2,2-bis(4-(2 ,3-dicarboxyphenoxy)phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropanedioic anhydride, 4.4'-bis(2,3
-dicarboxyphenoxy)biphenyldicic anhydride, 1
, 4-bis(2,3-dicarboxyphenoxy)benzenic anhydride, 1,3-bis(2,3-dicarboxyphenoxy)benzenic anhydride, 1,2-bis(2,3
-dicarboxyphenoxy)benzenioic anhydride, etc., and the corresponding carboxylic acids or alkyl esters thereof can be used.

式(転)で示されるアミノフェニルアセチレントシては
、p−アミノフェニルアセチレン、m−アミノフェニル
アセチレン、0−フェニルアセチレンを用いることかで
西る。
The aminophenylacetylene represented by the formula (translation) can be obtained by using p-aminophenylacetylene, m-aminophenylacetylene, or 0-phenylacetylene.

そして、式(1)で示されるアセチレン基含有(ミドと
しては、例えば、2.2−ビス〔a−〔N−(3−エチ
ニルフェニル)フタルイミド−4−オキシ〕フエニル)
フロパン、ビス(’4”4N−(3−エチニルフェニル
)フタルイミド−4−、tキシ〕フェニル)メタン、4
,4′−ビス(N−(a−エチニルフェニル)フタルイ
ミド−4−オキシ〕ジフェニルスルフィド、4.4’−
ビス(N−(’)−エチニルフェニル)フタルイミド−
4−オキシ〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビスCN
−<3−エチニルフェニル)フタルイミド−4−オキシ
〕ジフェニルスルホン、4,4′−ビス[N−(3−エ
チニルフェニル)フタルイミド−4−オキシ〕ベンゾフ
ェノン、ビス(4−(N−(4−エチニルフェニル)フ
タルイミド−4−オキシフフェニル)ジフルオロメタン
、2,2−ビス(4−[N−(4−エチニルフェニル)
フタルイミド−4−オキシフフェニル) −1,1,1
,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4,4′−ビ
ス〔N−(3−エチニルフェニル)フタルイミド−3−
オキシ〕ビフェニル、1.4−ビス(N−(3−エチニ
ルフェニル)フタルイミド−4−オキレ〕ベンゼン、1
,3−ビスCN’−(3−エチニルフェニル)フタルイ
ミ)’−4−4キシ〕ベンゼン、1.2ニビス(N−(
3−エチニルフェニル)フタルイミド−4−オキシ〕ベ
ンゼン等が挙げられる。
Containing an acetylene group represented by formula (1) (for example, 2,2-bis[a-[N-(3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]phenyl)
Flopane, bis('4''4N-(3-ethynylphenyl)phthalimido-4-,txy]phenyl)methane, 4
,4'-bis(N-(a-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]diphenyl sulfide, 4.4'-
Bis(N-(')-ethynylphenyl)phthalimide-
4-oxy]diphenyl ether, 4,4'-bisCN
-<3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]diphenylsulfone, 4,4'-bis[N-(3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]benzophenone, bis(4-(N-(4-ethynyl) phenyl)phthalimido-4-oxyphphenyl)difluoromethane, 2,2-bis(4-[N-(4-ethynylphenyl)
Phthalimido-4-oxyphphenyl) -1,1,1
, 3,3,3-hexafluoropropane, 4,4'-bis[N-(3-ethynylphenyl)phthalimide-3-
oxy]biphenyl, 1,4-bis(N-(3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]benzene, 1
, 3-bisCN'-(3-ethynylphenyl)phthalimi)'-4-4xy]benzene, 1.2nibis(N-(
Examples include 3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]benzene.

本発明における新規なエーテル基を含有するアセチレン
末端アミド酸化合物を製造するにあたって、一般式(V
)で表わされるアミノフェニルアセチレンの使用量は、
前記一般式Wで表わされるエーテル基含有二酸無水物1
モルに対して、2.0〜10モルの範囲で用いられる。
In producing the novel ether group-containing acetylene-terminated amidic acid compound of the present invention, the general formula (V
) The amount of aminophenylacetylene used is
Ether group-containing diacid anhydride 1 represented by the general formula W
It is used in a range of 2.0 to 10 moles.

