JPS6141527A - Method and device for transferring relief structure to substrate - Google Patents

Method and device for transferring relief structure to substrate

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JPS6141527A
JPS6141527A JP16346484A JP16346484A JPS6141527A JP S6141527 A JPS6141527 A JP S6141527A JP 16346484 A JP16346484 A JP 16346484A JP 16346484 A JP16346484 A JP 16346484A JP S6141527 A JPS6141527 A JP S6141527A
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substrate
liquid
relief
transferring
relief structure
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ヨーゼフ マリエ エリーゼ ボージーン
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DOKUDAATA NV
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレリーフ構造物を基板に転写する方法及びこの
方法を実施するための装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method for transferring relief structures to a substrate and an apparatus for carrying out this method.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

転写しようとするレリーフのネガの形状に対応する孔又
は凸部を有する型表面と基板との間に硬化性の液を付着
させ、その後型表面と基板とを少なくとも部分的に圧着
させ、これにより型表面の各断面は基板に対して接触面
と垂直方向番こしか移動せず、その後硬化液が硬化する
が、その工程中には型表面と基板とは互いに動かず、こ
れら両者は初期の押圧段階における圧力よりも小さい圧
力で押圧されたままであり、液硬化後、基板と型表面と
は分離される。
A curable liquid is applied between the substrate and the mold surface having holes or convex portions corresponding to the negative shape of the relief to be transferred, and then the mold surface and the substrate are at least partially pressed together, thereby Each section of the mold surface moves only in the direction perpendicular to the contact surface with respect to the substrate, and then the curing liquid hardens, but during this process, the mold surface and the substrate do not move relative to each other, and both of them remain in the initial position. The substrate remains pressed at a pressure lower than the pressure in the pressing stage, and the substrate and mold surface are separated after the liquid hardens.

このタイプの方法は例えばアメリカ特許第3,265.
776号に記載されている。この公知の方法では、ウェ
ブ状のダイを用い、これをローラを使用して、硬化性の
ある液を塗った基板番こ押しつける。その後、この押圧
し合った基板とダイとをリールに巻きつけ、予定された
時間内に液を硬化させる。その後、少なくとも部分的に
硬くなった液層を付着せしめた基板を型表面から取りは
ずす。
This type of method is described, for example, in U.S. Pat. No. 3,265.
It is described in No. 776. In this known method, a web-shaped die is used which is pressed onto a substrate coated with a hardening liquid using a roller. Thereafter, the pressed substrate and die are wound around a reel, and the liquid is cured within a scheduled time. Thereafter, the substrate, to which the at least partially hardened liquid layer has been deposited, is removed from the mold surface.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

この方法では、とくに硬化した液層が付着する基板をダ
イからはずす時が問題である。ダイのレリーフ構造物を
よく転写させるには、互いに押圧されて密着状になった
ダイと基板との間に液層を流し込まなければならない。
This method presents problems, particularly when removing the substrate to which the cured liquid layer is attached from the die. In order to transfer the relief structure of the die well, a liquid layer must be poured between the die and the substrate, which are pressed together and brought into close contact with each other.

しかし、その結果、硬化してレリーフの形になった液層
が付着する基板をダイからはがす時、この硬化した液層
の一部がダイに残るか、またはダイのレリーフ構造物の
一部が硬化した液層と共にはがれることがある。
However, as a result, when the substrate to which the cured liquid layer in the form of a relief adheres is peeled off from the die, some of this cured liquid layer remains on the die, or some of the relief structures of the die are removed. It may peel off along with the hardened liquid layer.

転写物の質や型表面の質が落ちるだけでなく、次の転写
物の質も極めて不利に影響し、さらに型表面の寿命も短
かくなる。
Not only does the quality of the transfer and the mold surface deteriorate, but the quality of the subsequent transfer is also extremely adversely affected, and furthermore the life of the mold surface is shortened.

レリーフ構造部分の寸法がより小さくなればなるほどこ
の問題は益々重要な役割を演する。とくに、レリーフの
深さそして/または特定の分解能が100μまでであり
、特別な場合でも1ミクロンまでである微小構造におい
ては、ダイから転写物を正確にはがさないと転写物の精
度やダイの寿命が著しく低下する。この種の構造を有す
る表面の例としては、分光器による測定用格子、フレネ
ルレンズのようなフラットレンズ、LPレコード、光オ
ーディオディスクやビデオディスク、デジタルの光テー
プなどがある。
This problem plays an increasingly important role the smaller the dimensions of the relief structure become. Particularly in microstructures where the relief depth and/or specific resolution is up to 100μ and even in special cases down to 1 micron, the precision of the imprint and the die may be compromised if the imprint is not accurately removed from the die. The lifespan of the product will be significantly reduced. Examples of surfaces with structures of this type are spectroscopic measurement gratings, flat lenses such as Fresnel lenses, LP records, optical audio and video discs, digital optical tapes, etc.

上記アメリカ特許においては、硬化液の層が型表面に固
着しない内に転写物をダイからはがすとだけしか示して
いない。しかしこれには、完全に硬化していない液層は
傷付きやすく、またその後硬化した時には変形〔収縮〕
すると云った不利な点がある。
The above US patent only states that the transfer is to be peeled off from the die before the layer of hardening liquid adheres to the mold surface. However, this is because the liquid layer that is not completely cured is easily damaged, and when it is cured afterwards, it deforms (shrinks).
However, there is a disadvantage.

オランダ特許出願第78.11395号では、型表面か
ら不連続的に転写する同じような方法が説明されている
。光線により硬化する液状レジンを型表面に付着させ、
光線を通すために透明な基板でカバーする。欠番ここの
レジンを基板を介して入って来た光線により硬化させ、
硬化後、でき上った転写物をダイからはかす。この出願
では、金属製型表面、光線で硬化させる特定組成のレジ
ン、及び光線を透過させる透明な基板の組合せが絶対に
必要である。この問題がこの組合せを用いて完全に解決
されるものでないことは明らかである。
Dutch patent application No. 78.11395 describes a similar method of discontinuous transfer from a mold surface. A liquid resin that hardens with light is attached to the mold surface,
Cover with a transparent substrate to allow light to pass through. The resin in the missing number is cured by the light that comes through the board,
After curing, the finished transfer is removed from the die. In this application, the combination of a metal mold surface, a resin of a specific composition that is cured by light, and a transparent substrate that is transparent to the light is absolutely necessary. It is clear that this problem is not completely solved using this combination.

ヨーロッパ特許出願第0.015.834号でも同様な
ビデオディスクの製造方法が説明されている。
European Patent Application No. 0.015.834 describes a similar method for manufacturing video discs.

この出願ではレジンがダイに接着しなくてもよいことに
なっており、さらに金属製の型表面を使用した方がよい
となっている。しかし、転写物をはがす問題の最終的な
解決については説明されていない。
This application states that the resin does not need to adhere to the die, and that it is better to use a metal mold surface. However, a final solution to the problem of peeling off the transcript is not described.

本発明の目的は、できた転写物をはがすことと、これに
対応した転写物の精度とに関する改良方法とダイの寿命
を延ばす方法とを示すことにある。
It is an object of the present invention to present an improved method for stripping the resulting transfer and the corresponding accuracy of the transfer and for extending the life of the die.

〔作用〕[Effect]

本発明によれば、レリーフの高低それぞれの部分に硬化
処理を左右する化学的または物理的パラメータ番こ関す
る顕著な差異がある場合には、冒頭で述べた方法でレリ
ーフ構造物をよく転写でき、かつ型表面の寿命をのばす
ことができる。ここで云うパラメータとは例えばそれぞ
れの液部分の厚さや、温度、または化学組成物、または
光線で硬化する液の場合は光線強度である。それぞれの
液部分の化学的または物理的パラメータが異れば、それ
ぞれの液部分の硬化速度に影響するのが好ましい。
According to the present invention, the relief structure can be well transferred by the method described at the beginning when there are significant differences in the chemical or physical parameters that affect the hardening process between the high and low parts of the relief, Moreover, the life of the mold surface can be extended. The parameters mentioned here are, for example, the thickness of the respective liquid portion, the temperature, or the chemical composition or, in the case of liquids that are cured by light, the intensity of the light beam. Preferably, different chemical or physical parameters of each fluid portion will affect the rate of cure of each fluid portion.

例えば、良質転写ができかつ型表面の寿命をのばせるに
は、とくに高い方のレリーフ部分を形成する液部分の厚
さが低い方のレリーフ部分を形成する液部分の厚さより
も少なくとも50%である場合であることが分っている
。これは驚くべきことである。なぜなら大きな差異のあ
るいろいろな厚さとするには、とくに微小構造物におい
ては比較的に大きい圧力を型表面に加えなければならな
いからである。型表面の1ミリメータ当り大気圧の数百
倍乃至数千倍の圧力と大気圧の数百倍乃至数千倍の気圧
勾配を実験から推論できる。従って、微小のレリーフ構
造物を作る公知の方法や装置においてこれらの高圧やそ
の結果レリーフの構造物が形成された液層の厚さに大き
な差異が生じないことは驚くべきことではない。前述の
ように、とくに厚さの違いは少なくとも50%であり、
できれば100%の違いが好ましい。レリーフの高さが
例えば光読み取りディスクに通常使用される測定値であ
る0、2ミクロンである場合、厚さの違いが50%であ
るということは、レリーフ層の薄い部分が0.1ミクロ
ンより厚くてはならず、またそのレリーフのもつとも高
い部分が0.3ミクロンより轟くではならないことを意
味する。
For example, in order to achieve good transfer quality and extend the life of the mold surface, the thickness of the liquid part forming the higher relief part should be at least 50% greater than the thickness of the liquid part forming the lower relief part. It is known that this is the case. This is surprising. This is because in order to obtain widely different thicknesses, especially in the case of microstructures, relatively large pressures must be applied to the mold surface. It can be inferred from experiments that there is a pressure per millimeter of the mold surface that is several hundred to several thousand times the atmospheric pressure and a pressure gradient that is several hundred to several thousand times the atmospheric pressure. It is therefore not surprising that in the known methods and apparatuses for producing microscopic relief structures, there are no significant differences in these high pressures and the resulting thickness of the liquid layer in which the relief structures are formed. As mentioned above, in particular the difference in thickness is at least 50%;
Preferably, the difference is 100%. If the height of the relief is, for example, 0.2 microns, a measurement commonly used for optically readable discs, a difference in thickness of 50% means that the thinner part of the relief layer is less than 0.1 micron. It must not be thick, meaning that the highest part of the relief must not be more than 0.3 microns thick.

厚さの差から転写精度が高くなったり、ダイの寿命が延
びたりすることについて説明できることは、この厚さの
差によって液部分の表面と容量との間に大きな比率差が
生じ、このために硬化速度に大きな差が生じるかもしれ
ないということである。
The reason why the difference in thickness increases transfer accuracy and extends the life of the die is that this difference in thickness creates a large ratio difference between the surface of the liquid part and the volume. This means that there may be large differences in cure speed.

硬化中に液が収縮することについては次のように説明で
きる。もし液部分の厚いところと薄いところとの厚さの
差がより大きくなれば、厚い液部分は収縮することがあ
るが、この収縮は薄い液部分からの液で補充されること
がない。このような場合、厚い液部分は硬化中に型表面
からはがせるようになる。このはがれることがすなわち
転写精度の高上やダイの寿命の延長についての理由説明
となる。
The contraction of the liquid during curing can be explained as follows. If the difference in thickness between the thick and thin portions of the liquid portion becomes larger, the thicker portion may shrink, but this contraction will not be replaced by liquid from the thinner portion. In such cases, the thick liquid portion becomes able to be peeled off the mold surface during curing. This peeling explains why the transfer accuracy is high and the life of the die is extended.

好ましい方法によれば触媒または光イニシェータのよう
な液の硬化速度を決定する、化学構成物の1つの濃度が
上記液部分の1つでは少なくとも50%以上であること
が特に重要である。
According to a preferred method, it is particularly important that the concentration of one of the chemical constituents, which determines the curing rate of the liquid, such as the catalyst or the photoinitiator, is at least 50% or higher in one of the liquid parts.

関連する化学構成物の濃度が液部分が厚ければ厚いほど
高くなることが好ましいことは実験で分っている。この
場合、硬化速度の差が転写精度の向上と型表面の寿命の
延長に大きな役割を演する重要な要因であることは明ら
かである。
Experiments have shown that the concentration of the relevant chemical constituents is preferably higher the thicker the liquid section. In this case, it is clear that the difference in curing speed is an important factor that plays a major role in improving transfer accuracy and extending the life of the mold surface.

