JPS61206143A - Fusing method for ionized material in liquid metal ion source - Google Patents

Fusing method for ionized material in liquid metal ion source

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JPS61206143A
JPS61206143A JP60044722A JP4472285A JPS61206143A JP S61206143 A JPS61206143 A JP S61206143A JP 60044722 A JP60044722 A JP 60044722A JP 4472285 A JP4472285 A JP 4472285A JP S61206143 A JPS61206143 A JP S61206143A
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laser
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ion
substance
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博司 山口
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聡 原市
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朗 嶋瀬
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Abstract

PURPOSE:To improve the heating efficiency while to simplify the structure by irradiating laser beam onto a needle electrode thus thermally fusing the ionized material. CONSTITUTION:The laser beam 8a produced from a laser oscillator 8 is reflected by two adjusting mirrors 9, 10 then collected through collection lens 11 and led through a window glass 12 into a vacuum container 7 thus to form a spot 14 at the tip of an ion discharging needle 2 and to heat it. Since the tip section of ion discharging needle 2 can be directly heated locally, the heating efficiency can be improved. While since the heating source is not arranged in a vacuum container, the structure is simplified.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は液体金属イオン源におけるイオン化物質溶融方
法とくにレーザ光を用いてイオン化物質を加熱溶融する
液体金属イオン源におけるイオン化物質溶融方法に関す
るものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source, and particularly to a method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source that heats and melts the ionized substance using a laser beam. .

〔発明の背景〕[Background of the invention]

従来の液体金属イオン源におけるイオン化物質溶融方法
は主として通電加熱手段が使用されている。たとえば第
9図に示す如く、イオン放出用ニードル2を複数個の支
持部3にて支持している場合には、上記支持部3を通電
加熱してその表面に付着するイオン化物質1を溶融させ
ている。然るにこの場合には、イオン物質1を大容量に
貯溜することができない。また高融点のイオン化物質を
溶融するため支持部3に大電流を流すと、該支持部3が
破損することがある。つぎに第10図は1980年に発
行されたインストウ、フイズ、コンフ、セル、&54:
チャブタ−7(Inst、Phyg、Conf。
Conventional methods for melting ionized substances in liquid metal ion sources mainly use electrical heating means. For example, as shown in FIG. 9, when the ion emitting needle 2 is supported by a plurality of support parts 3, the support parts 3 are electrically heated to melt the ionized substance 1 adhering to the surface thereof. ing. However, in this case, the ionic substance 1 cannot be stored in a large capacity. Further, when a large current is passed through the support part 3 to melt an ionized substance having a high melting point, the support part 3 may be damaged. Next, Figure 10 shows Instow, Fiz, Conf, Cell, &54, published in 1980:
Chabuta-7 (Inst, Phyg, Conf.

S sr 、 NQ54 : Chaptar 7 )
第316頁乃至第321頁に記載されたリキッドメタル
フィールドエミッションイオンソースイズアンド・ゼア
・アプリケーションズ;ピー、ディー、プリューエツト
アンドディー、ケー、ジェフェリーズ(L iguid
 Metalfield  emission  io
n  5ources  and  theirapp
lications ; P 、 D 、 P rew
ett  and  D 、 K 。
S sr, NQ54: Chapter 7)
Liquid Metal Field Emission Ion Source Ion Source Is and There Applications as described on pages 316 to 321;
Metalfield emission io
n 5 sources and theirapp
lications; P, D, P rew
ett and D, K.

