JPS61290048A - Multilayer structure - Google Patents

Multilayer structure

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JPS61290048A
JPS61290048A JP13387985A JP13387985A JPS61290048A JP S61290048 A JPS61290048 A JP S61290048A JP 13387985 A JP13387985 A JP 13387985A JP 13387985 A JP13387985 A JP 13387985A JP S61290048 A JPS61290048 A JP S61290048A
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lower alkyl
mol
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袮宜 太一
安沢 晴嘉
信雄 田中
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Kuraray Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 A、産業上の利用分野 本発明は共押出成形時、厚みむら、スジなとがなく、し
かも加熱延伸時ピンホール、クラック、局所的偏肉なと
がないガスバリアー性に優れた多層構造体に関する。
[Detailed Description of the Invention] A. Industrial Field of Application The present invention provides a gas barrier that is free from uneven thickness and streaks during coextrusion molding, and free from pinholes, cracks, and local uneven thickness during hot stretching. The present invention relates to a multilayer structure with excellent properties.

エチレン−酢酸ビニル共重合体けん化物(以下EVOH
と記す)は今日、食品包装用フィルム、特に酸素に対す
る保護が必要な食品及び他の製品に対する使用を目的と
するフィルムにおいてかなりの価値を持っている事が認
められている。しかしながら、EVOLLで作った単層
フィルムはタフネスに欠は脆く、また、このフィルムは
水又は水蒸気に対して有効なバリアー性を示さないなど
の欠点がある。これらの欠点を改善する為、EVOH樹
脂は通常、ナイロン、ポリエステル、ポリプロピレン、
ポリエチレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂′f
t1種類又はそれ以上含む構造層とアイオノマー、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体などに代表さン れる各種、熱ξ−ラント層とを積層してなる多層フィル
ムの形で用いられている。
Saponified ethylene-vinyl acetate copolymer (hereinafter referred to as EVOH)
are now recognized as having considerable value in food packaging films, particularly those intended for use with food and other products requiring protection against oxygen. However, single-layer films made from EVOLL lack toughness, are brittle, and have drawbacks such as not exhibiting effective barrier properties against water or water vapor. To improve these drawbacks, EVOH resins are usually made of nylon, polyester, polypropylene,
Thermoplastic resins such as polyethylene and polyvinyl chloride
It is used in the form of a multilayer film formed by laminating a structural layer containing one or more types of t and various types of thermal ξ-lunt layers represented by ionomers, ethylene-vinyl acetate copolymers, etc.

ところでEVOH’を含有する該多層構造体は最近の技
術進歩により多数の押出機より同時に多種の樹脂を押出
し一つのダイスより多層積層体を得ろ共押出成形法によ
り製造される場合が多い。また多層構造体の強度を増す
為、加熱具延伸する場合もある。しかし、この様な成形
加工時、EVOHi含有する為に下記の様な問題点があ
り食品包装材としての使用が困難な場合が多い状況にあ
った。
However, due to recent technological advances, multilayer structures containing EVOH' are often manufactured by a coextrusion method in which various resins are extruded simultaneously from a number of extruders and a multilayer laminate is obtained from a single die. Further, in order to increase the strength of the multilayer structure, stretching may be performed using a heating device. However, during such molding processing, the following problems arise due to the presence of EVOHi, and it is often difficult to use it as a food packaging material.

すなわち、Evon2含有する多層構造体を共押出法に
より成形加工する場合、hvoiiとポリプロピレン、
ポリスチレンとの粘性特性が大巾に異なる、為か多層構
造体の全体の厚み、分布を均一にしても、nvon層の
厚み分布が均一でなく、ガスバリアー用食品包装材とし
てはバリアー性を保証する為に必要以上にEVOH層を
厚くする必要がある。
That is, when molding a multilayer structure containing Evon2 by coextrusion, hvoii and polypropylene,
Perhaps because the viscosity properties are vastly different from polystyrene, even if the overall thickness and distribution of the multilayer structure is made uniform, the thickness distribution of the nvon layer is not uniform, ensuring barrier properties as a gas barrier food packaging material. Therefore, it is necessary to make the EVOH layer thicker than necessary.

またEVOH層の厚み不均一の為、加熱延伸時、クラン
ク、局所的偏肉によりガスバリアー性が大巾に悪化する
場合もしばしばであった。さらに悪い事には共押出成形
時、長期間運転するとEVO)1層に微少なスジ、ブツ
が発生し、外観をそこねるのみならず、加熱延伸時EV
OHのクラ、ツク、微少偏肉が増加し、ガスバリアー性
が悪化して食品包装材として使用に耐えなくなる。
Furthermore, due to the non-uniform thickness of the EVOH layer, the gas barrier properties often deteriorated significantly due to cranking and local thickness unevenness during heating and stretching. What is worse is that during coextrusion molding, if the EVO is operated for a long period of time, minute streaks and spots may occur in one layer, which not only spoils the appearance, but also causes EV during heating and stretching.
OH cracks, bumps, and minute thickness deviations increase, gas barrier properties deteriorate, and the product becomes unusable as a food packaging material.

一方、EVOH層の厚み分布を出来る限り均一にする様
、成形条件、成形装置の改善を行なっても、また、厚み
均一なEvonシートをドライラミネート法により積層
したシートにおいても加熱延伸加工時しばしばEVOH
層のクラック、局所的偏肉等によりガスバリアー性が大
巾に悪化し、使用に耐えない場合があった。そこで従来
、共押出成形時の厚み分布を均一化するため、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン及び接着性樹脂の溶融粘性(メル
トインデックス;MI)がEVOHに近い銘柄を選定す
る方法及び共押出装置を改造による方法が取られてきた
が、前者については本質的にEVOIIIと他の樹脂と
は粘度の剪断速度依存性が異なる為、たとえ剪断速度一
定条件下での粘性(メルトインデックス)′ftあわせ
ても厚み分布の大巾な改善は不可能であり、また、ポリ
プロピレン、ポリスチレン及び接着性樹脂の粘性が規制
される為、目的とする食品包装材が得られない問題があ
った。一方、共押出装置の改造により時としてEVOH
層の均一なものが得られる場合があるが、運転条件が非
常に狭い為、吐出速度、吐出温度の微少な変動により厚
み分布が変化し、安定生産が出来にくい事、また樹脂の
銘柄変更を行なう場合には装置自身の大巾な改造を試行
錯誤で実施する必要があり、条件確立までに多大の労力
、時間、原料が必要であるなど大きな問題があった。
On the other hand, even if we improve the molding conditions and molding equipment to make the thickness distribution of the EVOH layer as uniform as possible, even in sheets made by laminating Evon sheets with uniform thickness by dry lamination, EVOH often occurs during heating and stretching.
In some cases, the gas barrier properties deteriorated significantly due to cracks in the layer, local thickness unevenness, etc., and the product became unusable. Conventionally, in order to equalize the thickness distribution during coextrusion molding, methods have been used to select brands of polypropylene, polystyrene, and adhesive resins whose melt viscosity (melt index; MI) is close to EVOH, and to modify the coextrusion equipment. However, regarding the former, the shear rate dependence of viscosity is essentially different between EVOIII and other resins, so even if the viscosity (melt index)′ft under a constant shear rate condition is combined, the thickness distribution Significant improvements are not possible, and the viscosity of polypropylene, polystyrene, and adhesive resin is regulated, so there is a problem that the desired food packaging material cannot be obtained. On the other hand, due to modification of coextrusion equipment, EVOH
In some cases, a uniform layer can be obtained, but because the operating conditions are very narrow, the thickness distribution changes due to slight fluctuations in discharge speed and discharge temperature, making stable production difficult and requiring changing the brand of resin. In this case, it was necessary to extensively modify the device itself through trial and error, and there were major problems such as the need for a large amount of labor, time, and raw materials to establish the conditions.

一方、加熱延伸加工時に発生するEVOH層のピンホー
ル、クラック、局所的偏肉等を防止する対策としてEV
OHにポリアミド系樹脂のブレンド、芳香族スルホンア
ミド系可塑剤の混合(特開昭59−20345)、さら
にはグリセリン、各種グリコール、ポリヒドリック化合
物に代表されるヒドロキシル基含有可塑剤等の混合(特
開昭53−88067 )等が検討されてはいるが、い
ずれの場合も下記の点で十分満足すべきものではない事
が判明した。すなわち、ポリアミド系樹脂をEVOfl
にポリマーブレンドし多層構造物を得る場合ポリアミド
系樹脂とE VOI(とが反応し、成形物に多数のゲル
状物(フィッシュアイ)が発生するとともに、着色がは
げしく使用にだえない。また多層構造物を二次成形によ
り容器にした場合、gvon層のクラック、ピンホール
等の発生を防止する為((添加するポリアミド系樹脂の
含有量はEVOH・100M量部に対し10〜30重量
部と多大に添加する必要がある。その結果、ガスバリア
ー性が大巾に低下し、成形容器は良好であっても高いガ
スバリアー性を特長とする食品包装分野での使用は不可
能である。またヒドロキシル基含宵可塑剤系においても
添加量がEVOHI O0部に対して、ポリアミド系樹
脂と同様に10〜20重量部必要であり、ガスバリアー
性が大巾に低下する。ざらに悪い事には、EVOHとの
相容性が十分でない偽か可塑性がブリードし多層積層容
器におけるEVOH層と他の樹脂層との接着強度が経時
的に大巾に低下し容器の型態をそこねる。すなわち、上
記添加剤は使用に耐えがたいものである。それ故、ガス
バリアー性の大巾な低下がなく、かつ、共押出法による
多層構造体の成形において、EVOIL層の厚みが均一
であり、さらに該多層構造体を加熱延伸加工時、EVO
H層のピンホール、クラック、微少偏肉などが生じない
成形加工性良好なEVOIiの開発が重要な課題の一つ
である。
On the other hand, EV
Blends of polyamide resins, aromatic sulfonamide plasticizers (JP-A-59-20345), and mixtures of glycerin, various glycols, hydroxyl group-containing plasticizers represented by polyhydric compounds, etc. 1988, 88067), etc., but it has been found that none of them is fully satisfactory in the following respects. In other words, polyamide resin is EVOfl
When blending the polyamide resin with EVOI to obtain a multilayer structure, the polyamide resin reacts with E VOI, and a large number of gel-like substances (fish eyes) are generated in the molded product, and the product is heavily colored and cannot be used. When the structure is made into a container by secondary molding, in order to prevent the occurrence of cracks, pinholes, etc. in the gvon layer (the content of polyamide resin to be added is 10 to 30 parts by weight per 100M parts of EVOH). As a result, the gas barrier properties are drastically reduced, and even if the molded container is good, it cannot be used in the food packaging field, which is characterized by high gas barrier properties. Hydroxyl group-containing plasticizer systems also need to be added in an amount of 10 to 20 parts by weight per 0 parts of EVOHI O, similar to polyamide resins, and the gas barrier properties are greatly reduced. , plasticity that is not sufficiently compatible with EVOH bleeds, and the adhesive strength between the EVOH layer and other resin layers in a multilayer laminated container decreases significantly over time, damaging the shape of the container. Additives are difficult to use.Therefore, there is no significant deterioration in gas barrier properties, and when a multilayer structure is formed by coextrusion, the thickness of the EVOIL layer is uniform, and the multilayer structure When heating and stretching the body, EVO
One of the important issues is the development of EVOIi that has good moldability and does not cause pinholes, cracks, or minute thickness deviations in the H layer.

本発明は、前記欠点のない、製品間にも、成形品内にお
いても斑のない、従って前記各特性のバラツキのない、
極めて均一度の高い、改質されたケイ素含有EVOHi
使用して、共押出多層構造体を得んとするものである。
The present invention provides a product that is free from the above-mentioned defects, has no unevenness between products and within a molded product, and is therefore free from variations in each of the above-mentioned properties.
Modified silicon-containing EVOHi with extremely high uniformity
It is intended to use this method to obtain a coextruded multilayer structure.

D0問題点を解決するための手段 本発明は酢酸ビニル、エチレン及び特定の分子内にケイ
素を含有するオレフィン性不飽和単量体の共重合体をけ
ん化して得られるEVOILからなる溶融成形材料、す
なわち酢酸ビニル、エチレン及び下記一般式tIl、(
IIl及び圃で表わされるケイ素を含有するオレフィン
性不飽和単量体の中から選ばれた1群または2揮以上の
共重合体をけん化して得た酢酸ビニル成分のけん化度9
5モル%以上、エチレン含有量25〜60モル%、好ま
しくは25〜55モル%、ケイ素含有量o、o o o
 s〜0.2モル%であるケイ素含有EVOHの層の少
なくとも片面にポリプロピレン系樹脂またはポリスチレ
ン系樹脂層を有する共押出多層構造体である。
Means for solving the D0 problem The present invention provides a melt molding material made of EVOIL obtained by saponifying a copolymer of vinyl acetate, ethylene, and an olefinically unsaturated monomer containing silicon in a specific molecule. That is, vinyl acetate, ethylene and the following general formula tIl, (
Saponification degree of vinyl acetate component obtained by saponifying a copolymer of one group or two or more selected from silicon-containing olefinically unsaturated monomers represented by IIl and field: 9
5 mol% or more, ethylene content 25-60 mol%, preferably 25-55 mol%, silicon content o, o o o
It is a coextruded multilayer structure having a polypropylene resin or polystyrene resin layer on at least one side of a silicon-containing EVOH layer having a silicon content of s to 0.2 mol %.

