JPS61188991A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

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JPS61188991A
JPS61188991A JP2960885A JP2960885A JPS61188991A JP S61188991 A JPS61188991 A JP S61188991A JP 2960885 A JP2960885 A JP 2960885A JP 2960885 A JP2960885 A JP 2960885A JP S61188991 A JPS61188991 A JP S61188991A
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Abstract

PURPOSE:To obtain the stable and single longitudinal mode oscillation in which a wavelength chirping at direct modulation is suppressed by reducing a width of a spectrum line by integrating an active region composed of an active layer and a grating, and a light waveguide having a reflective function on the edge to compose a semiconductor laser having a composite resonator constitution. CONSTITUTION:On an N-type InP substrate 22, a grating 23 is formed and the region 28 composed of the lamination of an N-type InGaAsP light waveguide layer 24, an N-type InP isolation layer 25, an N-type InGaAsP active layer 26, and a P-type InP enclosure layer 27 is an active region and so-called a distribution feedback semiconductor laser. The region 29 where only a light waveguide layer 24 exists on a substrate 22 is a light waveguide. In this constitution, the edges 30 and 31 of a resonator are cleavage planes and an edge 32 is a plane formed by etching, all of which are the mirror planes capable of reflecting the light emission in the active layer 26 and is so-called a composite resonator constitution. The light emission in the active layer 26 is reflected by the edge 31 through the light waveguide and returns to the active region 26 again.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 六登明は一光ファイバ;山償 −W−稽′g机押、光貢
十測等の光源として用いることができる半導体レーザ装
置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] The field of industrial application is a semiconductor laser device that can be used as a light source for optical fiber; .

従来の技術 半導体レーザは、光フアイバ通信、光情報処理。Conventional technology Semiconductor lasers are used in optical fiber communications and optical information processing.

光計測等の光源として期待され、性能の向上がはかられ
ている。大容量長距離の光フアイバ通信においては、単
−縦モード発振の半導体レーザが望まれている。多モー
ド発振の半導体レーザでは光が光フアイバ中を伝搬する
とき、光ファイバの波長分散によって各モードの到達時
間に差が生じ。
It is expected to be used as a light source for optical measurement, and efforts are being made to improve its performance. In high-capacity, long-distance optical fiber communications, single-longitudinal mode oscillation semiconductor lasers are desired. In a multimode oscillation semiconductor laser, when light propagates through an optical fiber, the arrival time of each mode differs due to wavelength dispersion of the optical fiber.

波形歪が大きくなってしまう。また単−縦モード発振の
半導体レーザでも高速変調時には数本の縦モードで発振
してしまうことが多く、高速伝送システムの中継距離を
制限する原因となっている。
Waveform distortion will increase. Furthermore, even a single longitudinal mode oscillation semiconductor laser often oscillates in several longitudinal modes during high-speed modulation, which is a cause of limiting the relay distance of high-speed transmission systems.

光通信や光情報処理において、容量や速度を向上させる
ため半導体レーザから時間波形に内部構造をもたないコ
ヒーレントな超短光パルスを発生させる場合にも単−縦
モード発振が必要となる。
In optical communication and optical information processing, single-longitudinal mode oscillation is also required when generating coherent ultrashort optical pulses from semiconductor lasers that have no internal structure in their temporal waveforms in order to improve capacity and speed.

また、光計測における、干渉現象を用いたきわめて微小
な変位や屈折率変化の計測、ホログラフィ技術による物
質表面形状の微小振動・変位計測。
In addition, in optical measurement, we measure extremely small displacements and refractive index changes using interference phenomena, and measure minute vibrations and displacements of material surface shapes using holography technology.

スペクトルを利用した速度計測等は、レーザ光の持つ良
好な直進性あるいは集速性(空間的コヒーレンス)およ
び良好な単色性(時間的コヒーレンス)を活用するため
1発振スペクトル線幅が狭く、発振周波数の安定な半導
体レーザが要求される。
Speed measurements using spectra take advantage of laser light's good straightness or velocity focusing ability (spatial coherence) and good monochromaticity (temporal coherence), so the spectral linewidth of each oscillation is narrow and the oscillation frequency is low. A stable semiconductor laser is required.

単−縦モード発振を行う半導体レーザとしては、活性層
とグレーティングを集積化した分布帰還型(DFB)半
導体レーザ、分布反射型(DBR)半導体レーザがある
。しかし単にグレーティングを作っただけでは、ブラッ
グ波長を中心とする2つの対称な波長でしきい利得が最
も小さくなるため、2モードで発掘が起きてしまう。ま
た、DFBレー・ザでは両出力端面を共振器とする7ア
プリ・ベローモードも存在するため、特に半導体レーザ
のゲインピークから離れた波長でもDFBモード発振を
得るためには、ファプリ・ベローモードを抑圧すること
が必要である。
Semiconductor lasers that perform single-longitudinal mode oscillation include distributed feedback (DFB) semiconductor lasers and distributed reflection (DBR) semiconductor lasers in which an active layer and a grating are integrated. However, if a grating is simply created, the threshold gain will be the smallest at two symmetrical wavelengths centered on the Bragg wavelength, so excavation will occur in two modes. In addition, DFB lasers also have a 7-appli bellows mode in which both output end faces serve as resonators, so in order to obtain DFB mode oscillation even at wavelengths far from the gain peak of the semiconductor laser, it is necessary to use the 7-appli bellows mode. It is necessary to suppress it.

