JPS61295208A - Production of flaky metallic oxide - Google Patents

Production of flaky metallic oxide

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Publication number
JPS61295208A
JPS61295208A JP60124710A JP12471085A JPS61295208A JP S61295208 A JPS61295208 A JP S61295208A JP 60124710 A JP60124710 A JP 60124710A JP 12471085 A JP12471085 A JP 12471085A JP S61295208 A JPS61295208 A JP S61295208A
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JP
Japan
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metal
flaky
metallic
titanium
smooth surface
Prior art date
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Pending
Application number
JP60124710A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Saida
健二 才田
Kunio Saegusa
邦夫 三枝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP60124710A priority Critical patent/JPS61295208A/en
Publication of JPS61295208A publication Critical patent/JPS61295208A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/14Methods for preparing oxides or hydroxides in general
    • C01B13/18Methods for preparing oxides or hydroxides in general by thermal decomposition of compounds, e.g. of salts or hydroxides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce the titled flaky metallic oxide with simple equipment inexpensively and safely by coating an aq. soln. of a metallic compd. on a smooth surface, drying the soln., releasing the obtained coated film from the smooth surface and baking the film. CONSTITUTION:An aq. soln. of a metallic compd. is coated on the smooth surface of a substrate of glass, metals, resins, etc., and the coated film is heated and dried at a temp. ranging from ordinary temp. to about 300 deg.C. The obtained coated film, preferably a cracked film, is released from the smooth surface and baked in the atmosphere at about 800-1,000 deg.C. The obtained flaky metallic oxide is crushed, as required, into an appropriate size. A metallic halide, a metallic acid halide, an alkoxy metallic halide, an acyloxy metallic halide, their condensates, etc., can be appropriately used as the metallic compd. Si, Al, Ti, Sn, In and Zr are suitably used as the metal and Cl is easy to use as the halogen.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は薄片状金属酸化物の製造方法に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a method for producing flaky metal oxides.

(従来の技術) 従来より薄片状金属酸化物として、種々のものが知られ
ている。例えば、薄片状酸化チタン、薄片状アルミナ等
は、塗料等に混合されて、滑性とか光沢の改良に用いら
れたり、或いは、プラスチックに混入されて、機械的特
性の向上他の目的に用いられたり、数多くの用途がある
(Prior Art) Various flaky metal oxides have been known so far. For example, flaky titanium oxide, flaky alumina, etc. are mixed into paints and used to improve lubricity and gloss, or mixed into plastics and used for other purposes to improve mechanical properties. It has many uses.

チタン化合物を平滑な基体に付けて膜状とし、その基体
を溶解又は破砕等して薄片状となす方法(特公昭80−
4781号公報)が知られている。しかし上記方法は基
体を溶解させる事が必要で、操作が繁雑であり、均一な
径のものが得られ難く、大きさを揃える事は極めて難し
い等の欠点があった。
A method in which a titanium compound is applied to a smooth substrate to form a film, and the substrate is melted or crushed to form flakes (Japanese Patent Publication No. 1980-
No. 4781) is known. However, the above method has drawbacks such as requiring the substrate to be melted, making the operation complicated, making it difficult to obtain a product with a uniform diameter, and making it extremely difficult to make the size uniform.

また、チタンアルコキシド又は四塩化チタンの有機溶媒
溶液を平滑面に塗布後、水蒸気の作用によりできた腺を
ヒビ割れさせ、薄片を得る方法(米国特許第2.941
.895号明細書、同第8.071,482号明細書)
も提案されている。これら方法によって、チタン化合物
を主成分とする薄片状無機物質を得る蓼はできないが、
全てを薄片として回収する事ができない等の不都合があ
った。
Another method is to apply an organic solvent solution of titanium alkoxide or titanium tetrachloride to a smooth surface, and then crack the glands formed by the action of water vapor to obtain flakes (U.S. Patent No. 2.941
.. (Specification No. 895, Specification No. 8.071,482)
has also been proposed. Although it is not possible to obtain flaky inorganic materials containing titanium compounds as the main component by these methods,
There were inconveniences such as not being able to collect everything as flakes.

上記における不都合を克服するために、高温の加熱基板
に、チタン化合物の有機溶媒溶液を塗布する方法が提案
されている(特公昭45−6424号公報〕。しかしこ
の方法の場合、蒸発と沸騰の為に極端な厚みムラが生じ
易く、厚みと大きさを一定に制御する事は、至難である
等の欠点がある。
In order to overcome the above-mentioned disadvantages, a method has been proposed in which a solution of a titanium compound in an organic solvent is applied to a heated substrate (Japanese Patent Publication No. 45-6424).However, in the case of this method, evaporation and boiling Therefore, extreme thickness unevenness tends to occur, and it is extremely difficult to control the thickness and size to be constant.

更に、従来技術は全てチタン化合物の有機、製造コスト
も高くなった。
Furthermore, since all the conventional techniques use organic titanium compounds, the manufacturing cost is also high.

よ (発明が解決し〆うとする問題点) 本発明の目的は、従来提案された薄片状金属酸化物の製
造方法に比較して安価な原料、さらに溶媒として有機溶
媒でなく水を用いる事により、経済性、安全性に優れた
薄片状金属酸化物の製造方法を提供するにある。
(Problems to be Solved by the Invention) An object of the present invention is to use inexpensive raw materials and water instead of an organic solvent as a solvent compared to the method for producing flaky metal oxides proposed in the past. The object of the present invention is to provide a method for producing flaky metal oxides that is highly economical and safe.

(問題点を解決するための手段〕 本発明は金属化合物の水溶液を基板に塗布し、該塗膜を
加熱乾燥後に該平滑面より剥離し、焼成することによる
薄片状金属酸化物の製造方法である。
(Means for Solving the Problems) The present invention provides a method for producing flaky metal oxides by applying an aqueous solution of a metal compound to a substrate, peeling the coating film from the smooth surface after heating and drying, and baking it. be.

