JPS61233736A - Photopolymerizable composition - Google Patents
Photopolymerizable compositionInfo
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- JPS61233736A JPS61233736A JP7577585A JP7577585A JPS61233736A JP S61233736 A JPS61233736 A JP S61233736A JP 7577585 A JP7577585 A JP 7577585A JP 7577585 A JP7577585 A JP 7577585A JP S61233736 A JPS61233736 A JP S61233736A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光開始剤組成物を有する光重合性の感光性樹
脂組成物に関し、さらに詳しくは紫外光および可視光忙
低光量で感光し、またレーザ用に使用可能な高感度光重
合性組成物に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photopolymerizable photosensitive resin composition having a photoinitiator composition, and more particularly, it is sensitive to ultraviolet light and visible light at low light doses and can be used for laser applications. The present invention relates to a highly sensitive photopolymerizable composition.
不飽和結合を分子中に含む、モノマー、ダイマー、トリ
マー、オリゴマーおよびポリマーは光重合開始剤の存在
下で光重合することは良く知られている。またこの現象
は印刷板やプリント基板、IC等を作製する際に用いら
れる光重合型のフォトポリマーやフォトレジストとして
広く利用されている。It is well known that monomers, dimers, trimers, oligomers, and polymers containing unsaturated bonds in their molecules are photopolymerized in the presence of a photoinitiator. Furthermore, this phenomenon is widely used in photopolymerizable photopolymers and photoresists used in manufacturing printing plates, printed circuit boards, ICs, and the like.
これらの感光性樹脂に使用される光重合開始剤としては
、従来から種゛々の物質が報告され、実際に使用されて
いる。例えばベンゾイン系化合物としてベンゾイン、ベ
ンゾインメチルニーチル、ベンゾインエチルエーテル等
、カルボニル化合物としてベンジル、ベンゾフェノン、
アセトフ二ノン、ミヘラーズケトン等、アゾ化合物とし
てアゾビスイソブチロニトリル、アゾジベンゾイル等、
また硫黄化合物としてジペンゾチアゾリルスルフィド、
テトラエチルチウラムジスルフィド等、ハロゲン化合物
として、四臭化il)リプロムフェニルスルホン等、そ
の他にベンズアントラキノン、ピリリウム塩などがある
。Various substances have been reported and actually used as photopolymerization initiators used in these photosensitive resins. For example, benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl nityl, benzoin ethyl ether, etc., and carbonyl compounds such as benzyl, benzophenone,
Azo compounds such as acetophuninone and Michael's ketone, azobisisobutyronitrile, azodibenzoyl, etc.
Also, as a sulfur compound, dipenzothiazolyl sulfide,
Examples of halogen compounds include tetraethylthiuram disulfide, il) lipromphenylsulfone tetrabromide, and benzanthraquinone and pyrylium salts.
しかしながら、これらの光重合開始剤は、未だ充分満足
できるものでなく、種々の不飽和化合物と組み合わせた
場合、フォトポリマーとして必ずしも良好な感度を有し
ているとけいえなかった。However, these photopolymerization initiators are not yet fully satisfactory, and when combined with various unsaturated compounds, they cannot necessarily be said to have good sensitivity as a photopolymer.
また近年、レーザを用いて画儂を形成する方法が検討さ
れ、印刷版作製におけるレーザ直接製版やレーザファク
シミリ、ホログラフィ等が既に実用化の段階にあり、さ
らに今後多くの方面への適用が検討され、かつ期待され
ている。In addition, in recent years, methods of forming images using lasers have been studied, and technologies such as laser direct engraving, laser facsimile, and holography for printing plate production are already at the stage of practical use, and their application in many other fields is being considered in the future. , and expected.
この際用いられるレーザ用感光材料として銀塩感光材料
、電子写真感光材料、フォトクロミック材料、フォトポ
リマー等が用いられるが、このうちフォトポリマーは銀
塩感光材料や電子写真材料に比べると非常に感度が低く
、またその感光波長域も紫外から可視光の極短波長領域
である。例えば、銀塩フィルム(コグリスオルソフィル
ム2556タイブ3)の感度け、Arレーザの波長48
8 nmの単色光の必要エネルギー量は、0.0205
mJ/c+++2であるが、7オトボリマー(コダッ
クボリマチツクリソプレートLN−L)でti7000
mJ /6n” も必要テアリ、波長351/364
nmの紫外線を用いても100 mJ/era”のエネ
ルギーが必要である。The laser photosensitive materials used in this case include silver salt photosensitive materials, electrophotographic photosensitive materials, photochromic materials, and photopolymers, but among these, photopolymers have extremely low sensitivity compared to silver salt photosensitive materials and electrophotographic materials. Furthermore, its sensitivity wavelength range is from ultraviolet to visible light. For example, the sensitivity of silver halide film (Cogris Orthofilm 2556 Type 3) is 48.
The amount of energy required for 8 nm monochromatic light is 0.0205
mJ/c+++2, but ti7000 with 7 otobolimer (Kodak Bolimachi Chrysoplate LN-L)
mJ/6n” is also required, wavelength 351/364
Even if nanometer ultraviolet rays are used, an energy of 100 mJ/era is required.
このように従来の7オトボリマーでは感度および感光波
長域ともに満足されるものでなく、特に可視光レーザ用
の感光材料としては不適当なものであった。As described above, the conventional 7 otobolimer was unsatisfactory in both sensitivity and sensitive wavelength range, and was particularly unsuitable as a photosensitive material for visible light lasers.
従って、本発明の目的は、上記問題点を解消した可視光
領域にも高感度な光重合性組成物を提供することにある
。Accordingly, an object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition that solves the above-mentioned problems and is highly sensitive even in the visible light region.
本発明のかかる目的は、少なくとも1つのアズレニウム
塩核を有するアズレニウム塩化合物を含有する光開始剤
組成物及び光重合性感光成分を主成分とした光重合性組
成物によって達成される。特に、前述のアズレニウム塩
化合物は、下記一般式[:I)、[:U)又は〔■〕
によって表わされることができる。These objects of the present invention are achieved by a photoinitiator composition containing an azulenium salt compound having at least one azulenium salt core and a photopolymerizable composition containing a photopolymerizable photosensitive component as a main component. In particular, the azulenium salt compound described above has the following general formula [:I), [:U) or [■]
can be represented by
[ID
R1
一般式において、R1−R7は、水素原子、ノ・ロゲン
原子(塩素原子、臭素原子、沃素原子)又は1価の有機
残基を表わす。1価の有機残基としては、広範なものか
ら選択することができるが、特にアルキル基(メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t
−ブチル、n−アi/L/、n−ヘキシル、n−オクチ
ル、2−エチルヘキシル、t−オクチルなど)、アルコ
キシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシな
ど)、置換もしくけ未置換のアリール基(フェニル、ト
リル、キシリル、エチルフェニル、メトキシフェニル、
エトキシフェニル、p o o フェニル、ニトロフェ
ニル、ジメチルアミノフェニル、α−ナフチル、β−ナ
フチルなど)、置換もしくけ未置換のアラルキル基(ベ
ンジル、2−フェニルエチル、2−フェニル−1−メチ
ルエチル、ブロモペンジル、2−ブロモフェニルエチル
、メチルベンジル、メトキシベンジル、ニトロベンジル
)、アシル基(アセチル、グロビオニル、スチリル、バ
レリル、ベンゾイル、トリオイル、ナフトイル、フタロ
イル、フロイルなど)、置換若しくけ未置換アミノ基(
アミン、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピル
アミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなど)、置
換若しくは未置換スチリル基(スチリル、ジメチルアミ
ノスチリル、ジエチルアミノスチリル、ジプロピルアミ
ノスチリル、メトキシスチリル、エトキシスチリル、メ
チルスチリルなど)、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボ
キシル基、シアノ基又は置換若しくは未置換アリールア
ゾ基(フェニルアゾ、α−ナフチルアゾ、β−ナフチル
アゾ、ジメチルアミノスチリルアソ、クロロフェニルア
ゾ、ニトロフェニルアゾ、メトキシスチリルアソ、トリ
ルアゾなど)を挙げることができる。[ID R1 In the general formula, R1 to R7 represent a hydrogen atom, a chlorine atom (chlorine atom, bromine atom, iodine atom), or a monovalent organic residue. Monovalent organic residues can be selected from a wide variety, but especially alkyl groups (methyl,
Ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, t
-butyl, n-i/L/, n-hexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, t-octyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), substituted or unsubstituted aryl groups (phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, methoxyphenyl,
ethoxyphenyl, po phenyl, nitrophenyl, dimethylaminophenyl, α-naphthyl, β-naphthyl, etc.), substituted or unsubstituted aralkyl groups (benzyl, 2-phenylethyl, 2-phenyl-1-methylethyl, bromopenzyl, 2-bromophenylethyl, methylbenzyl, methoxybenzyl, nitrobenzyl), acyl groups (acetyl, globionyl, styryl, valeryl, benzoyl, triooyl, naphthoyl, phthaloyl, furoyl, etc.), substituted or unsubstituted amino groups (
amines, dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, acetylamino, benzoylamino, etc.), substituted or unsubstituted styryl groups (styryl, dimethylaminostyryl, diethylaminostyryl, dipropylaminostyryl, methoxystyryl, ethoxystyryl, methylstyryl, etc.) , a nitro group, a hydroxy group, a carboxyl group, a cyano group, or a substituted or unsubstituted arylazo group (phenylazo, α-naphthylazo, β-naphthylazo, dimethylaminostyrylazo, chlorophenylazo, nitrophenylazo, methoxystyrylazo, tolylazo, etc.) can be mentioned.