さらにこの場合硬化しつつある液はより早くかつより良
く型表面よりも基板の方に接着する。この利点は本発明
の範囲内の他の方法にも当てはまる。コロナ放電によっ
て基板表面を前処理するか、エツチングするか、接着促
進材でできたフィルムにより表面を被覆するか、或いは
表面にイオン着床処理をほどこすかしてこの基板への接
着を改善することができることに注目されたい。
Moreover, in this case the hardening liquid adheres faster and better to the substrate than to the mold surface. This advantage also applies to other methods within the scope of the invention. Improving adhesion to the substrate by pretreating the surface of the substrate by corona discharge, etching, coating the surface with a film made of an adhesion promoter, or subjecting the surface to an ion implantation treatment. I would like to draw attention to what I can do.

さらに、オリゴマーメタアクリレートの混合液のような
、紫外線に当って硬化するポリマー液を使用すると、紫
外線の強度が前記液部分の一部でより大きい場合はダイ
の寿命が延び、転写精度が改善されるように思われる。
Additionally, the use of polymer fluids that harden upon exposure to UV light, such as mixtures of oligomeric methacrylates, can extend die life and improve transfer accuracy if the UV light intensity is greater in some portions of the fluid. It seems to be the case.

ここで「より大きい」ということは硬化させる電磁光線
の濃度がそれぞれの液部分において少なくとも50%以
上であるという意味である。
Here, "greater than" means that the concentration of the curing electromagnetic radiation is at least 50% or more in each liquid portion.

光線の強度がより高いレリーフ断面を形成するこれらの
液部分においては上記の意味でより高いことが好ましい
ことは実験で分っている。
Experiments have shown that the intensity of the light beam is preferably higher in the above sense in those liquid parts forming the relief cross section.

他のケースの場合、厚い液部分と薄い液部分との間の温
度差にも同じ確かな効果があることにより、熱硬化性液
は薄い液部分ではより暖かくし、また熱可塑性液は厚い
液部分ではより暖かくした方が好ましいことが分ってい
る。
In other cases, the temperature difference between thick and thin parts has the same positive effect, making thermosets warmer in thin parts and thermoplastics being warmer in thick parts. It has been found that warmer areas are preferable.

厚い液部分と薄い液部分との間に物理的または化学的差
を生じさせることはそんな番こ簡単なことではない。転
写しようとするレリーフ構造物の高さの差が100ミク
ロン以下から1ミクロン以下という極めて小さいもので
あり、かつその空間分解能も上記と同じである場合はと
くにそうである。
Creating a physical or chemical difference between thick and thin liquid portions is not so simple. This is especially true when the difference in height of the relief structure to be transferred is extremely small, from 100 microns or less to 1 micron or less, and the spatial resolution is also the same as above.

しかし、この100ミクロン以下から1ミクロン以下と
いう領域は本発明がとくに目ざすところである。
However, this region of 100 microns or less to 1 micron or less is particularly targeted by the present invention.

好ましい方法によれば、硬化液を型表面と基板との間に
付着させるが、先ず第1液を基板に付着させ、また型表
面に第2液を付着させることにより両液の化学的または
物理的パラメータが互いに異って来る。
According to a preferred method, a curing liquid is deposited between the mold surface and the substrate, by first depositing a first liquid on the substrate and a second liquid on the mold surface, thereby causing chemical or physical damage to the two liquids. The target parameters are different from each other.

本発明による方法のもつと他の好ましい実施態様やその
方法を実行するための装置の詳細について添付図面と関
連させながらこれより述べることにする。
Further preferred embodiments of the method according to the invention and details of the apparatus for carrying out the method will now be described in conjunction with the accompanying drawings.

〔実施例〕〔Example〕

第1図番こ示された本発明による装置では、テープまた
はウェブ1の形をした基板をローラ2に供給し、基板は
ローラ2により転写させようとする型表面を有するダイ
ロール3に強く押圧される。
In the device according to the invention shown in Figure 1, a substrate in the form of a tape or web 1 is fed to a roller 2, which presses it strongly against a die roll 3 having a mold surface to be transferred. Ru.

この処理に必要な力は次に挙げる処理パラメータによっ
て異ることが分っている。即ち、ロール幅す、硬化性流
体の粘度り、ウェブの速度u、2つの押圧ローラの半径
r1とr2.ローラ表面の硬度とウェブ材の硬度。
It has been found that the force required for this process varies depending on the following process parameters: Namely, the width of the roll, the viscosity of the hardening fluid, the speed of the web u, the radii of the two pressure rollers r1 and r2. The hardness of the roller surface and the hardness of the web material.

ローラの表面が硬く、ウェブ材が12ミクロンの厚さの
マイラフィルム(デュポンの商標名)のように薄くて、
かたい場合は力rは4 X 10’ X bX h X
 u X rより大きいことが実験で分っている。
The surface of the roller is hard and the web material is as thin as 12 micron thick Mylar film (trade name of DuPont).
If it is hard, the force r is 4 X 10' X bX h X
Experiments have shown that it is larger than u x r.

半径rは等式1/r = 1/rl +1/r2による
。寸法はメートル(KVrrV/りで表わす。   。
The radius r is according to the equation 1/r = 1/rl + 1/r2. Dimensions are expressed in meters (KVrrV/ri).

流体の粘度は高ぜん断率で、とく番こ10’ X ur
rV/sec以上で測定しなければならない。
The viscosity of the fluid is high shear rate, especially 10'
Must be measured at rV/sec or higher.

ローラがゴムで被覆されている時、または厚さが1間の
ポリカルボネートフィルムのようなより厚いフィルムを
使用する時には、所要のローラカは著しく高い、即ち上
記式に従って計算されたよりも10倍以上高いものでな
ければならないことが分る。
When the rollers are coated with rubber or when using thicker films such as polycarbonate films with a thickness of between 1 and 1, the required roller force is significantly higher, i.e. more than 10 times that calculated according to the above formula. I know it has to be expensive.

第1図による装置では、基板とダイの両面とも、基板と
ダイとが互いに押し付けられる前に湿潤手段(図示省略
)によって硬化性流体を以て湿めらせる。湿潤手段は公
知のもの、例えば湿めらせようとする表面の動きの反対
方向に回転するロールか、湿めらせようとする表面の幅
をカバーする細長い抽出口か、またはローラニップの液
溜めであってもよい。
In the apparatus according to FIG. 1, both surfaces of the substrate and die are moistened with a curable fluid by wetting means (not shown) before the substrate and die are pressed together. The wetting means are known, for example a roll rotating in the opposite direction of the movement of the surface to be moistened, an elongated spout covering the width of the surface to be moistened, or a sump in a roller nip. It may be.

第1図による装置では、硬化液を回転ダイの表面とダイ
ローラに巻かれた基板テープとの間に塗る。第一図の型
表面は紫外線用の透明なもので、液は光線源4から出た
紫外線により硬化するが、この紫外線は上側部で反射器
5により反射されるため、押圧ロール2と6との間の型
表面の部分だけに紫外線が当る。光線源4も反射器5も
回転ダイロール3内の固定位置に取り付けられている。
In the apparatus according to FIG. 1, a curing liquid is applied between the surface of a rotating die and a substrate tape wrapped around a die roller. The mold surface shown in Figure 1 is transparent for ultraviolet rays, and the liquid is cured by the ultraviolet rays emitted from the light source 4, but since this ultraviolet ray is reflected by the reflector 5 on the upper side, the pressure rolls 2 and 6 The ultraviolet rays only hit the part of the mold surface between the molds. Both the light source 4 and the reflector 5 are mounted in fixed positions within the rotating die roll 3.

硬化後、基板はそこ番こ接着し、硬化したレリーフの構
成を担持しながら型表面からはずされ、押圧ロール6を
通ってさらに移送される。ダイロール3、押圧ロール2
と6、光線源4、反射器5などは支持フレーム9に接続
されている。
After curing, the substrate is removed from the mold surface, with some adhesion and carrying the structure of the cured relief, and transported further through the pressure rolls 6. Die roll 3, press roll 2
and 6, a light source 4, a reflector 5, etc. are connected to a support frame 9.

この装置では、2つの液供給手段を使って7と8の辺り
で基板とダイのそれぞれの表面に液を塗ることによって
液部分の薄い組成物とは異る液部分の厚い化学組成物を
作ることができ、これにより前記液層のそれぞれの厚さ
は転写しようとするレリーフの構成の厚さよりも厚い。
In this device, two liquid supply means are used to apply the liquid to the respective surfaces of the substrate and die at around 7 and 8, thereby creating a thick chemical composition in the liquid part that is different from a thin composition in the liquid part. , whereby the thickness of each of said liquid layers is greater than the thickness of the relief structure to be transferred.

このような場合、2つの薄い液層をニップの押圧ロール
2とダイロール3との間に共にはさむことにより、薄く
(11!1 接着剤がついているために1つの表面すなわち基板の表
面には比較的多量の液組成物が付き、もう1つの表面、
すなわち型表面の近くには別の液組成物が比較的多量に
付くことになろう。レリーフの型をした液層の肉厚部分
が型側に供給された比較的多くの組成物から成っている
ことは経験上分っている。薄い液部分と厚い液部分との
厚さの差が比較的大きい場合にはその差は著しい。低い
、はとんど均等の粘度を有する複数の液を使用し、押圧
ローラ2を上記式による大きい力でダイロールの表面3
に押し付けることが好ましい。
In such cases, by sandwiching two thin liquid layers together between the pressure roll 2 and the die roll 3 of the nip, a thin liquid layer (11! A large amount of liquid composition is applied to another surface,
That is, a relatively large amount of another liquid composition will be deposited near the mold surface. Experience has shown that the thicker part of the liquid layer in the form of a relief consists of a relatively large amount of the composition supplied to the mold side. If the difference in thickness between the thin liquid portion and the thick liquid portion is relatively large, the difference is significant. Using a plurality of liquids having low and almost uniform viscosity, the pressure roller 2 is applied to the surface 3 of the die roll with a large force according to the above formula.
It is preferable to press the

適当な液の例としては基板面にはTPGDA 50重量
%、0TA48Q  444重量%DMPA 5重量%
、そして型表面にはTPGDA 50重量%、OTA 
48050重量%の混合液である。これらの混合液の粘
度はせん断速度が101で約75CPである。
Examples of suitable liquids include TPGDA 50% by weight, 0TA48Q 444% by weight, DMPA 5% by weight on the substrate surface.
, and the mold surface was coated with 50% TPGDA and OTA.
It is a mixed liquid of 48050% by weight. The viscosity of these mixtures is approximately 75 CP at a shear rate of 101.

TGDDA ト0TA480 はユニオンシミツクペル
シュ社の商品名であり、その化学組成はトリプロピレン
グリコールジアクリレート(triproplene 
gly−coldiacrylate)と分子量が約4
80のオリゴトリアクリL/ −) (oligotr
iacrylate)である。DMPAの化学組成は1
,1−ジメトキシルー1−ビニル−アセトフェノン(1
,1−dimethoxyl −−vinyl−ace
topbenone)である。
TGDDA 0TA480 is a trade name of Union Shimitsuku Perche Co., Ltd., and its chemical composition is tripropylene glycol diacrylate (tripropylene glycol diacrylate).
gly-coldiacrylate) and has a molecular weight of approximately 4.
80 oligotriacrylic L/-) (oligotr
iacrylate). The chemical composition of DMPA is 1
, 1-dimethoxy-1-vinyl-acetophenone (1
,1-dimethoxyl --vinyl-ace
topbenone).