以下に本発明方法を更に詳細に述べる。The method of the present invention will be described in more detail below.

本発明方法の実施に当り、金属化合物の水溶液としては
、造膜性のあるものが好ましい。
In carrying out the method of the present invention, the aqueous solution of the metal compound preferably has film-forming properties.

このような造膜性は、211体以上の高分子化合物(例
えば縮合リン酸塩等〕を水に溶解するとか、水溶性化合
物が水中で会合して高分子化合物のように振るまう事等
によって得られる。
Such film-forming properties can be achieved by dissolving a polymer compound of 211 or more bodies (for example, condensed phosphate, etc.) in water, or by associating water-soluble compounds in water and behaving like a polymer compound. can get.

しかしながら、造膜能がなくても、公知の造膜性高分子
、例えばポリオールやエチルセルロースのようなものを
添加して薄片状の形状を付与しうるものであれば良い。
However, even if it does not have film-forming ability, it may be any material that can be given a flaky shape by adding a known film-forming polymer such as polyol or ethyl cellulose.

又、本発明中の金属化合物の水溶液には、水に溶解する
時に水と反応して、異なった金属化合物となる場合も含
む。
Furthermore, the aqueous solution of a metal compound in the present invention includes cases where the solution reacts with water to form a different metal compound when dissolved in water.

これは例えば四塩化チタンを水に溶解すると、加水分解
して塩酸とチタン酸が生成し、実質的にはチタン酸の塩
酸溶液として存在している場合とか、或いは塩化アルミ
ニウムの水溶液の場合などである。
For example, when titanium tetrachloride is dissolved in water, it is hydrolyzed to produce hydrochloric acid and titanic acid, and it essentially exists as a solution of titanic acid in hydrochloric acid, or in the case of an aqueous solution of aluminum chloride. be.

本発明の金属化合物の金属としては、2値以上ノ金属、
好マシくハ周期表mb 、 ya 、 yb 、 wa
 。
The metal of the metal compound of the present invention includes metals with two or more values,
Periodic table mb, ya, yb, wa
.

■a、または■族に属する金属、更に好ましくはアルミ
ニウム、ケイ素、チタニウム、ジルコニウム、インジウ
ム、スズより選ばれた1種又は2種以上があげられる。
Metals belonging to group (1)a or group (2), more preferably one or more selected from aluminum, silicon, titanium, zirconium, indium, and tin.

従って、金属化合物としては、水溶性の上記金属の化合
物であれば良く、具体的には、ハロゲン化物、硫酸塩、
硝酸塩、オキシハロゲン化物、オキシ硫酸塩、オキシ硝
酸塩等の無機酸の塩とか、ギ酸塩、酢酸塩、安息香酸塩
等の有機カルボン酸の塩、又は水溶性金属キレート化物
等及びこれらの誘導体及び前述の金属化合物が縮合して
できたオリゴマー及びポリマー(以下これらを単に縮合
体と呼ぶ)があげられ、なかでも塩化物、オキシ塩化物
、アルコキシ金属塩化物、アシロキシ金属塩化物等の塩
化物類及びこれらの縮合体及びこれらの混合物が好まし
い。
Therefore, the metal compound may be a water-soluble compound of the above metals, and specifically, halides, sulfates,
Salts of inorganic acids such as nitrates, oxyhalides, oxysulfates, and oxynitrates, salts of organic carboxylic acids such as formates, acetates, and benzoates, water-soluble metal chelates, and derivatives thereof and the aforementioned Examples include oligomers and polymers (hereinafter simply referred to as condensates) formed by the condensation of metal compounds, including chlorides, oxychlorides, alkoxy metal chlorides, acyloxy metal chlorides, etc. These condensates and mixtures thereof are preferred.

