JPS61210079A - 4-aza-1-thiacycloheptane derivative - Google Patents

4-aza-1-thiacycloheptane derivative

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JPS61210079A
JPS61210079A JP60049953A JP4995385A JPS61210079A JP S61210079 A JPS61210079 A JP S61210079A JP 60049953 A JP60049953 A JP 60049953A JP 4995385 A JP4995385 A JP 4995385A JP S61210079 A JPS61210079 A JP S61210079A
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Japan
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naphthyl
tert
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acid
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JPH056544B2 (en
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Hiroaki Yanagisawa
宏明 柳沢
Sadao Ishihara
石原 貞夫
Akiko Ando
安東 秋子
Takuo Kanezaki
金崎 拓郎
Hiroyuki Koike
博之 小池
Yoshio Tsujita
代史雄 辻田
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Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:4-Aza-5-oxo-1-thiacycloheptane derivative of formula I (R<1> is alkyl, cycloalkyl or aralkyl; R<2> and R<4> are H or carboxyl-protecting group; R<3> is naphthyl; Z is lower alkylene). EXAMPLE:4-Aza-4-tert-butoxycarbonylmethyl-6-(1-ethoxycarbonyl-3-phenyl propyl) amino-5-oxo-2-(1-naphthyl)-1-thiacycloheptane. USE:It has activity to inhibit angiotensinase, and is useful as a remedy for hypertension. Useful also as an important synthetic intermediate of the remedy. It has long-acting activity and can be administered orally. PREPARATION:The compound of formula I can be produced by reacting the compound of formula II with the compound of formula III (X is halogen or sulfonyloxy) in a solvent in the presence of a base.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は血圧降下作用を表わす医薬およびその重要合成
中間体として有用な4−アザ−5−オキソ−1−チアシ
クロへブタン〔別称、テトラヒドロ−1,4−チアゼピ
ン−5(2H)−オン〕誘導体に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides 4-aza-5-oxo-1-thiacyclohebutane (also known as tetrahydro-1,4-thiazepine-5), which is useful as a drug exhibiting hypotensive action and as an important synthetic intermediate thereof. (2H)-one] derivative.

さらに詳しくは本発明は一般式 (式中、R1はアルキル基、シクロアルキルアルキル基
またはアラルキル基を示し、R2およびR4は同一また
は異なつ【水素原子またはカルボキシ基の保護基を示し
、R3はナフチル基を示し、人は低級アルキレン基を示
す。) で表わされる新規な4−アザ−5−オキソ−1−チアシ
クロへブタン誘導体およびその薬理上許容される塩に関
するものである。
More specifically, the present invention relates to the general formula (wherein R1 represents an alkyl group, a cycloalkylalkyl group, or an aralkyl group, R2 and R4 are the same or different and represent a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and R3 is a naphthyl group). The present invention relates to a novel 4-aza-5-oxo-1-thiacyclohebutane derivative represented by the following formula and a pharmacologically acceptable salt thereof.

本発明者等は、血圧降下剤の研究開発を目的として合成
研究を行ない、前記一般式CI)を有する新規化合物が
アンジオテンシン変換酵素に対する阻害活性を有し、経
口投与によって持続性を表わす高血圧症治療剤として有
用であることを見出して本発明を完成した。
The present inventors conducted synthetic research for the purpose of research and development of antihypertensive agents, and found that a novel compound having the general formula CI) has an inhibitory activity against angiotensin converting enzyme, and can be used to treat hypertension by oral administration. The present invention was completed based on the discovery that it is useful as a drug.

発明の構成 前記一般式〔I〕で舜わされる化合物は、星印(−1で
表わされる位置(場合によつ【はその他の位置)k不斉
炭素原子を含有するので、光学的に純粋なジアステレオ
異性体、ジアステレオ異性体のラセミ体またはジアステ
レオ異性体の混合物が存在し得る。本発明はこれら立体
異性体のいずれの形態も包含することができる。
Structure of the Invention The compound represented by the above general formula [I] contains a k-asymmetric carbon atom at the position indicated by an asterisk (-1 (in some cases, other positions)), so it is optically There may be pure diastereoisomers, racemates of diastereoisomers or mixtures of diastereoisomers; the invention may encompass any of these stereoisomeric forms.

次ニ、前記一般式CI”l 中ノミ換基B1. B2.
 B!1゜几1およびA)(ついて具体的に説明する。
Second, the chisel substituent B1. B2. in the general formula CI"l.
B! 1゜几1 and A) (will be explained in detail.

R’ &Cおけるアルキル基としては、炭素数1乃至9
個のアルキル基であり、例えばメチル。
The alkyl group in R'&C has 1 to 9 carbon atoms.
alkyl groups, such as methyl.

エチル、n−プロピル、インプロピル、n−ブチル、イ
ノブチル、tert−ブチル、ペンチル、ネオペンチル
、ヘキシル、オクチル、ノニル等であり、シクロアルキ
ルアルキル基としては、炭素数5乃至7個のシクロアル
キル基を有する炭素数1乃至2個を有するアルキル基で
あり、例えばシクロペンチルメチル、2−シクロペンチ
ルエチル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシル
エチル、シクロヘプチルメチル、2−シクロへブチルエ
チル等であり、アラルキル基としては例えばベンジル、
フェネチル、1−ナフチルメチル、1−ナフチルエチル
、2−ナフチルメチル、2−ナフチルエチル、2−イン
ダニル等があげられる。これらのシクロアルキル基また
はアラルキル基は置換基を有してもよく、そのような置
換基としては、炭素数1乃至4個の低級アルキル基(例
えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イノブチル、tert−ブチル等)、 炭素
数1乃至4個の低級アルコキシ基(例えばメトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−プトキ
シ、イソブトキシ等)、ノ・ロゲン(例えばフッ素、塩
素、臭素等)、炭素数1乃至4個の低級アルキルチオ基
(例えばメチルチオ、エチルチオ等)、があげられ、こ
れらの置換基は同一または組合わされて1乃至3個置換
されていてもよい。
These include ethyl, n-propyl, inpropyl, n-butyl, inobutyl, tert-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, octyl, nonyl, etc. The cycloalkylalkyl group includes a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms. An alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, such as cyclopentylmethyl, 2-cyclopentylethyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, cycloheptylmethyl, 2-cyclohebutylethyl, etc., and an aralkyl group such as benzyl ,
Examples include phenethyl, 1-naphthylmethyl, 1-naphthylethyl, 2-naphthylmethyl, 2-naphthylethyl, 2-indanyl, and the like. These cycloalkyl groups or aralkyl groups may have a substituent, and such substituents include lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl,
-butyl, inobutyl, tert-butyl, etc.), lower alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, etc.), norogens (e.g., fluorine, chlorine, etc.) , bromine, etc.), lower alkylthio groups having 1 to 4 carbon atoms (eg, methylthio, ethylthio, etc.), and these substituents may be the same or in combination and may be substituted with 1 to 3.

R2およびaA Vcおけるカルボン酸の保護基トして
は、有機合成化学において一般に広く知られている保護
基であるかまたは薬理学的に生体内においてカルボキシ
基に変換し得るエステル残基のことである。その上うな
保護基としては炭素数1乃至6個のアルキル基(例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、  tert−ブチル、 n−ペン
チル、n−ヘキシル等)、アラルキル基(例えばベンジ
ル、ジフェニルメチル、1−インダニル、2−インダニ
ル、1−(1,2,L4−テトラヒドロナフチル)、2
−(1,2,14−テトラヒドロナフチル)、フタリジ
ル等)、アリール基(例えばフェニル等)、シリル基(
例えばトリメチルシリル、’、 ’ tert−ブチル
ジメチルシリル等)があげられる。上記保護基には、ア
ルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アシルオ
キシ、オキソ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、ア
ルコキシカルボニルオキシ、アシルアミノ、ニトロ、シ
アノ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ
、アシルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキ
ルスルホニル、7リールスルホニル、2−オキソ−1,
3−ジオキソレン−4−イル基等の置換基が存在しても
よく、これらの置換基は同一または組合わされて1乃至
3個置換されていてもよい。そのような置換基の例とし
ては例えばノーロゲンにおいては2.z2−トリクロル
エチル、2−ヨードエチル等、ヒドロキシにおいては2
−ヒドロキシエチル、z3−ジにドロキシプロピル等、
ア    ′ルコキシにおいてはメトキシメチル、2−
メトキシエトキシメチル、p−メトキシベンジル等、ア
シルオキシにおいてはアセトキシメチル、1−7セトキ
シエチル、ピバロイルオキシメチル   □等、オキソ
においてはフェナシル等、アルコキシカルボニルにおい
てはメトキシカルボニルメチル等、アルコキシカルボニ
ルオキシにおいてはエトキシカルボニルオキシメチル、
1−(エトキシカルボニルオキシ)エチル等、ニトロに
おいてはp−ニトロベンジル等、シアノにおいてはシア
ンエチル等、アルキルチオにおいてはメチルチオメチル
、エチルチオメチル等、アリールチオにおいてはフェニ
ルチオメチル等、アルキルスルホニルにおいてはメタン
スルホニルエチル等、アリールスルホニルにおいてはベ
ンゼンスルホニルエチル等、2−オキソ−1,3−ジオ
キソレン−4−イルにおいては、(5−メチル−2−オ
キソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、(5
−フェニル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−
イル)メチル等があげられる。これらカルボン酸の保護
基は、保護の目的を達する限りこの発明の要旨を変更す
ることなく広範な変化が可能である。
The carboxylic acid protecting groups in R2 and aA Vc are generally widely known protecting groups in organic synthetic chemistry, or are ester residues that can be pharmacologically converted into carboxy groups in vivo. be. In addition, such protecting groups include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, etc.), aralkyl groups, (e.g. benzyl, diphenylmethyl, 1-indanyl, 2-indanyl, 1-(1,2,L4-tetrahydronaphthyl), 2
-(1,2,14-tetrahydronaphthyl), phthalidyl, etc.), aryl groups (e.g. phenyl, etc.), silyl groups (
Examples include trimethylsilyl, ', 'tert-butyldimethylsilyl, etc.). The above protecting groups include alkyl, halogen, hydroxy, alkoxy, acyloxy, oxo, carboxy, alkoxycarbonyl, alkoxycarbonyloxy, acylamino, nitro, cyano, amino, monoalkylamino, dialkylamino, acylamino, alkylthio, arylthio, alkylsulfonyl , 7lylsulfonyl, 2-oxo-1,
A substituent such as a 3-dioxolen-4-yl group may be present, and 1 to 3 of these substituents may be the same or in combination. Examples of such substituents include, for example, 2. z2-Trichloroethyl, 2-iodoethyl, etc., 2 in hydroxy
-Hydroxyethyl, z3-di-droxypropyl, etc.
For alkoxy, methoxymethyl, 2-
Methoxyethoxymethyl, p-methoxybenzyl, etc., acyloxy such as acetoxymethyl, 1-7cetoxyethyl, pivaloyloxymethyl □, etc., oxo such as phenacyl, alkoxycarbonyl such as methoxycarbonylmethyl, alkoxycarbonyloxy such as ethoxy carbonyloxymethyl,
1-(ethoxycarbonyloxy)ethyl, etc., nitro such as p-nitrobenzyl, cyano such as cyanethyl, alkylthio such as methylthiomethyl, ethylthiomethyl, etc., arylthio such as phenylthiomethyl, alkylsulfonyl such as methane. Sulfonylethyl, etc., arylsulfonyl such as benzenesulfonylethyl, 2-oxo-1,3-dioxolen-4-yl, (5-methyl-2-oxo-1,3-dioxolen-4-yl)methyl, (5
-Phenyl-2-oxo-1,3-dioxolene-4-
(il) methyl, etc. These carboxylic acid protecting groups can be widely varied without changing the gist of the invention as long as the purpose of protection is achieved.

