JPS61250928A - Gas phase ion source - Google Patents

Gas phase ion source

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JPS61250928A
JPS61250928A JP9183085A JP9183085A JPS61250928A JP S61250928 A JPS61250928 A JP S61250928A JP 9183085 A JP9183085 A JP 9183085A JP 9183085 A JP9183085 A JP 9183085A JP S61250928 A JPS61250928 A JP S61250928A
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JP
Japan
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emitter
container
ion source
high voltage
lead
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Yoshizo Sakuma
佐久間 美三
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Jeol Ltd
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Jeol Ltd
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/26Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/022Details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/06Sources
    • H01J2237/08Ion sources
    • H01J2237/0802Field ionization sources
    • H01J2237/0807Gas field ion sources [GFIS]

Abstract

PURPOSE:To fully cool an emitter and a lead-out electrode that are kept at high voltage by insulating supporting it, a container that accommodates coolant from ground potential, and providing an electric field relaxing ring around the container so as to form a structure for supplying the coolant. CONSTITUTION:A gas phase ion source is formed so that helium gas can be supplied on the tip of an emitter chip 1 provided in a coolant bath 3 that is cooled by liquid helium through a pipe 16 and be ionized, and then said ion source is drawn out by a lead-out electrode 7 that is cooled by liquid nitrogen. In this case, a container 5D in which liquid helium is contained is connected to the coolant bath 3 through a metal tube 5 and a container 11D in which liquid nitrogen is contained is connected to the lead-out electrode 7 through a metal tube 11. In addition, the containers 5D and 11D are insulated from ground potential by insulators 28A and 28B supported by them, and an electric field relaxing ring is provided around it in a cage form. As a result, an emitter 1 and the lead-out electrode 7 that are set at high voltage can fully be cooled.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、イオンビーム描画装置等のイオンビーム装置
への使用に最適なガスフェーズイオン源に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a gas phase ion source that is most suitable for use in an ion beam device such as an ion beam lithography device.

[従来の技術] 最近、ガスフェーズイオン源を用いたイオンビーム装置
が開発されている。
[Prior Art] Recently, ion beam devices using gas phase ion sources have been developed.

このガスフェーズイオン源は、先端が鋭く形成されたエ
ミッタチップを、4°に程度に冷部すると共に、チップ
先端に例えば、ヘリウムガスを供給し、先端に付着した
ヘリウムガス分子を電界によって電離させ、イオン化す
るイオン源である。
This gas phase ion source cools an emitter tip with a sharp tip to about 4 degrees, supplies helium gas, for example, to the tip, and ionizes helium gas molecules attached to the tip by an electric field. , is an ion source that ionizes.

[発明が解決しようとする問題点] さて、このイオン源において、エミッタチップを効率良
く4゛に程度に冷却する事が望まれる。
[Problems to be Solved by the Invention] Now, in this ion source, it is desired to efficiently cool the emitter tip to about 4°.

その為、容器に収容された例えば液体ヘリウム等の冷媒
を、導管を介してエミッタチップを冷却するための冷媒
槽に導くことが考えられるが、エミッタは高電圧に浮い
ているため、従来においては適切な冷却手段が無かった
Therefore, it is conceivable to introduce a refrigerant such as liquid helium contained in a container through a conduit to a refrigerant bath for cooling the emitter chip, but since the emitter is floating at a high voltage, conventionally There was no proper means of cooling.

本発明は、この様な問題を解決する事を目的としたもの
である。
The present invention aims to solve such problems.

[問題点を解決するための手段] そこで、本発明は高電圧に保持されたエミツタと、該エ
ミッタの先端部近傍にイオン化されるガスを供給する手
段と、該エミッタに対向して配置され高電圧に保持され
た引出電極とを備えたイオン源において、該エミッタ又
は該引出電極を冷却するための冷媒を収容し高電圧に浮
いた容器と、該容器から該エミッタ又は該引出電極近傍
まで該冷媒を輸送するための導管と、該容器を大地電位
から絶縁して支持するための架台と、該容器を取り囲む
ように設番ノられた電界緩和リングとを備えたことを特
徴としている。
[Means for Solving the Problems] Therefore, the present invention provides an emitter held at a high voltage, a means for supplying ionized gas near the tip of the emitter, and a high-voltage emitter disposed opposite to the emitter. In an ion source equipped with an extraction electrode held at a voltage, a container containing a refrigerant for cooling the emitter or the extraction electrode and floating at a high voltage, and a container that extends from the container to the vicinity of the emitter or the extraction electrode are provided. It is characterized by comprising a conduit for transporting a refrigerant, a pedestal for supporting the container while insulating it from the ground potential, and an electric field relaxation ring arranged to surround the container.