又、R1とR,、R,とR3,R,3とR,、R,4と
R5゜R5とR6およびR6と几7の組合せのうち、少
なくとも1つの組合せで置換又は未置換の縮合環を形成
してもよい。縮合環としては5員、6員。Also, a fused ring substituted or unsubstituted with at least one combination of R1 and R,, R, and R3, R, 3 and R,, R, 4 and R5, R5 and R6, and R6 and R7. may be formed. The fused ring is 5 or 6 members.
または7員環の縮合環であり、芳香族環(ベンゼン、ナ
フタレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、メチルベ
ンゼン、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、エトキシ
ベンゼンなト)、複素環(7ラン環、ベンゾフラン環、
ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、キノリン環、
チアゾール環、など)脂肪族環(ジメチレン、トリメチ
レン、テトナメチレンなど)が挙げられる。or a 7-membered condensed ring, including aromatic rings (benzene, naphthalene, chlorobenzene, bromobenzene, methylbenzene, ethylbenzene, methoxybenzene, ethoxybenzene, etc.), heterocycles (7-ring ring, benzofuran ring,
Pyrrole ring, thiophene ring, pyridine ring, quinoline ring,
thiazole rings, etc.) aliphatic rings (dimethylene, trimethylene, tetonamethylene, etc.).
zeけアニオン残基を表わす。ze represents an anion residue.
Aは、2重結合によって結合した2価の有機残基を表わ
す。かかる人を含む本発明の具体的な例を下記一般式(
1)〜αυで表わされるものを挙げることができる。但
し、式中のQoは下記のアズレニウム塩抜を示し、式中
のQeを除く右辺がA3示している。A represents a divalent organic residue bound by a double bond. A specific example of the present invention including such a person is represented by the following general formula (
1) to αυ can be mentioned. However, Qo in the formula indicates the following azulenium salt removal, and the right side excluding Qe in the formula indicates A3.
■
アズレニウム塩抜(Q )
LS
一般式
式中、几1〜Ry #:を前記で定義したものと同一の
定義を有する。(2) Azulenium salt extraction (Q) LS General formula In the formula, 几1 to Ry #: have the same definitions as defined above.
R1
式中、几1””R7は前記で定義したものと同一の定義
を有する。R1 where R7 has the same definition as defined above.
式中、R′1〜FLl、は、水素原子、ハロゲン原子(
塩素原子、臭素原子、沃素原子)又は1価の有機残基を
表わす。1価の有機残基としては、広範なものから選択
することができるが、特にアルキル基(メチル、エチル
、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチ
ル、n−アミル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エ
チルヘキシル、t−オクチルなど)、アルコキシ基(メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)、置換
もしくけ未置換のアリール基(フェニル、トリル、キシ
リル、エチルフェニル、メトキシフェニル、エトキシフ
ェニル、クロロフェール、ニトロフェニル、ジメチルア
ミノフェニル、α−ナフチル、β−す7チルなト)、置
換もしくけ未置換のアラルキル基(ベンジル、2−フェ
ニルエチル、2−フェニル−1−)チルエチル、ブロモ
、ベンジル、2−7’ロモフエニルエチル、メチルベン
ジル、メトキシベンジル、ニトロベンジル)、アシル基
(アセチル、フロピオニル、スチリル、バレリル、ベン
ゾイル、トリオイル、ナフトイル、7タロイル、70イ
ルなど)、置換若しくけ未置換アミン基(アミノ、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、アセ
チルアミノ、ベンゾイルアミノ々ど)、置換若しくけ未
置換スチリル基(スチリル、ジメチルアミノスチリル、
ジエチルアミノスチリル、ジエチルアミノスチリル、メ
トキシスチリル、エトキシスチリル、メチルスチリルな
ど)、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、シア
ノ基又は置換若しくけ未置換アリールアゾ基(フェニル
アゾ、α−ナフチルアゾ、β−ナフチルアゾ、ジメチル
アミノ7エエルアソ、クロ四フェニルアソ、ニトロ7エ
二ルアゾ、メトキシフェニルアゾ、トリルアゾなど)を
挙げることができる。In the formula, R'1 to FLl are hydrogen atoms, halogen atoms (
chlorine atom, bromine atom, iodine atom) or a monovalent organic residue. Monovalent organic residues can be selected from a wide variety of groups, but in particular alkyl groups (methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, t-butyl, n-amyl, n-hexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, t-octyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), substituted or unsubstituted aryl groups (phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl) , chloropher, nitrophenyl, dimethylaminophenyl, α-naphthyl, β-su7thyl), substituted or unsubstituted aralkyl groups (benzyl, 2-phenylethyl, 2-phenyl-1-)thylethyl, bromo , benzyl, 2-7' romophenylethyl, methylbenzyl, methoxybenzyl, nitrobenzyl), acyl group (acetyl, flopionyl, styryl, valeryl, benzoyl, triooyl, naphthoyl, 7taloyl, 70yl, etc.), substituted or Unsubstituted amine groups (amino, dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, acetylamino, benzoylamino, etc.), substituted or unsubstituted styryl groups (styryl, dimethylaminostyryl, etc.)
diethylaminostyryl, diethylaminostyryl, methoxystyryl, ethoxystyryl, methylstyryl, etc.), nitro group, hydroxy group, carboxyl group, cyano group, or substituted or unsubstituted arylazo group (phenylazo, α-naphthylazo, β-naphthylazo, dimethylamino 7-ethyl azo, chlorotetraphenylazo, nitro-7-ethylazo, methoxyphenylazo, tolylazo, etc.).
又、R′1とR′2.R′2と几t・k3とR; 、
R−とR′、。Also, R'1 and R'2. R′2 and t・k3 and R;
R- and R'.
R−とR′6およびR−とR’7の組合せのうち、少な
くとも1つの組合せで置換又は未置換の縮合環を形成し
てもよい。縮合環としては5員、6員または7員環の縮
合環であ抄、芳香族環(ベンゼン、ナフタレン、クロロ
ベンゼン、ブロモベンゼン、メチルベンゼン、エチルベ
ンゼン、メトキシベンゼン、エトキシベンゼンな、!’
)、複素環(フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、
チオフェン環、ピリジン環、キノリン環、チアゾール環
、など)脂肪族環(ジメチレン、トリメチレン、テトナ
メチレンなど)が挙けられる。At least one combination of R- and R'6 and R- and R'7 may form a substituted or unsubstituted fused ring. Examples of fused rings include 5-, 6-, or 7-membered fused rings, aromatic rings (benzene, naphthalene, chlorobenzene, bromobenzene, methylbenzene, ethylbenzene, methoxybenzene, ethoxybenzene, etc.)
), heterocycles (furan ring, benzofuran ring, pyrrole ring,
Examples include thiophene ring, pyridine ring, quinoline ring, thiazole ring, etc.) and aliphatic rings (dimethylene, trimethylene, tetonamethylene, etc.).
又、ζで示すアズレニウム塩抜と前記式(C)における
右辺のアズレン塩抜とは対称であってもよく又は非対称
であってもよい。Zoけ、前記で定義したものと同一の
定義を有す。R8け、水素原子、ニトロ基、シアン基、
アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチルなど)
又H7+7−ル基(フェニル、トリル、キシリルなど)
を表わし、nは0,1又け2を表わす。Further, the azulenium salt removal indicated by ζ and the azulene salt removal on the right side of the formula (C) may be symmetrical or asymmetrical. Zoke has the same definition as defined above. R8, hydrogen atom, nitro group, cyan group,
Alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.)
Also, H7+7-l group (phenyl, tolyl, xylyl, etc.)
, and n represents 0, 1 or 2.
&
式中、R1−R7およびZoは前記で定義したものと同
一の定義を有する。& where R1-R7 and Zo have the same definitions as defined above.
式中、R1〜R7a R−〜R′7およびZoは前記で
定義したものと同一の定義を有する。In the formula, R1 to R7a R- to R'7 and Zo have the same definitions as defined above.
(6) 、−−X−−、。(6) ,--X--,.
