JPS61229216A - Magnetic head core and its manufacture - Google Patents

Magnetic head core and its manufacture

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JPS61229216A
JPS61229216A JP7038585A JP7038585A JPS61229216A JP S61229216 A JPS61229216 A JP S61229216A JP 7038585 A JP7038585 A JP 7038585A JP 7038585 A JP7038585 A JP 7038585A JP S61229216 A JPS61229216 A JP S61229216A
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metal thin
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Takafumi Kori
郡 孝文
Hideaki Koe
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Abstract

PURPOSE:To enhance the bonding strength of half cores by forming an active metallic thin film layer made of a specific metal to a contact face between a notched slot and a bonding glass material. CONSTITUTION:Notch slots 12 formed at a prescribed pitch restricting the magnetic gap and a bonding strengthening slot 13 cut in the lengthwise direction of a core block 10 are formed to a butt face 11 with a half core block 20 on the block 10. Further, notch slots 22 in matching with the said notch slots 12, a bonding strengthening slot 23 opposed to the said bonding strengthening slot 13 and a winding slot 24 in parallel with the slot 23 and crossing the notch slots 22 are formed to a butt face 21 of the half block 20 to the half core block 10. Then active metallic thin film layers 15, 25 are formed to the butt faces 11, 21 of the half core blocks 10, 20. The active metallic thin film layers 15, 25 are adhered to the surface of the butt faces 11, 21 by applying an active metal selected from Ti, Zr, Hf, Cr, Mo or W by means of plating, vapor- deposition or sputtering.

Description

【発明の詳細な説明】 「技術分野」 本発明は、一対のハーフコアの接合強度に優れた磁気ヘ
ッドコアおよびその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION TECHNICAL FIELD The present invention relates to a magnetic head core with excellent bonding strength between a pair of half cores and a method for manufacturing the same.

「従来技術およびその問題点」 磁気ヘッドのうち、磁気ギャップ幅を一対のハーフコア
の対向面に形成した切欠溝で規制するタイプは、この切
欠溝内に充填したガラス等の非磁性接合材料により、主
に両コアブロックの接合強度を得ている。ところが切欠
溝は小さく、かつ従来品においては接合材料とコアブロ
ックの接合性がよくないため1両コアブロックの接合強
度を十分大きくすることが困難であった。このため従来
品は、ハーフコアに接合強化溝を形成したり、この接合
強化溝に充填する接合材料として接合強度の高い銀ろう
等の各種ろう材を使用したりしているが、これらの接合
強度増大手段は、ハーフコアと接合材料の接合強度を十
分に高めることができず、両者の接合面から剥離が生じ
るという問題を効果的に解決することができなかった。
"Prior art and its problems" Among magnetic heads, the type in which the magnetic gap width is regulated by notched grooves formed on the opposing surfaces of a pair of half cores uses a non-magnetic bonding material such as glass filled in the notched grooves. Mainly to obtain joint strength between both core blocks. However, the notch grooves are small, and in conventional products, the bonding properties between the bonding material and the core block are poor, so it has been difficult to sufficiently increase the bonding strength between the two core blocks. For this reason, conventional products have a bond reinforcing groove formed in the half core, and various brazing materials such as silver solder with high bonding strength are used as the bonding material to fill the bonding reinforcing groove. The increasing means could not sufficiently increase the bonding strength between the half core and the bonding material, and could not effectively solve the problem of peeling from the bonded surface between the two.

「発明の目的」 本発明は、このような従来品についての問題意識に基づ
き、特に磁気ギャップ幅を規制する切欠溝を有する一対
のハーフコアの接合強度を高めることができる磁気ヘッ
ドおよびその製造方法を得ることを目的とする。
``Object of the Invention'' Based on the awareness of the problems with conventional products, the present invention provides a magnetic head that can increase the bonding strength of a pair of half cores having notched grooves that regulate the magnetic gap width, and a method for manufacturing the same. The purpose is to obtain.

