JPS61272243A - Production of prepreg for printed circuit board - Google Patents

Production of prepreg for printed circuit board

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JPS61272243A
JPS61272243A JP11493185A JP11493185A JPS61272243A JP S61272243 A JPS61272243 A JP S61272243A JP 11493185 A JP11493185 A JP 11493185A JP 11493185 A JP11493185 A JP 11493185A JP S61272243 A JPS61272243 A JP S61272243A
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JP
Japan
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epoxy resin
prepreg
silicone
titanate
bisphenol
Prior art date
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Pending
Application number
JP11493185A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuji Shibata
勝司 柴田
Masami Yusa
正己 湯佐
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication of JPS61272243A publication Critical patent/JPS61272243A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement

Abstract

PURPOSE:To obtain the titled prepreg having improved drillability, dielectric characteristics, etc., by compounding an epoxy resin containing a silicone- modified epoxy resin with a polyfunctional phenol, a cure accelerator and a coupling agent, and impregnating and drying the obtained varnish in a substrate. CONSTITUTION:The objective prepreg can be produced by compounding (A) an epoxy resin containing 1-100wt% silicone-modified epoxy resin produced by reacting (i) 100pts.(wt.) of a bisphenol-A epoxy resin, (ii) 40-80pts. of tetrabromobisphenol A and (iii) 0.1-30pts. of a methoxy-containing silicone intermediate of formula (R is methyl, phenyl or methoxy; n is 0-3), etc., with (B) a polyfunctional phenol, (C) a cure accelerator, preferably an imidazole compound having masked imino group and (D) a coupling agent, preferably a silane coupling agent, impregnating the resultant varnish in a substrate and drying the varnish at 80-200 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は印刷配線板用プリプレグの製造方法に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for producing prepreg for printed wiring boards.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

印刷配線板の高密度化に伴い、多層化、スルーホールの
小径化などが進み、ドリル加工性の良好な印刷配線板用
材料が要求されている。ドリル加工性のなかでも、スミ
アの発生は内層回路銅とスルーホールめっき銅との導通
を妨げることによって、著しくスルーホール信頬性を損
なう。スミアを除去するために印刷配線板メーカーでは
スミア除去処理を行うが、濃硫酸、フッ化水素酸などを
用いるため安全上の問題があり、またスルーホール内壁
をあらし、信頼性を低下させる原因ともなる。スミアの
発生原因は、ドリル加工時の摩擦熱により軟化した樹脂
がドリルによって内層回路銅断面に付着することだとい
われている。Tgの高い樹脂硬化物を用いることによっ
て樹脂の軟化は防止できるが、樹脂硬度も大きくなり、
様にな問題が生じる。スミアの発生を低減させるもうひ
とつの方法として、ドリル加工時に発生する摩擦熱を少
なくすることが考えられる。すなわち、樹脂の低摩擦化
をはかることによって摩擦熱の発生をおさえ、樹脂の軟
化を防ぐ方法である。
As the density of printed wiring boards increases, the number of layers and through holes become smaller, and materials for printed wiring boards with good drillability are required. In terms of drilling workability, the occurrence of smear significantly impairs the through-hole reliability by interfering with the conduction between the inner layer circuit copper and the through-hole plating copper. Printed wiring board manufacturers use a smear removal process to remove smear, but it uses concentrated sulfuric acid, hydrofluoric acid, etc., which poses safety issues, and can also roughen the inner walls of through holes, reducing reliability. Become. The cause of smear is said to be that resin softened by the frictional heat during drilling attaches to the cross section of the inner layer circuit copper due to the drilling. Although softening of the resin can be prevented by using a cured resin with a high Tg, the hardness of the resin also increases.
Various problems arise. Another way to reduce the occurrence of smear is to reduce the frictional heat generated during drilling. That is, this is a method of suppressing the generation of frictional heat and preventing softening of the resin by reducing the friction of the resin.