上記問題点を解決し、安定な単−縦モード発振を得るた
めには、0)グレーティングの中央部で位相をλ/4シ
フトさせる。(2)片端面をエツチングにより斜面とす
る。(3) D F B領域と一方のへき開面との間を
窓構造とする。(4)片端面にARココ−ィングを施す
。(6)位相制御機構を設ける等の方法がある。
In order to solve the above problems and obtain stable single-longitudinal mode oscillation, 0) shift the phase by λ/4 at the center of the grating. (2) Make one end surface sloped by etching. (3) A window structure is formed between the DFB region and one cleavage plane. (4) Apply AR cocoing to one end surface. (6) There are methods such as providing a phase control mechanism.

第8図に第一の従来例として、荒井;応物量ニレ研究会
[半導体レーザJ1985年冬P71〜78に示されて
いる λ/4位相シフH)FBレーザの概略断面図を示
す。1は活性層、2はグレーティングであり、グレーテ
ィング2の中心部分に長さgの位相シフト領域3がある
。第9図に発掘しきい値利得gthと発振波長λのブラ
ッグ波長超からのずれλ−λB との関係を示す。グレ
ーティングの周期をA、回折次数をmとし、 l=o 
、 A/4rn 。
FIG. 8 shows, as a first conventional example, a schematic cross-sectional view of a λ/4 phase shift H) FB laser as shown in Arai, Nire Research Group [Semiconductor Laser J, Winter 1985, pages 71-78]. 1 is an active layer, 2 is a grating, and in the center of the grating 2 is a phase shift region 3 having a length g. FIG. 9 shows the relationship between the excavation threshold gain gth and the deviation λ-λB of the oscillation wavelength λ from exceeding the Bragg wavelength. The period of the grating is A, the diffraction order is m, and l=o
, A/4rn.

A/2rn、:3J/4mの場合について示しである。The figure shows the case of A/2rn, :3J/4m.

1=oすなわち位相、シフト領域がない場合にはブラッ
グ波長に対して対称な2つのモードでしきい値利得が等
しくなり、2モ一ド発振となるが、位相シフト領域を設
けた場合にはこれら2つのモードにしきい値利得の差が
生じる。l=A/2m=λB/4のとき発振波長がブラ
ッグ波長に一致し、しきい値利得が最小になりかつ主モ
ードを副モードとのしきい値利得差が最大となるため、
安定な単−縦モード発掘が得られる。
1 = o, that is, phase. If there is no shift region, the threshold gain will be equal in two modes symmetric with respect to the Bragg wavelength, resulting in bimodal oscillation, but if a phase shift region is provided, A difference in threshold gain occurs between these two modes. When l=A/2m=λB/4, the oscillation wavelength matches the Bragg wavelength, the threshold gain becomes the minimum, and the threshold gain difference between the main mode and the secondary mode becomes the maximum, so
Stable single-longitudinal mode excavation can be obtained.

第10図に板屋他、SSS信学全大944に示されてい
る第2の従来例の概略断面図を示す。
FIG. 10 shows a schematic sectional view of a second conventional example shown in SSS IEICE University 944 by Itaya et al.

DFBレーザの一方の端面4はへき開面であり、他方の
端面5はエツチングにより製作され、面6の傾さは水平
面より約560であり、この面の導波モードに対する反
射率はへき開面に比較して約1/100となっている。
One end surface 4 of the DFB laser is a cleavage surface, and the other end surface 5 is manufactured by etching, and the slope of the surface 6 is about 560 degrees from the horizontal plane, and the reflectance of this surface for the waveguide mode is compared to that of the cleavage surface. It is approximately 1/100.

第11図に発振しきい値利得gthと発振波長のブラッ
グ波長λBからのずれλ−λBとの関係を示す。結合定
数Kが大きくなるとしきい値利得が小さくなり発振モー
ドの分離が顕著になる。また、両端面の反射率が大きく
異なるため、利得曲線がブラッグ波長に対して非対称に
なり、ファプリ・・ベローモードも抑圧されて、単−縦
モード発振が実現される。
FIG. 11 shows the relationship between the oscillation threshold gain gth and the deviation λ-λB of the oscillation wavelength from the Bragg wavelength λB. As the coupling constant K becomes larger, the threshold gain becomes smaller and the separation of oscillation modes becomes more noticeable. Furthermore, since the reflectances of both end faces are greatly different, the gain curve becomes asymmetrical with respect to the Bragg wavelength, and the Fabry-Bello mode is also suppressed, realizing single-longitudinal mode oscillation.

筺12図に字惠仙:S57信学光・電波部門278に示
されている第3の従来例の概略断面図を示す。6はDF
B領域、7は窓領域である。
Figure 12 shows a schematic sectional view of the third conventional example shown in S57 Telecommunications Optical and Radio Division 278. 6 is DF
Area B, 7, is a window area.