アクリルモノマーとオリゴマーとから成る使用できるも
う1つの共通混合液はN−ビニル−2−ビCI Uド:
/ (N−vinyl −2−pyrol 1done
 )、ベンジルアクリレートt benzylacry
late)、テトラヒト07 /L/ 7リルアクリL
/ −1−(tetrahydro[urf−iryl
 acryl atす、またはバスフ社(RASF)の
製品であるLaronam AR−8496+デグサ社
(Degusa)により商品化されたVP  5270
0のようなトリメチルプロパントリアク+) L/ −
ト(trimethylpropane−triacr
ylate)を含んだものである。アクリレートを除い
ては、エポキシレジン、ポリアクリレートシリコンのよ
うな他の硬化性ポリマーを使ってもよい。
Another common mixture of acrylic monomers and oligomers that can be used is N-vinyl-2-biCIU:
/ (N-vinyl-2-pyrol 1done
), benzyl acrylate
(late), Tetrahuman 07 /L/7 Ryl Acrylic L
/ -1-(tetrahydro[urf-iryl
Acryl atsu or Laronam AR-8496, a product of RASF + VP 5270 commercialized by Degusa
Trimethylpropane triac +) L/- like 0
(trimethylpropane-triacr)
ylate). Apart from acrylates, other curable polymers such as epoxy resins, polyacrylate silicones may also be used.

第1図による装置の型基板は光線源4からの紫外線を通
すために透明番こなっている。実際の型表面から浮き出
たレリーフ構造物の突出部は紫外線を通さない不透明な
材料でできている方がよい。
The mold substrate of the device according to FIG. 1 is transparent to allow the passage of ultraviolet radiation from the light source 4. The protrusions of the relief structure that stand out from the actual mold surface are preferably made of an opaque material that does not transmit ultraviolet light.

型表面のこれらの浮き出し部分に適した材料としてはク
ロミウム、チタニウム、それにカルコゲナイド(cha
l cogenide)ガラスのような成る種のガラス
がある。型表面自体の材料は石英1石英ガラスまたは薄
いプレキシガラスでよく、そのためその表面構造は回転
可能のローラ本体の一部を形成する補助構造により内に
向って支持されている。
Suitable materials for these raised areas on the mold surface include chromium, titanium, and chalcogenide.
There are several types of glass, such as cogenide glass. The material of the mold surface itself may be quartz-1 fused silica or thin plexiglass, so that the surface structure is supported inwardly by an auxiliary structure forming part of the rotatable roller body.

このようなレリーフ構造物は第2図をこ簡単に示されて
いる。本図では参照番号21は透明のローラ面を示し、
22a 、22b 、22Cはレリーフ構造物の紫外線
用不透明部分を指している。23は硬化性液層であり、
24は基板である。紫外線25はこの配置では液フィル
ムの肉厚部分でのみ作用する。先ず化学的拡散後、直接
照射を避けるためにマスクされた液フィルムの部分は硬
化する。
Such a relief structure is shown briefly in FIG. In this figure, reference number 21 indicates a transparent roller surface,
22a, 22b, 22C refer to the UV opaque parts of the relief structure. 23 is a curable liquid layer;
24 is a substrate. In this arrangement, the ultraviolet light 25 acts only on the thick part of the liquid film. First, after chemical diffusion, parts of the liquid film that are masked to avoid direct radiation are cured.

上記組成物のように硬化中に収縮を示す液フィルムの場
合は、液フィルムの薄い部分はより早く硬化しつつある
フィルムの肉厚部分に一部送られることが分っている。
In the case of a liquid film that exhibits shrinkage during curing, such as the composition described above, it has been found that the thinner parts of the liquid film are partially channeled into the thicker parts of the film that are curing more quickly.

このようなことは再三起るので、型表面にレリーフ構造
物を作る際にはこの収縮を考慮に入れてよい。
Since this happens again and again, this shrinkage can be taken into account when creating relief structures on the mold surface.

第1図の装置は熱可塑性液にも使用できる。The apparatus of Figure 1 can also be used with thermoplastic fluids.

この液は流体状では基板表面そして/または型表面に沈
澱するかまたは上記面に存在し、また第1押圧ロール2
から第2押圧ロール6への移送中に冷えて硬化する。こ
の場合、転写精度は高くなり、もし型表面21が相対的
に冷え、熱伝導性であるならば型摩耗は減るのは例えば
型が金属製であるから(この場合型面は紫外線を通すた
めの透明でなくてもよい)であり、またレリーフ構造物
の浮き出し部分22a 、22b 、22C・・・は例
えばテフロンのようなプラスチックまたはガラスのよう
な熱絶縁材からできている。
This liquid, in fluid form, precipitates or is present on the substrate surface and/or mold surface, and is also present on the first pressure roll 2.
It cools and hardens while being transferred from the to the second press roll 6. In this case, the transfer accuracy will be high, and if the mold surface 21 is relatively cool and thermally conductive, mold wear will be reduced, for example because the mold is made of metal (in this case, the mold surface is transparent to ultraviolet light). The raised portions 22a, 22b, 22C, . . . of the relief structure are made of a thermally insulating material such as plastic, such as Teflon, or glass, for example.

本装置はポリビニルクロライドやポリアミドのような有
機性熱可塑性物質や、半田タイプの例えばすず−鉛製半
日または鉛−カドミウム製半田のような無機性熱可塑性
物質の両物質を処理することができる。伝導性無機熱可
塑性物質は電導体をマイクロ電子業界で使われている柔
軟性のあるプリント基板に組立てるのに有利に使用でき
る。
The apparatus is capable of processing both organic thermoplastics such as polyvinyl chloride and polyamides, and inorganic thermoplastics such as solder types such as tin-lead half-metal or lead-cadmium solders. Conductive inorganic thermoplastics can be advantageously used to fabricate electrical conductors into flexible printed circuit boards used in the microelectronic industry.

第1図の装置では、所要のレリーフ構造物を連続して基
板のウェブまたテープ上に実現させる。
In the apparatus of FIG. 1, the required relief structures are successively realized on a web of substrate or tape.

これらのテープまたはウェブから長方形のまたは円形の
部分を切6り出すかまたは打ち抜き、これらの部分を例
えば(柔軟性のある)プリント板または(柔軟性のある
)ビデオディスクとして使用できる。
Rectangular or circular sections can be cut or punched out of these tapes or webs and these sections can be used, for example, as (flexible) printed boards or (flexible) video discs.

本発明の方法を非連続的処理加工においても利用するこ
とができる。この場合、本装置では基板と型表面と線接
触させ、次に硬化段階で面接触させた方が有利であるこ
とが分っている。線接触面に高圧を加えることができる
が、こうすることがレリーフの薄い部分と厚い部分との
厚さの差を大きくするのに有利であることが立証されて
いる。
The method of the invention can also be used in discontinuous processing. In this case, it has been found to be advantageous for the present device to bring the substrate into line contact with the mold surface, followed by surface contact during the curing step. High pressure can be applied to the line contact surface, which has proven advantageous in increasing the difference in thickness between the thin and thick parts of the relief.

実際の硬化処理中はこのような高圧力を加えない方が有
利であることが立証される。その時の過圧は100.0
OOPa  以下、特別の場合は1000Pa 以下で
あることが望ましい。
It proves advantageous not to apply such high pressures during the actual curing process. The overpressure at that time is 100.0
It is desirable that the pressure is OOPa or less, and in special cases it is 1000 Pa or less.

第1図と関連させて説明した連続処理加工においては、
硬化段階で基板テープ内にある湾曲引張力を利用して基
板を型表面に押圧する。この湾曲引張力は1000Pa
J:りもつと小さい、また押圧ローラ2とダイローラ面
3との間のニップにおける最大圧力よりもさらに著しく
小さい通常の基板材に存在する。
In the continuous processing process explained in connection with Fig. 1,
During the curing step, the curved tension within the substrate tape is used to press the substrate against the mold surface. This bending tensile force is 1000Pa
J: Existing in normal substrate materials, the pressure is small and even significantly smaller than the maximum pressure in the nip between the pressure roller 2 and the die roller surface 3.

適当な材料の例としては、ポリエテン テレフタL/ 
−) (polyethene terephthal
ate、デュポン社製マイラー)+ポリイミド(pol
yimide、  デュポン社製カプトン)、ポリメチ
ルメタクリレート(polymethylmethac
rylate、これら全ては場合番こよっては金属化さ
れている)、またアルミニウム。
Examples of suitable materials include polyethene terephtha L/
-) (polythene terephthal
ate, DuPont mylar) + polyimide (pol
yimide, DuPont Kapton), polymethylmethacrylate (polymethylmethacrylate)
rylate, all of which are in some cases metallized), and also aluminum.

チタニウム、或いはステンレススチール製の帯金と云っ
たような帯金がある。基板帯はいくつかの層から成って
おり、例えばこの層は構造キャリヤと機械的支持層とに
分類される。
There are straps such as titanium or stainless steel straps. The substrate strip consists of several layers, which can be divided, for example, into a structural carrier and a mechanical support layer.

本発明の方法は、帯状のダイの上にレリーフ構造物を作
るのにも使用できる。この方法を実施するための装置は
第3図に示されている。
The method of the invention can also be used to create relief structures on band-shaped dies. An apparatus for carrying out this method is shown in FIG.

転写しようとするレリーフを支持するキャリヤバンド3
1は押圧ローラ32を経由してローラ33(ここでは平
滑なローラ)に供給される。ダイバンド40はローラ4
1を経由してローラ33に供給され、ローラ33からは
なれてローラ42を経由して巻き取られる。液供給手段
37と38は液で以てキャリヤ41とダイ40の表面を
濡らす。
Carrier band 3 that supports the relief to be transferred
1 is supplied to a roller 33 (here, a smooth roller) via a pressure roller 32. The die band 40 is the roller 4
It is supplied to the roller 33 via 1, separated from the roller 33, and wound up via the roller 42. Liquid supply means 37 and 38 wet the surfaces of carrier 41 and die 40 with liquid.

本実施態様でも第1図と同じように、光線で硬化する液
を用いてもよく、この場合光線源34と反射器35とは
支持フレーム39の下Iこ取り付ける。
In this embodiment, as in FIG. 1, a liquid that is cured by light may be used, and in this case, the light source 34 and reflector 35 are mounted below the support frame 39.

この場合、ダイバンドもローラ33も第2図の説明と同
じように少なくとも一部分を紫外線透過用に透明にしな
ければならない。
In this case, at least a portion of both the die band and the roller 33 must be made transparent to transmit ultraviolet rays, as described in FIG. 2.

第1図における温度硬化液と同じように、もしくは別の
方法で硬化液を塗布できるが、その場合、ダイバンドと
従ってローラ33とは第1図を参照して述べたと同じ方
法で用いることができる。
The curing liquid can be applied in the same way as the temperature curing liquid in FIG. 1, or in a different manner, in which case the die band and thus the roller 33 can be used in the same manner as described with reference to FIG. .

ダイと基板とはローラ36の附近で分離され、ここで基
板はダイからとりはずされる。その後、ダイはローラ4
2を介して巻き取りリール(図示省略)に引き寄せられ
る。
The die and substrate are separated near rollers 36, where the substrate is removed from the die. Then the die is moved to roller 4
2 to a take-up reel (not shown).

〔効果〕〔effect〕

氷見明番こよる方法と装置は、柔軟性のあるプリント板
1回折格子、格子レンズ、フレネルレンズ。
Akira Himi's methods and equipment include a flexible printed board single diffraction grating, a grating lens, and a Fresnel lens.

LPレコード、コンパクトディスク、ビデオディスク、
所謂ゼロ次の回折格子径のポジ及びディジタルの光テー
プのような製品用のレリーフ構造物を実施するのに利用
される。
LP records, compact discs, video discs,
It is used to implement relief structures for products such as positive and digital optical tapes with so-called zero-order grating diameters.