J efferries)に記載されているもので、こ
の場合には、円筒形状をし、その底面4aを中央に行く
に伴って下方に位置する如く傾斜させその中央部に貫通
穴4bを形成した溜め部4を設け、この溜め部4内にそ
の中央部に挿入して、その下端部を上記貫通穴4bを貫
通して下方に突出するイオン放出用ニードル2と、この
イオン放出用ニードル2と、内壁面との間にイオン化物
質1を溜めている。また上記溜め部4の外周に絶縁物に
て形成された筒6を固定し、この筒6の外周面に加熱ヒ
ータ5を固定している。而して上記の構成においては、
加熱ヒータ5の加熱により、筒6を介して溜め部4内の
イオン化物質1を溶融している。然るに上記の構成では
高融点のイオン化物質1を使用する場合には加熱ヒータ
5に大電流を供給する必要があり、かつイオン化物質1
の加熱効率が低下する等の問題点を含んでいる。このよ
うに従来の通電加熱方式によるものにおいては、高融点
のイオン化物質を使用する場合、大電流を必要とするた
め、大電流を流すための電線が必要である。一般にイオ
ンビーム装置においては、その構成上イオン源部は数K
V以上の高圧に浮かされ、かつ高真空容器中に装入する
必要があるので、電線の容量を大きくすると、構成が複
雑になる。また第10図に示す如くイオン化物質1を溜
めるための溜め部4を設けた場合には、加熱効率が低下
する等の問題点を含んでいる。
In this case, the reservoir part has a cylindrical shape, the bottom surface 4a of which is inclined downwardly toward the center, and a through hole 4b is formed in the center part. 4 is provided, and an ion emitting needle 2 is inserted into the central part of the reservoir 4 and projects downward with its lower end penetrating the through hole 4b; An ionized substance 1 is stored between the wall and the wall. Further, a cylinder 6 made of an insulating material is fixed to the outer periphery of the reservoir 4, and a heater 5 is fixed to the outer peripheral surface of the cylinder 6. Therefore, in the above configuration,
By heating the heater 5, the ionized substance 1 in the reservoir 4 is melted through the cylinder 6. However, in the above configuration, when using the ionized substance 1 with a high melting point, it is necessary to supply a large current to the heater 5, and the ionized substance 1 needs to be supplied with a large current.
This includes problems such as a decrease in heating efficiency. As described above, in the conventional electrical heating method, when an ionized substance with a high melting point is used, a large current is required, and thus an electric wire is required for passing the large current. Generally, in an ion beam device, the ion source part is several K due to its configuration.
Since the electric wire needs to be floated at a high voltage of V or more and placed in a high vacuum container, increasing the capacity of the electric wire will complicate the structure. Further, when a reservoir 4 for storing the ionized substance 1 is provided as shown in FIG. 10, there are problems such as a decrease in heating efficiency.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は前記に述べた従来の問題点を解決し、イオン源
の長寿命化、イオン源の加熱効率の向上化および真空高
電位部への大電流の導入のさいの構成の簡単化を可能と
する液体金属イオン源におけるイオン化物質溶融方法を
提供することにある。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, extends the life of the ion source, improves the heating efficiency of the ion source, and simplifies the configuration when introducing a large current into the vacuum high potential section. An object of the present invention is to provide a method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は前記に述べた目的を達成するため、レーザビー
ムを用いてイオン化物質を加熱溶融することを特徴とす
るもので、とくにレーザビームを真空容器内に直接源い
てイオン化物質を加熱溶融するかあるいはレーザビーム
を直接イオン放出用ニードルおよびリザーバ部に照射し
てこれを加熱することを特徴とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is characterized in that an ionized substance is heated and melted using a laser beam, and in particular, a laser beam is directly sourced into a vacuum container to heat and melt the ionized substance. Alternatively, the method is characterized in that the ion emitting needle and the reservoir section are directly irradiated with a laser beam to heat them.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下本発明の実施例を示す第1図乃至第6図について説
明する。第1図は本発明の一実施例を示すイオン放出用
ニードル加熱装置の説明用正面図、第2図はイオン放出
用ニードルおよびリザーバ部加熱装置の説明用正面図、
第3図はイオン化物質加熱装置の説明用正面図、第4図
はイオン放出用ニードルおよびイオン化物質同時加熱装
置の一例を示す説明用平面図、第5図はイオン放出用ニ
ードルおよびイオン化物質同時加熱装置の他の一例を示
す説明用平面図、第6図(a)はイオン放出用ニードル
加熱装置の他の一例を示す説明用正面図、第6図(b)
t*−そのA−A’矢視平面図、第7図はイオン放出用
ニードルおよびイオン化物質加熱装置の他の一例を示す
説明用正面図、第8図は第7図に示すイオン放出用ニー
ドルおよびイオン化物質加熱装置用イオンビーム出力制
御装置を示す説明用正面図である。第1図において、7
は真空容器にして、内部にはGaなどのイオン化物質1
を収納し、その中心部にタングステン等にて形成された
イオン放出用ニードル2を保持するリザーバ部(溜め部
)4を保持し、側壁の1部には窓7aを形成しこの窓7
aを窓ガラス12にて密閉している。
1 to 6 showing embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is an explanatory front view of an ion emitting needle heating device showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory front view of an ion emitting needle and a reservoir heating device,
Fig. 3 is an explanatory front view of the ionized substance heating device, Fig. 4 is an explanatory plan view showing an example of the ion emission needle and ionized substance simultaneous heating device, and Fig. 5 is the ion emission needle and ionized substance simultaneous heating. FIG. 6(a) is an explanatory plan view showing another example of the device, and FIG. 6(b) is an explanatory front view showing another example of the ion emitting needle heating device.
t*-A plan view taken along the line A-A', FIG. 7 is an explanatory front view showing another example of the ion-emitting needle and the ionized substance heating device, and FIG. 8 is the ion-emitting needle shown in FIG. 7. FIG. 2 is an explanatory front view showing an ion beam output control device for an ionized substance heating device. In Figure 1, 7
is a vacuum container, and inside is an ionized substance such as Ga.
A reservoir part 4 for holding an ion emitting needle 2 made of tungsten or the like is held in the center thereof, and a window 7a is formed in a part of the side wall.
A is sealed with a window glass 12.

8はレーザ発振器にしてたとえばYAGレーザ等にて形
成されレーザビーム8aを出力する如くしている。9,
10は2個の調整ミラー、11は集光レンズ、13は集
光ビーム、14は上記集光ビーム13がイオン放出用ニ
ードル7の先端部に形成された集光スポットである。な
お、上記2個の調整ミラー9゜10は上下矢印方向に移
動可能で、また集光レンズ11は上下矢印方向および左
右矢印方向に移動可能で、これにより集光スポット14
の位置を調整可能にしている。上記の構成であるから、
レーザ発信器8より出力されたレーザビーム8aは2個
の調整ミラー9,10で反射されたのち、集光レンズ1
1で集光されてその集光ビーム13が窓ガラス12を通
って真空容器7内に導入し、イオン放出用ニードル2の
先端部に集光スポット14を形成してイオン放出用ニー
ドル2の先端部を照射加熱する。したがって本実施例に
おいては、イオン放出用ニードル2の先端部を局部的に
直接加熱することができるので、加熱効率を向上するこ
とができる。また従来のように加熱源が真空容器内に設
置されていないので、構成が簡単である。
A laser oscillator 8 is formed of, for example, a YAG laser and outputs a laser beam 8a. 9,
10 is two adjustment mirrors, 11 is a condensing lens, 13 is a condensed beam, and 14 is a condensed spot where the condensed beam 13 is formed at the tip of the ion emitting needle 7. The two adjustment mirrors 9° 10 are movable in the directions of the up and down arrows, and the condenser lens 11 is movable in the directions of the up and down arrows and the left and right arrows.
The position is adjustable. Because of the above configuration,
A laser beam 8a output from a laser transmitter 8 is reflected by two adjustment mirrors 9 and 10, and then reflected by a condenser lens 1.
1, the focused beam 13 is introduced into the vacuum chamber 7 through the window glass 12, and forms a focused spot 14 at the tip of the ion emitting needle 2. The area is heated by irradiation. Therefore, in this embodiment, the tip of the ion-emitting needle 2 can be locally and directly heated, so that heating efficiency can be improved. Furthermore, since the heating source is not installed inside the vacuum container as in the conventional case, the structure is simple.

