JPS6123537B2 - - Google Patents
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- JPS6123537B2 JPS6123537B2 JP52007354A JP735477A JPS6123537B2 JP S6123537 B2 JPS6123537 B2 JP S6123537B2 JP 52007354 A JP52007354 A JP 52007354A JP 735477 A JP735477 A JP 735477A JP S6123537 B2 JPS6123537 B2 JP S6123537B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、カメラ用シヤツタ装置の改良に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to improvements in shutter devices for cameras.
設定絞り口径の如何に係わらず、シヤツタ羽根
が必ず全開位置まで運動する形式のシヤツタ装置
においては、絞り口径により有効露出時間に誤差
を生じることは周知の通りである。 It is well known that in a shutter device in which the shutter blades always move to the fully open position regardless of the set aperture aperture, an error occurs in the effective exposure time depending on the aperture aperture.
例えば、第１図、第３図に示す如く、シヤツタ
羽根の立上り、立下り特性が２ｍsec、である
と、露出時間を1/250秒とした時、全開のF5.6に
比べ、３段絞つてF16とすると、露出量が約
0.54Ev分だけ過度となる。 For example, as shown in Figures 1 and 3, if the rise and fall characteristics of the shutter blade are 2 msec, when the exposure time is 1/250 second, compared to a fully open F5.6, the aperture is 3 stops. If you set it to F16, the amount of exposure will be approx.
It becomes excessive by 0.54Ev.
また、最高速秒時は、絞り全開時のシヤツタ効
率で決まり、第２図、第３図に示す如く、そのシ
ヤツタ効率が66.7％となるように設定すると、1/
２５０秒が限界となる。 Furthermore, the maximum speed in seconds is determined by the shutter efficiency when the aperture is fully open, and as shown in Figures 2 and 3, if the shutter efficiency is set to 66.7%, then 1/
The limit is 250 seconds.
本発明は、上記の点に鑑み、全閉位置より全開
位置へ向つて運動するシヤツタ羽根を、設定絞り
口径位置で停止させ、所定秒時後に該シヤツタ羽
根をその停止位置より全閉位置に向つて運動させ
るようにし、有効露出時間に誤差を生じさせない
ようにすると共に、シヤツタ効率を落さずに高速
秒時が得られるようにしたカメラ用シヤツタ装置
を提供するものである。 In view of the above-mentioned points, the present invention causes the shutter blades moving from the fully closed position to the fully open position to stop at the set aperture aperture position, and after a predetermined time, moves the shutter blades from the stopped position to the fully closed position. To provide a shutter device for a camera, which allows the camera to move the shutter so as not to cause an error in effective exposure time, and to obtain a high speed without reducing shutter efficiency.
以下図面に基づいて、本発明の実施例を説明す
る。 Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.
先ず第５図、第６図及び第７図において、１は
アパーチヤ、２は５枚一組のシヤツタ羽根で、シ
ヤツタプレートの穴に嵌合する支点ピン２ａを植
設していると共に、スロツト２ｂを形成してい
る。３はセクターリングで、該スロツト２ｂに嵌
合するピン３ａを植設していると共に、遮光部３
ｂとスロツト３ｃを形成している。４は絞り口径
設定連動リングで、遮光部４ａを形成している。
Ｍはモータで、固定的に巻装配置された開きコイ
ルL1、閉じコイルL2と永久磁石回転子MRとから
構成されており、該回転子MRに固定された作動
腕Ｈが前記セクターリング３のスロツト３ｃに嵌
合している。PT1，PT2，PT3はホトトランジス
タ、５はマスク、LPはランプで、マスク５、各
リングの遮光部３ｂ，４ａを介してホトトランジ
スタPT1〜PT3に対向配置されている。 First, in FIGS. 5, 6, and 7, 1 is an aperture, 2 is a set of five shutter blades, and has a fulcrum pin 2a that fits into a hole in the shutter plate, and a slot. 2b is formed. 3 is a sector ring, in which a pin 3a that fits into the slot 2b is installed, and a light shielding part 3 is installed.
b and a slot 3c. Reference numeral 4 denotes an aperture aperture setting interlocking ring, which forms a light shielding portion 4a.