「発明の概要」 本発明は、一対のハーフコアの接合強度が低いのは結局
、金属材料からなる一対のハーフコアの切欠溝と、これ
に充填する非磁性接合材料との接合性が悪い点に起因し
ているとの認識の下に、接合性の高い材料または処理に
ついて研究の結果完成されたもので、接合材料としてガ
ラス材料を用い、このガラス材料とハーフコアの切欠溝
との接合強度を増すために、切欠溝の接合ガラス材料と
の接触面に、Ti、 Zr、Hf、 Cr、 Noおよ
びWからなる群より選ばれた一種または二種以上の活性
金属薄膜層を形成したことを特徴としている。これらの
活性金属は、低温において、ハーフコアを構成する金属
材料および接合ガラス内部に容易に拡散するという性質
を有するため、ハーフコアの切欠溝とガラス材料とを強
固に接合することができ。
"Summary of the Invention" The present invention shows that the low bonding strength of a pair of half cores is ultimately due to poor bonding between the notch grooves of the pair of half cores made of a metal material and the non-magnetic bonding material filled therein. It was completed as a result of research into materials or processes with high bonding properties, with the recognition that glass materials are used as the bonding material, and in order to increase the bonding strength between this glass material and the notch groove of the half core. A thin film layer of one or more active metals selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, Cr, No, and W is formed on the contact surface of the notched groove with the bonding glass material. . These active metals have the property of easily diffusing into the metal material constituting the half core and the bonding glass at low temperatures, so that the notch groove of the half core and the glass material can be firmly bonded.

したがって接合ガラスを介して一体化されるハーフコア
どうしの接合強度もまた高くなる。
Therefore, the bonding strength between the half cores that are integrated through the bonding glass is also increased.

また本発明方法は、一対のハーフコアの突き合わせ面に
は活性金属薄膜層を形成することなく。
Furthermore, the method of the present invention does not require forming an active metal thin film layer on the abutting surfaces of the pair of half cores.

切欠溝だけに活性金属薄膜層を形成して上記磁気ヘッド
コアを簡単に製造する方法を提案するもので、磁気ギャ
ップ幅を規制する切欠溝を形成した一対のハーフコアブ
ロックの該切欠溝を含む突き合わせ面に、上記金属から
なる活性金属薄膜層を形成し1次に、上記切欠溝内に、
接合ガラス材料を充填して後、この一対のハーフコアブ
ロックの突き合わせ面表面を、その活性金属薄膜層を除
去する深さ迄切断除去し1.さらにこの一対のハーフコ
アブロックを突き合わせて後加熱して、対向する切欠溝
内の接合ガラス材料を一体化するようにしたことを特徴
としている。
This paper proposes a method for easily manufacturing the above-mentioned magnetic head core by forming an active metal thin film layer only in the notched grooves, in which a pair of half core blocks having notched grooves for regulating the magnetic gap width are butted together including the notched grooves. An active metal thin film layer made of the above metal is formed on the surface, and then in the notch groove,
After filling the bonding glass material, the abutting surfaces of the pair of half core blocks are cut and removed to a depth where the active metal thin film layer is removed.1. Furthermore, the pair of half core blocks are butted against each other and then heated to integrate the bonded glass materials in the opposing notch grooves.

また活性金属薄膜層とハーフコアの切欠溝との接合強度
は、活性金属層を酸化処理して後、接合ガラス材料を充
填すると、さらに一層強くなる。
Further, the bonding strength between the active metal thin film layer and the notch groove of the half core becomes even stronger when the active metal layer is oxidized and then filled with a bonding glass material.

「発明の実施例」 以下図示実施例について本発明を説明する。第2図(a
)ないしくDは本発明方法の工程図で。
"Embodiments of the Invention" The present invention will be described below with reference to illustrated embodiments. Figure 2 (a
) or D are process diagrams of the method of the present invention.

10.20は、それぞれセンダスト、パーマロイ等の結
晶化金属磁性体からなるI\−フコアブロックを示す、
ハーフコアブロック10には、/\−フコアブロック2
0との突き合わせ面tiに、磁気ギャップ幅を規制する
、一定間隔で形成した切欠溝12と、コアブロックの長
手方向に連続する接合強化溝13が形成される。
10.20 each indicates an I\-fucoa block made of a crystallized metal magnetic material such as sendust or permalloy,
The half core block 10 includes /\-fucore block 2
At the abutting surface ti with 0, cut grooves 12 formed at constant intervals and which regulate the magnetic gap width, and bond reinforcing grooves 13 continuous in the longitudinal direction of the core block are formed.