式中、Xけピリジン、チアゾール、ベンゾチアゾール、
ナフトチアゾール、オキサゾール、ベンゾオキサゾール
、ナフトオキサゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾ
ール、ナフトイミダゾール、2−キノリン、4−キノリ
ン、イソキノリン又はインドールなどの含窒素複素環を
完成するに必要な非金属金子群を表わし、かかる複素環
には、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、沃素原子)
、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチルなど
)、アリール基(フェニル、トリル、キシリルなど)な
どによって置換されていてもよい。R9けアルキル基(
メチル、エチル、プロピル、ブチルなど)、置換アルキ
ル基(2−ヒドロキシエチル、2−メトキシフェル、2
−エトキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、3−メト
キシプロピル、3−メトキシプロピル、3−クロロプロ
ピル、3−ブロモプロピル、3−カルボキシプロピルな
ど)、環式アルキル基(シクロヘキシル、シクロプロピ
ル)、アリル、アラルキル基(ベンジル、2=フエニル
エチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、
α−ナフチルメチル、β−す7チルメチル)、置換アラ
ルキル基(メチルベンジル、エチルベンジル、ジメチル
ベンジル、トリメチルベンジル、クロロベンジル、ブロ
モヘンシルなど)、アリール基(フェニル、トリル、キ
シリル、α−ナフチル、β−ナフチル)又は置換アリー
ル基(クロロフェニル、ジクロロフェニル、トリクロロ
フェニル、エチルフェニル、メトキシフェニル、ジメト
キシフェニル、アミノフェニル、ニトロフェニル、ヒド
ロキシフェニルなど)を表わす。mは0又は1を表わし
、Zoけ前記で定義したものと同一の定義を有する。In the formula, X is pyridine, thiazole, benzothiazole,
Represents a nonmetallic gold group necessary to complete a nitrogen-containing heterocycle such as naphthothiazole, oxazole, benzoxazole, naphthoxazole, imidazole, benzimidazole, naphthoimidazole, 2-quinoline, 4-quinoline, isoquinoline, or indole; Heterocycles include halogen atoms (chlorine atoms, bromine atoms, iodine atoms)
, an alkyl group (methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.), an aryl group (phenyl, tolyl, xylyl, etc.), or the like. R9 alkyl group (
methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.), substituted alkyl groups (2-hydroxyethyl, 2-methoxyfer, 2
-ethoxyethyl, 3-hydroxypropyl, 3-methoxypropyl, 3-methoxypropyl, 3-chloropropyl, 3-bromopropyl, 3-carboxypropyl, etc.), cyclic alkyl groups (cyclohexyl, cyclopropyl), allyl, aralkyl Groups (benzyl, 2=phenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl,
α-naphthylmethyl, β-su7thylmethyl), substituted aralkyl groups (methylbenzyl, ethylbenzyl, dimethylbenzyl, trimethylbenzyl, chlorobenzyl, bromohensyl, etc.), aryl groups (phenyl, tolyl, xylyl, α-naphthyl, β- naphthyl) or a substituted aryl group (chlorophenyl, dichlorophenyl, trichlorophenyl, ethylphenyl, methoxyphenyl, dimethoxyphenyl, aminophenyl, nitrophenyl, hydroxyphenyl, etc.). m represents 0 or 1 and has the same definition as defined above.
(7) Q0= CH−Rt。(7) Q0=CH-Rt.
式中、Rloは置換又は未置換のアリール基(7エ二ル
、トリル、キシリル、ビフェニル、α−す7チル、β−
ナフチル、アントラリル、ピレニル、メトキシフェニル
、ジメトキシフェニル、トリメトキシフェニル、エトキ
シフェニル、ジェトキシフェニル、クロロフェニル、ジ
クロロフェニル、トリクロロフェニル、ブロモフェニル
、シアノフェニル、トリブロモフェニル、エチルフェニ
ル、ジエチルフェニル、ニトロフェニル、アミノフェニ
ル、ジメチルアミノフェニル、ジエチルアミノフェニル
、ジベンジルアミノフェニル、ジプロピルアミノフェニ
ル、モルホリノフェニル、ピペリジニルフェニル、ピペ
ラジノフェニル、ジフェニルアミノフェニル、アセチル
アミノフェニル、ベンゾイルアミノフェニル、アセチル
フェニル、ベンゾイルフェニル、シアノフェニルなど)
を表わし、Zeけ前記で定義したものと同一の定義を有
する。In the formula, Rlo is a substituted or unsubstituted aryl group (7enyl, tolyl, xylyl, biphenyl, α-su7tyl, β-
Naphthyl, anthralyl, pyrenyl, methoxyphenyl, dimethoxyphenyl, trimethoxyphenyl, ethoxyphenyl, jetoxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, trichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, tribromophenyl, ethylphenyl, diethylphenyl, nitrophenyl, amino Phenyl, dimethylaminophenyl, diethylaminophenyl, dibenzylaminophenyl, dipropylaminophenyl, morpholinophenyl, piperidinylphenyl, piperazinophenyl, diphenylaminophenyl, acetylaminophenyl, benzoylaminophenyl, acetylphenyl, benzoylphenyl, cyanophenyl, etc.)
and Ze has the same definition as defined above.
1°) 9■=CH−Rol
Ze
式中、R11#′i7ラン、チオフェン、ベンゾフラン
、チオナフテン、ジベンゾフラン、カルバゾール、フェ
ノチアジン、フェノキサジン、ピリジンなどの複素環か
ら誘導された1価の複素環基を表わし、Zoけ前記で定
義したものと同一の定義を有する。1°) 9■=CH-Rol Ze In the formula, a monovalent heterocyclic group derived from a heterocycle such as R11#'i7 run, thiophene, benzofuran, thionaphthene, dibenzofuran, carbazole, phenothiazine, phenoxazine, pyridine, etc. The expression Zo has the same definition as defined above.
cf’= CH−CH=C−R1゜
式中、R12け水素原子、アルキル基(メチル、エチル
、プロピル、ブチルなど)又は置換もしくは未置換のア
リール基(フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、
エチルフェニル、クロロフェニル、メトキシフェニル、
エトキシフェニル、ニトロフェニル、アミノフェニル、
ジメチルアミノフェニル、ジエチルアミノフェニル、ア
セチルアミノフェニル、α−す7チル、β−ナフチル、
アントラリル、ピレニルなど)を表わす。RIOおよび
Zoけ、前記で定義したものと同一の定義を有する。cf'= CH-CH=C-R1゜In the formula, R12 is a hydrogen atom, an alkyl group (methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.) or a substituted or unsubstituted aryl group (phenyl, tolyl, xylyl, biphenyl,
Ethylphenyl, chlorophenyl, methoxyphenyl,
ethoxyphenyl, nitrophenyl, aminophenyl,
Dimethylaminophenyl, diethylaminophenyl, acetylaminophenyl, α-su7tyl, β-naphthyl,
anthralyl, pyrenyl, etc.). RIO and ZO have the same definitions as defined above.
e
式中、R11,およびzeけ前記で定義したものと同一
の定義を有する。e In the formula, R11 and ze have the same definitions as defined above.
iD
式中、X2は置換されてもよいビラン、チアピラン、セ
レナビラン、ぺ/ゾビラン、ベンゾチアピラン、ベンゾ
セレナビラン、ナフトピラン、ナフトチアピラン又はナ
フトセレナピラ/を完成するに必要な原子群を示す。l
は、O又は1である。Yは、硫黄原子、酸素原子又はセ
レン原子を表わす。R13およびR14は、水素原子(
メチル、エチル、プロピル、ブチルなど)、アルコキシ
基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)
、置換若しくは未置換のアリール基(フェニル、トリル
、キシリル、クロロフェニル、ビフェニル、メトキシフ
ェニルなど)、置換若しくけ未置換のスチリル基(スチ
リル、p−メチルスチリル、o−クロロスチリル、p−
メトキシスチリルなど)、置換若しくd未置換の4−フ
ェニル1.3−ブタジェニル基(4−フェニル1.3−
7’タジエニル、4−(p−メチルフェニル)−1,3
−ブタジェニルなど)又は置換若しくは未置換の複素環
基(キノリル、ピリジル、カルバゾリル、フリルなど)
を表わす。zeア=オン残基である。iD In the formula, X2 represents an atomic group necessary to complete biran, thiapyran, selenabiran, pe/zobilane, benzothiapyran, benzoselenaviran, naphthopyran, naphthothiapyran, or naphthoselenapyran/, which may be substituted. l
is O or 1. Y represents a sulfur atom, an oxygen atom or a selenium atom. R13 and R14 are hydrogen atoms (
methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.)
, substituted or unsubstituted aryl groups (phenyl, tolyl, xylyl, chlorophenyl, biphenyl, methoxyphenyl, etc.), substituted or unsubstituted styryl groups (styryl, p-methylstyryl, o-chlorostyryl, p-
methoxystyryl, etc.), substituted or unsubstituted 4-phenyl 1,3-butadienyl group (4-phenyl 1,3-
7'tadienyl, 4-(p-methylphenyl)-1,3
-butadiyl, etc.) or substituted or unsubstituted heterocyclic groups (quinolyl, pyridyl, carbazolyl, furyl, etc.)
represents. ze a=one residue.
又、式中のアニオン残基zeけ、バークロレート、フル
オ四ボレート、スルフォアセテート、アイオダイド、ク
ロライド、ブロマイド、P−トルエンスルホネート、ア
ルキルスルホネート、アルキルジスルホネート、ベンゼ
ンジスルホネート、ハロスルホネート、ピクラート、テ
トラシアノエチレンアニオン、テトラシアノキノジメタ
ンアニオンなどのアニオン残基を表わす。In addition, the anion residue in the formula ze, verchlorate, fluorotetraborate, sulfoacetate, iodide, chloride, bromide, P-toluenesulfonate, alkylsulfonate, alkyldisulfonate, benzenedisulfonate, halosulfonate, picrate, tetra Represents anion residues such as cyanoethylene anion and tetracyanoquinodimethane anion.
