JPS61202445A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、半導体を製造する装置に関するものである
。

Ｃ従来の技術］ 半導体製造装置として、たとえば、縦形炉に材料を入れ
た反応管を吊り下げ、回転させつつ反応管内に半導体を
合成製造するものがある。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、反応管を炉内に挿入する際炉芯管にあた
ったり、取り付けの際、吊り下げワイヤからか芯管が落
下したりする事故が生じやすい問題点があった。

また、反応管を炉内に挿入する前、あるいは適当な時期
に炉内の温度分布を把握し、反応管を最適な濃度の炉内
位胃に置く必要がある。

この発明の目的は、以上の点に鑑み、反応管の取り付け
、および温度測定の容易化等を図った半導体製造装置を
提供することである。

ｃ問題点を解決するための手段１ この発明は、半導体を製造するための加熱炉と、この加
熱炉に挿入される反応管または炉内温度分布測定用の温
度計を接続する接続部を有する支持装置とを備えるよう
にした半導体製造装置である。

［実施例］ 第１図は、この発明の一実施例を示す正面説明図、第２
図は、一部断面側面説明因である。

図において、１は、加熱炉、２は、昇降装置である。加
熱炉１は、適当な箱体１１内に、炉芯管１２を上下方向
に設け、その周囲に加熱ヒータ１３、底部に断熱材１４
を設け、また、炉芯管１２の上方の開口１５から反応管
３が吊り下げ挿入され、炉芯管１２内は、図示しない制
御手段により所定の温度とされる。昇降装置２は、反応
管３を吊り下げるワイヤ等よりなる吊り下げ具４を支持
装置２１に支持させ、駆動軸２１０を自動または手動ハ
ンドル２１１で駆動して支持装置１２１を上下に昇降さ
せるとともに、適当な回転手段により吊り下げ具４を介
して反応管３を回転させる構成となっている。

また、昇降装置２には、上下方向に２本の支持軸５１．
５２、この支持軸５１．５２を上下にスライドするスラ
イド板５３．５４、下部に反応管３の落下防止板５５等
よりなる保持装置が設けられている。

スライド板５３．５４は、第３図で示すように、反応管
３が上下に十分挿通できる開口５３０．５４０、吊り下
げ具４のワイヤ等が水平方向に挿通できるスリット５３
１．５３２が形成されている。

なお、第４図で示すように、ガイド板５３．５４の代わ
りに、支持軸５０を中心に水平方向に回転可能な保持ア
ーム５６の把持部５６０に反応管３を挟持して炉芯管１
２の開口１５上に位置させるようにしてもよい。この把
持部５６０は、固定アーム５６１、回動アーム５６２を
有し、回動アーム５６２は軸５６３を中心にクリック５
６４により、開、閉、および図示のように保持管３の確
定位置に一時保持される。なお、底部には軸５６３を中
心に回転する底板５６５が設けられ落下防止を図ってい
る。また、２個の固定アーム５６１の中間に一個の回動
アーム５６２を設けるようにしてもよい。

また、落下防止板５５は、たとえば、第５図で示すよう
に、反応管３が上下に挿通できる開口を有する下板５５
１と、水平方向にスライドする上板５５２よりなるもの
である。なお、第６図で示すように、上板として左右に
開く開閉板５５３．５５４を用いてもよい。

第７図は、反応管３と吊り下げ具４との接続構成を示し
、反応！！！３のアーム３０に、１本のワイヤ４０を２
つ折りにした折り曲げ部をかけ、円盤上の第１のガイド
板４１の中心孔４１０に挿通する。この第１のガイド板
４１の中央円柱部４１１には、反応管３の内径部と接す
る比較的やわらかい材質の第２のガイド板４２が挿通さ
れ、止具４３により抜は止めされている。円柱部４１１
とガイド板４２、止具４３と接する部分はネジ山とする
とよい。このように、反応管３の心出しを行い反応管３
の回転振れを少くしている。

さらにワイヤ４０は、案内管４４に案内され、第８図で
示すように、その上部は、案内管４４の上部のネジ部４
４１の上下方向に２箇所形成された切溝に引き込まれ、
その外部に固定具４５でネジ込んでワイヤ４０は固定さ
れる。固定具４５は、さらに、ストップポール４６、バ
ネ４７、リング４８を含むチャックのような接続部４９
により支持されるようになっている。