また、現在使用されているガラス布−エポキシ積層板は
、耐湿性、耐熱性などは優れているが、誘電率が高く、
印刷配線板の高密度化に伴うパターン幅や、パターン間
隔を小さくすることによる印刷配線板の小型化、信号の
高速化、高周波化などに対応できない。誘電率を下げる
方法として、ガラス布にクォーツガラスを使用する方法
があるが、高価なこと、非常に硬いためドリルの摩耗が
激しいなどの問題がある。
Additionally, the currently used glass cloth-epoxy laminate has excellent moisture resistance and heat resistance, but has a high dielectric constant.
It cannot cope with the miniaturization of printed wiring boards due to the reduction in pattern width and pattern spacing associated with higher density printed wiring boards, higher signal speeds, and higher frequencies. One way to lower the dielectric constant is to use quartz glass for the glass cloth, but it has problems such as being expensive and being extremely hard, which causes severe wear on drills.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は、従来の多層材料のドリル加工性改良および誘
電特性の改良を目的とした印刷配線板用プリプレグの製
造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing prepreg for printed wiring boards, which aims to improve the drillability and dielectric properties of conventional multilayer materials.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の印刷配線板用プリプレグの製造方法は、(a)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフ
ェノールAおよびメトキシ基含有シリコーン中間体を反
応させて得られるシリコーン変性エポキシ樹脂を1〜1
00重量%含むエポキシ樹脂、 (b)多官能フェノール、 (c)硬化促進剤 および (d)カップリング剤 を必須成分として配合したフェスをガラス布またはガラ
ス不織布等の基材に含浸後、乾燥させることを特徴とす
る。
The method for producing prepreg for printed wiring boards of the present invention includes (a)
1 to 1 silicone-modified epoxy resin obtained by reacting bisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol A, and a methoxy group-containing silicone intermediate.
After impregnating a base material such as glass cloth or glass nonwoven fabric with a fest containing 00% by weight of epoxy resin, (b) polyfunctional phenol, (c) curing accelerator, and (d) coupling agent as essential components, drying. It is characterized by

以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

(a)成分のエポキシ樹脂は、必須成分としてビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノール
Aおよびメトキシ基含有シリコーン中間体を反応させて
得られるシリコーン変性エポキシ樹脂を1〜100重量
%含んでいる。
The epoxy resin of component (a) contains 1 to 100% by weight of a silicone-modified epoxy resin obtained by reacting a bisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol A, and a methoxy group-containing silicone intermediate as an essential component.

ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、水酸基の少
ないものがよく、ヒドロキシル価 O〜0.08のもの
が好ましい。ヒドロキシル価がそれより大きいと、得ら
れたシリコーン変性エポキシ樹脂が高分子量化して不均
一な硬化物を与える。
As the bisphenol A type epoxy resin, one having few hydroxyl groups is preferable, and one having a hydroxyl value of O to 0.08 is preferable. If the hydroxyl value is higher than that, the obtained silicone-modified epoxy resin will have a high molecular weight and will give a non-uniform cured product.

ヒドロキシル価は水酸基当量の逆数に100をかけたも
ので、水酸基当量は塩化アセチル法により。
The hydroxyl value is the reciprocal of the hydroxyl equivalent multiplied by 100, and the hydroxyl equivalent is determined by the acetyl chloride method.

測定した。It was measured.

テトラブロモビスフェノールAはエポキシ樹脂に難燃性
を付与するために用いられ、配合量はビスフェノールA
型エポキシ樹脂 100重量部に対し、40〜80重量
部が好ましい。40重量部より少ないと、十分な難燃性
は得られず、80重量部より多いとシリコーン変性エポ
キシ樹脂が高分子量化してしまう。
Tetrabromobisphenol A is used to impart flame retardancy to epoxy resins, and the amount of bisphenol A
It is preferably 40 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the mold epoxy resin. If it is less than 40 parts by weight, sufficient flame retardancy cannot be obtained, and if it is more than 80 parts by weight, the silicone-modified epoxy resin will have a high molecular weight.

メトキシ基含有シリコーン中間体は、 RR や、この縮重合体であり、メトキシ基当量が50〜30
0のものを用いる。メトキシ基当量がこれより大きいと
シリコーン変性エポキシ樹脂が高分子量化してしまい、
不均一な硬化物を与える。また、これより小さいと、立
体障害のため反応が十゛ 分に進まず、未反応のメトキ
シ基が残存し、耐湿性、耐熱性が低下する。シリコーン
中間体はビスフェノールA型エポキシ樹脂 100重量
部に対し、0.1〜30重量部用いるが、これより少な
いとドリル加工性に対する効果がなく、これより多いと
、未反応のメトキシ基が残存する。
The methoxy group-containing silicone intermediate is RR or its condensation polymer, and has a methoxy group equivalent of 50 to 30.
0 is used. If the methoxy group equivalent is larger than this, the silicone-modified epoxy resin will have a high molecular weight,
Gives an unevenly cured product. If it is smaller than this, the reaction will not proceed sufficiently due to steric hindrance, and unreacted methoxy groups will remain, resulting in decreased moisture resistance and heat resistance. The silicone intermediate is used in an amount of 0.1 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of bisphenol A epoxy resin, but if it is less than this, it will have no effect on drillability, and if it is more than this, unreacted methoxy groups will remain. .