EVOH層の片面又は両面に接着性樹脂を介してポリプ
ロピレン又は/あるいはポリスチレン層を有する各揮積
層多層構造体を共押出法にて作成する場合、接着性樹脂
及びポリプロピレン、ポリスチレンの銘柄及び粘度を種
々変更しても、また共押出装置の樹脂流路の構造及び流
速を変化させても共押出機ダイスより吐出する樹脂の吐
出方向に垂直な方向のEVOH層の厚み分布を均一にす
る事は非常に困難であった。その結果、EVOH層の厚
み分布不均一による加熱延伸時のクラック、局所的偏肉
によるガスバリアー性の低下金おぎなう為に必要以上に
xvon層を厚くしなければならない事など多くの問題
があった。
When creating a volatile laminated multilayer structure having a polypropylene or/or polystyrene layer on one or both sides of the EVOH layer via an adhesive resin by coextrusion, various brands and viscosities of the adhesive resin, polypropylene, and polystyrene may be used. Even if you change the structure and flow rate of the resin flow path of the coextruder, it is very difficult to make the thickness distribution of the EVOH layer uniform in the direction perpendicular to the direction of resin discharged from the coextruder die. It was difficult. As a result, there were many problems such as cracks during heating and stretching due to uneven thickness distribution of the EVOH layer, and a decrease in gas barrier properties due to local unevenness in thickness. .

上記問題の根本原因はポリプロピレン、ポリスチレン及
び接着性樹脂の粘度の剪断速度依存性がEVOH樹脂の
それと異なる為と考えられたので、EVOHに対する各
梯添加剤(可塑剤、架橋剤など)による改質及び共重合
組成物の変更による改質を行なった。その結果、多価ア
ルコール系可塑剤1、カルボン酸アミド系可塑剤、芳香
族スルホン酸系可塑剤等は粘性を低下させる効果はある
ものの、EVOIL層の厚み分布改善効果は微少であり
実用的でない。また過酸化物を添加しEvon1架橋す
ることにより粘度の剪断速度依存性を変更する方法は多
少効果は認められたが、長期運転時ブツ、流れムラ等の
発生により外見上使用に耐えがたいものであった。しか
し、おどろくべき事にケイ素含有EVOHは、EVOH
単体及び他の可塑剤、架橋剤、添加EVOI(組成物と
比較して、EVOH層の厚み分布が均一であるばかりで
なく、長期運転時ブツ、スジ、流れムラがほとんど発生
しない非常に良好なものである事が判明した。さらにお
どろくべきことに該EVOH層にポリプロピレン又は瀘
塞妄ミ式ポリスチレン層を有する多層構造体を加熱延伸
した場合、EVOH単体や他の可塑剤等を含有するEV
OH組成物と巽なってE YOU層のピンホール°、ク
ラック、微少偏肉がほとんど無い非常に良好な成形物が
得られるだけでなく、成形物のガスバリアー性、とくに
高湿度下におけるガスバリアー性が優れている事がわか
り本発明にいたった。ケイ素含有EVOHが上記した様
にまったく予想外の成形性改良効果を持つ原因はさだか
ではないが、ケイ素化合物を含有する低重合度EVOH
が、ケイ素化合物を介して部分的、可逆的に架橋してい
る為、高剪断速度域では低分子量樹脂として、又、低断
速度域では高分子量樹脂として作用する為か、ポリスチ
レン、ポリプロピレン又は接着性樹脂と粘度の剪断速度
依存性及び放線応力特性が一致するため共押出成形時の
EVOH層の厚み分布が均一化しやすいことに基くもの
と考えられる。また、長期運転時に発生しゃすいブツ、
スジ、流れムラの原因であるEVOHのゲル化に関して
も低重合度EVORの特性ではないかと思われる。すな
わち、見掛粘性はケイ素化合物の部分的、可逆的架橋に
より所定の値を示すが、実質的には低重合度EVOkl
の集合体であり、低重合度樹脂はどゲル化しにくいとい
う、一般的に認められる事実は、上記推論(ケイ素化合
物の特異性)を支持するものである。さらに加熱延伸加
工における成形性改善効果も、前述した様にケイ素化合
物の部分的、可逆的架橋効果、すなわち、高速変形(延
伸)時には見掛上低分子量樹脂として作用し変形を容易
にする反面架橋による高分子量成分の強度が加味される
為、延伸性が大巾に増加したためではないかと思われる
The root cause of the above problem was thought to be that the shear rate dependence of the viscosity of polypropylene, polystyrene, and adhesive resins was different from that of EVOH resin, so we modified EVOH with various ladder additives (plasticizers, crosslinkers, etc.). and modification by changing the copolymer composition. As a result, although polyhydric alcohol plasticizers 1, carboxylic acid amide plasticizers, aromatic sulfonic acid plasticizers, etc. have the effect of lowering the viscosity, the effect of improving the thickness distribution of the EVOIL layer is small and is not practical. . In addition, the method of changing the shear rate dependence of viscosity by adding peroxide and crosslinking Evon1 was found to be somewhat effective, but it appeared to be unusable due to the appearance of bumps and uneven flow during long-term operation. Ta. However, surprisingly, silicon-containing EVOH
Single and other plasticizers, crosslinking agents, added EVOI (compared to the composition), the EVOH layer not only has a uniform thickness distribution, but also has very good properties with almost no bumps, streaks, or uneven flow during long-term operation. What is even more surprising is that when a multilayer structure having a polypropylene or polystyrene layer in the EVOH layer is heated and stretched, EVOH alone or EV containing other plasticizers, etc.
Along with the OH composition, not only can a very good molded product with almost no pinholes, cracks, or minute thickness deviations in the E YOU layer be obtained, but the gas barrier properties of the molded product, especially under high humidity, can be improved. It was found that this material has excellent properties, leading to the present invention. The reason why silicon-containing EVOH has the above-mentioned completely unexpected moldability improvement effect is not obvious, but low polymerization degree EVOH containing silicon compounds
is partially and reversibly crosslinked via a silicon compound, so it acts as a low molecular weight resin in the high shear rate range, and as a high molecular weight resin in the low shear rate range. This is thought to be because the shear rate dependence of viscosity and radiation stress characteristics match those of the EVOH resin, making it easier to make the thickness distribution of the EVOH layer uniform during coextrusion molding. In addition, the problems that occur during long-term operation,
The gelation of EVOH, which causes streaks and uneven flow, is also thought to be a characteristic of EVOR with a low degree of polymerization. That is, although the apparent viscosity shows a predetermined value due to partial and reversible crosslinking of the silicon compound, it is substantially
The generally accepted fact that low polymerization degree resins are difficult to gel supports the above reasoning (specificity of silicon compounds). Furthermore, the moldability improvement effect in hot stretching processing is also due to the partial, reversible crosslinking effect of silicon compounds, as described above.In other words, during high-speed deformation (stretching), it appears to act as a low molecular weight resin and facilitates deformation, while crosslinking This is thought to be due to the fact that the strength of the high molecular weight component is taken into account, so the stretchability is greatly increased.

F9発明のより詳細な説明 本発明における該EVOHからなる溶融成形材料はエチ
レン含有量25〜60モル%、好ましくは25〜55モ
ル%で゛あり、該共重合体の酢酸ビニル成分のけん化度
が95モル%以上のものが好ましく、エチレン含有量が
25モル%より小さいと良好な溶融成形加工性を保持し
ながら、酸素等のバリヤー性の湿度依存性等の改善効果
を大きく向上させることが困難となり、また一方55モ
ル%、とくに60モル%を越えるとEVOHの特性であ
る酸素等のバリヤー性、保香性が低下する。またけん化
度が95モル%未満では、該バリヤ°−性、耐油性が低
下し、EVOH本来の特性を保持し得なくなるばかりか
、本発明の効果を享受し難くなる。
F9 More detailed description of the invention The melt-molded material made of EVOH in the present invention has an ethylene content of 25 to 60 mol%, preferably 25 to 55 mol%, and the degree of saponification of the vinyl acetate component of the copolymer is An ethylene content of 95 mol% or more is preferable, and if the ethylene content is less than 25 mol%, it is difficult to greatly improve the effect of improving moisture dependence of barrier properties against oxygen, etc. while maintaining good melt molding processability. On the other hand, if it exceeds 55 mol%, especially 60 mol%, the barrier properties against oxygen, etc. and the fragrance retention properties, which are the characteristics of EVOH, will decrease. If the degree of saponification is less than 95 mol %, the barrier properties and oil resistance will deteriorate, making it impossible to maintain the original characteristics of EVOH and making it difficult to enjoy the effects of the present invention.

本発明に用いられろケイ素を含有するオレフィン性不飽
和単量体は下記一般式CI)、(ID及び(2)で表わ
される化合物の中から選ばれた1埋または2種以上のも
のを好適に用いることができる。
The silicon-containing olefinically unsaturated monomer used in the present invention is preferably one or more selected from compounds represented by the following general formulas CI), (ID and (2)). It can be used for.

〔但し、ここでnはO〜1、mはO〜2、Btは低級ア
ルキル基、アリル基またはアリル基を有する低級アルキ
ル基、R2は炭素数1〜40の飽和分岐または非分岐の
アルコキシル基であり、該アルコキシル基は酸素を含有
する置換基を有していてもよい。B3は水素又はメチル
基、B4は水素または低級アルキル基、B5はアルキレ
ン基または連鎖炭素原子が酸素もしくは窒素によって相
互に結合された2価の有機残基、Wは水素、ハロゲン、
低級アルキル基、7リル基、またはアリル基を有する低
級アルキル基、B7はアルコキシル基またはアシロキシ
ル基(ここでアルコキシル基またはアシロキシル基は酸
素または窒素を有する置換基を有[7ていてもよい。)
、R8は水素、ハロゲン、低級アルキル基、アリル基ま
たは、アリル基を有する低級アルキル基、B9は低級ア
ルキル基である。〕ざらに詳細に述べればB1は炭素数
1〜5の低級アルキル基、炭素数6〜18のアリル基、
または炭素数6〜18のアリル基を有する炭素数1〜5
の低級アルキル基を示し、B4は水素原子または炭素数
1〜5の低級アルキル基を示し、B5は炭素数1〜5の
アルキレン基または連鎖炭素原子が酸素もしくは窒素に
よって相互に結合された2価の有機残基上水し、B6は
水素、ハロゲン、炭素数1〜5の低級アルキル基、炭素
数6〜18のアリル五または炭素数6〜18のアリル基
を有する炭素数1〜5の低級アルキル基を示し、B7は
炭素数1〜。
[However, here, n is O~1, m is O~2, Bt is a lower alkyl group, an allyl group, or a lower alkyl group having an allyl group, and R2 is a saturated branched or unbranched alkoxyl group having 1 to 40 carbon atoms. and the alkoxyl group may have an oxygen-containing substituent. B3 is hydrogen or a methyl group, B4 is hydrogen or a lower alkyl group, B5 is an alkylene group or a divalent organic residue in which chain carbon atoms are interconnected by oxygen or nitrogen, W is hydrogen, halogen,
A lower alkyl group, a 7lyl group, or a lower alkyl group having an allyl group, B7 is an alkoxyl group or an acyloxyl group (here, the alkoxyl group or acyloxyl group may have a substituent having oxygen or nitrogen.)
, R8 is hydrogen, halogen, a lower alkyl group, an allyl group, or a lower alkyl group having an allyl group, and B9 is a lower alkyl group. ] In more detail, B1 is a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an allyl group having 6 to 18 carbon atoms,
or 1 to 5 carbon atoms having an allyl group having 6 to 18 carbon atoms
B4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and B5 represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or a divalent group in which chain carbon atoms are bonded to each other by oxygen or nitrogen. B6 is hydrogen, a halogen, a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an allyl group having 6 to 18 carbon atoms, or a lower lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms having an allyl group having 6 to 18 carbon atoms. It represents an alkyl group, and B7 has 1 or more carbon atoms.

40のフルコキシルまたはアシロキシル基(ここでアル
コキシル基またはアシロキシル基は酸素もしくは窒素を
有する置換基を有していてもよい。)を示し、B8は水
素、ハロゲン、炭素数1〜5の低級アルキル基、炭素数
6〜18のアリル基または炭素数6〜18のアリル基全
有する炭素数1〜5の低級アルキル基金水(7、B9は
炭素数1〜5の低級アルキル基を示す。
40 flukoxyl or acyloxyl group (herein, the alkoxyl group or acyloxyl group may have a substituent having oxygen or nitrogen), B8 is hydrogen, halogen, a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, Allyl group having 6 to 18 carbon atoms or lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms having all allyl groups having 6 to 18 carbon atoms (7, B9 represents a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms).

一般式(■)c表わされるケイ素含有オレフィン性不飽
和単量体としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニル
メチルジメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシ7ラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジェトキ
シシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、アリルトリ
メトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリ
ルジメチルメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン
、アリルジメチルエトキシシラン、ビニルトリス(β−
メトキシエトキシ)シラン、ビニルイソブチルジメトキ
シシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニルメト
キシジブトキシシラン、ビニルジメトキシブトキシシラ
ン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルジトキシジへキ
シロキシシラン、ビニルジメトキシへキシロキシシラン
、ビニルトリヘキシロキシシラン、ビニルジトキシオク
チロキシシラン、ビニルジメトキシオクチロキシシラン
、ビニルトリオクチロキシジノン、ビニルメトキシジオ
レイロキシシラン、ビニルジメトキシオクチロキシシラ
ン、ビニルメトキシジオレイロキシシラン、ビニルジメ
トキシオクチロキシシラン、一般式 CH2−CH2i
−((0CH20H2%OH)、 −m)(OCH3)
m (ここでmは前記と同じ。Xは1〜20を示す)で表わ
されるビニルメトキシシランのポリエチレングリコール
誘導体等が挙げられるが経済的にみてビニルトリメトキ
シシランが好ましい。
The silicon-containing olefinically unsaturated monomers represented by general formula (■)c include vinyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyldimethylmethoxy7rane, vinyltriethoxysilane, vinylmethyljethoxysilane, and vinyldimethylethoxysilane. Silane, allyltrimethoxysilane, allylmethyldimethoxysilane, allyldimethylmethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyldimethylethoxysilane, vinyltris(β-
methoxyethoxy)silane, vinylisobutyldimethoxysilane, vinylethyldimethoxysilane, vinylmethoxydibutoxysilane, vinyldimethoxybutoxysilane, vinyltributoxysilane, vinylditoxydihexyloxysilane, vinyldimethoxyhexyloxysilane, vinyltrihexyloxysilane, Vinyldithoxyoctyloxysilane, vinyldimethoxyoctyloxysilane, vinyltrioctyloxydinone, vinylmethoxydioleyloxysilane, vinyldimethoxyoctyloxysilane, vinylmethoxydioleyloxysilane, vinyldimethoxyoctyloxysilane, general formula CH2-CH2i
-((0CH20H2%OH), -m)(OCH3)
Examples include polyethylene glycol derivatives of vinylmethoxysilane represented by m (where m is the same as above, and X represents 1 to 20), but vinyltrimethoxysilane is preferred from an economic standpoint.