つまり、反応管３を加熱炉１に挿入する前に、吊り下げ
具４により、第７図、第８図で示すような状態に吊り下
げ、落下防止板５５上にその底部をのせ、第３図で示す
ガイド板５３．５４の開口５３０．５４０に通す。次い
で、反応管３を少しもち上げ、回転させ、振れ状態を確
認する。そして、落下防止板５５の第５図、第６図の上
板５５２．５５３．５５４、をスライド、回転させて開
口を作り、反応管３を加熱炉１の炉芯管１２の所定位置
に降下させる。この反応管３の加熱炉１内の設置位置と
して最適位置があり、この位置決めは、スケール（目盛
）２２および支持装置２１、スライド板５３．５４のイ
ンデックス２３．２４．２５により確認することができ
る。

そして、反応管３を回転させつつ加熱炉１内で徐々に下
降させ、半導体を合成製造し、製造終了後は、反応管３
を上昇させ、取り出すことができる。

そして、反応管３を加熱炉１内に挿入する前、あるいは
適当な時期に加熱炉１の温度分布、プロファイルを得る
には次のようにする。

つまり、反応管３を吊り下げる第８図の固定具り５ ＃゛の代わりに第９図で示すように、熱電対等の温度計
７を保持する取付具６を接続部４９に取り付ける。

つまり、この取付具６は、接続部４９の位置決め部４９
１にその先端の係合部６１１が係合し、ＩＩ脱可能に接
続する挿入部６１と、この挿入部６１に固着されたＬ字
状のアーム６２と、このアーム６２に固着された取付板
６３より構成される。

そして、この取付板６３には、第１０図の取付板６３の
平面図を参照しても分るように、中心より外方に溝６４
が形成され、この溝６４に温度計７を挿通した保持具６
５が設けられている。この保持具６５は、下部にツバ６
６を形成し、このツバ６６と取付板６３との間に板バネ
６７を介在させ、上部は外周がネジとされたスリ割を有
するテーパー状のネジ部６８とされ、ナツト６９により
ネジ部６８をしめることにより温度計７は固定される。

また、板バネ６７に抗して保持具６５を溝６４に沿って
中心から外周のいずれの位置にも位置させることができ
、目盛８１によりこの中心からの温度計７の基部の位置
を知ることができる。

この温度計７は長いため、第１図、第２図の落下防止板
５５にその先端は達し、第５図で示すようにこの落下防
止板５５の上板５５２上に円周上にまたは放射状の目盛
８２を設けることにより、温度計７の炉内位置を知るこ
とができる。また、上下の目盛８１．８２を利用して、
温度計７の基部と先端との曲がり具合、つまり垂直に保
たれているかどうか知ることができる。

つまり、温度計７を取付板６３の溝６４に沿って水平方
向に移動させ、目盛８１により、温度計７の炉内の中心
よりの位置を知ることができる。

次いで、支持装置２１を駆動し、接続部４９を回転させ
ると温度計７もその円周位置で回転し、第５図の円周上
の目盛８２により温度計７の加熱炉１の炉内での円周位
置を知ることができる。次いで落下防止板５５の上板５
５２をスライドさせて温度計７が降下できる開口をつく
り、支持装置２１を下降させ、上下の目盛２２、インデ
ックス２３により濃度計７特にその先端の深さ位置を知
ることができる。そして、所定の炉内位置での温度計７
により炉内温度分布を測定することができる。

また、支持装置２１の接続部４９を水平、回転、上下移
動自在とし、計算機等で自動的に温度分布を得るように
してもよい。また、測定結果は自動的に記録計その他に
記録するとよい。

［発明の効果］ 以上述べたように、この発明は、反応管および温度計を
共通に接続部に取り付けるようにしているので、反応管
の取り付け、温度計の取り付けのいずれもが容易で、半
導体の製造上、操作の容易化、安全性の向上が図れる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図、第４図、第５図、第６図、第
７図、第８図、第９図、第１０図は、この発明の一大施
例を示す構成説明図である。 １・・・加熱炉、　２・・・昇降装置、　３・・・反応
管、４・・・吊り下げ具、　５１〜５５・・・保持装置
、６・・・取付具、　７・・・温度計、　４９・・・接
続部特許出願人　　株式会社　千野製作所 卒３の 第５■ 半４−口 ５７ｆ　　　　、ｒＯ Ｚ 半６０

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １．半導体を製造するための加熱炉と、この加熱炉に挿
   入される反応管または炉内温度測定用の温度計を取り付
   ける接続部を有する支持装置とを備えたことを特徴とす
   る半導体製造装置。