これらの化合物を反応させる際に、触媒として第3級ア
ミン、第4級アンモニウム塩、イミダゾール、アルカリ
金属水酸化物、ハロゲン化ホスホニウム塩、スルホニウ
ム塩、第3級ホスフィン、有機チタネート化合物、有機
ジルコニウム化合物などを用いてもよい。第3級アミン
としては、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールア
ミン、ピリジンなどがある。第4級アンモニウム塩とし
てはベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウム
クロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テ
トラエチルアンモニウムクロライド、N−セチルピリジ
ニウムクロライドなどがある。イミダゾールとしては2
〜メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル
−2−フェニルイミダゾールなどがある。アルカリ金属
水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化リチウムなどがある。ハロゲン化ホスホニウム
塩としては、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド、テトラフェニルホスホニウムクロライド、テトラブ
チルホスホニウムクロライド、メチルトリフェニルホス
ホニウムアイオダイドなどがある。スルホニウム塩とし
てはトリフェニルスルホニウムクロライド、ベンジルジ
メチルスルホニウムクロライド、ジメチルプロピルスル
ホニウムブロマイドなどがある。第3級ホスフィンとし
てはトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンな
どがある。有機チタネート化合物としては、テトラプロ
ピルチタネート、テトラブチルチタネート、イソプロピ
ルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ
デシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルト
リル(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テ
トライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタ
ネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイ
ト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチ
ル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファイト
チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オ
キシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホ
スフェート)エチレンチタネート、テトライソプロピル
チタネート、テトラオクチルチタネート、テトラステア
リルチタネートなどがある。有機ジルコニウム化合物と
しては、酢酸ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセ
トネート)ジルコニウム、ジノルマルプロポキシ−アセ
チルアセトニル−ステアリルオキシジルコニウム、ステ
アリルジルコニウム、アセチルアセトンジルコニウム、
ヒドロキシジルコニウムトリル(アセチルアセトネート
)などがある。
When these compounds are reacted, tertiary amines, quaternary ammonium salts, imidazole, alkali metal hydroxides, halogenated phosphonium salts, sulfonium salts, tertiary phosphines, organic titanate compounds, organic zirconium compounds are used as catalysts. etc. may also be used. Examples of tertiary amines include benzyldimethylamine, triethanolamine, and pyridine. Examples of quaternary ammonium salts include benzyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, and N-cetylpyridinium chloride. As imidazole, 2
- Methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, and the like. Examples of alkali metal hydroxides include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. Examples of the halogenated phosphonium salts include ethyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium chloride, and methyltriphenylphosphonium iodide. Examples of sulfonium salts include triphenylsulfonium chloride, benzyldimethylsulfonium chloride, and dimethylpropylsulfonium bromide. Examples of tertiary phosphine include triphenylphosphine and tributylphosphine. Organic titanate compounds include tetrapropyl titanate, tetrabutyl titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tolyl (dioctyl pyrophosphate) titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis ( ditridecyl phosphite) titanate, tetra(2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis(di-tridecyl) phosphite titanate, bis(dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis(dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate, Examples include tetraisopropyl titanate, tetraoctyl titanate, and tetrastearyl titanate. Examples of organic zirconium compounds include zirconium acetate, tetrakis(acetylacetonate)zirconium, di-normalpropoxy-acetylacetonyl-stearyloxyzirconium, stearylzirconium, acetylacetonatezirconium,
Examples include hydroxyzirconium tolyl (acetylacetonate).

