JPS61201202A - Reflection mirror - Google Patents

Reflection mirror

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JPS61201202A
JPS61201202A JP60043133A JP4313385A JPS61201202A JP S61201202 A JPS61201202 A JP S61201202A JP 60043133 A JP60043133 A JP 60043133A JP 4313385 A JP4313385 A JP 4313385A JP S61201202 A JPS61201202 A JP S61201202A
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JP
Japan
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film
coating
dielectric material
jig
reflective
Prior art date
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Pending
Application number
JP60043133A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsunori Fujimura
藤村 勝典
Hiroyuki Naono
博之 直野
Katsuji Hattori
服部 勝治
Michio Matsumoto
松本 美治男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a low-cost reflection mirror which does not require polishing by subjecting a heat-resistant high-polymer film to reflection coating on the laser light exit side and non-reflection coating on the opposite side and maintaining the state of exerting tension to this film. CONSTITUTION:The film 4 is fixed by a jig 5 which holds the film 4 in the state of exerting tension thereto in order to subject the film to coating. A reflective dielectric material 2 is coated from a target 6 to the film 4, then the jig 5 is turned upside down and similarly a non-reflective dielectric material 3 is coated on the film. The reflection mirror is obtd. if a frame 7 is fixed to the material 3 side by an adhesive agent 8 while the film 4 is kept tensed by the jig 5 upon completion of coating on both sides of the film 4. The heat resistant temp. of the film 4 is 400 deg.C and withstands satisfactorily 300-350 deg.C temp. during coating. The low-cost reflection mirror which does not require polishing is obtd. by using the film 4 having the excellent heat resistance and surface smoothness.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザ光を反射させる反射ミラーに関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a reflecting mirror that reflects laser light.

従来の技術 近年、反射ミラーは光による計測、検査に多く用いられ
ている。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, reflective mirrors have been widely used for optical measurements and inspections.

従来の技術としては、例えば、下記文献2ベ−ゾ (田幸敏治他「光学的測定ハンドブック」。As a conventional technique, for example, the following document 2 basso (Toshiharu Tako et al. "Optical Measurement Handbook".

1981年7月、朝食書店、p4〜P7)に示される原
理を用いた反射ミラーがある。
There is a reflecting mirror using the principle shown in ``Kyokusho Shoten, July 1981, pages 4 to 7''.

以下図面全参照しながら、上述した従来の反射ミラーの
一例について説明する。第6図は従来の反射εラ一の構
成を示す断面図である。
An example of the conventional reflecting mirror mentioned above will be described below with reference to all the drawings. FIG. 6 is a sectional view showing the structure of a conventional reflective ε-ray.

第6図において1は石英ガラス(以下、単にガラスとい
う)、2はガラス1上に蒸着あるいけスパッタでコーテ
ィング(以下、単にコーティングという)した反射用誘
電体物質(以下、単に誘電体物質という)2である。同
様に3は無反射用誘電体物質(以下、単に誘電体物質と
いう)である。
In Fig. 6, 1 is quartz glass (hereinafter simply referred to as glass), and 2 is a reflective dielectric material (hereinafter simply referred to as dielectric material) coated on glass 1 by vapor deposition or sputtering (hereinafter simply referred to as coating). It is 2. Similarly, 3 is a non-reflection dielectric material (hereinafter simply referred to as dielectric material).

第6図は単層コーティングの場合における反射原理を示
すものである。
FIG. 6 shows the reflection principle in the case of a single layer coating.