つぎに第2図においては、前記第1図と比較すれば明ら
かな如く、3個の調整ミラー9,10a。
Next, in FIG. 2, as is clear from the comparison with FIG. 1, there are three adjusting mirrors 9, 10a.

10bと2個の集光レンズlla、 llbとを設け、
レーザ発信器8よりのレーザビーム8aを3個の調整ミ
ラー9 、10a、 10bにて2個に分割し、各レー
ザビーム8aを2個の集光レンズlla、 llbにて
夫々集光して各集光ビーム13a、 13bを窓ガラス
12を通じて真空容器7内に導入し、イオン放出用ニー
ドル2の先端部と、リザーバ部4とに同時に集光スポッ
ト14a、 14bを形成してイオン放出用ニードル2
およびリザーバ部4を同時に加熱するものである。
10b and two condensing lenses lla and llb are provided,
A laser beam 8a from a laser transmitter 8 is divided into two by three adjustment mirrors 9, 10a, and 10b, and each laser beam 8a is focused by two condensing lenses lla and llb, respectively. The focused beams 13a and 13b are introduced into the vacuum container 7 through the window glass 12, and focused spots 14a and 14b are simultaneously formed on the tip of the ion emitting needle 2 and the reservoir section 4, so that the ion emitting needle 2
and the reservoir section 4 are heated at the same time.

したがって本実施例においては第1図に示す実施例と比
較してイオン放出用ニードル2の他にイオン化物質1も
同時に加熱することができるので、イオン化物質1は短
時間で加熱することができ。
Therefore, in this embodiment, as compared with the embodiment shown in FIG. 1, the ionized substance 1 can be heated in addition to the ion emitting needle 2 at the same time, so that the ionized substance 1 can be heated in a short time.

これによって融点の高いイオン化物質1にも適用するこ
とができる。
This allows application to the ionized substance 1 having a high melting point.

つぎに第3図においては、2個の集光レンズ11a、 
llbにより集光された2個の集光ビーム13a 。
Next, in FIG. 3, two condensing lenses 11a,
Two condensed beams 13a condensed by Ilb.

13bが窓ガラス12を通じて真空容器7内に導入する
。而して本実施例においてはリザーバ部4がレーザビー
ム8aを透視可能な物質たとえば耐熱性の石英ガラス等
にて形成されているので、上記2個の集光ビーム13a
、 13bはリザーバ部4を通過してその内部のイオン
化物質1に直接集光スポット14c。
13b is introduced into the vacuum container 7 through the window glass 12. In this embodiment, the reservoir section 4 is made of a material that allows the laser beam 8a to be seen through, such as heat-resistant quartz glass, so that the two focused beams 13a can be seen through the reservoir section 4.
, 13b is a light spot 14c that passes through the reservoir section 4 and is directly focused on the ionized substance 1 therein.

14dを形成してこれを加熱することができる。したが
って、本実施例においては、加熱効率をさらに向上する
ことができ、かつ加熱時間の短縮をはかることができる
14d can be formed and heated. Therefore, in this embodiment, the heating efficiency can be further improved and the heating time can be shortened.

つぎに第4図においては、レーザ光に対して透明なイオ
ン化物質を使用した場合を示し、この場合には、レーザ
光としてCO2レーザ8bを使用し前記第3図における
調整ミラー9 、10a、 10bおよび集光レンズl
la、llbの代りに上記Co2レーザ8bの波長に対
して透明なGe、Cd−Te、ZeSsなどで形成され
た2個のレンズ15.16を設け、かつ上記2個のレン
ズ15.16と同様透明な物質で形成され、該レンズ1
5.16側を開口する円弧状に形成された反射部18a
と、この反射部18aの内周面に固定され上記レンズ1
6よりの平行レーザビーム17a。
Next, FIG. 4 shows a case where an ionized substance transparent to the laser beam is used. In this case, a CO2 laser 8b is used as the laser beam, and the adjustment mirrors 9, 10a, 10b in FIG. 3 are used. and condensing lens l
In place of la and llb, two lenses 15.16 made of Ge, Cd-Te, ZeSs, etc. that are transparent to the wavelength of the Co2 laser 8b are provided, and the same as the two lenses 15.16 described above. The lens 1 is formed of a transparent material.
Reflection part 18a formed in an arc shape with an opening on the 5.16 side
The lens 1 is fixed to the inner circumferential surface of the reflecting portion 18a.
6 parallel laser beams 17a.