これらの触媒をビスフェノールA型エポキシ樹脂 10
0!量部に対し、0. OO1〜0605重量部用いる
が、それより少ないと触媒効果がなく、それより多いと
樹脂中の不純物として硬化物の電気特性などに影響を与
える。
These catalysts are mixed with bisphenol A type epoxy resin 10
0! 0. OO1 to 0,605 parts by weight is used, but if it is less than that, there is no catalytic effect, and if it is more than that, it acts as an impurity in the resin and affects the electrical properties of the cured product.

シリコーン変性エポキシ樹脂の合成反応の温度は、10
0〜200℃が好ましい。100℃より低いと反応が遅
く、反応時間が10時間以上かかる。200℃より高い
と触媒効果がなくなり、またテトラブロモビスフェノー
ルAが分解しはじめる。
The temperature for the synthesis reaction of silicone-modified epoxy resin is 10
0 to 200°C is preferred. When the temperature is lower than 100°C, the reaction is slow and takes 10 hours or more. When the temperature is higher than 200°C, the catalytic effect is lost and tetrabromobisphenol A begins to decompose.

合成反応時間は何時間でもよいが、好ましくは2〜5時
間である。反応の終点はセチルトリメチルアンモニウム
ブロマイド−過塩素酸法によるエポキシ当量の測定によ
って確認される。測定したエポキシ当量が理論計算値の
90〜110%にあれば終点とする。90%未満では未
反応物が多(なって硬化が遅くなり、110%を越える
と高分子量物が多くなり、プリプレグの外観が悪くなる
ので、好ましくない。
The synthesis reaction time may be any number of hours, but is preferably 2 to 5 hours. The end point of the reaction is confirmed by measuring the epoxy equivalent by the cetyltrimethylammonium bromide-perchloric acid method. If the measured epoxy equivalent is between 90% and 110% of the theoretically calculated value, it is considered as the end point. If it is less than 90%, there will be a large amount of unreacted substances, resulting in slow curing, and if it exceeds 110%, there will be a large amount of high molecular weight substances, which will deteriorate the appearance of the prepreg, which is not preferable.

合成反応の際、不活性ガス置換はしてもしなくてもよい
During the synthesis reaction, inert gas substitution may or may not be performed.

反応副生成物であるメタノールは蒸留によって系外に除
去し、必要があれば減圧蒸留によって除去する。
Methanol, which is a reaction by-product, is removed from the system by distillation, and if necessary, by vacuum distillation.

以上の様にして得られたシリコーン変性エポキシ樹脂を
1〜100重量%用いる。1重量%未満であるとドリル
加工性の向上が見られない。
The silicone-modified epoxy resin obtained as described above is used in an amount of 1 to 100% by weight. If it is less than 1% by weight, no improvement in drill workability will be observed.

シリコーン変性エポキシ樹脂以外の成分として用いられ
るエポキシ樹脂の種類については特に制限はなく、例え
ば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型
エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ
樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポ
キシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダント
イン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂
、レゾルシン型エポキシ樹脂、およびそれらのハロゲン
化物、水素添加物などがあり、何種類かを併用すること
もできる。また、これらのエポキシ樹脂を混合する方法
、温度にも制限はない。
There is no particular restriction on the type of epoxy resin used as a component other than silicone-modified epoxy resin, and examples include bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin,
Phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, bisphenol F novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, isocyanate There are nurate-type epoxy resins, resorcinol-type epoxy resins, and their halides and hydrogenated products, and several types can be used in combination. Furthermore, there are no restrictions on the method or temperature for mixing these epoxy resins.

(b)の多官能フェノールとしては、エポキシ樹脂と重
合すればどのようなものでもよく、例えば、ビスフェノ
ールA1ビスフエノールF1ポリビニルフエノール、ま
たはフェノール、クレゾール、アルキルフェノールカテ
コール、ビスフェノールA1ビスフエノールFなどのノ
ボラック樹脂およびこれらのフェノール樹脂のハロゲン
化物などがある。これらのフェノール樹脂は、何種類か
を併用することもできる。配合量は、エポキシ基に対し
てフェノール性水酸基が0.5〜1.5当量の範囲であ
ることがドリル加工性の点から好ましい。
The polyfunctional phenol (b) may be of any type as long as it is polymerized with the epoxy resin, such as bisphenol A1 bisphenol F1 polyvinylphenol, or novolak resin such as phenol, cresol, alkylphenol catechol, bisphenol A1 bisphenol F, etc. and halides of these phenolic resins. Several types of these phenol resins can also be used in combination. The blending amount is preferably in the range of 0.5 to 1.5 equivalents of phenolic hydroxyl group to epoxy group from the viewpoint of drill workability.