DFB領域6の端面の一方が発振光に対して透明な物質
により埋め込まれているため、境界での反射は無視でき
る程小さいばかりでなく、窓領域が導波路構造を有して
いないため、窓領域端面で反射され、再び活性層へ戻る
光の割合は非常に小さくなる。従って第2の従来例と同
様に単一モード発振となる。
Since one end face of the DFB region 6 is embedded with a material that is transparent to the oscillation light, reflection at the boundary is negligibly small, and since the window region does not have a waveguide structure, the window region The proportion of light that is reflected at the end faces of the region and returns to the active layer is extremely small. Therefore, like the second conventional example, single mode oscillation occurs.

第13図に山ロ他、S59信学全大1o26に示されて
いる第4の従来例の概略断面図を示す。
FIG. 13 shows a schematic sectional view of a fourth conventional example disclosed in Yamaro et al., S59 IEICE University 1o26.

DFBレーザの一方の端面に λ/4厚のSiN膜8を
プラズマCVD法を用いてコーティングし、反射率2%
以下の低反射端面とし、第2.第3の従来例と同様に単
−縦モード発振を得るものである。
One end face of the DFB laser is coated with a λ/4 thick SiN film 8 using the plasma CVD method, with a reflectance of 2%.
The following low reflection end face is used, and the second. Similar to the third conventional example, single-longitudinal mode oscillation is obtained.

第14図に北村他、S69信学全大1o24に示されて
いる第6の従来例の概略断面図を示す。
FIG. 14 shows a schematic cross-sectional view of a sixth conventional example disclosed in Kitamura et al., S69 IEICE University 1o24.

これは半導体レーザをDFB領域9と位相制御領域10
に分離し、制御電流11を変化させることにより屈折率
を変化させて制御領域側端面の位相を制御し、単−縦モ
ード発振を得るものである。
This connects the semiconductor laser to the DFB region 9 and the phase control region 10.
By changing the control current 11, the refractive index is changed and the phase of the end face on the side of the control area is controlled, thereby obtaining single-longitudinal mode oscillation.

これに対して山ロ他、S59信学全犬1022゜すなわ
ち第16図に示すように、グレーティングの領域を位相
制御領域14としたDBRレーザとしても、第5の従来
例と同様に安定な単−縦モード発振が得られる。
On the other hand, as shown in S59 IEICE All Dog 1022°, that is, in FIG. 16, Yamaro et al. -Longitudinal mode oscillation can be obtained.

以上第1〜第6の従来例では、高速変調時にも安定な単
−縦モード発振を行い、また、温度変化に対しても発振
波長の跳びが起こらない。
In the first to sixth conventional examples described above, stable single-longitudinal mode oscillation is performed even during high-speed modulation, and the oscillation wavelength does not jump even with temperature changes.

第16図に特開昭52−68390号に示されている第
7の従来例の概略断面図を示す。1eは活性層、17は
グレーティングであり、電極18はグレーティングが形
成された活性領域19にのみ形成されている。レーザ発
振は領域19で起こり、光導波路領域2oの層16を通
ってへき開面21で反射されて再びレーザ部に戻る。こ
の従来例では、光導波路長りを L−S−C/2 L X O,2T C:光速、n:屈折率、T:緩和振動の周期。
FIG. 16 shows a schematic sectional view of a seventh conventional example disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 52-68390. 1e is an active layer, 17 is a grating, and the electrode 18 is formed only in the active region 19 where the grating is formed. Laser oscillation occurs in region 19, passes through layer 16 of optical waveguide region 2o, is reflected at cleavage plane 21, and returns to the laser section again. In this conventional example, the length of the optical waveguide is L-S-C/2 L X O, 2T where C is the speed of light, n is the refractive index, and T is the period of relaxation oscillation.

となるように選び、駆動電流をパルス状に変調したとき
の緩和振動を抑圧することを目的としており、本発明と
は異なるものである。
This is different from the present invention because the purpose is to suppress relaxation oscillation when the drive current is modulated in a pulsed manner.

発明が解決しようとする問題点 上記従来の技術で述べたように、活性領域とグレーティ
ングを集積化した半導体レーザでは安定な単−縦モード
発振を行うが、光通信において直接変調を行った場合、
波長チャーピングといわれる発振スペクトルの広がりが
生じ、長距離伝送時の光ファイバの波長分散による波形
歪の原因となっている。
Problems to be Solved by the Invention As mentioned above in the prior art, a semiconductor laser with an integrated active region and grating performs stable single-longitudinal mode oscillation, but when direct modulation is performed in optical communication,
A broadening of the oscillation spectrum called wavelength chirping occurs, which causes waveform distortion due to wavelength dispersion of optical fibers during long-distance transmission.

また、光ファイバの近端面、光伝送路のコネクタ部ある
いろ光デイスクシステムにおけるディスク面からの反射
光が半導体レーザに帰還されると雑音が増加してしまう
。特に、アナログ光通信やアナログ信号処理を行うビデ
オディスクシステムの光源として使用する場合、雑音レ
ベルに対する要求は極めて厳しく、雑音低減が重要な課
題となっている。上記第3の従来例のように半導体レー
ザの片端面の反射率が低い場合には、この反射戻り光に
よる雑音が発生しやすい。
Further, when reflected light from the near end face of an optical fiber, the connector portion of an optical transmission line, or the disk surface of a multicolored optical disk system is fed back to the semiconductor laser, noise increases. In particular, when used as a light source for a video disc system that performs analog optical communication or analog signal processing, there are extremely strict requirements regarding the noise level, and noise reduction has become an important issue. When the reflectance of one end face of the semiconductor laser is low as in the third conventional example, noise is likely to occur due to this reflected return light.