第6図においてガラス1、誘電体物質2は第6図と同じ
構成である。θ、は屈折率n1 なる物質に入射する光
の入射角、θ2はθ1なる角度で入射光Aが入射した時
の屈折率n2  なる誘電体物質2における屈折角、θ
3はθ2なる角度で屈折した光の屈折率n3  なるガ
ラス1における透過角度である。rけθ1 なる角度で
反射される光の反射係数、tはθ3 なる角度で透過す
る光の透過係数、eけ誘電体コーティング膜厚である。
In FIG. 6, glass 1 and dielectric material 2 have the same structure as in FIG. θ is the incident angle of light entering a substance with a refractive index n1, θ2 is the refraction angle in the dielectric substance 2 with a refractive index n2 when incident light A enters at an angle θ1, θ
3 is the transmission angle through the glass 1 having a refractive index n3 of light refracted at an angle θ2. r is the reflection coefficient of light reflected at an angle of θ1, t is a transmission coefficient of light transmitted at an angle of θ3, and e is the dielectric coating thickness.

尚、第6図においてハツチングは省略している。Note that hatching is omitted in FIG. 6.

第7図は誘電体物質2の単層コーティングにおける誘電
体物質の屈折率n2  とコーティング膜厚eとの積で
表わせる光学的膜厚と反射率を示すものである。
FIG. 7 shows the optical film thickness and reflectance expressed as the product of the refractive index n2 of the dielectric material 2 and the coating film thickness e in a single layer coating of the dielectric material 2.

以−1−のように構成された反射ミラーについて、以下
その動作について説明する。
The operation of the reflecting mirror configured as described above-1- will be described below.

捷ず、ガラス1にコーティングしない時のガラス1の表
面の重置入射光に対する反射率Rはスネルの法則および
フレネルの式より(1)式が得られる。
The reflectance R of the surface of the glass 1 with respect to superimposed incident light when the glass 1 is not coated is given by equation (1) from Snell's law and Fresnel's equation.

ここでn3 けガラスの屈折率である。(1)式よりガ
ラスの屈折率が大きくなるほど反射率Rが高くなること
がわかる。しかしガラスの屈折率1.4〜1.6程度で
あり、高反射ミラーは望めない。そこでガラスの屈折率
に比べて高い屈折率を有する誘電体物質2をコーティン
グすることによ−て高反射ミラーを得ることが出来る。
Here, n3 is the refractive index of the glass. It can be seen from equation (1) that the reflectance R increases as the refractive index of the glass increases. However, the refractive index of glass is about 1.4 to 1.6, so a highly reflective mirror cannot be expected. Therefore, by coating the dielectric material 2 with a dielectric material 2 having a refractive index higher than that of glass, a highly reflective mirror can be obtained.

その原理を第6図に基づいて説明する。屈折率n1  
の空気層から01の角度で入射する入射光Aの一部は反
射光r1となって反射さ肛、一部は角度θ2 で屈折率
n2 の誘電体物質2に導かれる。そして、同様に一部
は反射され反射光r2 になり、一部は角度θ、で屈折
率n、のガラスに導かれ透過光t1  となる。以下誘
電体物質2のコーティング膜厚eの両面で反射をくり返
すので、干渉効果により、全体としてのフレネルの反射
係数r、透過係数tけ光学的な膜厚n2×eによ1て変
化する。フレネルの式より屈折率n1  の空気層から
屈折率n2  の誘電体物質2へ入射する光の波に対す
る反射係数r12は(2)式。
The principle will be explained based on FIG. refractive index n1
A part of the incident light A that enters from the air layer at an angle of 01 becomes reflected light r1, and a part of the incident light A is guided to the dielectric material 2 having a refractive index of n2 at an angle θ2. Similarly, a part of the light is reflected and becomes reflected light r2, and a part of the light is guided at an angle θ to a glass having a refractive index n and becomes transmitted light t1. Since reflection is repeated on both sides of the coating film thickness e of the dielectric material 2, the overall Fresnel reflection coefficient r and transmission coefficient t change depending on the optical film thickness n2×e due to the interference effect. . From Fresnel's equation, the reflection coefficient r12 for a light wave incident on the dielectric material 2 with a refractive index n2 from an air layer with a refractive index n1 is expressed by equation (2).