几3は1−ナフチル基または2−ナフチル基であり、こ
れらのナフチル基は置換基を有していてもよく、そのよ
うな置換基としては、炭素数1乃至4個のアルキル基(
例えばメチル、エチル、n−プロピル、インプロピル、
n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル等)、炭素
数1乃至4個のアルコキシ基(例えばメトキシ、エトキ
シ、n−プロポキシ、インプロポキシ、n−ブトキシ、
インブトキシ、  tert−ブトキシ等)があげられ
る。
几3 is a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group, and these naphthyl groups may have a substituent, such as an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (
For example, methyl, ethyl, n-propyl, inpropyl,
n-butyl, isobutyl, tert-butyl, etc.), alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms (e.g. methoxy, ethoxy, n-propoxy, impropoxy, n-butoxy,
(imbutoxy, tert-butoxy, etc.).

人の低級アルキレン基としては、炭素数1乃至2個のア
ルキレン基であり、例えばメチレン、エチレン、エチリ
デン等があげられる。
Examples of lower alkylene groups include alkylene groups having 1 to 2 carbon atoms, such as methylene, ethylene, and ethylidene.

前記一般式CI)における好適な化合物としては、R1
がn−ブチル、イソブチル、 n−ペンチル、インペン
チル、ネオペンチル、n−ヘキシル、イソオクチル、n
−オクチル、n−ノニルのような炭素数4乃至9個を有
する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、2−シクロ
ペンチルエチル、2−シクロヘキシルエチルのヨウな五
員若しくは六−シクロアルキルエチル基、ベンジル、フ
ェネチル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル、
1−ナフチルエチル、2−ナフチルエチル、2−インド
リルのような炭素数7乃至12個を有するアラルキル基
であり、R2が水素原子、またはメチル、 エチル、n
−プロビル、インプロピル、n−ブチル、イソプfk、
n−ペンチル、n−ヘキシルのよウナ炭素数1乃至6 
(1!dを有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基
、ベンジルのようなアラルキル基、アセトキシメチル、
ピバロイルオキシメチル、フタリジル、1−(エトキシ
カルボニルオキシ)エチル、(5−メチル−2−オキノ
ー1.3−ジオキソレン−4−イル)メチルのような生
体内で容易にカルボキシ基に変換し得る保護基であり、 R3が1−ナフチル基または2−ナフチル基であり、 人がメチレン基であり、 R4が水素原子、tcrt−ブチル、メトキシメチ/L
’、12.2−17クロルエチル、アリル、ベンジル、
p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ジフェニ
ルメチルのような有機合成化学において使用するカルボ
キシ基の保護基またはアセトキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、1−(エトキシカルボニルオキシ)エチル
、フタリジル、(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジ
オキソレン−4−イル)メチルのような生体内で容易に
カルボキシ基に変換し得る保護基である化合物をあげる
ことができる。
Suitable compounds in the general formula CI) include R1
is n-butyl, isobutyl, n-pentyl, impentyl, neopentyl, n-hexyl, isooctyl, n
- Straight chain or branched alkyl groups having 4 to 9 carbon atoms such as octyl and n-nonyl; 5-membered or 6-cycloalkylethyl groups such as 2-cyclopentylethyl and 2-cyclohexylethyl; , benzyl, phenethyl, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl,
It is an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms such as 1-naphthylethyl, 2-naphthylethyl, 2-indolyl, and R2 is a hydrogen atom, or methyl, ethyl, n
-provil, inpropyl, n-butyl, isopfk,
Carbon number 1 to 6, such as n-pentyl and n-hexyl
(linear or branched alkyl group having 1!d, aralkyl group such as benzyl, acetoxymethyl,
Can be easily converted into carboxy groups in vivo, such as pivaloyloxymethyl, phthalidyl, 1-(ethoxycarbonyloxy)ethyl, and (5-methyl-2-oquino-1,3-dioxolen-4-yl)methyl. is a protecting group, R3 is a 1-naphthyl group or 2-naphthyl group, human is a methylene group, and R4 is a hydrogen atom, tcrt-butyl, methoxymethy/L
', 12.2-17 chloroethyl, allyl, benzyl,
Protecting groups for carboxyl groups used in organic synthetic chemistry such as p-nitrobenzyl, p-methoxybenzyl, diphenylmethyl, or acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, 1-(ethoxycarbonyloxy)ethyl, phthalidyl, (5- Compounds such as methyl-2-oxo-1,3-dioxolen-4-yl) which are protecting groups that can be easily converted into a carboxy group in vivo can be mentioned.

このような本発明の新規化合物〔I〕は、常法に従って
酸または塩基で処理するととにより、薬理上許容し得る
塩に変えることができる。このような酸付加塩の例とし
ては、無機酸、例えばハロゲン化水素酸(例えば塩酸、
臭化水素酸等)、硫酸、リン酸および硝酸等の塩、およ
び有機酸(例えばシュウ酸、マレイン酸、フマル酸、酒
石酸、クエン酸、メタンスルホン酸およびベンゼンスル
ホン酸等)などKよる付加塩があげられる。また塩基た
よる塩としては、アルカリ金属水酸化物(例えば力性ソ
ーダ、水酸化カリウム等)、アルカリ土類金属水酸化物
(例えば水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等)、
水酸化アンモニウム、水酸化アルミニウムおよび有機塩
基(例えばトリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン
、シンコニン、クアニジン、キニーネ等)、塩基性アミ
ノ酸(例えばリジン、アルギニン等)な、どkよる塩が
あげられる。
Such novel compound [I] of the present invention can be converted into a pharmacologically acceptable salt by treatment with an acid or base according to a conventional method. Examples of such acid addition salts include inorganic acids such as hydrohalic acids (e.g. hydrochloric acid,
hydrobromic acid, etc.), sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid, and organic acids (such as oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, tartaric acid, citric acid, methanesulfonic acid, and benzenesulfonic acid, etc.). can be given. Examples of base-based salts include alkali metal hydroxides (e.g., sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxides (e.g., calcium hydroxide, magnesium hydroxide, etc.),
Examples include various salts such as ammonium hydroxide, aluminum hydroxide and organic bases (eg triethylamine, dicyclohexylamine, cinchonine, quanidine, quinine, etc.), basic amino acids (eg lysine, arginine, etc.).

本発明の前記一般式(1)で表わされる具体的化合物と
して、以下に記載する化合物を例示する゛ことができる
As specific compounds represented by the general formula (1) of the present invention, the compounds described below can be exemplified.

1に’     IL”     R’    ム  
   R4(1) 06H5G(2Gi、−HωG12
H(21#     02H。
1 'IL'R' M
R4 (1) 06H5G (2Gi, -HωG12
H (21# 02H.

131       1?04)I?#       
   it+41    ’    E s50−04
H#     z      #(5)    ’  
  (H204H5#     z      #R’
      32     B5     A    
   R’+6)06u5co2a(「H20H,B1
7)            02H5#(81n−0
4H9# +91          181>(1489jFH
GI204H5# @2           02B5 am  (CI(B)2GK)12−    Hz  
   #aa     II       o2H5a
1<E)−G12G12−  H a@     #       02H5#     
 a鰭0Σ  H#I al            02H5#      
II        #all  o4)15G(2G
I2−         #   >Gl(G(、)@
II g?06H17−#   m   Gl、   
 。
131 1?04)I? #
it+41' E s50-04
H#z#(5)'
(H204H5# z #R'
32 B5 A
R'+6)06u5co2a("H20H,B1
7) 02H5# (81n-0
4H9# +91 181>(1489jFH
GI204H5# @2 02B5 am (CI(B)2GK) 12-Hz
#aa II o2H5a
1<E)-G12G12- H a@# 02H5#
a fin 0Σ H#I al 02H5#
II #all o4) 15G (2G
I2- # > Gl(G(,)@
II g? 06H17-#m Gl,
.

R’      12      B!     A 
      B’9m ((HB)2(IICH2−0
2H5′00(I(、B5042G(2−z    # @  04H,Gl2−      #      #
      #        #@0Σ     ・
  ・ (至)      ・  ℃0       ・tn、
−60−マ■02H。
R' 12 B! A
B'9m ((HB)2(IICH2-0
2H5'00(I(, B5042G(2-z # @ 04H, Gl2- # #
##@0Σ・
・ (To) ・℃0 ・tn,
-60-Ma■02H.

el      #   <30#tart−a西(至
)  ・    ・  ℃O as  #  G(20000(Gl3)3<C)  
#    H(14・    ・  ηO・ ro02H56゜ I R’          B2       B5  
      A           n’@    
  02H51ejc)  CI(2a(2(至)  
・    ・  類  ・    ・本発明の化合物(
1)は、一般式 (式中、Ha、 B4および人は前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物と一般式 (式中、R1およびR2は前述したものと同意義を示し
、Xはハロゲン原子またはヌルホニルオキシ基を示す。
el # <30#tart-a west (to) ・ ℃O as # G (20000(Gl3)3<C)
#H(14・・ηO・ro02H56゜I R' B2 B5
A n'@
02H51ejc) CI(2a(2(to)
・ ・ Kinds ・ ・Compounds of the present invention (
1) is a compound having the general formula (wherein, Ha, B4, and Human have the same meanings as above) and a compound having the general formula (wherein, R1 and R2 have the same meanings as above, and represents a halogen atom or a nulfonyloxy group.

)を有する化合竺とを縮合させるか、または前記化合物
〔■〕と一般式(式中、ILlおよびR2は前述したも
のと同意義を示す。)を有する化合物とを還元的に縮合
させることにより製造することができる。
), or by reductively condensing the compound [■] with a compound having the general formula (wherein ILl and R2 have the same meanings as described above). can be manufactured.

一般式(INにおけるXのハロゲン原子としては塩素、
臭素および沃素があげられ、スルホニルオキシ基として
はメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、
トリフルオルメタンスルホニルオキシ等のような置換さ
れているかまたは置換されていない低級プルカンスルホ
ニルオキシ基およびベンゼンヌルホニルオキシ、p−)
ルエンスルホニルオキシ等の置換されているかまたは置
換されていない芳香族スルホニルオキシ基があげられる
General formula (the halogen atom of X in IN is chlorine,
Bromine and iodine are mentioned, and sulfonyloxy groups include methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy,
Substituted or unsubstituted lower plucansulfonyloxy groups such as trifluoromethanesulfonyloxy and benzenesulfonyloxy, p-)
Substituted or unsubstituted aromatic sulfonyloxy groups such as luenesulfonyloxy are mentioned.

化合物〔l)と化合物〔■〕との縮合反応は、本反応を
阻害しない適当な溶媒中、塩基の存在下に行なわれる。
The condensation reaction between compound [l] and compound [■] is carried out in the presence of a base in a suitable solvent that does not inhibit the reaction.

