JPS6147074U - 流動床を用いる電解装置 - Google Patents

流動床を用いる電解装置

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JPS6147074U
JPS6147074U JP1984128607U JP12860784U JPS6147074U JP S6147074 U JPS6147074 U JP S6147074U JP 1984128607 U JP1984128607 U JP 1984128607U JP 12860784 U JP12860784 U JP 12860784U JP S6147074 U JPS6147074 U JP S6147074U
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JP
Japan
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cathode
electrolytic cell
fluidized bed
electrolytic
cell body
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JP1984128607U
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JPS641961Y2 (ja
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伸隆 五嶋
信泰 江沢
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クロリンエンジニアズ株式会社
田中貴金属工業株式会社
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Publication date
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Priority to DE8484309163T priority patent/DE3481777D1/de
Priority to EP84309163A priority patent/EP0171478B1/en
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図面は、本考案の一実施例を示す縦断面図である。 １・・・・・・電解槽本体、４・・・・・・透明体、５
・・・・・・陰極、２２・・・・・・流動粒子逸散防止
塔、３６・・・・・・陽極、３８・・・・・・隔膜、４
２・・・・・・陽極粒子取出管。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）隔膜で陰極室と陽極室に区画してなる電解槽本体
    の陰極室に陰極粒子を収容し、該陰極室に金属イオンを
    含有する被電解液を供給して陰極粒子を流動状態に維持
    しながら陰極粒子上に金属イオンを電着させるようにし
    た電解装置にお一いて、電解槽本体下部の少なくとも一
    部を透明体で形成したことを特徴とする流動床を用いる
    電解装置。
  2. （２）陰極と透明体で電解槽本体を構成した実用新・
    案登録請求の範囲第（１）項に記載の電解装置。
JP1984128607U 1984-07-16 1984-08-27 流動床を用いる電解装置 Granted JPS6147074U (ja)

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JP1984128607U JPS6147074U (ja) 1984-08-27 1984-08-27 流動床を用いる電解装置
US06/674,063 US4569729A (en) 1984-07-16 1984-11-19 Electrolyzing method and electrolytic cell employing fluidized bed
CA000468351A CA1269635A (en) 1984-07-16 1984-11-21 Electrolyzing method and electrolytic cell employing fluidized bed
KR1019840008080A KR890002751B1 (ko) 1984-07-16 1984-12-18 유동층을 이용한 전해방법과 전해조
DE8484309163T DE3481777D1 (de) 1984-07-16 1984-12-31 Elektrolytisches verfahren und elektrolysezelle mit fliessbett.
EP84309163A EP0171478B1 (en) 1984-07-16 1984-12-31 Electrolyzing process and electrolytic cell employing fluidized bed
US06/800,528 US4626331A (en) 1984-07-16 1985-11-21 Electrolytic cell employing fluidized bed

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JPS6147074U true JPS6147074U (ja) 1986-03-29
JPS641961Y2 JPS641961Y2 (ja) 1989-01-18

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211560U (ja) * 1975-07-14 1977-01-26
JPS5834171A (ja) * 1981-08-21 1983-02-28 Hitachi Ltd 真空蒸着装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211560U (ja) * 1975-07-14 1977-01-26
JPS5834171A (ja) * 1981-08-21 1983-02-28 Hitachi Ltd 真空蒸着装置

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JPS641961Y2 (ja) 1989-01-18

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