17b・・・17gを反射させてその内部に挿入するイ
オン放出用ニードル19に集光させるため、たとえば金
の蒸着膜などの反射材料で形成された反射膜18bと、
上記反射部18aの開口部分に固定された平板状の透視
部18cとからなるリザーバ部18を設けている。なお
、上記2個のレンズ15.16は平行光線束17a、・
・・17gを得る装置すなわちコリメータ(Colim
atar)を形成している。また上記リザーバ部18内
のイオン化物質20はCo2レーザ8bに対して透明な
材料たとえばS i 、 G a A sなどを使用し
ている。上記の構成であるから、レーザ発信器8よりの
cogレーザ8bは2個のレンズ15.16によって平
行レーザビーム17.a・・・17gとなり、真直に窓
ガラス12および透視部18cを通過して反射膜18b
で反射され、イオン放出用ニードル19に集光されてこ
れを加熱する。したがって本実施例においては、C○2
レーザビーム8bがイオン放出用ニードル19に到達す
る以前にその周囲のイオン化物質20を部分的に吸収さ
れてこれを加熱することができる。
17b...17g to reflect the light and focus it on the ion emitting needle 19 inserted therein, a reflective film 18b formed of a reflective material such as a gold vapor deposited film;
A reservoir section 18 is provided, which includes a flat transparent section 18c fixed to the opening of the reflecting section 18a. Note that the two lenses 15 and 16 have parallel light beams 17a, .
... A device for obtaining 17 g, that is, a collimator (Colim
atar). The ionized substance 20 in the reservoir section 18 is made of a material transparent to the Co2 laser 8b, such as Si, GaAs, or the like. With the above configuration, the cog laser 8b from the laser oscillator 8 is converted into a parallel laser beam 17. by the two lenses 15.16. a...17g, passes straight through the window glass 12 and the transparent part 18c, and passes through the reflective film 18b.
The light is reflected by the ion-emitting needle 19 and is focused on the ion-emitting needle 19 to heat it. Therefore, in this example, C○2
Before the laser beam 8b reaches the ion emitting needle 19, it can partially absorb and heat the ionized substance 20 surrounding it.

つぎに第5図においては、前記第4図に示す一方のレン
ズ16と、窓ガラス12との間にレンズ16よりの平行
レーザビーム17a・・・17gを窓ガラス12とリザ
ーバ部18の透視部18cとの間の焦点21に集光させ
たのち、リザーバ部18の反射膜18bに導くための集
光レンズ22を設けている。また上記リザーバ部18の
反射部18aおよび反射膜18bは楕円筒形状に形成さ
れ、上記焦点21より反射膜18bに導かれたCo2レ
ーザビームを反射してイオン放出用ニードル19に集光
させる如くしている。上記の構成であるから、レーザ発
信器8よりのCQ2レーザ8bは2個のレンズ15.1
6によって平行レーザビーム17a・・・17gとなり
、ついでこの平行レーザビーム17a・・・17gが集
光レンズ22により窓ガラス12を通じて真空容器4内
のイオン化物質20中の焦点21に集光したのち、リザ
ーバ部18内に導かれて反射膜18bで反射され、イオ
ン放出用ニードル19に集光されてこれを加熱する。し
たがって本実施例においてはイオン放出用ニードル19
およびイオン化物質20を均一に加熱することができる
Next, in FIG. 5, parallel laser beams 17a, . . . , 17g from the lens 16 are transmitted between one of the lenses 16 shown in FIG. A condensing lens 22 is provided to condense the light to a focal point 21 between the condensed light 18c and guide it to the reflective film 18b of the reservoir section 18. Further, the reflecting part 18a and the reflecting film 18b of the reservoir part 18 are formed in an elliptical cylindrical shape so that the Co2 laser beam guided from the focal point 21 to the reflecting film 18b is reflected and focused on the ion emitting needle 19. ing. With the above configuration, the CQ2 laser 8b from the laser oscillator 8 has two lenses 15.1.
6, the parallel laser beams 17a...17g are turned into parallel laser beams 17a...17g, which are then focused by a condenser lens 22 through the window glass 12 onto a focal point 21 in the ionized substance 20 inside the vacuum container 4. The light is guided into the reservoir section 18, reflected by the reflective film 18b, and focused on the ion emitting needle 19 to heat it. Therefore, in this embodiment, the ion emitting needle 19
And the ionized substance 20 can be heated uniformly.

つぎに第6図(a)(b)においては、前記第4図に示
すものと同様な方式にてイオン放出用ニードル2の先端
部を加熱する場合である。この場合には、反射用の放物
面ミラー23をリザーバ部4の下方のイオン放出用ニー
ドル2の先端部の周囲に設けている。この場合には、使
用するレーザビームはイオン化物質1に対して不透明で
あってもよい。上記の構成であるから、前記第4図に示
すレーザ発信器8よりのレーザビーム8bが2個のレン
ズ15.16によって平行レーザビーム17a・・・1
7eとなり、これが真直に窓ガラス12を通過して放物
面ミラー23に反射され、イオン放出用ニードル2に集
光されてこれを加熱する。なお本実施例は第4図と同様
な方式を使用した場合について述べたが、これに限定さ
れるものでなく、第5図と同様な方式を使用することも
可能である。
Next, in FIGS. 6(a) and 6(b), the tip of the ion emitting needle 2 is heated in the same manner as shown in FIG. 4. In this case, a parabolic mirror 23 for reflection is provided around the tip of the ion emitting needle 2 below the reservoir section 4. In this case, the laser beam used may be opaque to the ionized substance 1. With the above configuration, the laser beam 8b from the laser transmitter 8 shown in FIG.
7e, which passes straight through the window glass 12, is reflected by the parabolic mirror 23, and is focused on the ion emission needle 2 to heat it. Although this embodiment has been described using a method similar to that shown in FIG. 4, the present invention is not limited to this, and it is also possible to use a method similar to that shown in FIG. 5.