これに対しハーフコアブロック20には、ハーフコアブ
ロック10との突き合わせ面21に、上記切欠溝12と
位置の合致する切欠溝22と、上記接合強化溝13と対
向する接合強化溝23と。
On the other hand, the half core block 20 has a notch groove 22 that matches the notch groove 12 and a bond reinforcing groove 23 that opposes the bond reinforcing groove 13 on the abutting surface 21 with the half core block 10 .

この接合強化溝23と平行で上記切欠溝22を横切る巻
線溝24とが形成される。
A winding groove 24 is formed parallel to the bond reinforcing groove 23 and crossing the notch groove 22.

以上の溝加工が施されたハーフコアブロック10.20
は、次にその突き合わせ面11.21に、活性金属薄膜
層15.25が形成される。この活性金属薄膜層15.
25は、Ti、 Zr、 Hf。
Half core block 10.20 with the above groove processing
A thin active metal film layer 15.25 is then formed on the abutting surface 11.21. This active metal thin film layer 15.
25 is Ti, Zr, Hf.

Cr、 NoおよびWからなる群より選ばれた一種また
は二種以上の活性金属をメッキ、蒸着、またはスパッタ
リングによって突き合わせ面11.21表面に付着形成
するもので、活性金属薄膜層15は、切欠溝12と接合
強化溝14内面に、同薄膜暦25は、切欠溝22)接合
強化溝23および巻線溝24内面にも同時に付着形成さ
れる。この活性金属薄膜層15.25は、コア10.2
0とよく拡散してこれと強固に一体化される。この活性
金属薄膜層15.25の厚さは1例えば0.1〜Ipm
 とするとよい。
One or more active metals selected from the group consisting of Cr, No, and W are deposited on the abutting surfaces 11.21 by plating, vapor deposition, or sputtering, and the active metal thin film layer 15 is formed in the notched grooves. 12 and the inner surface of the bonding reinforcing groove 14, the same thin film 25 is simultaneously formed on the inner surface of the notched groove 22), the bonding reinforcing groove 23, and the winding groove 24. This active metal thin film layer 15.25 covers the core 10.2.
It diffuses well with 0 and is strongly integrated with it. The thickness of this active metal thin film layer 15.25 is 1, for example 0.1 to Ipm.
It is good to say.

この活性金属薄膜層15.25は、次に酸化処理し、そ
の表面に酸化膜16.26を形成することが望ましい、
すなわち活性金属薄膜層15.25は、前述のようにそ
れ自体、ガラス材料およびコア材料によく拡散するが、
酸化処理することによって、ガラス材料酸化物に対する
拡散性がさらによくなる。酸化処理は、加熱処理、プラ
ズマ酸化、あるいは化学酸化のいずれによってもよい。
This active metal thin film layer 15.25 is then preferably oxidized to form an oxide film 16.26 on its surface.
That is, the active metal thin film layer 15.25 itself diffuses well into the glass material and the core material, as described above, but
The oxidation treatment further improves the diffusivity of the glass material oxide. The oxidation treatment may be heat treatment, plasma oxidation, or chemical oxidation.

加熱処理の場合1例えば100℃以上、酸化処理される
金属材料の再結晶温度以下で、 1〜30時間大気中で
加熱する。活性金属は、比較的低温で酸化するが、酸化
膜が不動態化することが多く、特に高温で処理しても酸
化量を抑えることができる0例えば、Crを850℃で
5時間加熱しても、250℃で20時間加熱しても、得
られる酸化膜厚はほぼ同じである。加熱雰囲気は、酸素
含有量を抑制した混合ガス中でもよい、この加熱処理に
よると、ハーフコアブロック10と20に上記各溝を形
成する際に生じる加工歪を焼鈍して除去できるため、磁
気特性も向上させることができ、同時に活性金属(純金
属)がセンダスト等の金属材料表面にコーティングされ
るために、汚れが少なくなり、ガラス内の気泡を減少さ
せることができるという付随効果がある。
In the case of heat treatment 1. Heating is performed in the air at a temperature of, for example, 100° C. or higher and lower than the recrystallization temperature of the metal material to be oxidized for 1 to 30 hours. Active metals oxidize at relatively low temperatures, but the oxide film often becomes passivated, so even if treated at high temperatures, the amount of oxidation can be suppressed.For example, heating Cr at 850°C for 5 hours Even when heated at 250° C. for 20 hours, the obtained oxide film thickness is almost the same. The heating atmosphere may be a mixed gas with a suppressed oxygen content. According to this heat treatment, the processing strain that occurs when forming the grooves in the half core blocks 10 and 20 can be removed by annealing, so that the magnetic properties can also be improved. At the same time, active metals (pure metals) are coated on the surface of metal materials such as sendust, which has the accompanying effect of reducing dirt and air bubbles in the glass.