一般式(II)で表わされろケイ素含有オレフィン性不
飽和単量体としては 3−(メタ)アクリルアミド−プロピルトリメトキシシ
ラン CH2=CBCNH(OH2)38 t (001(3
)33−(メタ)アクリルアミド−プロピルトリエトキ
シシラン CR2=(E BONH(CH2)3 S t (0O
H20k13 )33−(メタ)アクリルアミトープp
ピルトリ(β−メトキシエトキシ)シラン CH2= CEONfi (CH2)3 S t (0
0H201(20C(I3 )33−(メタ)アクリル
アミド−プロピルトリ(N−メチルアミノエトキシ)シ
ラン CH2=OBONR(OH2)38 i (00H2C
H2NH(J3 )32−(メタ)アクリルアミド−エ
チルトリメトキシシラン CHz = OBCNH(Cl12 )281 (0C
Hs )31−(メタ)アクリルアミド−メチルトリメ
トキシシラン CH2=CBONHCH2S i (OCH3)32−
(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロピルトリメト
キシシラン (XJI。
As the silicon-containing olefinically unsaturated monomer represented by the general formula (II), 3-(meth)acrylamide-propyltrimethoxysilane CH2=CBCNH(OH2)38t (001(3
)33-(meth)acrylamide-propyltriethoxysilane CR2=(E BONH(CH2)3 S t (0O
H20k13)33-(meth)acrylamitope p
Piltri(β-methoxyethoxy)silane CH2= CEONfi (CH2)3 S t (0
0H201 (20C(I3)33-(meth)acrylamido-propyltri(N-methylaminoethoxy)silane CH2=OBONR(OH2)38i (00H2C
H2NH(J3)32-(meth)acrylamide-ethyltrimethoxysilane CHz = OBCNH(Cl12)281 (0C
Hs )31-(meth)acrylamide-methyltrimethoxysilane CH2=CBONHCH2S i (OCH3)32-
(Meth)acrylamido-2-methylpropyltrimethoxysilane (XJI.

CH2=CFONHOCH28i (ucH3)。CH2=CFONHOCH28i (ucH3).

:11  0H3 2−(メタ)アクリルアミドーイソブロピルトリメトキ
シシラン (Bは水素又はメチル基を示す)等の(メタ)アクリル
アミド−直釦又は分岐アルキルトリアルコキシシラン N−(2−(メタ)アクリルアミド−エチル)−7ミノ
プロビルトリメトキシシラン CHz = 0BOONHCHzCHzNH(0k12
 )a S 1 (OCH3)a(3−(メタ)アクリ
ルアミド−プロピル)−オキシプロピルトリメトキシシ
ラン Cl12=O1ICONIII(CH2)s O(OH
2)3 Sl(00”3 )a(Bは水素又はメチル基
を示す)等の(メタ)アクリルアミド−含窒素又は、含
酸素アルキルトリアルコキシシラン 3−(メタ)アクリルアミド−プロピルトリアセトキシ
シラン OH2= Cl100NH(OH2)381 (0CO
Of13 )32−(メタ)アクリルアミド−エチルト
リアセトキシシラン CH2=OBOONH(OH2)28 i (0C00
H3)34−(メタ)アクリルアミド−ブチルトリアセ
トキシシラン OH2” OHOONI((CH2)48 l (0C
OOH3)33−(メタ)アクリルアミド−プロピルト
リプロピオニロキシシラン an2=cnco皿(OH2)38 i (QCOC■
2C)13 )32−(メタ)アクリルアミド−2−メ
チルプロピルトリアセトキシシラン k13 0H2=O1iCONHOOH28i(OCOCH3)
3書 CH3 N−(2−(メタ)アクリルアミド−エチル)アミノプ
ロピルトリアセトキシシラン 0Hz=cbcoNHcnzcu2Nn(an2)38
 t (000(3H3)3(Bは水素又はメチル基を
示す)等の(メタ)アクリルアミド−アルキルトリアシ
ルキシシラン、3−(メタ)アクリルアミド−プロピル
イソブチルジメトキシシラン Ok+2 =CBOQNH(OH2)38 i (00
H3)2■ 0ffpHCH2Cfi3 2−(メタ)アクリルアミド−エチルジメチルメトキシ
シラン CH3 CH2=CROONH(OH2)2 S r 00H3
CH3 3−(メタ)アクリルアミド−プロピルオクチルジアセ
トキシシラン OH2= CBCONH(OH2)38 量(0000
H3)2((J2)、(J3 1−(メタ)アクリルアミド−メチルフェニルジアセト
キシシラン CH2=CEC0NHOH281(01jOOH3)2
3−(メタ)アクリルアミド−プロピルベンジルジェト
キシシラン CH2=OBCONH(0IE12 )38 i (0
GH20堝)2c++2−0.l115 2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロピルモノ
クロルジメトキシシラン CH2=C)ICONHC(CR3)20H28i (
0Ofi3 )2CI! 2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロピルハイ
ドロジエンメトキシシラン H3 H3K (Bは水素又はメチル基を示す)等の(メタ)アクリル
アミドーアルキルジ又はモノアルコキシあるいは、ジ又
は、モノアシルキシシラン、3−(N−メチル(メタ)
アクリルアミド)−プロピルトリメトキシシラン (J2=OBCON (0M2)38 i (0CHa
 )。
:11 0H3 2-(meth)acrylamide-direct button or branched alkyltrialkoxysilane N-(2-(meth)acrylamide-) such as isopropyltrimethoxysilane (B represents hydrogen or methyl group) Ethyl)-7 Minopropyltrimethoxysilane CHz = 0BOONHCHzCHzNH(0k12
) a S 1 (OCH3) a (3-(meth)acrylamido-propyl)-oxypropyltrimethoxysilane Cl12=O1ICONIII(CH2)s O(OH
2) (meth)acrylamide-nitrogen-containing or oxygen-containing alkyltrialkoxysilane 3-(meth)acrylamide-propyltriacetoxysilane OH2= such as 3Sl(00”3)a (B represents hydrogen or a methyl group) Cl100NH(OH2)381 (0CO
Of13 ) 32-(meth)acrylamide-ethyltriacetoxysilane CH2=OBOONH(OH2)28 i (0C00
H3) 34-(meth)acrylamido-butyltriacetoxysilane OH2” OHOONI((CH2)48 l (0C
OOH3) 33-(meth)acrylamide-propyltripropionyloxysilane an2=cnco dish (OH2) 38 i (QCOC■
2C)13)32-(meth)acrylamido-2-methylpropyltriacetoxysilane k13 0H2=O1iCONHOOH28i(OCOCH3)
Book 3 CH3 N-(2-(meth)acrylamido-ethyl)aminopropyltriacetoxysilane 0Hz=cbcoNHcnzcu2Nn(an2)38
(meth)acrylamido-alkyltriacyloxysilane such as t (000(3H3)3 (B represents hydrogen or methyl group), 3-(meth)acrylamido-propylisobutyldimethoxysilane Ok+2 = CBOQNH(OH2)38 i ( 00
H3)2■ 0ffpHCH2Cfi3 2-(meth)acrylamide-ethyldimethylmethoxysilane CH3 CH2=CROONH(OH2)2 S r 00H3
CH3 3-(meth)acrylamide-propyloctyldiacetoxysilane OH2= CBCONH(OH2)38 Amount (0000
H3) 2((J2), (J3 1-(meth)acrylamide-methylphenyldiacetoxysilane CH2=CEC0NHOH281(01jOOH3)2
3-(meth)acrylamide-propylbenzyljethoxysilane CH2=OBCONH(0IE12)38i(0
GH20) 2c++2-0. l115 2-(meth)acrylamido-2-methylpropylmonochlorodimethoxysilane CH2=C)ICONHC(CR3)20H28i (
0Ofi3)2CI! (meth)acrylamidoalkyl di- or monoalkoxy or di- or monoacyloxysilane such as 2-(meth)acrylamido-2-methylpropylhydrodienemethoxysilane H3 H3K (B represents hydrogen or methyl group), 3 -(N-methyl(meth)
acrylamide)-propyltrimethoxysilane (J2=OBCON (0M2)38 i (0CHa
).

CH3 2−(N−エチル−(メタ)アクリルアミド)−二チル
トリアセトキシシラン (3H2= 0BONCk120に281(OCOCH
3)3H2CH3 (Bは水素又はメチル基を示す)等の(N−アルキル−
(メタ)アクリルアミド)アルキルトリアルコキシ又は
トリアセトキシシラン等が挙げられる。これらのうち3
−(メタ)アクリルアミド−プロピルトリメトキシシラ
ンおよび3−(メタ)アクリルアミド−プロピルトリア
セトキシシランは工業的製造が比較的容易で安価である
こと、又2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロ
ピルトリメトキシシランおよび2−(メタ)アクリルア
ミド−2−メチルプロピルトリアセトキシシランはアミ
ド結合が酸又はアルカリに対して著しく安定である点で
好ましく用いられる。ここで一般式(■)で表わされる
ケイ素含有重合性単量体を酢酸ビニル及びエチレンと共
に共重合させ、得られる共重合体をけん化することによ
り得られる変性されたケイ素含有EVOHは下記一般式
■で示されろ共重合単位を含有する。
CH3 2-(N-ethyl-(meth)acrylamide)-dityltriacetoxysilane (3H2=0BONCk120 to 281(OCOCH
3) (N-alkyl-) such as 3H2CH3 (B represents hydrogen or methyl group)
Examples include (meth)acrylamido)alkyltrialkoxy or triacetoxysilane. 3 of these
- (Meth)acrylamide-propyltrimethoxysilane and 3-(meth)acrylamide-propyltriacetoxysilane are relatively easy and inexpensive to produce industrially, and 2-(meth)acrylamide-2-methylpropyltrimethoxysilane Silane and 2-(meth)acrylamido-2-methylpropyltriacetoxysilane are preferably used because the amide bond is extremely stable against acids or alkalis. Here, the modified silicon-containing EVOH obtained by copolymerizing the silicon-containing polymerizable monomer represented by the general formula (■) with vinyl acetate and ethylene and saponifying the resulting copolymer is obtained by the following general formula (■). Contains a copolymerized unit represented by .

(ココテB3、B4、B5、B6、mは前記に同じ。B
IOは水酸基、一般式OMで示されろ水酸基の塩(Mは
アルカリ金属又はN1f4全示す)fc示す。)一般式
(IIDで表わされるケイ素含有オレフィン性不飽和単
量体としては、 ビニルトリアセトキシシラン OH2= OH81(0OCf4 )3ビニルトリプロ
ピオニロキシシラン OH,=CH8i (0COH2Cル)。
(B3, B4, B5, B6, m are the same as above.B
IO is a hydroxyl group, represented by the general formula OM, and a salt of the hydroxyl group (M is an alkali metal or all N1f4) fc. ) As the silicon-containing olefinically unsaturated monomer represented by the general formula (IID), vinyltriacetoxysilane OH2=OH81(0OCf4)3vinyltripropionyloxysilane OH,=CH8i(0COH2Cl).

イ ンプロペニルトリアセトキシシラン CH2=08 i ( OCCH3 )3ビニルイソブ
チルジアセトキシシラン CH2−CrH8 i ( 000CH3 )2(J3
CHCH3 ビニルメチルジアセトキシシラン OH2= OIisi( OCOCH3 )2OH3 ビニルジメチルアセトキシシラン OH3 0H,0 ビニルフェニルジアセトキシシラン 01:I2=CH8 i ( 00(J3)2   I
I ビニルモノクロルジアセトキシシラン lO ビニルモノハイドロジエンジアセトキシシランO 等が挙げられるが、経済的にみてビニルトリアセトキシ
シランが好ましい。
Impropenyltriacetoxysilane CH2=08i (OCCH3)3 Vinylisobutyldiacetoxysilane CH2-CrH8i (000CH3)2(J3
CHCH3 Vinylmethyldiacetoxysilane OH2= OIisi( OCOCH3 )2OH3 Vinyldimethylacetoxysilane OH3 0H,0 Vinylphenyldiacetoxysilane 01:I2=CH8 i ( 00(J3)2 I
I Vinyl monochlorodiacetoxysilane lO Vinyl monohydrodiene diacetoxysilane O etc., but vinyltriacetoxysilane is preferred from an economic standpoint.