また、半導体レーザのスペクトル線幅はガスレーザと比
べて非常に広く、実際に測定されている値は数M)Iz
以上である。DFB 、DBRレーザについても、水戸
他、信学技報0QE84−55(1984年7月)に同
程度の値が報告されているが、高分解分光、精密計測な
どのコヒーレント光計測やコヒーレント光通信では、さ
らにスペクトル線幅を狭くすることが要求されている。
In addition, the spectral linewidth of semiconductor lasers is much wider than that of gas lasers, and the actually measured value is several M) Iz
That's all. Similar values were reported for DFB and DBR lasers by Mito et al. in IEICE Technical Report 0QE84-55 (July 1984), but they are also used for coherent optical measurement such as high-resolution spectroscopy and precision measurement, and for coherent optical communication. Now, it is required to further narrow the spectral linewidth.

本発明は、上記従来の問題点を解決するもので、活性層
とグレーティングからなる活性領域と端面に反射機能を
有する光導波路を同一基板上に集積して半導体レーザを
複合共振器構成とすることにより、スペクトル線幅が狭
く、直接変調時にも波長チャーピングが抑圧された単−
縦モード発振を行い、反射戻り光による雑音が発生しな
い、アナログ伝送、高速デジタル伝送、コヒーレント光
通信、光ディスク、コヒーレント光計測等の光源とし幅
広い応用が可能となる半導体レーザ装置を提供すること
を目的としている。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems by integrating an active region consisting of an active layer and a grating, and an optical waveguide having a reflective function on the end facets on the same substrate to form a semiconductor laser into a composite resonator configuration. As a result, the spectral linewidth is narrow and wavelength chirping is suppressed even during direct modulation.
The purpose is to provide a semiconductor laser device that performs longitudinal mode oscillation, does not generate noise due to reflected return light, and can be used in a wide range of applications as a light source for analog transmission, high-speed digital transmission, coherent optical communication, optical disks, coherent optical measurement, etc. It is said that

問題点を解決するための手段 本発明の半導体レーザ装置は、化合物半導体基板と、前
記基板上に部分的に形成された少なくとも活性層、閉込
め層および活性層に近接して設けられたグレーティング
を含む半導体レーザの活性領域と、前記活性領域に近接
して前記基板上に形成された前記活性領域からの出射光
を導波し得る光導波路と、前記光導波路の前記活性領域
より遠い端面に、前記活性領域からの出射光を反射し前
記半導体レーザの共振器面として形成された反射体を有
するものである。活性層は、多重量子井戸構造であって
もよい。
Means for Solving the Problems The semiconductor laser device of the present invention includes a compound semiconductor substrate, at least an active layer partially formed on the substrate, a confinement layer, and a grating provided close to the active layer. an active region of a semiconductor laser including: an optical waveguide formed on the substrate adjacent to the active region and capable of guiding light emitted from the active region; and an end face of the optical waveguide remote from the active region; The semiconductor laser has a reflector that reflects the light emitted from the active region and is formed as a resonator surface of the semiconductor laser. The active layer may have a multiple quantum well structure.

作  用 本発明は、上記した構成により、活性領域が分布帰還型
半導体レーザとなっていると同時に、光導波路の端面に
反射体を有した複合共振器構成の半導体レーザ装置とな
る。分布帰還型半導体レーザ部分は片側に光導波路が結
合されることにより非対称構造となり、ブラッグ波長を
中心とする対称な2つのモードのしきい値利得に差が生
じ、安定な単一モード発振となる。
Operation The present invention provides a semiconductor laser device having a composite resonator configuration in which the active region is a distributed feedback semiconductor laser and a reflector is provided at the end face of the optical waveguide, due to the above-described configuration. The distributed feedback semiconductor laser part has an asymmetric structure by coupling an optical waveguide on one side, and a difference occurs in the threshold gain of two symmetrical modes centered on the Bragg wavelength, resulting in stable single mode oscillation. .

複合共振器構成の半導体し−ザの発振位相条件は次式で
与えられる。
The oscillation phase condition of a semiconductor laser having a composite resonator configuration is given by the following equation.

tanψ1=ro(r1′−1)1nψoAr1(1+
ro2)+ro(1+r12)CO5ψ0〕・・・・・
・・・・(1) ・・・・・・・・・(2) eoは光導波路長、11  は活性領域長、”Ol”1
はそれぞれ光導波路、活性層の屈折率であり、rolr
l  はそれぞれ光導波路端面、および光導波路と活性
層との結合部の振幅反射率である。半導体レーザを直接
電流変調すると、活性層の屈折率がΔnだけ変化し1発
振波長がΔλだけ変化し、これが波長チャーピングとな
る。光導波路がない場合の波長変化はΔλ−(Δn1/
n1)λ0となり、Δλ/Δλ′で変調に対する波長チ
ャーピングの抑圧度を求めることができる。
tanψ1=ro(r1'-1)1nψoAr1(1+
ro2)+ro(1+r12)CO5ψ0〕・・・・・・
・・・・・・(1) ・・・・・・・・・(2) eo is the optical waveguide length, 11 is the active region length, “Ol”1
are the refractive index of the optical waveguide and the active layer, respectively, and rolr
l is the amplitude reflectance of the optical waveguide end face and the coupling portion between the optical waveguide and the active layer, respectively. When a semiconductor laser is directly modulated with current, the refractive index of the active layer changes by Δn and the single oscillation wavelength changes by Δλ, which results in wavelength chirping. The wavelength change when there is no optical waveguide is Δλ−(Δn1/
n1) λ0, and the degree of suppression of wavelength chirping with respect to modulation can be determined by Δλ/Δλ'.