つぎに第7図においては、イオン放出用ニードルの先端
部を加熱する他の一例を示すもので、同図において、2
4はフランジにして、真空容器(図示せず)の上方部に
固定され、中央部には0リング25を介してガラス製窓
26を固定している。27は複数個の絶縁碍子にして、
上方部に電源(図示せず)に接続する高圧端子28を締
着し内部に電線(図示せず)を挿入している。29は複
数個の上方支持部にして、上端部を上記フランジ24に
固定され、下端部に固定板30を固定し、内部に上記絶
縁碍子27内よりの電線を挿入している。31は凹レン
ズを形成するガラス板にして、上記固定板30の中央部
に固定されている。32は円筒形状をした下方支持部に
して、上端部を上記固定板30に固定され、下端部を内
方に折り曲げてその上面に底のない椀形状をしたミラー
33を固定している。34はリザーバ部にして、上記下
方支持部32内に支持され、内部にイオン化物質35を
介してイオン放出用ニードル36をその下端部が外部に
突出する如く支持されている。37はミラーにして、レ
ーザ源(図示せず)よりのレーザビーム38を下方の上
記窓26に向って反射させる如くしている。なお上記上
方支持部29および下方支持部32内に挿入する電線は
図示していないが上記イオン化物質35に接続して電源
よりの電圧をイオン源35に導入している。上記の構成
であるから、ミラー37を反射した平行状態のレーザビ
ーム38は窓26を通過して真空容器内に導入すると、
ガラス板31にて分散し、その中心のレーザビーム38
はリザーバ部34の上方より内部のイオン化物質35に
入射してイオン化物質35およびイオン放出用ニードル
36を加熱する。またリザーバ部34の外周に分散した
レーザビーム38はミラー33で反射しイオン放出用ニ
ードル36の先端部周囲を照射してこれを加熱する。し
たがって本実施例においては、リザーバ部34と、イオ
ン化物質35およびイオン放出用ニードル36へのレー
ザ導入部と、このレーザ導入部へのレーザ導入のための
光学系とが一体に形成されているから、取付特番部間の
調整を行えば以後その必要がなくなって操作が容易にな
る。
Next, FIG. 7 shows another example of heating the tip of the ion emitting needle.
A flange 4 is fixed to the upper part of a vacuum container (not shown), and a glass window 26 is fixed to the center part through an O-ring 25. 27 is a plurality of insulators,
A high voltage terminal 28 connected to a power source (not shown) is fastened to the upper part, and an electric wire (not shown) is inserted inside. Reference numeral 29 is a plurality of upper support parts, the upper end of which is fixed to the flange 24, the lower end of which is fixed with a fixing plate 30, into which the electric wire from inside the insulator 27 is inserted. Reference numeral 31 denotes a glass plate forming a concave lens, which is fixed to the center of the fixed plate 30. 32 is a cylindrical lower support part whose upper end is fixed to the fixing plate 30, whose lower end is bent inward and has a bottomless bowl-shaped mirror 33 fixed to its upper surface. A reservoir section 34 is supported within the lower support section 32, and an ion emitting needle 36 is supported therein via an ionized substance 35 so that its lower end protrudes to the outside. A mirror 37 reflects a laser beam 38 from a laser source (not shown) toward the window 26 below. Although electric wires inserted into the upper support part 29 and the lower support part 32 are not shown, they are connected to the ionized substance 35 to introduce voltage from a power source into the ion source 35. With the above configuration, when the parallel laser beam 38 reflected by the mirror 37 passes through the window 26 and is introduced into the vacuum container,
The laser beam 38 at the center is dispersed by the glass plate 31.
enters the ionized substance 35 inside the reservoir section 34 from above and heats the ionized substance 35 and the ion ejection needle 36. Further, the laser beam 38 dispersed around the outer periphery of the reservoir section 34 is reflected by the mirror 33 and irradiates the periphery of the tip of the ion emitting needle 36 to heat it. Therefore, in this embodiment, the reservoir part 34, the laser introduction part to the ionized substance 35 and the ion emission needle 36, and the optical system for introducing the laser to this laser introduction part are integrally formed. If adjustments are made between the installation special numbers, there will be no need to do so from now on, making the operation easier.