以下、本発明で用いるアズレニウム塩化合物の具体例を
下記に列挙する。Specific examples of the azulenium salt compounds used in the present invention are listed below.
前記一般式(1)で表わされる化合物の例(1)。Example (1) of the compound represented by the general formula (1).
H3CHa CH32BF4eO(3 2BP、e C104e CH。H3CHa CH32BF4eO(3 2BP,e C104e CH.
28F 4”
Ie
前記一般式(6)で表わされる化合物の例CI!04e
C10♀
前記一般式C力で表わされる化合物の例工e
czo4゜
(6o)
CH3
BF4゜
前記一般式〇〇で表わされる化合物の例前記一般式αυ
で表わされる化合物の例CI!0?
一般式(1)および(2)で表わされる化合物は、アン
ゲンバント・ケミ(Angewandte chemi
e ) 78巻、420、P、937(1966年)K
記載されている様にアズレン化合物とスクワリツク酸又
はクロコン酸と適当な溶媒中で反応させることによって
容易に得ることが出来る。一般式(3)で表わされる化
合物において、n=Qの化合物はジャーナル・オプ・ザ
・ケミカル・ソサイエテイ−(Journal of
the chemical 5ociety) 。28F 4” Ie Example of the compound represented by the above general formula (6)CI!04e C10♀Example of the compound represented by the above general formula Cczo4゜(6o) CH3 BF4゜Represented by the above general formula Examples of compounds with the general formula αυ
Example of a compound represented by CI! 0? Compounds represented by general formulas (1) and (2) are manufactured by Angewandte chemistry.
e) Volume 78, 420, P, 937 (1966) K
As described, it can be easily obtained by reacting an azulene compound with squaric acid or croconic acid in a suitable solvent. Among the compounds represented by the general formula (3), the compound where n=Q has been published in the Journal of the Chemical Society.
the chemical 5ociety).
P、5Q1(1960年)に記載されている1−7才ル
ミルーアズレン化合物とアズレン化合物とを強酸存在下
適当な溶媒中で加熱することによるかまたは、ジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカ/I/−ソサイエテイー(Jou
rnal of the chemicalSocie
ty ) 、 P、 1724〜P、 1730(19
61年)記載の様に1−エトキシメチレンアズレニウム
塩化合物とアズレン化合物とを適当な溶媒中で混合する
ことによるか、あるいけ、ジャーナル・オプ・ザ・ケミ
カル・ソサイエテイ−(Journal of the
chemical 5ociety ) 、 P。P, 5Q1 (1960) by heating a 1-7 year old lumi-azulene compound and an azulene compound in a suitable solvent in the presence of a strong acid, or by heating the 1-7 year old Lumi-Azulene compound and the azulene compound described in Journal of the Chemica/I/ -Society (Jou)
rnal of the chemical society
ty), P, 1724-P, 1730 (19
By mixing a 1-ethoxymethylene azulenium salt compound and an azulene compound in a suitable solvent as described in 1961), or by mixing a 1-ethoxymethylene azulenium salt compound and an azulene compound in a suitable solvent, as described in
chemical 5ociety), P.
359(1961年)記載の様に2−ヒドロキシメチレ
ンシクロヘキサノンとアズレン化合物とを強酸存在下適
当な溶媒中で加熱することによって得られる。一般式(
3)において、n=1及びn = 2の化合物は、ジャ
ーナル・オブ・ザ・ケミカA/lソサイエテイー(Jo
urnal of thechemical 5oci
ety ) 、 P、 3591〜P、 3592(1
961年)に記載されている様にアズレン化合物とマロ
ンジアルデヒド類又はグルタコンジアルデヒド類とを強
酸存在下適当な溶媒中で混合することによって得られる
。359 (1961), by heating 2-hydroxymethylenecyclohexanone and an azulene compound in a suitable solvent in the presence of a strong acid. General formula (
3), the compounds with n = 1 and n = 2 are
urnal of chemical 5oci
ety), P, 3591-P, 3592 (1
It can be obtained by mixing an azulene compound and malondialdehydes or glutacondialdehydes in a suitable solvent in the presence of a strong acid, as described in 1996).
一般式(4)で表わされる化合物は、ジャーナル・オプ
・ザ・ケミカル・ソサイエテイ−(Journalof
the chemical 8ociety ) 、
P、 358 B(1961年)に記載されている様
に強酸存在下アズレン化合物とグリオキザールとを適当
な溶媒中で加熱することによって容易に得られる。The compound represented by general formula (4) has been published in the Journal of the Chemical Society.
the chemical 8ociety),
It can be easily obtained by heating an azulene compound and glyoxal in a suitable solvent in the presence of a strong acid as described in J.P., 358 B (1961).
一般式(5)で表わされる化合物は、ジャーナル・オプ
・ザ・ケミカル・ソサイエティ−(Journa 1o
f the chemical 5ociety)、
P、 504 (1960年)に記載されている様に強
酸存在下1,3−シフオルアズレン化合物とアズレン化
合物とを適当表溶媒中で加熱することにより得られる。The compound represented by general formula (5) has been published in the Journal of the Chemical Society (Journa 1o
f the chemical 5ociety),
It can be obtained by heating a 1,3-cyphorazulene compound and an azulene compound in a suitable solvent in the presence of a strong acid as described in J.P., 504 (1960).
一般式(6)で表わされる化合物は、ジャーナル・オプ
、ザ・ケミカル・ソサイエテイ−(Journa 1o
f the chemical 5ociety )
P、 163〜P、 167(1961年)に記載され
ている様に1−7オルミルアズレン化合物と活性メチル
基を有する複素環4級アンモニウム塩化合物とを適当な
溶0 媒中で加熱することによシ得られる。The compound represented by general formula (6) has been published in Journal Op, The Chemical Society (Journa 1o
f the chemical 5ociety)
P, 163-P, 167 (1961), heating a 1-7 ormylazulene compound and a heterocyclic quaternary ammonium salt compound having an active methyl group in a suitable solvent. You can get it easily.
一般式(7) 、 (8) 、 (9)およびaυで表
わされる化合物は、ジャーナル・オプ・ザ・ケミカル・
ソサイエテイ−(Journal of the ch
emical 5ociety)。Compounds represented by general formulas (7), (8), (9) and aυ were published in the Journal of the Chemical
Society (Journal of the ch
chemical 5ociety).
P、1110〜P、1117(1958年)、ジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエテイー(Journ
al of the chemical 5ociet
y)、 p、494〜P、501(1960年)及びジ
ャーナル・オプ・ザ・ケミカル・ソサイエテイ−(Jo
urnalof the chemical 5oci
ety ) 、 P、 3579〜P。P, 1110-P, 1117 (1958), Journal of the Chemical Society
al of the chemical 5ociet
y), p. 494-P. 501 (1960) and Journal of the Chemical Society (Jo
urnalof the chemical 5oci
ety), P, 3579-P.
3593(1961年)に記載されている様にアズレン
化合物と対応するアルデヒド化合物とを強酸の存在下適
当な溶媒中で混合することによって得られる。3593 (1961) by mixing an azulene compound and a corresponding aldehyde compound in a suitable solvent in the presence of a strong acid.
一般式aυで表わされる化合物は、1−7才ルミルーア
ズレン化合物と一般式aって表わされる化合物とを溶媒
中で反応させることにより得られる。The compound represented by the general formula aυ can be obtained by reacting a 1-7 year old lumi-azulene compound with a compound represented by the general formula a in a solvent.
一般式α2 、、−X、−。General formula α2 ,,-X,-.
R13R14
式中X、 、Y、R13,R14,Zo及びjけ前記で
定義したものと同一の定義を有する。R13R14 where X, , Y, R13, R14, Zo and j have the same definitions as defined above.
用いられる反応溶媒としては、エタノール、ブタノール
、ベンジルアルコールなどのアルコール類、アセトニト
リル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸などの有
機カルボン酸類、無水酢酸などの酸無水物、ジオキサン
、テトラヒドロ7ランなどの脂環式エーテル類、などが
用いられる。また、ブタノール、ベンジルアルコールな
どにベンゼンなどの芳香族炭化水素を混合することもで
きる。反応中の温度は室温〜沸点の範囲から選択できる
。Reaction solvents used include alcohols such as ethanol, butanol, and benzyl alcohol, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, organic carboxylic acids such as acetic acid, acid anhydrides such as acetic anhydride, dioxane, and tetrahydro-7rane. Alicyclic ethers, etc. are used. Furthermore, aromatic hydrocarbons such as benzene can be mixed with butanol, benzyl alcohol, and the like. The temperature during the reaction can be selected from the range of room temperature to boiling point.
以下、本発明の化合物のうち代表的かものについてその
合成例を示す。Synthesis examples of representative compounds of the present invention will be shown below.