第2図に、roをパラメータとし’ nO”O/”1偽
に対するΔλ/dλ′の関係を示す。同図よりわかるよ
う′に、波長チャーピングを抑圧するためには、活性領
域長を短くし、光導波路長を長くし、光導波路端面の反
射率を大きくし、活性層と光導波路との結合部の反射率
を小さくすればよいことがわかる。
FIG. 2 shows the relationship of Δλ/dλ' for 'nO"O/"1 false, with ro as a parameter. As can be seen from the figure, in order to suppress wavelength chirping, it is necessary to shorten the active region length, increase the optical waveguide length, increase the reflectance of the optical waveguide end face, and improve the coupling between the active layer and the optical waveguide. It can be seen that it is sufficient to reduce the reflectance of the area.

発振スペクトル線幅も複弁振器構成とすることにより減
少することができるということが、斉藤他、信学技報、
○QEa1−62等に示されている。第3図に、帰還パ
ラメータXとスペクトル線幅の減少量Δν/Δν′の関
係を示す。同図よりわかるように、Xパラメータが大き
いほどすなわち波長チャーピングを抑圧する場合と同様
に活性領域長が短く、光導路長が長いほど、また、光導
波路端面の反射率が大きく、活性層と光導波路との結合
部の反射率を小さくするほどスペクトル線幅が減少する
It has been reported by Saito et al., IEICE Technical Report, that the oscillation spectrum linewidth can also be reduced by using a double-valve oscillator configuration.
○It is shown in QEa1-62 etc. FIG. 3 shows the relationship between the feedback parameter X and the amount of decrease Δν/Δν' in the spectral linewidth. As can be seen from the figure, the larger the X parameter is, the shorter the active region length is, and the longer the optical waveguide length is, as in the case of suppressing wavelength chirping. The smaller the reflectance of the coupling portion with the optical waveguide, the smaller the spectral linewidth.

R,Wyat t : 8 th Conf、 on 
OpL Fiber Comm、 。
R, Wyatt: 8th Conf, on
OpL Fiber Comm.

Tup 2 、 Feb、、 1985. San D
iago、 Ca1iforniaでは、半導体レーザ
の外部にミラーを設置した複合共振器構成により、スペ
クトル線幅は1 KHzまで減少したことが報告されて
いる。しかし、装置の小型化2機械的安定性、温度変化
に対する安定性また信頼性を考えた場合、複合共振器を
一つの基板上に一体化したほうが望ましいことは言うま
でもない。
Tup 2, Feb., 1985. San D
In California, it has been reported that the spectral linewidth was reduced to 1 KHz using a composite cavity configuration with a mirror placed outside the semiconductor laser. However, when considering miniaturization of the device, mechanical stability, stability against temperature changes, and reliability, it goes without saying that it is more desirable to integrate the composite resonator on one substrate.

波長チャーピングおよびスペクトル線幅を抑圧するため
に、光導波路端面の反射率を大きくしてやると、光導波
路側から活性領域に帰還される光量が多くなり、活性領
域の出力端面側から少量の光が戻ってもその影響を受け
にくくなり、従来の半導体レーザで大きな問題となって
いた反射戻り光による雑音が発生しなくなる。
In order to suppress wavelength chirping and spectral linewidth, if the reflectance of the optical waveguide end face is increased, the amount of light that is returned from the optical waveguide side to the active region increases, and a small amount of light is returned from the output end face side of the active region. Even if the laser beam returns, it is less affected by it, and the noise caused by the reflected return light, which has been a big problem with conventional semiconductor lasers, is no longer generated.

上記した波長チャーピングの抑圧、スペクトル線幅の狭
帯化および反射戻り光による雑音の抑圧は、半導体レー
ザの活性領域に光を帰還するという複合共振器構成とす
ることにより得られた効果である。従来の分布反射型(
DBR)半導体レーザあるいは第7の従来例に示した半
導体レーザは、 複合共振器構成となっているが、DB
Rレーザでは、活性領域への帰還光量があまり大きくな
いた1L   lモコ祉田J−1−八+trづ日フ)L
+A?1−TI紐イム1− 咄た、第7の従来例は、緩
和振動の抑圧を目的としているため、光導波路長を特定
の値に限定しており、また、活性領域への帰還光量につ
いては特に規定しておらず、本発明とは異なるものであ
る。
The above-mentioned suppression of wavelength chirping, narrowing of the spectral linewidth, and suppression of noise due to reflected return light are effects obtained by using a composite resonator configuration that returns light to the active region of the semiconductor laser. . Conventional distributed reflection type (
DBR) Semiconductor laser or the semiconductor laser shown in the seventh conventional example has a composite resonator configuration, but DB
With the R laser, the amount of light returned to the active region was not very large.
+A? The seventh conventional example aims to suppress relaxation oscillations, so the optical waveguide length is limited to a specific value, and the amount of light returned to the active region is limited. This is not particularly defined and is different from the present invention.