M is a motor, which is composed of an open coil L 1 , a closed coil L 2 and a permanent magnet rotor MR, which are fixedly wound and arranged, and an operating arm H fixed to the rotor MR is connected to the sector ring. It fits into the slot 3c of No. 3. PT 1 , PT 2 , PT 3 are phototransistors, 5 is a mask, and LP is a lamp, which are arranged to face the phototransistors PT 1 to PT 3 via the mask 5 and the light shielding portions 3b and 4a of each ring.
Ｓはシヤツタレリーズのためのスイツチ、
OSM１，OSM２，OSM３はワンシヨツトマルチ
バイブレータ回路（以下単に符号のみで記述す
る）、Ｆ・Ｆはフイリツプ・フロツプ回路（以下
単に符号のみで記述する）、C1及びR1は露出時間
制御用の遅延回路を構成するコンデンサ及び可変
低抗、R2，R3は露出時間制御用の基準電圧回路
を構成する抵抗、CPはコンパレータ、AGはアン
ドゲート、Q1，Q2及びQ3はトランジスタ、Ａは
増幅器、I1はNPNトランジスタのオープンコレク
タ出力タイプのインバータ、I2はインバータであ
る。 S is a switch for shutter release,
OSM1, OSM2, and OSM3 are one-shot multivibrator circuits (hereinafter simply described with only the symbols), F and F are flip-flop circuits (hereinafter simply described with only the symbols), and C1 and R1 are for exposure time control. A capacitor and a variable resistor constitute a delay circuit, R 2 and R 3 are resistors that constitute a reference voltage circuit for controlling exposure time, CP is a comparator, AG is an AND gate, Q 1 , Q 2 and Q 3 are transistors, A is an amplifier, I1 is an NPN transistor open collector output type inverter, and I2 is an inverter.
次に動作を説明する。 Next, the operation will be explained.
先ず、絞り口径を例えばF8に設定すると、図
示していない絞り羽根がF8の口径位置に置か
れ、それに連動してリング４が図示位置を占め、
遮光部４ａによりホトトランジスタPT2，PT3を
ランプLPから完全に遮断すると共に、ホトトラ
ンジスタPT1をランプLPから照射可能状態に置
く。 First, when the aperture aperture is set to, for example, F8, the aperture blades (not shown) are placed at the aperture position of F8, and in conjunction with this, the ring 4 occupies the illustrated position.
The light shielding portion 4a completely blocks the phototransistors PT 2 and PT 3 from the lamp LP, and places the phototransistor PT 1 in a state where it can be irradiated from the lamp LP.
なお、レリーズ操作前の状態では、回路全体の
電源スイツチが閉じられておらず、ランプLPが
点灯していないと共に、セクターリング３がシヤ
ツタ羽根２を閉鎖させている図示位置にあつて、
一方では遮光部３ｂによりホトトランジスタPT1
をもランプLPから遮つている。 Note that in the state before the release operation, the power switch for the entire circuit is not closed, the lamp LP is not lit, and the sector ring 3 is in the position shown in the figure where the shutter blade 2 is closed.
On the other hand, the phototransistor PT 1 is
The lamp is also blocked from the LP.
そこで、レリーズ操作を行うと、先ず回路全体
の電源スイツチ（図示せず）が閉じられ、続いて
スイツチＳが一時的に閉成される。 Therefore, when a release operation is performed, first a power switch (not shown) for the entire circuit is closed, and then switch S is temporarily closed.
その結果、OSM１は「Ｌ」レベルの入力信号
が与えられてセツトされ、出力が所定時間「Ｌ」
レベルへ反転し、Ｆ・Ｆをセツトする。 As a result, OSM1 is set by being given an "L" level input signal, and its output is "L" for a predetermined period of time.
Turn to level and set F・F.
従つて、Ｆ・Ｆの出力Ｑが「Ｈ」レベルへ反転
し、アンドゲートAGは総ての入力が「Ｈ」レベ
ルとなつてゲートを開き、出力が「Ｈ」レベルと
なつてトランジスタQ1をオンさせる。その結
果、開きコイルL1は通電され、その磁界によつ
て永久磁石回転子MRを急速に右旋させる。 Therefore, the output Q of F・F is inverted to "H" level, all inputs of AND gate AG become "H" level and the gate is opened, and the output becomes "H" level and transistor Q 1 Turn on. As a result, the open coil L1 is energized and its magnetic field rapidly rotates the permanent magnet rotor MR to the right.
