JPS6132395B2 - - Google Patents

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JPS6132395B2
JPS6132395B2 JP1528178A JP1528178A JPS6132395B2 JP S6132395 B2 JPS6132395 B2 JP S6132395B2 JP 1528178 A JP1528178 A JP 1528178A JP 1528178 A JP1528178 A JP 1528178A JP S6132395 B2 JPS6132395 B2 JP S6132395B2
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JP
Japan
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nickel
gold
plating
bath
based finish
Prior art date
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JP1528178A
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Japanese (ja)
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JPS54107837A (en
Inventor
Jei Banaguratsushu Juniaa Jon
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Texas Instruments Tucson Corp
Original Assignee
Burr Brown Corp
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Publication date
Application filed by Burr Brown Corp filed Critical Burr Brown Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属メツキに関する。更に詳しくは、
本発明は金合金の金属光沢仕上およびこのような
光沢仕上を形成するメツキ方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to metal plating. For more details,
The present invention relates to metallic luster finishes on gold alloys and methods of plating to produce such luster finishes.

電解メツキ、浸漬メツキおよび自触媒メツキ
(金溶液からの金の還元)を包含する数種類の技
術によつて、金メツキは最近実施されている。金
の価格の急騰のために、環境による老化、温度お
よび湿度の循環、取扱い、ロウ付性、TCおよび
超音波による溶接性、装飾的外観および耐摩耗性
を含む金メツキの所望の特性を発揮する金属光沢
仕上を形成する方法の開発に、メツキ産業ではか
なりの努力を集中している。現在までに使用され
た代用の金属光沢仕上には、数種類を挙げれば、
スズ膜、ニツケルホウ素膜、スズニツケル膜、お
よびスズ鉛膜がある。上記の仕上はいずれも、金
の品質に実質的に類似しないことが判明した。ま
た金/ニツケルの電解メツキも採用されたが、化
学的制御が困難でありそして加工片への電気的接
続が必要とされる点で、該方法は不利である。性
能をそこなうことなく金の量を増加させるため
に、無電解金合金仕上が試みられた。例えば、特
公昭33−7514号明細書に、金の1.5倍の耐摩耗性
を有する金/ニツケル合金が記載されている。し
かし、ニツケル対金の割合が比較的低く、せいぜ
い15〜20%に過ぎず、従つて有意義なコストの節
減の目的は達成しにくい。
Gold plating has recently been carried out by several techniques including electrolytic plating, immersion plating, and autocatalytic plating (reduction of gold from a gold solution). Due to the skyrocketing price of gold, the desired properties of gold plating including environmental aging, temperature and humidity cycling, handling, brazeability, TC and ultrasonic weldability, decorative appearance and abrasion resistance Considerable effort has been focused at Metsuki Sangyo on developing methods to create a glossy metallic finish. Alternative metallic gloss finishes used to date include, to name a few:
There are tin films, nickel-boron films, tin-nickel films, and tin-lead films. None of the above finishes were found to be substantially similar in quality to gold. Gold/nickel electrolytic plating has also been employed, but this method is disadvantageous in that chemical control is difficult and electrical connections to the workpiece are required. Electroless gold alloy finishes have been attempted to increase the amount of gold without compromising performance. For example, Japanese Patent Publication No. 33-7514 describes a gold/nickel alloy having wear resistance 1.5 times that of gold. However, the nickel-to-gold ratio is relatively low, at most 15-20%, and therefore meaningful cost savings objectives are difficult to achieve.

本発明の一目的は、純金の金属光沢仕上の主要
な性能特性を発揮する、実質的に金含有量の低減
した金属光沢仕上を提供することである。
One object of the present invention is to provide a metallic luster finish with substantially reduced gold content that exhibits the key performance characteristics of a pure gold metallic luster finish.

本発明の別の目的は、加工片に外部から電気の
適用を必要としない上記のような金属光沢仕上を
形成する方法を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a method of forming a metallic luster finish as described above without requiring external application of electricity to the workpiece.

本発明の他の目的は、制御が比較的簡単かつ容
易である上記のような金属光沢仕上を形成する方
法を提供することである。
Another object of the invention is to provide a method of forming a metallic luster finish as described above which is relatively simple and easy to control.