実施例 第1図は本発明の実施例の断面図である。第1図におい
て、n型InP基板22上にグレーティング23が形成
され、n型InGaAsP光導波層24(バンドギャッ
プEg=1.18eV)、n型InP分離層25、n型
1nGaAsP活性層28 (Eq=0.95eV )
、p型InP閉込め層27を積層した構造の領域28が
活性領域であり、いわゆる分布帰還型半導体レーザとな
っている。一方、基板22上に光導波層24のみが存在
する領域29は光導波路である。本構造において、端面
30,31はへき開面、端面32はエツチングによって
形成された面であり、いずれの面も活性層26における
発光を反射し得る鏡面となっており、いわゆる複合共振
器構成となっている。
Embodiment FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the present invention. In FIG. 1, a grating 23 is formed on an n-type InP substrate 22, an n-type InGaAsP optical waveguide layer 24 (band gap Eg=1.18 eV), an n-type InP isolation layer 25, an n-type 1nGaAsP active layer 28 (Eq. =0.95eV)
, a region 28 having a structure in which p-type InP confinement layers 27 are laminated is an active region, and is a so-called distributed feedback semiconductor laser. On the other hand, a region 29 where only the optical waveguide layer 24 exists on the substrate 22 is an optical waveguide. In this structure, the end surfaces 30 and 31 are cleaved surfaces, and the end surface 32 is a surface formed by etching, and both surfaces are mirror surfaces capable of reflecting light emitted from the active layer 26, forming a so-called composite resonator configuration. ing.

活性領域26における発光は光導波路を通って端面31
によって反射され、再び活性領域26に帰還される。
The light emitted from the active region 26 passes through the optical waveguide to the end surface 31.
is reflected and returned to the active region 26 again.

帰還される光量は、光導波路24の導波効率および活性
領域28と光導波路領域29の結合効率によって決まる
が、これらの値は素子の構造パラメータを変えることに
より、ある程度任意に変化させることが可能である。帰
還光量を増加するため、光導波路端面31に反射増加膜
をコーティングし、反射率を大きくすることも容易に可
能である。
The amount of light returned is determined by the waveguide efficiency of the optical waveguide 24 and the coupling efficiency between the active region 28 and the optical waveguide region 29, but these values can be changed arbitrarily to some extent by changing the structural parameters of the element. It is. In order to increase the amount of feedback light, it is also possible to easily coat the optical waveguide end face 31 with a reflection increasing film to increase the reflectance.

共振器方向と垂直な方向の断面構造については、従来用
いられている方法によりストライプ構造とするのが望ま
しいことは言うまでもない。また、本実施例では材料を
InP基板上のInGaAsP系結晶としたが、他の化
合物半導体材料例えばGδAs基板上のA I G a
 A s 系あるいは、基板上のInGaAsP系結晶
等であっても本発明の構造は容易に実現できる。
It goes without saying that the cross-sectional structure in the direction perpendicular to the resonator direction is desirably formed into a striped structure by a conventional method. Further, in this example, the material was InGaAsP crystal on an InP substrate, but other compound semiconductor materials such as A I Ga on a GδAs substrate were used.
The structure of the present invention can be easily realized even with As-based crystals or InGaAsP-based crystals on a substrate.

第4図に実施例の半導体レーザを直接変調し、変調周波
数を変化させた時の発振スペクトルを示す。バイアス電
流■b=13Ith、変調度100チである。図に示す
ように、多モード発振によるスペクトルの広がりはなく
、隣接の副モードは完全に抑圧されている。
FIG. 4 shows the oscillation spectrum when the semiconductor laser of the example is directly modulated and the modulation frequency is varied. Bias current b=13Ith, modulation depth 100ch. As shown in the figure, there is no spectrum broadening due to multimode oscillation, and adjacent submodes are completely suppressed.

第6図に発振波長の温度特性を示す。発振波長はモード
跳びがなくなめらかに変化しており、安定な単−縦モー
ド発振が得られた。
Figure 6 shows the temperature characteristics of the oscillation wavelength. The oscillation wavelength changed smoothly with no mode jump, and stable single-longitudinal mode oscillation was obtained.

第6図に光導波路長の異なる素子について測定した変調
電流とチャーピング幅(半値全幅)の関係を示す。変調
周波数は10 Q MH2である。同図より明らかなよ
うに、光導波路長が長い素子はど波長チャーピングの抑
圧に有効であった。また、光導波路長が同じ素子でも、
光導波路端面にAuをコーティングして活性領域への帰
還光量を増加した場合には、さらに波長チャーピングを
抑圧することができた。これらの波長チャーピングは素
子の構造パラメータを変えることにより、さらに抑圧が
可能であると考えられる。
FIG. 6 shows the relationship between modulation current and chirping width (full width at half maximum) measured for elements with different optical waveguide lengths. The modulation frequency is 10 Q MH2. As is clear from the figure, a device with a long optical waveguide length was effective in suppressing wavelength chirping. Furthermore, even if the optical waveguide length is the same,
When the optical waveguide end face was coated with Au to increase the amount of light returned to the active region, wavelength chirping could be further suppressed. It is thought that these wavelength chirpings can be further suppressed by changing the structural parameters of the device.