これらの化合物としては、具体的には、四塩化ケイ素、
オキシ塩化ケイ素等の塩化ケイ素類、四臭化ケイ素、オ
キシ臭化ケイ素等の臭化ケイ素類、モノメトキシトリク
ロルシラン、モノエトキシトリクロルシラン、モノプロ
ポキシトリクロルシラン、ジメトキシジクロルシラン、
ジブトキシジクロルシラン、トリエトキシモノクロルシ
ラン、トリプロポキシモノクロルシラン、モノメトキシ
トリブロムシラン、モノエトキシトリブロムシラン、モ
ノプロポキシトリブロムシラン、ジメトキシジブロムシ
ラン、ジブトキシジブロムシラン、トリエトキシモノブ
ロムシラン、トリプロポキシモノブロムシラン等のアル
コキシハロゲノシラン類、モノホルミルオキシトリクロ
ルシラン、モノアセトキシトリクロルシラン、モノプロ
ピオニルオキシトリクロルシラン、ジホルミルオキシジ
クロルシラン、ジブチリルオキシジクロルシラン、トリ
ホルミルオキシモノクロルシラン、トリアセトキシモノ
クロルシラン、モノホルミルオキシトリブロムシラン、
モノアセトキシトリブロムシラン、モノプロピオニルオ
キシトリブロムシラン、ジホルミルオキシジブロムシラ
ン、ジブチリルオキシジブロムシラン、トリホルミルオ
キシモノブロムシラン、トリアセトキシモノブロムシラ
ン等のアシロキシハロゲノシラン類、蟻酸ケイ素、酢酸
ケイ素、安息香酸ケイ素等の有機酸ケイ素類、リチウム
シリケート、ナトリウムシリケート等のアルカリシリケ
ート類、等のケイ素化合物、及びこれらの縮合体; 塩化アルミニウム、オキシ塩化インジウム等の塩化アル
ミニウム類、臭化アルミニウム、オキシ臭化アルミニウ
ム等の臭化アルミニウム類、モノメトキシジクロルアル
ミニウム、モノエトキシジクロルアルミニウム、モノプ
ロポキシジクロルアルミニウム、ジェトキシモノクロル
アルミニウム、ジプロポキシモノクロルアルミニウム、
モノメトキシジブロムアルミニウム、モノエトキシジク
ロルアルミニウム、モノプロポキシジブロムアルミニウ
ム、ジェトキシモノブロムアルミニウム、ジプロポキシ
モノブロムアルミニウム等のアルコキシハロゲノアルミ
ニウム類、モノホルミルオキシジクロルアルミニウム、
モノアセトキシジクロルアルミニウム、モノプロピオニ
ルオキシジクロルアルミニウム、ジホルミルオキシモノ
クロルアルミニウム、ジアセトキシモノクロルアルミニ
ウム、モノホルミルオキシジブロムアルミニウム、モノ
アセトキシジブロムアルミニウム、モノプロピオニルオ
キシジブロムアルミニウム、ジホルミルオキシモノブロ
ムアルミニウム、ジアセトキシモノブロムアルミニウム
等のアシロキシハロゲノアルミニウム類、蟻酸アルミニ
ウム、酢酸アルミニウム、安息香酸アルミニウム等の有
機酸アルミニウム類、等のアルミニウム化合物、及びこ
れらの縮合体; 五塩化チタン、四塩化チタン、オキシ塩化チタン等の塩
化チタン類、四臭化チタン、オキシ臭化チタン等の臭化
チタン類、モノメトキシトリクロルチタン、モノエトキ
シトリクロルチタン、モノプロポキシトリクロルチタン
、ジメトキシジクロルチタン、ジブトキシジクロルチタ
ン、トリエトキシモノクロルチタン、トリプロポキシモ
ノクロルチタン、モノメトキシトリブロムチタン、モノ
エトキシトリブロムチタン、モノプロポキシトリブロム
チタン、ジメトキシジブロムチタン、ジブトキシジブロ
ムチタン、トリエトキシモノブロムチタン、トリプロポ
キシモノブロムチタン等のアルコキシハロゲノチタン類
、モノホルミルオキシトリクロルチタン、モノアセトキ
シトリクロルチタン、モノプロピオニルオキシトリクロ
ルチタン、ジホルミルオキシジクロルチタン、ジブチリ
ルオキシジクロルチタン、トリホルミルオキシモノクロ
ルチタン、トリアセトキシモノクロルチタン、モノホル
ミルオキシトリブロムチタン、モノアセトキシトリブロ
ムチタン、モノプロピオニルオキシトリブロムチタン、
ジホルミルオキシジブロムチタン、ジブチリルオキシジ
ブロムチタン、トリホルミルオキシモノブロムチタン、
トリアセトキシモノブロムチタン等のアシロキシハロゲ
ノチタン類、蟻酸チタン、酢酸チタン、安息香酸チタン
等の有機酸チタン類、等のチタン化合物、及びこれらの
縮合体; 二塩化スズ、四塩化スズ、オキシ塩化スズ等の塩化スズ
類、四臭化スズ、オキシ臭化スズ等の臭化スズ類、モノ
メトキシトリクロルスズ、モノエトキシトリクロルスズ
、モノプロポキシトリクロルスズ、ジメトキシジクロル
スズ、ジブトキシジクロルスズ、トリエトキシモノクロ
ルスズ、トリプロポキシモノクロルスズ、モノメトキシ
トリブロムスズ、モノエトキシトリブロムスズ、モノプ
ロポキシトリブロムスズ、ジメトキシジブロムスズ、ジ
ブトキシジブロムスズ、トリエトキシモノブロムスズ、
トリプロポキシモノブロムスズ等のアルコキシハロゲノ
スズ類、モノホルミルオキシトリクロルスズ、モノアセ
トキシトリクロルスズ、モノプロピオニルオキシトリク
ロルスズ、ジホルミルオキシジクロルスズ、ジブチリル
オキシジクロルスズ、トリホルミルオキシモノクロルス
ズ、トリアセトキシモノクロルスズ、モノホルミルオキ
シトリブロムスズ、モノアセトキシトリブロムスズ、モ
ノプロピオニルオキシトリブロムスズ、ジホルミルオキ
シジブロムスズ、ジブチリルオキシジブロムスズ、トリ
ホルミルオキシモノブロムスズ、トリアセトキシモノブ
ロムスズ等のアシロキシハロゲノスズ類、蟻酸スズ、酢
酸スズ、安息香酸スズ等の有機酸スズ類、等のスズ化合
物、及びこれらの縮合体; 三塩化インジウム、オキシ塩化インジウム等の塩化イン
ジウム類、三臭化インジウム、オキシ臭化インジウム等
の臭化インジウム類、モノメトキシジクロルインジウム
、モノエトキシジクロルインジウム、モノプロポキシジ
クロルインジウム、ジェトキシモノクロルインジウム、
ジプロポキシモノクロルインジウム、モノメトキシジブ
ロムインジウム、モノエトキシジブロムインジウム、モ
ノプロポキシジブロムインジウム、ジェトキシモノブロ
ムインジウム、ジプロポキシモノブロムインジウム等の
アルコキシハロゲノインジウム類、モノホルミルオキシ
ジクロルインジウム、モノアセトキシジクロルインジウ
ム、モノプロピオニルオキシジクロルインジウム、ジホ
ルミルオキシモノクロルインジウム、ジアセトキシモノ
クロルインジウム、モノホルミルオキシジブロムインジ
ウム、モノアセトキシジブロムインジウム、モノプロピ
オニルオキシジブロムインジウム、ジホルミルオキシモ
ノブロムインジウム、ジアセトキシモノブロムインジウ
ム等のアシロキシハロゲノインジウム類、蟻酸インジウ
ム、酢酸インジウム、安息香酸インジウム等の有機酸イ
ンジウム類、等のインジウム化合物、及びこれらの縮合
体;四塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム等の
塩化ジルコニウム類、四臭化ジルコニウム、オキシ臭化
ジルコニウム等の臭化ジルコニウム類、モノメトキシト
リクロルジルコニウム、モノエトキシトリクロルジルコ
ニウム、モノプロポキシトリクロルジルコニウム、ジメ
トキシジクロルジルコニウム、ジブトキシジクロルジル
コニウム、トリエトキシモノクロルジルコニウム、トリ
プロポキシモノクロルジルコニウム、モノメトキシトリ
ブロムジルコニウム、モノエトキシトリブロムジルコニ
ウム、モノプロポキシトリブロムジルコニウム、ジメト
キシジブロムジルコニウム、ジブトキシジブロムジルコ
ニウム、トリエトキシモノブロムジルコニウム、トリプ
ロポキシモノブロムジルコニウム等のアルコキシハロゲ
ノジルコニウム類、モノホルミルオキシトリクロルジル
コニウム、モノアセトキシトリクロルジルコニウム、モ
ノプロピオニルオキシトリクロルジルコニウム、ジホル
ミルオキシジクロルジルコニウム、ジブチリルオキシジ
クロルジルコニウム、トリホルミルオキシモノクロルジ
ルコニウム、トリアセトキシモノクロルジルコニウム、
モノホルミルオキシトリブロムジルコニウム、モノアセ
トキシトリブロムジルコニウム、モノプロピオニルオキ
シトリブロムジルコニウム、ジホルミルオキシジブロム
ジルコニウム、ジブチリルオキシジブロムジルコニウム
、トリホルミルオキシモノブロムジルコニウム、トリア
セトキシモノブロムジルコニウム等のアシロキシハロゲ
ノジルコニウム類、蟻酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウ
ム、安息香酸ジルコニウム等の有機酸ジルコニウム類、
等のジルコニウム化合物、及びこれらの縮合体;及び上
記の混合物があげられる。
Specifically, these compounds include silicon tetrachloride,
Silicon chlorides such as silicon oxychloride, silicon bromides such as silicon tetrabromide and silicon oxybromide, monomethoxytrichlorosilane, monoethoxytrichlorosilane, monopropoxytrichlorosilane, dimethoxydichlorosilane,
Dibutoxydichlorosilane, triethoxymonochlorosilane, tripropoxymonochlorosilane, monomethoxytribromsilane, monoethoxytribromsilane, monopropoxytribromsilane, dimethoxydibromsilane, dibutoxydibromsilane, triethoxymonobromsilane , alkoxyhalogenosilanes such as tripropoxymonobromosilane, monoformyloxytrichlorosilane, monoacetoxytrichlorosilane, monopropionyloxytrichlorosilane, diformyloxydichlorosilane, dibutyryloxydichlorosilane, triformyloxymonochlorosilane, triacetoxymonochlorosilane, monoformyloxytribromosilane,
Acyloxyhalogenosilanes such as monoacetoxytribromsilane, monopropionyloxytribromsilane, diformyloxydibromsilane, dibutyryloxydibromsilane, triformyloxymonobromsilane, triacetoxymonobromsilane, silicon formate, Silicon compounds such as organic acid silicones such as silicon acetate and silicon benzoate, alkali silicates such as lithium silicate and sodium silicate, and condensates thereof; Aluminum chlorides such as aluminum chloride and indium oxychloride, aluminum bromide , aluminum bromides such as aluminum oxybromide, monomethoxydichloraluminum, monoethoxydichloraluminum, monopropoxydichloraluminum, jetoxymonochloraluminum, dipropoxymonochloraluminum,