これらの製品は他の方法や装置で作られた類似製品とは
薄い部分や厚い部分があるレリーフの特性に大きな差異
がある。これらの差異とは著しい厚さの差異や、触媒、
光イニシエータ、内部用離型剤、溶剤、充填5用流体な
どの濃度の違い1重合度の違いまたは重合形態の違い、
結晶化の度合の違いまたは結晶形態の違いなどである。
These products differ significantly from similar products made using other methods and equipment in the relief characteristics, which include thinner and thicker areas. These differences include significant thickness differences, catalysts,
Differences in concentration of optical initiator, internal mold release agent, solvent, filling fluid, etc. 1Difference in degree of polymerization or difference in polymerization form,
These include differences in the degree of crystallization or differences in crystal form.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による装置の第1実施態様を示す図、第
2図はダイ、液層および基板を重ね合わせたものの断面
図、第3図は本発明による第2実施態様を示す図である
。 1・・・基板、2・・・ローラ、3・・・ダイローラ、
4・・・光線源、5・・・反射器、6・・・押圧ローラ
特許出願人  ドクダータ エヌ ヴエー同 代理人 
 鎌   1)  文   二「H 手続補正書(自利 昭和59年11月30日 昭和59年特許願第163464号 2、発明の名称 (新)レリーフ構造を基板に転写する方法及び装置(旧
)レリーフ構造物を基板に転写する方法及び装置3、補
正をする者 事件との関係 特許出願人 氏名(名称)   ドクダータ エ8 ヴエー昭和  
  年     月     日  (発送日)6、補
正により増加する発明の数 補正の内容 1、 本願の発明の名称を「レリーフ構造を基板に転写
する方法及び装置」に訂正します02 別紙の通り明細
書全文を補正します。 明     細    書 1、発明の名称 レリーフ構造を基板に転写する方法及び装置2、特許請
求の範囲 (1)  転写しようとするレリーフのネガ形状に対応
する孔又は突部を備えた型表面と基板との間にが基板に
対してその接触面と垂直以外のいずれの方向にも動かな
いようにし、次に硬化液が硬化するが、その間型表面と
基板との間で相互移動はなく、両者とも初期押圧段階で
の圧力より小さい圧力で押着されたままとし、液硬化後
基板と型表面とを分離させることから成るレリーフ構造
を基板に転写する方法において、高いレリーフ部分を形
成する液部分と低いレリーフ部分を形成する液部分との
間で、硬化処理に影響を及ぼす化学的または物理的パラ
メータにそれぞれ有為な差異がある、ことを特徴とする
レリーフ構造を基板に転写する方法。 (2)  これらの大きく異った化学的または物理的パ
ラメータが液の硬化速度に影響を及ぼすことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載のレリーフ構造を基板に
転写する方法。 (3)2つの面が互いに押着し合った時に作用する圧力
が、高いレリーフ部分を形成する液部分の厚さを低いレ
リーフ部分を形成する液部分の厚さよりも相当大きく、
特に50%以上とするに十分に高圧であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項又は942項に記載のレリー
フ構造を基板に転写する方法。 (4)基板と型表面とが接触線に従って互いに押着し合
い、以後接触したまま保持され、これにより線接触の圧
力が接触状態での圧力より少なくとも10倍大きいこと
を特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれ
かに記載のレリーフ構造を基板に転写する方法。 (5)基板き型表面とを押着させ合うのに必要な圧力が
4 X 10’ x b x h x u x r以上
であり、こ\でbは両面の幅、hは硬化液の粘度、Uは
基板の速度、rは等式1/r=1/r1+1/r2に従
い、rlとr2は入口側における接触線の位置での基板
と型表面とのそれぞれの曲げ半径であることを特徴とす
る特許請求の範囲第4項に記載のレリーフ構造を基板に
転写する方法。 (6)  レリーフ構造の高さの差が100ミクロンよ
りも小さいことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至
第5項のいずれかに記載のレリーフ構造を基板に転写す
る方法。 (7)  高さの差が1ミクロン以下であることを特徴
とする特許請求の範囲第6項に記載のレリーフ構造を基
板に転写する方法。 ! (8)  前記液部の1つにおいて、触媒または光イニ
シエータのような、液の硬化速度を決定する化学成分の
1つの濃度がか相当高く、特に少なくとも50%以上で
あることを特徴とする特許請求の□範囲第1項乃至第7
項のいずれかに記載のレリーフ構造を基板に転写する方
法。 (9)  前記濃度が、高い方のレリーフ部分を形成す
る流体部分において相当高く、特に少なくとも50%以
上であることを特徴とする特許請求の範囲第4項に記載
のレリーフ構造を基板に転写する方法。 10)  第1液の層を基板に付着させ、第2液の層を
型表面に付着させることにより硬化液を型表面と基板と
の間に付着せしめ、これによって両液層の化学的または
物理的パラメータを互いに異らせたことを特徴とする特
許請求;の範囲第1項乃至第9項のいずれかに記載のレ
リーフ構造を基板に転写する方法。 (11)液が電磁光線の作用で硬化し、この光線の強度
が前記液部分の1つにおいて相当高く、特に少なくとも
50%以上であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第10項のいずれかに記載のレリーフ構造を基板
に転写する方法。 Q2+  前記方法において光線強度は高い方のレリー
フ部分を形成するこれらの液部分における方がより強い
ことを特徴とする特許請求の範囲第6項に記載のレリー
フ構造を基板に転写する方法。 Q31  液が熱硬化性の液であり、低い方のしIJ 
−フ部分を形成する液の温度が高い方のレリーフ部分を
形成する液部分の温度よりも高いことを特徴とする特許
請求の範囲第1項乃至第6項のいずれかに記載のレリー
フ構造を基板に転写する方法。 部分を形成する液部分の温度より低いことを特徴とする
特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれかに記載のレ
リーフ構造を基板に転写する方法。 L151  レリーフ構造が100ミクロンより小さい
空間分解能を有することを特徴とする特許請求の範囲第
1項乃至第14項のいずれかに記載のレリーフ構造を基
板に転写する方法。 (161該空間分解能が1ミクロンより小さいことを特
徴とする特許請求の範囲第14項に記載のレリーフ構造
を基板に転写する方法。 (m 基板と型表面とをそれらの間に液層をはさんで互
いに押圧し合った状態に保持する転写ユニットと、基板
をこの転写ユニットに供給する手段と、硬化液を塗付す
る手段とを備えたレリーフ構造を基板に転写する装置に
おいて、薄い液層を基板に塗付する第一液供給手段と、
薄い液層を型表面(こ塗付する第二液供給手段とを備え
たことを特徴とするレリーフ構造を基板に転写する装置
。 α団 少なくとも型レリーフ゛の凹部において型の基質
は波長が200ナノメータ乃至2000ナノメータの間
の波長の電磁光線に対して透過性であり、レリーフ構造
の型表面への突出部分は該電磁光線に対して相当透過性
が小さく、特に少なくとも50%以下であることを特徴
とする特許請求の範囲第17項に記載のレリーフ構造を
基板に転写する装置。 α(支)型表面が良質の熱伝導体、例えば銅、アルミニ
ウム、またはスチールのような金属でできており、レリ
ーフ構造の型表面の突出部分は、例えばプラスチックの
ような非金属製または非金属ガラス製の場合熱伝導性が
相当小さいことを特徴とする特許請求の範囲第17項に
記載のレリーフ構造を基板に転写する装置。 (4)高いレリーフ部分の物理的又は化学的パラメータ
および特性が低いレリーフ部分のパラメータおよび特性
と相当異る、例えば厚さが著しく異ることを特徴とする
特許請求の範囲第1項乃至第19項のいずれかに記載の
方法または装置に組み込まれたレリーフ構造を有するキ
ャリヤ。 (21)高イレリーフ部分の物理的又は化学的パラメー
タおよび特性が低いレリーフ部分のパラメータおよび特
性と相当異る、例えば触媒または反応イニシエータの濃
度、結晶構造または結晶化度、重合構造または重合度に
著しい差異があることを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第20項の。 いずれかに記載の方法または装置に組み込まれたレリー
フ構造を有するキャリア。 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明はレリーフ構造を基板に転写する方法及びとの゛
方法を実施するための装置に関する。 〔従来の技術〕 従来のレリーフ構造を基板に転写する方法では転写しよ
うとするレリーフのネガの形状に対応する孔又は凸部を
有する型表面と基板との間に硬化液を付着させ、その後
型表面と基板とを少なくとも局部的に押着して、型表面
のそれぞれの部分が基板に対してその接触面と垂直以外
のいかなる方向にも動かないようにし、その後硬化液が
硬化するが、その間型表面と基板との間で相互移動はな
く、両者とも初期押圧段階での圧力より小さい圧力で押
着したままとし、液硬化後基板と型表面とを分離させて
いた。 このタイプの方法は例えはアメリカ特許第3,265.
776号に記載されている。この公知の方法では、ウェ
ブ状の型を用い、これをローラを使用して硬化性の液を
塗った基板に押しつける。その後、この押圧し合った基
板と型とをリールに巻きつけ、予定された時間内に液を
硬化させる。その後、少なくとも部分的に硬くなった液
層を付着せしめた基板を型表面から取り外す。 〔発明が解決しようとする問題点〕 この方法では、とくに硬化した液層が付着する基板を型
からはがす時が問題である。型のしIJ −フ構造をう
まく転写させるには、互いに押圧されて密着状になった
型と基板との間に液層を流し込まなければならない。し
かし、その結果、硬化してレリーフの形になった液層が
付着する基板を型からはがす時、この硬化した液層の一
部が型に残るか、または型のレリーフ構造の一部が硬化
した液層と共にはがれることがある。転写の質や型表面
の質が落ちるだけでなく、次の転写の質も極めて不利に
影響し、さらに型表面の寿命も短かくなる。 レリーフ構造部分の寸法がより小さくなればなるほどこ
の問題は益々重要な役割を演する。特に、レリーフの深
さ及び/又は特定の分解能が1o。 μ以下特に1ミクロン以下の微小構造においては、型か
ら転写物を正確にはがさないと転写の精度や型の寿命が
著しく低下する。この種の構造を有する表面の例として
は、分光器による測定用格子、フレネルレンズのような
フラットレンズ、LPレコード、光オーディオディスク
やビデオディスク、デジタルの光テープなどがある。 上記アメリカ特許においては、硬化液の層が型表面に強
く固着しすぎない内に転写物を型からはがすとだけしか
示されていない。しかしこれには、完全に硬化していな
い液層が傷付きやすく、またその後硬化している期間中
は変形(収縮)すると云った不利な点がある。 オランダ特許出願第78.11395号では、型表面か
ら不連続的に転写するのに用いられる同じような方法が
説明されている。光線により硬化する液状樹脂を型表面
に付着させ、光線を通すために透明な基板でカバーする
。次にこの樹脂を基板を介して入って来る光線の作用に
より硬化させ、硬化後、でき上った転写物を型からはが
す。この出願では、金属製型表面、光線で硬化させる特
定組成の樹脂、及び光線を透過させる透明な基板の組合
せが絶対に必要である。この問題がこの組合せを用いた
全ての場合に完全に解決されるものでないことも明らか
である。 ヨーロッハ特許出願第o、 01 s、 s 34号で
もビデオディスクを製造するための同様な方法が説明さ
れている。この出願では樹脂は型に接着しなくてもよい
ことを論じており、さらに金属製の型表面を使用した方
がよいと記載されている。しかし、転写物をはがす問題
の最終的な解決については説明されていない。 本発明の目的は、できた転写物をはがしこれに対応して
転写の精度を改良できることと型の寿命をどのようにし
て延ばすことができるかを示すにある。 〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するため、本発明による転写方法は、
高いレリーフ部分を形成する液部分と低いレリーフ部分
を形成する液部分との間で、硬化処理に影響を及ぼす化
学的または物理的パラナータにそれぞれ有為な差異があ
ることを特徴とする。 また本発明による転写装置は、薄い液層を基板に塗布す
る第一液供給手段と、薄い液層を型表面に塗布する第二
液供給手段とを備えたことを特徴とする。 〔作用〕 本発明によれば、レリーフの高低それぞれの液部分の間
に硬化処理に影響を及ぼす化学的または物理的パラメー
タに関する有為な差異がある場合には、冒頭で述べた方
法でレリーフ構造をよく転写できると同時に型表面の寿
命をのばすことができる。ここで云うパラメータとは例
えばそれぞれの液部分の厚さや、温度、または化学組成
物、または光線で硬化する液の場合は光線強度である。 それぞれの液部分の化学的または物理的パラメータの有
為な差がそれぞれの液部分の硬化速度に影響を与えるの
が好ましい。 例えば、高い方のレリーフ部分を形成する液部分の厚さ
が低い方のレリーフ部分を形成する液部分の厚さよりも
大きく、特に少なくとも50%以上の場合に長寿命と共
に良質の転写ができることが分った。これは驚くべきこ
とである。なぜなら厚さに大きな差異のある転写では、
特に微小なレリーフ構造・1こおいては比較的大きい圧
力を型表面に加えなければならないからである。実験に
よると、大気圧の数百倍乃至数千倍の圧力と型表面の1
ミリメータ当り大気圧の数百倍乃至数千倍の気圧勾配が
得られる。従って、微小なレリーフ構造を作る公知の方
法や装置では、これら高圧やその結果レリーフの構造が
形成される液層の厚さに大きな差異が生じるのを回避し
ていることは驚くには当らない。前述のように、特に厚
さの違いが少なくとも50%以上であり、できれば10
0%の違いが好ましい。レリーフの高さが例えば光読み
取りディスクに通常使用される測定値である0、2ミク
ロンである場合、厚さの違いが50%であるということ
は、レリーフ層の薄い部分がO,Xミクロンより厚くて
はならず、またそのレリーフのもつとも高い部分が0.
3ミクロンより高くてはならないことを意味する。 厚さの差から転写精度が高くなったり、型の寿命が延び
たりすることについて説明できることは、この厚さの差
によって液部分の表面積と体積の割合に大きな差が生じ
、これが硬化速度に大きな差を生じさせることになるで
あろうということである。 硬化中に液が収縮することについては次のように説明で
きる。もし液部分の厚いところと薄いところとの厚さの
差がより大きくなれば、特に厚い液部分が収縮し、この
収縮した液部分は薄い液部分からの液で補充されること
がない。このような場合、厚い液部分は硬化中に型表面
からはがせるようになる。このはがれがすなわち転写精
度の向上や型寿命の延びについての理由である。 好ましい方法によれば、特に上記液部分の1つにおいて
触媒または光イニシエ〜り(反応開始剤)のような液の
硬化速度を決定する化学成分の1つの濃度が相当高く、
少なくとも50%以上高いことが重要である。 関連する化学成分の濃度は厚い方の液部分におけるより
高いのが好ましいことが実験で分った。 この場合、硬化速度の差が転写精度の向上と型表面の寿
命の延長に大きな役割を演する重要な要因であることは
明らかである。 さらにこの場合硬化しつつある液はより早くかつより良
く型表面よりも基板の方に接着する。この利点は本発明
の範囲内で可能な他の方法にも当てはまる。コロナ放電
によって基板表面を前処理するか、エツチングするか、
接着促進材でできたフィルムにより表面を被覆するか、
或いは表面に・イオン着床処理をほどこすかしてこの基
板への接着を改善することができることに注目されたい
。 さらに、オリゴマーメタアクリレートの混合液のような
、紫外線の作用で硬化するポリマー液では、紫外線の強
度が前記液部分の一つにおけるより相当大きい場合型の
寿命が延び、転写精度が改善されるように思われる。こ
こで1〜より相当大きい”ということは硬化させるため
の電磁光線の強度がそれぞれの液部分において少なくと
も50%以上強いことを意味する。 光線の強度は上記の意味でより高いレリーフ断面を形成
するこれらの液部分においてより強いのが好ましいこと
が実験で分った。 他のケースの場合、厚い液部分と薄い液部分との間の温
度差にも同じ確かな効果があることにより、熱硬化性液
は薄い液部分でより暖かくし、また熱可塑性液は厚い液
部分でより暖かくした方が好ましいことが分った。 厚い液部分と薄い液部分との間に物理的または化学的な
差異を生じさせることはそれほど簡単なことではない。 転写しようとするレリーフ構造の高さの差が100ミク
ロン以下で各々では1ミクロン以下と極めて小さく、か
つその空間分解能もこれと同じオーダである場合は特に
そうである。 しかし、この100ミクロン以下で各々では1ミクロン
以下という領域が本発明が特に目ざすところである。 好ましい方法によれば、硬化液を型表面と基板との間に
付着させるが、先ず第1液を基板に付着させ、また型表
面に第2液を付着させることにより両液の化学的または
物理的パラメータが互いに異って来る、 本発明による方法のもつと他の好ましい実施態様やその
方法を実行するための装置の詳細について添付図面を参
照しながら以下詳述する。 〔実施例〕 第1図に示された本発明による装置では、テープまたは
ウェブ1の形をした基板をローラ2に供給し、基板はロ
ーラ2により転写させようとする型表面を有する型ロー
ラ3に強く押圧させる。 この処理に必要な力は次に挙げる処理パラメータによっ
て異ることが分っている。即ち、ローラ幅す、硬化性流
体の粘度り、ウェブの速度u、2つの押圧ローラの半径
r1とr2.ローラ表面の硬度とウェブ材の硬度。 ローラの表面が硬く、ウェブ材が12ミクロンの厚さの
マイラフィルム(デュポンの商標名)のように薄くて、
かたい場合は力fは4 X 10’ x bxhxux
rより大きいことが実験で分っている。 半径rは等式1/r = l/r 1 + l/r 2
による。ディメンジョンはメトリック単位(K9/m/
8)で表わす。 流体の粘度は高ぜん断率、とくに106X uの逆数秒
(メトリック単位のディメンジョン)以上で測定しなけ
ればならない。 ローラがゴムで被覆されている時、または厚さが1閣の
ポリカルボネートフィルムのようなより厚いフィルムを
使用する時には、所要のローラカは著しく高い、即ち上
記式に従って計算されたより10倍以上高いものでなけ
ればならないことが分る。 第1図による装置では、基板と型とが互いに押し付けら
れる前に湿潤手段(図示省略)によって硬化性流体を以
て湿めらせる。湿潤手段は公知のもの、例えば湿めらせ
ようとする表面の動きと反対方向に回転するローラか、
湿めらせようとする表面の幅をカバーする細長い抽出口
か、またはローラニップの液溜めであってもよい。 第1図による装置では、硬化液を回転している型表面と
型ローラに巻かれた基板テープとの間に塗る。第1図の
型表面は紫外線用の透明なもので、液は光線源4から出
た紫外線により硬化するが、この紫外線は上側部で反射
器5により反射されるため、押圧ローラ2と6との間の
型表面の部分だけに紫外線が当る。光線源4も反射器5
も回転している型ローラ3内の固定位置に取り付けられ
ている。硬化後基板はそこに接着し、硬化したレリ−フ
構造を担持しながら型表面からはずされ、押圧ローラ6
を通ってざらに移送される。型ローラ3、押圧ローラ2
と6、光線源4、反射器5などは支持フレーム9に接続
されている。 この装置では、2つの液供給手段を使って7と8の辺り
で基板と型のそれぞれの表面に液を塗ることによって液
部分の薄い組成物とは異る厚い液部分の化学組成物を作
ることができ、これにより前記液層のそれぞれの厚さは
転写しようとするレリーフ構造の厚さよりも厚い。この
ような場合、2つの薄い層状の液層を押圧ローラ2と型
ローラ3との間の挟持部に共にはさむことによりその片
面に層状の接着剤が付着するため、一方の液組成分が比
較的多量に基板の表面に付き、もう1つの表面、即ち型
表面の近くには別の液組成物が比較的多量に付くことに
なる。レリーフの型をした液層の肉厚部分が型側に供給
された組成物から比較的多く成っていることは経験上分
っている。薄い液部分と厚い液部分との厚さの差が比較
的大きい場合に−はその差は著しい。低い、はとんど同
等の粘度を有する複数の液を使用し、押圧ローラ2を上
記式による大きい力で型ローラの表面3に押し付けるこ
とが好ましい。 適当な液の例としては基板面にはTPODA 50重量
%、0TA480 44重量%、DMPA 5重量%、
そして型表面にはTPGDA  50重量%、0TA4
80 50重量%の混合液である。これらの混合液の粘
度はせん断速度が105/秒で約75 CPである。T
GDDAとOTA 48Q  はユニオンシミツクペル
シュ社の商標名であり、その化学組成はトリプロピレン
グリコールジアクリレート(triproplene 
glycoldiacrylate )  と分子量が
約480のオリゴトリアクリレート(oligotri
acrylate )である。DMPAの化学組成はl
、1−ジメトキシルー1−ビニル−アセトフェノン(1
,j−dimethoxyl −−vinyl −ac
etophenone )である。 アクリルモノマーとオリゴマーとから成る使用できるも
う1つの共通混合液はN−ビニル−2−ピロリド7 (
N −vinyl −2−pyrolidone ) 
、  ベンジルアクリレート(benzylacryl
ate ) 、テトラヒドロフルフリルアクリレート(
tetrahydrofu −rfirylacryl
ate ) 、またはバスフ社(BASF )の製品で
あるLaronam AR−8496、デグサ社(De
gusa )により商品化されたVP 52700のよ
うなトリメチルプロパントリアクリレート(trime
thylpropanetriacrylate )を
含んだものである。アクリレートを除いては、エポキシ
レジン。 ポリアクリレートシリコンのような他の硬化性ポリマー
を使ってもよい。 第1図による装置の型は光線源4からの紫外線を通すた
めに透明になっている。実際の型表面から浮き出たレリ
ーフ構造の突出部は紫外線を通さない不透明な材料でで
きている方がよい。型表面のこれらの浮き出し部分に適
した材料としてはクロミウム、チタニウム、それにカル
コゲナイド(chalcogenide )ガラスのよ
うな成る種のガラスがある。型表面自体の材料は石英1
石英ガラスまたは薄いプレキシガラスでよく、そのため
その表面構造は回転可能のローラ本体の一部を形成する
補助構造により内に向って支持されている。 このようなレリーフ構造を第2図に簡単に示す。 本図では参照番号21は透明のローラ面を示し、22a
 、22b 、22Cはレリーフ構造の紫外線用不透明
部分を指している。23は硬化性液層であり、24は基
板である。紫外線25はこの配置では液フィルムの肉厚
部分でのみ作用する。先ず化学的に拡散した後、直接照
射を避けるためにマスクされた液層部分も硬化する。上
記組成物のような硬化中に収縮を示す液層の場合、液層
の薄い部分は、より早く硬化する液層の肉厚部分に一部
送られることが分った。このようなことは再三起るので
、型表面にレリーフ構造を転写する際にはこの収縮を考
慮に入れることができる。 第1図の装置は熱可塑性液にも使用できる。この液は流
体状では基板表面及び/又は型表面に付着するかまたは
前記面上に存在し、第一押圧ローラ2から第二押圧ロー
ラ6への移送中に冷えて硬化する。この場合、転写精度
を高くでき、しかももし型表面21が相対的に冷却され
かつ熱伝導性であれば型の摩耗を減少させることができ
るが、これは例えば型が金属製(この場合型表面は紫外