また、スペクトル線幅も、遅延ファイバ5Kmを用いた
遅延自己ヘテロダイア法によって測定した結果、光導波
路長が長いほど狭くなる傾向を示し、Auをコーティン
グすることによりさらに狭くなり、容易にI  MHz
以下のスペクトル線幅を得ることができた。
In addition, the spectral linewidth was measured by the delay self-heterodia method using a delay fiber of 5 km, and the results showed that the longer the optical waveguide length, the narrower the linewidth.It became even narrower by coating with Au, and it was easy to reach I MHz.
We were able to obtain the following spectral linewidths.

次に、出力端面に2.2m長の光ファイバを結合し、フ
ァイバからの反射戻り光による雑音を観測した結果につ
いて説明する。光ファイバの近端側は先球レンズ加工し
、遠端側は垂直端面とした、光導波路のない素子とある
素子についての相対雑音強度を測定した結果をそれぞれ
第7図a、bに示す。第7図aに示すように、光導波路
のない素子では、光フアイバ遠端面までのラウンド・ト
リップ周波数45MH2とその高調波に対応する周波数
にファイバ遠端面からの反射戻り光による雑音が観測さ
れた。これに対して光導波路のある本実施例の素子では
、第7図すに示すように反射戻り光による雑音は観測さ
れなかった。
Next, a 2.2 m long optical fiber was coupled to the output end face, and the results of observing noise due to reflected return light from the fiber will be described. Figures 7a and 7b show the results of measuring relative noise intensities for an element without an optical waveguide and an element with an optical waveguide, in which the near end of the optical fiber is processed into a spherical lens and the far end is made into a vertical end face. As shown in Figure 7a, in the device without an optical waveguide, noise due to reflected return light from the fiber far end is observed at frequencies corresponding to the round trip frequency of 45 MH2 and its harmonics up to the optical fiber far end. It was done. On the other hand, in the device of this example with an optical waveguide, no noise due to reflected return light was observed, as shown in FIG.

駆動電流をパルス状に変調したときの緩和振動は、素子
の構造等によって、振舞いが変化すると考えられるが、
本実施例では光導波路長の異なるどの素子について、顕
著な緩和振動は見られなかった。
The behavior of the relaxation oscillation when the drive current is modulated in a pulsed manner is thought to change depending on the structure of the element, etc.
In this example, no significant relaxation oscillation was observed in any of the elements with different optical waveguide lengths.

本実施例で、活性層を多重量子井戸構造とすれば、さら
に直接変調時の波長チャーピング抑圧することができ、
しきい電流が低くなり、しきい電流値の温度依存性も少
なくなり、低消費電力でより安定なレーザ発振が得られ
る。
In this example, if the active layer has a multiple quantum well structure, wavelength chirping during direct modulation can be further suppressed.
The threshold current is lower, the temperature dependence of the threshold current value is also reduced, and more stable laser oscillation can be obtained with lower power consumption.

