JPS613144A - Method for replenishing developing solution in automatic developing device of photosensitive lithographic plate - Google Patents

Method for replenishing developing solution in automatic developing device of photosensitive lithographic plate

Info

Publication number
JPS613144A
JPS613144A JP12361184A JP12361184A JPS613144A JP S613144 A JPS613144 A JP S613144A JP 12361184 A JP12361184 A JP 12361184A JP 12361184 A JP12361184 A JP 12361184A JP S613144 A JPS613144 A JP S613144A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
soln
medium
developer
plate
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12361184A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Uchida
敏夫 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP12361184A priority Critical patent/JPS613144A/en
Publication of JPS613144A publication Critical patent/JPS613144A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3071Process control means, e.g. for replenishing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable a developing soln. to be replenished and to prevent a measuring position from being hindered with the sizes of a PS plate, a nonimage part, and image part by bringing a medium coated with a compsn. into contact with the developing soln. in a developing device, detecting a remaining amt. of coat with a photosensor, and when the remaining amt. reaches the prescribed level or more, feeding a replenishing soln. to the developing soln. CONSTITUTION:The detection medium 10 is wound on two rolls and supported above the developing soln. 5 of a developing soln. tank 6, one side of the rolls of the medium 10 is allowed to approach the other to bring the medium 10 into contact with the soln. 5 by immersion or the like. Then, the photosensor 11 approaches the medium 10 and measures a remaining amt. on the medium 10, and sends the measured result converted into an electric signal to a switching circuit 12. When the development of the PS plate proceeds and the soln. 5 deteriorates, the coat film dissolving power weakens to increase the remaining amt. Therefore, a deterioration limit of the soln., that is, the limit level of the remaining amt. can be found by investigating the relation between the remaining atm. and the deterioration degree of the soln. 5 in advance, and when the remaining amt. reaches this limit level, and the switching circuit 12 actuates the replenishing mechanism 13 to feed a prescribed amt. of the replenishing soln. from a replenishing soln. tank 14 to the tank 6.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は感光性平版印刷版用自動現像機における現像補
充液の補充方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a method for replenishing a developer replenisher in an automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plates.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、感光性平版印刷版(以下、28版と称する)を像
露光し、自動現像機により現像処理を施した後に所定の
後処理を施して平版印刷版としている。この場合、自動
現像機を用いて多数の28版を処理すると自動現像機内
の現像液は疲労し現像が不十分になるので、現像液の補
充あるいは交換が必要となる。
BACKGROUND ART Conventionally, a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as 28th plate) is imagewise exposed, developed using an automatic processor, and then subjected to a predetermined post-processing process to obtain a lithographic printing plate. In this case, when a large number of 28 plates are processed using an automatic developing machine, the developer in the automatic developing machine becomes exhausted and development becomes insufficient, so that the developer needs to be replenished or replaced.

この対策として、従来は自動現像機に現像液又は現像補
充液の自動補充機構を設け、自動的にそれらの補充を行
うようにし、例えば28版の処理量やその処理に要した
時間に応じて自動的に補充機構が作動するように工夫さ
れている。
As a countermeasure against this problem, conventional automatic processing machines have been equipped with an automatic replenishment mechanism for developer solution or developer replenisher, which automatically replenishes them depending on the amount of 28 plates to be processed and the time required for processing. The replenishment mechanism is designed to operate automatically.

たとえば、特開昭56−115039号公報には28版
の処理量に対応した補充と経過時間に対応した補充を併
行する方式が記載されているが、具体的には処理量によ
る補充は自動現像機中1i:28版が走行する時間に応
じた量の現像補充液が補充され、さらに一定時間ごとに
一定量の現像補充液が補充される。しかしながら、この
方式の場合、PS版の走行時間によって補充する場合は
、PS版の走行方向についてのPS版の長さのみを測定
することになるので、PS版の巾が変っても現像剤を消
費する画像面積が変ってもPS版の長さや走行速度が一
定であれば同一量の現像補充液が補充されることになシ
、実状に合わない状況も起シ得る。また、経時補充にし
ても、一定時間ごとに一定量の現像補充液が補充される
ので、自動現像機に収容される現像液の量や空気中の炭
酸ガスの濃度によって最適の補充量は変ってしまうとい
う問題があった。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-115039 describes a system that simultaneously performs replenishment corresponding to the throughput of 28 plates and replenishment corresponding to the elapsed time. Specifically, replenishment according to the throughput is automatic development. In-machine 1i: An amount of developer replenisher is replenished according to the time during which the 28 plate runs, and furthermore, a predetermined amount of developer replenisher is replenished at regular intervals. However, in this method, when replenishing according to the running time of the PS plate, only the length of the PS plate in the running direction of the PS plate is measured, so even if the width of the PS plate changes, the developer is Even if the consumed image area changes, if the length and running speed of the PS plate are constant, the same amount of developer replenisher will not be replenished, and a situation that does not suit the actual situation may occur. Also, even when replenishing over time, a fixed amount of developer replenisher is replenished at fixed intervals, so the optimal replenishment amount varies depending on the amount of developer stored in the automatic processor and the concentration of carbon dioxide gas in the air. There was a problem with this.

