JPS61171782A - Solder resist ink composition - Google Patents

Solder resist ink composition

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JPS61171782A
JPS61171782A JP60010948A JP1094885A JPS61171782A JP S61171782 A JPS61171782 A JP S61171782A JP 60010948 A JP60010948 A JP 60010948A JP 1094885 A JP1094885 A JP 1094885A JP S61171782 A JPS61171782 A JP S61171782A
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JP
Japan
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cresol
resin
solvent
epoxy
novolac resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP60010948A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshitomo Nakano
中野 義知
Masumi Kada
加田 真澄
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP60010948A priority Critical patent/JPS61171782A/en
Publication of JPS61171782A publication Critical patent/JPS61171782A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions

Landscapes

  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the titled composition composed of a specific linear high- molecular cresol-novolac resin, an epoxy resin, an amine-type cure accelerator and a specific solvent, giving a cured coating film having excellent heat- resistance, chemical resistance and adhesivity to various substrate and applicable by screen printing. CONSTITUTION:The objective composition contains (A) a linear high-molecular cresol-novolac resin having a number-average molecular weight of >=1,500 and excellent solubility in solvents, and selected from (i) o-cresol-novolac resin and (ii) o-cresol/p-cresol random-copolymerized novolac resin having a molar ratio of copolymerized o-cresol/p-cresol of >=50/50, (B) an epoxy resin having >=2 epoxy groups, (C) an amin-type cure accelerator, and (D) a solvent of formula I-III (R is R' ar 1-8C alkyl; n is 1-4). The amount of the epoxy group in the component B is 0.5-1.5 equivalent per 1 equivalent of the OH group of the component A. The amounts of the components C and D are 0.01-10pts.(wt.) and 20-100pts. per 100pts. of A+B.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はソルダーレジストインキ組成物に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to solder resist ink compositions.

(産業上の利用分野) 本発明のソルダーレジストインキ組°放物は耐熱性、電
気絶縁性及び各種基板との密着性に優れた硬化皮膜を与
えることができるから、プリント配線基板用、特にポリ
イミド、セラミック及び金属(たとえばアルミニウム)
等の耐熱性基板を用いたプリント配線基板用のソルダー
レジストインキとして有利に使用することができる。
(Industrial Application Field) The solder resist ink composition of the present invention can provide a cured film with excellent heat resistance, electrical insulation, and adhesion to various substrates, so it is suitable for printed wiring boards, especially polyimide. , ceramics and metals (e.g. aluminum)
It can be advantageously used as a solder resist ink for printed wiring boards using heat-resistant substrates such as.

(従来技術) ソルダーレジストはプリント配線基板の表面に、通常ス
クリーン印刷され、電気的、耐湿的な回路の保護、半田
付は時の選択的な回路の保護、メッキ工程での基板の保
護等に用いられる(1!#開昭54−156167号、
特開昭55−53478号及び特開昭55−46165
号各公報)。
(Prior art) Solder resist is usually screen printed on the surface of printed wiring boards, and is used to protect electrical and moisture-resistant circuits, selectively protect circuits during soldering, and protect boards during plating processes. Used (1!# Kaisho 54-156167,
JP-A-55-53478 and JP-A-55-46165
(issues of each publication).

たとえば、両面プリント配線基板における一例を第1図
及び第2図を用いて説明すると、たとえばポリイミド絶
縁板2の両面に設けられた銅箔1にレーザービームによ
り穿孔3を設けてから、銅箔を選択的にエツチング除去
してプリント配線を形成し、ついでその両面にソルダー
レジスト4をスクリーン印刷して両面プリント配線基板
を得る。
For example, an example of a double-sided printed wiring board will be explained with reference to FIGS. 1 and 2. For example, perforations 3 are formed in a copper foil 1 provided on both sides of a polyimide insulating board 2 using a laser beam, and then the copper foil is removed. A printed wiring is formed by selectively removing the etching, and then a solder resist 4 is screen printed on both sides of the printed wiring to obtain a double-sided printed wiring board.

この両面プリント配線基板の必要な個所に部品6のリー
ド線7を挿入して半田付けすることによシ、半田5で鋼
箔lが固定され、電気的に導通し iまたプリント配線
基板が得られる。
By inserting the lead wires 7 of the parts 6 into the necessary locations on this double-sided printed wiring board and soldering them, the steel foil l is fixed with the solder 5 and electrical conduction is established. It will be done.