またプラズマ酸化は、プラズマを活性金属薄膜層15.
25に照射してその表面に酸化11i16.26を形成
するものである。酸化膜16.26の厚さは、活性金属
薄膜層15.25の厚さの20〜BO%程度とする。
Plasma oxidation also involves adding plasma to the active metal thin film layer 15.
25 to form oxidized 11i16.26 on its surface. The thickness of the oxide film 16.26 is approximately 20 to BO% of the thickness of the active metal thin film layer 15.25.

以上の処理の終了したハーフコアブロックlOと20に
は、次にそれぞれその切欠溝12と接合強化溝13、お
よび切欠溝22)接合強化溝23および巻線溝24の一
部に、第2図(d)に示すように低融点ガラス等の接合
ガラス材料17.27を溶融軟化状態で流入させる。す
ると、接合ガラス材料17.27は活性金属薄膜層15
.25と相互拡散して強固に一体化される。このとき活
性金属薄膜層15.25に酸化膜16.26が形成され
ていると、ガラス材料17.27との拡散がより容易に
行なわれ、接合強度がアップする。すなわち、接合ガラ
ス材料17.27は、酸化膜16.26と酸素拡散をお
こし、接合ガラス材料17.27は、これらの活性薄膜
金属層15゜25、つまりブロック1O120の上記各
溝に強固に結合される。
The half core blocks IO and 20 that have undergone the above processing are then provided with their notched grooves 12 and bond reinforcing grooves 13, as well as parts of their notched grooves 22), bond reinforcing grooves 23, and winding grooves 24, respectively, as shown in FIG. As shown in (d), a bonding glass material 17.27 such as low melting point glass is introduced in a molten and softened state. The bonded glass material 17.27 then forms the active metal thin film layer 15.
.. 25 and become strongly integrated. At this time, if an oxide film 16.26 is formed on the active metal thin film layer 15.25, diffusion with the glass material 17.27 will be performed more easily and the bonding strength will be increased. That is, the bonding glass material 17.27 causes oxygen diffusion with the oxide film 16.26, and the bonding glass material 17.27 is firmly bonded to these active thin film metal layers 15.25, that is, the respective grooves of the block 1O120. be done.

次にこのハーフコアブロック10.20を、第2図(d
)に切断線C−Cで示すように、突き合わせ面11.2
1表面の活性金属薄膜層15.25を除去する深さ迄切
断除去し、新たな突き合わせ面1B、28を形成する。
Next, this half core block 10.20 is
), as shown by the cutting line C-C, the butt surface 11.2
The active metal thin film layer 15.25 on one surface is cut and removed to a depth to form new abutting surfaces 1B and 28.

この新突き合わせ面18.28は、突き合わせ面11.
21表面の活性金属薄S暦15.25、およびこの活性
金属薄膜層15.25から突出している接合ガラス材料
17.27を削り、新たな平滑な突き合わせ面を形成す
るものである。
This new abutment surface 18.28 is the abutment surface 11.
The active metal thin layer 15.25 on the surface of 21 and the bonding glass material 17.27 protruding from this active metal thin film layer 15.25 are shaved to form a new smooth abutting surface.

ハーフコアブロック1O120のこの新突き合わせ面1
8.28には、少なくともその一方に、ギャップ充填材
料19を付着させる。このギャップ充填材料19は例え
ば5i02をスパッタリングすることで形成される。こ
のギャップ充填材料19は、当然接合ガラス材料18.
28の表面にも付着する。
This new butting surface 1 of half core block 1O120
At 8.28, a gap-filling material 19 is deposited on at least one of them. This gap filling material 19 is formed by sputtering 5i02, for example. This gap-filling material 19 is of course the bonding glass material 18.
It also adheres to the surface of 28.