透過係数t12は(3)式で示される・屈折率n2 の
誘電体物質2から屈折率n3 のガラス11で入射する
光の波に対する反射係数r23゜透過係数t25も同様
になるので式は省略した。このとき」−記の反射係数r
は(4)式、透過係数tは(6)式で表わすことができ
る。
The transmission coefficient t12 is expressed by equation (3).The reflection coefficient r23° for the light wave incident from the dielectric material 2 with the refractive index n2 to the glass 11 with the refractive index n3.The transmission coefficient t25 is also the same, so the equation is omitted. . At this time, the reflection coefficient r
can be expressed by equation (4), and the transmission coefficient t can be expressed by equation (6).

ここに λ−人射光の波長 で表わ烙れる。したがって、反射率R1透過率Tけ R−1−T−1・−・・・・   (8)6ペーンプ となる。Here λ - wavelength of human radiation It is expressed with pride. Therefore, the reflectance R1 and the transmittance TK R-1-T-1... (8) 6 pence becomes.

グ膜厚のときには となり n1・n6−n2′・・・・・(10)の関係があると
Rは零となる。これを無反射条件という。このようなコ
ーテイング膜をつければ反射率は零となるので反射防止
膜という。nl  は空上 気の屈折率で1として(6)式を計算した結果第7図に
示す。
When the thickness of the film is 300 nm, R becomes zero if the relationship n1·n6-n2' (10) holds. This is called the no-reflection condition. If such a coating film is applied, the reflectance becomes zero, so it is called an antireflection film. FIG. 7 shows the results of calculating equation (6) by setting nl to 1, which is the refractive index of the air.

第7図は横軸に上記の光学的膜厚を縦軸に反射率を示し
たもので、誘電体物質2の屈折率n2  がガラス1の
屈折率n3  より小さいとして、コーテグのない場合
に比べて減少する。コーティング膜となり、コーテイン
グ膜をつけない状態と同一1でなる。
Figure 7 shows the above optical film thickness on the horizontal axis and the reflectance on the vertical axis, assuming that the refractive index n2 of dielectric material 2 is smaller than the refractive index n3 of glass 1, compared to the case without coating. decreases. It becomes a coating film, and it becomes the same state as 1 without the coating film.

1だ、誘電体物質2の屈折率n2  がガラス1の屈折
率n3  より大きい時、コーティング膜厚を1の奇数
倍にすれば反射率が増大する。高反射率を得るには屈折
率の高い誘電体物質、屈折率の低い誘電体物質全交互に
多層膜コーティングすればよい。ここで用いた誘電体物
質は酸化チタン(Tie、、)と酸化ケイ素(SiO)
で、3〜4層コーティングした。入射波長λは830 
nm である。捷だ、金属をそのitココ−ィング[7
てもよい。この場合、反射率は金属そのものがもつ反射
率になる。
1. When the refractive index n2 of the dielectric material 2 is greater than the refractive index n3 of the glass 1, the reflectance increases if the coating thickness is made an odd multiple of 1. In order to obtain a high reflectance, a multilayer coating of a dielectric material having a high refractive index and a dielectric material having a low refractive index may be applied alternately. The dielectric materials used here are titanium oxide (Tie) and silicon oxide (SiO).
Then, 3 to 4 layers were coated. The incident wavelength λ is 830
It is nm. It's a good idea to cocoon the metal [7]
It's okay. In this case, the reflectance is the reflectance of the metal itself.

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成で一反射ミラーのガラス
1の表面を研磨する必要がある。このため、ガラス画材
から目的とするガラス1の形状に切断後、荒研磨、中研
磨、仕上げ研磨を行なわなければならず、工数がかかる
−に、研磨によるガラス10表面状態の再起性がない。
Problems to be Solved by the Invention However, with the above configuration, it is necessary to polish the surface of the glass 1 of the one-reflection mirror. Therefore, after cutting the glass art material into the desired shape of the glass 1, rough polishing, medium polishing, and final polishing must be performed, which takes a lot of man-hours, and there is no possibility of resetting the surface condition of the glass 10 by polishing.