このプリント配線基板の絶縁板2としては、ガラス繊維
補強エポキシ樹脂が主に用いられ、ソルダーレジストと
しては、初期にはメラミン樹脂が用いられたが、現在で
は密着性、耐薬品性、電気絶縁性に優れたエポキシ樹脂
が主に用いられている。
Glass fiber-reinforced epoxy resin was mainly used as the insulating plate 2 of this printed wiring board, and melamine resin was initially used as the solder resist, but now it has improved adhesion, chemical resistance, and electrical insulation. Epoxy resins with excellent properties are mainly used.

近年、絶縁基板2として、エポキシ樹脂に代わってより
耐熱性、電気絶縁性に優れ九ポリイミドフィルム、ふっ
素樹脂フィルム、セラミック基板、鉄、アルミニウム等
の金属基板が用いられるようにな9、これにともないソ
ルダーレジストもより耐熱性に優れたものが要求される
ようになってきた。
In recent years, as the insulating substrate 2, metal substrates such as polyimide film, fluororesin film, ceramic substrate, iron, aluminum, etc., which have better heat resistance and electrical insulation properties, have been used instead of epoxy resin9. There is also a growing demand for solder resists with better heat resistance.

そして従来、ソルダーレジストに用いられるエポキシ樹
脂組成物の配合には、二官能性のビスフェノールAMエ
ポキシ樹脂、又は耐熱性の向上のためKは多官能性フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂若しくは0−クレゾー
ルノボラック散エポキシ樹脂に1硬化剤として芳香族ア
ばンや酸無水物等を配合し九ものが用いられてい丸。し
かし、かかる配合物は硬化物が充分な耐熱性を示さなか
ったシ、硬化しやすくてインキの安定性に劣る等の欠点
があった。
Conventionally, in the formulation of epoxy resin compositions used for solder resists, difunctional bisphenol AM epoxy resins, or K is polyfunctional phenol novolac type epoxy resins or 0-cresol novolac dispersion epoxy resins are used to improve heat resistance. Nine types of hardeners are used by blending aromatic abans, acid anhydrides, etc. with resin as a curing agent. However, such formulations had drawbacks such as the cured product did not exhibit sufficient heat resistance and was easily cured, resulting in poor ink stability.

また、エポキシ樹脂にノボラック樹脂と硬化促進剤を配
合すると、インキの安定性が良くなるとともに1耐水性
及び耐薬品性に優れたソルダーレジストを得ることがで
きる。しかし、従来のかかる場合に用いられたフェノー
ルノボラック樹脂やクレゾールノボラック樹脂の分子量
が低かったために、硬化樹脂はなお充分な耐熱性を示さ
ず、かつもろくて強靭性に欠ける欠点があった。
Furthermore, when a novolak resin and a curing accelerator are blended with the epoxy resin, the stability of the ink is improved and a solder resist with excellent water resistance and chemical resistance can be obtained. However, since the molecular weight of the phenol novolak resin and cresol novolac resin conventionally used in such cases was low, the cured resin still did not exhibit sufficient heat resistance, and had the disadvantage of being brittle and lacking in toughness.

(発明が解決せんとする問題点) 本発明は耐熱性、耐薬品性、プリント配線基板に対する
密着性に優れた硬化皮膜を与えることができ、しかもイ
ンキの安定性に4優れた、スクリーン印刷可能なソルダ
ーレジストインキ組成物全提供しようとするものである
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention can provide a cured film with excellent heat resistance, chemical resistance, and adhesion to printed wiring boards, and also has four excellent ink stability and is screen printable. The present invention aims to provide a complete solder resist ink composition.