[実施例] 第1図は、本発明の一実施例として示したイオンビーム
装璽の概略図である。
[Embodiment] FIG. 1 is a schematic diagram of an ion beam arrangement shown as an embodiment of the present invention.

図中1はエミッタチップで、その先端は、数百〜数千オ
ングストロームの曲率半径を持つ超微小円状に形成され
ている。2は、このチップを保持する為の熱良導体製の
ホルダで、環状の冷媒槽3の中央部に着脱出来る様に取
付けられている。この冷媒槽3は、図示しないが、何ら
かの保持体によって、鏡n4の上部に固定されている。
In the figure, reference numeral 1 denotes an emitter chip, the tip of which is formed in the shape of an ultra-fine circle with a radius of curvature of several hundred to several thousand angstroms. Reference numeral 2 denotes a holder made of a good thermal conductor for holding this chip, and is detachably attached to the center of the annular refrigerant tank 3. Although not shown, this refrigerant tank 3 is fixed to the upper part of the mirror n4 by some kind of holder.

又、この冷媒槽には、容器5Dから金属製チューブ5を
通じて液体ヘリウムが供給されると同時に、ここで気化
したヘリウムガスがバイブロを通じて外部へ排出される
。後述するように冷媒槽3は高電圧に浮いているため、
容器5Dも高電圧に浮かされている。7は前記チップ1
に対向して配置された引出電極で、中央部に小孔が開け
られている。この引出電極は、絶縁材料により形成され
た支持台8の上面に固定されている。この支持台は、環
状に形成されており、その中央部には、円錐台形状の孔
9が開けられている。そして、この孔の内面は熱良導体
9Gで形成されている。この円錐台形状の孔の一番任の
小さい部分が前記引出電極の小孔と略同じ大きざである
。この支持台の内部の空間部8Sには、容器11Dから
熱交換器10及び金Iil製チューブ11を通じて液体
窒素が供給されると同時に、この空間部8Sで気化した
窒素ガスは、パイプ12を通じて排出される。支持台7
も後述するように高電圧に浮いているため、容器11D
も高電圧に浮かされている。13.14は夫々、前記鏡
筒4の側壁と冷“媒槽3との間に固定されたベローズ、
前記鏡筒の側壁と支持台8との間に固定されたベローズ
である。これらのベローズ13.14によって鏡筒上部
において隔離された空間Aは、空間BとCとから熱的に
絶縁される。
Further, liquid helium is supplied from the container 5D to the refrigerant tank through the metal tube 5, and at the same time, the helium gas vaporized here is discharged to the outside through the vibro. As will be described later, since the refrigerant tank 3 is floating at a high voltage,
Container 5D is also floated at high voltage. 7 is the chip 1
A small hole is made in the center of the extraction electrode placed opposite to the electrode. This extraction electrode is fixed to the upper surface of a support base 8 made of an insulating material. This support base is formed in an annular shape, and a truncated conical hole 9 is bored in the center thereof. The inner surface of this hole is made of a good thermal conductor 9G. The smallest part of this truncated conical hole has approximately the same size as the small hole of the extraction electrode. Liquid nitrogen is supplied from the container 11D to the space 8S inside the support base through the heat exchanger 10 and the gold-Iil tube 11, and at the same time, nitrogen gas vaporized in the space 8S is discharged through the pipe 12. be done. Support stand 7
As will be described later, since the container 11D is floating at a high voltage,
is also exposed to high voltage. 13 and 14 are bellows fixed between the side wall of the lens barrel 4 and the refrigerant tank 3, respectively;
This is a bellows fixed between the side wall of the lens barrel and the support base 8. The space A isolated in the upper part of the lens barrel by these bellows 13, 14 is thermally insulated from the spaces B and C.