上述したケイ素含有オレフィン性不飽和単量体と、酢酸
ビニル及びエチレンとの共重合は、アルコールの存在下
で溶液重合で実施することが好ましい。アルコールは通
常メタノール、エタノールなど低級アルコールが工業的
に好ましい。共重合は回分方式、連続方式のいずれにて
も実施可能である。EVOHのエチレン含有量は、主と
して共重合系内に存在する酢酸ビニルと該系内に溶存す
るエチレン量によって決り、後者は重合エチレン圧力及
び温度などに主として依存するので、エチレン含有量が
同じ場合には変性E VOHのケイ素含有量は、主とし
て該系内に存在する酢酸ビニルとケイ素含有オレフィン
性不飽和単量体との承的関係に支配される。回分式の場
合共重合反応性比に従って重合率とともに共重合体組成
が変動していくことはよく知られているが、単量体組成
が一定となるように一方もしくは両方の単量体を添加し
ていくいわゆる半回分方式を採用することが均一な共重
合組成を有する共重合体を得ろためには、よ−ing 
Chemistry)vol, 49 、 % 2 、
 208〜209( 1957 )に提出している式が
挙げられる。連続方式の場合撹拌混合槽を共市rン反応
槽とする完全混合型1段の流系反応方式が最も好適であ
り、又2段以上の多段の該流系反応方式の場合には、前
記と同様の理由で各段の共重合槽内の単量体組成が一定
となる如く、2段以降の核種に単量体を添加しながら行
うことがより好ましい。重合開始剤としては、2,2′
−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニ
トリル)、2,4.4− )リメチルバレロニトリル、
2.2’−7ゾビスイソプチロニトリルなどのニトリル
類、ジ−n−プロピルパーオキシカーボネート、ビス−
4−t−ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネー
ト、ビス−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネー
ト、などのカーボネート類、アセチルシクロへキサンス
ルフォニルパーオキシド、過酸化ベンゾイル、過酸化ラ
ウロイルなどの過酸化物などの公知のラジカル開始剤が
使用できる。就中半減期のより短かい、重合開始剤は共
重合途上経時的に認められろ重合系に不溶のゲル状物の
生成をほぼ完全に、あるいは大、パ<抑制しうる点で長
期連続重合操作に際して好適に用いられる。
The copolymerization of the silicon-containing olefinically unsaturated monomer described above with vinyl acetate and ethylene is preferably carried out by solution polymerization in the presence of alcohol. As for the alcohol, lower alcohols such as methanol and ethanol are usually preferred industrially. Copolymerization can be carried out either batchwise or continuously. The ethylene content of EVOH is mainly determined by the vinyl acetate present in the copolymerization system and the amount of ethylene dissolved in the system, and the latter mainly depends on the polymerization ethylene pressure and temperature. The silicon content of the modified EVOH is mainly controlled by the relationship between the vinyl acetate and the silicon-containing olefinically unsaturated monomer present in the system. It is well known that in the batch method, the copolymer composition changes with the polymerization rate according to the copolymerization reactivity ratio, but one or both monomers are added to keep the monomer composition constant. In order to obtain a copolymer with a uniform copolymerization composition, it is necessary to adopt the so-called semi-batch method.
Chemistry) vol, 49, %2,
208-209 (1957). In the case of a continuous system, a completely mixed one-stage flow system reaction system in which the stirring mixing tank is a common reaction tank is most suitable, and in the case of a multi-stage flow system reaction system of two or more stages, the above For the same reason as above, it is more preferable to add monomers to the nuclide in the second and subsequent stages so that the monomer composition in each stage of the copolymerization tank is constant. As a polymerization initiator, 2,2'
-Azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,4.4-)limethylvaleronitrile,
2. Nitriles such as 2'-7zobisisobutyronitrile, di-n-propylperoxycarbonate, bis-
Known carbonates such as 4-t-butylcyclohexyl peroxydicarbonate and bis-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, peroxides such as acetylcyclohexane sulfonyl peroxide, benzoyl peroxide, and lauroyl peroxide. Radical initiators can be used. In particular, polymerization initiators with shorter half-lives are effective in long-term continuous polymerization in that they can almost completely or to a large extent suppress the formation of gel-like substances that are observed over time during copolymerization and are insoluble in the polymerization system. Suitable for use in operations.

重合で得られた共重合体は、次いでけん化反応に供せら
れる。けん化反応は、たとえばアルカリ性触媒を用いて
公知の方法すなわち通常該共重合体をアルコール溶液と
して実施し、アルコリシスにより反応を行わしめるのが
有利である。就中、日本特許第575,889号及び同
611,557号に開示された、基型反応器を用い、け
ん化反応途上副生する酢酸メチルを塔底にアルコール蒸
気を吹き込んで塔頂から除去しながら行う方法が最も好
適に用いることができる。
The copolymer obtained by polymerization is then subjected to a saponification reaction. The saponification reaction is advantageously carried out in a known manner, for example by using an alkaline catalyst, that is, usually in the form of an alcoholic solution of the copolymer, and the reaction is carried out by alcoholysis. In particular, using a basic reactor as disclosed in Japanese Patent Nos. 575,889 and 611,557, methyl acetate produced as a by-product during the saponification reaction is removed from the top of the tower by blowing alcohol vapor into the bottom of the tower. The most suitable method can be used.

けん化反応に用いるアルカリ性触媒としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物
、ナトリウムメチラート、カリウムメチラートなどのア
ルコラードなどが用いられる。就中水酸化ナトリウムが
工業的には、経済的に有利である。けん化温度は60〜
175°Cの範囲から好適に選ばれろ。就中、前記基型
反応器を用いる場合には、該共重合体の組成にも関連す
るが反応時間の短縮、該ケイ素含有EVOHのアルコー
ル類への溶解性等から100℃以上が好適である。
As the alkaline catalyst used in the saponification reaction, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alcoholades such as sodium methylate and potassium methylate, and the like are used. Among these, sodium hydroxide is industrially and economically advantageous. Saponification temperature is 60~
Suitably selected from the range of 175°C. In particular, when using the base type reactor, a temperature of 100°C or higher is preferable from the viewpoint of shortening the reaction time, solubility of the silicon-containing EVOH in alcohols, etc., although this is also related to the composition of the copolymer. .

けん化反応においてビニルアルコキシシラン単位も部分
的あるいは高度にけん化されてビニルシラノール単位、
そのアルカリ塩あるいはその相互縮合物に転換される。
In the saponification reaction, vinyl alkoxysilane units are also partially or highly saponified to form vinyl silanol units,
It is converted into its alkali salt or its intercondensate.

しかし前出の一般式(I[)で示される単量体含有の該
共重合体は、アルカリ性触媒によろけん化反応において
ケイ素含有重合性単量体単位のアミド結合が分解すると
いうことなく安定に保たれる。しかし、けん化反応時一
般式(IOで表わされるケイ素含有単量体単位のケイ素
に結合したアルコキシル基、カルボキシル基、水素及び
ハロゲンも同時に部分的あるいは高度にけん化され水酸
基または水酸基のアルカリ塩に転換される。さらにこれ
らの水酸基の一部は、けん化反応後得られた変性EVO
H成形材料を乾燥する際、乾燥条件によってこれらの反
応基同志を結合させシロキサン結合を形成させてもよい
。シロキサン結合を多く形成せしめた該改質EVOH成
形材料は熱溶融性が悪化する場合がみられるので、この
ような場合にはケイ素含有単量体の含有量を調整するか
、ケイ素含有重合性単量体単位としてアルカリに対して
著しく安定性の高い1(メタ)アクリルアミド−分岐ア
ルキルシラン単位を有する改質EVOH成形材料とする
ことが好ましい。
However, the copolymer containing the monomer represented by the above general formula (I[) is stable because the amide bond of the silicon-containing polymerizable monomer unit does not decompose in the saponification reaction with an alkaline catalyst. is maintained. However, during the saponification reaction, the silicon-bonded alkoxyl group, carboxyl group, hydrogen, and halogen of the silicon-containing monomer unit represented by the general formula (IO) are simultaneously partially or highly saponified and converted into hydroxyl groups or alkali salts of hydroxyl groups. Furthermore, some of these hydroxyl groups are present in the modified EVO obtained after the saponification reaction.
When drying the H molding material, these reactive groups may be bonded together to form siloxane bonds depending on the drying conditions. The modified EVOH molding material with a large number of siloxane bonds may have poor thermal melting properties, so in such cases, the content of silicon-containing monomers should be adjusted or silicon-containing polymerizable monomers may be added. It is preferred that the modified EVOH molding material has a 1 (meth)acrylamide-branched alkylsilane unit, which has extremely high stability against alkali, as a mer unit.

けん化反応後、変性EVOI(成形材料を単離するに当
っては、公知の方法が適用可能であるが、就中日本特許
725,520号に開示されたストランド状に析出させ
、該ポリマーを分離する方法が好適に用いられる。析出
単離された該EVOH成形材料は公知の方法で水洗後、
酸処理等の公知の熱安定化処理を行い、乾燥させろ。該
酸処理時けん化反応の際ケイ素に結合したアルコキシル
基、カルボキシル基、水素及びハロゲンが水酸基のアル
カリ塩に転換された部分は水酸基となる。
After the saponification reaction, the modified EVOI (molding material can be isolated by any known method, but the polymer can be separated by precipitating it in the form of a strand as disclosed in Japanese Patent No. 725,520). The precipitated and isolated EVOH molding material is washed with water by a known method, and then
Perform a known heat stabilization treatment such as acid treatment and dry. During the saponification reaction during the acid treatment, the silicon-bonded alkoxyl group, carboxyl group, hydrogen, and halogen are converted into an alkali salt of the hydroxyl group, resulting in a hydroxyl group.

本発明による変性されたケイ素含有gvonはEVOH
樹脂本来の特性の向上、他の各樹脂、各加工法に適合し
た特性の旬与等の観点から、極めて満足するものであり
、該共重合体のケイ素含有単量体の含有量を目的に応じ
て、変化せしめて各ケースに好適な該変性EVOH溶融
成形材料を得るこなり、他の低溶融粘性指数をもつ樹脂
を複合する場合に溶融粘性差が大きく、溶融粘性不整合
性を示す現象が認められる場合にしばしば遭遇するが、
かかる場合に、該組成を保持しつつEVOfi樹脂の溶
融粘性指数を本発明の変性によって低下せしめた該変性
EVOH樹脂成形材料を使用して、該溶融粘性不整合を
解消できるなど本発明の変性EVOH成形材料の有用性
はその改質の均一性と相俟って極めて大きい。該ケイ素
含有単量体の含有量はあまり少なすぎると、改質の効果
が発揮されず、また多すぎれば架橋の程度が増大しすぎ
て熱不溶融性が発現する。該含有量はそれぞれの目的に
応じて選定されるが、0.0005〜0.2モル%、特
に0.001−0.1モル%の範囲が好適である。ここ
でケイ素含有量とは、ケイ素含有単量体−酢酸ビニル−
エチレン共重合体中のケイ素含有単量体の量(モル%)
をいう。
The modified silicon-containing gvon according to the present invention is EVOH
This is extremely satisfactory from the viewpoint of improving the inherent properties of the resin and imparting properties that are compatible with other resins and processing methods. Accordingly, the modified EVOH melt molding material suitable for each case can be obtained, and when composited with other resins having a low melt viscosity index, the difference in melt viscosity is large and the phenomenon of melt viscosity inconsistency is observed. It is often encountered in cases where
In such a case, the melt viscosity mismatch can be resolved by using the modified EVOH resin molding material in which the melt viscosity index of the EVOfi resin is lowered by the modification of the present invention while maintaining the composition. The usefulness of the molding material is extremely great, coupled with the uniformity of its modification. If the content of the silicon-containing monomer is too small, the modification effect will not be exhibited, and if it is too large, the degree of crosslinking will increase too much and heat infusibility will develop. The content is selected depending on each purpose, but is preferably in the range of 0.0005 to 0.2 mol%, particularly 0.001 to 0.1 mol%. Here, silicon content refers to silicon-containing monomer - vinyl acetate -
Amount of silicon-containing monomer in ethylene copolymer (mol%)
means.

本発明の変性されたケイ素含有EVOHは従来からの使
用目的の全般に亘って、より満足に使用できることは、
前述の通りであるが、ケイ素を含有するという特徴に由
来する新たな特性、たとえばアルミ箔、他の樹脂等との
接着性の向上等全有利に活用できろ。
The modified silicon-containing EVOH of the present invention can be used more satisfactorily for all conventional purposes.
As mentioned above, the new properties derived from the silicon content, such as improved adhesion to aluminum foil, other resins, etc., can be utilized to full advantage.

本発明における変性されたEVOHのA8TM、D−1
238−’I’によって測定された溶融粘性指数ノR/
’−ろγテ=ノグ人 (士共ゴ材圧)は190℃、荷i2,160gにてo、
o s g/lo分間以上、ざらに0.05〜10g/
10分間のものが好ましく、特に0.1〜10g/10
分間のものがフィルム、シート、容器等の各用途に未延
伸のまま、また少なくとも一軸に延伸されて好適に用い
られる。
A8TM, D-1 of modified EVOH in the present invention
238-Melt viscosity index measured by 'I' R/
'-ro γte=nogu person (shikogo material pressure) o at 190℃, load i2,160g,
o s g/lo minutes or more, roughly 0.05 to 10 g/lo
10 minutes is preferable, especially 0.1-10g/10
For various applications such as films, sheets, containers, etc., the film is preferably used unstretched or at least uniaxially stretched.

本発明のケイ素含有EVO1iは酢酸ビニル、エチレン
及び前記特定のケイ素を含有するオレフィン性不飽和単
量体の共重合体をけん化して得られる特定のエチレン含
有量及びケイ素含有量をもったEVORからなるもので
あるが、該共重合体はその特性に影響を及ぼさない範囲
で他の第3物質を共重合成分として含むことができる。
The silicon-containing EVO1i of the present invention is made from EVOR having a specific ethylene content and silicon content obtained by saponifying a copolymer of vinyl acetate, ethylene, and the specific silicon-containing olefinic unsaturated monomer. However, the copolymer may contain another third substance as a copolymer component within a range that does not affect its properties.

該$3物質としては、たとえば炭素数3以上のα−オレ
フィン、アクリル酸、メタ−アクリル酸およびこれらの
酸のエステルなどがあげられる。またこのケイ素含有E
VOI−1には通常のEVOHを本発明の目的を阻害し
ない程度に配合することは自由である。
Examples of the $3 substance include α-olefins having 3 or more carbon atoms, acrylic acid, methacrylic acid, and esters of these acids. Also, this silicon-containing E
It is free to mix ordinary EVOH into VOI-1 to the extent that it does not impede the purpose of the present invention.

