JPS61563U - シ−ルド裏込注入装置 - Google Patents

シ−ルド裏込注入装置

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Publication number
JPS61563U
JPS61563U JP8355284U JP8355284U JPS61563U JP S61563 U JPS61563 U JP S61563U JP 8355284 U JP8355284 U JP 8355284U JP 8355284 U JP8355284 U JP 8355284U JP S61563 U JPS61563 U JP S61563U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
supply section
injection
diameter
injection device
Prior art date
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Pending
Application number
JP8355284U
Other languages
English (en)
Inventor
正之 菅原
清三 久保田
祥治 桐谷
Original Assignee
佐藤工業株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 佐藤工業株式会社 filed Critical 佐藤工業株式会社
Priority to JP8355284U priority Critical patent/JPS61563U/ja
Publication of JPS61563U publication Critical patent/JPS61563U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案に係るシールド裏込注入装置の一実施例
を示す縦断側面図、第２図は第３図は夫々第１図の矢視
■−■図並に矢視■一■図、第４図は前記注入装置の使
用状態を示す縦断面図である。 ＩＡ・・・Ａ液注入管、ＩＢ・・・Ｂ液注入管、２・・
・固定筒、３・・・隔壁、４Ａ・・・Ａ液供給部、４Ｂ
・・・Ｂ液供給部、５Ａ・・・Ａ液注入口、５Ｂ・・・
Ｂ液注入口、６・・・回転筒。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 外周壁の各同一円周上位置に沿って夫々大口径のＡ液注
    入管１Ａ及び小口径のＢ液注入管ＩＢを放射状に岐出し
    てなる固定筒２に、隔壁３を介してＡ液供給部４ＡとＢ
    液供給部４Ｂとに区画し、Ａ液供給部４Ａの外周壁にお
    ける前記Ａ液注入管１Ａ群と対応部位に、同管１Ａと略
    々等径のＡ液注入口５Ａを、Ｂ液供給部４Ｂにおける前
    記Ｂ液注入管ＩＢ群と対応部位に、同管ＩＢより大径の
    Ｂ液注入口５Ｂを有する回転筒６を回転自在に嵌合し、
    前記Ａ液供給部４Ａ及びＢ液供給部４Ｂに夫々Ａ液供給
    源並にＢ液供給源を接続してなることを特徴とするシー
    ルド裏込注入装置。
JP8355284U 1984-06-07 1984-06-07 シ−ルド裏込注入装置 Pending JPS61563U (ja)

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JP8355284U JPS61563U (ja) 1984-06-07 1984-06-07 シ−ルド裏込注入装置

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JP8355284U JPS61563U (ja) 1984-06-07 1984-06-07 シ−ルド裏込注入装置

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JPS61563U true JPS61563U (ja) 1986-01-06

Family

ID=30632284

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JP (1) JPS61563U (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4819230B1 (ja) * 1970-02-13 1973-06-12
JPS5033327B2 (ja) * 1972-09-16 1975-10-29

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4819230B1 (ja) * 1970-02-13 1973-06-12
JPS5033327B2 (ja) * 1972-09-16 1975-10-29

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