これらの目的および他の目的は以下の記述から
明らかとなるであろう。そして該目的は下記の方
法による一態様にて達成される。すなわち、該方
法は下記の工程を含む、(イ) 少くも約85重量%の
ニツケルを含有する金属光沢仕上(以下、ニツケ
ル系仕上という)を有する加工片を得、そして(ロ)
(a) 一価の金の化合物を含むメツキ源成分、およ
び(b) 緩衝用成分、例えばフツ化水素アンモニウ
ム、クエン酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウ
ム/水酸化アンモニウム、および水溶性の塩、特
にカルボン酸のナトリウムおよびカリウム塩が例
示される、を含有するメツキ浴にて該加工製品を
処理する。この金系の仕上は、ニツケル対金の分
子比が1:1〜6:1の範囲である金およびニツ
ケルを含む合金である。
These and other objectives will become apparent from the description below. The object is achieved in one embodiment by the method described below. That is, the method includes the following steps: (a) obtaining a workpiece having a metallic luster finish containing at least about 85% by weight of nickel (hereinafter referred to as a nickel-based finish);
(a) a plating source component comprising a monovalent gold compound, and (b) a buffering component such as ammonium hydrogen fluoride, sodium citrate and sodium bicarbonate/ammonium hydroxide, and water-soluble salts, especially carboxylic acids. The processed product is treated in a plating bath containing, for example, sodium and potassium salts. This gold-based finish is an alloy containing gold and nickel with a molecular ratio of nickel to gold ranging from 1:1 to 6:1.

該基材もしくは加工片上に生成するニツケル系
仕上は、ニツケルおよびニツケル合金用の従来の
メツキ技術により形成し得る。該ニツケル系仕上
は、純粋なニツケル(純度99.99%)、またはコバ
ルト、ホウ素およびリン等の元素と合金化もしく
は組合わされたニツケルであり得る。該ニツケル
は少くも85重量%程度存在することが好ましい。
リンは、金メツキを抑制しそして該金系仕上の温
度安定性を低下させることが判明していた。しか
し、或る用途の場合、リンの存在は許容できるが
該ニツケル系仕上の6重量%を越えないことが好
ましい。代表的なニツケル系仕上には、ニツケル
(99.99%)、ニツケル/コバルト/リン(各85/
10/5重量%)、ニツケル/リン(各95/5重量
%)、およびニツケル/ホウ素(各99/1重量
%)が含まれる。代表的には、該ニツケル系仕上
は、厚さが比較的均一であり、100〜150マイクロ
インチ(250〜375マイクロセンチメートル)の厚
さの範囲である。
The nickel-based finish produced on the substrate or workpiece may be formed by conventional plating techniques for nickel and nickel alloys. The nickel-based finish can be pure nickel (99.99% pure) or nickel alloyed or combined with elements such as cobalt, boron, and phosphorus. Preferably, the nickel is present in an amount of at least about 85% by weight.
Phosphorus has been found to inhibit gold plating and reduce the temperature stability of the gold-based finish. However, for some applications, the presence of phosphorus is acceptable but preferably does not exceed 6% by weight of the nickel-based finish. Typical nickel-based finishes include nickel (99.99%) and nickel/cobalt/phosphorus (85% each).
10/5% by weight), nickel/phosphorus (95/5% by weight each), and nickel/boron (99/1% by weight each). Typically, the nickel-based finish is relatively uniform in thickness, ranging from 100 to 150 microinches (250 to 375 microcentimeters) in thickness.

ニツケル/リン金属光沢仕上げを得るための代
表的な浴は、塩化ニツケル、クエン酸ナトリウ
ム、フツ化水素アンモニウム、および次リン酸ナ
トリウムを含有する。次リン酸ナトリウムのかわ
りにジメチルアミンボランを入れ換えると、ニツ
ケル/ホウ素仕上が得られる。ニツケルコバルト
を添加すると、該ニツケル系仕上にコバルトが導
入されるであろう。表面に該ニツケル系仕上が適
用される加工片は、ニツケル、銅、ニツケル/
鋼、またはニツケルがメツキされ得る他の基材料
のいずれであつてもよい。
A typical bath for obtaining a nickel/phosphorous metallic finish contains nickel chloride, sodium citrate, ammonium hydrogen fluoride, and sodium hypophosphate. Substituting dimethylamine borane for sodium hypophosphate results in a nickel/boron finish. Adding nickel-cobalt will introduce cobalt into the nickel-based finish. The work piece to which the nickel-based finish is applied to the surface is nickel, copper, nickel/
It can be steel or any other base material onto which nickel can be plated.