既述の如く本発明のケイ素含有E V OHoはポリプ
ロピレン系樹脂またはポリスチレン系樹脂と複合化して
用いられるが、近年特に要求される特性の多様化、高級
化などと相俟って、他の種々の樹脂全組合せて2層また
は、2層以上の多層の構造体として好適に用いらnろ。
As mentioned above, the silicon-containing EV OHo of the present invention is used in combination with polypropylene resin or polystyrene resin, but in recent years, along with the diversification of properties and higher quality required, various other The combination of all the resins can be suitably used as a two-layer structure or a multilayer structure of two or more layers.

複合化に際して、共押出法が採られるが、この場合ポリ
プロピレン系樹脂またはポリスチレン系樹脂と溶融粘性
不整合を起さない所望のエチレン含有量のEVORをケ
イ素含有量を適宜選定して得ることができろ。該多層構
造体の層構成としては、たとえば、ポリプロピレン(以
下PPと記す)/接着層/ケイ素含有EVOfi (1
’↓下8i−EVOHと記す)、PP/接着層/ 8i
  EVOH/接着層/PP−PP/接着層/8i−E
VOH/接M層/PE、PET/接着層/8i−EVO
H/接着層/PP、ポリスチレン(以下PSと記す)/
接着層/5i−EVOL(、PS/接着層/8i−EV
On/接着層/P8などが例示されろ。
When compounding, a coextrusion method is used, but in this case, an EVOR with a desired ethylene content that does not cause melt viscosity mismatch with polypropylene resin or polystyrene resin can be obtained by appropriately selecting the silicon content. reactor. The layer structure of the multilayer structure is, for example, polypropylene (hereinafter referred to as PP)/adhesive layer/silicon-containing EVOfi (1
'↓ below 8i-EVOH), PP/adhesive layer/8i
EVOH/adhesive layer/PP-PP/adhesive layer/8i-E
VOH/Contact M layer/PE, PET/Adhesive layer/8i-EVO
H/adhesive layer/PP, polystyrene (hereinafter referred to as PS)/
Adhesive layer/5i-EVOL (, PS/Adhesive layer/8i-EV
Examples include On/adhesive layer/P8.

接着層に用いる接着性樹脂は一8i−EVOHに隣接し
て積層される樹脂の種別によっても異なるが、たとえば
無水マレイン酸グラフト変性PE、無水マレイン酸グラ
フト変性PP、無水マレイン酸グラフト変性エチレン−
エチルアクリレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、
無水マレイン酸グラフト変性エチレン−酢酸ビニル共重
合体等から選ばれた1秤または2秤以上の混合物、或い
はこれらと、8i−EVOHのブレンド物などがあり、
これらの中から選定して用いることができる。
The adhesive resin used for the adhesive layer varies depending on the type of resin laminated adjacent to the 18i-EVOH, but for example, maleic anhydride graft-modified PE, maleic anhydride graft-modified PP, maleic anhydride graft-modified ethylene-
Ethyl acrylate, ethylene-vinyl acetate copolymer,
Examples include a mixture of one or more weights selected from maleic anhydride graft-modified ethylene-vinyl acetate copolymers, or a blend of these and 8i-EVOH.
It is possible to select and use one of these.

該檀層槽造物を容器等へ商品化するに当っては、成形時
生ずる該積層物の屑、不合格品を再使用することが経済
的に重要となるが、5i−EVOHと積層される他の樹
脂及び/または接着剤とのブレン、ド物全単独または、
8i−EVO旦或いは他の熱可塑性樹脂と積層して使用
することができる。
When commercializing the dam layered tank structure into containers, etc., it is economically important to reuse the waste and rejected products of the laminate produced during molding, but it is economically important Blend with other resins and/or adhesives, all alone or
It can be used by laminating with 8i-EVO or other thermoplastic resins.

本発明において、ポリプロピレン系樹脂トシては、プロ
ピレンを主体とする単独重合体、共重合体或いはこれら
同志の、或いは他の重合体とのブレンド物が使用される
。好適なプロピレン系重合体としては、アイソタフティ
ツタ・ポリプロピレン、結晶性プロピレン−エチレン共
重合体、ポリプロピレンとプロピレン−エチレン共・重
合体或いはポリエチレンとのブレンド物、結晶性プロピ
レン共重合体とポリエチレンとのブレンド物等を挙げろ
ことができる。プロピレン系重合体中に共重合体或いは
ブレンド物の形で含有されるエチレン単位の量は全体の
20重量%以下、特に10重量%以下の範囲であること
が望ましい。
In the present invention, the polypropylene resin used is a homopolymer, a copolymer, or a blend thereof with propylene as a main component or with other polymers. Suitable propylene polymers include isotaft ivy polypropylene, crystalline propylene-ethylene copolymers, blends of polypropylene and propylene-ethylene copolymers or polyethylene, and crystalline propylene copolymers and polyethylene copolymers. Blends of these can be mentioned. The amount of ethylene units contained in the propylene polymer in the form of a copolymer or blend is preferably 20% by weight or less, particularly 10% by weight or less.

本発明におけるポリスチレン系樹脂とは、下記の一般式
で示される構造単位を樹脂中に少くとも−cH−CH2
−25重量%以上含有する樹脂で3−tZ)p ある。(ここでBは水素原子ま たはメチル基を、2はハロゲン 原子またはメチル基を、pは0 または1〜:1の整数である。)具体的には、ポリスチ
レン、ゴム変性ポリスチレン、スチレン−アクリロニト
リル共重合体、スチレン−ブタジェン=7クリロニトリ
ル共重合体などで例示されるスチレンおよびその誘導体
の単独重合体および共重合体が挙げられる。これらの樹
脂にスチレン−共役ジエンブロック共電ゴムおよびその
水 剤をブレンドしたものも適用される。
The polystyrene resin in the present invention refers to a resin containing at least -cH-CH2 structural units represented by the following general formula.
-3-tZ)p is a resin containing 25% by weight or more. (Here, B is a hydrogen atom or a methyl group, 2 is a halogen atom or a methyl group, and p is 0 or an integer of 1 to 1.) Specifically, polystyrene, rubber-modified polystyrene, styrene-acrylonitrile, etc. Polymers, homopolymers and copolymers of styrene and its derivatives, exemplified by styrene-butadiene=7crylonitrile copolymer and the like. Blends of these resins with styrene-conjugated diene block electroconductive rubber and its water agent are also applicable.

本発明において多層構造体を得る方法としては8i−E
VOHとポリプロピレン又は/あるいはポリスチレン樹
脂とを接着性樹脂を介して共押出シートに成形(フィー
ドブロック法又はマルチマニホールド法)する方法、共
押出ラミする方法、共押出シートする方法、共押出パイ
プを作成する方法、あるいは共射出成形によりパリソン
を作成する方法あるいはこのようにして得た積層体を真
空圧空深絞り成形、二軸延伸成形、二軸延伸ブロー成形
等により再加熱、延伸操作を行なう方法などがあげられ
る。本発明の多層構造体の厚み構成に関しても特に限定
されるものではないが、成形性、コスト等を考慮した場
合には、全層の厚みに対するEVOH層の厚み比は2〜
20%程度が好適である。
In the present invention, as a method for obtaining a multilayer structure, 8i-E
A method of forming VOH and polypropylene or/or polystyrene resin into a coextrusion sheet via an adhesive resin (feed block method or multi-manifold method), a method of coextrusion lamination, a method of making a coextrusion sheet, and a method of creating a coextrusion pipe. or a method of creating a parison by co-injection molding, or a method of reheating and stretching the laminate thus obtained by vacuum pressure deep drawing, biaxial stretching molding, biaxial stretching blow molding, etc. can be given. There are no particular limitations on the thickness structure of the multilayer structure of the present invention, but when considering moldability, cost, etc., the thickness ratio of the EVOH layer to the thickness of all layers is 2 to 2.
Approximately 20% is suitable.

また本発明において、加熱延伸するにあたり多層構造体
の一構成物である8i−EVOH層の含水率に関しては
特に規制はないが0.01〜10%以内である事が好適
である。
Further, in the present invention, there is no particular restriction on the water content of the 8i-EVOH layer, which is a component of the multilayer structure, during heating and stretching, but it is preferably within 0.01 to 10%.

この様にして得られた本発明の多層構造体及びその加熱
延伸物は5i−EVOH層の厚みが均一であり、スジ、
ブツもなく、延伸時発生しやすいピンホール、クラック
、偏肉がみられないので、ガスバリアー性が極めて良好
である。それ故、食品包装用材料、容器、あるいはガス
バリアー性を要求されろ容器として有用である。
In the thus obtained multilayer structure of the present invention and its heated stretched product, the thickness of the 5i-EVOH layer is uniform, and there are no streaks or
There are no lumps, and there are no pinholes, cracks, or uneven thickness that tend to occur during stretching, so the gas barrier properties are extremely good. Therefore, it is useful as food packaging materials, containers, or containers that require gas barrier properties.

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明
はこれによりなんら限定を受けるものではない。(なお
、実施例中部又は%はことわりのない限り、重量部又は
重量%を示す。) く共押出成形物の厚み分布測定〉 フィードブロック型3棚5層共押出装置において、ダイ
ス巾550αより吐出するPP/ムD1EVOH/ A
 D、/ P P又はP S /A D2/EVOH/
A D2/ P 8シート(PP、AD、P8の銘柄、
厚みは下記参照) f I Vlrninの引取速度で
製膜した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be further explained with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto in any way. (In addition, the middle part of the examples or % indicates parts by weight or weight % unless otherwise specified.) Measurement of thickness distribution of coextruded product> In a feed block type 3-shelf 5-layer coextrusion device, the material was discharged from a die width of 550α. PP/MuD1EVOH/A
D, / P P or P S /A D2/EVOH/
A D2/P 8 sheets (PP, AD, P8 brands,
(See below for thickness) The film was formed at a take-up speed of f I Vlrnin.

上記シートの中央部のEVOH層の厚みをAμ、中央よ
り左右10CIHの平均厚みをBμとした場合、EVO
H層(7)厚み変動率(X%>fX=cB−A)/A×
100爾と定義する。
If the thickness of the EVOH layer in the center of the above sheet is Aμ, and the average thickness of 10 CIH left and right from the center is Bμ, then EVO
H layer (7) Thickness variation rate (X%>fX=cB-A)/A×
It is defined as 100 er.

P8  ・・・ポリスチレン(出光スチロールET−6
1)450μEvon、、・中央厚み50μ目標 <EVOH層の水分の測定法〉 加熱延伸加工直前の多層構造体にあるEVOH層をはく
りし、120℃、24時間熱風乾燥機に放置し、重量減
少よりEVAL層の水分を求める。この値をパーセント
表示し揮発分と称する事にする。
P8...Polystyrene (Idemitsu Styrene ET-6
1) 450μEvon, ・Target center thickness 50μ <Method for measuring moisture in EVOH layer> Peel off the EVOH layer on the multilayer structure just before heating and stretching, and leave it in a hot air dryer at 120℃ for 24 hours to reduce weight. Determine the moisture content of the EVAL layer. This value is expressed as a percentage and is referred to as volatile content.

実施例1 容量101で内部に冷却用コイルをもつ撹拌機付重合槽
において、ケイ素含有エチレン−酢酸ビニル共重合体を
得るため以下に示す条件により連続重合を実施した。
Example 1 Continuous polymerization was carried out under the conditions shown below in order to obtain a silicon-containing ethylene-vinyl acetate copolymer in a polymerization tank with a capacity of 101 cm and equipped with a stirrer and internally equipped with a cooling coil.

酢酸ビニル供給量        480 g / h
rメタノール供給量         40 g / 
hrビビニ−トリーメトキシシラン供昶l歎3 s 5
■/ hr2.2′−アゾビスインブチロニトリル  
       33■/hr重合温度        
     77℃重合槽エチレン圧力        
e okg/dG平均滞留時間           
 6 hrs酢酸ビニルの重合率は約50%であった。
Vinyl acetate supply amount 480 g/h
rMethanol supply amount 40 g/
hr bivinytrimethoxysilane supply 3s 5
■/hr2.2'-azobisinbutyronitrile
33■/hr Polymerization temperature
77℃ polymerization tank ethylene pressure
e okg/dG average residence time
The polymerization rate of 6 hrs vinyl acetate was about 50%.

該共重合反応液を追出塔に供給し、塔下部からのメタノ
ール蒸気の導入により未反応酢酸ビニルを塔頂より除去
した後、該共重合体の45%のメタノール溶Fiを得た
。該共重合体は該磁気共鳴分析によりビニルトリメトキ
シシラン単位i 0.027モル%、酢酸ビニル単位’
i59.5モル%、エチレン単位を約40.5モル%含
葡することが確認された。該共重合体のメタノール溶液
を基或ケフ化反応器に導入し、さらに水酸化ナトリウム
を該共重合体に含まれる酢酸ビニル成分に対するモル比
が0.05となる如く該反応器に供給し、塔下部よりメ
タノール蒸気を吹込み、塔頂より副生ずる酢酸メチルを
除去しなから−けん化反応を行い、#E底より改質E 
VOHのメタノール溶液を得た。該メタノール溶液にi
t比メタノール/水= 7 / 3の混合蒸気を吹込み
、該溶液中の溶剤組成をyK /メタノール混合系に変
えた後、5℃のメタノール10%水溶液中にストランド
状に吐出させ、凝固析出させ、切断して、該EVOI(
iペレット状物として単離し九十分水洗した後、希薄酢
酸水に浸漬処理して65℃〜110℃で乾燥した。けん
化度は99.3モル%であった。
The copolymerization reaction liquid was supplied to a purging tower, and unreacted vinyl acetate was removed from the top of the tower by introducing methanol vapor from the bottom of the tower, to obtain 45% methanol-soluble Fi of the copolymer. According to the magnetic resonance analysis, the copolymer contained 0.027 mol% of vinyltrimethoxysilane units and vinyl acetate units.
It was confirmed that it contained 59.5 mol% of i and about 40.5 mol% of ethylene units. Introducing a methanol solution of the copolymer into a basic kephization reactor, further supplying sodium hydroxide to the reactor such that the molar ratio to the vinyl acetate component contained in the copolymer is 0.05, Methanol vapor is blown into the bottom of the column, methyl acetate as a by-product is removed from the top of the column, a saponification reaction is carried out, and reforming E is introduced from the bottom of #E.
A methanol solution of VOH was obtained. i in the methanol solution
After blowing in a mixed vapor with a methanol/water ratio of 7/3 to change the solvent composition in the solution to a yK/methanol mixed system, the solution was discharged in the form of a strand into a 10% aqueous methanol solution at 5°C for solidification and precipitation. the EVOI (
The pellets were isolated as pellets, washed with water for 90 minutes, immersed in dilute acetic acid, and dried at 65°C to 110°C. The degree of saponification was 99.3 mol%.