合成例1 (化合物/I63)
200m/三ツロフラスコに3.4−ジヒドロキシ−3
−シクロブテン−1,2−ジオン1.2f(0,010
5モル)と、n−ブタノール80m/を加え、攪拌しな
からLoo′cまで加熱し溶解させた。Synthesis Example 1 (Compound/I63) 3.4-dihydroxy-3 in a 200 m/Mitsuro flask
-cyclobutene-1,2-dione 1.2f (0,010
5 mol) and 80 ml of n-butanol were added, and the mixture was heated to Loo'c without stirring to dissolve it.
次に、キノリン3 ml、1.4−ジメチル−7−イツ
ブロビルアズレン4.46f(0,0225モル)およ
びベンゼン30m1を順次フラスコ中に加え、反応を開
始させた。反応は95〜110℃において、ベンゼン4
5m1!、n−ブタノールaomzを分割添加しながら
、水を共沸留去させて5時間行なった。Next, 3 ml of quinoline, 4.46 f (0,0225 mol) of 1,4-dimethyl-7-itubrobil azulene, and 30 ml of benzene were sequentially added into the flask to start the reaction. The reaction was carried out at 95-110°C with benzene 4
5m1! , n-butanol aomz was added in portions while water was azeotropically distilled off for 5 hours.
反応液を冷却後、吸引濾過し、n−ブタノール59 m
l、メタノール100 ml!で預次洗浄し、粗顔料を
得た。After cooling the reaction solution, it was filtered with suction, and 59 m of n-butanol was added.
l, 100 ml of methanol! A crude pigment was obtained.
さらにテトラヒドロフラン100m/で2回煮沸濾過し
、化合物/I63を3,7を得た。収高74.7%融点
=237〜239℃(キャピラリー法)元素分析:
分子式 C34H3402計算値(%) 分析値(
%)
C: 86.02 85.91H: 7
.23 7.34
溶液吸収スペクトル:クロロホルム中
λmax ” 770 nm
合成例2 (化合物414)
アズレン0.64f、オルトギ酸エチル7.5mI!そ
してエタノール15ml!よシ成る溶液を室温下に攪拌
し、その液中に7ON過塩素酸1.25rrRとエタノ
ール7.5m!!より成る液を加えた。すぐに、黒色の
針状晶の析出が認められた。この液を40分間室温で攪
拌した後、吸引濾過し化合物412を得た。エタノール
20m1!で2回洗浄濾過した後、水30ml中に入れ
30分間攪拌後濾過した。次にエタノール20m/で再
度洗浄後乾燥した。得fo、87f(収車95X)融点
:260℃以上(キャピラリー法)溶液吸収スペクトル
:ジクロルメタン中λmax = 623nm
元素分析: 分子式 CxtHssC104計算
式(%) 分析値(%)
C68,7668,61
H4,134,03
Cl 9.66 9.34合成例3
(化合物層15)
アズレン1.Of、3−エトキシメチレングアイアズレ
ニウムバークロレート2.77?およびメタノール47
m1より成る液を5分間攪拌環流させ、反応液を一晩放
置した。析出物を濾過し、20m/のメタノールで洗浄
後乾燥し、粗生成物2、35 tを得た。(粗収高69
%)、粗生成物2、Ofをアセトントリルによシ再結晶
し、1.3Fの化合物413を得た。Further, the mixture was boiled and filtered twice with 100 m/g of tetrahydrofuran to obtain compound/I63 3,7. Yield 74.7% Melting point = 237-239°C (capillary method) Elemental analysis:
Molecular formula C34H3402 Calculated value (%) Analysis value (
%) C: 86.02 85.91H: 7
.. 23 7.34 Solution absorption spectrum: λmax ” 770 nm in chloroform Synthesis Example 2 (Compound 414) A solution consisting of 0.64f azulene, 7.5ml of ethyl orthoformate! and 15ml of ethanol was stirred at room temperature, and the solution A solution consisting of 1.25 rrR of 7ON perchloric acid and 7.5 m of ethanol was added to the solution. Immediately, the precipitation of black needle-shaped crystals was observed. After stirring this solution for 40 minutes at room temperature, it was suctioned. Compound 412 was obtained by filtration. After washing and filtration twice with 20 ml of ethanol, it was poured into 30 ml of water, stirred for 30 minutes, and then filtered. Next, it was washed again with 20 ml of ethanol and dried. 95 .34 Synthesis Example 3
(Compound layer 15) Azulene 1. Of, 3-ethoxymethylene guaia azulenium verchlorate 2.77? and methanol 47
The solution consisting of m1 was stirred and refluxed for 5 minutes, and the reaction solution was left overnight. The precipitate was filtered, washed with 20 m/m of methanol, and dried to obtain 2.35 t of crude product. (Gross revenue 69
%), the crude product 2, Of was recrystallized from acetone trile to obtain 1.3F compound 413.
融点:194〜196℃(キャピラリー法)溶液吸収ス
ペクトル:
λmax ” 648 nm
元素分析: 分子式 Cx5HzsC104計算
値(%) 分析値(9g)
C71,4671,24
H5,785,81
C18,118,17
合成例4 (化合物層24)
1.4−ジメチル−7−イツプロビルアズレン2.4f
、4ONグリオキザール水溶液3.Of。Melting point: 194-196°C (capillary method) Solution absorption spectrum: λmax ” 648 nm Elemental analysis: Molecular formula Cx5HzsC104 calculated value (%) Analysis value (9 g) C71,4671,24 H5,785,81 C18,118,17 Synthesis example 4 (Compound layer 24) 1.4-dimethyl-7-itsuprobil azulene 2.4f
, 4ON glyoxal aqueous solution 3. Of.
アセトニトリル50m1!そして7ON過塩素酸3、0
mlよシ成る液を75〜80℃で4分間加熱攪拌し、
放冷した。翌日析出物をF遇し、アセトニトリル15m
/で洗浄・濾過後乾燥して化合物421を1.53 f
得た。(収! 40.8 X )融点:260℃以上(
キャピラリー法)溶液吸収スペクトル:アセニトリル中
λmax = 534 nm
元素分析: 分子式 C3,H3,CI!203
計算値(X) 分析値(%)
C62,0361,97
H5,875,96
Cl 11.44 11.78合成例
5 (化合物/4630)
氷酢酸70m1中に1,3−シフオルミルアズレン1.
4fと184−ジメチル−7−イツプロビルアズレン3
.Ofを加え、加熱攪拌し、105℃とした。この液に
70X過塩素酸3.4m/を加え、同温度で5分間加熱
後−晩放置した。析出物を濾過し氷酢酸10m/で洗浄
濾過後、水50 mlで2回洗浄濾過後乾燥し、粗染料
2.4fを得た。Acetonitrile 50ml! and 7ON perchloric acid 3,0
ml of liquid was heated and stirred at 75 to 80°C for 4 minutes,
It was left to cool. The next day, treat the precipitate with F and add 15 m of acetonitrile.
Washed and filtered with / and dried to obtain compound 421 at 1.53 f
Obtained. (Yield! 40.8X) Melting point: 260℃ or higher (
Capillary method) Solution absorption spectrum: λmax in acenitrile = 534 nm Elemental analysis: Molecular formula C3, H3, CI! 203
Calculated value (X) Analytical value (%) C62,0361,97 H5,875,96 Cl 11.44 11.78 Synthesis example 5 (Compound/4630) 1.
4f and 184-dimethyl-7-itsuprobil azulene 3
.. Of was added, and the mixture was stirred and heated to 105°C. To this liquid was added 3.4 m of 70X perchloric acid, heated at the same temperature for 5 minutes, and then left overnight. The precipitate was filtered, washed and filtered with 10ml of glacial acetic acid, washed twice with 50ml of water, filtered, and dried to obtain 2.4f of crude dye.
(粗収車65N)粗生成物2.Ofをアセトニトリルに
より再結晶して化合物A26を1.2f得た。(Rough collection vehicle 65N) Crude product 2. Of was recrystallized from acetonitrile to obtain 1.2 f of Compound A26.
融点:260℃以上(キャピラリー法)溶液吸収スペク
トル:氷酢酸中
λmax =660 nm
元素分析: 分子式 C42H42C120s計
算値(%) 分析値(X)
C67,6467,76
H5,695,78
Cl 9゜51 9.31合成例6
(化合物層38)
1−7オルミルー5−イソプロピル−3,8−ジメチル
アズレン0.60f、4−メチル−1−エチルキノリニ
ウムアイオダイド0.79 f 、ピペリジン1.8m
/そしてエタノール22m1!より成る液を加熱攪拌し
、液温75〜80℃で10分間反応させた後、−晩放置
した。析出した結晶を濾過し、エタノール10m/で2
回洗浄濾過後乾燥しsO,72tの化合物層34を得た
。Melting point: 260°C or higher (capillary method) Solution absorption spectrum: λmax = 660 nm in glacial acetic acid Elemental analysis: Molecular formula C42H42C120s Calculated value (%) Analysis value (X) C67,6467,76 H5,695,78 Cl 9°51 9 .31 Synthesis Example 6
(Compound layer 38) 1-7 ormylu-5-isopropyl-3,8-dimethylazulene 0.60f, 4-methyl-1-ethylquinolinium iodide 0.79f, piperidine 1.8m
/And 22ml of ethanol! The solution was heated and stirred, reacted for 10 minutes at a solution temperature of 75 to 80°C, and then left overnight. The precipitated crystals were filtered and diluted with 10 m/2 of ethanol.