したがって、不良率が増加するため高価格になり、量産
化は望めないという問題点を有しており、研磨を必要と
し・ ない反射ミラーの開発が望inでいる。
Therefore, there is a problem in that the defective rate increases and the price becomes high, and mass production cannot be expected.Therefore, it is desirable to develop a reflective mirror that does not require polishing.

本発明は上記問題点を鑑み、研磨を必要としない低価格
な反射ミラーe提供するものである。
In view of the above problems, the present invention provides a low-cost reflective mirror e that does not require polishing.

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため本発明の反射ミラーは、レー
ザ光出射側には反射コーティングA上記レーザ光出射I
IIとは反対側には無反射コーティングを施した耐熱高
分子フィルムと、上記耐熱高分子フィルムに張力を加え
た状態を保持する枠とで゛構成されている。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the reflective mirror of the present invention has a reflective coating A on the laser beam output side.
The opposite side from II is composed of a heat-resistant polymer film coated with an anti-reflection coating and a frame that maintains the heat-resistant polymer film under tension.

作用 本発明は上記した構成によって、研磨に要する時間が必
要でなくなる。したがって量産に適した低価格反射ミラ
ーが得られることになる。
Function The present invention eliminates the need for polishing time due to the above-described configuration. Therefore, a low-cost reflecting mirror suitable for mass production can be obtained.

実施例 以下本発明の一実施例の反射ミラーについて、図面を参
照しながら説明する。第1図は本発明の一実施例(Cお
ける反射ミラーの構成を示す断面図である。
EXAMPLE Hereinafter, a reflecting mirror according to an example of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing the configuration of a reflecting mirror in an embodiment (C) of the present invention.

9 ・、−7 第1図において、4は耐熱高分子フィルム(以下単にフ
ィルムという)で、材料名はポリイミドである。このフ
ィルム4は従来と同様に反射、無反射コーチイングラ施
しである。第2図はフィルム4の平滑性(−またけ面精
度ともいう)を示したものである。第3図から第4図は
フィルム4を用いたミラー構成法について説明したもの
である。
9., -7 In FIG. 1, 4 is a heat-resistant polymer film (hereinafter simply referred to as film), and the material name is polyimide. This film 4 is coated with reflective and non-reflective coaching as in the conventional film. FIG. 2 shows the smoothness (also referred to as straddling surface accuracy) of the film 4. 3 to 4 illustrate a mirror construction method using the film 4. FIG.

第3図はフィルム4にスパッタあるいは蒸着で反射用誘
電体物質2、無反射用誘電体物質3をコーティングする
状態を示しており、6はフィルム4に張力を加えるスパ
ッタ、蒸着用治具(以下単に治具という)である。6は
スパッタ、蒸着のターゲットである。第4図(A)はフ
ィルム4の張力を維持する枠7と、枠7に塗布した接着
剤8の状態を示す断面図、第4図(B)は治具6に枠7
[保持されたフィルム4を配置した状態を示す配置図、
第4図(C)は第4図(B)の円弧Yの拡大断面図であ
る。尚、各図((おいて、同一部には同一番号を付して
いる。
FIG. 3 shows a film 4 coated with a reflective dielectric material 2 and a non-reflective dielectric material 3 by sputtering or vapor deposition, and reference numeral 6 denotes a sputtering and vapor deposition jig (hereinafter referred to as (simply referred to as a jig). 6 is a target for sputtering and vapor deposition. 4(A) is a sectional view showing the frame 7 that maintains the tension of the film 4 and the state of the adhesive 8 applied to the frame 7, and FIG. 4(B) is a sectional view showing the state of the frame 7 on the jig 6.
[Layout diagram showing a state in which the held film 4 is placed,
FIG. 4(C) is an enlarged sectional view of the arc Y in FIG. 4(B). In each figure, the same parts are given the same numbers.

以−ヒのように構成された反射ミラーについて、第1図
、第2図、第3図、第4図および第7図を1o t、、
  プ 用いてその動作説明する。
1, 2, 3, 4, and 7 for the reflecting mirror configured as shown below.
The operation will be explained using the following example.