該EVOfi、ポリプロピレン(三菱ノーブレンMA−
6)及び接着性樹脂(三井石油化学社製「アトマーQF
500 J (無水マレイン酸グラフトポリプロピレン
))ラフイードブロック型3秤5層共押出装置に供給し
、230℃のダイス温度、1m−トを得た。各層の厚み
はPP層が約450μ、接着層(AD)が各層50μ、
EV@H@が約507jである。このシートのEVOH
層の厚み変動率(吐出とは直角方向の厚み分布)は7%
であった。また、スジ、ブッ、流れムラもlよとんど認
められなかった。
The EVOfi, polypropylene (Mitsubishi Noblen MA-
6) and adhesive resin (“Atmar QF” manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.
500 J (maleic anhydride grafted polypropylene)) was supplied to a rough-feed block type 3-scale 5-layer coextrusion apparatus to obtain a die temperature of 230° C. and a 1 m-t. The thickness of each layer is approximately 450μ for the PP layer, 50μ for each adhesive layer (AD),
EV@H@ is approximately 507j. EVOH of this sheet
Layer thickness variation rate (thickness distribution in the direction perpendicular to the discharge) is 7%
Met. Also, I could hardly notice any streaks, bumps, or uneven flow.

得られたシートを真空圧空成形機(浅野研究所製F[−
0431)にかけ、シート温度150℃にて5PPP成
形を行なった。(成形前のE VOH謂の揮発分は0.
14%であった。)その結果、成形容器の透明性は良好
であり、また、クラック、微少偏肉も認められなかった
(成形容器の深絞り比は1.5)。
The obtained sheet was molded using a vacuum pressure forming machine (F[-
0431) and 5PPP molding was performed at a sheet temperature of 150°C. (The volatile content of EVOH before molding is 0.
It was 14%. ) As a result, the transparency of the molded container was good, and no cracks or minute thickness deviations were observed (the deep drawing ratio of the molded container was 1.5).

この絞り成形容器を20’C−65%HLL及び20°
C−100%1(liでそれぞれ十分調湿(約1ケ月)
した後、モコン酸素分析器(NLocon社製)にて酸
素透過量の測定を行なった。その結果、EVO)i層の
酸素透過量は1.1CC−20μ/d−24hr−at
m (20℃−65%BH)、13cc・2011/i
 ・24 hr−atm (200C−100%BH)
であり、非常に良好なガスバリアー性を示した。
This draw-molded container was heated to 20'C-65%HLL and 20°C.
C-100% 1 (sufficient humidity control with li (about 1 month)
After that, the amount of oxygen permeation was measured using a Mocon oxygen analyzer (manufactured by NLocon). As a result, the amount of oxygen permeation through the EVO) i layer was 1.1CC-20μ/d-24hr-at
m (20℃-65%BH), 13cc・2011/i
・24 hr-atm (200C-100%BH)
It showed very good gas barrier properties.

比較例1 ビニルトリメトキシシランを使用しなかった以外は、実
施例1と同様に行い、1エチレン含有量40.7モル%
、けん化度99.4モル%のEVOHを得た。実施例1
と同様に溶融製膜した。その結果、シートのEVOHJ
−の厚み変動率は100%をこえ、非常に不拘マである
ばかりでなく、2〜3時間製膜後よりスジ、ブツの発生
が目立ち、金山にわたっての使用が困難であった。また
、このシートの厚み変動が小さな部分について真空圧空
成形機にかけ5PPP(固相圧空成形)成形を行なった
が、成形品の側面に多数の微少クラックが肉眼でもはっ
きり観察され、使用に耐えなかった。この容器の酸素透
過量は4000cce20詔++24hr・aむm(2
00C−100%BH)と多大であり、EVOH層が切
断されている事がわかった。真空圧空成形前の原反の酸
素透過量は1.o cc ・20 p/d −24hr
・atm (20℃−65%1it)、28CC・20
μ/ ne ・24 hr 9atm (20℃−Zo
o%BH)であった。
Comparative Example 1 The same procedure as Example 1 was carried out except that vinyltrimethoxysilane was not used, and the ethylene content was 40.7 mol%.
, EVOH with a saponification degree of 99.4 mol% was obtained. Example 1
Melt film formation was performed in the same manner as in . As a result, the EVOHJ of the sheet
- The thickness variation rate exceeded 100%, and it was not only extremely unrestricted, but also had streaks and spots that were noticeable after 2 to 3 hours of film formation, making it difficult to use it over gold mines. In addition, 5PPP (solid phase air pressure forming) was performed on the part of this sheet where the thickness variation was small using a vacuum pressure forming machine, but many minute cracks were clearly observed with the naked eye on the side of the molded product, making it unusable. . The oxygen permeation rate of this container is 4000cce20cc++24hr・am(2
00C-100%BH), indicating that the EVOH layer was cut. The oxygen permeation rate of the original fabric before vacuum pressure forming is 1. o cc ・20 p/d -24hr
・ATM (20℃-65% 1it), 28CC・20
μ/ne ・24 hr 9atm (20℃-Zo
o%BH).

比較例2 比較例1において真空圧空成形時、成形品の側面に発生
したクラックの原因を調べる為、比較例1で使用したE
VOHを40φ単層押出機で製膜を行ない、厚み均一の
単層EVOH層を得だ(50μフイルム、厚み変動率5
%)。このEVOHフィルムをアンカーコート(東洋モ
ートンAT−335A)処理した1000μポリプロピ
レンシート(三菱ノーブレンMA−6)l/(ドライラ
ミした後、真空圧空成形機にて8PPP成形を行なった
が、比較例1と同様、容器側面に微少クラックが認めら
れた。それ故、比較例1で生じた深絞り成形時の異常(
クラック)はシート作成時のEVOH層の厚みムラ及び
スジ、ブツによるものではなく、本質的に比較例1で使
用したEVOHの特性である事が判明した。
Comparative Example 2 In order to investigate the cause of cracks that occurred on the side of the molded product during vacuum pressure forming in Comparative Example 1, E
VOH was formed into a film using a 40φ single-layer extruder to obtain a single-layer EVOH layer with a uniform thickness (50μ film, thickness variation rate 5).
%). This EVOH film was treated with an anchor coat (Toyo Morton AT-335A) and a 1000μ polypropylene sheet (Mitsubishi Noblen MA-6) l/(after dry laminating, 8PPP molding was performed using a vacuum pressure forming machine, but the same as in Comparative Example 1) , slight cracks were observed on the side of the container. Therefore, the abnormality during deep drawing that occurred in Comparative Example 1 (
It was found that the cracks were not caused by uneven thickness, streaks, or spots in the EVOH layer during sheet preparation, but were essentially a characteristic of the EVOH used in Comparative Example 1.

比較例3 実施例1で使用したEVOHの〔η)ph(15%含水
フェノール30℃での測定)は0.084 <l/Q)
であり、MI、9G(190℃荷!2160gで測定し
たメルトインデックス値)は2.1 (9710分)で
あるのに比較して、比較例1で使用したEVOHの〔η
)ph = 0.081(1/y )に対しM1190
= 165 (g 710分)である。MIlgo の
差が製膜性及び深絞り成形性の異常の原因と考えられる
可能性がある事より比較例1で用いたEVO)1100
重量部に対してBPO(過酸化ベンゾイル)0.35重
量部を配合し40φ押出機220℃にて架橋ペレット化
を実施した。得られたペレットを90℃、16時間乾燥
し、MII90t−測定した所1.8g/10分であっ
た。
Comparative Example 3 The [η)ph (measured with 15% hydrated phenol at 30°C) of EVOH used in Example 1 was 0.084 <l/Q)
, and the MI, 9G (melt index value measured at 190°C load! 2160 g) is 2.1 (9710 minutes), compared to [η
)ph = 0.081 (1/y) for M1190
= 165 (g 710 minutes). EVO) 1100 used in Comparative Example 1 because the difference in MIlgo may be considered to be the cause of abnormalities in film formability and deep drawability.
0.35 parts by weight of BPO (benzoyl peroxide) was added to each part by weight, and cross-linked pelletization was carried out using a 40φ extruder at 220°C. The obtained pellets were dried at 90° C. for 16 hours and measured by MII90t, which was 1.8 g/10 minutes.

このEvoul用い、実施例1と同様に製膜を行なつた
。その結果、シートのEV′E3J層の厚み変動率は4
8%と比較例1よりは低いものの、とうてい実施例1に
はおよばなかった。またこのシートの0)I EVEL層には微少なプツが運転初期より認められ2〜
3時間後(ではスジ、流れムラが増加し運転の継続が困
難となった。運転初期の比較的プッ、スジの少ない、ま
たj呵りみ分布が比較的良好な部分について、実施例1
と同様に真空圧空成形を行なったが、成形品の側面に多
数のクラックが発生し使用に耐えなかった。
Using this Evoul, film formation was carried out in the same manner as in Example 1. As a result, the thickness variation rate of the EV'E3J layer of the sheet was 4
Although it was 8%, lower than Comparative Example 1, it was not as high as Example 1. In addition, slight spots were observed in the 0)I EVEL layer of this sheet from the beginning of operation.
After 3 hours, streaks and flow unevenness increased, making it difficult to continue operation. Example 1
Vacuum-pressure molding was carried out in the same manner as above, but many cracks occurred on the sides of the molded product, making it unusable.

実施例2 実施例1と同じ重合槽を用いて、以下に示す条件で連続
重合を実施した。
Example 2 Using the same polymerization tank as in Example 1, continuous polymerization was carried out under the conditions shown below.

酢酸ビニル供給量        440g/hrt−
ブタノール供給j1           60n2.
2Lアゾビス−(2,4−ジメチルくレロニトリル) 
    110mg/hr3−アクリルγミトプロヒ)
レトリメトー+、ンシラン     150  〃重合
温度            60℃平均滞留時間  
          8 hrs重合槽エチレン圧力 
       46 halciG酢酸ビニルの重合率
は約55%であった。該共重合体は核磁気共鳴分析によ
り、3−アクリルアミド−プロピルトリメトキシシラン
単位’i 0.013モル%、酢酸ビニル単位t−65
モル%、エチレン単位を約35モル%含有することが確
認された。
Vinyl acetate supply amount 440g/hrt-
Butanol supply j1 60n2.
2L azobis-(2,4-dimethylchloronitrile)
110mg/hr3-acrylic gamma mitoprophylactic)
Retrimetoh+, Nsilane 150 Polymerization temperature 60℃ average residence time
8 hrs polymerization tank ethylene pressure
The polymerization rate of 46 halciG vinyl acetate was about 55%. Nuclear magnetic resonance analysis revealed that the copolymer contained 0.013 mol% of 3-acrylamide-propyltrimethoxysilane units 'i and t-65 vinyl acetate units.
It was confirmed that it contained about 35 mol% of ethylene units.

実施例1と同様にけん化し単離して、後処理を行なった
後、乾燥して、変性E TO)lを得た。けん化度は9
9.2モル%であり、MI190は0.7g/10分で
あった。
After saponification and isolation in the same manner as in Example 1, post-treatment, and drying, modified ETO)l was obtained. Saponification degree is 9
It was 9.2 mol%, and MI190 was 0.7 g/10 minutes.

のシートラ得た。このシートの厚み変動率は5%であり
、長期運転(2〜3日以上)してもスジ、プッ、流れム
ラは非常にわずかであった。
I got Seatra. The thickness variation rate of this sheet was 5%, and even after long-term operation (2 to 3 days or more), there were very few streaks, drops, and uneven flow.

得られたシートを二軸延伸試験装置(パンタグラフ式、
東洋精機製)にかけ、シート温度150℃にて5×5倍
逐次二軸延伸を行なった。延伸前のEVOIi層の揮発
力は0.25%であった。その結果、EVOH層にクラ
ックの無い、厚み分布均一な、かつ透明性良好な、共延
伸フィルムが得られる事がわかった。このフィルムの酸
素透過量は0.5cc−20μ/d −24hr −a
tm (20℃−65%BH)20 cc ・20 p
/lri e24 hr @ atm (20℃−10
0%BH)であり、非常に良好なガスバリアー性を示し
た。
The obtained sheet was passed through a biaxial stretching test device (pantograph type,
(manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) and sequentially biaxially stretched 5×5 times at a sheet temperature of 150°C. The volatility of the EVOIi layer before stretching was 0.25%. As a result, it was found that a co-stretched film with no cracks in the EVOH layer, a uniform thickness distribution, and good transparency could be obtained. The oxygen permeation rate of this film is 0.5cc-20μ/d-24hr-a
tm (20℃-65%BH)20cc・20p
/lri e24 hr @ atm (20℃-10
0% BH) and showed very good gas barrier properties.