線を通すため透明でなくてもよい)だからであり、また
レリーフ構造の浮き出し部分22a 、22b。 22C・・・が例えばテフロンのようなプラスチックま
たはガラスのような熱絶縁材からできているからである
。 本装置はポリビニルクロライドやポリアミドのような有
機性熱可塑性物質や、半田タイプ例えばすず−鉛製半日
または鉛−カドミウム製半田のような無機の熱可塑性物
質の両物質を処理することができる。無機の伝導性熱可
塑性物質は電導体をマイクロ電子業界で使われている柔
軟性のあるプリント基板に組立てるのに有利に使用でき
る。 第1図の装置では、所要のレリーフ構造を連続して基板
のウェブまたテープ上に実現させる。これらのテープま
たはウェブから長方形のまたは円形の部分を切り出すか
または打ち抜き、これらの部分を例えば(柔軟性のある
)プリント板または(柔軟性のある)ビデオディスクと
して使用できる。 本発明の方法を非連続的処理加工においても利用するこ
とができる。この場合、本装置では基板と型表面とを線
接触させ、次に硬化段階で面接触させると有利であるこ
とが分った。線接触面に高圧を加えることができるが、
こうするとレリーフの薄い部分と厚い部分との厚さの差
を大きくするのに有利であることが立証されている。し
かし、実際の硬化処理中はこのような高圧力を加えない
方が有利であることが立証されている。この時の過圧は
ioo、ooopa以下、特別の場合1000Pa以下
であることが望ましい。 第1図と関連させて説明した連続処理加工においては、
硬化段階で基板テープ内にある湾曲引張力を利用して基
板を型表面に押圧する。この湾曲引張力は、1000p
a よりもつと小さく、しかも押圧ローラ2と型ローラ
面3との間の挾持部における最大圧力よりも相当小さい
通常の基板材内に生ずる。 適当な材料の例としては、ポリエテン テレフタL/ 
−ト(polyethene terepththal
ate、デュポン社製マイラー)、ポリイミド(pol
yimide、デュポン社製カプトン)、ポリメチルメ
タクリレート(polymethylmethacry
late 、これら全ては場合によっては金属化されて
いる)、またアルミニウム。 チタニウム、或いはステンレススチール製のような板金
がある。基板の板金はいくつかの層から成り、例えば構
造キャリヤと機械的支持層とに区分される。 本発明の方法は、帯状の型の上にレリーフ構造を作るの
にも使用できる。この方法を実施するための装置が第3
図に示されている。 転写しようとするレリーフを支持するキャリヤバンド3
1は押圧ローラ32を経由してローラ田(ここでは平滑
なローラ)に供給される。型バンド40はローラ41を
経由してローラ33に供給され、ローラ33からはなれ
てローラ42を経由して巻き取られる。液供給手段37
と38は液で以てキャリヤ41と型40の表面を濡らす
。本実施態様でも第1図と同じように、光線で硬化する
液を用いてもよく、この場合光線源34と反射器35と
は支持フレーム39の下に取り付ける。この場合、型バ
ンドもローラ33も第2図の説明と同じような少なくと
も一部分を紫外線透過用に透明にしなければならない。 第1図における温度硬化液と同じように、もしくは別の
方法で硬化液を塗布できるが、その場合、型バンドと従
ってローラ33とは第1図を参照して述べたと同じ方法
で用いることかもきるr0型と基板とはt゛ローラ36
附近で分離され、ここで基板は型から取り外される。そ
の後、型はローラ42を介して巻き取りリール(図示省
略)に引き寄せられる。 〔効果〕 本発明による方法と装置は、柔軟性のあるプリント板2
回折格子、格子レンズ、フレネルレンズ。 LPレコード、コンパクトディスク、ビデオディスク、
所謂ゼロ次の回折格子径のポジ及びディジタルの光テー
プのような製品にレリーフ構造を実施するのに利用され
る。 これらの製品は他の方法や装置で作られた類似製品とは
薄い部分や厚い部分があるレリーフの特性に大きな差異
がある。これらの差異とは著しい厚さめ差異や、触媒シ
、光イニシエータ、内部用離型剤、溶剤、充填用流体な
どの濃度の違い、重合度の違いまたは重合形態の違い、
結晶化の度合いの違いまたは結晶形態の違いなどである
。 4、図面の簡単な説明 第1図は本発明による装置の第1実施態様を示す図、第
2図は型、液層および基板を重ね合わせたものの断面図
、第3図は本発明による第2実施態様を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the device according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a die, a liquid layer, and a substrate stacked together, and FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the device according to the present invention. be. 1... Board, 2... Roller, 3... Die roller,
4...Light source, 5...Reflector, 6...Press roller Patent applicant Dokudata N.V.A. Agent
Sickle 1) Sentence 2 "H Procedural Amendment (Juri November 30, 1981 Patent Application No. 163464 2, Title of Invention (New) Method and Apparatus for Transferring a Relief Structure onto a Substrate (Old) Relief Relationship between the method and device for transferring a structure onto a substrate 3 and the case of the person making the amendment Patent applicant name (name) Dokudata E8 Vue Showa
Year, month, day (shipment date) 6, Number of inventions increased by amendment Contents of amendment 1. The name of the invention of the present application is corrected to "Method and apparatus for transferring a relief structure to a substrate" 02 Full text of the specification as attached. will be corrected. Description 1, Name of the invention Method and apparatus for transferring a relief structure onto a substrate 2, Claims (1) A mold surface provided with holes or protrusions corresponding to the negative shape of the relief to be transferred, and a substrate. the mold surface and the substrate do not move in any direction other than perpendicular to its contact surface, and then the curing liquid cures, with no reciprocal movement between the mold surface and the substrate, both of which In a method of transferring a relief structure to a substrate, which consists of keeping the substrate pressed at a pressure lower than the pressure at the initial pressing stage and separating the substrate and mold surface after the liquid hardens, the liquid part forming the high relief part and the mold surface are separated. A method for transferring a relief structure to a substrate, characterized in that there is a significant difference in chemical or physical parameters that affect the curing process between the liquid part forming the low relief part and the liquid part forming the low relief part. (2) A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 1, characterized in that these widely different chemical or physical parameters influence the curing speed of the liquid. (3) The pressure exerted when the two surfaces are pressed against each other causes the thickness of the liquid part forming the high relief part to be considerably greater than the thickness of the liquid part forming the low relief part;
943. A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 1 or 942, characterized in that the pressure is sufficiently high, especially at least 50%. (4) The substrate and the mold surface press against each other along a line of contact and thereafter remain in contact, so that the pressure at the line contact is at least 10 times greater than the pressure at the contact state. A method of transferring a relief structure according to any one of the first to third aspects to a substrate. (5) The pressure required to press the substrate mold surface against each other is 4 x 10' x b x h x u x r or more, where b is the width of both sides and h is the viscosity of the curing liquid. , U is the velocity of the substrate, r follows the equation 1/r=1/r1+1/r2, and rl and r2 are the respective bending radii of the substrate and mold surface at the location of the contact line on the inlet side. A method of transferring a relief structure according to claim 4 to a substrate. (6) A method for transferring a relief structure to a substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the difference in height of the relief structure is less than 100 microns. (7) A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 6, wherein the difference in height is 1 micron or less. ! (8) A patent characterized in that in one of the liquid parts, the concentration of one of the chemical components determining the curing rate of the liquid, such as a catalyst or a photoinitiator, is considerably high, in particular at least 50% or more. □Claims □Claims 1 to 7
A method of transferring the relief structure according to any of the above to a substrate. (9) Transferring the relief structure according to claim 4 to a substrate, characterized in that the concentration is considerably higher in the fluid part forming the higher relief part, in particular at least 50% or more. Method. 10) By depositing a layer of the first liquid on the substrate and a layer of the second liquid on the mold surface, the curing liquid is deposited between the mold surface and the substrate, thereby causing chemical or physical damage to both liquid layers. A method for transferring a relief structure to a substrate according to any one of claims 1 to 9, characterized in that the physical parameters are different from each other. (11) The liquid is cured under the action of electromagnetic radiation, the intensity of which is considerably high in one of the liquid parts, in particular at least 50% or more.
A method for transferring the relief structure according to any one of items 1 to 10 onto a substrate. Q2+ A method for transferring a relief structure onto a substrate according to claim 6, characterized in that in the method, the light beam intensity is stronger in those liquid parts forming the higher relief parts. Q31 The liquid is a thermosetting liquid and the lower IJ
- The relief structure according to any one of claims 1 to 6, wherein the temperature of the liquid forming the relief part is higher than the temperature of the liquid part forming the higher relief part. How to transfer onto a substrate. 7. A method for transferring a relief structure onto a substrate according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the temperature is lower than the temperature of the liquid portion forming the part. L151 A method for transferring a relief structure to a substrate according to any one of claims 1 to 14, characterized in that the relief structure has a spatial resolution of less than 100 microns. (161) A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 14, characterized in that the spatial resolution is less than 1 micron. In an apparatus for transferring a relief structure onto a substrate, the apparatus includes a transfer unit that holds the substrate in a pressed state between the two, a means for supplying the substrate to the transfer unit, and a means for applying a hardening liquid. a first liquid supply means for applying the liquid to the substrate;
An apparatus for transferring a relief structure onto a substrate, characterized by comprising a second liquid supply means for applying a thin liquid layer to the mold surface. It is characterized by being transparent to electromagnetic light having a wavelength between 2,000 nanometers and 2,000 nanometers, and the protruding portion of the relief structure to the mold surface has a considerably low transmittance to the electromagnetic light, particularly at least 50% or less. An apparatus for transferring a relief structure to a substrate according to claim 17, wherein the α (support) surface is made of a good thermal conductor, for example a metal such as copper, aluminum or steel, The relief structure according to claim 17, characterized in that the protruding portion of the mold surface of the relief structure has considerably low thermal conductivity when made of non-metallic material such as plastic or non-metallic glass. (4) The physical or chemical parameters and properties of the high relief part are significantly different from the parameters and properties of the low relief part, for example the thickness is significantly different. A carrier having a relief structure incorporated in the method or apparatus according to any of paragraphs 1 to 19. (21) The physical or chemical parameters and properties of the high relief part are comparable to those of the low relief part. Claim 1 characterized in that there is a significant difference, for example in the concentration of the catalyst or reaction initiator, in the crystal structure or degree of crystallinity, in the polymerization structure or degree of polymerization.
Items 20 to 20. A carrier having a relief structure incorporated into a method or apparatus according to any of the claims. 3. Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for transferring a relief structure to a substrate and an apparatus for carrying out the method. [Prior art] In the conventional method of transferring a relief structure to a substrate, a curing liquid is deposited between the substrate and the surface of a mold having holes or convex portions corresponding to the negative shape of the relief to be transferred, and then the mold is removed. The surface and the substrate are at least locally pressed together so that each part of the mold surface cannot move relative to the substrate in any direction other than perpendicular to its contact surface, and then the curing liquid cures, while There was no mutual movement between the mold surface and the substrate, and both remained pressed together with a pressure lower than the pressure at the initial pressing stage, and the substrate and mold surface were separated after liquid curing. This type of method is illustrated in US Pat. No. 3,265.
