JPS61205900A - Microfocus x rays generator - Google Patents

Microfocus x rays generator

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JPS61205900A
JPS61205900A JP4777285A JP4777285A JPS61205900A JP S61205900 A JPS61205900 A JP S61205900A JP 4777285 A JP4777285 A JP 4777285A JP 4777285 A JP4777285 A JP 4777285A JP S61205900 A JPS61205900 A JP S61205900A
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JP
Japan
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ray
microfocus
generator
ray tube
rays
Prior art date
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Pending
Application number
JP4777285A
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Japanese (ja)
Inventor
正司 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はマイクロフォーカス(微小焦点)X線従来、こ
の種のX線発生装置は、フィラメントのみの陰極と、こ
の陰極から放出される熱電子が衝突してX線を放出する
陽極とから成る真空2極管構造である。特にマイクロフ
ォーカスX線管では、発生するX411量を多くするた
めにフィラメントの形状を小ざくしたり、X線管内の電
界分布等を調整して陽極のターゲットに衝突する熱電子
ビームを小面積とする工夫を行っている。また、ターゲ
ットのX線管軸に対する角度を小さくしてX線放射口か
ら見た面積(実行焦点)を小ざくすることも行われてい
る。
Detailed Description of the Invention [Technical Field of the Invention] The present invention relates to microfocus X-rays. Conventionally, this type of X-ray generator uses a filament-only cathode and thermoelectrons emitted from this cathode. It is a vacuum diode structure consisting of an anode that collides with the anode and emits X-rays. In particular, in microfocus X-ray tubes, the shape of the filament is made smaller to increase the amount of X411 generated, and the electric field distribution inside the X-ray tube is adjusted to reduce the area of the thermionic beam that collides with the anode target. We are working on ways to do this. Furthermore, the area (actual focal point) seen from the X-ray emission port is also reduced by reducing the angle of the target with respect to the X-ray tube axis.

ところが、ターゲットに衝突する熱電子の単位面積当り
の投入エネルギは、陽極に使用する材料の材質と冷却効
率から決まる熱的な特性によりマイクロフォーカスX線
管に限らずいかなるX線管でもほぼ一定である。したが
って、マイクロフォーカスX線管では、X線管電流は数
10μ八〜数100μ八程度しか流れない。なお、X線
放射口が50μmではX線管電流は約100μAである
However, the input energy per unit area of thermionic electrons colliding with the target is almost constant for any X-ray tube, not just a microfocus X-ray tube, due to the thermal characteristics determined by the material used for the anode and the cooling efficiency. be. Therefore, in a microfocus X-ray tube, the X-ray tube current flows only on the order of several 10 μ8 to several 100 μ8. Note that when the X-ray emission aperture is 50 μm, the X-ray tube current is about 100 μA.

このため、設計的に無理をしてX線管電流を多く流す構
造とするが、これではターゲットやフィラメントの寿命
が短くなり数100時間が使用の限界であった。
For this reason, the X-ray tube is designed to have a structure in which a large amount of current flows through it, but this shortens the life of the target and filament and limits its use to several hundred hours.

(発明の目的) 本発明は上記実情に基づいてなされたもので、その目的
とするところは、マイクロフォーカスであってもX線管
電流を多く流し得てX線量を増加し得るマイクロフォー
カスX線発生装置を提供することにある。
(Object of the Invention) The present invention has been made based on the above-mentioned circumstances, and its purpose is to provide microfocus X-rays that can increase the X-ray dose by allowing a large amount of X-ray tube current to flow even in microfocus. The objective is to provide a generator.

(発明の概要) 本発明は、X線管から発生するX線の放射路にターゲッ
トの実行面積を小さくする微小X線通過孔が形成された
X線孔保持体を設けたマイクロフォーカスX線発生装置
である。
(Summary of the Invention) The present invention provides a micro focus It is a device.

〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。第1図はマイクロフォーカスX線発生装置の構成図
である。同図において1は傍熱形陰極を持ったX線発生
器であって、外容器2の内部に真空容器3が収納されて
いる。この真空容器3にはフィラメント4により加熱さ
れるカソード5と、このカソード5の対向位置にアノー
ド6とが設けられ、アノード6に熱電子が衝突するター
ゲット7が固定されている。なお、8はX線の放射口で
ある。
[Embodiment of the Invention] Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a microfocus X-ray generator. In the figure, reference numeral 1 denotes an X-ray generator having an indirectly heated cathode, and a vacuum container 3 is housed inside an outer container 2. This vacuum vessel 3 is provided with a cathode 5 heated by a filament 4 and an anode 6 at a position opposite to the cathode 5, and a target 7 with which thermoelectrons collide is fixed to the anode 6. Note that 8 is an X-ray emission port.