該加工片にニツケル系仕上をほどこした後に、
該加工片は金メツキ浴用に準備処理される。代表
的な準備には、塩化メチレン等の適当な溶剤にて
洗うことにより表面を脱脂し、酸溶液にてすゝぎ
そして次に多量の水にてすゝぎ、そして過酸化水
素を含有するシアン化カリウム溶液にて処理し、
次いで脱イオン水にてすゝぐ工程が含まれる。こ
のように準備処理された加工片はメツキ浴にて処
理される状態にある。該メツキ浴は前もつて調製
しておく。該浴のメツキ用成分は一または二以上
の水溶性の一価の金化合物であり、該化合物の例
にはシアン化カリウム金、塩化金、およびクエン
酸金がある。緩衝用成分も該浴の一成分である。
適当な緩衝剤には、重炭酸ナトリウムと水酸化ア
ンモニウムとの混合物、フツ化水素アンモニウム
およびクエン酸アンモニウムおよびカルボン酸塩
が含まれる。該緩衝用成分は該メツキ用成分の溶
液に添加されるが、若干の混合物と共に生成し得
るシアン化水素の吸入を避けるように注意が必要
である。該緩衝用成分が果す正確な役割は充分に
は解明されていない。理論的には、緩衝剤として
作用するほかに、該成分はニツケル系層中のニツ
ケルとも結合して該金メツキ浴中に可溶性の錯体
を形成するものと考えられる。
After applying a nickel-based finish to the processed piece,
The workpiece is prepared for a gilding bath. Typical preparation involves degreasing the surface by washing with a suitable solvent such as methylene chloride, rinsing with an acid solution, then rinsing with copious amounts of water, and rinsing with a potassium cyanide solution containing hydrogen peroxide. Processed at
A rinsing step in deionized water is then included. The thus prepared work piece is ready to be treated in a plating bath. The plating bath is prepared in advance. The plating component of the bath is one or more water-soluble monovalent gold compounds, examples of which include potassium gold cyanide, gold chloride, and gold citrate. A buffer component is also a component of the bath.
Suitable buffers include mixtures of sodium bicarbonate and ammonium hydroxide, ammonium hydrogen fluoride and ammonium citrate and carboxylic acid salts. The buffering component is added to the plating component solution, but care must be taken to avoid inhalation of hydrogen cyanide which may form with some of the mixture. The exact role played by the buffering component is not fully understood. Theoretically, in addition to acting as a buffer, the component would also combine with the nickel in the nickel-based layer to form a soluble complex in the gold plating bath.

メツキされる加工片は、一定の温度に、好まし
くは約90゜〜95℃に維持された該浴中に浸漬され
る。撹拌は初めて激しく行ない、そして次にメツ
キ工程の間撹拌をゆるくする。該メツキ工程の終
了後にメツキした加工片をすゝぎ洗いする。この
方法法によつて、100マイクロインチ(250マイク
ロセンチメートル)以上の厚さの金系の金属光沢
仕上が得られた。該金系の金属光沢仕上は、ニツ
ケル対金の分子比が1:1〜1:6であるニツケ
ルおよび金を含有する合金である。
The workpiece to be plated is immersed in the bath, which is maintained at a constant temperature, preferably about 90° to 95°C. Stirring is done vigorously the first time, and then during the plating step, stirring is done slowly. After completing the plating process, the plated work piece is rinsed. This method produced a gold-based metallic luster finish with a thickness of over 100 microinches (250 microcentimeters). The gold-based metallic luster finish is an alloy containing nickel and gold with a nickel to gold molecular ratio of 1:1 to 1:6.