(発明の構成) 本発明のソルダーレジスト用インキ組成物は、(A) 
o−クレゾールノボラック樹脂及びO−クレゾール/p
クレゾール共重合モル比が50150よシ大きいO−ク
レゾール/pクレゾールランダム共重合ノボラック樹脂
から選ばれた、メチルエチルケトンを溶剤とする蒸気圧
法で測定した数平均分子量が1500以上の、溶剤可溶
性に優れた線状高分子量クレゾールノボラック樹脂、 (B)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ樹脂、 (C)アミン系硬化促進剤、並びに (D)一般式 %式% (各式中、R及びR′はいずれも炭素数1〜8のアルキ
ル基を示し、nは1〜4の整数を示す。)のいずれかで
表わされる少なくとも1種の化合物からなる溶剤であっ
て、かつ前記(A)のクレゾールノボラック樹脂及び前
記(B)のエポキシ樹脂を溶解する溶剤が含有され、前
記(A)のクレゾールノボラック樹脂と前記(B)のエ
ポキシ樹脂とは、前者のOH基基当当量対して後者のエ
ポキシ基が0、5〜1.5当量になる割合で含有され、
前記(A)のクレゾールノボラック樹脂と前記(B)の
エポキシ樹脂の合計量100重量部に対して前記(C)
のアミン系硬化促進剤が0.01〜10重量部、前記(
D)の溶剤が20〜100重量部の各割合で含有されて
なることを特徴とする組成物である。
(Structure of the Invention) The ink composition for solder resist of the present invention includes (A)
o-cresol novolak resin and O-cresol/p
A line with excellent solvent solubility, selected from O-cresol/p-cresol random copolymerized novolac resins with a cresol copolymerization molar ratio greater than 50,150, and a number average molecular weight of 1,500 or more as measured by vapor pressure method using methyl ethyl ketone as a solvent. (B) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (C) an amine curing accelerator, and (D) the general formula % formula % (in each formula, R and R' each represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 4. The cresol novolac resin of (A) and the epoxy resin of (B) contain a solvent that dissolves the cresol novolac resin of The epoxy group is contained in a proportion of 0.5 to 1.5 equivalents,
(C) based on 100 parts by weight of the cresol novolak resin (A) and the epoxy resin (B).
0.01 to 10 parts by weight of the amine-based curing accelerator;
A composition characterized in that the solvent D) is contained in a proportion of 20 to 100 parts by weight.

本発明のソルダーレジストインキ組成物に含有せしめる
(A)クレゾールノボラック樹脂は、0−クレゾールノ
ボラック樹脂及び0−クレゾール/p−レゾール混合モ
ル比が50150より大きいO−クレゾール/pクレゾ
ールランダム共重合ノボラック樹脂から選ばれた、メチ
ルエチルケトンを溶剤とする蒸気圧法で測定した数平均
分子量が1500以上の、溶剤可溶性に優れた線状高分
子量クレゾールノボラック樹脂である。かかる本発明で
使用する(A)ノボラック樹脂は、分子量が著し   
i。
The cresol novolak resin (A) contained in the solder resist ink composition of the present invention is an O-cresol novolak resin and an O-cresol/p-cresol random copolymerized novolak resin having a mixed molar ratio of O-cresol/p-resol of greater than 50,150. A linear high molecular weight cresol novolac resin with excellent solvent solubility and a number average molecular weight of 1500 or more as measured by vapor pressure method using methyl ethyl ketone as a solvent. The novolak resin (A) used in the present invention has a remarkable molecular weight.
i.

く大きいにかかわらず、通常のワニス製造等に用いられ
るような各種の溶剤、殊に本発明で使用する(D)の溶
剤に対する溶解性に著しく優れており、しかも各種のエ
ポキシ樹脂との相溶性にも優れている。そのために、本
発明のソルダーレジストインキ組成物は均一で透明なワ
ニス状のものであり、これを塗布、乾燥して得られる皮
膜は、硬化させると高いガラス転移点と高い熱安定性を
有し、電気絶縁性及び各種の基板との密着性に優れた均
一な硬化皮膜となる。したがって、本発明のソルダーレ
ジストインキ組成物は、プリント配線基板、4!に耐熱
性に優れたプリント配線基板の製造用に適するものであ
る。
Despite its large size, it has excellent solubility in various solvents used in ordinary varnish manufacturing, especially the solvent (D) used in the present invention, and is compatible with various epoxy resins. It is also excellent. To this end, the solder resist ink composition of the present invention is uniform and transparent varnish-like, and the film obtained by applying and drying it has a high glass transition point and high thermal stability when cured. , resulting in a uniform cured film with excellent electrical insulation and adhesion to various substrates. Therefore, the solder resist ink composition of the present invention can be applied to printed wiring boards, 4! It is suitable for manufacturing printed wiring boards with excellent heat resistance.