第1図は反射ミラーの構成を示すものであり、フィルム
4以外の反射用誘電体物質2、無反射誘電体物質3は従
来と同じものである。したがって高反射率を得るための
コーティングにおける原理は第7図を用いて説明した従
来例と同じである。
FIG. 1 shows the structure of the reflective mirror, and the reflective dielectric material 2 and the non-reflective dielectric material 3 other than the film 4 are the same as those of the conventional mirror. Therefore, the principle of coating for obtaining high reflectance is the same as the conventional example explained using FIG. 7.

丑だ、単にアルミニウム、金、ニッケルを蒸着し ゛て
も同様な高反射率が得られる。
However, a similar high reflectance can be obtained by simply depositing aluminum, gold, or nickel.

ここで重要であるフィルム4の表面について第2図を用
いて説明する。第2図(A)はフィルム表面、第2図(
B)は裏面の特性を示すものである。
The surface of the film 4, which is important here, will be explained using FIG. 2. Figure 2 (A) shows the film surface; Figure 2 (A) shows the film surface;
B) shows the characteristics of the back side.

第2図(A) 、 03)において、横軸は基準点から
の測定の長さ、縦軸は平滑性を表わしており、フィルム
4の表面、裏面とも平滑性は370人〜400八ある。
In FIG. 2(A), 03), the horizontal axis represents the measured length from the reference point, and the vertical axis represents the smoothness, and the smoothness of both the front and back surfaces of the film 4 is 370 to 4008.

尚、測定条件は針状は球状(r=12.7μηz)、針
圧は251ii’である。
Note that the measurement conditions are that the needle shape is spherical (r=12.7μηz) and the needle pressure is 251ii′.

λ い捷波長λ−830nm  とすると平滑性は−2゜ あり、これは研磨せずとも十分使用出来る平滑性を有し
ている。ちなみに一般のガラスは直径1゜mm 、長さ
2mmで二程度が多く市販されている。
When λ is a cutting wavelength of λ-830 nm, the smoothness is -2°, which is sufficient for use without polishing. By the way, most common glasses on the market have a diameter of 1 mm and a length of 2 mm.

このフィルム4をコーティングするに(tよ、第3図に
示すようにフィルム4に張力が加わった状態にする治具
6で固定する。そしてターゲット6からフィルム4へ反
射誘電体物質2をコーティングする。次に治具5を裏面
に]〜で同様に無反射誘電体物質3をコーティングする
と第1図の構成と同じになる。フィルム4の両面にコー
ティングを完了し、治具5でフィルム4に張力が加わ−
た状態で、第4図に示すように無反射誘電体物質3側に
接着インク時の温度300″C〜350’Cには十分耐
えつるものである。
To coat this film 4, fix it with a jig 6 that applies tension to the film 4 as shown in FIG. 3. Then, coat the reflective dielectric material 2 from the target 6 to the film 4 Next, coat the non-reflective dielectric material 3 on the back side with the jig 5 in the same way as shown in Figure 1. After completing the coating on both sides of the film 4, use the jig 5 to coat the film 4 with the non-reflective dielectric material 3. Tension is added -
In this state, as shown in FIG. 4, it can withstand temperatures of 300'' to 350'C when adhesive ink is applied to the non-reflective dielectric material 3 side.

以上のように本実施例によれば、耐熱性および優れた表
面平滑性を有するフィルム4を用いることにより、研磨
を必要としない低価格な反射ミラーが得られる。なお本
実施例は高反射dラーとししたが、反射率と透過率を同
一にしたビームスプリッタ−としてもよい。
As described above, according to this embodiment, by using the film 4 having heat resistance and excellent surface smoothness, an inexpensive reflective mirror that does not require polishing can be obtained. In this embodiment, a high-reflection beam splitter is used, but a beam splitter having the same reflectance and transmittance may be used.