溶媒としては、ヘキサン、ベンゼンのような炭化水素類
、ジクロルメタン、1゜2−ジクロルエタンのようなハ
ロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類、酢酸エチルのようなエステル類、
アセトンのようなケトン類、N、N−ジメチルホルムア
ミド、N、 N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホヌホルアミドのよ5なアミド類、ジメチルスルホキシ
ド等があげられる。使用される塩基としては特に限定は
ないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム等のアルカリ若しくはアルカリ土類金属炭酸塩、重曹
、重炭酸カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩、水素化ナ
トリウム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金属、ト
リエチルアミン、ピリジン、ピコリン、テトラエチルア
ンモニウムヒドロキシド等の有機塩基があげられる。ま
たテトラn −ブチルアンモニウムブロマイド、ペンジ
ルトリエチルアンモニウムヨーダイド等のような相関移
動触媒を用い、ジクロルメタン、クロロホルム等のよう
な水に不溶の溶媒と水との二層系において本反応を行な
5時には、力性ソーダ、カ反応時間は溶媒、塩基の種類
等によつ【異なるが、通常は1時間乃至3日間である。
Examples of solvents include hydrocarbons such as hexane and benzene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and 1°2-dichloroethane, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and esters such as ethyl acetate.
Examples include ketones such as acetone, amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, hexamethylhonuformamide, and dimethylsulfoxide. The base used is not particularly limited, but includes alkali or alkaline earth metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, and calcium carbonate, alkali metal bicarbonates such as baking soda and potassium bicarbonate, sodium hydride, and hydride. Examples include alkali metal hydrides such as lithium, and organic bases such as triethylamine, pyridine, picoline, and tetraethylammonium hydroxide. In addition, this reaction is carried out in a two-layer system of water and a water-insoluble solvent such as dichloromethane or chloroform using a phase transfer catalyst such as tetra n-butylammonium bromide or penzyltriethylammonium iodide. Sometimes, the reaction time varies depending on the solvent, type of base, etc., but is usually from 1 hour to 3 days.

反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混
合物より採散することができる。例えば反応混合物に酢
酸エチルのような有機溶媒を加え、有機溶媒層を水で洗
浄し、乾燥後、溶媒を留去すること忙より得ることがで
き、必狭ならば再結晶、カラムクロマトグラフィー等で
精製できる。
After the reaction is completed, the target compound of this reaction can be recovered from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent such as ethyl acetate to the reaction mixture, washing the organic solvent layer with water, drying, and distilling off the solvent. If necessary, recrystallization, column chromatography, etc. It can be refined with

化合物[11〕と化合物〔W〕との反応における還元的
条件としては、例えば白金、パラジウム、ラネーニッケ
ル、ロジウム等の金属やそれらとの任意の担体との混合
物を触媒とする接触還元、例えば水素化リチウムアルミ
ニウム、水素化硼素リチウム、水素化シアノ硼素ナトリ
ウム、木葉化硼素ナトリウム、水素化硼素カリウム尋の
水素化金属類による還元、金属ナトリウム、金属マグネ
シウム等とメタノール、エタノール等のアルコール類に
よる還元、鉄、亜鉛等の金属と塩酸、酢酸等の酸による
還元等の反応条件をあげることができる。上記反応は通
常水または有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、
ジクロルメタン、クロロホルム、酢酸エチル、ベンゼン
、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、酢酸等)の存在下に行なわれ、反応温度は還元手
段により異なるが、一般には一20〜100℃程度が好
ましい。
Reductive conditions for the reaction between compound [11] and compound [W] include, for example, catalytic reduction using a metal such as platinum, palladium, Raney nickel, rhodium, or a mixture thereof with an arbitrary carrier, such as hydrogenation. Reduction of lithium aluminum, lithium boron hydride, sodium cyanoborohydride, sodium boron hydride, potassium borohydride with metal hydrides, reduction of sodium metal, magnesium metal, etc. with alcohols such as methanol and ethanol, iron , reaction conditions such as reduction with a metal such as zinc and an acid such as hydrochloric acid or acetic acid. The above reaction is usually carried out in water or in an organic solvent (e.g. methanol, ethanol,
Tetrahydrofuran, diethyl ether, dioxane,
(dichloromethane, chloroform, ethyl acetate, benzene, toluene, dimethylformamide, dimethylacetamide, acetic acid, etc.), and the reaction temperature varies depending on the reduction means, but is generally preferably about -20 to 100°C.

本反応は常圧で充分目的を達成できるが、場合によって
は加圧あるいは減圧下に反応を行なってもよい。
Although the purpose of this reaction can be sufficiently achieved at normal pressure, the reaction may be carried out under increased pressure or reduced pressure depending on the case.

このようにして製造される化合物〔1〕の内、R2がエ
ステル残基、R4が水素原子または塩で示されるモノエ
ステルモノカルボン酸化合物およびB2.B4が共に水
素原子または塩であるジカルボン酸は医薬品上重要な化
合物である。上記のモノエステルモノカルボン酸化合物
はR2およびR4がともにエステル残基である一般式(
I)で示されるジエステル化合物の選択的なエステル残
基R4の脱係iIたより製造できるか、 または一般式
C11においてR4が水素原子であるアミノ酸化合物と
ケトエステル[W) (B2はエステル残基)との還元
的縮合反応により製造できる。
Among the compounds [1] produced in this way, monoester monocarboxylic acid compounds in which R2 is an ester residue and R4 is a hydrogen atom or a salt, and B2. Dicarboxylic acids in which both B4 are hydrogen atoms or salts are pharmaceutically important compounds. The above monoester monocarboxylic acid compound has the general formula (
I) can be produced by selectively unbinding the ester residue R4 of the diester compound represented by I), or with an amino acid compound and a ketoester [W) (B2 is an ester residue) in which R4 is a hydrogen atom in the general formula C11. It can be produced by the reductive condensation reaction of

また、上記のR2およびR4が共に水素原子であるジカ
ルボン化合物は、上記の反応によって得られルシエステ
ル化合物またはモノエステル化合物[1)を常法に従っ
て、酸または塩基による加水分解法またはエステル基の
還元的除去法たよっても製造することができる。その反
応条件は後述する化合物〔■〕におけるカルボン酸の保
誇基R7の脱保護の場合と同様である。
In addition, the dicarboxylic compound in which R2 and R4 are both hydrogen atoms can be prepared by hydrolyzing the luciester compound or monoester compound [1) obtained by the above reaction] using an acid or base hydrolysis method or by reducing the ester group using a conventional method. It can also be produced by a removal method. The reaction conditions are the same as those for deprotection of the carboxylic acid protecting group R7 in compound [■] described below.

一般式〔l〕で表わされる原料化合物、すなわち一般式 (式中% ”t R’およびAは前述したものと同意義
を有する・)で表わされる化合物は例えば次に示す反応
式により製造できる。
The raw material compound represented by the general formula [1], that is, the compound represented by the general formula (wherein % "t R' and A have the same meanings as described above)" can be produced, for example, according to the reaction formula shown below.

JH2 〔■〕〔■〕 (式中、11L3. R’、人およびXは前述したもの
と同意義を有し、BS、 B6. RBおよびR9は水
素原子またはアミノ基の保護基を示し、R7はカルボン
酸の保護基を示す。) 上記式中、R7で表わされるカルボン酸の保護基は有機
合成化学で一般によく□知られているエステル残基のこ
とであり、例えばメチル、アリル、メトキシメチル、メ
チルチオメチル、メトキシエトキシメチル、ベンジルオ
キシメチル、フェナシル、p−ブロムフェナシル、N−
フタルイ電トメチル等のメチルおよび置換基を有するメ
チル基、エチル、2.2.2−)リクロルエチル、2−
ヨードエチル、2−トリメチルシリルエチル、2−(p
−)ルエンスルホエル)エチル、  tert−ブチル
等の置換基を有してもよい低級アルキル基、ベンジル、
ジフェニルメチル、p−メトキシベンジル、p−二′ト
ロベンジル等の置換基を有してもよいベンジル基および
トリメチルシリル、  tert−ブチルジメチルシリ
ル等のシリル基などがあげられる。これらカルボン酸の
保護基は、保護の目的を達する限り、何ら制限するもの
ではない。
JH2 [■] [■] (In the formula, 11L3. R', human and X have the same meanings as above, BS, B6. RB and R9 represent a hydrogen atom or a protecting group for an amino group, represents a carboxylic acid protecting group.) In the above formula, the carboxylic acid protecting group represented by R7 is an ester residue generally well known in organic synthetic chemistry, such as methyl, allyl, methoxymethyl. , methylthiomethyl, methoxyethoxymethyl, benzyloxymethyl, phenacyl, p-bromphenacyl, N-
Methyl and substituent methyl groups such as phthalotomethyl, ethyl, 2.2.2-)lychloroethyl, 2-
iodoethyl, 2-trimethylsilylethyl, 2-(p
-) ethyl, lower alkyl group which may have a substituent such as tert-butyl, benzyl,
Examples include benzyl groups which may have substituents such as diphenylmethyl, p-methoxybenzyl, and p-2'trobenzyl, and silyl groups such as trimethylsilyl and tert-butyldimethylsilyl. These carboxylic acid protecting groups are not limited in any way as long as the purpose of protection is achieved.

BS、 B4. B8および几9?ICおけるアミノ基
の保護基は、有機合成化学で一般によく知られている保
護基であり、例えば2,2.2−)リクロルエトキシカ
ルポニル、2−ヨードエトキシカルボニル、トリメチル
シリルエトキシカルボニル。
BS, B4. B8 and 几9? The protecting group for the amino group in IC is a protecting group that is generally well known in organic synthetic chemistry, such as 2,2.2-)lychloroethoxycarbonyl, 2-iodoethoxycarbonyl, and trimethylsilylethoxycarbonyl.

2−(p−)ルエンスルホニル)エチル、tert−ブ
トキシカルボエル、アリルオキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、p−メトキクベンジルカルボニル、
p−ニトロベンジルオ中ジカルボニル等のようなアルコ
キシカルボニル基、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、
クロルアセチル、トリフルオロアセチル等のアシル基、
N−フタクイル、N−2,3−ジフェニルマレイニル等
の環式ジアシル基、メトキシメチル、ベンジルオキシメ
チル、ベンジル、龜4−ジメトキシベンジル、トリチル
等の置換メチル基、イソプロピリデン、ベンジリデン、
サリチリデン等のアルキリデンまたはアラルキリデン基
、1−メチル−2−アセチルビニル、1−メチル−2−
ベンゾイルビニル等のアシルビニル基およびトリメチル
シリル、tert−ブチルジメチルシリル等のシリル基
などがあげられるが、これらアミノ基の保護基は、保護
の目的を達する限り何ら制限するものではない。
2-(p-)luenesulfonyl)ethyl, tert-butoxycarboel, allyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, p-methoxybenzylcarbonyl,
Alkoxycarbonyl groups such as p-nitrobenzyl, dicarbonyl, formyl, acetyl, benzoyl,
Acyl groups such as chloroacetyl and trifluoroacetyl,
Cyclic diacyl groups such as N-phthaquil and N-2,3-diphenylmaleinyl, substituted methyl groups such as methoxymethyl, benzyloxymethyl, benzyl, 4-dimethoxybenzyl, trityl, isopropylidene, benzylidene,
Alkylidene or aralkylidene groups such as salicylidene, 1-methyl-2-acetylvinyl, 1-methyl-2-
Examples include acylvinyl groups such as benzoylvinyl and silyl groups such as trimethylsilyl and tert-butyldimethylsilyl, but there are no restrictions on the protecting groups for these amino groups as long as the purpose of protection is achieved.