そして、空間BとCはバイパス管15によって繋がれて
いる°。16は、前記熱交換器10を通じて送られて来
るヘリウムガスを、前記空l1IA内のエミッタチップ
1の周辺に導く為のパイプである。
Spaces B and C are connected by a bypass pipe 15. 16 is a pipe for guiding the helium gas sent through the heat exchanger 10 to the periphery of the emitter chip 1 in the space 11IA.

17は集束レンズ、18a、18b、・・・・・・・・
・、18jは加速電極である。19はブランキング用電
極、20はブランキング用絞りである。21は対物レン
ズ°、22は、ヘリウムイオンのターゲット23上の位
置を制御する偏向器である。24は、前記加速電極18
a、18b、・・・・・・・・・、18jに夫々印加さ
れる加速電圧の分圧電圧を決定する為の分圧抵抗体であ
る。この分圧抵抗体の一端pは前記引出電極6に繋がっ
ており、他端は大地に繋がっている。25は前記ホルダ
2と引出電極6との間に印加する引出電圧を発生する可
変引出電源、26は前記分圧抵抗体24の一端pと大地
間に印加される加速電圧を発生する加速電源である。2
7は前記引出%fll!25と加速電源26の出力電圧
を表わす信号が供給され、両信号の和が所定の設定値に
なる様に加速電源26の出力電圧をコントロールする制
御回路である。
17 is a focusing lens, 18a, 18b, etc.
. , 18j are accelerating electrodes. 19 is a blanking electrode, and 20 is a blanking aperture. 21 is an objective lens, and 22 is a deflector that controls the position of helium ions on the target 23. 24 is the acceleration electrode 18
This is a voltage dividing resistor for determining the divided voltage of the acceleration voltage applied to each of a, 18b, . . . , 18j. One end p of this voltage dividing resistor is connected to the extraction electrode 6, and the other end is connected to the ground. 25 is a variable extraction power source that generates an extraction voltage to be applied between the holder 2 and the extraction electrode 6; 26 is an acceleration power source that generates an acceleration voltage that is applied between one end p of the voltage dividing resistor 24 and the ground. be. 2
7 is the withdrawal %fll! This control circuit is supplied with signals representing the output voltages of the accelerating power source 25 and the accelerating power source 26, and controls the output voltage of the accelerating power source 26 so that the sum of both signals becomes a predetermined set value.

さて、前記冷媒槽3に金属製チューブ5を介して液体ヘ
リウムを供給する機構、及び前記支持台8の空間部8S
内に金屑製チューブ11を介して液体窒素を供給する機
構は以下の様に構成されている。
Now, a mechanism for supplying liquid helium to the refrigerant tank 3 via the metal tube 5, and a space 8S of the support base 8.
The mechanism for supplying liquid nitrogen into the interior through the metal scrap tube 11 is constructed as follows.

液体ヘリウムを収容した容器5Dと液体窒素を収容した
容器110は、第2図に示す様に共に安定度のある碍子
28A、28Bを介して、大地電位に対し絶縁した絶縁
架台2つの上に載せられている。これらの碍子は、イオ
ンビーム装置鏡体の近傍の床30の上に鉄板31を介し
て置かれている。この床は大地電位にある。この絶縁架
台の周辺には、前記容器5D、11Dを取り囲んで電界
緩和リング32が桟状に設けられている。又、これらの
容器に対する振動を除去する為に、架台の上面には防振
用ゴムシート33が敷かれている。
As shown in FIG. 2, the container 5D containing liquid helium and the container 110 containing liquid nitrogen are placed on two insulating stands insulated from ground potential via stable insulators 28A and 28B. It is being These insulators are placed on a floor 30 near the mirror body of the ion beam device with an iron plate 31 interposed therebetween. This floor is at earth potential. Around this insulating stand, an electric field relaxation ring 32 is provided in the shape of a bar, surrounding the containers 5D and 11D. Further, in order to eliminate vibrations to these containers, a vibration-proofing rubber sheet 33 is laid on the top surface of the pedestal.