さらに特開昭58−95349号公報には、自動現像機
の現像ゾーンの途中の位置にPS版の感光層の非画像部
分の溶出度合をセンサーによって測定し、このセンサー
によって検出された溶出度合が所定のレイルに低下した
時に補充機構が作動して補充液を補充する方式が提案さ
れている。この方式は画像面積が変化しても、また作業
環境の炭酸ガス濃度が変化しても直接感光層の溶出度合
を測定して補充するので常に安定した網点再現を可能に
するという効果がある。しカルながら、この方式はPS
版の感光層の非画像部分をセンサーによって測定する必
要があるので、センサーによる測定位置を非画像部分の
みを測定できるようにする必要があることや、処理する
PS版のサイズによって測定位置が変る場合がある等の
不便があった。
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-95349 discloses that the degree of elution of the non-image portion of the photosensitive layer of the PS plate is measured by a sensor located in the middle of the development zone of an automatic processor, and the degree of elution detected by this sensor is A system has been proposed in which a replenishment mechanism operates to replenish the replenisher when the rail drops to a predetermined level. This method directly measures the degree of elution from the photosensitive layer and replenishes it even if the image area changes or the carbon dioxide concentration in the working environment changes, so it has the effect of always making stable halftone dot reproduction possible. . However, this method is PS
Since it is necessary to measure the non-image area of the photosensitive layer of the plate with a sensor, the measurement position of the sensor needs to be able to measure only the non-image area, and the measurement position changes depending on the size of the PS plate to be processed. There were some inconveniences.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は上記従来技術の欠点を解消し、センサー
の測定位置がPS版の大きさや非画像部(又は画像部)
の大きさに左右されずに現像液の疲労度を検出して現像
補充液を補充することができる補充方法を提供すること
にある。
The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and to solve the problem that the measurement position of the sensor is limited to the size of the PS plate and the non-image area (or image area).
To provide a replenishment method capable of detecting the degree of fatigue of a developer and replenishing a developer replenisher without being influenced by the size of the developer.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明は、自動現像機により画像線光された感光性平版
印刷版を多数枚現像する現像工程において、現像液に対
する溶解速度が、感光性平版印刷版の非画像部の感光層
の溶解速度と同じ又は殆んど同じになるような組成物を
塗設した媒体を自動現像機内の現像液と一定時間接触さ
せた後に、該媒体の残膜量を光センサーを用いて検出し
、該センサーにより検出された残膜量が所定のレベル以
上に増加した時に、一定量の現像補充液を現像液に添加
することを特徴とする感光性平版印刷版用自動現像機に
おける現像補充液の補充方法である。
In the development process of developing a large number of photosensitive lithographic printing plates that have been image-irradiated by an automatic developing machine, the present invention provides a method in which the dissolution rate in the developer is equal to the dissolution rate of the photosensitive layer in the non-image area of the photosensitive lithographic printing plate. After a medium coated with the same or almost the same composition is brought into contact with a developer in an automatic processor for a certain period of time, the amount of remaining film on the medium is detected using an optical sensor. A method for replenishing developer replenisher in an automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plates, characterized in that a certain amount of developer replenisher is added to the developer when the detected amount of residual film increases to a predetermined level or more. be.

〔実施例〕〔Example〕

以下に、本発明図面に示す一実施例を参照して詳細に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to an embodiment shown in the drawings.

PS版の現像時間は非画像部の感光層が溶出し、画像部
の網点面積が一定になるように決められている。たとえ
ば、0−ナフトキノンジアジド化合物よシなるポジ型2
8版を珪酸アルカリ金属を含むアルカリ水で現像する場
合、劣化していない現像液では非画像部の感光層は2〜
10秒ではぼ溶出し、その後約40秒現像を続けて画像
部の網点のフリンジ部分の現像性の遅い部分も現像し、
一定の網点面積となるように整える。
The development time of the PS plate is determined so that the photosensitive layer in the non-image area dissolves and the halftone dot area in the image area becomes constant. For example, positive type 2 such as 0-naphthoquinone diazide compound
When developing the 8th plate with alkaline water containing alkali metal silicate, the photosensitive layer in the non-image area is
After 10 seconds, it was almost eluted, and then development was continued for about 40 seconds to develop the fringe parts of the halftone dots in the image area, which were slow to develop.
Arrange the dots so that they have a constant area.

このようにPS版の処理を続けてゆくと、感光層が溶出
するまでの時間が次第に遅くなり、遂には現像不良を超
こすまでに現像液が劣化する。
If the processing of the PS plate is continued in this manner, the time until the photosensitive layer dissolves becomes gradually slower, and the developer eventually deteriorates to the point where development defects are overcome.

本発明では、このような現像液の劣化状態をみるのに、
PS版の感光層の現像液への溶解速度が同じか又は殆ん
ど同じになるような組成物の層を有する媒体を数秒間現
像液と接触(浸漬、スプレー等)させて該組成物の層を
溶出させ、残った層の量を光センサー管用いて検出し、
現像液の劣化に従って溶出量が減少し残膜量が一定レベ
ルに達しくすなわち、現像液の劣化が一定限度に達し)
たら、現像液用補充液を一定量補充する。補充液の補充
は手動で行ってもよいが、勿論自動的に行うことができ
、またその方が好ましい。
In the present invention, in order to check the deterioration state of the developer,
A medium having a layer of a composition such that the dissolution rate in the developer is the same or almost the same as that of the photosensitive layer of the PS plate is brought into contact (immersion, spraying, etc.) with the developer for several seconds to dissolve the composition. eluting the layer and detecting the amount of layer remaining using an optical sensor tube;
As the developer deteriorates, the amount of elution decreases and the amount of remaining film does not reach a certain level (in other words, the deterioration of the developer reaches a certain limit)
After that, replenish a certain amount of developer replenisher. Although replenishment of the replenisher may be performed manually, it is of course possible and preferable to replenish the replenisher automatically.