Alkoxyhalogenoaluminum such as monomethoxydibromoaluminum, monoethoxydichloraluminum, monopropoxydibromoaluminum, jetoxymonobromoaluminum, dipropoxymonobromoaluminum, monoformyloxydichloraluminum,
Monoacetoxydichloraluminum, monopropionyloxydichloraluminum, diformyloxymonochloraluminum, diacetoxymonochloraluminum, monoformyloxydibromoaluminum, monoacetoxydibromoaluminum, monopropionyloxydibromoaluminum, diformyloxymonobromoaluminum , acyloxyhalogenoaluminiums such as diacetoxymonobromoaluminum, organic acid aluminums such as aluminum formate, aluminum acetate, and aluminum benzoate, and their condensates; titanium pentachloride, titanium tetrachloride, oxy Titanium chlorides such as titanium chloride, titanium bromides such as titanium tetrabromide, titanium oxybromide, monomethoxytrichlortitanium, monoethoxytrichlortitanium, monopropoxytrichlortitanium, dimethoxydichlortitanium, dibutoxydichlortitanium, Triethoxymonochlortitanium, tripropoxymonochlortitanium, monomethoxytribromotitanium, monoethoxytribromotitanium, monopropoxytribromotitanium, dimethoxydibromotitanium, dibutoxydibromotitanium, triethoxymonobromotitanium, tripropoxymonobromotitanium Alkoxyhalogenotitaniums such as monoformyloxytrichlortitanium, monoacetoxytrichlortitanium, monopropionyloxytrichlortitanium, diformyloxydichlortitanium, dibutyryloxydichlortitanium, triformyloxymonochlortitanium, triacetoxymonochlortitanium, mono Formyloxytribromo titanium, monoacetoxytribromo titanium, monopropionyloxytribromo titanium,
Diformyloxydibromo titanium, dibutyryloxydibromo titanium, triformyloxymonobromo titanium,
Titanium compounds such as acyloxyhalogenotitaniums such as triacetoxymonobromotitanium, organic acid titaniums such as titanium formate, titanium acetate, and titanium benzoate, and condensates thereof; tin dichloride, tin tetrachloride, and oxychloride. Tin chlorides such as tin, tin bromides such as tin tetrabromide, tin oxybromide, monomethoxytrichlortin, monoethoxytrichlortin, monopropoxytrichlortin, dimethoxydichlortin, dibutoxydichlortin, Ethoxymonochlortin, tripropoxymonochlortin, monomethoxytribromtin, monoethoxytribromtin, monopropoxytribromtin, dimethoxydibromtin, dibutoxydibromtin, triethoxymonobromtin,
Alkoxyhalogenotins such as tripropoxymonobromtin, monoformyloxytrichlortin, monoacetoxytrichlortin, monopropionyloxytrichlortin, diformyloxydichlortin, dibutyryloxydichlortin, triformyloxymonochlortin, trichlortin Acetoxymonochlortin, monoformyloxytribromtin, monoacetoxytribromtin, monopropionyloxytribromtin, diformyloxydibromtin, dibutyryloxydibromtin, triformyloxymonobromtin, triacetoxymonobromtin tin compounds such as acyloxyhalogenotins such as tin formate, tin acetate, tin organic acids such as tin benzoate, and condensates thereof; indium chlorides such as indium trichloride and indium oxychloride; Indium bromides such as indium chloride, indium oxybromide, monomethoxydichloroindium, monoethoxydichlorindium, monopropoxydichlorindium, jetoxymonochlorindium,
Alkoxyhalogenoindiums such as dipropoxymonochlorindium, monomethoxydibromoindium, monoethoxydibromoindium, monopropoxydibromoindium, jetoxymonobromoindium, dipropoxymonobromoindium, monoformyloxydichloroindium, monoacetoxy Dichlorindium, monopropionyloxydichlorindium, diformyloxymonochlorindium, diacetoxymonochlorindium, monoformyloxydibromoindium, monoacetoxydibromoindium, monopropionyloxydibromoindium, diformyloxymonobromoindium, dichloroindium Indium compounds such as acyloxyhalogenoindiums such as acetoxymonobromindium, organic acid indiums such as indium formate, indium acetate, and indium benzoate, and condensates thereof; zirconium chlorides such as zirconium tetrachloride and zirconium oxychloride. Zirconium bromides such as zirconium tetrabromide and zirconium oxybromide, monomethoxytrichlorozirconium, monoethoxytrichlorzirconium, monopropoxytrichlorzirconium, dimethoxydichlorozirconium, dibutoxydichlorozirconium, triethoxymonochlorzirconium, trichlorozirconium Alkoxyhalogenozirconiums such as propoxymonochlorozirconium, monomethoxytribromizirconium, monoethoxytribromizirconium, monopropoxytribromzirconium, dimethoxydibromzirconium, dibutoxydibromzirconium, triethoxymonobromzirconium, tripropoxymonobromzirconium, etc. , monoformyloxytrichlorozirconium, monoacetoxytrichlorzirconium, monopropionyloxytrichlorzirconium, diformyloxydichlorozirconium, dibutyryloxydichlorozirconium, triformyloxymonochlorzirconium, triacetoxymonochlorozirconium,
Acyloxy such as monoformyloxytribromizirconium, monoacetoxytribromzirconium, monopropionyloxytribromzirconium, diformyloxydibromzirconium, dibutyryloxydibromzirconium, triformyloxymonobromzirconium, triacetoxymonobromzirconium, etc. Organic acid zirconiums such as halogenozirconiums, zirconium formate, zirconium acetate, zirconium benzoate,
and their condensates; and mixtures of the above.