なお、本実施例でけ耐電高分子フィルム材料としてポリ
イミドを用いているが他の面1熱高分子フィルムでも同
様の効果が得られる。
Although polyimide is used as the electrically resistant polymer film material in this embodiment, similar effects can be obtained with other one-sided thermal polymer films.

発明の効果 以上のように本発明は、耐熱性および優れた表面平滑性
を有する耐熱高分子フィルムを用いること(でよって、
研磨全必要としないため工数の削減、不良率の低減が図
れ低価格(でなる。したがって、量産化が可能となる。
Effects of the Invention As described above, the present invention uses a heat-resistant polymer film having heat resistance and excellent surface smoothness (thereby,
Since no polishing is required, the number of man-hours is reduced, the defective rate is reduced, and the cost is low. Therefore, mass production is possible.

をらに反射ミラーの形状は枠の形状によって自由になる
。才だ形状が犬きくなっても、枠の厚みはそれほど厚く
しなくてもよいため全体の厚みを薄くすることができる
Furthermore, the shape of the reflecting mirror can be freely determined depending on the shape of the frame. Even if the shape becomes dog-like, the frame does not need to be very thick, so the overall thickness can be made thinner.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実殉例における反射ミラーの断面図
、第2図(A)、の)は本発明に用いたフィルムの平滑
特性図、第3図はフィルム上にコーティングする状態を
示す配置図、第4図(A)は第3図で得られたコーティ
ング済フィルムを固定する枠と接着剤の状態を示す断面
図、第4図(B)は治只にフィルムを配置する場合を示
す配置図、第4図(C)け扁要部拡大断面図、第6図は
従来の反射ミラーの断13−′、 。 面図、第6図は高反射ミラーの原理を示す断面図、第7
図は光学的膜厚と反射率との関係を示す特性図である。 1・・・・石英ガラス、2・・・反射用誘電体物質、3
・・・・・・無反射用誘電体物質、4・・・・・・高分
子フィルム、7・・−・・枠。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 図 LQ 。      浦 of−−−入村所 θ2一層稗勇 θ3−−−慢曇4 ”−−−”l’fta&Q 第 7 図 先々上9つl気、41 77′
Figure 1 is a cross-sectional view of a reflective mirror in a practical example of the present invention, Figure 2 (A) is a smoothness characteristic diagram of the film used in the present invention, and Figure 3 shows the state of coating on the film. Figure 4 (A) is a cross-sectional view showing the state of the frame and adhesive that fixes the coated film obtained in Figure 3, and Figure 4 (B) is the case where the film is placed on the jig. FIG. 4(C) is an enlarged cross-sectional view of the flat part, and FIG. 6 is a cross-section 13-' of a conventional reflecting mirror. Figure 6 is a cross-sectional view showing the principle of a high reflection mirror, Figure 7 is a top view.
The figure is a characteristic diagram showing the relationship between optical film thickness and reflectance. 1... Quartz glass, 2... Reflective dielectric material, 3
..... Dielectric material for non-reflection, 4..... Polymer film, 7..... Frame. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Diagram LQ. Ura of --- Irimurasho θ2 One layer of light θ3 --- Long cloudy 4 ``----''l'fta&Q 7th figure, 9th place, 41 77'

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)レーザ光出射側には反射コーティング、上記レー
ザ光射側とは反対側には無反射コーティングを施した耐
熱高分子フィルムと、上記耐熱高分子フィルムに張力を
加えた状態を保持する枠とを備えたことを特徴とする反
射ミラー。
(1) A heat-resistant polymer film with a reflective coating on the laser beam emission side and a non-reflective coating on the side opposite to the laser beam emission side, and a frame that holds the heat-resistant polymer film under tension. A reflective mirror characterized by comprising:
(2)耐熱高分子フィルムにポリイミドを用いることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の反射ミラー。
(2) The reflective mirror according to claim 1, wherein polyimide is used as the heat-resistant polymer film.
JP60043133A 1985-03-05 1985-03-05 Reflection mirror Pending JPS61201202A (en)

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