比較例4 3−アクリルアミド−プロピルメトキシシランを使用し
なかった以外は実施例2と同様に行ないエチレン含有量
35モル%、けん化度99.3モル%、Ml、90が2
.1g/10分のEVOHを得た。実施例2と同様に共
押出製膜を行ない得られたシートのEVOH層の厚み変
動率は68%と非常に悪く、不均一であるばかりでなく
、3〜4時間連続運転後より、スジ、ブッ、流れムラが
顕著になった。運転初期で、かつ、EVOEI層の厚み
変動及びムラが比較的小さい部分について実施例2と同
様に二軸延伸を行なった。この時のEVOH層の揮発分
は0728%であった。この二軸延伸フィルムは全面に
網目状にクラックが発生し、まったく使用に耐えないも
のであった。この共延伸フィルムの酸素透過量は400
0CC・20 pAre ・24 hr @ atm(
20°C−100%1(H)以上でありEVOH層が切
断された事を示している。真空圧空成形前の原反の酸素
透過量は0.6 cc −20p/rri −24hr
−atm(20°C−65%EH)、35CC・20μ
Aト24hr−atm(20’C−100%RH)であ
った。
Comparative Example 4 The same procedure as Example 2 was carried out except that 3-acrylamide-propylmethoxysilane was not used, and the ethylene content was 35 mol%, the degree of saponification was 99.3 mol%, and Ml, 90 was 2.
.. 1 g/10 min of EVOH was obtained. The EVOH layer of the sheet obtained by coextrusion film formation in the same manner as in Example 2 had a very poor thickness variation rate of 68%, and was not only non-uniform, but also had streaks and streaks after 3 to 4 hours of continuous operation. Wow, the uneven flow has become noticeable. Biaxial stretching was performed in the same manner as in Example 2 at the initial stage of operation and in a portion where the thickness variation and unevenness of the EVOEI layer were relatively small. The volatile content of the EVOH layer at this time was 0728%. This biaxially stretched film had network-like cracks over its entire surface and was completely unusable. The oxygen permeation rate of this co-stretched film is 400
0CC・20 pAre・24 hr @ atm(
20°C-100%1(H) or higher, indicating that the EVOH layer was cut. The oxygen permeation rate of the original fabric before vacuum pressure forming is 0.6 cc -20p/rri -24hr
-atm (20°C-65%EH), 35CC・20μ
The temperature was 24 hr-atm (20'C-100% RH).

比較例5 比較例4で用いたEVOHl 00重量部に対して可塑
剤としてN−エチルトルエンスルホンアミド15重量部
を配して、40φ押出機を用いてダイス温度220℃に
てベレット化を行なった。二のベレットを95℃−16
時間乾燥した後、実施例2と同様に共押出製膜を行なっ
た。得られたシートの厚み変動率は21%と多少改善の
傾向は認められるが、十分ではなく、ざらに悪い事に運
転開始20〜30分後よりシートにスジ、流れムラが多
発し、長期運転が困難であった。運転開始初期  −で
あり、かつ厚み分布が比較的良好な部分をサンプリング
し、実施例2と同様に共延伸を行なった。
Comparative Example 5 15 parts by weight of N-ethyltoluenesulfonamide was added as a plasticizer to 00 parts by weight of EVOHl used in Comparative Example 4, and pelletization was performed using a 40φ extruder at a die temperature of 220°C. . The second pellet at 95℃-16
After drying for a period of time, coextrusion film formation was performed in the same manner as in Example 2. The thickness variation rate of the obtained sheet was 21%, which shows a slight tendency to improve, but it is not enough, and to make matters worse, the sheet often shows streaks and flow irregularities 20 to 30 minutes after the start of operation, making it difficult to operate for a long period of time. was difficult. At the beginning of the operation, a portion where the temperature was - and the thickness distribution was relatively good was sampled, and co-stretched in the same manner as in Example 2.

その結果、多少のびムラはあるものの、クラッタなどが
ない比較的良好な延伸フィルムが得られた様に一見見受
けられたが、酸素透過性の測定を行なった所、5 CC
争20 p/7d−24hr ・atm (20℃−6
5%B11)、9 acc−20μ/rd−24hr−
atmと酸素の透過量が大きく、ガスバリアー性食品包
装材料としては十分満足いくものではない事が判明した
。可塑剤添加によりEVOHの結晶性が低下する為、成
形性は改善の方向にあるが、結晶化度と関連が強いガス
バリアー性は結晶性低下により悪化したためではないか
と考えら几る。
As a result, although there was some unevenness in stretching, it appeared that a relatively good stretched film with no clutter was obtained, but when oxygen permeability was measured, it was found that 5 CC
War 20 p/7d-24hr ・atm (20℃-6
5%B11), 9 acc-20μ/rd-24hr-
It was found that the amount of permeation of ATM and oxygen was large, and that it was not fully satisfactory as a food packaging material with gas barrier properties. Since the crystallinity of EVOH decreases due to the addition of a plasticizer, the moldability tends to improve, but it is thought that the gas barrier properties, which are strongly related to the degree of crystallinity, deteriorate due to the decrease in crystallinity.

実施例3 実施例2においてケイ素含r1”+rt 敬体として3
−アクリルアミド−プロピルトリアセトキシシランf 
290 rrtg/hrで用いた以外は実施例2と同様
に操作した。重合体は、核磁気共鳴分析により3−アク
リルアミド−プロピルトリアセトキシシラン単位’i0
.02モル%を含み、酢酸ビニル及びエチレンについて
は実施例2とほぼ同じ組成であることが確認された。な
お該変性bvonのけん化度は99.5モル%であり、
MI関はo、3g/lo分であった。該EVOH、ポリ
スチレン(出光スチロールET−61)及び接着性樹脂
(東洋ソーダ「故5420」(無水マレイン酸グラフト
エチレン−酢酸ビニル共重合体))ヲマルチマニホール
ド型3揮5層共押出装置に供給し、230℃のダイス温
度、I B /minのシート引取装置にてPS/AI
)、/8i −EVOEI / A込/P8構成の荘可
厚み約1順のシートを得た。各層の厚みはPS層が各4
50μ、接着層が各50μ及びEVOH層が約50μで
あった。このシートのEVOH層の厚み変動率(吐出方
向と直角な方向の厚み分布)は3%であり、20〜24
時間の長期運転でもEVOH層のスジ、ブッ、流れムラ
がほとんど認められなかった。得られたシートを真空圧
空成形機(浅野研究所製絞り比15角型金型使用)にか
け、120℃で絞り成形を行なった所、クラックの無い
良好な成形物が得られた。この容器の酸素透過量は0.
6CC・20p / 71i −24hr−atm (
20°C−65%BH)、20cc ・2 o tt%
d ・24 hr −atm (20℃−65%1IH
)と非常に良好なガスバリアー性を示した。
Example 3 In Example 2, silicon content r1”+rt 3
-acrylamide-propyltriacetoxysilane f
The same procedure as in Example 2 was carried out except that 290 rrtg/hr was used. The polymer was determined by nuclear magnetic resonance analysis to contain 3-acrylamide-propyltriacetoxysilane units 'i0
.. It was confirmed that the composition of vinyl acetate and ethylene was almost the same as that of Example 2. The degree of saponification of the modified bvon is 99.5 mol%,
MI Seki was o, 3 g/lo min. The EVOH, polystyrene (Idemitsu styrene ET-61) and adhesive resin (Toyo Soda "late 5420" (maleic anhydride grafted ethylene-vinyl acetate copolymer)) were supplied to a multi-manifold type 3-volume 5-layer co-extrusion device. , PS/AI at a die temperature of 230°C and a sheet take-up device of I B /min.
), /8i -EVOEI / A included / P8 composition sheets with a thickness of about 1 were obtained. The thickness of each layer is 4 PS layers each.
50μ, each adhesive layer was 50μ and the EVOH layer was about 50μ. The thickness variation rate (thickness distribution in the direction perpendicular to the discharge direction) of the EVOH layer of this sheet was 3%, and was 20 to 24%.
Even during long-term operation, there were hardly any streaks, bumps, or flow irregularities in the EVOH layer. The obtained sheet was subjected to drawing forming at 120° C. using a vacuum-pressure forming machine (using a pentagonal mold with drawing ratio manufactured by Asano Research Institute), and a good molded product without cracks was obtained. The oxygen permeation rate of this container is 0.
6CC・20p/71i-24hr-atm (
20°C-65%BH), 20cc ・2 o tt%
d ・24 hr -atm (20℃-65%1IH
) and showed very good gas barrier properties.

比較例6 3−アクリルアミド−プロピルトリアセトキシシランを
使用しなかった以外は、実施例3と同様に行ないエチレ
ン含有量34.5モル%、けん化度99.5モル%、M
I19oが1.9y/lo分のEVOfi’ii得た。
Comparative Example 6 The same procedure as Example 3 was carried out except that 3-acrylamide-propyltriacetoxysilane was not used. Ethylene content was 34.5 mol%, saponification degree was 99.5 mol%, M
I19o obtained EVOfi'ii of 1.9y/lo.

実施例3と同様に共押出製膜を行なった。得られたシー
トのEVOH層の厚み変動率は65%と大きく、不均一
であるばかりでなく、3〜4時間製膜後より、スジ、ブ
ツの発生が目立った。また、このシートの厚み変動が小
さな部分について実施例3と同様に深絞り成形を行なっ
た結果、成形品の側面に多数の微少クラックが観察され
た。この容器の酸素透過量は4000 cc・20μ/
i ・24 hr・atm (20’C−100%11
1)以上であり、EVOL(層が切断されている事がわ
かった。
Coextrusion film formation was performed in the same manner as in Example 3. The thickness variation rate of the EVOH layer of the obtained sheet was as large as 65%, and not only was it non-uniform, but the occurrence of streaks and spots was noticeable after 3 to 4 hours of film formation. Further, when deep drawing was performed in the same manner as in Example 3 on a portion of this sheet where the thickness variation was small, many minute cracks were observed on the side surface of the molded product. The oxygen permeation rate of this container is 4000 cc・20μ/
i ・24 hr・atm (20'C-100%11
1) It was found that the EVOL (layer was cut).

比較例7 比較例6で用いたEVOH1o o N、11部に対し
て可塑剤として、ジエチレングリコール10重量部を配
して40φ押出機を用いてダイス温度220℃にてベレ
ット化を行なった。このペレットを95℃−16時間乾
燥した後、実施例3と同様に共押出製膜を行なった。得
られたシートの厚み変動率は45%とほとんど改善の傾
向は認められず、さらに悪い事には3〜4時間後より流
れムラ、スジ等が多発しはじめた。厚み分布が比較的均
一な部分をサンプリングし、実施例3と同様、深絞りを
行なった所、わずかではあるがクラックが発生した。こ
の容器の酸素透過量は240 cc・20μ/d −2
4’hr eatm (20℃−100%B旦)と大き
く、ガスバリアー性容器としての使用には耐えなかった
Comparative Example 7 10 parts by weight of diethylene glycol was added as a plasticizer to 11 parts of EVOH 1 o N used in Comparative Example 6, and pelletization was performed using a 40φ extruder at a die temperature of 220°C. After drying this pellet at 95° C. for 16 hours, coextrusion film formation was performed in the same manner as in Example 3. The thickness variation rate of the obtained sheet was 45%, with almost no improvement observed, and to make matters worse, uneven flow, streaks, etc. began to occur frequently after 3 to 4 hours. When a portion with a relatively uniform thickness distribution was sampled and deep drawing was performed in the same manner as in Example 3, cracks occurred, albeit slightly. The oxygen permeation rate of this container is 240 cc・20μ/d −2
It was large at 4'hr eatm (20°C - 100% B) and could not withstand use as a gas barrier container.

実施例4 実施例2において重合層エチレン圧力f 35 kg/
alGとし、ケイ素含有オレフィン性不飽和単量体とし
てビニルトリエトキシシランを用い、該供給量を100
 +ag/hrとした以外は同様に行なつ九得られた共
重合体はビニルトリエトキシシラン単位をo、o o 
sモル%、酢酸ビニル単位を72モル%、エチレン単位
を約28モル%含有するものであった。実施例2に準じ
て変性E VOfiを得た。けん化度は99.4モル%
であり、210℃、z、isog荷重で測定した溶融粘
性指数M I210は0.80g710分であった。
Example 4 In Example 2, the polymer layer ethylene pressure f 35 kg/
alG, vinyltriethoxysilane was used as the silicon-containing olefinically unsaturated monomer, and the supply amount was 100%.
The same procedure was carried out except that +ag/hr was changed.9 The obtained copolymer had vinyltriethoxysilane units of o, o o
s mol%, 72 mol% of vinyl acetate units, and about 28 mol% of ethylene units. Modified E VOfi was obtained according to Example 2. Saponification degree is 99.4 mol%
The melt viscosity index M I210 measured at 210° C., z, and isog load was 0.80 g 710 minutes.

該EVOH、ポリプロピレン(三菱ノープレンMA−6
)及び接着性樹脂(E井石油化学アトマーQF500)
をスパイラルフロータイブ3種5層共押出パイプ成形機
に供給し、220℃のダイス温度、0,6 rrL/m
inバイブ引取装置にてPP/AD1/8i−EVOH
/ A DI/ P P構成の全層厚み3〜侃、外径3
011に7mのパイプe fr)た。各層の厚みは、P
P層が各々約1200μ、AD層が各々約150μ、E
VOH層が約200μである。このパイプの断面のEV
OH層の厚み分布は顕微鏡(X100倍)で見ろ限り均
一であり、パイプの流れ方向へのスジ、ブロ、流れムラ
は外見上はとんど認められなかった(約24時間連続運
転)。このパイプを切断し、口部及び底部を成形しパリ
ソンを作成した後、150℃で約12分間加熱後、二軸
延伸ブロー装置にかけ容器を作成した所、外見上クラッ
クのない良好なボトルが得られた。
The EVOH, polypropylene (Mitsubishi Noprene MA-6
) and adhesive resin (Ewell Petrochemical Atmer QF500)
was fed to a spiral flow type 3 type 5 layer coextrusion pipe forming machine at a die temperature of 220°C and a flow rate of 0.6 rrL/m.
PP/AD1/8i-EVOH with in-vibe collection device
/ A DI / PP Total layer thickness 3 ~ 3, outer diameter 3
011 with a 7m pipe e fr). The thickness of each layer is P
The P layer is about 1200 μm each, the AD layer is about 150 μm each, and the E layer is about 150 μm each.
The VOH layer is about 200μ. EV of the cross section of this pipe
The thickness distribution of the OH layer was as uniform as seen under a microscope (100x magnification), and no streaks, bloat, or flow irregularities in the flow direction of the pipe were visually observed (approximately 24 hours of continuous operation). This pipe was cut and the mouth and bottom were formed to create a parison, heated at 150°C for about 12 minutes, and then applied to a biaxial stretching blow machine to create a container.A good bottle with no cracks in appearance was obtained. It was done.