一方、Ｆ・Ｆの出力が「Ｌ」レベルへ反転
し、インバータI1の出力トランジスタがOFFす
る。その結果、コンデンサC1は可変抵抗R1を介
して充電を開始される。 On the other hand, the output of F.F is inverted to "L" level, and the output transistor of inverter I1 is turned off. As a result, capacitor C1 starts charging via variable resistor R1 .
回転子MRが右旋すると、セクターリング３は
作動腕Ｈとスロツト３ｃの嵌合関係によつて左旋
し、シヤツタ羽根２を開かせて行く。そして、シ
ヤツタ羽根２の開口径がF8の少し手前に来ると
遮光部３ｂがランプLPとホトトランジスタPT1
の光路から抜け出る。 When the rotor MR rotates to the right, the sector ring 3 rotates to the left due to the engagement between the operating arm H and the slot 3c, opening the shutter blades 2. Then, when the aperture diameter of the shutter blade 2 comes a little before F8, the light shielding part 3b connects the lamp LP and the phototransistor PT1.
Get out of the light path.
これによりホトトランジスタPT1がオンしてｎ
点の電位が「Ｌ」レベルとなる。従つて、アンド
ゲートAGはゲートを閉じ、出力が「Ｌ」レベル
へ反転する。この結果、トランジスタQ1がオフ
し、開きコイルL1への通電が断たれる。 This turns on the phototransistor PT1 and n
The potential at the point becomes "L" level. Therefore, AND gate AG closes and the output is inverted to "L" level. As a result, transistor Q 1 is turned off, and the current to open coil L 1 is cut off.
一方、OSM２は「Ｌ」レベルの入力信号が与
えられてセツトされ、出力が所定時間「Ｌ」レベ
ルへ反転し、この間トランジスタQ3は増幅器Ａ
を介してオンさせられ、開きコイルL1及び閉じ
コイルL2を短絡する。 On the other hand, OSM2 is set by being given an "L" level input signal, and its output is inverted to "L" level for a predetermined period of time, during which time transistor Q3 is connected to amplifier A.
is turned on via , shorting the open coil L 1 and the close coil L 2 .
従つて、永久磁石回転子MRは、慣性回転によ
りコイルL1及びL2を発電させることによつて制
動作用を受け、シヤツタ羽根２をF8の口径にな
した位置で停止させる。 Therefore, the permanent magnet rotor MR receives a braking action by generating electricity in the coils L 1 and L 2 by inertial rotation, and stops the shutter blade 2 at the position of the F8 aperture.
そして、所定時間（設定時間）後に、コンデン
サC1の充電による反転入力端子（−）の電位が
非反転入力端子（＋）の電位よりも高くなり、コ
ンパレータCPの出力が「Ｌ」レベルへ反転す
る。 Then, after a predetermined time (set time), the potential of the inverting input terminal (-) due to charging of the capacitor C1 becomes higher than the potential of the non-inverting input terminal (+), and the output of the comparator CP is inverted to "L" level. do.
この結果、OSM３は、「Ｌ」レベルの入力信号
が与えられてセツトされ、出力が所定時間「Ｌ」
レベルへ反転し、インバータI2を介してトランジ
スタQ2をオンさせる。依つて、閉じコイルL2は
所定時間通電され、永久磁石回転子MRを先の停
止位置より急速に左旋させ、シヤツタ羽根２を
F8の口径位置より閉鎖させる。 As a result, the OSM3 is set by being given an "L" level input signal, and its output remains "L" for a predetermined period of time.
level and turns on transistor Q 2 via inverter I 2 . Therefore, the closing coil L2 is energized for a predetermined period of time, causing the permanent magnet rotor MR to rapidly rotate to the left from the previous stop position, and causing the shutter blade 2 to rotate.
Close from the aperture position of F8.
また、OSM３の出力が「Ｌ」レベルへ反転す
ることにより、Ｆ・Ｆはリセツトされ、その出力
Ｑが「Ｌ」レベル、出力が「Ｈ」レベルとな
る。従つて、インバータI1の出力トランジスタが
ONとなるので、コンデンサC1の電荷は放電され
る。 Further, by inverting the output of OSM3 to "L" level, F.F is reset, and its output Q becomes "L" level and its output becomes "H" level. Therefore, the output transistor of inverter I 1 is
Since it is turned on, the charge in capacitor C1 is discharged.