It is described in No. 776. This known method uses a web-like mold which is pressed using rollers onto a substrate coated with a curable liquid. Thereafter, the pressed substrate and mold are wound around a reel, and the liquid is cured within a scheduled time. The substrate with the at least partially hardened liquid layer is then removed from the mold surface. [Problems to be Solved by the Invention] This method poses a problem, particularly when the substrate to which the cured liquid layer is attached is to be peeled off from the mold. In order to successfully transfer the IJ-F structure of the mold, a liquid layer must be poured between the mold and the substrate, which are pressed together and brought into close contact. However, as a result, when the substrate to which the cured liquid layer in the form of a relief is attached is removed from the mold, a part of this cured liquid layer remains on the mold, or a part of the relief structure of the mold is hardened. It may peel off along with the liquid layer. Not only does the quality of the transfer and the quality of the mold surface deteriorate, but the quality of subsequent transfers is also extremely adversely affected, and the life of the mold surface is also shortened. This problem plays an increasingly important role the smaller the dimensions of the relief structure become. In particular, the relief depth and/or specific resolution is 1o. For microstructures smaller than microns, especially smaller than 1 micron, if the transferred material is not accurately removed from the mold, the accuracy of the transfer and the life of the mold will be significantly reduced. Examples of surfaces with structures of this type are spectroscopic measurement gratings, flat lenses such as Fresnel lenses, LP records, optical audio and video discs, digital optical tapes, etc. The US patent only states that the transfer should be removed from the mold before the layer of hardening liquid adheres too tightly to the mold surface. However, this has the disadvantage that the liquid layer, which is not fully cured, is easily damaged and deforms (shrinks) during subsequent curing. Dutch patent application No. 78.11395 describes a similar method used for discontinuous transfer from a mold surface. A liquid resin that is cured by light is applied to the mold surface and covered with a transparent substrate to allow the light to pass through. This resin is then cured by the action of light beams entering through the substrate, and after curing the resulting transfer is removed from the mold. In this application, the combination of a metal mold surface, a resin of a specific composition that is cured by light, and a transparent substrate that is transparent to the light is absolutely necessary. It is also clear that this problem is not completely solved in all cases using this combination. A similar method for manufacturing video discs is also described in European patent application no. o, 01 s, s 34. This application discusses that the resin does not have to adhere to the mold, and further states that it is better to use a metal mold surface. However, a final solution to the problem of peeling off the transcript is not described. The purpose of the invention is to show how the resulting transfer can be removed and the accuracy of the transfer correspondingly improved and the lifetime of the mold can be extended. [Means for solving the problems] In order to solve the above problems, the transfer method according to the present invention includes:
It is characterized by a significant difference in the chemical or physical paranata which influences the hardening process between the liquid part forming the high relief area and the liquid part forming the low relief area, respectively. Further, the transfer device according to the present invention is characterized in that it includes a first liquid supply means for applying a thin liquid layer to a substrate, and a second liquid supply means for applying a thin liquid layer to a mold surface. [Operation] According to the present invention, if there is a significant difference between the high and low liquid parts of the relief in terms of chemical or physical parameters that affect the hardening process, the relief structure is cured by the method described at the beginning. can be transferred well and at the same time extend the life of the mold surface. The parameters mentioned here are, for example, the thickness of the respective liquid portion, the temperature, or the chemical composition or, in the case of liquids that are cured by light, the intensity of the light beam. Preferably, significant differences in the chemical or physical parameters of each liquid portion affect the rate of cure of each liquid portion. For example, it has been found that when the thickness of the liquid part forming the higher relief part is greater than the thickness of the liquid part forming the lower relief part, especially at least 50%, long life and good quality transfer can be achieved. It was. This is surprising. This is because in transfers with large differences in thickness,
This is because a relatively large pressure must be applied to the mold surface, especially in the case of minute relief structures. According to experiments, the pressure on the mold surface is several hundred to several thousand times higher than atmospheric pressure.
A pressure gradient of hundreds to thousands of times the atmospheric pressure can be obtained per millimeter. It is therefore not surprising that known methods and devices for producing micro-relief structures avoid these high pressures and the resulting large differences in the thickness of the liquid layer in which the relief structures are formed. . As mentioned above, in particular the difference in thickness is at least 50%, preferably 10%.
A difference of 0% is preferred. If the height of the relief is, for example, 0.2 microns, which is the measurement normally used for optically readable discs, a difference in thickness of 50% means that the thinner part of the relief layer is less than O,X microns. It must not be too thick, and the highest part of the relief must be 0.
This means that it should not be higher than 3 microns. The reason why the difference in thickness improves transfer accuracy and extends the life of the mold is that this difference in thickness creates a large difference in the ratio of surface area to volume of the liquid part, which has a large effect on the curing speed. This means that it will make a difference. The contraction of the liquid during curing can be explained as follows. If the difference in thickness between the thick and thin parts of the liquid section becomes larger, the thicker part in particular will shrink, and this contracted liquid part will not be replenished with liquid from the thinner part. In such cases, the thick liquid portion becomes able to be peeled off the mold surface during curing. This peeling is the reason for improving transfer accuracy and extending mold life. According to a preferred method, the concentration of one of the chemical components determining the curing rate of the liquid, such as a catalyst or a photoinitiator, is considerably high, especially in one of the liquid parts;
It is important that it is at least 50% higher. Experiments have shown that the concentration of the relevant chemical constituents is preferably higher in the thicker liquid portion. In this case, it is clear that the difference in curing speed is an important factor that plays a major role in improving transfer accuracy and extending the life of the mold surface. Moreover, in this case the hardening liquid adheres faster and better to the substrate than to the mold surface. This advantage also applies to other possible methods within the scope of the invention. Pretreat or etch the substrate surface by corona discharge,
Cover the surface with a film made of an adhesion promoter, or
It is noted that the surface may alternatively be subjected to an ion implantation treatment to improve adhesion to this substrate. Furthermore, in polymer liquids that harden under the action of ultraviolet light, such as mixtures of oligomeric methacrylates, mold life may be extended and transfer accuracy may be improved if the intensity of the ultraviolet light is considerably greater than in one of said liquid parts. It seems to me. Here, "considerably greater than 1" means that the intensity of the electromagnetic light for curing is at least 50% stronger in each liquid part.The intensity of the light rays forms a higher relief cross section in the above sense. Experiments have shown that it is preferable to be stronger in these liquid parts.In other cases, the temperature difference between thick and thin liquid parts has the same positive effect, so It has been found that it is preferable for thermoplastic liquids to be warmer in thinner parts, and for thermoplastic liquids to be warmer in thicker parts.There are physical or chemical differences between thick and thin parts. It is not so easy to generate this.If the difference in height of the relief structures to be transferred is extremely small, less than 100 microns, each of which is less than 1 micron, and the spatial resolution is also on the same order. However, this region of less than 100 microns, each of less than 1 micron, is particularly targeted by the present invention. According to a preferred method, the curing liquid is deposited between the mold surface and the substrate, but first Another preferred embodiment of the method according to the invention is that the first liquid is applied to the substrate and the second liquid is applied to the mold surface, so that the chemical or physical parameters of the two liquids differ from each other. Details of an apparatus for carrying out the method will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.Example: In the apparatus according to the invention shown in FIG. 2, and the substrate is strongly pressed by roller 2 against mold roller 3, which has the mold surface to be transferred.It has been found that the force required for this process varies depending on the following process parameters: , roller width, viscosity of the hardening fluid, web speed u, radius r1 and r2 of the two pressure rollers, hardness of the roller surface and hardness of the web material.The roller surface is hard and the web material is 12 microns thick. It's thin like Sano Mylar film (DuPont's trademark name),
If it is hard, the force f is 4 x 10' x bxhxux