(C)の硬化促進剤としては、イミダゾール化合物、有
機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩な
どが用いられるが、イミノ基をアクリロニトリル、イソ
シアネート、メラミンアクリレートなどでマスク化され
たイミダゾール化合物を用いると、従来の2倍以上の保
存安定性を持つプリプレグを得ることができる。
As the curing accelerator (C), imidazole compounds, organic phosphorus compounds, tertiary amines, quaternary ammonium salts, etc. are used, but imidazole compounds whose imino groups are masked with acrylonitrile, isocyanate, melamine acrylate, etc. By using this method, it is possible to obtain a prepreg that has storage stability that is more than twice that of conventional prepregs.

ここで用いられるイミダゾール化合物としては、イミダ
ゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウ
ンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミ
ダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4.5−ジ
フェニルイミダゾール、2−メチルイミダシリン、2−
フェニルイミダシリン、2−ウンデシルイミダシリン、
2−ヘプタデシルイミダシリン、2−イソプロピルイミ
ダゾール、2.4−ジメチルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダシリン
、2−イソプロピルイミダシリン、2.4−ジメチルイ
ミダシリン、2−フェニル−4−メチルイミダシリンな
どがあり、マスク化剤としては、アクリロニトリル、フ
ェニレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート
、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、メ
ラミンアクリレートなどがある。
The imidazole compounds used here include imidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole. , 4.5-diphenylimidazole, 2-methylimidacillin, 2-
Phenylimidacillin, 2-undecylimidacillin,
2-heptadecyl imidacilline, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-ethylimidacilline, 2-isopropylimidacilline, 2,4-dimethylimidacillin Examples of masking agents include acrylonitrile, phenylene diisocyanate, toluene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene bisphenyl isocyanate, and melamine acrylate.

これらの硬化促進剤は何種類かを併用してもよく、配合
量はエポキシ樹脂 100重量部に対し0.01〜5重
量部が好ましい。0.01重量部より少ないと促進効果
が小さく、5重量部より多いとドリル加工性が低下する
Several types of these curing accelerators may be used in combination, and the blending amount is preferably 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin. If it is less than 0.01 part by weight, the accelerating effect will be small, and if it is more than 5 parts by weight, drilling workability will be reduced.

(d)のカップリング剤は、銅箔引きはがし強さを向上
させるために必要なものであり、シランカップリング剤
、チタネートカップリング剤等が用いられるが、樹脂を
着色させない点で、シランカップリング剤が好ましい。
The coupling agent (d) is necessary to improve the peeling strength of the copper foil, and silane coupling agents, titanate coupling agents, etc. are used, but silane coupling agents, titanate coupling agents, etc. Ring agents are preferred.

シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルト
リエトキシシラン、T−グリシドキシプロピルメチルジ
メトキシシラン、N−β (アミノエチル)−r−アミ
ノプロピルメトキシシラン、T−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、N−ビニルベンジル−δ−アミノプロピルトリ
エトキシシランなどがあり、その他、エポキシ基、フェ
ノール性水酸基と反応する官能基を持ち、加水分解性の
アルコキシ基を同時に持つものであれば何でもよい。
Examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, T-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl)-r-aminopropyl Methoxysilane, T-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-vinylbenzyl-δ-aminopropyltriethoxysilane, etc., and other epoxy Any substance may be used as long as it has a functional group that reacts with a phenolic hydroxyl group and a hydrolyzable alkoxy group.

チタネートカップリング剤としては、イソプロピルトリ
イソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシ
ルベンゼンスルホニルチタネ−ト、イソプロピルトリス
(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトラ
イソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネー
ト、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)
チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−
1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファイトチタ
ネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシ
アセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフ
ェート)エチレンチタネートなどがあり、さらに低分子
量のチタネートでもかまわない。
Titanate coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tris(dioctyl pyrophosphate) titanate, tetraisopropyl bis(dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis(ditridecyl phosphite) )
Titanate, tetra(2,2-diallyloxymethyl-
Examples include 1-butyl)bis(di-tridecyl)phosphite titanate, bis(dioctylpyrophosphate)oxyacetate titanate, and bis(dioctylpyrophosphate)ethylene titanate, and titanates with lower molecular weights may also be used.