一方、10はX線発生器1のX線管電流を増加するため
の微小X線通過孔(以下、ピンホールと指称する)が形
成されたX線孔保持体を移動させるピンホール移動ユニ
ットである。11が重金属、例えばタングステン、白金
によりX線が透過しない程度の比較的薄く形成されたX
線孔保持体であって、これにピンホール12が形成され
ている。
On the other hand, 10 is a pinhole moving unit that moves an X-ray hole holder in which a minute X-ray passage hole (hereinafter referred to as a pinhole) is formed to increase the X-ray tube current of the X-ray generator 1. be. 11 is made of a heavy metal such as tungsten or platinum and is made relatively thin so that X-rays cannot pass through.
This is a wire hole holder in which a pinhole 12 is formed.

X線孔保持体11にはうツク13が形成されこれと駆動
モータ14により回転するビニオン15によって矢印(
イ)方向に移動するようになっている。また、ユニット
移動制御部16は駆動モータ14に駆動指令を発すると
ともにピンホール移動ユニット10自体を矢印(ロ)方
向に移動する機構を備えている。以上のような構成であ
ればX線Ryはピンホール12を通過して被X線照射体
20に照射される。
A groove 13 is formed on the X-ray hole holder 11, and an arrow (
b) It is designed to move in the direction. The unit movement control section 16 also includes a mechanism for issuing a drive command to the drive motor 14 and for moving the pinhole movement unit 10 itself in the direction of the arrow (b). With the above configuration, the X-ray Ry passes through the pinhole 12 and is irradiated onto the X-ray irradiated object 20.

ここで、X線管電流について第2図を参照して説明する
。第2図においてFは被X線照射体20から見たターゲ
ット7のフォーカスサイズであり、Pはピンホールサイ
ズでおり、FPは必要とするX線照射野である。また、
21はターゲット7と被X線照射体20との間の距離で
あり、22はターゲット7からピンホール12までの距
離、f13はピンホール1.2から被X線照射体20ま
での距離である。以上のような位置関係にある場合、X
線照射野FPは、 FP−(λ1/i)・(F−(P/2>)・・・(1) として求められ、また被X線照射体20から見た有効X
線管電流SmAは、 SmA−(11#!2>−P−(1/F)Ip・・・(
2) となる。ここでIpはxm管流入電流(X線管電流”)
  [lllAlである。
Here, the X-ray tube current will be explained with reference to FIG. In FIG. 2, F is the focus size of the target 7 seen from the X-ray irradiation object 20, P is the pinhole size, and FP is the required X-ray irradiation field. Also,
21 is the distance between the target 7 and the X-ray irradiated object 20, 22 is the distance from the target 7 to the pinhole 12, and f13 is the distance from the pinhole 1.2 to the X-ray irradiated object 20. . If the positional relationship is as above,
The radiation field FP is obtained as FP-(λ1/i)・(F-(P/2>)...(1), and the effective X as seen from the X-ray irradiated object 20
The tube current SmA is SmA-(11#!2>-P-(1/F)Ip...(
2) It becomes. Here, Ip is xm tube inflow current (X-ray tube current)
[IllAl.

そこで、X線照射野FPを20m以上、フォーカスサイ
ズPを2.5m、ピンホールサイズ(実行フォーカスサ
イズ)Pを50μmとして、ピンホール12から被X線
照射体20までの距離J23を100mに設定すると有
効X線管電流SmAは、SmA= (1000/900
)x50X (1/2500>・Ip −0,022Ip となる。ここで、Ipを10mAとするとSmAは22
0μAとなる。この値は、従来のものが100μ八程度
であるのに対して約2倍を示すものとなっており、X線
量も2倍となる。
Therefore, the X-ray irradiation field FP is set to 20 m or more, the focus size P is 2.5 m, the pinhole size (actual focus size) P is set to 50 μm, and the distance J23 from the pinhole 12 to the X-ray irradiated object 20 is set to 100 m. Then, the effective X-ray tube current SmA is SmA= (1000/900
) x 50
It becomes 0μA. This value is about twice as high as the conventional one, which is about 100 μ8, and the amount of X-rays is also doubled.