After repeated washing and filtration, the mixture was dried to obtain a compound layer 34 of sO, 72t.
(収率55X)
融点=243〜5℃ (キャピラリー法)溶液吸収スペ
クトル:ジクロルメタン中λmax” 644 nm
元素分析: 分子式 C,、H2゜IN計算値(
%) 分析値(%)
C66,2666,34
H5,975,81
N 2.76 2.711 2
5.01 25.14合成例7 (化合物/16
44)
P−ジメチルアミノベンズアルデヒド5.96t、70
X過塩素酸10rrl/とテトラヒドロ7ラン400m
1より成る液に、1,4−ジメチル−7−イツプロビル
アズレン7、92 fとテトラヒドロフラン400m/
よりなる溶液を室温下に滴下し、2時間攪拌し、−晩装
置した。析出物を濾過し、テトラヒドロフランLoom
/で3回洗浄濾過を行った。次に、水200m!’で2
回洗浄濾過し、さらにテトラヒドロフラン100m/で
洗浄濾過後乾燥し、化合物/l639を10.40 f
得た。(収率60.6%)
融点:160.5〜162℃(キャピラリー法)溶液吸
収スペクトル:アセトン中
λmax 640 nm
元素分析二 分子式 C,4H,8C/NO。(Yield 55X) Melting point = 243~5℃ (Capillary method) Solution absorption spectrum: λmax" 644 nm in dichloromethane Elemental analysis: Molecular formula C,, H2゜IN calculation value (
%) Analysis value (%) C66,2666,34 H5,975,81 N 2.76 2.711 2
5.01 25.14 Synthesis Example 7 (Compound/16
44) P-dimethylaminobenzaldehyde 5.96t, 70
X perchloric acid 10rrl/and tetrahydro 7 run 400m
1, 1,4-dimethyl-7-iprobil azulene 7,92 f and tetrahydrofuran 400 m/
A solution consisting of the above was added dropwise at room temperature, stirred for 2 hours, and then allowed to stand overnight. The precipitate was filtered and diluted with tetrahydrofuran Loom.
Washing and filtration was performed three times at /. Next, 200m of water! 'de 2
Wash and filtrate twice, further wash and filtrate with 100 m/l of tetrahydrofuran, and then dry to remove compound/l639 at 10.40 m/l.
Obtained. (Yield 60.6%) Melting point: 160.5-162°C (capillary method) Solution absorption spectrum: λmax 640 nm in acetone Elemental analysis Binary Molecular formula C, 4H, 8C/NO.
計算値(X) 分析値(X)
C67,0467,17
H6,586,68
N 3.26 3.19Cl
8.25 8.16合成例8 (化合物
置57)
P−ジメチルアミノベンズアルデヒド1.5(1,7O
N過塩素酸5、Oml!と酢酸150nRよりなる溶液
中にアズレン1.28 fと酢酸150m/よりなる溶
液を室温下に滴下し、1時間攪拌した。Calculated value (X) Analyzed value (X) C67,0467,17 H6,586,68 N 3.26 3.19Cl
8.25 8.16 Synthesis Example 8 (Compound 57) P-dimethylaminobenzaldehyde 1.5 (1,7O
N perchloric acid 5, Oml! A solution consisting of 1.28 f of azulene and 150 m of acetic acid was added dropwise to the solution consisting of 1.28 f of azulene and 150 nR of acetic acid at room temperature, and the mixture was stirred for 1 hour.
析出物を濾過し、酢酸100m/で洗浄後、水250m
/中に投入し、30分攪拌後濾過した。The precipitate was filtered, washed with 100ml of acetic acid, and then washed with 250ml of water.
/, stirred for 30 minutes, and then filtered.
次に水200m/で洗浄濾過を7回行なった後乾燥し、
化合物450を2.41F得た。(収率67、 ON
’)
融点:260℃以上(キャピラリー法)溶液吸収スペク
トル:アセトニトリル中λmax 634℃m
元素分析: 分子式 Ct*HtsC/No4計
算値(X) 分析値(X)
C63,4264,58
H5,055,32
N 3.89 4.04C19,8
59,64
合成例9 (化合物462)
テトラヒドロフラン160m1!中にN−エチル−3−
ホルミルカルバゾール2.26 fとグアイアズレン(
アルドリッチ・ケミカル社製二01、Zoo−4)2.
Ofを加えて、溶解した後、室温下で70X過塩素酸5
.0m/を加えて加熱し、液温60℃〜65℃で10分
間反応させた。Next, wash and filter with 200 m of water 7 times, then dry.
2.41F of compound 450 was obtained. (Yield 67, ON
') Melting point: 260℃ or higher (capillary method) Solution absorption spectrum: λmax 634℃m in acetonitrile Elemental analysis: Molecular formula Ct*HtsC/No4 Calculated value (X) Analysis value (X) C63,4264,58 H5,055,32 N 3.89 4.04C19,8
59,64 Synthesis Example 9 (Compound 462) Tetrahydrofuran 160ml! N-ethyl-3-
Formylcarbazole 2.26 f and guaiazulene (
Aldrich Chemical Company 201, Zoo-4)2.
After adding and dissolving Of, add 70X perchloric acid 5 at room temperature.
.. 0 m/ was added and heated, and the mixture was reacted for 10 minutes at a liquid temperature of 60°C to 65°C.
その後、冷却し、−昼夜放置後、生成した析出物を戸別
した後、40m1のテトラヒドロフランで4回洗浄およ
び濾過を繰り返し、乾燥して粗生成物3.37 F (
粗収塞e 6.2 N )を得た。次に、この粗生成物
0.9Fをメチルエチルケトンとアセトニトリルの混合
溶媒(メチルエチルケトン:アセトニトリル=8:5)
により再結晶し、精製化合物層54を0.429得た。Thereafter, it was cooled, left to stand for days and nights, and the precipitate formed was taken from house to house, washed and filtered four times with 40 ml of tetrahydrofuran, and dried to obtain a crude product of 3.37 F (
A crude mass e 6.2 N) was obtained. Next, this crude product 0.9F was mixed with a mixed solvent of methyl ethyl ketone and acetonitrile (methyl ethyl ketone: acetonitrile = 8:5).
Recrystallization was performed to obtain a purified compound layer 54 with a concentration of 0.429.
融点=206℃〜208℃(キャピラリー法)溶液吸収
スペクトル(ジクロルメタン中):λmax ”’
612℃m
元素分析: 分子式 C3,H3,CI!No。Melting point = 206℃ ~ 208℃ (capillary method) Solution absorption spectrum (in dichloromethane): λmax "'
612℃m Elemental analysis: Molecular formula C3, H3, CI! No.
計算値(%) 分析値(X)
C71,4872,04
H6,016,14
N 2.78 2.80Cl
7−03 7.01赤外吸収スペクトル
:第1図に示す特性合成例10 (化合物A72)
酢酸50m1!中にp−ジメチルアミノシンナミックア
ルデヒド1.77 ?とグアイアズレン(アルドリッチ
・ケミカル社製:01,100−4)2.02を加えて
、溶解した後、103℃に加熱した。次いで、7ON過
塩素酸10m/を加えた後、103℃〜106℃で20
分間加熱しながら攪拌した後冷却した。この反応液を一
墨夜放置して生成した析出物を炉別し、これをsoml
!の酢酸で3回洗浄した。次に、250m1!の水で2
回洗浄および濾過を繰り返した後、250m1!のエチ
ルアルコールで2回洗浄および濾過を繰り返してから、
乾燥したところ1.889 (収宅40、9 N )の
化合物463を得た。Calculated value (%) Analysis value (X) C71,4872,04 H6,016,14 N 2.78 2.80Cl
7-03 7.01 Infrared absorption spectrum: Characteristics shown in Figure 1 Synthesis Example 10 (Compound A72) Acetic acid 50ml! p-dimethylaminocinnamic aldehyde in 1.77? and 2.02 g of guaiazulene (manufactured by Aldrich Chemical Company: 01,100-4) were added and dissolved, and then heated to 103°C. Then, after adding 10 m/7ON perchloric acid, the mixture was heated at 103°C to 106°C for 20 minutes.
The mixture was stirred while heating for a minute and then cooled. This reaction solution was left to stand overnight, the precipitate formed was separated in a furnace, and this was soml
! of acetic acid three times. Next, 250m1! 2 with water
After repeated washing and filtration, 250ml! After repeated washing and filtration twice with ethyl alcohol,
After drying, compound 463 was obtained with a weight of 1.889 (40,9 N).