本発明で用いる現像液の疲労度を検出するための媒体(
検出媒体)は、ポリエステルフィルム等の透明支持体や
、耐水紙、金属箔等の不透明支持体に前記の如き組成物
を塗布したもので、磁気テープ程度の細幅の長尺物(ウ
エゾ状のもの)が好ましいが、小片状のものも用いるこ
とができる。
Medium for detecting the degree of fatigue of the developer used in the present invention (
The detection medium is a transparent support such as a polyester film, or an opaque support such as water-resistant paper or metal foil, coated with the composition described above. Although it is preferable to use a powder in the form of small pieces, it is also possible to use a powder in the form of small pieces.

組成物としては、上記支持体に塗設した場合、その層が
PS版の非画像部(ネガ型28版の場合は非露光部、ポ
ジ型28版の場合は露光部)の感光層の現像液に対する
溶解速度と同−又は殆んど同一の溶解速度を示すものが
用いられる。PS版の非画像部の溶解速度はネガ型28
版とポジ型28版では異なるが、同じ屋のPS版につい
ては殆んど同じであるから、ネガ型28版とポジ型28
版の2種類のPS版について検出媒体を作っておけばよ
い。ネガ型28版は一般にp−ジアゾジフェニルアミン
系の感光性ジアゾ化合物を含む感光層、ポジ型28版は
0−キノンジアジド系の感光性ジアジド化合物を含む感
光層が用いられているが、本発明の検出媒体としてはこ
れらの感光層と同様な組成の層を設ければよく、またこ
のような態様が好ましい。
When the composition is coated on the above-mentioned support, the layer can be used to develop the photosensitive layer of the non-image area of the PS plate (the non-exposed area in the case of the negative 28 plate, the exposed area in the case of the positive 28 plate). Those exhibiting the same or almost the same dissolution rate as the dissolution rate in the liquid are used. The dissolution rate of the non-image area of the PS plate is negative type 28
There are differences between the negative type 28 edition and the positive type 28 edition, but the PS edition from the same shop is almost the same, so the negative type 28 edition and the positive type 28 edition are different.
It is sufficient to create detection media for two types of PS versions. The negative 28th plate generally uses a photosensitive layer containing a p-diazodiphenylamine-based photosensitive diazo compound, and the positive 28th plate uses a photosensitive layer containing an 0-quinonediazide-based photosensitive diazide compound. As the medium, a layer having the same composition as these photosensitive layers may be provided, and such an embodiment is preferable.

本発明で検出媒体の溶出度合を測定するのに用いる光セ
ンサーとしては、媒体の支持体として不透明支持体を用
いている場合には、媒体の上方から光な当て、反射光の
強弱を測定するタイプの光反射センサーが用いられ、支
持体が透明な場合には透過光の強弱を測定する光透過セ
ンサーが用いられる。また、所望ならば、透明支持体を
用いた場合でも光反射センサーを用いてもよい。
In the present invention, when an opaque support is used as a support for the medium, the optical sensor used to measure the degree of elution of the detection medium is a sensor that shines light from above the medium and measures the intensity of the reflected light. If the support is transparent, a light transmission sensor that measures the intensity of transmitted light is used. Also, if desired, a light reflective sensor may be used even when using a transparent support.

本発明に用いられるPS版としては、光照射(通常は紫
外線照射)によって溶解性が変化する感光層が、アルミ
ニウム板、亜鉛板、紙板、プラスチック板等の基板上に
0.1〜5gβの厚さに塗布されたものである。感光層
としては、感光性ジアゾ化合物、フォトポリマー化合物
、光重合性化合物等からなる感光層が用いられる。
The PS plate used in the present invention has a photosensitive layer whose solubility changes with light irradiation (usually ultraviolet irradiation) on a substrate such as an aluminum plate, zinc plate, paper board, or plastic plate with a thickness of 0.1 to 5 gβ. It was applied on the surface. As the photosensitive layer, a photosensitive layer made of a photosensitive diazo compound, a photopolymer compound, a photopolymerizable compound, etc. is used.

本発明で用いられるPS版としては、一般に、pH12
未満の弱アルカリ性現像液によって未露光部が溶出また
は膨潤されるネガ型28版と、pH12以上の強アルカ
リ性現像液によって露光部が溶出または膨潤されるネガ
型28版とがある。
The PS plate used in the present invention generally has a pH of 12
There is a negative 28 plate in which unexposed areas are eluted or swollen by a weakly alkaline developer with a pH of 12 or higher, and a negative 28 plate in which exposed areas are eluted or swollen by a strong alkaline developer with a pH of 12 or higher.

ネガ製28版としては酸価10〜200 を有する有機
高分子重合体と実質的に水不溶性の感光性ジアゾ化合物
(たとえばジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩とホ
ルムアルデヒドの縮合物のスルホン酸塩又はルイス酸塩
)からなる感光層全親水性の支持体上に設けた、露光に
よって光硬化する感光層を有するPS版が好ましい。
A negative 28 plate is made of an organic polymer having an acid value of 10 to 200 and a substantially water-insoluble photosensitive diazo compound (for example, a sulfonate or a Lewis acid salt of a condensate of diphenylamine-4-diazonium salt and formaldehyde). A PS plate having a photosensitive layer that is photocurable upon exposure and is provided on a support that is entirely hydrophilic is preferred.