つぎに第8図においては、前記第7図に示すレーザによ
るイオン化物質およびイオン放出用ニードル加熱装置を
用いたレーザ制御装置を示し、同図において39は真空
容器にして、前記第7図に示す如くフランジ24と、こ
のフランジ24の上面に支持された絶縁碍子27および
高圧端子28と、上記フランジ部24の中央部に支持さ
れた窓26と、上記フランジ24の下面に上方支持部2
9を介して支持され、固定板30、ガラス31.下方支
持部32、ミラー33、リザーバブ34.イオン化物質
35およびイオン放出用ニードル36からなるイオン源
40と、このイオン源40の下方位置に上下方向に間隔
をおいて配置された板状の引き出し電極41aおよびア
パーチャ41bと、このアパーチャ41bおよび上記イ
オン源のイオン放出用ニードル36に支持された熱電対
55を夫々外方のビーム電流制御系42に接続するため
の導線43a、 43bをシールするコネクタ44a、
 44bとを保有している。45はレーザ発信器にして
、電源コントローラ部46により一定の出力に制御され
たレーザビーム47を2個の凸レンズからなるビームエ
クスパンダ48に向かって出力する如くしている。この
ビームエクスパンダ48はレーザビーム47の径を調整
する如くしている。49は透過率可変フィルターにして
、透明なガラスにて円板状に金属製の薄膜を連続的にそ
の濃厚を変化させて蒸着して形成され、その外周部をエ
クスパンダ48から前記第7図に示すミラー37に向か
って流れるレーザビーム50内に挿入して上記レーザビ
ーム50の透過光量を調整する如くしている。51はフ
ィルター駆動用モータにして、軸端部に上記透過率可変
フィルタ49と同軸上に固定されたビニオン52aに噛
合うギヤ52bを固定支持している。53はディテクタ
ーにして、上記ミラー37を通過した約1%のレーザビ
ームを受けこのレーザビームのレーザパワに相当するモ
ニタ信号を上記ビーム電流制御系42に送信する如くし
ている。上記ビーム電流制御系42は上記ディテクター
53よりのモニタ信号と、アパーチャ41bよりのビー
ム電流およびイオン放出用ニードル36の熱電対55か
らの温度を受信し、上記ビーム電流もしくは熱電対55
からの温度が変化したとき、モータ制御回路54に送信
する如くしている。このモータ制御回路54は上記ビー
ム電流制御系42よりの信号に連動してフィルター駆動
用モータ51を回転させ、透過率可変フィルター49を
回転させてビームエクスパンダ48からミラー37への
レーザビーム50の光量を調整する如くしている。なお
図示の56は上記イオン放出用ニードル36から上記引
き出し電極41aによって上記アパーチャ41bに入射
するイオンビーム、57はイオン放出用ニードル36か
ら上記アパーチャ41b間を通過する中央付近のイオン
ビームにして加工、露光、打込みなどに使用される。上
記の構成であるから、レーザ発信器45から一定出力の
レーザビーム47をビームエクスパンダ48に向って出
力すると、ビームエクスパンダ48にて径を調整された
レーザビーム50がミラー37にて反射され、窓26を
通過して真空容器39内に導入される。ついで、レーザ
ビーム50がガラス板31を通過しつつ分散されてイオ
ン源39内に設けたリザーバ部34内のイオン化物質3
5中に導入されてイオン化物質35およびイオン放出用
ニードル36を加熱する。またリザーバ部34の外周を
分散するレーザビームがミラー33で反射されてイオン
放出用ニードル36の先端部周囲を加熱する。ついで上
記イオン放出用ニードル36の先端部周囲に照射したレ
ーザビームが引き出し電極41aによってその周囲のレ
ーザビーム56がアパーチャ41bに入射し、同時に中
央のレーザビーム57がアパーチャ41b間を通過して
加工、露光、打込みなどに使用される。而して上記アパ
ーチャ41bよりビーム電流制御系42に送られるビー
ム電流もしくはイオン放出用ニードル36の熱電対55
から上記ビーム電流制御系42に送られる温度が変化す
ると、これをビーム電流制御系42 p<検出してモー
タ制御回路54に信号を送信し、モータ制御回路54よ
りの信号によってフィルター駆動用モータ51を駆動さ
せるので、透過率可変フィルター49が回転してエクス
パンダ48からミラー37に向かって流れるレーザビー
ム50の透過光量を調整する。したがって本実施例にお
いてはイオン放出用ニードル36からのビーム電流、イ
オン化物質35およびイオン放出用ニードル36に照射
するレーザの出力およびリザーバ部34内の温度をモニ
タしてレーザの出力を一定に保持することができる。
Next, FIG. 8 shows a laser control device using a laser-based ionized substance and an ion emitting needle heating device shown in FIG. As shown in FIG.
9, fixed plate 30, glass 31. Lower support part 32, mirror 33, reservoir 34. An ion source 40 consisting of an ionizing substance 35 and an ion emitting needle 36, a plate-shaped extraction electrode 41a and an aperture 41b arranged below the ion source 40 at intervals in the vertical direction; a connector 44a that seals conductive wires 43a and 43b for connecting the thermocouple 55 supported by the ion emission needle 36 of the ion source to the external beam current control system 42, respectively;
44b. Reference numeral 45 designates a laser oscillator, which outputs a laser beam 47 whose output is controlled to a constant level by a power supply controller 46 toward a beam expander 48 consisting of two convex lenses. This beam expander 48 adjusts the diameter of the laser beam 47. Reference numeral 49 is a variable transmittance filter, which is formed by depositing a disk-shaped metal thin film using transparent glass while continuously changing its density, and the outer periphery of the filter is coated from the expander 48 as shown in FIG. 7 above. The laser beam 50 is inserted into the laser beam 50 flowing toward the mirror 37 shown in FIG. 3 to adjust the amount of transmitted light of the laser beam 50. Reference numeral 51 is a filter driving motor, and a gear 52b that meshes with a binion 52a fixed coaxially with the variable transmittance filter 49 is fixedly supported at the end of the shaft. A detector 53 receives about 1% of the laser beam that has passed through the mirror 37 and transmits a monitor signal corresponding to the laser power of this laser beam to the beam current control system 42. The beam current control system 42 receives the monitor signal from the detector 53, the beam current from the aperture 41b, and the temperature from the thermocouple 55 of the ion ejection needle 36, and
When the temperature changes, the information is sent to the motor control circuit 54. This motor control circuit 54 rotates the filter drive motor 51 in conjunction with the signal from the beam current control system 42, rotates the variable transmittance filter 49, and directs the laser beam 50 from the beam expander 48 to the mirror 37. It's like adjusting the amount of light. In addition, 56 shown in the figure is an ion beam that enters the aperture 41b from the ion emission needle 36 through the extraction electrode 41a, and 57 is an ion beam near the center that passes between the ion emission needle 36 and the aperture 41b. Used for exposure, implantation, etc. With the above configuration, when the laser beam 47 with a constant output is output from the laser transmitter 45 toward the beam expander 48, the laser beam 50 whose diameter is adjusted by the beam expander 48 is reflected by the mirror 37. , and are introduced into the vacuum vessel 39 through the window 26. Next, the laser beam 50 is dispersed while passing through the glass plate 31, and is dispersed into the ionized substance 3 in the reservoir section 34 provided in the ion source 39.
5 to heat the ionized substance 35 and the ion emitting needle 36. Further, the laser beam dispersed around the outer periphery of the reservoir section 34 is reflected by the mirror 33 to heat the periphery of the tip of the ion emitting needle 36. Next, the laser beam irradiated around the tip of the ion emitting needle 36 is caused by the extraction electrode 41a to cause the surrounding laser beam 56 to enter the aperture 41b, and at the same time, the central laser beam 57 passes between the apertures 41b for processing. Used for exposure, implantation, etc. The beam current sent from the aperture 41b to the beam current control system 42 or the thermocouple 55 of the ion emitting needle 36
When the temperature sent to the beam current control system 42 changes, the beam current control system 42 detects this and sends a signal to the motor control circuit 54, and the signal from the motor control circuit 54 controls the filter driving motor 51. is driven, the variable transmittance filter 49 rotates and adjusts the amount of transmitted light of the laser beam 50 flowing from the expander 48 toward the mirror 37. Therefore, in this embodiment, the beam current from the ion ejection needle 36, the output of the laser irradiating the ionized substance 35 and the ion ejection needle 36, and the temperature inside the reservoir section 34 are monitored to keep the laser output constant. be able to.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は以上述べたる如く、イオン化物質を十分に保有
することの可能なリザーバを設けて、このイオン化物質
を効率よく加熱することができ、かつ真空で高電位のイ
オン源部に大電流を導入することが可能になるので、レ
ーザ加熱装置を簡単な構成にすることができ、かつリザ
ーバの温度およびイオン放出用ニードルからのイオン電
流の出力量をモニタにしてレーザの出力を一定に保持す
ることができる効果を有する。
As described above, the present invention provides a reservoir capable of holding a sufficient amount of ionized material, can efficiently heat this ionized material, and introduces a large current into the ion source section which is in a vacuum and has a high potential. As a result, the laser heating device can be configured simply, and the laser output can be maintained constant by monitoring the temperature of the reservoir and the amount of ion current output from the ion ejection needle. It has the effect of