溶液吸収スペクトル(ジクロルメタン中):λmax
” 728 nm
元素分析: 分子式 C26H3゜C/NO4計
算値(X) 分析値(%)
C68,4868,57
H6,646,73
N 3.07 3.14G
Cl 7.77 7.64
赤外吸収スペクトル:第2図に示す特性合成例11 (
化合物/1679)
グアイアズレン3.Of、7ON過塩素酸2.5m/そ
してアセトニトリル40m/より成る液に、フェニルプ
ロバラギルアルデヒド(アルドリッチ・ケミカル社製:
P3,100−0 )2.Ofとアセトニトリル20m
/より成る液を室温下に滴下し、2時間攪拌した。析出
物を濾過し、アセトニトリル20m1!で2回洗浄濾過
し、乾燥した。Solution absorption spectrum (in dichloromethane): λmax
” 728 nm Elemental analysis: Molecular formula C26H3°C/NO4 Calculated value (X) Analysis value (%) C68,4868,57 H6,646,73 N 3.07 3.14G
Cl 7.77 7.64
Infrared absorption spectrum: Characteristic synthesis example 11 shown in Figure 2 (
Compound/1679) Guaiazulene 3. Of, phenylprobalagylaldehyde (manufactured by Aldrich Chemical Company:
P3,100-0)2. Of and acetonitrile 20m
A liquid consisting of / was added dropwise at room temperature and stirred for 2 hours. Filter the precipitate and add 20ml of acetonitrile! The mixture was washed twice, filtered, and dried.
得量3.73f(収車60. ON )融点:199〜
200℃(キャピラリー法)溶液吸収スペクトル:
λmax 501 nm
元素分析: 分子式 CztH2sCI!04計
算値(%) 分析値(X)
C70,1570,06
H5,655,74
CI!8.63 8.68
本発明の光開始剤組成物には、光開始剤として有機過酸
化物を含有していることが好ましく、この有機過酸化物
は分子中に酸素−酸素結合を少なくとも1個以上有する
有機化合物のほとんどすべてが含まれる。例えば、メチ
ルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパー
オキサイド、3,3.5−トリメチルシクロヘキサノン
パーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、アセチルアセトンパーオキサイド、1.1−ビス(
ターシャリイブチルパーオキシ) −3,3,5−トリ
メチルシクロヘキサン、1゜1−ビス(ターシャリイブ
チルパーオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,4
−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)パレラー)、
2.2−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン
、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメン
ハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンピンハイ
ドロパーオキサイド、パラ−メンタンハイドロパーオキ
サイド、2.5−ジメチルヘキサン−2、−シバイドロ
バ−オキサイド、1,1,3.3−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオ
キサイド、ターシャリイプチルタミルバーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、α、α−ビス(ターシャリイ
ブチルパーオキシイソプロビル)ベンゼン、2.5−ジ
メチル−2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)
ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリ
イブチルパーオキシ)ヘキシン−3、アセチルパーオキ
サイド、インブチリルパーオキサイド、オクタノイルパ
ーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイル
パーオキサイド、3.5.5−トリメチルヘキサノイル
パーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
2.4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−ト
ルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジ
カーボネート、ジー2−エチルヘキシルパーオキシジカ
ーボネート、ジノルマルプロピルパーオキシジカーボネ
ート、ジー2−エトキシエチルパーオキシジカーボネー
ト、ジメトキシイソプロビルバーオキシカーボネート、
ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカ
ーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート
、ターシャリイブチルパーオキシイソブチレート、ター
シャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイプ
チルパーオキクネオデカノエート、ターシャリイブチル
パーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオ
キシ−3、5,5−トリメチルヘキサノエート、ターシ
ャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリイブチ
ルパーオキシベンゾエート、ジターシャリイソパーオキ
シイソフタレート、2.5−ジメ −チル−2,5−
ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、ターシャリイブ
チル過酸化マレイン酸、ターシャリイブチルパーオキシ
イソプロピルカーボネート等が挙げられる。Yield: 3.73f (Collection: 60.ON) Melting point: 199~
200°C (capillary method) solution absorption spectrum: λmax 501 nm Elemental analysis: Molecular formula CztH2sCI! 04 Calculated value (%) Analysis value (X) C70,1570,06 H5,655,74 CI! 8.63 8.68 The photoinitiator composition of the present invention preferably contains an organic peroxide as a photoinitiator, and this organic peroxide has at least one oxygen-oxygen bond in its molecule. This includes almost all organic compounds that have more than one. For example, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3.5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis(
tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1゜1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane, n-butyl-4,4
-bis(tert-butylperoxy)parer),
2.2-bis(tert-butylperoxy)butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenpine hydroperoxide, para-menthane hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,- Civid rober oxide, 1,1,3.3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl tamyl peroxide,
Dicumyl peroxide, α,α-bis(tert-butylperoxyisopropyl)benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)
Hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexyne-3, acetyl peroxide, imbutyryl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, 3.5 .5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide,
2.4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxy isoprobil baroxycarbonate,
Di(3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxyisobutyrate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tertiary butyl peroxyoctanoate, tertiary butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tertiary butyl peroxylaurate, tertiary butyl peroxybenzoate, ditertiary isoperoxy isophthalate, 2 .5-dimethyl-2,5-
Examples include di(benzoylperoxy)hexane, tert-butyl peroxymaleic acid, tert-butyl peroxyisopropyl carbonate, and the like.
また、その他、前記の公知々光重合開始剤を前記アズレ
ニウム塩化合物および前記有機過酸化物からなる光開始
剤組成物に混合してもかまわない。In addition, the above-mentioned known photopolymerization initiators may be mixed into the photoinitiator composition comprising the azulenium salt compound and the organic peroxide.
本発明に用いる光重合性感光成分け、すべての不飽和化
合物を挙げることができ、これらの不飽和化合物として
は、重合性のエチレン系不飽和結合を有する七ツマ−、
オリゴマー、ポリマーなどがあり、例えばアクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸及びその無水物
、7タル酸及びその無水物、7マル酸等の不飽和酸や(
メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸グリシ
ジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、マレイン
酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート等の不飽和酸エステル、
及びスチレン、アクリルアミド、アクリロニトリル、N
−ビニルビ四すドン、酢酸ビニル、さらに種々の不飽和
ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリウレタ
ンやエポキシ(メタ)アクリレート化合物などが挙げら
れる。The photopolymerizable photosensitive component used in the present invention can include all unsaturated compounds, and examples of these unsaturated compounds include hexamers having a polymerizable ethylenically unsaturated bond;
There are oligomers and polymers, such as acrylic acid,
Unsaturated acids such as methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid and its anhydride, 7-talic acid and its anhydride, 7-malic acid,
Methyl acrylate, ethyl (meth)acrylate,
Butyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dimethyl fumarate,
Unsaturated acid esters such as pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate,
and styrene, acrylamide, acrylonitrile, N
Examples include -vinyl bisodone, vinyl acetate, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyurethanes, and epoxy (meth)acrylate compounds.
前述のような光重合性感光成分の1種または2稽以上の
混合物に本発明の前記一般式[:I][”lI]または
(I[[]のアズレニウム塩化合物からなる光開始剤組
成物を、または、前記アズレニウム塩化合物と前記有機
過酸化物からなる光開始剤組成物を添加し、必要に応じ
て通常の染料、顔料、添加剤、禁止剤、およびバインダ
ー等と適当な希釈溶媒を加えて光重合性組成物とする。A photoinitiator composition comprising an azulenium salt compound of the general formula [:I]["lI] or (I[[]) of the present invention is added to one or a mixture of two or more photopolymerizable photosensitive components as described above. Alternatively, a photoinitiator composition consisting of the azulenium salt compound and the organic peroxide is added, and if necessary, ordinary dyes, pigments, additives, inhibitors, binders, etc. and a suitable diluting solvent are added. In addition, it is used as a photopolymerizable composition.
特にバインダーとしては塗膜形成能力をもつポリマーが
すべて利用できるが、例えば、ポリ−N−ビニルピロリ
ドン、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニルおよびそれらの共重合体などが挙げられる。In particular, as the binder, any polymer capable of forming a coating film can be used, and examples thereof include poly-N-vinylpyrrolidone, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl acetate, and copolymers thereof.
光開始剤組成物の添加量は光重合性感光成分100重量
部に対して0.1〜100重量部、好ましくは0.5〜
50重量部である。また光開始剤組成物は前記アズレニ
ウム塩化合物と有機過酸化物とを有効成分として含有す
る場合、両者の配合割合は重量比でアズレニウム塩化合
物:有機過酸化物=0.1:99.9〜100 :0で
あり、好ましくけ、3〜95:97〜5である。The amount of the photoinitiator composition added is 0.1 to 100 parts by weight, preferably 0.5 to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of the photopolymerizable photosensitive component.
It is 50 parts by weight. When the photoinitiator composition contains the azulenium salt compound and organic peroxide as active ingredients, the weight ratio of the azulenium salt compound:organic peroxide is 0.1:99.9 or more. The ratio is 100:0, preferably 3-95:97-5.
また、適当な希釈溶媒としては、本発明の光重合性組成
物を溶解するものならすべて使用可能であり、例えば、
水、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチル
クトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロルメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、トリクロルエチレン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等がある。Further, as a suitable diluting solvent, any solvent that dissolves the photopolymerizable composition of the present invention can be used, for example,
Water, methanol, ethanol, propatool, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl lactone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, benzene, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, Examples include trichlorethylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, etc.