システィン誘導体である化合物〔v〕と化合物CM〕の
反応は、本反応を阻害しない適当な溶媒中、塩基の存在
下に行なわれる。使用される溶媒、塩基の種類、反応a
X、反応時間等の反応条件および反応生成物〔■〕の精
製、分離等は、すでに詳しく述べた化合物[13と化合
物[11+1における反応のものと同様である。
The reaction between compound [v], which is a cysteine derivative, and compound CM] is carried out in the presence of a base in a suitable solvent that does not inhibit this reaction. Solvent used, type of base, reaction a
The reaction conditions such as X and reaction time, and the purification, separation, etc. of the reaction product [■] are the same as those for the reaction of compound [13 and compound [11+1], which have already been described in detail.

化合物〔■〕におけるIIL7で表わされるカルボン酸
の保護基およびR8,R9で表わされるアミノ基の保護
基の脱保護は、有機合成化学でよく知られている方法で
あるが、本反応の場合にはシヌテイン部分のアミン基の
保護基B5. R6に影響を及ぼさない方法が必要であ
る。そのような例として、水酸化リチウム、力性ソーダ
、水酸化カリウム等によるアルカリ加水分解くよる脱保
護(例えばR7がメチル、エチル等)、塩酸、トリフル
オロ酢酸、塩化アルミニウム等酸、ルイス酸による脱保
護(例えばR7がメトキシメチル、メトキシエトキシメ
チル、tert−ブチル、ジフェニルメチル、p−メト
キシベンジル、トリメチルシリル、tert−ブチルジ
メチルシリル等。
Deprotection of the carboxylic acid protecting group represented by IIL7 and the amino group protecting groups represented by R8 and R9 in compound [■] is a well-known method in organic synthetic chemistry, but in the case of this reaction, is a protecting group for the amine group of the synutein moiety B5. A method is needed that does not affect R6. Examples of such methods include deprotection by alkaline hydrolysis using lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. (for example, R7 is methyl, ethyl, etc.), hydrochloric acid, trifluoroacetic acid, aluminum chloride, and other acids, and Lewis acid. Deprotection (for example, R7 is methoxymethyl, methoxyethoxymethyl, tert-butyl, diphenylmethyl, p-methoxybenzyl, trimethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, etc.).

R8がtert−ブトキシカルボニル、 p−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、ト11チル、  tert
−ブチルジメチルシリル等)、接融還元によるm保護C
例し&in’がベンジル、p−ニトロベンジル等、R8
カペンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル等)、亜鉛末−酸による還元による脱保護
(例えばR7が2.2゜2−トリクロルエチル、2−ヨ
ードエチル、フェナシル、p−ブロムフェナシル等、R
8が2.R2−) +770ルオキシカルボニル、2−
:51−)’エトキシカルボニル等)、テトラキス(ト
リフェニルホスフィン)パラジウム(0を触媒とスル脱
保護(例えばR7がアリル等、R8がアリルオキシカル
ボニル等)、ヒドラジン、メチルヒドラジン等のヒドラ
ジン類による脱係!l(例えばBe、 R9が7タロイ
ル等)などがあげられる。使用される溶媒は脱保護方法
により異なるが、水。
R8 is tert-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, t-11thyl, tert
-butyldimethylsilyl, etc.), m-protected C by fusion reduction
For example, &in' is benzyl, p-nitrobenzyl, etc., R8
capendyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, etc.), deprotection by reduction with zinc dust-acid (for example, R7 is 2.2° 2-trichloroethyl, 2-iodoethyl, phenacyl, p-bromphenacyl, etc.),
8 is 2. R2-) +770yloxycarbonyl, 2-
:51-)'ethoxycarbonyl, etc.), tetrakis(triphenylphosphine)palladium (0 is deprotected with a catalyst (for example, R7 is allyl, R8 is allyloxycarbonyl, etc.), deprotection with hydrazines such as hydrazine, methylhydrazine, etc. (eg, Be, R9 is 7 taloyl, etc.).The solvent used varies depending on the deprotection method, but may include water.

酢酸、ギ酸等の酸類、メタノール、エタノール等のアル
コール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソー
ル等のエーテル類、ア七トン等のケトン類、ジクロルメ
タン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン等の炭化水素類等が用いられる。反応温度
および反応時間は脱保護方法により異なるが、一般に一
10℃乃至100℃、30分乃至−昼夜である。脱係w
!によるアミノ酸〔■〕の製造は、二段階、即ち最初に
カルボン酸の保護基R7を脱保護し、続いてアミノ基の
保護基Be、 R9を脱保護するか、最初にアミノ基の
保護基B8. R9を脱保護し、続いてカルボン酸の保
護基R7を脱保護する方法があるが、−挙に2つの保護
基R7およびR8゜几9を脱保護する方法もある。例え
ばR7がtert−ブチル、几8がtert−ブトキシ
カルボニル、R9が水素原子の時は[Cよる脱保護方法
で化合物〔■〕が得られるし、R7が2.R2−)ジク
ロルエチル、R8が2.2.2− )リクロルエトキt
カルボニル、R9が水素原子の時は亜鉛末−酸による還
元方法で化合物〔■〕が得られる。化合物〔■〕は等電
点沈澱法、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製
もできるが、粗生成物のまま次の反応に用いても差し支
えない。
Carbonization of acids such as acetic acid and formic acid, alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and anisole, ketones such as a7tone, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, benzene and toluene, etc. Hydrogens etc. are used. The reaction temperature and reaction time vary depending on the deprotection method, but are generally from -10°C to 100°C for 30 minutes to day and night. Disengagement lol
! The production of amino acid [■] is carried out in two steps, that is, first, the carboxylic acid protecting group R7 is deprotected, and then the amino group protecting group Be, R9 is deprotected, or the amino group protecting group B8 is first deprotected. .. There is a method of deprotecting R9 and then the carboxylic acid protecting group R7, but there is also a method of deprotecting the two protecting groups R7 and R8゜9. For example, when R7 is tert-butyl, 8 is tert-butoxycarbonyl, and R9 is a hydrogen atom, the compound [■] can be obtained by the deprotection method with [C], and when R7 is 2. R2-) dichloroethyl, R8 is 2.2.2-) dichloroethyl
When carbonyl or R9 is a hydrogen atom, the compound [■] can be obtained by a zinc dust-acid reduction method. Compound [■] can be purified by isoelectric precipitation, recrystallization, column chromatography, etc., but it can also be used as a crude product in the next reaction.

次に化合物〔■〕を分子内縮合して4−アザ−5−オキ
ンシクロへブタン環誘導体(K)を製造する方法は、ペ
プチドの化学で広く知られているアミノ基とカルボキシ
ル基のアミド結合への縮合方法である。一般に本反応は
N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、カルボニ
ルジイミダゾール、ジフェニルホスホリルアジド、シア
ノリン酸ジエチル、五塩化リン等の脱水剤の存在下に行
なわれる。カルボジイミド類の脱水剤を使用する際には
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシサ
クシイミド等を反応系中に加えると反応は促進される。
Next, the method for producing the 4-aza-5-okynecyclohebutane ring derivative (K) by intramolecular condensation of the compound [■] is to form an amide bond between an amino group and a carboxyl group, which is widely known in peptide chemistry. This is a condensation method. Generally, this reaction is carried out in the presence of a dehydrating agent such as N,N'-dicyclohexylcarbodiimide, carbonyldiimidazole, diphenylphosphoryl azide, diethyl cyanophosphate, or phosphorus pentachloride. When using a carbodiimide dehydrating agent, the reaction can be accelerated by adding 1-hydroxybenzotriazole, N-hydroxysuccinimide, etc. to the reaction system.

また例えばピリジン、ピコリン、トリエチルアミン、N
−メチルモルホリン、炭酸ナトリウム、重1等のような
塩基の存在下に反応をさせることもできる。反応は一般
に本反応を阻害しない限りあらゆる溶媒を使用できる(
例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、メタノール、エタノール、アセトン、ジク
ロルメタン、クロロホルム、酢酸エチル、ベンゼン、ト
ルエン等)。生成物は反応系中から結晶として単離され
ることもあるが、カラムクロマトグラフィー等で精製し
て得ることもできる。
Also, for example, pyridine, picoline, triethylamine, N
- The reaction can also be carried out in the presence of a base such as methylmorpholine, sodium carbonate, sodium chloride, etc. In general, any solvent can be used for the reaction as long as it does not inhibit the reaction (
For example, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, tetrahydrofuran,
dioxane, methanol, ethanol, acetone, dichloromethane, chloroform, ethyl acetate, benzene, toluene, etc.). The product may be isolated as a crystal from the reaction system, but it can also be purified by column chromatography or the like.

化合物(K)に対する化合物(X) I’cよるN−ア
ルキル化による化合物(lの製造は、適当な溶媒中、塩
基存在下に行なわれる。溶媒としては、ヘキサン、ベン
ゼンのような炭化水素類、ジクロルメタン、1,2−ジ
クロルエタンのヨ5 ttハロゲン化炭化水素類、テト
ラヒドロ7ラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸
エチルのようなエステル類、アセトンのよ5なケトン類
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、 N−ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミドのようなア
ミド類、ジメチルスルホキシド等があげられるが、本反
応を阻害しない溶媒なら制限はない。塩基としては、水
素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム等の
水素化アルカリ金属、n−ブチルリチウム等のアルキル
アルカリ金属、リチウムジイソプロピルアミド、リチウ
ムジシクロへキシルアミド、リチウムビス(トリメチル
シリル)アミド等のアルカリ金属アミド類、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、トリエチ
ルアミン、トリエチレンジアミン、1.5−ジアザビシ
クロ〔4,ふ0〕−5−ノネン(DBN )、1.8−
ジアザビシクロ(5,4,0) −7−ウンデセン(D
BU )等のアミン類があげられる。またテトラn−ブ
チルアンモニウムブロマイド、ペンジルトリエチルアン
モエウムヨーダイド等のような相関移動触媒ヲ用い、ジ
クロルメタン、クロロホルム等のような水に不溶の溶媒
と水系の二相系において本反応を行なう時には、力性ソ
ーダ、力性カリのような水酸化アルカリ金属を使うこと
もできる。反応温度および時間は、溶媒、塩基の種類に
より異なるが、通常−20℃乃至100℃、30分乃至
−星夜である。反応終了後、本反応の目的化合物は常法
に従って反応混合物より採取できる。例えば反応混合物
に酢酸エチルのような有機溶媒を加え、有機溶媒層を水
洗後、乾燥し、溶媒を留去することにより得ることがで
き、必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精
製できる。
The production of compound (I) by N-alkylation of compound (K) with compound (X) I'c is carried out in a suitable solvent in the presence of a base.As a solvent, hydrocarbons such as hexane and benzene can be used. , dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 5tt halogenated hydrocarbons, tetrahydro7rane, ethers such as dioxane, esters such as ethyl acetate, ketones such as acetone, N,N-dimethyl Examples include formamide, amides such as N, N-dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, dimethyl sulfoxide, etc., but there are no restrictions as long as the solvent does not inhibit this reaction.As the base, sodium hydride, lithium hydride, etc. , alkali metal hydrides such as potassium hydride, alkali metal hydrides such as n-butyllithium, alkali metal amides such as lithium diisopropylamide, lithium dicyclohexylamide, lithium bis(trimethylsilyl)amide, sodium carbonate, potassium carbonate, etc. alkali metal carbonates, triethylamine, triethylenediamine, 1,5-diazabicyclo[4,fu0]-5-nonene (DBN), 1.8-
Diazabicyclo(5,4,0)-7-undecene(D
Examples include amines such as BU). In addition, when a phase transfer catalyst such as tetra-n-butylammonium bromide, penzyltriethylammonium iodide, etc. is used, and this reaction is carried out in a two-phase system of water and a water-insoluble solvent such as dichloromethane, chloroform, etc. Alkali metal hydroxides such as hydroxide, hydroxide, and hydroxide may also be used. The reaction temperature and time vary depending on the type of solvent and base, but are usually -20°C to 100°C and 30 minutes to -Starry Night. After completion of the reaction, the target compound of this reaction can be collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent such as ethyl acetate to the reaction mixture, washing the organic solvent layer with water, drying, and distilling off the solvent. If necessary, it can be purified by recrystallization, column chromatography, etc.