酸価10〜200を有する有機高分子重合体の具体例と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸または
マレイン酸を必須の重合成分として含む共重合体、例え
ば米国特許第4,123,276号に記されている様な
2−ヒドロキシエチルメクリレートマたは2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、アクリロニトリルまたはメタ
クリロニトリル、アクリル酸またはメタクリル酸および
必要に応じて更に他の共重合しうるモノマーとの3元ま
たは4元共重合体、特開昭53−120903号に記載
されている様な末端がヒドロキシ基であシ、かつジカル
ボン酸エステル残基金倉む基でエステル化されたアクリ
ル酸またはメタクリル酸、アクリル酸またはメタクリル
酸、および必要に応じて更に他の共重合しうるモノマー
との共重合体、特開昭54−98614号に記載されて
いる様な芳香族性水酸基を末端に有する単量体(例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド々と
)、アクリル酸またはメタクリル酸、及び更に必要に応
じて他の共重合可能なモノマーの少々くとも1っとの共
重合体、特開昭56−4144号に記載されている様な
アルキアクリレートまたはメタクリレート、アクリロニ
トリルまたはメタクリロニトリル、および不飽和カルボ
ン酸よりなる共重合体が含まれる。また酸性ポリビニル
アルコール誘導体、酸性セルロース誘導体も有用である
Specific examples of organic polymers having an acid value of 10 to 200 include copolymers containing acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, or maleic acid as an essential polymerization component, such as U.S. Pat. No. 4,123,276. 2-hydroxyethyl methacrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile or methacrylonitrile, acrylic acid or methacrylic acid and optionally further copolymerizable monomers as described in or quaternary copolymer, acrylic acid or methacrylic acid esterified with a hydroxyl group at the end and a group that retains a dicarboxylic acid ester residue, as described in JP-A-53-120903; A copolymer with an acid or methacrylic acid and, if necessary, other copolymerizable monomers, a monomer having an aromatic hydroxyl group at the end as described in JP-A No. 54-98614 ( For example, copolymers of at least one of N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide), acrylic acid or methacrylic acid, and further, if necessary, other copolymerizable monomers, JP-A-56 Copolymers of alkyacrylates or methacrylates, acrylonitrile or methacrylonitrile, and unsaturated carboxylic acids as described in No. 4144 are included. Also useful are acidic polyvinyl alcohol derivatives and acidic cellulose derivatives.

一方、感光性ジアゾ化合物としては、p−ジアゾジフェ
ニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物で代表される
ジアゾ樹脂が有用であシ、特に実質的に水不溶性で有機
溶剤可溶性のジアゾ樹脂は特に好ましい。かかる好まし
いジアゾ樹脂は米国特許第3,300,309号および
特開昭54−98613号に詳しく記載されている。感
光性ジアゾ化合物は光硬化性感光層中に5〜50重量%
、好ましくは8〜20*量チの範囲で含有嘔せられる。
On the other hand, as the photosensitive diazo compound, diazo resins represented by a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde are useful, and diazo resins that are substantially water-insoluble and organic solvent-soluble are particularly preferred. Such preferred diazo resins are described in detail in U.S. Pat. No. 3,300,309 and JP-A-54-98613. The photosensitive diazo compound is contained in the photocurable photosensitive layer in an amount of 5 to 50% by weight.
, preferably in the range of 8 to 20*.

ポジ型28版としては0−キノンジアジド9化合物とP
H12未満の弱アルカリ水にほとんど溶解し女いが強ア
ルカリ水に可溶の有機高分子化合物からなる感光層を前
記の親水性の支持体上に設け、露光によって露光部がp
H12以上の強アルカリ水によって溶解する感光層を有
する28版が望ましい。
As a positive type 28 version, 9 compounds of 0-quinonediazide and P
A photosensitive layer made of an organic polymer compound that is almost soluble in weakly alkaline water with a molecular weight of less than H12 and slightly soluble in strongly alkaline water is provided on the hydrophilic support, and when exposed to light, the exposed area becomes p.
A 28 plate having a photosensitive layer that can be dissolved by strong alkaline water of H12 or higher is desirable.

0−キノンジアシド化合物としては、特に芳香族ヒドロ
キシ化合物の。−す7トキノンジアジト9スルホン酸エ
ステルまた社。−゛ナフトキノンジアシドカルボン酸エ
ステル、および芳香族アミノ化合物の0−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸アミドまたは0−す7トキノンジア
ジドカルボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3,
635,709号明細書に記されているピロガロールと
アセトンとの縮合物に0−す7トキノンジアジドスルホ
ン酸をエステル反応させたもの、米国特許第4,028
,111号明細書に記されている末端にヒドロキシ基ヲ
有するポリエステルに0−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸、または0−ナンドキノンジアジドカルボン酸をエ
ステル反応ささたもの、英国特許第1.494,043
号明細書に記されているようなp−ヒト90キシスチレ
ンのホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマ
ーとの共重合体に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸
または0−ナンドキノンシアシト9力ルボン酸全エステ
ル反応させたもの、米国特許第3,759,711号明
細書に記きれているようなp−アミノスチレンと他の共
重合しうるモノマーとの共重合体に0−す7トキノンジ
アジドスルホン酸または。−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸をアミド反応させたものは非常にすぐれている。
O-quinonediaside compounds include aromatic hydroxy compounds in particular. -su7toquinone diazito9 sulfonic acid ester Matasha. -゛Naphthoquinone diazide carboxylic acid esters and 0-naphthoquinone diazide sulfonic acid amide or 0-naphthoquinone diazide carboxylic acid amide of aromatic amino compounds are preferred, especially U.S. Pat.
No. 635,709, in which a condensate of pyrogallol and acetone is subjected to an ester reaction with 0-s7toquinonediazide sulfonic acid, US Pat. No. 4,028
, British Patent No. 1,494,043, which is obtained by subjecting a polyester having a hydroxyl group at the terminal to an ester reaction with 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid or 0-nandoquinonediazidecarboxylic acid, as described in the specification of No. 111.
0-naphthoquinone diazide sulfonic acid or 0-nandoquinone cyacyto 9-oxystyrene homopolymer or copolymer of p-human 90-xystyrene with other copolymerizable monomers as described in the specification. All acid esters are reacted, and 0-7toquinone diazide is added to a copolymer of p-aminostyrene and other copolymerizable monomers as described in U.S. Pat. No. 3,759,711. Sulfonic acid or. - Naphthoquinonediazidecarboxylic acid subjected to amide reaction is very good.