比較例8 実施例4においてビニルトリエトキシシランを用いなか
った以外は実施例4と同様に行ない、エチレン含有量2
8.3モル%、けん化度99.5モル%、Ml、902
.3 g/l 0分ノEVOfit得た。コノEVOH
を用いて実施例4と同様にパイプ成形を行ない断面のE
VOH層を観察した所、数ケ所局部的な厚みムラが認め
られた。また、パイプの流れ方向にEVOH層のスジ、
流れムラが認められな。このパイプを実施例4と同様に
延伸ブロー成形をした所、ボトル表面にタテスジ、クラ
ックが特に口金部に近い部分(肩部)にスジ状の偏肉が
認められた。
Comparative Example 8 The same procedure as Example 4 was carried out except that vinyltriethoxysilane was not used in Example 4, and the ethylene content was 2.
8.3 mol%, saponification degree 99.5 mol%, Ml, 902
.. 3 g/l 0 min EVOfit was obtained. Kono EVOH
The pipe was formed in the same manner as in Example 4 using
When the VOH layer was observed, several localized thickness irregularities were observed. In addition, there are streaks of EVOH layer in the flow direction of the pipe.
No uneven flow was observed. When this pipe was stretch-blow molded in the same manner as in Example 4, vertical streaks and cracks were observed on the bottle surface, and streak-like uneven thickness was observed especially in the portion (shoulder) near the mouthpiece.

実施例5 容量50gで内部に冷却用フィルをもつ撹拌機付重合槽
において、ケイ素含「エチレン酢酸ビニル共重合体を得
るため以下に示す条件により回分式重合を実施した。
Example 5 Batch polymerization was carried out under the conditions shown below in order to obtain a silicon-containing ethylene-vinyl acetate copolymer in a polymerization tank with a capacity of 50 g and equipped with an internal stirrer and a cooling filter.

酢酸ビニル仕込量         15kgメタノー
ル仕込量          5.8kQビニルトリメ
トキシシラΔ土Δfi               
  6.4 Q2.2−7ゾビスイソブチロニトリルU
≦41i            2.7 g重合温度
             60℃重合槽エチレン圧力
        33kg/cJG重金時間     
         6.5 hr酢酸ビニルの重合率は
31%であった。該共重合体は該磁気共鳴分析によりビ
ニルトリメトキシシラン単位を0.02モル%、酢酸ビ
ニル単位を68モル%、エチレン単位を32モル%含有
することが確認された。実施例1と同様にけん化し、単
離して後処理を行った後、乾燥して、変性hvon6得
た。けん化度は99.5%ル%、MI、goは0.55
 j/10分であった。
Vinyl acetate charge: 15kg Methanol charge: 5.8kQ Vinyltrimethoxysila∆fi
6.4 Q2.2-7 Zobisisobutyronitrile U
≦41i 2.7 g Polymerization temperature 60℃ Polymerization tank Ethylene pressure 33kg/cJG heavy metal time
The polymerization rate of 6.5 hr vinyl acetate was 31%. It was confirmed by the magnetic resonance analysis that the copolymer contained 0.02 mol% of vinyltrimethoxysilane units, 68 mol% of vinyl acetate units, and 32 mol% of ethylene units. The product was saponified, isolated and post-treated in the same manner as in Example 1, and then dried to obtain modified hvon6. Saponification degree is 99.5%, MI, go is 0.55
j/10 minutes.

該EVOH,ポリプロピレン(三菱ノーズL/7MA−
6)及び接着性樹脂(三片石油化学アトマーQf’5o
O)全スパイラルフロータイブ3欅5層共押出ブロー成
形機に供給し、220℃のダイス温度で50 omgボ
トルの成形を行なった。ボトル胴部の構成はP P /
 A DI / S i−E VOR/ A DI /
 P Pであり各層の厚みはPP層が各々300μ、A
D層が各々約20μ、8i−EVOH層は約20μであ
る。容器の周方向のE VOR層の厚み変動率((最大
厚み一最小厚み)/平均厚みの百分率と定義)・は8.
9%であった。また外見上、のびムラ、スジ等が認めら
れなかった。
The EVOH, polypropylene (Mitsubishi Nose L/7MA-
6) and adhesive resin (Mikata Petrochemical Atmer Qf'5o
O) The product was supplied to a total spiral flow type 3 Keyaki 5 layer coextrusion blow molding machine and molded into a 50 omg bottle at a die temperature of 220°C. The structure of the bottle body is P P /
A DI / Si-E VOR / A DI /
PP, and the thickness of each layer is 300μ for each PP layer, A
The D layers are each about 20μ thick and the 8i-EVOH layers are about 20μ thick. The rate of variation in the thickness of the EVOR layer in the circumferential direction of the container (defined as (maximum thickness - minimum thickness)/percentage of average thickness) is 8.
It was 9%. In addition, no unevenness, streaks, etc. were observed in the appearance.

比較例9 実施例5においてビニルメトキシシランを用いなかった
以外は実施例5と同様に行ない、エチレン含有率31.
8モル%、けん化度99.6モル%M11905−1 
g/ 10分のEVOE[e得た。このxvonf!:
用いて実施例5と同様にブロー成形全行なった所、ボト
ルの外見はまずまず良好であったが、ボトル胴部のnv
oa層の断面を観察すると厚みムラが大である事がオフ
かった。
Comparative Example 9 The same procedure as Example 5 was carried out except that vinylmethoxysilane was not used in Example 5, and the ethylene content was 31.
8 mol%, saponification degree 99.6 mol% M11905-1
g/10 min EVOE [e obtained. This xvonf! :
When blow molding was carried out in the same manner as in Example 5, the appearance of the bottle was reasonably good, but the nv of the bottle body was
When observing the cross section of the OA layer, it was found that the thickness was highly uneven.

gvou層の厚み変動率を測定した所85%であった。The thickness variation rate of the gvou layer was measured and was 85%.

このボトルの酸素透過量全測定した所1.8cc/ボト
ル・241ir−atm(0,51ボトル)悪い値を示
した。この原因はおそら(EVOE層ののびムラ、偏肉
により局所的にうすいEVOH層部分がガスバリアー性
を悪化させたものと思われる。
When the total oxygen permeation amount of this bottle was measured, it showed a poor value of 1.8 cc/bottle.241ir-atm (0.51 bottles). The cause of this is probably that the EVOH layer is locally thin due to uneven growth and uneven thickness of the EVOE layer, which deteriorates the gas barrier properties.

実施例6 実施例1と同じ重合WIヲ用いて、以下Vこ示す条件で
連続重合を実施した。
Example 6 Using the same polymerization method as in Example 1, continuous polymerization was carried out under the conditions shown below.

酢酸ビニル併給量        400 g /hr
メタノール供給@100 g/hr ビニルトリメトキシシラン    240 ag/ h
r2.2’−7ゾビスーC24−ジメチルベレロニトリ
ル)    17(1rrLg/hr重合温度    
         60℃平均滞留時間       
     5hr重合槽エチレン圧力        
46 kg/(11G酢酸ビニルの重合率は約45%で
あった。該共1合体は核磁気共鳴分析により、ビニルト
リメトキシシラン単位を0.023モル%、酢酸ビニル
単位を61モル%、エチレン単位を約39モル%含有す
ることが確認された。
Co-feeding amount of vinyl acetate: 400 g/hr
Methanol supply @100 g/hr Vinyltrimethoxysilane 240 ag/hr
r2.2'-7zobis-C24-dimethylbereronitrile) 17 (1rrLg/hr polymerization temperature
60℃ average residence time
5hr polymerization tank ethylene pressure
The polymerization rate of 46 kg/(11G vinyl acetate was approximately 45%. Nuclear magnetic resonance analysis revealed that the copolymer contained 0.023 mol% of vinyltrimethoxysilane units, 61 mol% of vinyl acetate units, and 61 mol% of vinyl acetate units. It was confirmed that it contained about 39 mol% of units.

実施例1と同様にけん化し、単離して、後処理を行った
後、乾燥して、改質EVOHを得た。けん化度は99.
4モル%であり−MI、90は1.3g710分であっ
た。
After saponification, isolation, post-treatment in the same manner as in Example 1, and drying, modified EVOH was obtained. Saponification degree is 99.
It was 4 mol % and -MI,90 was 1.3 g 710 minutes.

該EVOR及びポリプロピレン(三菱ノーブレンMA−
6)を、2梯3層共射出成形機に供給し多層バ!Jソ7
全作成シタ。P P / 8i−EVOH/ P P構
成品の各層の厚みはPP層が各々1200μ、EVOE
I層が200μであった。このバイブの断面の5i−E
VOE層の厚み分布は顕微鏡(X100倍)で見ろ限り
均一であった。このパリソンを150’Cで約15分間
加熱し、二軸延伸プロー成形装置日清A8Bにかけ、容
器を作成した所、外見上クラックのない良好なボトルが
得られた。
The EVOR and polypropylene (Mitsubishi Noblen MA-
6) is fed to a two-layer three-layer co-injection molding machine to form a multilayer bar! J So 7
All created by Shita. PP/8i-EVOH/PP The thickness of each layer of the PP component is 1200μ each, and the EVOE
The I layer was 200μ. 5i-E of the cross section of this vibe
The thickness distribution of the VOE layer was uniform as seen under a microscope (x100). This parison was heated at 150'C for about 15 minutes and subjected to a Nissin A8B biaxial stretch blow molding machine to prepare a container, and a good bottle with no cracks in appearance was obtained.

比較例10 実施例6 において、ビニルトリメトキシシランを用い
なかった以外は実施例6と同様に行ないエチレン含有量
39モル%、けン化度99.4モル%、MI、901.
5 g/I o分ノEVOHf得た。、:のEVOE1
2用いて、実施例6と同様にパリソンを作成し、延伸ブ
ロー成形を行なった所、ボトル表面にタテスジ、クラッ
クが、また特に口金部に近い部分(肩部)にスジ状偏肉
が認められ、使用に耐えなかった。
Comparative Example 10 Example 6 The same procedure as Example 6 was carried out except that vinyltrimethoxysilane was not used, and the ethylene content was 39 mol%, the degree of saponification was 99.4 mol%, and the MI was 901.
5 g/I o min of EVOHf was obtained. ,:EVOE1
2 was used to create a parison in the same manner as in Example 6, and stretch blow molding was performed. Vertical streaks and cracks were observed on the bottle surface, and streak-like uneven thickness was observed particularly in the area near the mouth (shoulder). , could not withstand use.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)酢酸ビニル、エチレン及び下記一般式( I )、
(II)及び(III)で表わされるケイ素を含有するオレ
フィン性不飽和単量体の中から選ばれた1種または2種
以上の共重合体をけん化して得た酢酸ビニル成分のけん
化度95モル%以上、エチレン含有量25〜60モル%
、ケイ素含有量0.0005〜0.2モル%であるケイ
素含有エチレン−酢酸ビニル共重合体けん化物からなる
層の少なくとも片面にポリプロピレン系樹脂またはポリ
スチレン系樹脂層を有する共押出多層構造体 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔但し、ここでnは0〜1、mは0〜2、R^1は低級
アルキル基、アリル基、またはアリル基を有する低級ア
ルキル基、R^2は炭素数1〜40のアルコキシル基で
あり、該アルコキシル基は酸素を含有する置換基を有し
ていてもよい。R^3は水素またはメチル基、R^4は
水素または低級アルキル基、R^5はアルキレン基また
は連鎖炭素原子が酸素もしくは窒素によって相互に結合
された2価の有機残基、R^6は水素、ハロゲン、低級
アルキル基、アリル基またはアリル基を有する低級アル
キル基、R^7はアルコキシル基またはアシロキシル基
(ここでアルコキシル基またはアシロキシル基は酸素も
しくは窒素を有する置換基を有していてもよい。)、R
^8は水素、ハロゲン、低級アルキル基、アリル基また
はアリル基を有する低級アルキル基、R^9は低級アル
キル基である。〕
(1) Vinyl acetate, ethylene and the following general formula (I),
Saponification degree of vinyl acetate component obtained by saponifying one or more copolymers selected from silicon-containing olefinically unsaturated monomers represented by (II) and (III): 95 mol% or more, ethylene content 25-60 mol%
, a coextruded multilayer structure having a polypropylene resin or polystyrene resin layer on at least one side of a layer made of a saponified silicon-containing ethylene-vinyl acetate copolymer having a silicon content of 0.0005 to 0.2 mol% ▲Math. There are , chemical formulas, tables, etc.▼(I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(III) [However, here, n is 0 to 1, m is 0-2, R^1 is a lower alkyl group, an allyl group, or a lower alkyl group having an allyl group, R^2 is an alkoxyl group having 1 to 40 carbon atoms, and the alkoxyl group has an oxygen-containing substituent. may have. R^3 is hydrogen or a methyl group, R^4 is hydrogen or a lower alkyl group, R^5 is an alkylene group or a divalent organic residue in which chain carbon atoms are interconnected by oxygen or nitrogen, and R^6 is Hydrogen, halogen, lower alkyl group, allyl group, or lower alkyl group having an allyl group, R^7 is an alkoxyl group or an acyloxyl group (here, an alkoxyl group or an acyloxyl group may have a substituent containing oxygen or nitrogen) good), R
^8 is hydrogen, halogen, a lower alkyl group, an allyl group, or a lower alkyl group having an allyl group, and R^9 is a lower alkyl group. ]
(2)多層構造体が加熱延伸された多層構造体である特
許請求範囲第1項記載の多層構造体。
(2) The multilayer structure according to claim 1, wherein the multilayer structure is a heat-stretched multilayer structure.
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