なお、シヤツタ羽根２の閉鎖、即ちセクターリ
ング３の右旋復動による遮光部３ｂの変位によ
り、ホトトランジスタPT1がランプLPからの光
を遮断されるとオフしてｎ点の電位が「Ｈ」レベ
ルとなるが、この時は既にOSM３の出力が
「Ｌ」レベルへ反転しており、またOSM３の出力
が「Ｈ」レベルへ復帰してもＦ・Ｆがリセツトさ
れて出力Ｑが「Ｌ」レベルへ反転しているので、
アンドゲートAGはゲートを開くことができず、
従つて、開きコイルL1が再通電されることはな
く、シヤツタ羽根２は開かれない。 Note that when the shutter blade 2 is closed, that is, the sector ring 3 is rotated to the right and the light shielding part 3b is displaced, the phototransistor PT1 is shut off from the light from the lamp LP, and the phototransistor PT1 is turned off and the potential at point n becomes "H". ” level, but at this time the output of OSM3 has already been inverted to “L” level, and even if the output of OSM3 returns to “H” level, F・F is reset and the output Q becomes “L” level. ” level, so
ANDGATE AG cannot open the gate,
Therefore, the opening coil L1 is not reenergized and the shutter blade 2 is not opened.
この開きコイルL1の通電、遮断−コイルL1，
L2の短絡−閉じコイルL2の通電、遮断によるシ
ヤツタ羽根２の開放−制動−設定口径位置停止−
閉鎖の関係は第９図に示す通りである。また、可
変抵抗R1によつて露出時間を1/250秒に設定した
時のシヤツタ羽根２の開口特性は、第４図ロの如
くになり、有効露出時間に誤差を生じない。 Energization and disconnection of this open coil L 1 - coil L 1 ,
Short circuit of L 2 - Opening of shutter blade 2 by energizing and cutting off of closed coil L 2 - Braking - Stop at set aperture position -
The closing relationship is as shown in FIG. Further, when the exposure time is set to 1/250 seconds by the variable resistor R1 , the opening characteristics of the shutter blade 2 are as shown in FIG. 4B, and no error occurs in the effective exposure time.
また、絞り口径をF11、F16に設定すると、そ
れに連動してリング４が回動し、ホトトランジス
タPT3のみをランプLPから完全に遮断してホト
トランジスタPT2もランプLPの照射可能状態に
したり、ホトトランジスタPT3をもランプLPの
照射可能状態にする。従つて、F11に設定された
場合には、セクターリングの左旋によりホトトラ
ンジスタPT2が照射された時点に、またF16に設
定された場合にはホトトランジスタPT3が照射さ
れた時点に、夫々開きコイルL1への通電を断つ
時期並びに制動作用が働く時期が早められ、シヤ
ツタ羽根２は、設定された口径位置で一旦停止さ
せられるようになる。この時のシヤツタ羽根の開
口特性（但し、露出時間：1/250秒）は第４図
ハ，ニとなる。 Furthermore, when the aperture aperture is set to F11 or F16, the ring 4 rotates in conjunction with this, completely blocking only phototransistor PT 3 from the lamp LP, and allowing phototransistor PT 2 to also be irradiated by the lamp LP. , the phototransistor PT 3 is also placed in a state where it can be irradiated by the lamp LP. Therefore, when set to F11, the opening occurs when phototransistor PT 2 is irradiated by left rotation of the sector ring, and when set to F16, when phototransistor PT 3 is irradiated. The timing of cutting off the current to the coil L1 and the timing of the braking action are brought forward, and the shutter blade 2 is temporarily stopped at the set aperture position. The aperture characteristics of the shutter blade at this time (exposure time: 1/250 seconds) are as shown in Figure 4 C and D.
また、絞り口径を全開のF5、６に設定した場
合には、リング４の遮光部４ａによつて総てのホ
トトランジスタがランプLPに照射され得ない状
態に置かれるので、シヤツタ羽根２は途中制動作
用を受けることなく全開位置まで運動し、開きコ
イルL1への通電の遮断は、露光時間の終了に伴
いOSM３の出力が「Ｌ」レベルへ反転して、ア
ンドゲートAGがゲートを閉じた時に行われる。
そして、この時のシヤツタ羽根の開口特性は、第
４図イとなる。 Furthermore, when the aperture aperture is set to F5 or F6, which is fully open, all the phototransistors are placed in a state where they cannot be irradiated to the lamp LP by the light shielding part 4a of the ring 4, so the shutter blade 2 is It moves to the fully open position without receiving any braking action, and the current to the open coil L1 is cut off.As the exposure time ends, the output of OSM3 is reversed to the "L" level, and the AND gate AG closes the gate. done at times.