化合物(X)から化合物(13へのアミノ基の脱保護の
方法はすでに詳述した化合物〔■〕から化合物〔■〕へ
のアミン保護基の除去と同様の方法である。反応生成物
は例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー勢により精
製することができる。
The method for deprotecting the amino group from compound (X) to compound (13) is the same as the method for removing the amine protecting group from compound [■] to compound [■], which has already been described in detail.The reaction product is, for example, It can be purified by recrystallization and column chromatography.

このようにして製造される一般式〔工〕で表わされる化
合物は、分子内に不斉炭素原子を有するため、複数個の
光学異性体が存在することをすでに述べたが、所望によ
ってはこれらの異性体を別個に製造することもできる。
It has already been mentioned that the compound represented by the general formula [E] produced in this way has multiple optical isomers because it has an asymmetric carbon atom in the molecule. Isomers can also be prepared separately.

すなわち予め光学分割された原料化合物のそれぞれ一方
の光学異性体を用いて上記の反応を行なうととkより対
応する化合物〔I〕の光学異性体を得ることができる。
That is, by carrying out the above reaction using each optical isomer of the raw material compound that has been optically resolved in advance, the corresponding optical isomer of compound [I] can be obtained from k.

原料化合物の少くとも一方がラセi体の場合には、化合
物CI)は通常異性体の混合物として得られるが、この
異性体混合物を所望により通常の分離方法、例えば光学
活性塩基(例えばシンコニン、シンコニジン、キニーネ
、キニジン等)、光学活性有機酸(例えば!−力ンファ
ースルホン酸、d−カンファースルホン酸等)との塩を
生成させる方法や、各種のクロマトグラフィー、分別再
結晶等を用いて処理するととによってそれぞれの異性体
を分離することもできる。
When at least one of the starting compounds is the race i form, compound CI) is usually obtained as a mixture of isomers, and if desired, this isomer mixture can be separated by a conventional separation method, such as an optically active base (e.g. cinchonine, cinchonidine). , quinine, quinidine, etc.), methods to generate salts with optically active organic acids (e.g., !-camphorsulfonic acid, d-camphorsulfonic acid, etc.), various chromatography, fractional recrystallization, etc. It is also possible to separate each isomer by using and.

本発明の化合物〔l〕は、アンジオテンシン■をアンジ
オテンシンIへ変換する酵素(以下、AOlilと略す
)の活性を阻害する作用を有する。
The compound [1] of the present invention has an action of inhibiting the activity of an enzyme that converts angiotensin ① to angiotensin I (hereinafter abbreviated as AOlil).

アンジオテンシンIは血圧上昇活性物質であり、人を含
む哺乳動物の高血圧の原因になる物質として関連がある
。AOFfはこのアンジオテンシンIの産生に関与する
他に、血管拡張因子物質プラジキニンの代謝にも関与し
ており、ブラジキニンを不活性物質に変換させる作用を
表わす。
Angiotensin I is an active substance that increases blood pressure and has been implicated as a substance that causes hypertension in mammals, including humans. In addition to being involved in the production of angiotensin I, AOFf is also involved in the metabolism of the vasodilator substance pradikinin, and exhibits the effect of converting bradykinin into an inactive substance.

本発明の化合物〔l〕の生理活性の評価は、生体外(i
n vitro)において、AO]ij活性を50% 
抑制するに必要な化合物CI)の濃度(l050 )を
例えばり、 W、 0us)unan等[:Bioch
emical Pharmacology。
Evaluation of the physiological activity of the compound [1] of the present invention is carried out in vitro (i.
n vitro), the AO]ij activity was reduced by 50%.
For example, the concentration (l050) of compound CI) required to inhibit W, 0us) unan et al. [:Bioch
chemical pharmacology.

20巻、  1637頁(1971年)〕 の方法によ
り測定することにより行なわれる。すなわち化合物の種
々の濃度の溶液と家兎肺より抽出したAOEおよび基質
としてヒプリルヒスチジルロイシンを、食塩を含むpH
8,3の硼酸緩衝液とし、37 ℃、30分間酵素反応
させた後、1N塩酸で反応を停止させ、生成する馬尿酸
(ヒプリックアシド)を酢酸エチルで抽出し、ついで酢
酸エチルを留去し、残留の馬尿酸を水に溶かし、228
mμにおけるUv吸収率から馬尿酸の量を測定する。こ
の値を化合物〔工〕の濃度に対する曲線としてグラフ表
示し、化合物CI)を含まない時に生成する馬尿酸の半
量を生成させる時の化合物のCI”lの濃度をグラフか
ら読むことによりl05oが求められた。
20, p. 1637 (1971)]. That is, solutions of various concentrations of the compound, AOE extracted from rabbit lung, and hipryl histidyl leucine as a substrate were mixed at pH containing salt.
After making an 8.3 boric acid buffer solution and carrying out an enzymatic reaction at 37°C for 30 minutes, the reaction was stopped with 1N hydrochloric acid, the produced hippuric acid was extracted with ethyl acetate, and then the ethyl acetate was distilled off. Dissolve the remaining hippuric acid in water, 228
The amount of hippuric acid is measured from the Uv absorption rate in mμ. 105o can be calculated by displaying this value as a graph against the concentration of the compound, and reading from the graph the concentration of the compound CI"l when half the amount of hippuric acid produced without compound CI" is produced. It was done.

このようにして求められたl05oを第1表に示す。Table 1 shows l05o obtained in this way.

第   1   表 実施例3化合物      1.6X10→実施例6化
合物      2.0 X 1G−9従ってAOFi
活性を阻害する本発明化合物〔I〕およびその薬理学的
に許容される塩類は、高血圧症の診断、予防または治療
剤として有用である。化合物CIIおよびその薬理学的
に許容される塩類を上記の医薬として用いる場合、それ
自体あるいは適宜の薬理学的に許容される担体、賦形剤
、希釈剤等と混合し、散剤、顆粒剤、錠剤、カプセル剤
、注射剤等の医薬組成物として経口的または非紗口的に
投与することができる。
Table 1 Example 3 compound 1.6X10→Example 6 compound 2.0X 1G-9 Therefore AOFi
Compound [I] of the present invention and its pharmacologically acceptable salts which inhibit the activity are useful as agents for diagnosis, prevention or treatment of hypertension. When compound CII and its pharmacologically acceptable salts are used as the above-mentioned medicines, they can be used as such or mixed with appropriate pharmacologically acceptable carriers, excipients, diluents, etc., and prepared as powders, granules, etc. It can be administered orally or through a gauze as a pharmaceutical composition such as a tablet, capsule, or injection.

投与量は対象疾患の状態、投与方法により異なるが、例
えば高血圧症の治療の目的で成人患者に投与する場合、
経口投与では通常1回量O,S〜100(IIP、とり
わけ約5〜100η程度が、静脈内投与では1同量約0
.5〜10019、 とりわけ約0.5〜1011P8
度が好ましく、これらの薬剤量を症状に応じて1日1回
乃至3回投与するのが望ましい。
The dosage varies depending on the condition of the target disease and the administration method, but for example, when administering to adult patients for the purpose of treating hypertension,
For oral administration, a single dose is usually 0,S~100 (IIP, especially about 5~100η), and for intravenous administration, the same dose is about 0.
.. 5-10019, especially about 0.5-1011P8
It is preferable to administer these drugs once to three times a day depending on the symptoms.

以下に実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below, but the scope of the present invention is not limited thereto.

実施例1 工程人。Example 1 Engineering person.

1−ナフトアルデヒドシアンヒドリン44fを水素化リ
チウムアルミニウムで還元して得られる粗2−アミノ−
1−(l−ナフチル)エタノールを、メタノール200
g/中、トリエチルアミン12.syとジーtert−
ブチルジカーボネート201と室温で1時間攪拌する。
Crude 2-amino- obtained by reducing 1-naphthaldehyde cyanohydrin 44f with lithium aluminum hydride
1-(l-naphthyl)ethanol, methanol 200
g/m, triethylamine 12. sy and tert-
Stir with butyl dicarbonate 201 at room temperature for 1 hour.

反応液を濃縮し、残留物を酢酸エチルと水に溶かし、酢
酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去した。結晶性残留物をジイソプロピルエーテ
ルを用いてr取した。収量142N、融点109−11
0℃。
The reaction solution was concentrated, the residue was dissolved in ethyl acetate and water, the ethyl acetate layer was washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate,
The solvent was distilled off. The crystalline residue was purified using diisopropyl ether. Yield 142N, melting point 109-11
0℃.

NMR(oDols)  δCppm):1.44 (
9H,s、 tert−Bu ) 。
NMR (oDols) δCppm): 1.44 (
9H,s, tert-Bu).

!1)5−3.9 (3H,m、 −(3H2+、 O
H) 。
! 1) 5-3.9 (3H, m, -(3H2+, O
H).

5.011  (IH,br、  NH) 。5.011 (IH, br, NH).

5.80  (1M、 d、t、  J=4.8Hz、
  −0H−OH) 。
5.80 (1M, d, t, J=4.8Hz,
-0H-OH).

7.25−IL25 (7H,m、ナフチルプロトン)
7.25-IL25 (7H, m, naphthyl proton)
.

工程B。Process B.

2− tart−ブトキシカルボニルアミノ−1−(l
−ナフチル)エタノール13Fの無水ジクロルメタン2
00−溶液に、五塩化リン9.4Fの無水ジクロルメタ
ン1110−溶液な0〜−5℃で滴加した。滴加後、さ
らI/c5分間攪拌し、4N力性ソ一ダ195mを一時
に加え、水冷下30分間攪拌した。
2-tart-butoxycarbonylamino-1-(l
-naphthyl) ethanol 13F anhydrous dichloromethane 2
A solution of phosphorus pentachloride 9.4 F in anhydrous dichloromethane 1110 was added dropwise to the 00-solution at 0 to -5°C. After the dropwise addition, the mixture was further stirred for I/C for 5 minutes, 195 ml of 4N sodium hydroxide was added at once, and the mixture was stirred for 30 minutes under water cooling.