ハーフコアブロックlOと20は1次にその新突き合わ
せ面18と28の間にギャップ充填材料19を挟み、か
つ切欠溝12と22の位置合わせをして突き合わされ、
加熱される。するとこの加熱によって、接合ガラス材料
16と26は軟化して一体化され、この結果、ハーフコ
アブロック10と20もまた一体化される。すなわち接
合ガラス材料16は活性金属薄膜層15によって切欠溝
12および接合強化溝13に強固に一体化されており、
同様に接合ガラス材料26は活性金属薄膜層25によっ
て切欠溝22および接合強化溝23に強固に一体化され
ていて、この接合ガラス材料16と26が溶融軟化して
一体化されるために、ハーフコアブロック10と20が
強固に一体化されるのである。
The half core blocks IO and 20 are first butted together with the gap filling material 19 sandwiched between the new abutment surfaces 18 and 28, and the notch grooves 12 and 22 aligned,
heated. Due to this heating, the bonded glass materials 16 and 26 are softened and integrated, and as a result, the half core blocks 10 and 20 are also integrated. That is, the bonding glass material 16 is firmly integrated with the notch groove 12 and the bonding reinforcing groove 13 by the active metal thin film layer 15,
Similarly, the bonding glass material 26 is firmly integrated into the cutout groove 22 and the bonding reinforcing groove 23 by the active metal thin film layer 25, and since the bonding glass materials 16 and 26 are melted and softened and integrated, the half The core blocks 10 and 20 are firmly integrated.

以上の工程を経て接合された接合ブロック30は、次に
接合強化溝13と接合強化溝23の下方の不要部分を切
断線D−Dで示すように切断除去し、さらに接合された
切欠溝12と切欠溝22の幅方向の中央部を切断線E−
Eで示すように、順次切断して第2図に示すように完成
される。この完成状態では、ギャップ充填材料19を挟
んで接合されている新突き合わせ面18と28表面には
活性金属薄膜層は存在せず、切欠溝12と22)および
接合強化溝13と23の接合ガラス材料16と26との
接触部分にのみ活性金属薄膜層15.25が形成されて
いるため、磁気的に安定している。勿論、ギャップ充填
材料19もハーフコアブロックlOと20を一定の接合
強度で接合するために役立つが、活性金属薄膜層15.
25と、接合ガラス材料17.27によるハーフコアブ
ロックlOと20の接合強度は、ギャップ充填材料19
による接合強度よりはるかに高い、よってハーフコアブ
ロック10と20を強固に接合できる。なお巻線溝24
には周知のようにコイルが巻かれる。
The joined block 30 that has been joined through the above steps is then removed by cutting and removing the unnecessary portion below the joining reinforcing groove 13 and the joining reinforcing groove 23 as shown by the cutting line D-D. and the center part of the notch groove 22 in the width direction is cut along the cutting line E-
It is then cut in sequence as shown by E to complete the process as shown in FIG. In this completed state, there is no active metal thin film layer on the surfaces of the new abutting surfaces 18 and 28 that are joined with the gap filling material 19 in between, and the bonded glass between the cutout grooves 12 and 22) and the bonding reinforcement grooves 13 and 23 is not present. Since the active metal thin film layer 15, 25 is formed only in the contact area between the materials 16 and 26, it is magnetically stable. Of course, the gap-filling material 19 also serves to join the half-core blocks IO and 20 with a constant bonding strength, but the active metal thin film layer 15.
25 and the bonding strength of the half core block lO and 20 by the bonding glass material 17.27 is the gap filling material 19
Therefore, the half core blocks 10 and 20 can be firmly joined together. Note that the winding groove 24
As is well known, a coil is wound around the coil.