該金系仕上は、標準テスト方法に従つて、塩水
噴霧および硝酸に対する抵抗性を除き、純金メツ
キの物理的特性を示す。該仕上は、ニツケルメツ
キ調の金度の光沢を有する淡い黄色系でありそし
て高度の耐触性および耐摩耗性がある。
The gold-based finish exhibits the physical properties of pure gold plating, except for resistance to salt spray and nitric acid, according to standard test methods. The finish is pale yellow with a nickel-gold luster and is highly touch and abrasion resistant.

該メツキ浴のメツキ用成分は、所望の厚さのメ
ツキを達成するに充分な量にて存在することが必
要である。一般に、該メツキ用成分はメツキ浴1
リツトルあたり少くも3グラム程度存在する。該
緩衝用成分は、浴1リツトルあたり少くとも約75
グラムそして通常100グラムまたはそれ以上の程
度にて存在する。メツキは適当な容器中にて実施
し得る。好ましい容器は、メツキ浴を加熱するた
めに流体を循環させるジヤケツトにて包囲され
た、不活性材料によつて内張りした内部タンクを
有する。メツキされる表面に関して、該金メツキ
用化合物は、メツキされる表面1平方インチ
(6.45cm2)あたり約1×10-5〜10×10-5そして好
ましくは2×10-5〜8×10-5モル/リツトルの範
囲にて存在することが望ましい。該緩衝用成分
は、メツキされる表面1平方インチ(6.45cm2)あ
たり約3×10-4〜4×10-3モル/リツトルの範囲
にて存在し得る。
The plating components of the plating bath must be present in sufficient amounts to achieve the desired thickness of plating. Generally, the plating component is used in the plating bath 1.
There is at least 3 grams per liter. The buffering component is at least about 75% per liter of bath.
grams and usually present in amounts of 100 grams or more. Plating can be carried out in a suitable container. A preferred vessel has an internal tank lined with an inert material surrounded by a jacket that circulates fluid to heat the plating bath. For the surface to be plated, the gilding compound is about 1 x 10 -5 to 10 x 10 -5 and preferably 2 x 10 -5 to 8 x 10 per square inch (6.45 cm 2 ) of the surface to be plated. -5 mol/liter is desirable. The buffering component may be present in the range of about 3.times.10.sup.-4 to 4.times.10.sup.- 3 moles/liter per square inch (6.45 cm.sup.2 ) of the surface being plated.

本発明を更に説明するために、以下に例につい
て記述する。
In order to further explain the invention, examples are described below.

実施例 下記から成る浴を調製した: 成 分 濃度(g/) メツキ用成分 シアン化カリウム金 3 緩衝用成分 重炭酸ナトリウム 100 水酸化アンモニウム 15 水 全体を1リツ トルにするに 要する量 メツキ用成分は、シアン化カリウム金を脱イオ
ン水に溶解させて調製した。緩衝用成分は、メツ
キ用成分溶液に重炭酸ナトリウムおよび水酸化ア
ンモニウムを加えることにより調製した。次に1
の浴溶液を作るに十分な量の脱イオン水を加え
た。150マイクロインチ(375マイクロセンチメー
トル)厚の純粋なニツケル表面を有する加工片
を、メツキする前に清浄化工程および活性化工程
に付した。ニツケル系仕上を塩化メチレンで洗浄
してニツケル量を減少させた。減少した加工片を
次に120〓(49℃)の50%HCl溶液でガス発生開
始後1〜5秒間すすぎ、次いで冷水で数分間すす
いだ。ニツケル被覆加工片を次に10g/のKCN
および50ml/のH2O2から成る溶液中に入れ、溶
液を10分間撹拌した。加工片を溶液から取り出
し、脱イオン水ですすぎ、そしてメツキ浴中に入
れた。
EXAMPLE A bath was prepared consisting of the following: Ingredient concentration (g/) Plating component Potassium gold cyanide 3 Buffer component Sodium bicarbonate 100 Ammonium hydroxide 15 Water Amount required to make 1 liter of total Plating components: Potassium gold cyanide was prepared by dissolving it in deionized water. The buffer component was prepared by adding sodium bicarbonate and ammonium hydroxide to the buffer component solution. Next 1
Sufficient amount of deionized water was added to make a bath solution. Workpieces with 150 microinches (375 microcentimeters) thick pure nickel surfaces were subjected to a cleaning and activation step prior to plating. The nickel-based finish was washed with methylene chloride to reduce the nickel content. The reduced workpiece was then rinsed with a 50% HCl solution at 120°C (49°C) for 1 to 5 seconds after the onset of gas evolution, and then rinsed with cold water for several minutes. The nickel-coated piece is then coated with 10 g/KCN.
and 50 ml/H 2 O 2 and the solution was stirred for 10 minutes. The work piece was removed from the solution, rinsed with deionized water, and placed in a plating bath.