The opening characteristics of the shutter blade at this time are as shown in Fig. 4A.
更に、シヤツタ羽根は、設定された絞り口径位
置で一但停止され、その位置より閉鎖運動を行う
ので、例えば、シヤツタ羽根の立上り、立下り特
性が２ｍsec.の場合には、第４図ホ，ヘに示す如
く、絞り口径をF16に設定した時には、露出時間
を1/500、1/1000秒の如き高速秒時に設定するこ
ともでき、また露出時間を1/1000秒に設定した場
合でも第２図に照らしてみると、シヤツタ効率を
80％に維持することができる。 Furthermore, since the shutter blade is temporarily stopped at the set aperture diameter position and performs a closing movement from that position, for example, if the rise and fall characteristics of the shutter blade are 2 msec. As shown in F, when the aperture is set to F16, the exposure time can be set to high speeds such as 1/500 or 1/1000 seconds, and even if the exposure time is set to 1/1000 seconds, In light of Figure 2, the shutter efficiency is
Can be maintained at 80%.
次に第８図により他の回路実施例を説明する
が、一部の素子が取除かれ、代つてナンドゲート
NGが付加されている。 Next, another circuit embodiment will be explained with reference to FIG. 8, in which some elements are removed and NAND gates are used instead.
NG is added.
前実施例が、永久磁石回転子MRの慣性回転と
コイルL1，L2の短絡とによる発電によつて回転
子MRに制動を作用させているに対して、本実施
例は、シヤツタ羽根２の開口径が設定絞り口径の
少し手前に到達した際、短時間閉じコイルL2に
通電し、その磁界による逆駆動力を働かせて回転
子MRに制動をかけるようにしたものである。 In the previous embodiment, braking was applied to the rotor MR by the inertial rotation of the permanent magnet rotor MR and the short-circuiting of the coils L 1 and L 2 , whereas in this embodiment, the brake was applied to the rotor MR by the inertial rotation of the permanent magnet rotor MR and the short-circuiting of the coils L 1 and L 2 . When the aperture diameter of the aperture reaches just before the set aperture diameter, the closed coil L2 is energized for a short period of time, and the reverse driving force generated by the magnetic field is applied to brake the rotor MR.
即ち、シヤツタ羽根２の開放運動の過程で、い
ずれかのホトトランジスタがランプLPに照射さ
れ、ｎ点の電位が「Ｌ」レベルへ落ちた時、前実
施例と同様にコイルL1への通電が断たれるが、
一方、OSM２がセツトされその出力が短い所定
時間「Ｌ」レベルへ反転した時、ナンドゲート
NGはゲートを開き出力が「Ｈ」レベルへ反転す
る。従つて、トランジスタQ2はオンし、閉じコ
イルL2に通電を行わせて回転子MRに逆駆動力を
作用させ制動をかける。この制動時間は、OSM
２の反転の所定時間で決まり、その後ナンドゲー
トNGは、再びゲートを閉じ、設定された露出時
間後OSM３が反転して「Ｌ」レベルの入力信号
が到来するのを待つものであり、そしてこの制動
作用の関係は第９図に示す通りである。 That is, in the process of the opening movement of the shutter blade 2, when one of the phototransistors is irradiated with the lamp LP and the potential at point n falls to the "L" level, the coil L1 is energized as in the previous embodiment. is cut off, but
On the other hand, when OSM2 is set and its output is inverted to "L" level for a short predetermined time, the NAND gate
NG opens the gate and inverts the output to "H" level. Therefore, the transistor Q 2 is turned on, energizing the closed coil L 2 and applying a reverse driving force to the rotor MR to apply braking. This braking time is OSM
After that, the NAND gate NG closes the gate again and waits for the OSM3 to invert after the set exposure time and an input signal of "L" level arrives. The relationship of action is as shown in FIG.