前記金属製チューブ5,11は、外部への安全性を考慮
して、表面電界強度が1にボルト/mm程度になる様な
径(30mm)のものが選ばれる。
The metal tubes 5 and 11 are selected to have a diameter (30 mm) such that the surface electric field strength is approximately 1 volt/mm in consideration of safety to the outside.

液体ヘリウム、液体窒素を夫々容器5D、11Dから送
りだすための圧力を得るため、これらの容器5D、11
Dは、夫々、ヘリウムガスボンベ5B、窒素ガスボンベ
11Bによって圧力を掛けられている。これらのガスボ
ンベは大地電位にあるが、これらのガスは上記圧力にお
いて、0.6にボルト/mm程度の電界にしか耐えられ
ないので、夫々の容°器とボンベを接続するためのため
のナイロン製チューブ5T、11Tは1m程度の長さを
与えられている。
In order to obtain pressure for sending liquid helium and liquid nitrogen from the containers 5D and 11D, respectively, these containers 5D and 11
D is pressurized by a helium gas cylinder 5B and a nitrogen gas cylinder 11B, respectively. Although these gas cylinders are at ground potential, these gases can only withstand an electric field of about 0.6 volts/mm at the above pressure, so nylon is used to connect each container to the cylinder. The manufactured tubes 5T and 11T are given a length of about 1 m.

この様な装置において、容器5D、11Dからの液体ヘ
リウム、液体窒素を金ff1lllチューブ5゜11を
通じて、冷媒槽3.熱交換器10へ供給する。この熱交
換器に供給された液体窒素は、金属製チューブ11を通
じて支持台8の内部に供給される。液体ヘリウムが供給
された冷却槽3に接したホルダ2は、充分に冷され、エ
ミッタチップ1は4°に程度に冷却される。そして、熱
交換器10内で充分冷やされたヘリウムガスがバイア1
6を通じて空間A内に導かれ、そのガス分子が前記チッ
プ先端に付着する。この時、ホルダ2と引出電極7との
間に、引出電源25から引出電圧が、加速電極18a 
(引出電極7)との間に加速電源26から加速電圧が夫
々印加される。こうして、引出電圧印加により、ヘリウ
ムイオンが引出され、加速電圧印加によって、ターゲッ
ト方向に加速される。このイオン引出時、エミッタチッ
プ1からのイオンが、引出電極7に当るが、この引出電
極は支持台8によって冷されているので、この引出電極
からエミッタ1への輻射熱が無い。従って、エミッタの
温度上昇が防止される。
In such an apparatus, liquid helium and liquid nitrogen from containers 5D and 11D are passed through gold tubes 5°11 to refrigerant tanks 3. Supplied to heat exchanger 10. The liquid nitrogen supplied to this heat exchanger is supplied to the inside of the support base 8 through the metal tube 11. The holder 2 in contact with the cooling bath 3 supplied with liquid helium is sufficiently cooled, and the emitter chip 1 is cooled to about 4 degrees. Then, the helium gas sufficiently cooled in the heat exchanger 10 is transferred to the via 1.
6 into the space A, and the gas molecules adhere to the tip of the tip. At this time, an extraction voltage is applied between the holder 2 and the extraction electrode 7 from the extraction power source 25 to the accelerating electrode 18a.
(Extracting electrode 7), an acceleration voltage is applied from an acceleration power supply 26 between each of them. In this way, helium ions are extracted by applying an extraction voltage, and accelerated toward the target by applying an accelerating voltage. During this ion extraction, ions from the emitter chip 1 hit the extraction electrode 7, but since this extraction electrode is cooled by the support 8, there is no radiant heat from this extraction electrode to the emitter 1. Therefore, an increase in temperature of the emitter is prevented.