メツキ浴を90゜〜95℃に予備加熱した。清浄し
たニツケル被覆加工片を浴中に入れた後、溶液を
1分間撹拌しそして次に数分間時折撹拌した。加
工片を取り出し、水道水で数分間すすぎ、次いで
脱イオン水ですすいだ。6:1のニツケル対金の
分子比を有する60マイクロインチ(150マイクロ
センチメートル)厚の金メツキ仕上が得られた。
The plating bath was preheated to 90°-95°C. After placing the cleaned nickel-coated workpiece into the bath, the solution was stirred for 1 minute and then occasionally stirred for several minutes. The work pieces were removed and rinsed with tap water for several minutes, then with deionized water. A 60 microinch (150 microcentimeter) thick gold plating finish was obtained with a 6:1 nickel to gold molecular ratio.

実施例 および 下記の配合物の浴を使用する以外は実施例と
同様の操作を行つた。各例において、ニツケルと
金の合金金属光沢仕上が得られた。
EXAMPLES AND EXAMPLES The same procedures as in the examples were carried out, except that the baths with the formulations listed below were used. In each example, a nickel and gold alloy metallic gloss finish was obtained.

実施例 成 分 濃度(g/) メツキ用成分 KAu(CN)2 6 緩衝用成分 フツ化水素アンモニウム 100 実施例 成 分 濃度(g/) メツキ用成分 KAu(CN)2 3 緩衝用成分 クエン酸アンモニウム 100 水 1に対するに 必要な量 金メツキ仕上はニツケルおよび金およびニツケ
ル系仕上の存在しうるような他の元素、例えばコ
バルト、ホウ素およびリン、の合金である。ニツ
ケル系仕上が実質的に純粋なニツケル(99.99
%)である金とニツケル合金は高温安定性(少な
とも450℃)金合金を与える。ニツケル系仕上中
にリンが存在すると、300℃以上の温度で劣化す
る金系仕上となる。
Example component concentration (g/) Plating component KAu (CN) 2 6 Buffer component Ammonium hydrogen fluoride 100 Example component concentration (g/) Plating component KAu (CN) 2 3 Buffer component Ammonium citrate Required amount per 100 parts of water Gold plating finishes are nickel and alloys of gold and other elements such as may be present in nickel-based finishes, such as cobalt, boron and phosphorus. The nickel-based finish is essentially pure nickel (99.99
%) gold and nickel alloys give high temperature stable (at least 450°C) gold alloys. The presence of phosphorus in a nickel-based finish results in a gold-based finish that deteriorates at temperatures above 300°C.