Experiments have shown that it is larger than r. The radius r is the equation 1/r = l/r 1 + l/r 2
by. Dimensions are in metric units (K9/m/
8). The viscosity of the fluid must be measured at high shear rates, especially at reciprocal seconds of 106X u (dimension in metric units) or higher. When the rollers are coated with rubber or when using thicker films such as polycarbonate films with a thickness of 1 mm, the required roller force is significantly higher, i.e. more than 10 times higher than calculated according to the above formula. I know it has to be something. In the apparatus according to FIG. 1, the substrate and mold are moistened with a curable fluid by wetting means (not shown) before they are pressed together. The wetting means may be of any known type, for example rollers rotating in the opposite direction to the movement of the surface to be moistened;
It may be an elongated spout covering the width of the surface to be wetted, or a roller nip sump. In the apparatus according to FIG. 1, the curing liquid is applied between the rotating mold surface and the substrate tape wrapped around the mold roller. The surface of the mold shown in FIG. 1 is transparent for ultraviolet rays, and the liquid is cured by the ultraviolet rays emitted from the light source 4, but since this ultraviolet ray is reflected by the reflector 5 on the upper side, the pressure rollers 2 and 6 The ultraviolet rays only hit the part of the mold surface between the molds. Light source 4 and reflector 5
The mold roller 3 is also mounted at a fixed position within the rotating mold roller 3. After curing, the substrate is adhered thereto, and is removed from the mold surface while supporting the cured relief structure, and is pressed against the pressing roller 6.
It is transported roughly through the Mold roller 3, pressure roller 2
and 6, a light source 4, a reflector 5, etc. are connected to a support frame 9. In this device, two liquid supply means are used to apply the liquid to the respective surfaces of the substrate and the mold at around 7 and 8, thereby creating a chemical composition in the thick liquid part that is different from the thin composition in the liquid part. , whereby the thickness of each of said liquid layers is greater than the thickness of the relief structure to be transferred. In such a case, two thin liquid layers are sandwiched between the pressure roller 2 and the mold roller 3, and a layer of adhesive adheres to one side of the two, so the composition of one liquid is compared. A relatively large amount of another liquid composition will be deposited on another surface, ie, near the mold surface, in a relatively large amount. Experience has shown that the thick part of the liquid layer in the form of a relief consists relatively largely of the composition supplied to the mold side. If the difference in thickness between the thin liquid portion and the thick liquid portion is relatively large, the difference is significant. It is preferable to use a plurality of liquids having low or almost equal viscosities and to press the pressure roller 2 against the surface 3 of the mold roller with a large force according to the above formula. Examples of suitable liquids include 50% by weight of TPODA, 44% by weight of 0TA480, 5% by weight of DMPA,
And on the mold surface, 50% by weight of TPGDA, 0TA4
80 50% by weight mixed liquid. The viscosity of these mixtures is approximately 75 CP at a shear rate of 105/sec. T
GDDA and OTA 48Q are trade names of Union Shimitsuku Perche Co., Ltd., and their chemical composition is tripropylene glycol diacrylate (tripropylene glycol diacrylate).
glycoldiacrylate) and oligotriacrylate (oligotriacrylate) with a molecular weight of approximately 480.
acrylate). The chemical composition of DMPA is l
, 1-dimethoxy-1-vinyl-acetophenone (1
,j-dimethoxyl --vinyl-ac
etophenone). Another common mixture of acrylic monomers and oligomers that can be used is N-vinyl-2-pyrrolide 7 (
N-vinyl-2-pyrolidone)
, benzyl acrylate
ate), tetrahydrofurfuryl acrylate (
tetrahydrofu-rfirylacryl
ate), or Laronam AR-8496, a product of BASF, and Degussa (De
Trimethylpropane triacrylate (trime
thylpropanetriacrylate). Epoxy resin except for acrylate. Other curable polymers such as polyacrylate silicone may also be used. The type of device according to FIG. 1 is transparent to allow the passage of ultraviolet radiation from the light source 4. The protruding parts of the relief structure that stand out from the actual mold surface are preferably made of an opaque material that does not transmit ultraviolet light. Suitable materials for these raised portions of the mold surface include chromium, titanium, and certain glasses such as chalcogenide glasses. The material of the mold surface itself is quartz 1
It may be quartz glass or thin plexiglass, so that the surface structure is supported inwardly by an auxiliary structure forming part of the rotatable roller body. Such a relief structure is briefly shown in FIG. In this figure, reference number 21 indicates a transparent roller surface, and 22a
, 22b and 22C refer to the ultraviolet opaque portions of the relief structure. 23 is a curable liquid layer, and 24 is a substrate. In this arrangement, the ultraviolet light 25 acts only on the thick part of the liquid film. After first being chemically diffused, portions of the liquid layer that are masked to avoid direct irradiation are also cured. It has been found that for liquid layers that exhibit shrinkage during curing, such as the compositions described above, the thinner parts of the liquid layer are partially channeled into the thicker parts of the liquid layer that harden more quickly. Since this happens again and again, this shrinkage can be taken into account when transferring the relief structure to the mold surface. The apparatus of Figure 1 can also be used with thermoplastic fluids. In fluid form, this liquid adheres to or is present on the substrate surface and/or mold surface, and cools and hardens during the transfer from the first pressure roller 2 to the second pressure roller 6. In this case, the transfer accuracy can be increased, and if the mold surface 21 is relatively cooled and thermally conductive, the wear of the mold can be reduced. 22a and 22b of the relief structure. This is because 22C... is made of a thermally insulating material such as plastic such as Teflon or glass. The apparatus is capable of processing both organic thermoplastics such as polyvinyl chloride and polyamide, and inorganic thermoplastics such as solder types such as tin-lead half-metal or lead-cadmium solders. Inorganic conductive thermoplastics can be advantageously used to fabricate electrical conductors into flexible printed circuit boards used in the microelectronic industry. In the apparatus of FIG. 1, the required relief structures are successively realized on a web of substrate or tape. Rectangular or circular sections can be cut or punched out of these tapes or webs and these sections can be used, for example, as (flexible) printed boards or (flexible) video discs. The method of the invention can also be used in discontinuous processing. In this case, it has been found to be advantageous in the present device to bring the substrate into line contact with the mold surface, followed by surface contact during the curing step. Although high pressure can be applied to the line contact surface,
This has proven advantageous in increasing the difference in thickness between the thin and thick parts of the relief. However, it has proven advantageous not to apply such high pressures during the actual curing process. The overpressure at this time is desirably below ioo or ooopa, and in special cases below 1000 Pa. In the continuous processing process explained in connection with Fig. 1,
During the curing step, the curved tension within the substrate tape is used to press the substrate against the mold surface. This bending tensile force is 1000p
a is generated in normal substrate materials which is smaller than the maximum pressure at the nip between the pressure roller 2 and the mold roller surface 3, which is considerably smaller than the maximum pressure at the nip. Examples of suitable materials include polyethene terephtha L/
-to(polythene terepththal)
ate, DuPont mylar), polyimide (pol
yimide, Kapton manufactured by DuPont), polymethylmethacrylate (polymethylmethacrylate)
late, all of which are in some cases metallized), and also aluminum. There are sheet metals such as titanium or stainless steel. The sheet metal of the substrate consists of several layers, for example divided into a structural carrier and a mechanical support layer. The method of the invention can also be used to create relief structures on strip-shaped molds. The device for carrying out this method is the third
As shown in the figure. Carrier band 3 that supports the relief to be transferred
1 is supplied to a roller field (here, a smooth roller) via a pressure roller 32. The mold band 40 is supplied to the roller 33 via the roller 41, separated from the roller 33, and wound up via the roller 42. Liquid supply means 37
and 38 wet the surfaces of carrier 41 and mold 40 with a liquid. In this embodiment, as in FIG. 1, a liquid that is cured by light may be used, in which case the light source 34 and reflector 35 are mounted below the support frame 39. In this case, both the mold band and the roller 33 must be at least partially transparent for UV transmission as described in FIG. The curing liquid may be applied in the same manner as the temperature curing liquid in FIG. 1, or in a different manner, in which case the mold band and thus the roller 33 may be used in the same manner as described with reference to FIG. The r0 type and the board are t'roller 36.
The substrate is then separated from the mold and removed from the mold. Thereafter, the mold is drawn to a take-up reel (not shown) via rollers 42. [Effect] The method and apparatus according to the present invention provide flexible printed circuit boards 2
Diffraction gratings, grating lenses, Fresnel lenses. LP records, compact discs, video discs,
It is used to implement relief structures in products such as positive and digital optical tapes with so-called zero-order grating diameters. These products differ significantly from similar products made using other methods and equipment in the relief characteristics, which include thinner and thicker areas. These differences include significant differences in thickness, differences in the concentration of catalysts, photoinitiators, internal mold release agents, solvents, filling fluids, etc., differences in degree of polymerization, or differences in polymerization form.
These include differences in the degree of crystallization or differences in crystal form. 4. Brief description of the drawings FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the apparatus according to the present invention, FIG. FIG. 2 is a diagram showing two embodiments.