ジクpルメタン層を多量の水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去した。残留物を酢酸エテル
−シクロへキサン1:1を溶媒系とするシリカゲル・カ
ラムクロマト&C付1゜てシロップ状の目的化合物s、
oyを得た。
The dichloromethane layer was washed with a large amount of water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography using ethyl acetate-cyclohexane (1:1) as a solvent system to obtain the target compound in the form of a syrup.
I got oy.

NMR(onoJ3 )δ(ppm) :1.43 (
9H,s、  tert−nu )t3.3 42 (
2H,m、  OH2)t7.2−8.3 (7H,m
、ナフチルプロトン)。
NMR (onoJ3) δ (ppm): 1.43 (
9H,s, tert-nu)t3.3 42 (
2H, m, OH2)t7.2-8.3 (7H,m
, naphthyl proton).

工程0゜ υ L−システィンp−トルエンスルホン酸tJ[101と
N−カルボエトキシフタルイミドr、syのジメチルホ
ルムアミド68−溶液に窒素ガス下、重16.2Fを加
え、!1O−100t テ15時間攪拌した。
Step 0゜υ To a solution of L-cystine p-toluenesulfonic acid tJ[101 and N-carboethoxyphthalimide r,sy in dimethylformamide 68-, under nitrogen gas, add 16.2F of heavy hydrogen,! The mixture was stirred for 15 hours at 1O-100t.

反応液を冷却後、酢酸エチルと重硫酸カリウム水溶液に
溶かし、水層を酸性にして酢酸エチル層を分離した。食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジフェ
ニルジアゾメタン7.4Fを加え、窒素気流中、1時間
攪拌した。
After cooling the reaction solution, it was dissolved in ethyl acetate and an aqueous potassium bisulfate solution, the aqueous layer was made acidic, and the ethyl acetate layer was separated. After washing with brine and drying over anhydrous magnesium sulfate, 7.4 F of diphenyldiazomethane was added, and the mixture was stirred for 1 hour in a nitrogen stream.

溶媒を留去後、ジメチルホルムアミド60di’C溶か
し、これK 2− tcrt−ブトキシカルボニルアミ
ノ−1−クロル−1−(l−ナフチル)エタン9.6f
を加え、窒素気流中、10℃で16時間攪拌した。反応
液を酢酸エチルと水に溶かし、酢酸エチル層を分離し、
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を留去し、残留物を酢酸エチル−シクロへキサン1:
4を溶媒系とするシリカゲル・カラムクロW)K付して
4無定形固形物として目的化合物を得た。
After distilling off the solvent, 60 di'C of dimethylformamide was dissolved, and 9.6 f of this K2-tcrt-butoxycarbonylamino-1-chloro-1-(l-naphthyl)ethane was dissolved.
was added, and the mixture was stirred at 10° C. for 16 hours in a nitrogen stream. Dissolve the reaction solution in ethyl acetate and water, separate the ethyl acetate layer,
After washing with brine, it was dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off and the residue was diluted with ethyl acetate-cyclohexane 1:
The target compound was subjected to silica gel column chromatography (W)K using 4 as a solvent system to obtain 4 as an amorphous solid.

収量10.4jF、       □ sMn(onoJ3)δ(ppm) :1.35 (9
B、 8. tert−nu) 。
Yield 10.4jF, □ sMn (onoJ3) δ (ppm): 1.35 (9
B, 8. tert-nu).

11518 (4H,tri、 0H2J 0082−
N) 。
11518 (4H, tri, 0H2J 0082-
N).

45−5.1 (3H,m、 NH,N−0H−00,
8−Oji−ナフチル)。
45-5.1 (3H,m, NH,N-0H-00,
8-Oji-naphthyl).

a、l11とs、ro (合せて1B、 s、 o?h
2)t6.75−8.3 (21H,m、 0H(06
H,,5)2.ナフチルプロトン、7タリルプロトン)
a, l11 and s, ro (total 1B, s, o?h
2) t6.75-8.3 (21H, m, 0H (06
H,,5)2. naphthyl proton, 7thalyl proton)
.

工程り。Process.

υ 8−(2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−””
1−(1−ナフチル)エチル]−N−フタリルシスティ
ンジフェニルメチルエステル10.1のアニソール40
1t溶液にトリフルオロ酢酸50−を加え、室温で2時
間攪拌した。反応液を濃    ゛縮後、酢酸エチル4
0m1.水30−を加え、さらに重−g2oyを加えよ
く攪拌後、3N塩酸でpH!Lll VC調整した。水
冷下、攪拌後、析出している目的化合物をP取し、アセ
トン−ジエチルエーテル1:1で洗浄した。収量s、s
y、  融点195−199℃。
υ 8-(2-tert-butoxycarbonylamino-""
1-(1-naphthyl)ethyl]-N-phthalyl cysteine diphenyl methyl ester 10.1 anisole 40
50-trifluoroacetic acid was added to the 1t solution, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After concentrating the reaction solution, ethyl acetate
0m1. Add 30% of water, then add heavy g2oy and stir well, then adjust the pH with 3N hydrochloric acid! Lll VC adjusted. After stirring under water cooling, the precipitated target compound was collected and washed with acetone-diethyl ether 1:1. Yield s, s
y, melting point 195-199°C.

工程B。Process B.

S−〔2−アミノ−1−(l−ナフチル)エチル]−N
−フタリルシスティン5.5gのジメチルホルムアミド
110d溶液に、ジフェニルホスホリルアジド5.1.
N−メチル七ルホリン2.611tを加え、室温で15
時間攪拌した。反応液に水約200gtと酢酸エチル約
500m1を加え攪拌し、析出している目的化合物をr
取し、水、酢酸エチルで洗浄した。収量15g。融点3
00℃以上。
S-[2-amino-1-(l-naphthyl)ethyl]-N
- To a solution of 5.5 g of phthalyl cysteine in 110 d of dimethylformamide, 5.1.
Add 2.611 t of N-methyl heptalpholine and stir at room temperature for 15 minutes.
Stir for hours. Approximately 200 gt of water and approximately 500 ml of ethyl acetate were added to the reaction solution and stirred to remove the precipitated target compound.
The mixture was taken and washed with water and ethyl acetate. Yield: 15g. Melting point 3
00℃ or higher.

NM几(DMi90−d6)δ(ppm):5.47 
(IH,d、d、 J=4.8Hz、 N−0H−00
)t7.4−8.5 (11H,ナフチルプロトン、フ
タリルプロトン)。
NM几(DMi90-d6)δ(ppm):5.47
(IH, d, d, J=4.8Hz, N-0H-00
) t7.4-8.5 (11H, naphthyl proton, phthalyl proton).

工程P。Process P.

4−アザ−5−オキソ−2−(l−ナフチル)−B−7
タルイミドー1−チアシクロへブタン14gのジメチル
ホルムアミド34−とへ中サメチルホヌホルアミド10
 dけん濁液建値素気流中。
4-aza-5-oxo-2-(l-naphthyl)-B-7
Thalimide 1-thiacyclohebutane 14 g dimethylformamide 34- and hemosamethylhonuformamide 10
d Suspended liquid quote element in the air stream.

内温O〜5℃でブロム酢酸tart−ブチルL25ml
25 ml of tart-butyl bromoacetate at an internal temperature of 0 to 5°C.
.

反応溶液に酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を分離
し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去した。残留物をシクロへΦサンー酢酸エチル2:1を
溶媒系とするシリカゲル・カラムに付し、結晶性の目的
化合物2.6fを得た。融点211−H2C。
Ethyl acetate and water were added to the reaction solution, and the ethyl acetate layer was separated, washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue was applied to a cyclosilica gel column using a 2:1 Φsan-ethyl acetate solvent system to obtain crystalline target compound 2.6f. Melting point 211-H2C.

NMR(onoJ3 )δ(ppm) :1.47 (
9H,s、 tert−Bu)。
NMR (onoJ3) δ (ppm): 1.47 (
9H,s, tert-Bu).

3.0−4.9 (6H,m、 −0H2−8,N−0
H2−00゜−O!、! N)。
3.0-4.9 (6H, m, -0H2-8,N-0
H2-00°-O! ,! N).

5.30 (IH,d、 J=9H2,N−0H−00
)。
5.30 (IH, d, J=9H2,N-0H-00
).

〜1 5.78 (IH,brd、 J=10Hz、 8−0
H−ナフチル)。
~1 5.78 (IH,brd, J=10Hz, 8-0
H-naphthyl).

7.3−8.35 (IIH,ナフチルプロトン、フタ
リルプロトン)。
7.3-8.35 (IIH, naphthyl proton, phthalyl proton).

工程G。Process G.

4−アザ−4−tert−ブトキシカルボニルメチル−
5−オキソ−2−(l−ナフチル)−6−フタルイミド
−1−チアシクロへブタン2.5fをジクロルメタン2
0dとメタノール2−に溶かし、メチルヒドラジン0.
77m?を加え、室温で2日間放置した。反応液を濃縮
し、残留物にジクロルメタン15−tを加え、よく攪拌
後、 沈澱物をP去した。r液を濃縮し、残留物をメタ
ノール−酢酸エチル1:20のシリカゲル・ カラムク
ロマトに付して無定形固形物として目的化合$1.92
Fを得た。
4-aza-4-tert-butoxycarbonylmethyl-
5-oxo-2-(l-naphthyl)-6-phthalimido-1-thiacyclohebutane 2.5f dichloromethane 2
0d and methanol 2-, methylhydrazine 0.
77m? was added and left at room temperature for 2 days. The reaction solution was concentrated, 15-t of dichloromethane was added to the residue, and after thorough stirring, the precipitate was removed. The r solution was concentrated and the residue was subjected to silica gel column chromatography with methanol-ethyl acetate 1:20 to obtain the target compound as an amorphous solid with a yield of $1.92.
I got an F.

NMR(0DOj、 )δ(ppm) :1.47 (
IH,s、 tert−Bu)。
NMR (0DOj, )δ (ppm): 1.47 (
IH,s, tert-Bu).

L 11 (2Hv br s t NH2) e2.
45−4.8 (7H,m、 N−0H2−00,H2
N−0H−OH2−8゜N−0H2−0)。
L 11 (2Hv br s t NH2) e2.
45-4.8 (7H, m, N-0H2-00, H2
N-0H-OH2-8°N-0H2-0).

5.15 (IH,d、 J=9.5Hz、 8−0H
−ナフチル)。
5.15 (IH, d, J=9.5Hz, 8-0H
-naphthyl).

7.2−8.3 (7H,ナフチルプロトン)。7.2-8.3 (7H, naphthyl proton).

工程■。Process ■.