また、第2図に示すようなX線の通過経路が形成される
ことからX線強度分布およびぼけ等を最良にするピンホ
ール12の最良の形状が得られる。
Furthermore, since the X-ray passage path as shown in FIG. 2 is formed, the best shape of the pinhole 12 can be obtained to optimize the X-ray intensity distribution and blur.

第3図にピンホール12の形状の一例が示されている。An example of the shape of the pinhole 12 is shown in FIG.

すなわちフォーカスサイズFの両端からのX線f1、f
2とフォーカスサイズの中心位置Q1からのX線f3、
f4の通過経路に沿って形状が決まる。
That is, X-rays f1, f from both ends of focus size F
2 and the X-ray f3 from the focus size center position Q1,
The shape is determined along the passage path of f4.

このように上記一実施例においては、X線発生器1から
発生するX線RVの放射路にX線管電流■pを増加する
ためのピンホール12が形成されたX線通過体11を備
えたので、ターゲット7への単位面積当りの投入エネル
ギが一定であり無理な構造にしなくとも容易にかつ簡単
な構造のもので小ざなX線源としてはX線管電流を増加
できてX線量を増加できる。そして、放射されるX線は
その強度分布が一様なものとなる。したがって、X線照
射野FPで画像を得るとその画像はぼけの無い画質の高
いものとなる。また使用するX線管は傍熱形のものであ
れば良くマイクロフォーカス用のX線管を用いなくても
良い。したがってX線管の寿命を長くできる。さらにX
線孔保持体11をピンホール移動ユニット10によりX
線放射路に対して差し出しする構成としたので、マイク
ロフォーカスと広視野とを被X線照射体20やその使用
用途に応じて使い分けることができ、さらにピンホール
12の位置とX線発生器1との距離を可変する構成とし
たので、ピンホール12と被X線照射野FPとの間に被
検査体を置いて被検査体の内部等を検査する場合、ピン
ホール12の位置をX線発生器側に移動させることによ
って空間分解能を向上することができる。なお、X線管
を傍熱形とするのはフィラメントのみの陰極とするとX
線照射野FPにフィラメント特有の影響が写るからであ
る。
In this way, the above embodiment includes the X-ray passing body 11 in which the pinhole 12 for increasing the X-ray tube current p is formed in the radiation path of the X-ray RV generated from the X-ray generator 1. Therefore, the input energy per unit area to the target 7 is constant, and the X-ray tube current can be increased and the X-ray dose can be reduced as a small X-ray source because it has a simple structure and does not require an unreasonable structure. Can be increased. The emitted X-rays have a uniform intensity distribution. Therefore, when an image is obtained using the X-ray irradiation field FP, the image will be of high quality without blur. Further, the X-ray tube used may be of an indirectly heated type, and there is no need to use a microfocus X-ray tube. Therefore, the life of the X-ray tube can be extended. Further X
The wire hole holder 11 is moved by the pinhole moving unit 10
Since the configuration is such that the beam is exposed to the radiation path, micro focus and wide field of view can be used depending on the object to be irradiated with X-rays 20 and its intended use. Since the distance between the pinhole 12 and the Spatial resolution can be improved by moving it to the generator side. Note that if the X-ray tube is of an indirectly heated type and has a filament-only cathode, the
This is because the filament-specific influence appears in the radiation field FP.