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)転写しようとするレリーフのネガ形状に対応する
孔又は突部を備えた型表面と基板との間に硬化液を付着
させ、その後型表面と基板とを少なくとも局部的に押着
し、型表面のそれぞれの部分と基板とは接触面と垂直以
外のいかなる方向にも動かず、次に硬化液が硬化するが
、その間型表面と基板との間には相互移動がなく、両方
とも初期押圧段階での圧力よりも小さい圧力で押着され
たままでおり、液硬化後、基板と型表面とを分離させる
レリーフ構造物を基板に転写する方法において、高いレ
リーフ部分を形成する液部分と、低いレリーフを形成す
る液部分との、硬化処理を左右する化学的または物理的
パラメータがそれぞれ大きく異つていることを特徴とす
るレリーフ構造物を基板に転写する方法。
(1) Applying a curing liquid between the substrate and the surface of the mold having holes or protrusions corresponding to the negative shape of the relief to be transferred, and then pressing the surface of the mold and the substrate at least locally; Each part of the mold surface and the substrate do not move in any direction other than perpendicular to the contact surface, and the curing liquid then cures, during which there is no mutual movement between the mold surface and the substrate, both of which are initially In a method for transferring a relief structure to a substrate that remains pressed with a pressure lower than the pressure in the pressing step and separates the substrate and the mold surface after the liquid hardens, the liquid portion forms a high relief portion; A method for transferring a relief structure to a substrate, characterized in that the liquid part forming the low relief and the chemical or physical parameters governing the curing process are significantly different from each other.
(2)これらの大きく異つた化学的または物理的パラメ
ータにより液の硬化速度が決定されることを特徴とする
特許請求の範囲第1項に記載のレリーフ構造物を基板に
転写する方法。
(2) A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 1, wherein the curing speed of the liquid is determined by these widely different chemical or physical parameters.
(3)2つの面が互いに押着し合つた時に作用する圧力
が、高いレリーフ部分を形成する液部分の厚さが低いレ
リーフ部分を形成する液部分の厚さよりも50%大きく
なるほどに十分に高圧であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項又は第2項に記載のレリーフ構造物を基板
に転写する方法。
(3) The pressure exerted when the two surfaces press against each other is sufficient such that the thickness of the liquid part forming the high relief area is 50% greater than the thickness of the liquid part forming the low relief area. A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 1 or 2, characterized in that the method uses high pressure.
(4)基板と型表面とが接触線に従つて互いに押着し合
い、以後接触したまま保持され、これにより線接触の圧
力は接触状態での圧力よりも少なくとも10倍大きいこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3項のいず
れかに記載のレリーフ構造物を基板に転写する方法。
(4) The substrate and the mold surface are pressed against each other along the contact line and are thereafter held in contact, so that the pressure at the line contact is at least 10 times greater than the pressure at the contact state. A method for transferring a relief structure according to any one of claims 1 to 3 to a substrate.
(5)基板と型表面とを押着させ合うのに必要な圧力は
4×10^6×b×h×u×r以上であり、こゝでbは
両面の幅、hは硬化液の粘度、uは基板の速度、rは等
式1/r=1/r1+1/r2に従いこれによりr1と
r2は入力側における接触線の位置の基板と型表面との
それぞれの曲げ半径であることを特徴とする特許請求の
範囲第4項に記載のレリーフ構造物を基板に転写する方
法。
(5) The pressure required to press the substrate and mold surface together is 4×10^6×b×h×u×r or more, where b is the width of both sides and h is the hardening liquid. viscosity, u is the speed of the substrate, r is according to the equation 1/r=1/r1+1/r2, which means that r1 and r2 are the respective bending radii of the substrate and mold surface at the contact line on the input side. A method for transferring a relief structure according to claim 4 to a substrate.
(6)レリーフ構造物の高さの差が100ミクロンより
も小さいことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
5項のいずれかに記載のレリーフ構造物を基板に転写す
る方法。
(6) A method for transferring a relief structure onto a substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the difference in height of the relief structure is less than 100 microns.
(7)高さの差が1ミクロン以下であることを特徴とす
る特許請求の範囲第6項に記載のレリーフ構造物を基板
に転写する方法。
(7) A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 6, wherein the difference in height is 1 micron or less.
(8)触媒または光イニシエータのような、液速度を決
定する化学構成物の1つの濃度が前記液部分の1つにお
いて少なくとも50%以上であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項乃至第7項のいずれかに記載のレリー
フ構造物を基板に転写する方法。
(8) The concentration of one of the chemical constituents determining liquid velocity, such as a catalyst or a photoinitiator, is at least 50% or more in one of the liquid parts. A method for transferring the relief structure according to any one of Item 7 to a substrate.
(9)前記に濃度が高い方のレリーフ部分を形成する流
体部分では少なくとも50%以上であることを特徴とす
る特許請求の範囲第4項に記載のレリーフ構造物基板に
転写する方法。
(9) The method for transferring a relief structure onto a substrate according to claim 4, wherein the concentration is at least 50% or more in the fluid portion forming the relief portion where the concentration is higher.
(10)型表面と基板との間の硬化液の第1液の層が基
板に沈澱し、第2液の層が型表面に沈澱することにより
、両液層の化学的または物理的パラメータが互いに異る
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第9項のい
ずれかに記載のレリーフ構造物を基板に転写する方法。
(10) A layer of the first liquid of the curing liquid between the mold surface and the substrate is deposited on the substrate, and a layer of the second liquid is deposited on the mold surface, thereby changing the chemical or physical parameters of both liquid layers. A method for transferring a relief structure to a substrate according to any one of claims 1 to 9, wherein the relief structures are different from each other.
(11)液は電磁光線の作用で硬化し、この光線の強度
が前記液部分の1つでは少なくとも50%以上であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第10項のい
ずれかに記載のレリーフ構造物を基板に転写する方法。
(11) The liquid is cured by the action of electromagnetic light, and the intensity of this light is at least 50% or more in one of the liquid parts. A method for transferring a relief structure described in 1 to a substrate.
(12)光線強度が上記方法においては高い方のレリー
フ部分を形成するこれらの液部分におけるよりもさらに
高いことを特徴とする特許請求の範囲第6項に記載のレ
リーフ構造物を基板に転写する方法。
(12) Transferring the relief structure according to claim 6 to the substrate, characterized in that the light beam intensity is higher in the above method than in those liquid parts forming the higher relief parts. Method.
(13)液は熱硬化性の液であり、低い方のレリーフ部
分を形成する液の温度が高い方のレリーフ部分を形成す
る液部分の温度よりも高いことを特徴とする特許請求の
範囲第1項乃至第6項のいずれかに記載のレリーフ構造
物を基板に転写する方法。
(13) The liquid is a thermosetting liquid, and the temperature of the liquid forming the lower relief portion is higher than the temperature of the liquid forming the higher relief portion. A method for transferring the relief structure according to any one of items 1 to 6 to a substrate.
(14)液は熱可塑性の液であり、低い方のレリーフ部
分を形成する液の温度が高い方のレリーフ部分を形成す
る液部分の温度より高いことを特徴とする特許請求の範
囲第1項乃至第6項のいずれかに記載のレリーフ構造物
を基板に転写する方法。
(14) The liquid is a thermoplastic liquid, and the temperature of the liquid forming the lower relief portion is higher than the temperature of the liquid portion forming the higher relief portion. 7. A method for transferring the relief structure according to any one of items 6 to 6 onto a substrate.
(15)レリーフ構造物は100ミクロンより小さい空
間分解能を有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第14項のいずれかに記載のレリーフ構造物を基
板に転写する方法。
(15) Claim 1, characterized in that the relief structure has a spatial resolution of less than 100 microns.
A method for transferring the relief structure according to any one of items 1 to 14 to a substrate.
(16)その空間分解能が1ミクロンより小さいことを
特徴とする特許請求の範囲第14項に記載のレリーフ構
造物を基板に転写する方法。
(16) A method for transferring a relief structure to a substrate according to claim 14, wherein the spatial resolution is less than 1 micron.
(17)基板と型表面とをそれらの間に液層をはさんで
互いに押圧し合つた状態にしている転写装置と、基板を
その転写装置に供給する手段と、硬化液を塗付する手段
とを備えたレリーフ構造物を基板に転写する装置におい
て、薄い液層を基板に塗付する第1液供給手段と、薄い
液層を型表面に塗付する第2液供給手段とを備えたこと
を特徴とするレリーフ構造物を基板に転写する装置。
(17) A transfer device that presses the substrate and the mold surface against each other with a liquid layer sandwiched between them, a means for supplying the substrate to the transfer device, and a means for applying a curing liquid. An apparatus for transferring a relief structure onto a substrate, comprising a first liquid supply means for applying a thin liquid layer to the substrate, and a second liquid supply means for applying a thin liquid layer to the mold surface. An apparatus for transferring a relief structure onto a substrate, characterized by:
(18)少なくとも型レリーフの凹部において型基板は
波長が200ナノメータから2000ナノメータの電磁
光線を照射するために透明になつており、型表面にまで
のびているレリーフ構造物の延長部分の透明度は該電磁
光線に対してとくに少なくとも50%以下であることを
特徴とする特許請求の範囲第17項に記載のレリーフ構
造物を基板に転写する装置。
(18) At least in the recessed part of the mold relief, the mold substrate is transparent in order to be irradiated with electromagnetic light having a wavelength of 200 nanometers to 2000 nanometers, and the transparency of the extended portion of the relief structure extending to the mold surface is determined by the electromagnetic radiation. 18. A device for transferring a relief structure onto a substrate according to claim 17, characterized in that it is at least 50% or less with respect to the light beam.
(19)型表面は良質の熱導伝体で、例えば銅、アルミ
ニウム、またはスチールのような金属でできており、型
表面にまで伸びているレリーフ構造物の延長部分の熱伝
導性はこれより低く、例えばプラスチックのような非金
属または非金属ガラスでできていることを特徴とする特
許請求の範囲第17項に記載のレリーフ構造物を基板に
転写する装置。
(19) The mold surface is a good thermal conductor, for example made of a metal such as copper, aluminum, or steel, and the thermal conductivity of the extension of the relief structure extending to the mold surface is less than this. 18. Device for transferring relief structures to a substrate according to claim 17, characterized in that the relief structure is low and made of a non-metal, e.g. plastic, or a non-metallic glass.
(20)高いレリーフ部分の物理的又は化学的パラメー
タおよび特性が低いレリーフ部分のパラメータおよび特
性と異る、例えば厚さが著しく異ることを特徴とする特
許請求の範囲第1項乃至第19項のいずれかに記載の方
法または装置に組み込まれたレリーフ構造物を備えたキ
ャリヤ。
(20) Claims 1 to 19 characterized in that the physical or chemical parameters and properties of the high relief part are different from those of the low relief part, for example significantly different in thickness. A carrier with a relief structure incorporated into the method or apparatus according to any of the preceding claims.
(21)高いレリーフ部分の物理的又は化学的パラメー
タおよび特性が低いレリーフ部分のパラメータおよび特
性と大いに異る、例えば触媒または反応イニシエータの
濃度、結晶構造または結晶化度、重合構造または重合度
に著しい差異があることを特徴とする特許請求の範囲第
1項乃至第20項のいずれかに記載の方法または装置に
組み込まれたレリーフ構造を有するキャリア。
(21) The physical or chemical parameters and properties of the high relief part are significantly different from the parameters and properties of the low relief part, e.g. significantly in the concentration of catalyst or reaction initiator, crystal structure or degree of crystallinity, polymerization structure or degree of polymerization. 21. A carrier with a relief structure incorporated into a method or apparatus according to any one of claims 1 to 20, characterized in that there is a difference.
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JPS55142932U (en) * 1979-03-31 1980-10-14
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