これらの0−キノンジアジド化合物と混合して使用され
る強アルカリ水に可溶の有機高分子化合物としては、た
とえばノボラック型フェノール樹脂がある。具体的には
フェノールホルムアルデヒド樹脂、0−クレゾールホル
ムアルデヒド9樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂などが含まれる。更に特開昭50−125806号
公報に記されている様に上記のようなフェノール樹脂と
共に、t−メチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のよ
うな炭素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノール
またはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併
用すると、より一層好ましい。強アルカリ水に可溶の有
機高分子化合物は、感光層中に約50〜約85重量、よ
シ好ましくは60〜80重量%、含有させられる。
Examples of organic polymer compounds soluble in strong alkaline water used in combination with these O-quinonediazide compounds include novolac type phenol resins. Specifically, phenol formaldehyde resin, 0-cresol formaldehyde 9 resin, m-cresol formaldehyde resin, etc. are included. Furthermore, as described in JP-A-50-125806, in addition to the above-mentioned phenol resins, phenol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-methylphenol formaldehyde resin or cresol and formaldehyde can be used. It is even more preferable to use a condensate with. The organic polymer compound soluble in strong alkaline water is contained in the photosensitive layer in an amount of about 50 to about 85% by weight, preferably 60 to 80% by weight.

上記何れの28版の場合にも、アルミニウム板等を支持
体として用いる時には、感光層と接着性を良(し、28
版の耐刷性を向上させる等の目的で、アルミニウム板に
砂目立て、陽極処理、陽極酸化処理等の表面処理管節こ
すことが好ましい。
In the case of any of the above 28 plates, when an aluminum plate or the like is used as a support, it is necessary to have good adhesion to the photosensitive layer.
For the purpose of improving the printing durability of the plate, it is preferable to subject the aluminum plate to a surface treatment such as graining, anodizing, anodizing, or the like.

本発明に用いるPH12未満Q弱アルカリ水からなる現
像液としては特開昭51−77401号、同51−80
228号、同53−44202号および同55−520
54号中に記載されている様な、アニオン界面活性剤、
水に対する溶解度が常温において10重量%以下である
有機溶媒、アルカリ剤、水および必要により汚れ防止剤
からなる水溶液が好適である。
The developing solution consisting of slightly alkaline water with a pH of less than 12 used in the present invention is disclosed in JP-A-51-77401 and JP-A-51-80.
No. 228, No. 53-44202 and No. 55-520
anionic surfactants, such as those described in No. 54;
An aqueous solution consisting of an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, an alkaline agent, water, and, if necessary, an antifouling agent, is suitable.

本発明に用いる弱アルカリ水からなる現像液中のアニオ
ン型界面活性剤としては、例えばラウリルアルコールサ
ルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサルフ
ェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェー
トのアンモニウム塩、第2ナトリウム、アルキルサル7
エードなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エス
テル塩類、例えばセチルアルコール燐酸エステルのナト
リウム塩などのような脂肪族アルコール燐酸エステル塩
類、例えばドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩
、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、
メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのよ
うなアルキルアリールスルホン酸塩類、例えばC17H
33CON(CH3)CH2cH2so3Naなどのよ
うなアルキルアミド9のスルホン酸塩類。
Examples of the anionic surfactant in the developing solution containing weakly alkaline water used in the present invention include sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, dibasic sodium, and alkyl sulfate.
Higher alcohol sulfate ester salts having 8 to 22 carbon atoms such as ade, aliphatic alcohol phosphate ester salts such as sodium salt of cetyl alcohol phosphate, for example sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid ,
alkylaryl sulfonates such as the sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, e.g. C17H;
Sulfonic acid salts of alkylamide 9 such as 33CON(CH3)CH2cH2so3Na and the like.

例えばナトリウムスルホこは(酸ジオクチルエステル、
ナトリウムスルホこはく酸ジヘキシルエステルなどの二
塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類などが含まれる
For example, sodium sulfoko (acid dioctyl ester,
These include sulfonic acid salts of dibasic fatty acid esters such as sodium sulfosuccinate dihexyl ester.

アニオン界面活性剤は、使用時の現像液中に0.1〜5
重量%の範囲で含有させておくことが適当である。0.
1重量%よシも少なくなるとその使用効果が低くなり、
5重量%よシも多(なると、例えば光硬化性感光層に含
有させた光硬化部分の色素の溶出(色抜け)が過多にな
ったシ、光硬した画像の耐摩耗性などの機械的、化学的
強度が劣化するなどの併置が出てくる。従って、好まし
い使用量拡0.5〜1,5 重量%の範囲である。
The anionic surfactant is added in the developer solution at the time of use.
It is appropriate to contain it within a range of % by weight. 0.
If the amount decreases by 1% by weight, the effectiveness of its use will decrease.
If the amount is higher than 5% by weight, for example, the dye contained in the photocurable photosensitive layer may elute (color loss) excessively, and the mechanical damage such as the abrasion resistance of the photocured image may be affected. , the chemical strength may be deteriorated.Therefore, the preferred amount used is in the range of 0.5 to 1.5% by weight.