発明の効果 以上述べてきたように、本発明は、活性層とグレーティ
ングからなる活性領域を端面に反射機能を有する光導波
路を同一基板上に集積して半導体レーザを複合共振器構
成とすることにより、スペクトル線幅を減少し直接変調
時の波長チャーピングを抑圧した安定な単−縦モード発
振を実現し、さらに、反射戻り光による雑音を抑圧する
ことができる。従って、雑音低減が要求されるアナログ
伝送系、高速デジタル通信、さらに、コヒーレント光通
信、コヒーレント光計測等幅広い応用が可能である。
Effects of the Invention As described above, the present invention has an active region consisting of an active layer and a grating, and an optical waveguide having a reflective function on the end face is integrated on the same substrate to form a semiconductor laser into a composite resonator configuration. , it is possible to realize stable single-longitudinal mode oscillation by reducing the spectral linewidth and suppressing wavelength chirping during direct modulation, and furthermore, it is possible to suppress noise due to reflected return light. Therefore, a wide range of applications are possible, including analog transmission systems that require noise reduction, high-speed digital communications, coherent optical communications, and coherent optical measurements.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例の半導体レーザ装置の断面図、
第2図は本実施例の波長チャーピング抑圧度の理論値を
示す図、第3図は本実施例のスペクトル線幅減少量の理
論値を示す図、第4図は本実施例の発振スペクトルを示
す図、第6図は本実施例の発掘波長の温度特性を示す図
、第6図は本実施例のチャーピング幅の測定結果を示す
図、第7図は本実施例および従来の半導体レーザの相対
雑音強度の測定結果を示す図、第8図は第1の従来例の
概略断面図、第9図は第1従来例の発振しきい値利得と
発振波長のブラッグ波長からのずれの関係を示す図、第
10図は第2の従来例の概略断面図である。 22・・・・・・化合物半導体基板、23・・・・・グ
レーティング、24・・・・・・光導波路層、25・・
・・・・分離層、26・・・・・・活性層、27・・・
・・・閉込め層、28・・・・・・活性領域、29・・
・・・・光導波路領域、30,31゜32・・・・・・
共振器端面。 第1図 第2図 nρノσ//I、ノl 第3図 込()耐 第5図 第6図 /R調/f、A (7F+、4P−P)3SION  
 EAIIV73M 区 ト 第8図 3 イ在相シフト4頁戚 第9図 σ        λ−人e 第10図 2 り1−テlシク°゛ il1図 U            λ−λB 第12図 第13図 第14図 @15図 手続補正書働式) l事件の表示 昭和60年特許願第 29608  号2発明の名称 半導体レーザ装置 3補正をする者 事件との関係      特  許  出  願  人
住 所  大阪府門真市大字門真1006番地名 称 
(582)松下電器産業株式会社代表者    山  
下  俊  彦 4代理人 〒571 住 所  大阪府門真市大字門真1006番地松下電器
産業株式会社内 昭和60年6月28日 Wyatt:8th Conf、on Opt、Fib
er C0mm、、Tup2 、 Feb+、1985
 、 San DLeqo、 Ca1ifornia 
Jを「アール、ワイアット二光ファイバ通信に関する第
8回会議、 Tup 2.1985年2月、サンディエ
ゴ、カルフォルニア(R,Wyat t : 8 th
 Conf 、 onOpt、 Fiber Comm
、、Tup2.Feb 、、 1986 、 SanD
iego、Cat 1fornia) J に補正しま
す。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention;
Figure 2 is a diagram showing the theoretical value of the wavelength chirping suppression degree of this example, Figure 3 is a diagram showing the theoretical value of the amount of spectral linewidth reduction in this example, and Figure 4 is a diagram showing the oscillation spectrum of this example. FIG. 6 is a diagram showing the temperature characteristics of the excavation wavelength of this example. FIG. 6 is a diagram showing the measurement results of the chirping width of this example. FIG. Figure 8 shows the measurement results of the relative noise intensity of the laser. Figure 8 is a schematic cross-sectional view of the first conventional example. Figure 9 shows the oscillation threshold gain and deviation of the oscillation wavelength from the Bragg wavelength of the first conventional example. A diagram showing the relationship, FIG. 10, is a schematic cross-sectional view of the second conventional example. 22... Compound semiconductor substrate, 23... Grating, 24... Optical waveguide layer, 25...
... Separation layer, 26 ... Active layer, 27 ...
...Confinement layer, 28...Active region, 29...
...Optical waveguide region, 30, 31°32...
Resonator end face. Fig. 1 Fig. 2 nρ no σ//I, Nol 3rd illustration included () resistance Fig. 5 Fig. 6/R key/f, A (7F+, 4P-P) 3SION
EAIIV73M Section 8 Fig. 3 Phase shift 4 Page 9 Fig. 9 σ λ-person e Fig. 10 2 R1-TEL 1 Fig. U λ-λB Fig. 12 Fig. 13 Fig. 14 @ Figure 15 Procedural amendment form) l Indication of the case 1985 Patent application No. 29608 2 Name of the invention Semiconductor laser device 3 Person making the amendment Relationship to the case Patent application Address 1006 Oaza Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Address name
(582) Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Representative Yama
Toshihiko Shimo 4 Agent 571 Address 1006 Oaza Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. June 28, 1985 Wyatt: 8th Conf, on Opt, Fib
er C0mm,,Tup2, Feb+, 1985
, San DLeqo, Ca1ifornia
J. R. Wyatt 8th Conference on Fiber Optic Communications, Tup 2. February 1985, San Diego, California (R. Wyatt: 8 th
Conf, onOpt, Fiber Comm
,,Tup2. Feb, 1986, SanD
iego, Cat 1fornia) Corrected to J.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)化合物半導体基板と、前記基板上に部分的に形成
された少なくとも活性層、閉込め層および活性層に近接
して設けられたグレーティングを含む半導体レーザの活
性領域と、前記活性領域に近接して前記基板上に形成さ
れた前記活性領域からの出射光を導波し得る光導波路と
、前記光導波路の前記活性領域より遠い端面に、前記活
性領域からの出射光を反射し前記半導体レーザの共振器
面として形成された反射体とを有することを特徴とする
半導体レーザ装置。
(1) A compound semiconductor substrate, an active region of a semiconductor laser including at least an active layer partially formed on the substrate, a confinement layer, and a grating provided close to the active layer, and close to the active region. an optical waveguide formed on the substrate and capable of guiding light emitted from the active region; 1. A semiconductor laser device comprising: a reflector formed as a resonator surface;
(2)半導体レーザの活性層を、多重量子井戸構造とし
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体
レーザ装置。
(2) The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the active layer of the semiconductor laser has a multiple quantum well structure.
JP2960885A 1984-03-06 1985-02-18 Semiconductor laser device Granted JPS61188991A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2960885A JPS61188991A (en) 1985-02-18 1985-02-18 Semiconductor laser device
US07/276,763 US4899360A (en) 1984-03-06 1988-11-08 Semiconductor laser device having monolithically formed active and passive cavities on the same substrate

Applications Claiming Priority (1)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007200942A (en) * 2006-01-23 2007-08-09 Fujitsu Ltd Optical module

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