金系仕上が生じる機構は完全には解明されてい
ない。金の深い浸透は通常の浸漬機構から逸脱し
ているように見える。むしろニツケル系仕上がか
なりの深さまで除去され、そして金メツキ浴中に
移り、ここでニツケル系仕上は金と合金化し、そ
して加工片上に再沈着するように見える。金系仕
上は均一で基材に強く付着しており、そして少な
くとも15マイクロインチ(37.5マイクロセンチメ
ートル)の厚さであるのが好ましい。60〜100マ
イクロインチ(150〜254マイクロセンチメート
ル)又はそれ以上の厚さが達成された。
The mechanism by which the gold-based finish occurs is not completely understood. The deep penetration of gold appears to deviate from the normal dipping mechanism. Rather, the nickel-based finish appears to be removed to a considerable depth and transferred into the gold plating bath, where the nickel-based finish alloys with the gold and redeposit onto the workpiece. Preferably, the gold-based finish is uniform, strongly adheres to the substrate, and is at least 15 microinches (37.5 microcentimeters) thick. Thicknesses of 60 to 100 microinches (150 to 254 microcentimeters) or greater have been achieved.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 下記の工程からなる、電気の適用を必要とし
ない金属メツキ方法: a ニツケルが少なくとも85重量%であるニツケ
ル系仕上を有する加工片を得; そして b 該加工片をメツキ源成分および緩衝用成分を
含む浴で処理する;ここで該メツキ源成分は、
該ニツケル系仕上の該ニツケルと合金をつくる
ことができる金を含む化合物の一つ又は二以上
を含有し;該緩衝用成分は該浴中に可溶性のニ
ツケル錯体を形成し、該処理は該加工片上に、
ニツケルと金の合金からなり、該ニツケル対金
の分子比は1:1〜6:1である層を与えるに
十分な時間および温度で行い;そして該層中の
該ニツケルの源はニツケル系仕上からのニツケ
ルである。 2 ニツケルが少なくとも99重量%の純度であ
る、特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3 浴が水系浴である、特許請求の範囲第1項に
記載の方法。 4 金含有化合物が一価の金の化合物である、特
許請求の範囲第1項に記載の方法。 5 金含有化合物の少なくとも一つがシアン化カ
リウム金である、特許請求の範囲第1項に記載の
方法。 6 金含有化合物がニツケル系仕上の表面6.45平
方センチメートル(1平方インチ)当り約1×
10-5〜10×10-5モル/の範囲で存在しそして緩
衝用化合物がニツケル系仕上の表面6.45平方セン
チメートル(1平方インチ)当り約3×10-4〜4
×10-3モル/の範囲で存在する、特許請求の範
囲第1項に記載の方法。 7 緩衝用成分が重炭酸ナトリウムと水酸化アン
モニウムとの混合物、フツ化水素アンモニウム、
およびクエン酸アンモニウムから成る群の少なく
とも一員を含有する、特許許請求の範囲第1項に
記載の方法。 8 ニツケル系仕上がニツケル、およびコバル
ト、ホウ素およびリンから成る群の少なくとも一
ホウ素およびリンから成る群の少なくとも一員を
含有する(ただしリンは約6重量%を越えな
い)、特許請求の範囲第1項に記載の方法。
[Claims] 1. A metal plating method that does not require the application of electricity, consisting of the following steps: a. Obtaining a workpiece having a nickel-based finish having at least 85% by weight of nickel; and b. Plating the workpiece. treatment with a bath containing a source component and a buffering component; where the plating source component is
the nickel-based finish contains one or more gold-containing compounds capable of alloying with the nickel; the buffering component forms a nickel complex that is soluble in the bath; On one side,
at a time and temperature sufficient to provide a layer consisting of an alloy of nickel and gold, the molecular ratio of nickel to gold being between 1:1 and 6:1; and the source of nickel in the layer being a nickel-based finish. It is a nickel from. 2. The method of claim 1, wherein the nickel is at least 99% pure by weight. 3. The method according to claim 1, wherein the bath is an aqueous bath. 4. The method according to claim 1, wherein the gold-containing compound is a monovalent gold compound. 5. The method according to claim 1, wherein at least one of the gold-containing compounds is potassium gold cyanide. 6 Approximately 1× gold-containing compound per 6.45 square centimeters (1 square inch) of nickel-based finish surface
The buffering compound is present in the range of 10 -5 to 10 x 10 -5 moles per 6.45 square centimeters (inch square ) of the nickel-based finish.
The method according to claim 1, wherein the amount is present in the range x10 -3 mol/. 7 The buffering component is a mixture of sodium bicarbonate and ammonium hydroxide, ammonium hydrogen fluoride,
and ammonium citrate. 8. The nickel-based finish contains nickel and at least one member of the group consisting of cobalt, boron and phosphorus, and at least one member of the group consisting of boron and phosphorus (with the phosphorus not exceeding about 6% by weight), claim 1. The method described in section.
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