本発明に用いる弱アルカリ水から々る現像液に用いられ
る有機溶媒は、水に対する溶解度が約10重量%以下の
ものが適しており、好ましくは約2重量%以下のものか
ら選ばれる。この様な有機溶媒としては、1−フェニル
エタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプ
ロノミノール−1゜4−フェニルツタノール1.4−フ
ェニルメタノール−2,2−フェニルメタノール−11
,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタ
ノール、0−メトキシベンジルアルコール、p−メトキ
シベンジルアルコール、インジルアルコール、シクロヘ
キサノール、2−メチルシクロヘキサノール、4−メチ
ルシクロヘキサノール及び3−メチルシクロヘキサノー
ル等をあげることができる。
The organic solvent used in the weakly alkaline aqueous developer used in the present invention is suitably selected from those having a solubility in water of about 10% by weight or less, preferably about 2% by weight or less. Examples of such organic solvents include 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpronominol-1°4-phenyltutanol 1,4-phenylmethanol-2,2-phenylmethanol-11
, 2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, 0-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, indyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, and 3-methylcyclohexanol. be able to.

有機溶媒の現像液中における含有量は1〜5重量%が好
適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関
係があシ、有機溶媒の量が増すにつれ、界面活性剤の量
は増加きせることか好ましい。これは界面活性剤の量が
少な(、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せ
ず、従って良好表現像性の確保が期待できなくなるから
である。
The content of the organic solvent in the developer is preferably 1 to 5% by weight. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable that the amount of surfactant increases as the amount of organic solvent increases. This is because if the amount of surfactant is small (or if a large amount of organic solvent is used, the organic solvent will not be dissolved, and therefore good image expression cannot be expected to be ensured).

本発明に用いる弱アルカリ水からなる現像液に使用でれ
るアルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム
、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム
、第3燐酸ナトリウム、第2燐酸ナトリウム、第3燐酸
アンモニウム、第2燐酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、硼酸ナトリウム、硼酸アンモ
ニウム、アンモニアなどのような無機アルカリ剤、およ
びモノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミ
ン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノイソプロピルアばン、ジイソプロピルアミン
、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジェタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロノぞ
ノールアミン、ジイソプロパツールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンシアはン、ピリジンなどのよう々有機ア
ミン化金物があり、これらは単独もしくは組合せて使用
できる。アルカリ剤の現像液中における含有量は0.0
5〜3重量%が好適であり、好ましくは0.1〜1重量
%である。0.05重量%よシ少カ(なると未硬化感光
層の除去が不完全となる。一方、3重量%よりも多くな
ると感光層の光硬化部分の機械的、化学的強度が劣化す
るようになり、例えば平版印刷版の場合には耐刷力の低
下となって現われる。
Examples of alkaline agents that can be used in the developing solution of weakly alkaline water used in the present invention include sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, tertiary sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, and tertiary sodium phosphate. Inorganic alkaline agents such as ammonium phosphate, diammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, sodium borate, ammonium borate, ammonia, etc., and monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine. Organic aminated metals such as carbon dioxide, diisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, jetanolamine, triethanolamine, monoisopronozonolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylene cyanide, pyridine, etc. These can be used alone or in combination. The content of alkaline agent in the developer is 0.0
5-3% by weight is suitable, preferably 0.1-1% by weight. If the amount is less than 0.05% by weight, the removal of the uncured photosensitive layer will be incomplete. On the other hand, if it is more than 3% by weight, the mechanical and chemical strength of the photocured portion of the photosensitive layer will deteriorate. For example, in the case of lithographic printing plates, this appears as a decrease in printing durability.

本発明の現像液の残余の成分は水であるが、更に必要に
応じて当業界で知られた種々の添加剤を含有させること
ができる。たとえば汚れ防止剤として亜硫酸ナトリウム
やスルホピラゾロンのナトリウム塩や硬水軟化剤として
エチレンジアミンテトラ酢酸4Na塩やN %CHz 
COONa )s  を添加することが出来る。
The remaining component of the developer of the present invention is water, and may further contain various additives known in the art, if necessary. For example, sodium sulfite and sodium salt of sulfopyrazolone are used as antifouling agents, and ethylenediaminetetraacetic acid 4Na salt and N%CHz are used as water softeners.
COONa)s can be added.

本発明に用いるpH12以上の強アルカリ水によって露
光部が溶出または膨潤するポジ型28版の現像液として
はアルカリ金属水酸化物、珪酸アルカリ金属塩、シん酸
アルカリ金属塩又はアルミン酸アルカリ金属塩、水およ
び必要に応じて界面活性剤や他の添加剤からなるpH1
2以上の強アルカリ水溶液が好適である。具体的には特
開昭48−15535号、同53−82334号、同5
4−62004号、同52−127338号、同53−
96307号、同50−144502号、同55−22
759号、同55−251QO号、 同55−9594
6号。
The developing solution for a positive 28 plate in which exposed areas are eluted or swollen by strong alkaline water with a pH of 12 or more used in the present invention is an alkali metal hydroxide, an alkali metal silicate, an alkali metal sulfate, or an alkali metal aluminate. , water and optionally surfactants and other additives.
Two or more strong alkaline aqueous solutions are preferred. Specifically, JP-A-48-15535, JP-A No. 53-82334, JP-A No. 5
No. 4-62004, No. 52-127338, No. 53-
No. 96307, No. 50-144502, No. 55-22
No. 759, No. 55-251QO, No. 55-9594
No. 6.

同55−115039号、同56−142528号、同
50−51324号に記載されている珪酸ナトリウム又
は珪酸カリウムからなる現像液をあげることが出来る。
Examples include developing solutions made of sodium silicate or potassium silicate, which are described in No. 55-115039, No. 56-142528, and No. 50-51324.

次に、図面を参照しつつ本発明の実施態様を説明する。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図面は本発明を実施するに用いられる自動現像機の一例
を示す概略図でおる。
The drawing is a schematic diagram showing an example of an automatic developing machine used to carry out the present invention.