これらのカップリング剤の配合量は、エポキシ樹脂 1
00重量部に対し、0.1〜5重量部が好ましく、これ
より少ないと銅箔引きはがし強さに対する効果はなく、
これより多いと耐熱性、ドリル加工性が低下する。
The blending amount of these coupling agents is 1 epoxy resin.
0.00 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, and if it is less than this, there is no effect on the copper foil peeling strength,
If the amount is more than this, heat resistance and drill workability will deteriorate.

フェス作製の際の溶剤としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチル
アセトアミド、メタノール、エタノールなどがあり、こ
れらは、何種類かを混合して用いてもよい。
Solvents used in making the face include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, methanol, ethanol, etc. Some of these may be used in combination.

また、上記(a)、(b)、(c)、(d)は必須成分
であり、他の化合物を混合することも可能である。
Moreover, the above (a), (b), (c), and (d) are essential components, and it is also possible to mix other compounds.

上記(a)、(b)、(c)、(d)を配合して得たフ
ェスをガラス布またはガラス不織布等の基材に含有後、
乾燥炉中で80〜200℃の範囲で乾燥させ、印刷配線
板用プリプレグを得る。プリプレグは、加熱加圧して印
刷配線板または金属張積層板を製造することに用いられ
る。
After incorporating the fest obtained by blending the above (a), (b), (c), and (d) into a base material such as glass cloth or glass nonwoven fabric,
It is dried in a drying oven at a temperature of 80 to 200°C to obtain a prepreg for printed wiring boards. Prepreg is used to manufacture printed wiring boards or metal-clad laminates by heating and pressing.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を記載する。 Examples of the present invention will be described below.

本発明に使用したエポキシ樹脂を以下の様に合成した。The epoxy resin used in the present invention was synthesized as follows.

シリコーン゛ エポキシ 月L= エポキシ当量 175のビスフェノールA型エポキシ樹
脂 4300 g、テトラブロモビスフェノールA  
2650g、KR9218(商品名:信越化学工業(株
)製、メトキシ基当量 210のシリコーン中間体)4
20g、テトラメチルアンモニウムクロライド 0.5
gを混合攪拌し、温度 160℃に2時間保った。その
間、系中の揮発分を減圧除去した。エポキシ当量 58
4のシリコーン変性エポキシ樹脂Aを得た。
Silicone epoxy Month L = Epoxy equivalent weight 175 Bisphenol A type epoxy resin 4300 g, Tetrabromobisphenol A
2650 g, KR9218 (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., silicone intermediate with a methoxy group equivalent weight of 210) 4
20g, tetramethylammonium chloride 0.5
The mixture was mixed and stirred and kept at a temperature of 160°C for 2 hours. During that time, volatile components in the system were removed under reduced pressure. Epoxy equivalent weight 58
Silicone-modified epoxy resin A of No. 4 was obtained.

シリコーン゛性エポキシ 旨B: エポキシ当量 190のビスフェノールA型エポキシ樹
脂 3600 g、テトラブロモビスフェノールA  
2600g、KR213(商品名:信越化学工業(株)
製、メトキシ基当量 157のシリコーン中間体”)3
15g、テトラブチルホスホニウムクロライド 0.4
0 gを混合攪拌し、温度 130℃に3時間保った。
Silicone epoxy Item B: Bisphenol A type epoxy resin with epoxy equivalent weight 190 3600 g, tetrabromobisphenol A
2600g, KR213 (Product name: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
silicone intermediate with a methoxy group equivalent weight of 157”) 3
15g, tetrabutylphosphonium chloride 0.4
0 g were mixed and stirred and kept at a temperature of 130°C for 3 hours.

その間、系中の揮発分を減圧除去した。エポキシ当量 
568のシリコーン変性エポキシ樹脂Bを得た。
During that time, volatile components in the system were removed under reduced pressure. Epoxy equivalent
568 silicone-modified epoxy resin B was obtained.