4−アf −4−tert−ブトキシカルボニル6−ア
ミノ−4−アザ−4−tcrt−ブトキシカルボニルメ
チル−5−オキソ−2−(l−ナフチル)−1−チアシ
クロへブタン110319 ト2加え、80℃で15時
間攪拌した。反応液を酢酸エチルと食塩水に溶かし、酢
酸エチル層を分離し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。
4-af-4-tert-butoxycarbonyl 6-amino-4-aza-4-tcrt-butoxycarbonylmethyl-5-oxo-2-(l-naphthyl)-1-thiacyclohebutane 110319 Add 2, 80 Stirred at ℃ for 15 hours. The reaction solution was dissolved in ethyl acetate and brine, and the ethyl acetate layer was separated, washed with water, and dried over anhydrous magnesium sulfate.

溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル−ジクロルメタン1
 : 30のシリカゲル・カラムクロマトに付して、7
エネチル基の結合する炭素の不斉性に由来する2種類の
異性体ムとB&C分離した。
The solvent was distilled off, and the residue was dissolved in ethyl acetate-dichloromethane 1
: Subjected to 30 silica gel column chromatography, 7
Two types of isomers derived from the asymmetry of the carbon to which the enethyl group is bonded were separated by B&C.

最初に溶離する異性体A:油状物o、4sfI。Isomer A eluting first: oil o, 4sfI.

NMR(oDo15 )  δ(ppm):1.24 
(3H,t、 J−7,5H2,0020H20H,)
NMR (oDo15) δ (ppm): 1.24
(3H,t, J-7,5H2,0020H20H,)
.

1.46  (9H,s、  tert−Bu)。1.46 (9H, s, tert-Bu).

1、1 12 (2H,m、  Pt1OH20H2)
 。
1, 1 12 (2H, m, Pt1OH20H2)
.

〜  1 2.4−4.7 (13H,m、 Ph0H20f(2
0H−NH,T員環の0020H20H3) 。
~ 1 2.4-4.7 (13H,m, Ph0H20f(2
0H-NH, T-membered ring 0020H20H3).

5.13 (IH,brd、 J=9Hz、  8−0
H−ナフチル)。
5.13 (IH,brd, J=9Hz, 8-0
H-naphthyl).

7.14 (5H,s、フェニルプロトン)。7.14 (5H,s, phenyl proton).

T、2−8.2 (7H,m、ナフチルプロトン)。T, 2-8.2 (7H, m, naphthyl proton).

次に溶離する異性体B:油状物0.46F。Isomer B eluting next: oil at 0.46F.

NMR(0DO15)δ(ppm) :1.28 (3
H,t、  J==7.511z、 0020H20H
5)。
NMR (0DO15) δ (ppm): 1.28 (3
H, t, J==7.511z, 0020H20H
5).

1.411 (9H,s、 tert−Bu)。1.411 (9H, s, tert-Bu).

1.8−2.3 (2H,m、 Ph0H20H2)。1.8-2.3 (2H, m, Ph0H20H2).

2.5 4.8 (13H,me Pt1OH20H2
0HNH,7員環の0020H20H5)。
2.5 4.8 (13H, me Pt1OH20H2
0HNH, 7-membered ring 0020H20H5).

5.111 (IH,d、 J=9.5H2,S−0H
−ナフチル)。
5.111 (IH, d, J=9.5H2, S-0H
-naphthyl).

7、旧(5H,s、フェニルプロトン)。7, old (5H,s, phenyl proton).

7.35−8.3 (711,m、ナフチルプロトン)
7.35-8.3 (711,m, naphthyl proton)
.

実施例2 実施例1.1程Hで製造される4−アザ−4−tert
−ブトキシカルボニルメチル−6−(l−エトキシカル
ボニル−3−フェニルプロピル)アミノ−5−オキソ−
2−(l−ナフチル)−1−チアシクロへブタンの異性
体B 455w1をアニソール2dとトリフルオロ酢j
l!2sJVc溶かし、室温で4時間攪拌した。反応溶
液を濃縮し、残留物にジイソプロピルエーテルを加え攪
拌し、結晶性粉末をr取した。収量447岬。これを酢
酸エチル2耐と水2dVC溶かし、重go、2yを加え
、攪拌後、3N塩酸を加えI)Hlsに調整した。
Example 2 4-Aza-4-tert produced in Example 1.1 H
-butoxycarbonylmethyl-6-(l-ethoxycarbonyl-3-phenylpropyl)amino-5-oxo-
2-(l-naphthyl)-1-thiacyclohebutane isomer B 455w1 with anisole 2d and trifluoroacetic acid j
l! 2sJVc was dissolved and stirred at room temperature for 4 hours. The reaction solution was concentrated, diisopropyl ether was added to the residue and stirred, and a crystalline powder was collected. Yield: 447 capes. This was dissolved in 2 dVC of ethyl acetate and 2 dVC of water, and 20% of the solution was added. After stirring, 3N hydrochloric acid was added to adjust to I) Hls.

析出する目的化合物をP取した。収量旧8m1f。The precipitated target compound was collected as P. Yield old 8m1f.

Ffi中の酢酸エチル層を分離し、水層を酢酸エチルで
抽出後、全酢酸エチル層を合せ、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去すると、目的化合物が結晶として
析出した。ジイソプロピルエーテルを用いCF取した。
After separating the ethyl acetate layer in Ffi and extracting the aqueous layer with ethyl acetate, all the ethyl acetate layers were combined, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to precipitate the target compound as crystals. CF was removed using diisopropyl ether.

収l17019゜融点201−203℃。Yield 17019°, melting point 201-203°C.

NMR(lDMso−ti6)δ(ppm) :1.2
11 (3H,t、 J=7.5Hz、 0020H2
0H,)。
NMR (lDMso-ti6) δ (ppm): 1.2
11 (3H, t, J=7.5Hz, 0020H2
0H,).

ト  ン 、    N−0H2−00,0020H2
0H5)。
ton, N-0H2-00,0020H2
0H5).

L12 (SH,s、フェニルプロトン)。L12 (SH, s, phenyl proton).

7.2−8.3 (7H,m、  ナフチルプロトン)
7.2-8.3 (7H, m, naphthyl proton)
.

実施例3 実施例2で製造される4−アザ−4−カルボキシメチル
−5−(1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピ
ル)アミノ−5−オキソ−2−(l−ナフチル) −1
−チアシクロへブタン216119を1N力性ソ一ダ水
溶液2厘lと混ぜ、室温で゛16時間攪拌した。少量の
不溶物をr去し、F[に1N塩酸を滴加し、pH2,o
 K して析出する粉末状目的化合物をr取し、少量の
水で洗浄した。収量201ηO NMR(DM80−d6)δ(ppm) :ロトン、 
 N−0H2−00) 。
Example 3 4-Aza-4-carboxymethyl-5-(1-ethoxycarbonyl-3-phenylpropyl)amino-5-oxo-2-(l-naphthyl)-1 prepared in Example 2
-Thiacyclohebutane 216119 was mixed with 2 liters of 1N aqueous sodium hydroxide solution and stirred at room temperature for 16 hours. A small amount of insoluble matter was removed, 1N hydrochloric acid was added dropwise to F[, and the pH was adjusted to 2,0
The precipitated powdery target compound was collected and washed with a small amount of water. Yield 201ηO NMR (DM80-d6) δ (ppm): Roton,
N-0H2-00).

7.28 (5H,s、  フェニルプロトン)。7.28 (5H,s, phenyl proton).

7.1−11.3 (7H,ナフチルプロトン)。7.1-11.3 (7H, naphthyl proton).

実施例4 4−アザ−4−tert−ブトキシカルボニルアミノA
Example 4 4-aza-4-tert-butoxycarbonylamino A
.

2−ナツトアルデヒドシアンヒドリン261を水素化り
°チウムアルミニウムで還元して得られた粗2−アミノ
−1−(2−ナフチル)エタノールを、実施例1.工程
人と同様の方法によりtert−ブトキシカルボニル化
して、 結晶性の目的化合物tapを得た。融点99−
100.5℃。
The crude 2-amino-1-(2-naphthyl)ethanol obtained by hydrogenating 2-nattaldehyde cyanohydrin 261 and reducing it with tium aluminum was used in Example 1. Tert-butoxycarbonylation was performed in the same manner as the engineer, to obtain the crystalline target compound tap. Melting point 99-
100.5℃.

NMR(oDal5 )  δ(ppm):1.43 
 (9H,s、  tert−Bu ) 。
NMR (oDal5) δ (ppm): 1.43
(9H,s, tert-Bu).

3.1 3.75 (3H,m、  OH2、OH) 
3.1 3.75 (3H, m, OH2, OH)
.

4.95  (IH,t)r、  Nll ) 。4.95 (IH, t)r, Nll).

4.516  (IH,d、d、  J=4. 8H2
,−0H−OH) 。
4.516 (IH, d, d, J=4.8H2
, -0H-OH).

7.4−8.0 (7H,m、ナフチルプロトン)。7.4-8.0 (7H, m, naphthyl proton).

工程B。Process B.

2− tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−(2
−ナフチル)エタノール16fを実施例1゜工程Bと同
様の方法により、五塩化リンでクロル化して、結晶性の
目的化合物9.14Fを得た。
2-tert-butoxycarbonylamino-1-(2
-Naphthyl) ethanol 16f was chlorinated with phosphorus pentachloride in the same manner as in Example 1, Step B to obtain crystalline target compound 9.14F.

融点97−98℃。Melting point 97-98°C.

NMR(oDal 5 )δ(ppm) :1.43 
(9H,s、 tert−Bu ) 。
NMR (oDal 5 ) δ (ppm): 1.43
(9H,s, tert-Bu).

3.4 4.0 (2H,m、  OH2) 。3.4 4.0 (2H, m, OH2).

483 (IH,bらNH) 。483 (IH, b et al. NH).

5.18 (IH,d、d、 J=8.7Hz、−3H
−ナフチル)。
5.18 (IH, d, d, J=8.7Hz, -3H
-naphthyl).

7.45−8.0 (7H,m、ナフチルプロトン)。7.45-8.0 (7H, m, naphthyl proton).

工程0゜ 実施例1.1程0と同様の操作によりL−システィンp
−)ルエンスルホン酸[1(NF、 N −カルボエト
キシフタルイミド7.51.重fl16.21およびジ
フェニルジアゾメタン7.4fから製造されるN−フタ
リル−L−システィンジフェニルメチルエステルと2−
 tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−クロル−
1−(2−ナフチル)エタン9.6gのジメチルホルム
アミド8o−溶液に炭酸ソーダr、3yを加え、窒素気
流中、80℃で18時間攪拌した。反応液を実施例1.
工程0と同様に処理し、目的化合物を無定形固体とし【
得た。収量12.3F。
Step 0゜ L-cysteine p was obtained by the same operation as in Example 1.1 Step 0
-) luenesulfonic acid [1(NF, N-phthalyl-L-cystine diphenylmethyl ester prepared from N-carboethoxyphthalimide 7.51.fluorocarbon 16.21 and diphenyldiazomethane 7.4f and 2-
tert-butoxycarbonylamino-1-chloro-
Sodium carbonate r, 3y was added to a dimethylformamide 8o-solution of 9.6 g of 1-(2-naphthyl)ethane, and the mixture was stirred at 80° C. for 18 hours in a nitrogen stream. The reaction solution was prepared in Example 1.
Treat in the same manner as in step 0 to convert the target compound into an amorphous solid [
Obtained. Yield 12.3F.