上記化合物中、アルコキシ金属塩化物、アシロキシ金属
塩化物は、それぞれアルコールと金属塩化物、カルボン
酸と金属塩化物の反応により簡単に得られる。例えば、
四塩化チタン1モルとエタノール1モルを非水条件で混
合すれば、これらは容易に反応してモノエトキシトリク
ロルメタンを生成するし、四塩化ケイ素1モルと、酢酸
2モルを非水条件で混合すれば、ジアセトキシジクロル
シランを主成分とするアセトキシクロルシランが生成す
る。
Among the above compounds, alkoxy metal chlorides and acyloxy metal chlorides can be easily obtained by reacting alcohols with metal chlorides and carboxylic acids with metal chlorides, respectively. for example,
If 1 mole of titanium tetrachloride and 1 mole of ethanol are mixed under non-aqueous conditions, they will easily react to produce monoethoxytrichloromethane, and 1 mole of silicon tetrachloride and 2 moles of acetic acid will be mixed under non-aqueous conditions. Then, acetoxychlorosilane containing diacetoxydichlorosilane as a main component is produced.

アルコキシ金属塩化物の場合、反応させるアルコールは
、金属塩化物中の塩素に対してモル比で1以下の範囲が
良い。塩素と等モル以上のアルコールを加えても、金属
塩化物はもはや反応しないので、モル比で1以下が良い
In the case of an alkoxy metal chloride, the molar ratio of the alcohol to be reacted to the chlorine in the metal chloride is preferably 1 or less. Even if alcohol is added in an amount equal to or more than chlorine, the metal chloride will no longer react, so the molar ratio is preferably 1 or less.

上述と全く同じ理由から、アシロキシ金属塩化物の場合
反応させるカルボン酸は金属塩化物中の塩素に対してモ
ル比で1以下の範囲が良い。
For exactly the same reason as mentioned above, in the case of an acyloxy metal chloride, the molar ratio of the carboxylic acid to be reacted with respect to the chlorine in the metal chloride is preferably 1 or less.

反応させるアルコール及びカルボン酸はどのようなもの
も用い得るが、水への溶解度を考慮すると、炭素数4以
下のものが好ましい。
Any alcohol and carboxylic acid can be used for the reaction, but in consideration of solubility in water, alcohols and carboxylic acids having 4 or less carbon atoms are preferred.