このよう忙して得られた光重合性組成物は紫外から可視
光の巾広い領域の活性光線を照射することにより短時間
のうちに重合反応が達せられる。光線としては超高圧、
高圧、中圧、低圧。The photopolymerizable composition thus obtained can undergo a polymerization reaction in a short time by irradiating it with active light in a wide range from ultraviolet to visible light. Ultra-high pressure as a beam of light,
High pressure, medium pressure, low pressure.
の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセ
ノン灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザ
ーランプ、螢光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使
用できる。Mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight, etc. can be used.
本発明の光重合組成物は通常、光重合反応に使用できる
他、光硬化型の塗料、印刷インキ。The photopolymerizable composition of the present invention can generally be used in photopolymerization reactions, as well as photocurable paints and printing inks.
接着剤や印刷版作製、さらにプリント基板、IC等作製
の際のフォトレジスト等々多方面に適用することが可・
能であり、またその効果も非常に良好である。特に本発
明の光重合性組成物の特長である高感度性と可視光領域
までの巾広い分光感度特性により、Arレーザー等の可
視光レーザー用の感光材料に適用すると驚くほど良好な
効果が得られる。It can be applied to many fields such as adhesives, printing plate production, and photoresists for producing printed circuit boards, ICs, etc.
and its effects are very good. In particular, the photopolymerizable composition of the present invention has surprisingly good effects when applied to photosensitive materials for visible light lasers such as Ar lasers due to its high sensitivity and wide spectral sensitivity characteristics up to the visible light region. It will be done.
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。な
お例中の部は重量部である。これらの実施例は説明の目
的で述べるものであって本発明になんら制限を加えるも
のではない。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Note that parts in the examples are parts by weight. These examples are provided for illustrative purposes and are not intended to limit the invention in any way.
実施例1〜16
光重合性感光材料としてペンタエリスリトールトリアク
リレート100部、バインダーとしてポリ−N−ビニル
ピロリドン100部を用い、これに光開始剤組成物とし
て下記表−1に挙げた16種の7ズレニウム塩化合物5
部を添加し、さらにこれらを1000部のメチルセルロ
ルプに均一に混合し感光液とした。Examples 1 to 16 100 parts of pentaerythritol triacrylate was used as a photopolymerizable photosensitive material, 100 parts of poly-N-vinylpyrrolidone was used as a binder, and 16 kinds of 7 as shown in Table 1 below were used as a photoinitiator composition. Dulenium salt compound 5
1000 parts of methyl cellulol were added thereto, and these were further mixed uniformly with 1000 parts of methyl cellulol to prepare a photosensitive liquid.
これらの感光液を陽極酸化処理したアルミ板上に乾燥膜
厚が1μmとなるようにスピナーコート法を用いて塗布
した。These photosensitive solutions were applied onto an anodized aluminum plate using a spinner coating method so that the dry film thickness was 1 μm.
11A 光性試験B 25 W (D Ar v−ザ(
488部m)のシングルラインをビーム径1.25 m
mを用いて前記感光膜に露光し、塗膜が完全に光硬化す
るまでの必要エネルギー量(m J /CIl+” )
によ)感度を測定した。11A Optical test B 25 W (D Ar v-The (
488 part m) single line with a beam diameter of 1.25 m
The amount of energy required to expose the photosensitive film using m and until the coating film is completely photocured (m J /CIl+")
) Sensitivity was measured.
比較例1〜3
実施例1〜16で用いた光開始剤組成物の代わシに、下
記表−1に挙げた従来公知の光開始剤を用いた場合につ
いて実施例と全く、同様な感光性試験を行ない感度を測
定した。Comparative Examples 1 to 3 The photosensitivity was exactly the same as in the examples when conventionally known photoinitiators listed in Table 1 below were used instead of the photoinitiator compositions used in Examples 1 to 16. A test was conducted to measure the sensitivity.
実施例1〜16、比較例1〜3の結果を表−1に示す。The results of Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in Table 1.
表−1光感度試験結果
−21,2−ベンゾアントラキノン 6000−3
チオアクリドン 73〇−4ベンゾ
フェノン ※1)1) * 50000
mJ/am2の露光を与えても硬化しなかったものを表
わす。Table-1 Photosensitivity test results-21,2-benzaanthraquinone 6000-3
Thioacridone 730-4 benzophenone *1)1) *50000
It represents a material that was not cured even after exposure of mJ/am2.
実施例17〜25
実施例1〜50において、光開始剤組成物として、下記
表−2に挙げたアズレニウム塩化合物3部と有機過酸化
物3部の割合で添加した以外は実施例1〜50と全く同
様の方法で感光液を作製し、感光性試験を行ない感度を
測定した。Examples 17 to 25 Examples 1 to 50 except that the photoinitiator composition was added in the ratio of 3 parts of the azulenium salt compound and 3 parts of the organic peroxide listed in Table 2 below. A photosensitive solution was prepared in exactly the same manner as above, and a photosensitivity test was conducted to measure the sensitivity.
表−2光感度試験結果
17 (3) BPO2)0.131
8 (3) FBIP3) 0.
0919 (3) POZ4)
0.3220 (44) BPOO,
1521(44) FBIP 0.13
22 (83) BPOO,1223(
83) PBIF 0.0725
(83) POZ O,182)
ベンゾイルパーオキサイド
3)シターシャリイブチルジパーオキシイソフタレート
4)2.5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオ
キシ)ヘキサン
実施例26〜31
実施例17〜25においてバインダーとしてポリ−N−
ビニルピロリドンの代わりにポリメタクリル酸メチル(
PMMA)、ポリスチレン(ps)、ポリ酢酸ビニル(
PVAc)を用いた以外は実施例17〜25と全く同様
の方法で感光液を作製し、感光性試験を行なった。その
結果を表−3に示す。Table-2 Photosensitivity test results 17 (3) BPO2) 0.131
8 (3) FBIP3) 0.
0919 (3) POZ4)
0.3220 (44) BPOO,
1521 (44) FBIP 0.13
22 (83) BPOO,1223(
83) PBIF 0.0725
(83) POZ O, 182)
Benzoyl peroxide 3) Shit-tert-butyl diperoxyisophthalate 4) 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane Examples 26-31 Poly-N- as binder in Examples 17-25
Instead of vinylpyrrolidone, polymethyl methacrylate (
PMMA), polystyrene (ps), polyvinyl acetate (
Photosensitive solutions were prepared in exactly the same manner as in Examples 17 to 25, except that PVAc) was used, and a photosensitivity test was conducted. The results are shown in Table-3.
Claims (3)
物を含有する光開始剤組成物及び光重合性感光成分を主
成分としたことを特徴とする光重合性組成物。(1) A photopolymerizable composition comprising as main components a photoinitiator composition containing a compound having at least one azulenium salt core and a photopolymerizable photosensitive component.
化合物が下記一般式〔 I 〕、〔II〕又は〔III〕で表わ
される化合物である特許請求の範囲第1項記載の光重合
性組成物。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、一般式〔 I 〕、〔II〕および〔III〕において
、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5、R_6お
よびR_7は水素原子、ハロゲン原子、又は1価の有機
残基を表わし、又はR_1とR_2、R_2とR_3、
R_3とR_4、R_4とR_5、R_5とR_6およ
びR_6とR_7の組合せのうち少なくとも1つの組合
せで置換又は未置換の縮合環を形成してもよい。Z^■
はアニオン残基を表わす。)(2) The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the compound having at least one azulenium salt nucleus is a compound represented by the following general formula [I], [II] or [III]. General formula [I] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [II] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [III] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (However, general formula [I], In [II] and [III], R_1, R_2, R_3, R_4, R_5, R_6 and R_7 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic residue, or R_1 and R_2, R_2 and R_3,
At least one combination of R_3 and R_4, R_4 and R_5, R_5 and R_6, and R_6 and R_7 may form a substituted or unsubstituted fused ring. Z^■
represents an anionic residue. )
る特許請求の範囲第1項記載の光重合性組成物。(3) The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the photoinitiator composition contains an organic peroxide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7577585A JPS61233736A (en) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7577585A JPS61233736A (en) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | Photopolymerizable composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61233736A true JPS61233736A (en) | 1986-10-18 |
Family
ID=13585920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7577585A Pending JPS61233736A (en) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | Photopolymerizable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61233736A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5576148A (en) * | 1994-02-01 | 1996-11-19 | Kansai Paint Co., Ltd. | Process for production of printed circuit board |
US6114092A (en) * | 1997-09-29 | 2000-09-05 | Kansai Paint Co., Ltd. | Photosensitive resin compositions for photoresist |
-
1985
- 1985-04-10 JP JP7577585A patent/JPS61233736A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5576148A (en) * | 1994-02-01 | 1996-11-19 | Kansai Paint Co., Ltd. | Process for production of printed circuit board |
US6114092A (en) * | 1997-09-29 | 2000-09-05 | Kansai Paint Co., Ltd. | Photosensitive resin compositions for photoresist |
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