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示すイオン放出用ニードル
加熱装置の説明用正面図、第2図はイオン放出用ニード
ルおよびリザーバ部加熱装置の説明用正面図、第3図は
イオン化物質加熱装置の説明用正面図、第4図はイオン
放出用ニードルおよびイオン化物質同時加熱装置の一例
を示す説明用平面図、第5図はイオン放出用ニードルお
よびイオン化物質同時加熱装置の他の一例を示す説明用
平面図、第6図(a)はイオン放出用ニードル先端部加
熱装置の他の一例を示す説明用正面図、第6図(b)は
そのA−A’矢視断面平面図、第7図はイオン放出用ニ
ードルおよびイオン化物質加熱装置の他の一例を示す説
明用正面図、第8図は第7図に示すイオン放出用ニード
ルおよびイオン化物質加熱装置用イオンビーム出力制御
装置を示す説明用正面図、第9図は従来の液体金属イオ
ン源のイオン化物質加熱装置の一例を示す説明図、第1
0図は従来の他の一例を示す説明図である。 1 、20.35・・・イオン化物質、 2.19.3
6・・・イオン放出用ニードル、3・・・支持部、4・
・・溜め部、5・・・加熱ヒータ、6・・・筒、7,3
9・・・真空容器、8゜45・・・レーザ発信器、9 
、10.23.33.37・・・ミラー、11・・・集
光レンズ、13・・・集光ビーム、14・・・集光スポ
ット、 15.16・・・レンズ、17・・・平行レー
ザビーム、113、34・・・リザーバ部、21・・・
焦点、24・・・フランジ。 25・・・0リング、26・・・窓、27・・・絶縁碍
子、28・・・高圧端子、29・・・上方支持部、30
・・・固定板、31・・・ガラス板、32・・・下方支
持部、38.47.50・・・レーザビーム。 40・・・イオン源、41a・・・引き出し電極、41
b・・・アパーチャ、42・・・ビーム電流制御系、4
3・・・導線、44・・・コネクタ、46・・・電源コ
ントローラ部、48・・・ビームエクスパンダ、49・
・・透過率可変フィルタ、51・・・フィルタ駆動用モ
ータ、53・・・ディテクター、54・・・モータ制御
回路、55・・・熱電対、 56.57・・・イオンビ
ーム。 代理人弁理士 秋  本  正  実 第1図 第2図 第3図 第4図 ア 木6図 (G) (b) 第7図 第8図 第9図 第10図
Fig. 1 is an explanatory front view of an ion emitting needle heating device showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is an explanatory front view of an ion emitting needle and reservoir heating device, and Fig. 3 is an ionized substance heating device. An explanatory front view of the device, FIG. 4 is an explanatory plan view showing an example of an ion emitting needle and an ionized substance simultaneous heating device, and FIG. 5 is an explanatory plan view showing another example of an ion emitting needle and an ionized substance simultaneous heating device. 6(a) is an explanatory front view showing another example of an ion emitting needle tip heating device; FIG. 6(b) is a sectional plan view taken along line A-A'; FIG. 7 is an explanatory front view showing another example of the ion emitting needle and ionized material heating device, and FIG. 8 is an explanatory front view showing the ion emitting needle and ion beam output control device for the ionized material heating device shown in FIG. 7. FIG. 9 is an explanatory diagram showing an example of an ionized substance heating device for a conventional liquid metal ion source.
FIG. 0 is an explanatory diagram showing another example of the prior art. 1, 20.35...Ionized substance, 2.19.3
6... Ion release needle, 3... Support part, 4...
... Reservoir, 5... Heater, 6... Cylinder, 7, 3
9...Vacuum container, 8°45...Laser transmitter, 9
, 10.23.33.37... Mirror, 11... Condenser lens, 13... Condensed beam, 14... Condensed spot, 15.16... Lens, 17... Parallel Laser beam, 113, 34... Reservoir part, 21...
Focus, 24...flange. 25...0 ring, 26...window, 27...insulator, 28...high voltage terminal, 29...upper support part, 30
... Fixed plate, 31... Glass plate, 32... Lower support part, 38.47.50... Laser beam. 40... Ion source, 41a... Extraction electrode, 41
b...Aperture, 42...Beam current control system, 4
3... Conductor wire, 44... Connector, 46... Power controller section, 48... Beam expander, 49...
... Transmittance variable filter, 51... Filter drive motor, 53... Detector, 54... Motor control circuit, 55... Thermocouple, 56.57... Ion beam. Representative Patent Attorney Tadashi Akimoto Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 A Tree Figure 6 (G) (b) Figure 7 Figure 8 Figure 9 Figure 10