以上詳述したような金属化合物の181又は2種以上を
水に溶解する事によって塗布液が得られる。
A coating liquid can be obtained by dissolving one or more of the metal compounds detailed above in water.

塗布液には、鉄、ニッケル、バナジウム、クロム、マン
ガン等の化合物から成る公知の着色剤を添加することも
できる。
A known coloring agent consisting of a compound such as iron, nickel, vanadium, chromium, or manganese may also be added to the coating solution.

塗布液中の金属化合物の濃度は金属化合物の種類によっ
ても異り、特に制限されるものではないが、あまりに稀
薄すぎると薄片化しなかったり、或いは多数回塗布しな
ければならず、経済的でないし、一方濃厚すぎると作業
性が低下するようになるので一般には2〜80!量%好
ましくは6〜50重量%で適用される。通常、目的とす
る金属酸化物の膜厚によって塗布液の濃度は決められる
The concentration of the metal compound in the coating solution varies depending on the type of metal compound and is not particularly limited, but if it is too dilute, it may not be flaky or it may have to be coated multiple times, which is not economical. On the other hand, if it is too thick, workability will decrease, so it is generally 2 to 80! The amount is preferably applied in % by weight from 6 to 50% by weight. Usually, the concentration of the coating liquid is determined depending on the desired film thickness of the metal oxide.

本発明方法の実施に当り、塗布液は加熱された又は加熱
されていない基板に塗布される。
In carrying out the method of the invention, a coating solution is applied to a heated or unheated substrate.

基板としてはガラス、金属、樹脂等を用いるξとができ
る。基板表面はできるだけ平滑であることが好ましい。
As the substrate, glass, metal, resin, etc. can be used. It is preferable that the substrate surface be as smooth as possible.

また基板は平板であってもよいしロール、フェルトであ
ってもよい。
Further, the substrate may be a flat plate, a roll, or a felt.

基板への塗布液の塗布方法としては浸漬法、スプレー法
、刷毛塗り法等の公知の塗布方法を採用することができ
る。
As a method for applying the coating liquid to the substrate, known coating methods such as a dipping method, a spray method, and a brush coating method can be employed.

造膜性の付与及び塗膜の厚さを均一にするために例えば
、ポリオールやエチルセルロースのように高分子物質、
ノニオン系又はアニオン系の界面活性剤等を添加するこ
ともできる。
For example, polymeric substances such as polyols and ethyl cellulose,
Nonionic or anionic surfactants may also be added.

本発明方法の実施に当り、基板へ塗布された塗布液は、
常温〜800℃にて乾燥し、ヒビ割れを生じさせる。乾
燥方法としては、スチーム加熱、電気加熱等で基板自身
を加熱する方法、とか、赤外線ヒーターやマイクロウェ
ーブで塗布面を加熱する方法が好都合である。
In carrying out the method of the present invention, the coating liquid applied to the substrate is
It dries at room temperature to 800°C, causing cracks. As a drying method, it is convenient to heat the substrate itself using steam heating, electric heating, etc., or to heat the coated surface using an infrared heater or microwave.

本発明方法によれば、有機溶媒を用いずに薄片が製造で
きる為に、従来のような有機溶媒回収装置や、防爆機器
等が不要になり、装置が大巾に簡略化され、装置費が安
価になり、かつ安全性も向上するのみならず、原料に用
いる水溶性金属化合物は、従来の金属アルコキシド等よ
りもはるかに安価であるために、経済的に薄片を製造す
る事ができるという利点が達成できる。
According to the method of the present invention, thin pieces can be produced without using organic solvents, so there is no need for conventional organic solvent recovery equipment or explosion-proof equipment, and the equipment is greatly simplified, reducing equipment costs. Not only is it cheaper and safer, but the water-soluble metal compound used as the raw material is much cheaper than conventional metal alkoxides, so it has the advantage of being able to economically produce thin pieces. can be achieved.

本発明方法の実施に当り、基板上でヒビ割れした薄膜は
スクレーパー等で剥離し収集される。
In carrying out the method of the present invention, the thin film cracked on the substrate is peeled off with a scraper or the like and collected.

それにより薄片状無機物質を得ることができる。A flaky inorganic material can thereby be obtained.

以上のようにして回収された金属化合物薄片は、出発金
属化合物が有していた官能基、例えばハロゲン基、アル
コキシ基等を持っている。
The metal compound flakes recovered as described above have the functional groups that the starting metal compound had, such as halogen groups and alkoxy groups.

特にハロゲン基が残っていると、この薄片は再び水に溶
解しやすい等の不都合もあるので、焼成して化学的に安
定な金属酸化物として用いる必要がある。
In particular, if halogen groups remain, there are disadvantages such as the tendency for the flakes to dissolve in water again, so it is necessary to sinter them and use them as chemically stable metal oxides.

焼成温度は金属化合物が金属酸化物となる温度で、80
0〜1100℃、好ましくは500〜900℃の範囲で
あり、通常大気中にて焼成すれば良いが必要に応じて水
蒸気雰凹気等を用いてもよい。
The firing temperature is the temperature at which the metal compound becomes a metal oxide, and is 80°C.
The firing temperature is in the range of 0 to 1100°C, preferably 500 to 900°C, and the firing may normally be carried out in the atmosphere, but if necessary, a steam atmosphere or the like may be used.

また、薄片状金属酸化物□は使用目的に応じて適宜粉砕
されるが、一般には長さ約1〜100μm、厚さ約0.
01〜lOμmの大きさで用いられるが、これに制限さ
れるものではない。
The flaky metal oxide □ is crushed as appropriate depending on the purpose of use, but generally it has a length of about 1 to 100 μm and a thickness of about 0.5 μm.
It is used in a size of 01 to 10 μm, but is not limited to this.