次に第1図に示す装置の適用例について説明する。第4
図はX線撮像装置に適用した場合の構成図である。X線
発生器1は主制御部30からの指令を受けてX線発生信
号を出力するX線制御部31によりX線の発生が制御さ
れ、ピンホール移動ユニット10は主制御部30からの
制御信号を受けて動作する。X線発生器1と対向する位
置にはX線カメラ32が設置され、このX線カメラ32
から出力される画像信号はカメラ制御部33により適宜
処理されて画像処理部34に送られる構成となっている
。そして、画像処理部34の処理により得られた画像デ
ータがディスプレイで表示される。以上のような装置に
適用すれば、小さなX線源でX線強度分布が一様で放射
線量が多いので、表示される画像はぼけがなく画質の高
いものとなり、かつX線発生器1とX線カメラ32との
間に置かれる被写体(不図示)に応じてビンホールド移
動ユニット10を矢印(ハ)方向に移動してマイクロフ
ォーカスの大きざを調節したり、またマイクロフォーカ
スと広範囲のX線照射とを切換えて使用できる。
Next, an application example of the apparatus shown in FIG. 1 will be described. Fourth
The figure is a configuration diagram when applied to an X-ray imaging device. The generation of X-rays in the X-ray generator 1 is controlled by an X-ray control section 31 which receives commands from the main control section 30 and outputs an X-ray generation signal, and the pinhole moving unit 10 is controlled by the main control section 30. It operates by receiving a signal. An X-ray camera 32 is installed at a position facing the X-ray generator 1.
The image signal output from the camera controller 33 is appropriately processed and sent to the image processing section 34. The image data obtained through the processing by the image processing section 34 is then displayed on the display. If applied to the above-mentioned apparatus, the X-ray intensity distribution is uniform and the radiation dose is large with a small X-ray source, so the displayed image will be of high quality without blurring, and the X-ray generator 1 and Depending on the subject (not shown) placed between the X-ray camera 32 and the X-ray camera 32, the size of the micro focus can be adjusted by moving the bin hold moving unit 10 in the direction of the arrow (c), or the size of the micro focus and the wide X Can be used by switching between line irradiation and ray irradiation.

次に第5図に第2世代のCTスキャナに適用した場合の
構成図を示す。各部について簡単に説明すると、36は
X線制御部、37はテーブル移動制御部であってそれぞ
れコンソール38からの指令により動作する。テーブル
移動制御部37は、被写体を載置する架台39を回転さ
せてローティト動作を行わせるものである。X線発生器
1の対向位置にはX線検出素子を複数羅列して例えば8
チヤンネル構成としたX線検出器40が設置されている
。そして、X線発生器1とX線検出器40とは一体とな
って移動してトラバース動作を行うようになっている。
Next, FIG. 5 shows a configuration diagram when applied to a second generation CT scanner. To briefly explain each part, numeral 36 is an X-ray control part, and numeral 37 is a table movement control part, each of which operates according to commands from a console 38. The table movement control unit 37 rotates the pedestal 39 on which the subject is placed to perform a rotation operation. A plurality of X-ray detection elements are arranged in a position opposite to the X-ray generator 1, for example, 8
An X-ray detector 40 having a channel configuration is installed. The X-ray generator 1 and the X-ray detector 40 move together to perform a traverse operation.

X線発生器40から出力される各検出素子別の検出信号
はデータ収集部41に送られてディジタル信号に変換さ
れて放射線吸収データとして前処理部42に送られる。
Detection signals for each detection element outputted from the X-ray generator 40 are sent to a data acquisition section 41, converted into digital signals, and sent to a preprocessing section 42 as radiation absorption data.

この前処理部42は送られてくる放射線吸収データを逐
次オフセット補正、リファレンス補正等を行ってコンボ
リューション部43に送出するものである。
The preprocessing section 42 sequentially performs offset correction, reference correction, etc. on the received radiation absorption data, and sends the data to the convolution section 43.

コンボリューション部43は放射線データに対してフィ
ルタ関数とコンボリューションを行って修正した投影デ
ータを求めてバックプロジェクション部44に送出する
。そして、このパックプロジェクション部44において
投影データをX線発生器1の投影方向から逆投影して2
次元平面における各画素位置の再構成画像データを得る
ものである。この得られた再構成画像データはメモリ4
5に格納されるとともにディスプレイ46に表示される
。なお、この装置はCPU (中央処理装置)47から
の指令により動作している。このようにCTスキャナに
適用すれば、X線強度分布が一様で放射線量が増加する
ので表示される画像はぼけがなく画質の高いものとなり
、特にX線発生器1とX線検出器40との間に置かれる
被写体(不図示)に応じてビンホールド移動ユニット1
0を矢印(ニ)方向に移動してマイクロフォーカスの大
きざを調節して空間分解能を向上することができる。こ
の場合、ピンホール移動ユニット10G、tX線検出器
側に移動する。以上2例について説明したがこの他にも
X線を使用する装置に対して適用できる。
The convolution unit 43 performs convolution with a filter function on the radiation data to obtain corrected projection data and sends it to the back projection unit 44 . Then, in this pack projection section 44, the projection data is back-projected from the projection direction of the X-ray generator 1.
This is to obtain reconstructed image data at each pixel position on a dimensional plane. This obtained reconstructed image data is stored in the memory 4.
5 and displayed on the display 46. Note that this device operates according to instructions from a CPU (central processing unit) 47. If applied to a CT scanner in this way, the X-ray intensity distribution will be uniform and the radiation dose will increase, so the displayed image will be free of blur and of high quality. Bin hold moving unit 1 according to the subject (not shown) placed between
0 in the direction of arrow (d) to adjust the size of the microfocus and improve the spatial resolution. In this case, the pinhole moving unit 10G moves toward the tX-ray detector. Although the above two examples have been described, the present invention can be applied to other devices that use X-rays.