NMR(onOJ3)δ(ppm) :1.37 (9
Ht s、 tert−Bu)。
NMR (onOJ3) δ (ppm): 1.37 (9
Hts, tert-Bu).

!2−3.7 (4H,m、 CfH2B、 0−0H
2−N)。
! 2-3.7 (4H, m, CfH2B, 0-0H
2-N).

4.22 (18,t、 J=4.5Hz、 8−0H
−ナフチル)。
4.22 (18,t, J=4.5Hz, 8-0H
-naphthyl).

4.87 (IH,br、 NH)。4.87 (IH, br, NH).

s、os (IH@ m、 N−0H−00)t6.7
9と7.112(合せてIH,s、 0HPh2 )。
s, os (IH@m, N-0H-00)t6.7
9 and 7.112 (total IH,s, 0HPh2).

r、o −a、o (21H,m、 0H(06)2.
  ナフチルプロトン、フタリルプロトン)。
r,o -a,o (21H,m, 0H(06)2.
naphthyl proton, phthalyl proton).

工8D。Engineering 8D.

8− (2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1
−(2−ナフチル)エチル)−N−フタリルシスティン
ジフェニルメチルエステル12.3fを実施例1.工程
りと同様の操作により、トリフルオロ酢駿で脱保護して
、粉末状の目的化合物e、ayを得た。融点196−2
00℃。
8-(2-tert-butoxycarbonylamino-1
-(2-naphthyl)ethyl)-N-phthalylcysteine diphenylmethyl ester 12.3f was prepared in Example 1. Deprotection with trifluoroacetic acid was performed in the same manner as in step 3 to obtain powdered target compounds e and ay. Melting point 196-2
00℃.

工程E。Process E.

8−〔2−アミノ−1−(2−ナフチル)エチル]−N
−フタリルシスティン6.5gを実施例1、工程Eと同
様の操作により、ジフェニルホスホリルアジド47m!
を用いて縮合環化して、 目的化合物4.25Nを得た
。融点270℃から軟化し、2113−2115℃で溶
融。
8-[2-amino-1-(2-naphthyl)ethyl]-N
- Using 6.5 g of phthalylcysteine in the same manner as in Example 1, Step E, 47 m of diphenylphosphoryl azide was obtained!
The target compound 4.25N was obtained by condensation and cyclization using the following formula. It softens from a melting point of 270°C and melts at 2113-2115°C.

NMR(DM80−d6) a (ppm) エチル)
NMR (DM80-d6) a (ppm) ethyl)
.

5.43 (IH,m、 N−0H−Co L7.5−
14 (11H,ナフチルプロトン、フタリルプロトン
)6 工程P。
5.43 (IH, m, N-0H-Co L7.5-
14 (11H, naphthyl proton, phthalyl proton) 6 Step P.

4−アザ−5−オキソ−2−(2−ナフチル)−6−フ
タルイミド−1−チアシクロへブタン415IIを実施
例1.工程Fと同様の方法によりブロム酢酸tert 
−’jメチル処理して、 結晶性の目的化合物&351
を得た。融点208−209.5℃。
4-aza-5-oxo-2-(2-naphthyl)-6-phthalimido-1-thiacyclohebutane 415II in Example 1. Bromoacetic acid tert was prepared in the same manner as in Step F.
−'jMethyl treatment to obtain crystalline target compound &351
I got it. Melting point 208-209.5°C.

NIJB (oDol g )δ(ppm):1.47
  (!IH,s、  tert −nu )。
NIJB (oDol g ) δ (ppm): 1.47
(!IH,s, tert-nu).

2.9−4115 (7H,m、 N−OH,−03(
ナフチJl/)−8−う、N−0シーoo)。
2.9-4115 (7H, m, N-OH, -03(
Nafuchi Jl/)-8-U, N-0 Seaoo).

5.72  (IH,d、 d、  J=2. 10H
z、  N−0H−00L7.3−10 (11H,ナ
フチルプロトン、フタリルプロトン)。
5.72 (IH, d, d, J=2.10H
z, N-0H-00L7.3-10 (11H, naphthyl proton, phthalyl proton).

工程G。Process G.

4−アザ−4=tert−ブトキシカルボニルメチル−
5−オキソ−2−(2−ナフチル)−6−フタルイミド
−1−チアシクロへブタン3.25fを実施例1.工程
Gと同様の処理により、メチルヒドラジンで脱フタリル
化して無定形粉末の目的化合物2.62を得た。
4-aza-4=tert-butoxycarbonylmethyl-
3.25f of 5-oxo-2-(2-naphthyl)-6-phthalimido-1-thiacyclohebutane in Example 1. By the same treatment as in Step G, the target compound 2.62 was obtained as an amorphous powder by defthalylation with methylhydrazine.

NMR(oncj、)δ(ppm) :1.46 (9
H,S、 tert−Bu)t2.26 (2H,59
NH2)。
NMR (oncj,) δ (ppm): 1.46 (9
H,S, tert-Bu)t2.26 (2H,59
NH2).

2.45−4.75 (8H,m、  7員環プロトン
、−N−OH2−CO)。
2.45-4.75 (8H, m, 7-membered ring proton, -N-OH2-CO).

7.2−7.9 (IIH,ナフチルプロトン、フタリ
ルプロトン)。
7.2-7.9 (IIH, naphthyl proton, phthalyl proton).

工程H9 6−アミノ−4−アザ−4−tert−ブトキシカルボ
ニルメチル−5−オキンー2−(2−ナフチル)−1−
チアシクロへブタンQ、85 flを実施例1.工程H
と同様の方法により、 2−ブロム−4−フェニル酪酸
エチル1.011でN−アルキル化した。生成物を酢酸
エチル−ジクロルメタン1:30のシリカゲル・ カラ
ムクロマトに付して、フェネチル基の結合する炭素に由
来する2種類の異性体AとBに分離した。最初に溶離す
る異性佳人:油状物Q、47f。
Step H9 6-amino-4-aza-4-tert-butoxycarbonylmethyl-5-oquine-2-(2-naphthyl)-1-
Thiacyclohebutane Q, 85 fl was prepared in Example 1. Process H
N-alkylation was carried out with 1.011 ethyl 2-bromo-4-phenylbutyrate in the same manner as described above. The product was subjected to silica gel column chromatography using ethyl acetate-dichloromethane (1:30) to separate it into two isomers A and B derived from the carbon to which the phenethyl group is attached. The isomer eluting first: Oil Q, 47f.

NMR(onoJ5)δ(ppm) :1.25 (3
H,t、 、Tニア、5H2,Co20H20H3)v
l、47 (9H,s、 tert−Bu )。
NMR (onoJ5) δ (ppm): 1.25 (3
H, t, , T near, 5H2, Co20H20H3)v
l, 47 (9H,s, tert-Bu).

ロトン、N ag co)。Roton, N.ag.co).

4.14 (2H,(1,J=7.5Hz、 Co20
!20H,)。
4.14 (2H, (1, J=7.5Hz, Co20
! 20H,).

7.20 (5H,s、フェニルプロトン)。7.20 (5H,s, phenyl proton).

7.1−7.9 (7H,m、ナフチルプロトン)。7.1-7.9 (7H, m, naphthyl proton).

次に溶離する異性体nO,50f。The next eluting isomer nO, 50f.

NMR(0DOj 5 )δ(ppm) :1.27 
(3H,t、 J=7.5Hz、 Co20H20H3
)。
NMR (0DOj 5 ) δ (ppm): 1.27
(3H, t, J=7.5Hz, Co20H20H3
).

1.47 (9H,s、 tert−Bu)。1.47 (9H, s, tert-Bu).

ト ン、   N−0Hj−Co )。ton, N-0Hj-Co).

4.16 (2H,q、 J=7.5Hz、oo2c!
!2ou3)。
4.16 (2H, q, J=7.5Hz, oo2c!
! 2ou3).

7.20 (5H,S、フェニルプロトン)。7.20 (5H,S, phenyl proton).

7.1−7.9 (7H,m、ナフチルプロトン)。7.1-7.9 (7H, m, naphthyl proton).

実施例5 1−チアシクロへブタン 実施例4.工程Hで製造される4−アザ−4−tert
−ブトキシカルボニルメチル−6−(1−エトキシカル
ボニル−3−フェニルプロピル)アミノ−5−オキソ−
2−(2−ナフチル)−1−チアシクロへブタンの異性
体80.47Fを実施例2の方法により、トリフルオロ
酢酸で脱tert−ブチル化して、結晶性粉末として目
的物を得た。収量0.42F、 115℃付近から軟化
し、175−180℃で溶融。
Example 5 1-thiacyclohebutane Example 4. 4-aza-4-tert produced in step H
-butoxycarbonylmethyl-6-(1-ethoxycarbonyl-3-phenylpropyl)amino-5-oxo-
The isomer 80.47F of 2-(2-naphthyl)-1-thiacyclohebutane was detert-butylated with trifluoroacetic acid according to the method of Example 2 to obtain the desired product as a crystalline powder. Yield 0.42F, softens around 115℃ and melts at 175-180℃.

NMR(DMSO−L d6)δ(ppm) :1.3
0 (3H,L、 J=7.5Hz、 Co20!20
H,)eロトン、  N−aH2−Co、 co2o)
12a)(3)e7.33 (5H,S、フェニルプロ
トン)。
NMR (DMSO-L d6) δ (ppm): 1.3
0 (3H,L, J=7.5Hz, Co20!20
H,) e roton, N-aH2-Co, co2o)
12a)(3)e7.33 (5H,S, phenyl proton).

7.2−8.1 (7H,m、ナフチルプロトン)。7.2-8.1 (7H, m, naphthyl proton).

実施例日 4−アザ−4−カルボキシメチル−6−(l−エトキシ
カルボニル−3−フェニルプロピル)アミノ−5−オキ
ソ−2−(2−ナフチル)−1−チアシクロへブタン2
00■を実施例3の方法により、力性ソーダで加水分解
して、粉末状の目的化合物133ηを得た。
Example date 4-aza-4-carboxymethyl-6-(l-ethoxycarbonyl-3-phenylpropyl)amino-5-oxo-2-(2-naphthyl)-1-thiacyclohebutane 2
00■ was hydrolyzed with sodium hydroxide according to the method of Example 3 to obtain the target compound 133η in powder form.

NMR(1)MSOd6 )δ(ppm) :ロトン、
  N−0H2−00) 。
NMR (1) MSOd6) δ (ppm): Roton,
N-0H2-00).

7.30 (5H,s、 7 エニs、プロトン)。7.30 (5H, s, 7 any s, proton).

7.2−8.1 (7H,m、ナフチルプロトン)。7.2-8.1 (7H, m, naphthyl proton).

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアルキル基、シクロアルキルアルキル
基またはアラルキル基を示し、R^2およびR^4は同
一または異なつて水素原子またはカルボキシ基の保護基
を示し、R^3はナフチル基を示し、Aは低級アルキレ
ン基を示す。) を有する4−アザ−5−オキソ−1−チアシクロヘプタ
ン誘導体。
[Claims] General formula▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R^1 represents an alkyl group, cycloalkylalkyl group, or aralkyl group, and R^2 and R^4 are the same or different. represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, R^3 represents a naphthyl group, and A represents a lower alkylene group).
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