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、真空室内に支持されたリザーバ内に針状電極および
イオン化物質を収納し、上記針状電極を加熱溶融すると
ともに高電圧を印加してその先端部より溶融物質もしく
はイオンビームを引き出す液体金属イオン源におけるイ
オン化物質溶融方法において、上記針状電極にレーザを
照射してこれを加熱溶融することを特徴とする液体金属
イオン源におけるイオン化物質溶融方法。 2、真空室内に支持されたリザーバ内に針状電極および
イオン化物質を収納し上記針状電極を加熱溶融するとと
もに高電圧を印加してその先端部より溶融物質もしくは
イオンビームを引き出す液体金属イオン源におけるイオ
ン化物質溶融方法において、上記イオン化物質にレーザ
を照射しこれを加熱溶融して上記針状電極を加熱溶融す
ることを特徴とする液体金属イオン源におけるイオン化
物質溶融方法。 3、真空室内に支持されたリザーバ内に針状電極および
イオン化物質を収納し、上記針状電極を加熱溶融すると
ともに高電圧を印加してその先端部より溶融物質もしく
はイオンビームを引き出す液体金属イオン源におけるイ
オン化物質溶融方法において、上記リザーバにレーザを
照射しこれを加熱してその内部のイオン化物質および針
状電極を加熱することを特徴とする液体金属イオン源に
おけるイオン化物質溶融方法。 4、前記レーザは真空室の外部に設けたレーザ発信器よ
り出力することを特徴とする特許請求の範囲第1項また
は第2項または第3項記載の液体金属イオン源における
イオン化物質溶融方法。 5、前記レーザは集光されていることを特徴とす特許請
求の範囲第1項または第2項または第3項または第4項
記載の液体金属イオン源におけるイオン化物質溶融方法
[Claims] 1. A needle-shaped electrode and an ionized substance are housed in a reservoir supported in a vacuum chamber, and the needle-shaped electrode is heated and melted, and a high voltage is applied to release the molten substance or ions from its tip. A method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source that extracts a beam, the method comprising heating and melting the acicular electrode by irradiating the needle-like electrode with a laser. 2. A liquid metal ion source that stores a needle-shaped electrode and an ionized substance in a reservoir supported in a vacuum chamber, heats and melts the needle-shaped electrode, and applies a high voltage to extract the molten substance or ion beam from its tip. A method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source, characterized in that the ionized substance is irradiated with a laser to heat and melt the ionized substance, thereby heating and melting the needle-shaped electrode. 3. A needle-shaped electrode and an ionized substance are housed in a reservoir supported in a vacuum chamber, and the needle-shaped electrode is heated and melted, and a high voltage is applied to draw out the molten substance or ion beam from the tip of the liquid metal ion. A method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source, characterized in that the reservoir is irradiated with a laser and heated to heat the ionized substance and the needle-like electrode inside the reservoir. 4. A method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source according to claim 1, 2, or 3, wherein the laser is output from a laser oscillator provided outside the vacuum chamber. 5. A method for melting an ionized substance in a liquid metal ion source according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the laser is focused.
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