好ましくは、二酸無水物1モルに対して、2.2〜4.
0モルが適当である。
Preferably, 2.2 to 4.
0 mol is suitable.

溶媒としては、エーテル基台有二酸無水物、アミノフェ
ニルアセチレンに対して不活性な溶媒、例えば、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル−
ピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性双
極性溶媒が用いられる。
As a solvent, a solvent inert to the ether-based dianhydride and aminophenylacetylene, such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methyl-
Aprotic dipolar solvents such as pyrrolidone and dimethyl sulfoxide are used.

また、反応温度、反応時間は室温〜200℃、30分〜
5時間の範囲である。好ましくけ、50℃〜100℃、
1〜3時間反応することが適当である。
In addition, the reaction temperature and reaction time are room temperature to 200°C, 30 minutes to
The range is 5 hours. Preferably, 50°C to 100°C,
It is appropriate to react for 1 to 3 hours.

更に、本発明におけるエーテル基を含有するアセチレン
末端イミド化合物は、前記エーテル基を含有するアセチ
レン末端アミド酸またはその低級アルキルエステルを公
知の方法によってイミド化することによって製造できる
。イミド化反応としては、無水酢酸またはベンゼンとク
レゾールの混合物等のイミド化剤を使用する方法が知ら
れている。無水酢酸を用いる場合は、アミン基1当量に
対して無水酢酸を1〜20当鎗の範囲で脱水反応を行う
。好ましくけ、2〜10当量が適当である。
Furthermore, the acetylene-terminated imide compound containing an ether group in the present invention can be produced by imidizing the acetylene-terminated amic acid containing an ether group or its lower alkyl ester by a known method. As the imidization reaction, a method using an imidization agent such as acetic anhydride or a mixture of benzene and cresol is known. When acetic anhydride is used, the dehydration reaction is carried out using 1 to 20 equivalents of acetic anhydride per equivalent of amine group. Preferably, 2 to 10 equivalents are appropriate.

またベンゼン−クレゾール混合物を使用する場合は、生
成する水を共沸脱水で除去し、水の生成が認められなく
なるまで反応させる。
When a benzene-cresol mixture is used, the water produced is removed by azeotropic dehydration, and the reaction is allowed to proceed until no water is produced.

本発明の式(1)で示されるエーテル基を含有するアセ
チレン末端イミド化合物は、比較的温和な条件にて硬化
させることが可能である。また、得られた硬化物は卓越
した耐熱性を有し、しかも機械的性質等に優れた不溶不
融の耐熱性高分子材料を与えるものである。
The acetylene-terminated imide compound containing an ether group represented by formula (1) of the present invention can be cured under relatively mild conditions. Furthermore, the obtained cured product has excellent heat resistance and provides an insoluble, infusible, heat-resistant polymeric material with excellent mechanical properties and the like.

本発明の式(1)で示されるエーテル基を含有するアセ
チレン末端イミド化合物は有機溶剤溶液(フェス)とす
ることにより、含浸用、積層用、接着用、フィルム用、
プリプレグ用のフェスとして有用である。また、無機光
てん剤、難燃剤、顔料等を配合することによって成形用
樹脂として本有用である。
The acetylene-terminated imide compound containing an ether group represented by formula (1) of the present invention can be used for impregnation, lamination, adhesives, films, etc. by making it into an organic solvent solution (FESS).
It is useful as a festival for prepreg. In addition, it is useful as a molding resin by blending inorganic brightening agents, flame retardants, pigments, etc.

次に本発明を実施例をもって更に具体的に示す。Next, the present invention will be illustrated in more detail with examples.

文中、全て重量部である。All parts in the text are by weight.

実施例1 攪拌装置、還流装置、温度計および滴下ロート窒素導入
管を装置した容量1t・の40フラスコ内に窒素気流下
2,2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル)プロパン二M物52部を乾燥N、N−ジメ
チルホルムアミド400部に溶解させた。
Example 1 2,2-bis(4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl) was placed in a 40 flask with a capacity of 1 t equipped with a stirring device, a reflux device, a thermometer, and a dropping funnel with a nitrogen inlet tube under a nitrogen atmosphere. 52 parts of propane diM were dissolved in 400 parts of dry N,N-dimethylformamide.