(発明の効果) 本発明方法によって得られた薄片状無機物質はマニキュ
アエナメノ!革製品に対する光沢顔料、自!@車外装金
属塗装用、不飽和ポリエステル樹脂の鋳造による真珠光
沢ボタン、化粧品用顔料、食料包装用のプラスチックの
充填材等に用いる真珠光沢顔料、或いは体質顔料、ナト
リウムランプ用透光管やコンデンサー磁器等のセラミッ
ク製品製造用原料粉末及び触媒担体等に有効に適用でき
る。
(Effects of the Invention) The flaky inorganic material obtained by the method of the present invention is a nail polish enamel! Shiny pigments for leather products, self! @For car exterior metal painting, pearlescent buttons cast from unsaturated polyester resin, pigments for cosmetics, pearlescent pigments or extender pigments used as filling materials for plastics for food packaging, transparent tubes for sodium lamps, and condenser porcelain. It can be effectively applied to raw material powder and catalyst carrier for manufacturing ceramic products such as.

以上詳述した本発明方法によれば従来公知の担持型顔料
と同等の屈折率、光沢等の光学的効果を兼備した上に、
安価(こ、かつより安全に薄片状金属酸化物を製造する
ことが出来るという利点を発揮する。
According to the method of the present invention described in detail above, in addition to having optical effects such as refractive index and gloss equivalent to conventionally known supported pigments,
It has the advantage of being able to produce flaky metal oxides at a lower cost and more safely.

以下に実施例により本発明方法を更に詳細に説明するが
本発明方法はこれらにより何ら制限されるものでないこ
とは明らかである 実施例1〜G 116610gを第1表に示す濃度になるように水と混
合して塗布液を調製した。
The method of the present invention will be explained in more detail with reference to Examples below, but it is clear that the method of the present invention is not limited thereto. A coating solution was prepared by mixing with

これらの液に、界面活性剤で洗浄後、水洗乾燥したスラ
イドガラスを浸漬して、7551/分の速度で引き上げ
た。これをエアバス中で90”C180分間乾燥し、薄
片化度を測定した。次いでスライドグラス上へ薄片をス
クレーパーでかき落し該薄片を900 ”Cで80分間
焼成した。得られた薄片の大きさ、厚みを表1に示す。
A slide glass, which had been washed with a surfactant, washed with water and dried, was immersed in these liquids and pulled up at a speed of 7551/min. This was dried in an air bath at 90''C for 180 minutes, and the degree of flaking was measured.Then, the flakes were scraped onto a glass slide with a scraper, and the flakes were fired at 900''C for 80 minutes. Table 1 shows the size and thickness of the obtained flakes.

尚、薄片化度とは、最初にスライドガラス上に付着させ
た放膜の面積に対する乾燥後薄片となった面積の割合を
%で表わしたものである。
Note that the degree of flaking is expressed as a percentage of the area of the membrane that has become flaky after drying to the area of the membrane initially deposited on the slide glass.

これより、TiCムの濃度により、得られるTiOx 
 薄片の厚み、大きさが異なる事、及び薄片化度も異な
る事がわかる。いずれの実施例の場合にも薄片は得られ
るが、特に20〜40!m%の時に好ましい結果となる
From this, depending on the concentration of TiC, the obtained TiOx
It can be seen that the thickness and size of the flakes are different, and the degree of flaking is also different. In any of the examples, flakes are obtained, but in particular 20 to 40! Favorable results are obtained when m%.

実施例7〜12 TiC1419g(0,1モル)を第2表に示した化合
物0.2モルと反応させた後に水42fと混合して薄片
形成液を調製した。この液を用いて実施例1と同様にし
てガラス板上に薄片を得た。得られた薄片を800°C
,5時間、次いで700℃、2時間焼成してTies薄
片を得た。結果を第2表に示した。これよりギ酸、酢酸
等の低級カルボン酸及びメタノール、エタノール等の低
級アルコール類と反応させたシアシロキシジクロルチタ
ン及びジアルコキシジクロルチタンが薄片化率が高いこ
とが分かる。
Examples 7 to 12 A flake-forming solution was prepared by reacting 1419 g (0.1 mol) of TiC with 0.2 mol of the compound shown in Table 2 and then mixing it with 42 f of water. Using this liquid, a thin piece was obtained on a glass plate in the same manner as in Example 1. The obtained flakes were heated at 800°C.
, 5 hours, and then fired at 700° C. for 2 hours to obtain Ties flakes. The results are shown in Table 2. This shows that cyasyloxydichlorotitanium and dialkoxydichlorotitanium reacted with lower carboxylic acids such as formic acid and acetic acid and lower alcohols such as methanol and ethanol have a high exfoliation rate.

実施例18 SiCt417y(0,1モル)を酢酸6N(0,1モ
ル)と反応させた後に水17fと混合して薄片形成液を
調製した。この液を用いて実施例1と同様にしてスライ
ドガラスに付着させた後電子レンジにて500W2分間
乾燥して薄片を得た。この結果薄片化率は90%であっ
た。得られた薄片を、500080分間焼成してSin
g薄片を得た。該薄片は、厚み0.8μ大きさ10μで
あった。
Example 18 SiCt417y (0.1 mol) was reacted with 6N acetic acid (0.1 mol) and then mixed with water 17f to prepare a flake forming solution. This liquid was applied to a slide glass in the same manner as in Example 1, and then dried in a microwave oven at 500W for 2 minutes to obtain a thin piece. As a result, the flaking rate was 90%. The obtained flakes were fired for 500080 minutes to give
g thin sections were obtained. The flakes had a thickness of 0.8μ and a size of 10μ.