シリコーン゛ エポキシ ヒC: エポキシ当量 190のビスフェノールA型エポキシ樹
脂 4300 g、テトラブロモビスフェノールA  
2200g、KR217(商品名:信越化学工業(株)
製、メトキシ基当量 263のシリコーン中間体)42
0g、テトラプロピルチタネート 1.0gを混合攪拌
し、温度 工8,0℃に1時間保った。その間、系中の
揮発分を減圧除去した。エポキシ当量 563のシリコ
ーン変性エポキシ樹脂Cを得た。
Silicone Epoxy C: Bisphenol A type epoxy resin with epoxy equivalent weight 190 4300 g, tetrabromobisphenol A
2200g, KR217 (Product name: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(silicone intermediate with methoxy group equivalent weight 263) 42
0g of tetrapropyl titanate and 1.0g of tetrapropyl titanate were mixed and stirred and kept at a temperature of 8.0°C for 1 hour. During that time, volatile components in the system were removed under reduced pressure. A silicone-modified epoxy resin C having an epoxy equivalent weight of 563 was obtained.

エポキシ樹脂D: エポキシ当量 175のビスフェノールA型エポキシ樹
脂 4300g、テトラブロモビスフェノールA  2
650g、テトラメチルアンモニウムクロライド 0.
25 gを混合攪拌し、温度 160℃に2時間保った
。その間、系中の揮発分を減圧除去した。エポキシ当量
 550のエポキシ樹脂りを得た。
Epoxy resin D: 4300 g of bisphenol A type epoxy resin with epoxy equivalent weight of 175, tetrabromobisphenol A 2
650g, tetramethylammonium chloride 0.
25 g were mixed and stirred and kept at a temperature of 160°C for 2 hours. During that time, volatile components in the system were removed under reduced pressure. An epoxy resin having an epoxy equivalent weight of 550 was obtained.

以上得られたエポキシ樹脂を用いて表1に示す配合でフ
ェスを作製した。
A festival was made using the epoxy resin obtained above according to the formulation shown in Table 1.

上記実施例1〜4、比較例1および2のワニスを0.1
鶴厚のガラス布に含浸させ、120℃、10分間乾燥し
てプリプレグを得た。
The varnishes of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 above were added to 0.1
A thick glass cloth was impregnated and dried at 120° C. for 10 minutes to obtain a prepreg.

上記プリプレグ15枚と厚さ35μmの銅箔6枚を用い
て170℃で60分間、加熱加圧成形して6層印刷配線
板を作製し、ドリル加工性、銅箔引きはがし強さ、はん
だ耐熱性、プリプレグの保存安定性の試験を行った。ド
リル加工性試験は、6N印刷配線板を回転数 60kr
pm、送り速度3、0 m/+++in 、穴径 1.
 Otm、重ね枚数 2枚で12000hitsまで穴
あけし、スミア発生率の測定を行った。
Using 15 sheets of the above prepreg and 6 sheets of copper foil with a thickness of 35 μm, a 6-layer printed wiring board was fabricated by heat-pressing molding at 170°C for 60 minutes, and the results showed drill workability, copper foil peeling strength, and solder heat resistance. The properties and storage stability of the prepreg were tested. Drill workability test was conducted using a 6N printed wiring board at a rotation speed of 60 kr.
pm, feed rate 3, 0 m/+++in, hole diameter 1.
Holes were punched up to 12,000 hits using two stacked sheets and the smear occurrence rate was measured.

特性試験結果を表2に示す。The characteristics test results are shown in Table 2.

測定はJIS  C−6481に準じて行った。The measurement was performed according to JIS C-6481.

1) スミア発生率評価法 ドリル加工した6層配線板にスルーホールメッキをほど
こし、スルーホール部の切断面を顕微鏡にて5000h
its、 10000hits付近の20穴の内層銅と
スルーホールメッキ銅との接続部分を観察し、スミア発
生率を評価した。スミア発生率は、1接続箇所ごとに、
接続高さに対する発生しているスミアの高さの割合を算
出し、平均した。
1) Smear incidence rate evaluation method Through-hole plating was applied to a drilled 6-layer wiring board, and the cut surface of the through-hole part was examined using a microscope for 5000 hours.
The connection portion between the inner layer copper of 20 holes and the through-hole plated copper near 10,000 hits was observed, and the smear occurrence rate was evaluated. The smear incidence rate for each connection point is
The ratio of the height of the generated smear to the connection height was calculated and averaged.

tゝ 銅箔引きはがし強さ測定法 外層銅箔上に10fi幅のラインを形成し、そのライン
の90°方向の引きはがし強さを、50m/minの引
きはがし速度で測定した。
t. Copper Foil Peeling Strength Measuring Method A 10fi wide line was formed on the outer layer copper foil, and the peeling strength in the 90° direction of the line was measured at a peeling speed of 50 m/min.