上記実施例では、一対のハーフコアブロック10と20
にそれぞれ、互いに対向する接合強化溝13と23を形
成しているため、両ブロックをより強固に接合すること
ができる。しかしこの接合強化溝13と23は、切欠溝
12と22の補助的作用をするもので、この接合強化溝
を形成しない場合にも、切欠溝12と22の活性金属薄
膜層15と25が、接合ガラス材料17と27によく一
体化されるため、高い接合強度で両ブロックを接合する
ことができる。
In the above embodiment, a pair of half core blocks 10 and 20
Since bond reinforcing grooves 13 and 23 are formed in each of the blocks, the two blocks can be bonded more firmly. However, these bond reinforcing grooves 13 and 23 serve as an auxiliary function to the notched grooves 12 and 22, and even when these bond reinforcing grooves are not formed, the active metal thin film layers 15 and 25 of the notched grooves 12 and 22 Since it is well integrated into the bonding glass materials 17 and 27, both blocks can be bonded with high bonding strength.

勿論、以上の製造方法とは異なる方法によって、ハーフ
コアブロック10の切欠溝12(および接合強化溝13
)とハーフコアブロック20の切欠溝22(および接合
強化溝23)にのみ、活性金属薄膜層15と25を形成
してもよいが、以上の本発明方法によれば、これを簡単
に製造することができる。
Of course, the notch grooves 12 (and the bonding reinforcement grooves 13
) and the notched grooves 22 (and the bond reinforcing grooves 23) of the half core block 20, the active metal thin film layers 15 and 25 may be formed only in the notched grooves 22 (and the bond reinforcing grooves 23), but according to the method of the present invention described above, this can be easily manufactured. be able to.

「発明の効果」 以上のように本発明の磁気ヘッドコアは、一対のハーフ
コアを接合する接合ガラス材料が、a&気ギヤー、プ幅
を規制する対向する切欠溝内に充填され、しかも切欠溝
には、活性金属薄膜層が形成されているため、ガラス材
料と切欠溝とを強固に接合できる。そして対向する切欠
溝内のガラス材料゛どうしは、これを加熱することによ
り容易に一体化することができるので、全体として切欠
溝どうし、つまり一対のハーフコアを高い接合強度で接
合することができる。
"Effects of the Invention" As described above, in the magnetic head core of the present invention, the bonding glass material that joins the pair of half cores is filled in the opposing notch grooves that regulate the width of the a and air gears, and that the notch grooves are Since the active metal thin film layer is formed, the glass material and the notched groove can be firmly bonded. Since the glass materials in the opposing notched grooves can be easily integrated by heating them, the notched grooves as a whole, that is, the pair of half cores, can be joined with high bonding strength.

また本発明方法によれば、切欠溝内面にのみ活性金属薄
膜層を形成し、ハーフコアの突き合わせ面には活性金属
薄膜層が存在しないように、容易に加工することができ
るため、本発明の磁気ヘッドコアを効率的に製造するこ
とができる。
Further, according to the method of the present invention, the active metal thin film layer is formed only on the inner surface of the notch groove, and the abutting surfaces of the half cores can be easily processed so that no active metal thin film layer exists. Head cores can be manufactured efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の磁気ヘッドコアの実施例を示す完成状
態の模式的斜視図、第2図(a)ないしく「)は本発明
の磁気ヘッドコアの製造方法の工程例を示す模式的斜視
図である。 10.20・・・ハーフコアブロック、11.21・・
・突き合わせ面、12.22・・・切欠溝、13.23
・・・接合強化溝、15.25・・・活性金属薄膜層。 16.26・・・酸化膜、17.27・・・接合ガラス
材料、18.28・・・新突き合わせ面、19・・・ギ
ャップ充填材料、24・・・巻線溝。 第1因 第2図 (b) (C) 第2図 (f) 第2図
FIG. 1 is a schematic perspective view of a completed state showing an embodiment of the magnetic head core of the present invention, and FIGS. 10.20...half core block, 11.21...
・Abutment surface, 12.22... Notch groove, 13.23
... Bonding reinforcement groove, 15.25 ... Active metal thin film layer. 16.26... Oxide film, 17.27... Bonding glass material, 18.28... New butt surface, 19... Gap filling material, 24... Winding groove. First cause Figure 2 (b) (C) Figure 2 (f) Figure 2