実施例14 比fi1.88、A12(Js /C1(0重量比が2
.45の塩基性塩化アルミニウム水溶液に酢酸を加えて
p)18〜5に調整して薄片形成液を調製した。この液
を用いて実施例1と同様にしてスライドガラスに付着さ
せた後エアーバス中で120℃、80分間乾燥し薄片を
得た。この結果薄片化率は95%であった。得られた薄
片を、水蒸気を吹き込みながら850”06時間処理後
1000℃2時間焼成してAI !08薄片を得た。該
薄片は、厚み1.2μ大きさ80μであった。
Example 14 Ratio fi1.88, A12 (Js/C1 (0 weight ratio is 2
.. A flake forming solution was prepared by adding acetic acid to a basic aluminum chloride aqueous solution of No. 45 to adjust the pH to p) 18 to 5. This liquid was applied to a slide glass in the same manner as in Example 1, and then dried in an air bath at 120° C. for 80 minutes to obtain a thin piece. As a result, the flaking rate was 95%. The obtained flakes were treated at 850" for 6 hours while blowing water vapor into them, and then fired at 1000°C for 2 hours to obtain AI!08 flakes. The flakes had a thickness of 1.2 microns and a size of 80 microns.

実施例16 SnC1426,16’ (0,1モル)をメタノール
6.4g(0,2モル)と反応させた化合物と、SbC
1m  1.14 f (0,005モル)とエタノー
ル0.28f(0,05モル)を反応させた化合物に、
水490gを混合して薄片形成液を調製した。この液を
ポリエステルフィルム上に薄く塗布してから120℃、
20!pl!]乾燥後フィルムより薄片状物質を剥離し
た。該薄片状物質を800℃6時間処理後600℃で焼
成して薄片状酸化スズを得た。該薄片状酸化スズの導電
率を測定したところ、I X 10−’Ω百であった。
Example 16 A compound obtained by reacting SnC1426,16' (0.1 mol) with 6.4 g (0.2 mol) of methanol and SbC
A compound obtained by reacting 1 m 1.14 f (0,005 mol) with ethanol 0.28 f (0.05 mol),
A flake forming liquid was prepared by mixing 490 g of water. After applying this solution thinly on a polyester film, heat it at 120°C.
20! pl! ] After drying, the flaky material was peeled off from the film. The flaky material was treated at 800°C for 6 hours and then fired at 600°C to obtain flaky tin oxide. When the electrical conductivity of the flaky tin oxide was measured, it was I x 10-'Ω100.

実施例16 InC1m  22.21 (0,1モJl/ )を水
609と混合して薄片形成液を調製した。この液を実施
例1と同様にスライドガラス上に薄く塗布してからエア
ーパスで120℃、2分間乾燥後ガラスより薄片状物質
を剥離した。該薄片状物質を水蒸気下800℃5時間処
理後600”Cで焼成して薄片状酸化インジウムを得た
Example 16 A flake-forming liquid was prepared by mixing 22.21 m (0.1 mJl/) of InC with 609 g of water. This solution was thinly applied onto a slide glass in the same manner as in Example 1, and after drying with an air path at 120° C. for 2 minutes, the flaky material was peeled off from the glass. The flaky material was treated under steam at 800°C for 5 hours and then fired at 600''C to obtain flaky indium oxide.

該薄片状酸化インジウムの導電率を測定したところ、6
X10  Ω傭であった。
When the conductivity of the flaky indium oxide was measured, it was 6.
It was X10Ω.

実施例17 ZrC142B、8 f (0,1%ル)を蟻酸9.2
f(0,2モル)と反応させた後に水50fと混合して
薄片形成液を調製した。この液を用いて実施例1と同様
にしてスライドガラスに付着させた後電子レンジにて5
00W2分間乾燥して薄片を得た。この結果薄片化率は
100%であった。得られた薄片を、500℃80分間
焼成してZrOx薄片を得た。該薄片は、厚み0.8μ
大きさ50μであった。
Example 17 ZrC142B, 8 f (0.1%) in formic acid 9.2
After reacting with f (0.2 mol), the mixture was mixed with 50 f of water to prepare a flake-forming liquid. This solution was applied to a slide glass in the same manner as in Example 1, and then heated in a microwave for 5 minutes.
It was dried for 2 minutes at 00W to obtain a thin section. As a result, the flaking rate was 100%. The obtained flakes were fired at 500°C for 80 minutes to obtain ZrOx flakes. The thin piece has a thickness of 0.8μ
The size was 50μ.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)金属化合物の水溶液を平滑面に塗布し、該塗膜を加
熱乾燥後に、該平滑面よりはく離し、焼成する事よりな
る薄片状金属酸化物の製造方法。 2)金属化合物が、金属ハロゲン化物、金属酸ハロゲン
化物、アルコキシ金属ハロゲン化物、アシロキシ金属ハ
ロゲン化物及びこれらの縮合体の内より選ばれた一種又
は二種以上である事を特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の薄片状金属酸化物の製造方法。 3)金属化合物の金属として、ケイ素、アルミニウム、
チタニウム、スズ、インジウム、およびジルコニウムよ
りなる群から選ばれた1種または2種以上を用いること
を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の薄片状金属酸
化物の製造方法。 4)ハロゲンが塩素であることを特徴とする特許請求の
範囲第2項記載の薄片状金属酸化物の製造方法。
[Scope of Claims] 1) A method for producing a flaky metal oxide, which comprises applying an aqueous solution of a metal compound onto a smooth surface, heating and drying the coating film, peeling it off from the smooth surface, and firing. 2) A patent claim characterized in that the metal compound is one or more selected from metal halides, metal acid halides, alkoxy metal halides, acyloxy metal halides, and condensates thereof. A method for producing a flaky metal oxide according to Scope 1. 3) As the metal of the metal compound, silicon, aluminum,
3. The method for producing a flaky metal oxide according to claim 2, characterized in that one or more selected from the group consisting of titanium, tin, indium, and zirconium are used. 4) The method for producing a flaky metal oxide according to claim 2, wherein the halogen is chlorine.
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