像露光された28版1を搬送ロール2.3.4によって
現像ゾーンを連続的に移動させて処理する。
The imagewise exposed 28 plate 1 is processed by continuously moving the development zone by means of transport rolls 2.3.4.

現像液5を現像タンク6からポンプ7によって28版上
方のスプレー管8から28版上に送液し現像タンクに循
環すると共にpsH1現像する。
The developer 5 is sent from the developing tank 6 to the 28th plate from the spray tube 8 above the 28th plate by the pump 7, and is circulated to the developing tank and psH1 development is performed.

9はノラシロールで、現像液のスプレーのみでは除去し
きれなかった感光層を完全に除去する。現像されたPS
版は、水洗、ガム引き、乾燥等を経て印刷版とされる。
No. 9 is Norashirol, which completely removes the photosensitive layer that could not be removed by developer spray alone. Developed PS
The plate is made into a printing plate after being washed with water, gummed, dried, etc.

10は本発明による検知媒体であって、この例ではウエ
ズ状のものが示され、ロールに巻かれて支持され、現像
タンク6の現像液5の上方の適当な位置に設けられてい
る。検知媒体の一方のロールを近づけて媒体を現像液に
浸漬するか、適当な手段で現像液をスプレーする等によ
り一定時間(2〜10秒程度)現像液と媒体を接触させ
る。
Reference numeral 10 denotes a detection medium according to the present invention, which is shown in the form of a wedge in this example, is wound around a roll and supported, and is provided at an appropriate position above the developer 5 in the developer tank 6. The medium is brought into contact with the developer for a certain period of time (about 2 to 10 seconds) by bringing one roll of the detection medium close and immersing the medium in the developer, or by spraying the developer by an appropriate means.

次いで、媒体を現像液から離し、媒体に近設して設けら
れている光センサ−11によって媒体上の残膜状態を測
定し、これを好ましくは電気信号に変換しこれをスイッ
チ回路比に送る。PS版の現像が進み、多数枚のPS版
が処理されると現像液が次第に劣化すると、媒体の層を
溶解する能力も弱くなシ、残膜量が多(なる。従って、
との残膜量と現像液の劣化程度との関係1らかじめ調べ
ておけば、補充液の補充を必要とする現像液の劣化限度
、すなわち、媒体の残膜量のレイルを知ることができる
。残膜量がこのレイルに達した時にはスイッチ回路比に
よって補充機構13を作動させ、補充タンク14の現像
補充液を一定量現像タンク6に補充する。
Next, the medium is separated from the developer, and the state of the remaining film on the medium is measured by an optical sensor 11 provided close to the medium, and this is preferably converted into an electrical signal and sent to a switch circuit ratio. . As the development of the PS plate progresses and a large number of PS plates are processed, the developer gradually deteriorates, and its ability to dissolve the medium layer becomes weak, resulting in a large amount of residual film.
The relationship between the amount of remaining film and the degree of deterioration of the developer 1. If you investigate this in advance, you will be able to know the deterioration limit of the developer that requires replenishment of the replenisher, that is, the rail of the amount of remaining film on the medium. can. When the remaining film amount reaches this rail, the replenishment mechanism 13 is operated according to the switch circuit ratio to replenish the developer tank 6 with a certain amount of developer replenisher from the replenishment tank 14.

上記の例において、PS版がネガ型又はポジ型により現
像装[を異にしてもよく、また同一装置で現像液を入れ
変えてもよい。検出媒体がPS版と同様な感光層を有し
ている場合、ネガ型28版の現像液の補充に用いる媒体
は未露光のままで現像液と接触させるが、接触時に一定
のブラシロール等で媒体表面をこすることが好ましい。
In the above example, the developing device may be different depending on whether the PS plate is a negative type or a positive type, or the developing solution may be replaced in the same device. When the detection medium has a photosensitive layer similar to that of the PS plate, the medium used for replenishing the developer of the negative 28 plate is brought into contact with the developer while remaining unexposed, but at the time of contact, a certain brush roll etc. Preferably, the surface of the medium is rubbed.

また、ポジ型28版の現像液の場合には、媒体を紫外線
等によって露光してから現像液と接触させる。
In the case of a developer for a positive type 28 plate, the medium is exposed to ultraviolet light or the like and then brought into contact with the developer.