なお、アンドゲートAGとナンドゲートNGは、
正論理動作で説明している。また、上述の説明に
おいては、絞り羽根が別に設けられているような
つているが、本発明のシヤツタ羽根は設定絞り口
径位置で停止するので、絞り羽根は必ずしも必要
ではない。 In addition, ANDGATE AG and NANDGATE NG are
It is explained using positive logic operation. Further, in the above description, the aperture blades are provided separately, but since the shutter blades of the present invention stop at the set aperture aperture position, the aperture blades are not necessarily required.
以上の如く、本発明のシヤツタ装置は、全閉位
置より全開位置に向つて運動するシヤツタ羽根
を、設定絞り口径位置で停止させ、所定秒時後に
該シヤツタ羽根をその停止位置より全閉位置に向
つて運動させるようにしたものであるから、絞り
口径の如何に係らず有効露出時間に誤差を生じな
いと共に、シヤツタ効率を落さずに高速秒時が得
られるものである。 As described above, the shutter device of the present invention stops the shutter blades moving from the fully closed position toward the fully open position at the set aperture aperture position, and after a predetermined time, moves the shutter blades from the stopped position to the fully closed position. Since the shutter is moved in the opposite direction, no error occurs in the effective exposure time regardless of the aperture diameter, and a high speed can be obtained without reducing shutter efficiency.
第１図は従来シヤツタ装置の絞り口径対有効露
出時間変化による露出量の誤差の関係を示した特
性図、第２図は絞り口径対露出時間の組合わせに
よるシヤツタ効率の変化を示した特性図、第３図
は従来シヤツタ装置の開口特性図、第４図は本発
明に係るシヤツタ装置の開口特性図、第５図は本
発明に係るシヤツタ機構の一実施例を示した説明
図、第６図は第５図の部分的側面図、第７図は本
発明に係るシヤツタ制御回路の一実施例を示した
結線図、第８図はシヤツタ制御回路の他の実施例
を示した結線図、第９図は本発明に係るシヤツタ
装置の動作過程における制動作用を示した説明図
である。
２……シヤツタ羽根、３……セクタリング、３
ｂ……遮光部、３ｃ……スロツト、４……絞り口
径設定連動リング、４ａ……遮光部、Ｍ……モー
タ、L1……開きコイル、L2……閉じコイル、MR
……永久磁石回転子、Ｈ……作動腕、PT１〜PT
３……ホトトランジスタ、LP……ランプ、Ｓ…
…スイツチ、OSM1〜OSM3……ワンシヨツトマ
ルチバイブレータ回路、Ｆ・Ｆ……フリツプフロ
ツプ回路、C1……コンデンサ、R1……可変抵
抗、R2，R3……抵抗、CP……コンパレータ、AG
……アンドゲート、NG……ナンドゲート、Ａ…
…増幅器、Q1〜Q3……トランジスタ、I1，I2……
インバータ、D1，D2……ダイオード。
Figure 1 is a characteristic diagram showing the relationship between the exposure amount error due to changes in aperture diameter and effective exposure time in a conventional shutter device, and Figure 2 is a characteristic diagram showing changes in shutter efficiency due to the combination of aperture diameter and exposure time. , FIG. 3 is an aperture characteristic diagram of a conventional shutter device, FIG. 4 is an aperture characteristic diagram of a shutter device according to the present invention, FIG. 5 is an explanatory diagram showing an embodiment of a shutter mechanism according to the present invention, and FIG. The figure is a partial side view of FIG. 5, FIG. 7 is a wiring diagram showing one embodiment of the shutter control circuit according to the present invention, and FIG. 8 is a wiring diagram showing another embodiment of the shutter control circuit. FIG. 9 is an explanatory diagram showing the braking operation in the operating process of the shutter device according to the present invention. 2...Shattering blade, 3...Sectoring, 3
b...Light blocking part, 3c...Slot, 4...Aperture setting interlocking ring, 4a...Dark blocking part, M ...Motor, L1 ...Open coil, L2 ...Closing coil, MR
...Permanent magnet rotor, H ... Working arm, PT1~PT
3...Phototransistor, LP...lamp, S...
...Switch, OSM 1 to OSM 3 ...One-shot multivibrator circuit, F/F ...Flip-flop circuit, C1 ...Capacitor, R1 ...Variable resistor, R2 , R3 ...Resistor, CP ...Comparator , A.G.
...And gate, NG...Nand gate, A...
…Amplifier, Q 1 to Q 3 … Transistor, I 1 , I 2 …
Inverter, D 1 , D 2 ...diode.