さて、前記容器5D、11Dは金属製チューブ5゜11
を冷媒槽3.支持台8と接続されているため、これら冷
媒槽3.支持台8と同電位にあるが、碍子28A、28
Bにより大地と絶縁されているため、大地側との絶縁を
安全に確保することができる。又、これらの容器5D、
110の形状や加工が不十分なためその表面に突起が存
在し、この突起部分に電界が集中して、大地側との間に
放電が生ずる恐れがあるが、容器5D、110は桟状に
電界緩和リング32によって囲まれているため、電界緩
和リングの外部に放電の原因になる強電界が漏れ出るこ
とが無い。
Now, the containers 5D and 11D are metal tubes 5°11
Refrigerant tank 3. Since it is connected to the support stand 8, these refrigerant tanks 3. Although it is at the same potential as the support stand 8, the insulators 28A and 28
Since it is insulated from the ground by B, insulation from the ground side can be safely ensured. Moreover, these containers 5D,
Due to the insufficient shape and processing of 110, there are protrusions on its surface, and there is a risk that the electric field will be concentrated on these protrusions and an electric discharge will occur between the container 5D and the ground. Since it is surrounded by the electric field relaxation ring 32, a strong electric field that causes discharge will not leak outside the electric field relaxation ring.

[発明の効果] 本発明によれば、高電圧に保持されたエミッタ又は引出
電極を充分冷部することができ、又、冷媒容器と大地側
との放電も防止することができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, the emitter or extraction electrode held at a high voltage can be sufficiently cooled, and electric discharge between the refrigerant container and the ground side can also be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の一実施例として示したイオンビーム
装置の概略図、第2図は、その装置の一部概略図である
。 1:エミッチチツブ  2:ホルダ  3:冷媒槽  
4:鏡筒  5.11:金属製チューブ  5D、11
0:容器  5T、11T:ナイロンチューブ  5B
:ヘリウムガスボンベ11B:窒素ガスボンベ  6.
12.16:バイブ  7:支持台  8:空間部  
9:孔9G:熱良導体  10:熱交換器  13゜1
4:ベローズ  15:バイパス管  17:集束レン
ズ  18a、18b、−−−−−−,18j :加速
電極  19ニブランキング用電極  20ニブランキ
ング用絞り  21:対物レンズ  22:偏向器  
23:・ターゲット  24:分圧抵抗体  25:引
出型!   26:加速電源27:制御回路  28A
、28B:碍子29:絶縁架台  30;床  31:
・鉄板32:電界緩和リング  33:防振用ゴムシー
FIG. 1 is a schematic diagram of an ion beam apparatus shown as an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial schematic diagram of the apparatus. 1: Emitch tip 2: Holder 3: Refrigerant tank
4: Lens barrel 5.11: Metal tube 5D, 11
0: Container 5T, 11T: Nylon tube 5B
: Helium gas cylinder 11B: Nitrogen gas cylinder 6.
12.16: Vibrator 7: Support stand 8: Space part
9: Hole 9G: Good thermal conductor 10: Heat exchanger 13゜1
4: Bellows 15: Bypass pipe 17: Focusing lens 18a, 18b, -------, 18j: Accelerating electrode 19 Niblanking electrode 20 Niblanking aperture 21: Objective lens 22: Deflector
23: Target 24: Voltage dividing resistor 25: Drawer type! 26: Acceleration power supply 27: Control circuit 28A
, 28B: Insulator 29: Insulating frame 30; Floor 31:
・Iron plate 32: Electric field relaxation ring 33: Rubber sheet for vibration isolation

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 高電圧に保持されたエミッタと、該エミッタの先端部近
傍にイオン化されるガスを供給する手段と、該エミッタ
に対向して配置され高電圧に保持された引出電極とを備
えたイオン源において、該エミッタ又は該引出電極を冷
却するための冷媒を収容し高電圧に浮いた容器と、該容
器から該エミッタ又は該引出電極近傍まで該冷媒を輸送
するための導管と、該容器を大地電位から絶縁して支持
するための架台と、該容器を取り囲むように設けられた
電界緩和リングとを備えたことを特徴とするガスフェー
ズイオン源。
An ion source comprising an emitter held at a high voltage, means for supplying ionized gas near the tip of the emitter, and an extraction electrode placed opposite the emitter and held at a high voltage, A container containing a refrigerant for cooling the emitter or the extraction electrode and floating at a high voltage; a conduit for transporting the refrigerant from the container to the vicinity of the emitter or the extraction electrode; A gas phase ion source comprising: a pedestal for insulating support; and an electric field relaxation ring surrounding the container.
JP9183085A 1985-04-27 1985-04-27 Gas phase ion source Granted JPS61250928A (en)

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