媒体を現像液と接触式せる頻度は、PS版の処理を連続
的に行っている場合、10分〜20分置き程度でよく、
これらの操作をすべて自動的に行うことが好ましい。
The frequency of contacting the medium with the developer may be about every 10 to 20 minutes when processing PS plates continuously.
Preferably, all these operations are performed automatically.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によるときは、小面積の検出媒体を備えるだけで
、PS版のサイズや画像面積等に作用されず、簡単に現
像液の劣化限度を知シ、現像液の補充を行うことができ
る。また、媒体自体も現像液によって溶出するが、媒体
の面積が小さいので、これによって生ずる現像液の劣化
は全く無視し得る程度のものでちゃ、またPS版の現像
に悪影響を与えない。
According to the present invention, by simply providing a detection medium with a small area, it is possible to easily know the deterioration limit of the developer and replenish the developer without affecting the size of the PS plate, the image area, etc. Further, the medium itself is eluted by the developer, but since the area of the medium is small, the deterioration of the developer caused by this is completely negligible and does not adversely affect the development of the PS plate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明を実施するのに用いられる自動現像装置の
一例示す概略図である。 1・・・PS版     2.3.4・・・搬送ロール
6・・・現像タンク   8・・・ノズル9・・・ブラ
シロール  10・・・検出媒体手続補正書 昭和59年11月 3日 昭和59年特許願第125611  号事件との関係、
特許出願人 名称 (520)富士写真フィルム株式会社霞が関ビル
内郵便局 私書箱第49号 7 補正の対象 「明細書の発明の詳細な説明」の欄を下記の通り補正す
る。 1)第10頁2行目の[アルキアクリレート」を「アル
キルアクリレート」と補正する。 2)第11頁16行目の「反応ささたもの」を「反応さ
せたもの」と補正する。 6)第19頁1°6行目の「劣化すると、」を「劣化し
、」と補正する。 4)第20頁16行目の「接触させる。」の後に、「ま
た別の方法として、現像液に対する溶解性がポジ型PS
版の感光層の露光された部分の溶解スピードと同じにな
るようなアルカリ水に可溶な有機高分子化合物を塗設し
た媒体を用いれば。 媒体に紫外線露光することが不必要になり、より好まし
い。」を加入する。
The drawing is a schematic diagram showing an example of an automatic developing device used to carry out the present invention. 1...PS version 2.3.4...Transport roll 6...Developing tank 8...Nozzle 9...Brush roll 10...Detection medium procedure amendment document November 3, 1980 Showa Relationship with 1959 Patent Application No. 125611 case,
Name of Patent Applicant (520) Fuji Photo Film Co., Ltd. Kasumigaseki Building Post Office P.O. Box No. 49 No. 7 The column for the subject of amendment "Detailed explanation of the invention in the specification" will be amended as follows. 1) Correct "alkyacrylate" in the second line of page 10 to "alkyl acrylate". 2) On page 11, line 16, "reacted" is corrected to "reacted." 6) On page 19, 1°, line 6, amend "When it deteriorates," to "When it deteriorates." 4) On page 20, line 16, after “contact.”
If you use a medium coated with an organic polymer compound soluble in alkaline water that has the same dissolution speed as the exposed portion of the photosensitive layer of the plate. Exposure of the medium to ultraviolet light becomes unnecessary and is more preferred. ” to join.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)自動現像機により画像露光された感光性平版印刷
版を多数枚現像する現像工程において、現像液に対する
溶解速度が、感光性平版印刷版の非画像部の感光層の溶
解速度と同じ又は殆んど同じになるような組成物を塗設
した媒体を自動現像機内の現像液と一定時間接触させた
後に、該媒体の残膜量を光センサーを用いて検出し、該
センサーにより検出された残膜量が所定のレベル以上に
増加した時に一定量の現像補充液を現像液に添加するこ
とを特徴とする感光性平版印刷版用自動現像機における
現像補充液の補充方法。
(1) In the development step of developing a large number of image-exposed photosensitive lithographic printing plates using an automatic developing machine, the dissolution rate in the developer is the same as the dissolution rate of the photosensitive layer in the non-image area of the photosensitive lithographic printing plate. After a medium coated with almost the same composition is brought into contact with a developer in an automatic processor for a certain period of time, the amount of film remaining on the medium is detected using an optical sensor, and the amount detected by the sensor is A method for replenishing a developer replenisher in an automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plates, characterized in that a certain amount of developer replenisher is added to the developer when the amount of remaining film increases to a predetermined level or more.
JP12361184A 1984-06-18 1984-06-18 Method for replenishing developing solution in automatic developing device of photosensitive lithographic plate Pending JPS613144A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12361184A JPS613144A (en) 1984-06-18 1984-06-18 Method for replenishing developing solution in automatic developing device of photosensitive lithographic plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12361184A JPS613144A (en) 1984-06-18 1984-06-18 Method for replenishing developing solution in automatic developing device of photosensitive lithographic plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS613144A true JPS613144A (en) 1986-01-09

Family

ID=14864885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12361184A Pending JPS613144A (en) 1984-06-18 1984-06-18 Method for replenishing developing solution in automatic developing device of photosensitive lithographic plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS613144A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5837425A (en) Method of preparing a lithographic printing plate using a developer containing a development stabilizer
JP2639693B2 (en) Development method of photosensitive lithographic printing plate
JPH0454218B2 (en)
EP0206308B1 (en) Developing method for photosensitive material
US5149614A (en) Developer compositions for ps plates and method for developing the same wherein the developer composition contains a surfactant having an aryl group, an oxyalkylene group and a sulfate ester or sulfonic acid group
US5126229A (en) Process for preparing positive or negative lithographic printing plates using a developer having at least one alkali-soluble mercapto compound and/or thioether compound
JPS613144A (en) Method for replenishing developing solution in automatic developing device of photosensitive lithographic plate
JPS6273271A (en) Processing method for photosensitive lithographic printing plate
JPS6236673A (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate
JPH0428295B2 (en)
JPH0616172B2 (en) Method for treating photosensitive lithographic printing plate with improved development stability
JPS648820B2 (en)
JPS63109442A (en) Method for stably processing negative and positive photosensitive materials in common
JPH08240917A (en) Developing method for photosensitive planographic printing plate
JP2001125281A (en) Developing solution composition
JPH022570A (en) Developing processor for photosensitive planographic plate
JP3023711B2 (en) Processing method of photosensitive lithographic printing plate
JPH01223448A (en) Method for processing photosensitive material
JP2627577B2 (en) Plate making method of lithographic printing plate
JPS6238470A (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate
JPS628152A (en) Processing method for photosensitive lithographic printing plate
JPH0240659A (en) Developer for photosensitive planographic printing plate and method for developing the printing plate
JPS6217749A (en) Processing method for photosensitive lithographic printing plate
JPH10133391A (en) Developing method of photosensitive lithographic printing plate
JPS62125357A (en) Developing solution composition and developing method for photosensitive lithographic printing plate