次いで、m−アミノフェニルアセチレン29部をフラス
コ内に攪拌下、滴、々加えた。その後、80℃〜100
℃の温度で2時間反応させた。更に、無水酢酸102部
を加え、還流温度下にて3時間反応させた。
Next, 29 parts of m-aminophenylacetylene was added dropwise into the flask while stirring. After that, 80℃~100℃
The reaction was carried out for 2 hours at a temperature of .degree. Further, 102 parts of acetic anhydride was added, and the mixture was reacted at reflux temperature for 3 hours.

反応終了後、反応液を冷却し、10倍量の水中に投入し
、反応生成物を析出させ、p過、洗浄し、減圧下60℃
で1昼夜乾燥させた。
After the reaction was completed, the reaction solution was cooled and poured into 10 times the volume of water to precipitate the reaction product, filtered and washed, and heated at 60°C under reduced pressure.
I let it dry for a day and night.

生成物の収量は68部であった。この生成物をIRスペ
クトル、NMRスペクトルにより分析したところ、2,
2−ビス+4−[N−(3−エチニルフェニル)フタル
イミド−4−オキシフフェニル)プロパンであることが
確認された。収率は95チであった。融点は105〜1
07℃であった。
Product yield was 68 parts. When this product was analyzed by IR spectrum and NMR spectrum, 2,
It was confirmed to be 2-bis+4-[N-(3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxyphphenyl)propane. The yield was 95 cm. Melting point is 105-1
The temperature was 07°C.

この化合物のI Rスペクトルを第1図に示す。The IR spectrum of this compound is shown in FIG.

実施例2 実施例1の2.2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル)プロパンニ無水物52部のかわ
りに、4.4’−ビス(3,4ジカルボキシフェノキシ
)ジフェニルスルフィド−無水物51部を用いた以外V
[実施例1と全く同様にして生成物68部を得た。
Example 2 4.4′-bis(3,4dicarboxyphenoxy)diphenyl instead of 52 parts of 2.2-bis(4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl)propanihydride in Example 1 Except for using 51 parts of sulfide-anhydride
[68 parts of a product were obtained in exactly the same manner as in Example 1.

この生成物をIRスペクトル、NMRスペクトルにより
分析したところ、4.4’−ビス(N−(,3−エチニ
ルフェニル)フタルイミド−4−オキシ〕ジフェニルス
ル、フィトであることが確認された。
When this product was analyzed by IR spectrum and NMR spectrum, it was confirmed that it was 4,4'-bis(N-(,3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]diphenylsulfur, phyto.

収率は96%であった。また融点1j166〜168℃
であった。この化合物のIRスペクトルを第2図に示す
The yield was 96%. Also melting point 1j166-168℃
Met. The IR spectrum of this compound is shown in FIG.

応用例1 実施例1および2で得られた新規なエーテル基を含有す
るアセチレン末端イミド化合物を、それぞれ、200〜
300℃で4時間加熱したところ、不溶・不融の硬化物
を得た。また、これらの新規なエーテル基を含有するア
セチレン末端イミド化合物の示差熱分析を行ったところ
、いずれの化合物も200〜300℃付近に発熱ピーク
を示した。
Application Example 1 The novel ether group-containing acetylene-terminated imide compounds obtained in Examples 1 and 2 were
When heated at 300° C. for 4 hours, an insoluble and infusible cured product was obtained. Further, when differential thermal analysis of these novel ether group-containing acetylene-terminated imide compounds was performed, all of the compounds showed exothermic peaks around 200 to 300°C.

この時点においてアセチレン基の環化三量化反応あるい
は重合が起り、本発明の新規なエーテル基を含有するア
セチレン末端イミド化合物は架橋網状化するものと考え
られる。
At this point, it is thought that a cyclization trimerization reaction or polymerization of the acetylene group occurs, and the novel ether group-containing acetylene-terminated imide compound of the present invention becomes crosslinked and networked.