′  内層銅引きはがし強さ測定法 内層銅箔の光沢面に酸化銅処理を行い、その酸化銅処理
面とプリプレグ層との引きはがし強さを、2)と同様の
条件で測定した。
' Inner layer copper peel strength measurement method The glossy surface of the inner layer copper foil was treated with copper oxide, and the peel strength between the copper oxide treated surface and the prepreg layer was measured under the same conditions as in 2).

4) はんだ耐熱性 260℃のはんだに、20秒間浸漬後、外観を目視によ
り評価し、ふ(れのないものをOK、ふくれのあるもの
をNGとした。
4) Solder Heat Resistance After immersing in solder at 260° C. for 20 seconds, the appearance was visually evaluated, and those with no blisters were rated OK, and those with blisters were rated NG.

I プリプレグゲルタイム 塗工直後のプリプレグの160℃でのゲルタイムを初期
値とし、温度 20℃、湿度 40%の条件で60日間
保管後のプリプレグの160℃でのゲルタイムを測定し
た。
I Prepreg Gel Time The gel time at 160°C of the prepreg immediately after coating was taken as the initial value, and the gel time at 160°C of the prepreg after being stored for 60 days at a temperature of 20°C and a humidity of 40% was measured.

以下余白 表2に示されるように、シリコーン変性エポキシ樹脂、
フェノール樹脂を用いた実施例1〜4では、ジシアンジ
アミドを用いた比較例2よりもスミア発生率が低いこと
がわかる。比較例1は、シリコーン変性エポキシ樹脂を
使用していないので、スミア発生率が実施例1〜4に比
べ高い。
As shown in Margin Table 2 below, silicone-modified epoxy resin,
It can be seen that in Examples 1 to 4 using phenol resin, the smear occurrence rate is lower than in Comparative Example 2 using dicyandiamide. Comparative Example 1 did not use silicone-modified epoxy resin, so the smear occurrence rate was higher than in Examples 1 to 4.

実施例1〜4は、カップリング剤を添加し、促進剤とし
てマスク化イミダゾールを使用しているので、銅箔引き
はがし強さ、保存安定性は良好である。比較例1はカッ
プリング剤、マスク化イミダゾールを使用していないの
で、はがし強さ、保存安定性が劣る。
In Examples 1 to 4, since a coupling agent was added and masked imidazole was used as an accelerator, the copper foil peeling strength and storage stability were good. Comparative Example 1 does not use a coupling agent or a masked imidazole, and therefore has poor peel strength and storage stability.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

このように、本発明の印刷配線板用プリプレグは、従来
技術に比べ、多層配線板のドリル加工性および銅箔引き
はがし強さ、さらにプリプレグの保存安定性が向上した
As described above, the prepreg for printed wiring boards of the present invention has improved drilling workability and copper foil peeling strength of multilayer wiring boards, as well as storage stability of the prepreg, as compared to the conventional technology.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(a)ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラブ
ロモビスフェノールAおよびメト キシ基含有シリコーン中間体を反応させ て得られるシリコーン変性エポキシ樹脂 を1〜100重量%含むエポキシ樹脂、 (b)多官能フェノール、 (c)硬化促進剤および (d)カップリング剤 を必須成分として配合したワニスを基材に含浸後、乾燥
させることを特徴とする印刷配線板用プリプレグの製造
方法。 2、硬化促進剤がイミノ基がマスクされたイミダゾール
化合物である特許請求の範囲第1項記載の印刷配線板用
プリプレグの製造方法。
[Scope of Claims] 1. (a) An epoxy resin containing 1 to 100% by weight of a silicone-modified epoxy resin obtained by reacting a bisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol A, and a methoxy group-containing silicone intermediate, (b 1. A method for producing a prepreg for a printed wiring board, which comprises impregnating a base material with a varnish containing as essential components a) polyfunctional phenol, (c) a curing accelerator, and (d) a coupling agent, and then drying the varnish. 2. The method for producing a prepreg for a printed wiring board according to claim 1, wherein the curing accelerator is an imidazole compound with masked imino groups.
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