なお、本発明は上記一実施例に限定されるものではない
。例えば、ピンホールの位置は第1図に示す外容器2の
放射口8に設けてもよく、また第6図に示すようにアノ
ード48のニ一部にタングステン、白金などから成るピ
ンホール49を形成しても良い。なお、50はターゲッ
ト、51はフィラメント、52はカソードである。以上
のように構成しても上記一実施例と同様の効果を奏する
ことができる。
Note that the present invention is not limited to the above embodiment. For example, the pinhole may be located at the radiation port 8 of the outer container 2 as shown in FIG. It may be formed. Note that 50 is a target, 51 is a filament, and 52 is a cathode. Even with the above configuration, the same effects as in the above embodiment can be achieved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳記したように本発明によれば、マイクロフォーカ
スであってもX線管電流を多く流し得てX線量を増加し
得るマイクロフォーカスX線発生装置を提供できる。
As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide a microfocus X-ray generator that can flow a large amount of X-ray tube current and increase the amount of X-rays even when the X-ray tube is microfocused.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係わるマイクロフォーカスX線発生装
置の一実施例を示す構成図、第2図は本発明装置のX線
管電流を求めるための模式図、第3図は本発明装置のピ
ンホール形状の一例を示す図、第4図および第5図は本
発明装置を適用した装置の全体構成図、第6図は本発明
装置の変形例を示す図である。 1・・・X線発生器、3・・・真空容器、5・・・カソ
ード、6・・・7ノード、7・・・ターゲット、10・
・・ピンホール移動ユニット、11・・・X線透過体、
12・・・ピンホール、20・・・被X線照射体。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 第3図 Cつ 荘
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of the microfocus X-ray generator according to the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram for determining the X-ray tube current of the device of the present invention, and FIG. 3 is a schematic diagram of the device of the present invention. FIG. 4 and FIG. 5 are diagrams showing an example of the shape of a pinhole, FIG. 4 and FIG. 5 are diagrams showing the overall configuration of a device to which the device of the present invention is applied, and FIG. 6 is a diagram showing a modification of the device of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... X-ray generator, 3... Vacuum container, 5... Cathode, 6... 7 node, 7... Target, 10...
...Pinhole moving unit, 11...X-ray transparent body,
12... Pinhole, 20... X-ray irradiated object. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 2 Figure 3 C Tsuso

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)X線管と、このX線管から発生するX線の放射路
に前記X線管のターゲットの実行面積を小さくする微小
X線通過孔が形成されたX線孔保持体とを具備したこと
を特徴とするマイクロフォーカスX線発生装置。
(1) Equipped with an X-ray tube and an X-ray hole holder in which a minute X-ray passage hole is formed in the radiation path of the X-rays generated from the X-ray tube to reduce the effective area of the target of the X-ray tube. A microfocus X-ray generator characterized by:
(2)X線管は傍熱形陰極を持つた特許請求の範囲第(
1)項記載のマイクロフォーカスX線発生装置。
(2) The X-ray tube has an indirectly heated cathode.
1) The microfocus X-ray generator described in section 1).
(3)X線通過体は、被X線照射体に照射されるX線の
X線通過路に沿った形状の微小X線通過孔が形成された
特許請求の範囲第(1)項記載のマイクロフォーカスX
線発生装置。
(3) The X-ray passing body is defined in claim (1), in which a minute X-ray passing hole is formed in a shape along the X-ray passing path of the X-rays irradiated to the X-ray irradiated body. micro focus
Line generator.
(4)X線通過体は、X線管との距離を変化する機構ま
たはX線の放射路に対して差し出しする機構のいずれか
一方または両方を持った特許請求の範囲第(1)項記載
のマイクロフォーカスX線発生装置。
(4) The X-ray passing body has one or both of a mechanism for changing the distance from the X-ray tube and a mechanism for extending the body to the radiation path of the X-rays, as described in claim (1). Microfocus X-ray generator.
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