Claims (1)
タ羽根を開放させるカメラ用シヤツタ装置におい
て、 絞り口径ステツプに対応した前記シヤツタ羽根
の回転角位置に夫々配置される発光素子と受光素
子とからなるフオトセンサと、 前記夫々のフオトセンサの光路中を移動可能に
配置され、絞り口径値の設定に対応して設定する
口径値より一段手前の口径値から小絞り側に位置
する総てのフオトセンサの光路を遮蔽する遮蔽部
材と、 前記光路中に運動可能に配置され、前記シヤツ
タ羽根の閉鎖状態では総ての前記フオトセンサの
光路を遮蔽しており、該シヤツタ羽根の開放運動
に連動して小絞り側に位置する該フオトセンサの
光路から順に退避して行くシヤツタ羽根連動部材
と を備え、 前記電磁アクチユエータの駆動による前記シヤ
ツタ羽根の開放動作に連動して、前記遮蔽部材及
びシヤツタ羽根連動部材の位置条件によつて光路
が開放された前記フオトセンサの出力信号により
該電磁アクチユエータの駆動停止を制御するよう
にした ことを特徴とするカメラ用シヤツタ装置。[Scope of Claims] 1. A camera shutter device in which a shutter blade is opened by an electromagnetic actuator such as a motor, comprising a light emitting element and a light receiving element respectively arranged at rotational angular positions of the shutter blade corresponding to aperture aperture steps. A photo sensor, which is arranged so as to be movable in the optical path of each of the photo sensors, and the optical path of all the photo sensors located on the small aperture side from an aperture value one step before the aperture value set corresponding to the aperture value setting. a shielding member movably disposed in the optical path to shield the optical path of all the photo sensors when the shutter blade is in a closed state, and a shielding member that is movably disposed in the optical path, and which shields the optical path of all the photo sensors when the shutter blade is in a closed state; and a shutter blade interlocking member that retreats in order from the optical path of the photo sensor located therein, and in conjunction with the opening operation of the shutter blade by driving of the electromagnetic actuator, depending on the positional conditions of the shielding member and the shutter blade interlocking member. 1. A shutter device for a camera, characterized in that driving and stopping of said electromagnetic actuator is controlled by an output signal of said photo sensor whose optical path is opened.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP735477A JPS5393020A (en) | 1977-01-26 | 1977-01-26 | Camera shutter system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP735477A JPS5393020A (en) | 1977-01-26 | 1977-01-26 | Camera shutter system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5393020A JPS5393020A (en) | 1978-08-15 |
| JPS6123537B2 true JPS6123537B2 (en) | 1986-06-06 |
Family
ID=11663611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP735477A Granted JPS5393020A (en) | 1977-01-26 | 1977-01-26 | Camera shutter system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5393020A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63176849A (en) * | 1987-01-17 | 1988-07-21 | Nissan Motor Co Ltd | Clutch construction for automatic transmission |
| KR20210131419A (en) * | 2019-03-13 | 2021-11-02 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | Ultrasonic flaw detection method, ultrasonic flaw detection device, steel manufacturing equipment, steel manufacturing method, and steel quality control method |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58178120U (en) * | 1982-05-24 | 1983-11-29 | 日本電産コパル株式会社 | Electromagnetic drive program shutter |
| JPS59116635A (en) * | 1982-12-23 | 1984-07-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Electromagnetic shutter device |
| JPS59116636A (en) * | 1982-12-23 | 1984-07-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Electromagnetically driven shutter device |
| JP2005164942A (en) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Nidec Copal Corp | Diaphragm for controlling light source |
| JP5408996B2 (en) * | 2008-12-25 | 2014-02-05 | オリンパス株式会社 | Control method of light control device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50106620A (en) * | 1973-12-28 | 1975-08-22 | ||
| JPS50139728A (en) * | 1974-04-25 | 1975-11-08 |
-
1977
- 1977-01-26 JP JP735477A patent/JPS5393020A/en active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50106620A (en) * | 1973-12-28 | 1975-08-22 | ||
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| KR20210131419A (en) * | 2019-03-13 | 2021-11-02 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | Ultrasonic flaw detection method, ultrasonic flaw detection device, steel manufacturing equipment, steel manufacturing method, and steel quality control method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5393020A (en) | 1978-08-15 |
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