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)磁気ギャップを構成する金属材料からなる一対の
ハーフコアの突き合わせ面に、磁気ギャップ幅を規制す
る切欠溝を形成し、この切欠溝に接合ガラス材料を充填
して両ハーフコアを接合する磁気ヘッドコアにおいて、
上記切欠溝の接合ガラス材料との接触面に、Ti、Zr
、Hf、Cr、MoおよびWからなる群より選ばれた一
種または二種以上の活性金属薄膜層を形成したことを特
徴とする磁気ヘッドコア。
(1) A magnetic head core in which a notched groove that regulates the magnetic gap width is formed on the abutting surfaces of a pair of half cores made of metal materials that constitute a magnetic gap, and this notched groove is filled with a bonding glass material to join both half cores. In,
The contact surface of the notch groove with the bonding glass material is coated with Ti and Zr.
, Hf, Cr, Mo, and W. , Hf, Cr, Mo, and W.
(2)特許請求の範囲第1項において、一対のハーフコ
アにはそれぞれ、互いに対向する接合強化溝が形成され
、この接合強化溝の接合ガラス材料との接触面にも活性
金属薄膜層が形成されている磁気ヘッドコア。
(2) In claim 1, each of the pair of half cores is formed with a bond reinforcing groove facing each other, and an active metal thin film layer is also formed on the contact surface of the bond reinforcing groove with the bonding glass material. Has a magnetic head core.
(3)特許請求の範囲第1項または第2項において、活
性金属薄膜層は、メッキ、蒸着、またはスパッタリング
によって形成されている磁気ヘッドコア。
(3) A magnetic head core according to claim 1 or 2, wherein the active metal thin film layer is formed by plating, vapor deposition, or sputtering.
(4)特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか一
において、活性金属薄膜層は、さらに酸化処理されてい
る磁気ヘッドコア。
(4) A magnetic head core according to any one of claims 1 to 3, wherein the active metal thin film layer is further oxidized.
(5)一対の金属材料からなるハーフコアブロックにそ
れぞれ磁気ギャップ幅を規制する切欠溝を形成し、この
一対のハーフコアブロックの上記切欠溝を含む突き合わ
せ面に、Ti、Zr、Hf、Cr、MoおよびWからな
る群より選ばれた一種または二種以上の活性金属薄膜層
を形成し、次に、上記切欠溝内に、接合ガラス材料を充
填して後、この一対のハーフコアブロックの突き合わせ
面表面を、その活性金属薄膜層を除去する深さ迄切断除
去し、さらにこの一対のハーフコアブロックを突き合わ
せて後加熱して、対向する切欠溝内の接合ガラス材料を
一体化することを特徴とする磁気ヘッドコアの製造方法
(5) A pair of half core blocks made of metal materials are each formed with a notch groove that regulates the magnetic gap width, and the abutting surfaces of the pair of half core blocks including the notch grooves are coated with Ti, Zr, Hf, Cr, After forming a thin film layer of one or more active metals selected from the group consisting of Mo and W, and then filling the above-mentioned cutout groove with a bonding glass material, the pair of half core blocks are butted together. The feature is that the surface is cut and removed to a depth that removes the active metal thin film layer, and the pair of half core blocks are butted together and then heated to integrate the bonded glass materials in the opposing notched grooves. A method for manufacturing a magnetic head core.
(6)特許請求の範囲第5項において、一対のハーフコ
アブロックにはそれぞれ、互いに対向する接合強化溝が
形成され、この接合強化溝にも、切欠溝と同様に、活性
金属薄膜層の形成、接合ガラス材料の充填、突き合わせ
面の切断、および突き合わせ後の加熱が行なわれる磁気
ヘッドコアの製造方法。
(6) In claim 5, each of the pair of half core blocks is formed with bonding strengthening grooves facing each other, and the bonding reinforcing grooves are also provided with an active metal thin film layer in the same manner as the notched grooves. A method for manufacturing a magnetic head core, which includes filling a bonding glass material, cutting a butt surface, and heating after the butt.
(7)特許請求の範囲第5項または第6項において、ハ
ーフコアブロックは、活性金属薄膜層を形成後、接合ガ
ラス材料を充填する前に、酸化処理される磁気ヘッドコ
アの製造方法。
(7) A method of manufacturing a magnetic head core according to claim 5 or 6, wherein the half core block is subjected to oxidation treatment after forming the active metal thin film layer and before filling the bonding glass material.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60175310U (en) * 1984-04-26 1985-11-20 ティーディーケイ株式会社 magnetic head

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