=14− 上記2種類の硬化物の加熱減量特性(TGA)を表1に
示す。表1に示されるように本発明の新規なエーテル基
を含有するアセチレン末端イミド化合物より得られる硬
化物は卓越した耐熱性を有することがわかる。
=14- The heat loss characteristics (TGA) of the above two types of cured products are shown in Table 1. As shown in Table 1, it can be seen that the cured product obtained from the novel ether group-containing acetylene-terminated imide compound of the present invention has excellent heat resistance.

表1 昇温速度10℃/分、空気中で測定 応用例2 実施例1および2で得られたエーテル基を含有するアセ
チレン末端イミド化合物を120〜180℃で溶解させ
、離型剤を塗布した金属の型の中に注入し、220℃、
250℃および280℃各2時間硬化させた。型から取
り出すと、透明な茶褐色の成形材料が得られた。
Table 1 Measurement in air at a heating rate of 10°C/min Application example 2 The acetylene-terminated imide compounds containing ether groups obtained in Examples 1 and 2 were dissolved at 120 to 180°C, and a release agent was applied. Pour into a metal mold and heat at 220℃.
It was cured at 250°C and 280°C for 2 hours each. When removed from the mold, a transparent brown molding material was obtained.

応用例3 実施例1および2で得られた新規なエーテル基を含有す
るアセチレン末端イミド化合物をそれぞれ、N、N−ジ
メチルホルムアミド/アセトン混合溶媒に溶解させ、固
型分約50チワニスを調製した。
Application Example 3 The novel ether group-containing acetylene-terminated imide compounds obtained in Examples 1 and 2 were each dissolved in an N,N-dimethylformamide/acetone mixed solvent to prepare a solid content of about 50 Chiwanis.

上記フェスをガラスクロスに含浸t、、150℃10分
間乾燥させて樹脂含浸量40〜50チのプリプレグを作
成した。次いで、各プリプレグを8枚重ね、圧力20〜
4oKy/all、温度110℃〜170℃で1時間硬
化させ、更に200℃、220℃、250℃、280℃
各1時間硬化させて、厚さ約1.6Bの積層板を作成し
た。
A glass cloth was impregnated with the above fabric and dried at 150° C. for 10 minutes to prepare a prepreg with a resin impregnation amount of 40 to 50 inches. Next, 8 sheets of each prepreg were stacked and the pressure was 20~
4oKy/all, cured for 1 hour at a temperature of 110°C to 170°C, and further cured at 200°C, 220°C, 250°C, 280°C
Each curing was performed for 1 hour to produce a laminate with a thickness of approximately 1.6B.

得られた積層板は、内部に気泡、はがれ等なく、表面平
滑性にすぐれていた。
The obtained laminate had no internal bubbles or peeling, and had excellent surface smoothness.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、2,2−ビス[:4−N−(3−エチニルフ
ェニル)フタルイミド−4−オキシ〕フェニルプロパン
のIRスペクトル、第2図は4,4−ビス[N−3(3
−エチニルフェニル)フタルイミド−4−オキシ〕ジフ
ェニルスルフィドのIRスペクトルである。 特許出願人  三菱油化株式会社 代理人 弁理士 古 川 秀 利 代理人 弁理士 長 谷 正 久 17一
Figure 1 shows the IR spectrum of 2,2-bis[:4-N-(3-ethynylphenyl)phthalimido-4-oxy]phenylpropane, and Figure 2 shows the IR spectrum of 4,4-bis[N-3(3
-ethynylphenyl)phthalimide-4-oxy]diphenyl sulfide. Patent Applicant Mitsubishi Yuka Co., Ltd. Agent Patent Attorney Hidetoshi Furukawa Agent Patent Attorney Masa Hisashi Hase 171

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)、次式で示されるアセチレン基含有イミド。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは▲数式、化学式、表等があります▼、−C
H_2−、−S−、−O−、−SO_2−、−CO−、
−CF_2−、▲数式、化学式、表等があります▼また
はnilであり、nは0または1である。〕
[Claims] 1) An acetylene group-containing imide represented by the following formula. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, X is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, -C
H_2-, -S-, -O-, -SO_2-, -CO-,
-CF_2-, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ or nil, and n is 0 or 1. ]
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