本発明のソルダーレジストインキ組成物を調製するのに
用いられるかかる(A)クレゾールノボラック樹脂は、
たとえばO−クレゾール、又は〇−クレゾール/p−ク
レゾール混合モル比が50150よシ大きい0−クレゾ
ールとp−クレゾールの混合クレゾールを、ホルムアル
デヒド、又ハパラホルムアルデヒドやトリオキサン等の
加熱によシホルムアルデヒドを容易に発生するホルムア
ルデヒドの化合物と共に、アルキルアルコールや有機カ
ルボン酸等の極性溶剤中で酸性触媒を用いて重合させる
と、とにより容易に製造することができる。
The cresol novolac resin (A) used to prepare the solder resist ink composition of the present invention is
For example, O-cresol, or a mixed cresol of O-cresol and p-cresol with a molar ratio of 0-cresol/p-cresol greater than 50150, can be easily converted into formaldehyde by heating with formaldehyde, haparaformaldehyde, trioxane, etc. It can be easily produced by polymerizing it together with the formaldehyde compound generated in a polar solvent such as an alkyl alcohol or an organic carboxylic acid using an acidic catalyst.

そのノボラック樹脂の製造に用いられるクレゾールは、
p−クレゾール分が多くなると生成ノボラック樹脂の軟
化点及び耐熱性が向上するが、溶剤に対する溶解性が低
下してくるので、0−クレゾールが単独使用されるか、
又は0−クレゾール/p−クレゾール混合モル比が50
150よシ大きい、好ましくは60/40よシ大きい、
よQ好ましくは90/10より大きいO−クレゾールと
p−クレゾールの混合クレゾールが使用される。
The cresol used to manufacture the novolak resin is
When the p-cresol content increases, the softening point and heat resistance of the produced novolac resin improve, but the solubility in solvents decreases, so 0-cresol is used alone or
or 0-cresol/p-cresol mixing molar ratio is 50
Greater than 150, preferably greater than 60/40,
Preferably, a mixed cresol of O-cresol and p-cresol of greater than 90/10 is used.

そのノボラック樹脂の製造用アルデヒドとしては、ホル
ムアルデヒド、又はパラホルムアルデヒドやトリオキサ
ン等の加熱により容易にホルムアルデヒドを発生するホ
ルムアルデヒドの化合物が使用される。トリオキサン及
びパラホルムアルデヒドは、反応系の水分含有量を増大
させるおそれがないので特に好ましい。これらのアルデ
ヒドは、クレゾール1モルに対してホルムアルデヒドと
して0.7〜1.5モル、好ましくは0.9〜1.3モ
ルの割合で使用される。アルデヒド量が少なすぎると低
分子量のノボラック樹脂しか得られなくなるし、多すぎ
ると生成樹脂がゲル化しやすくなるので、いずれも好ま
しくない。
As the aldehyde for producing the novolac resin, formaldehyde or a formaldehyde compound that easily generates formaldehyde upon heating, such as paraformaldehyde or trioxane, is used. Trioxane and paraformaldehyde are particularly preferred since they have no risk of increasing the water content of the reaction system. These aldehydes are used in a ratio of 0.7 to 1.5 mol, preferably 0.9 to 1.3 mol, of formaldehyde per mol of cresol. If the amount of aldehyde is too small, only a low molecular weight novolak resin will be obtained, and if it is too large, the resulting resin will tend to gel, so both are unfavorable.

アルコール、炭素数3〜12のアルキルアルコールのグ
リコールエーテル類、及び炭素数1〜6の有機カルボン
酸類等の極性溶剤が使用される。そのアルコール類及び
グリコールエーテル類としては、高沸点でかつノボラッ
ク樹脂の溶解性に優れたものが%に好ましく、たとえば
プロパツール、ブタノール、アミルアル;−ル、ヘキサ
ノール、ベンジルアルコール、メトキシエタノール、エ
トキシエタノール、ブトキシェタノール等が好ましい。
Polar solvents such as alcohol, glycol ethers of alkyl alcohols having 3 to 12 carbon atoms, and organic carboxylic acids having 1 to 6 carbon atoms are used. As the alcohols and glycol ethers, those having a high boiling point and excellent solubility of the novolac resin are preferable, such as propatool, butanol, amyl alcohol, hexanol, benzyl alcohol, methoxyethanol, ethoxyethanol, Butoxethanol and the like are preferred.

また、有機カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸及び酪酸等が好ましい。反応溶剤の使用量は、原料
クレゾール100重責部に対して150〜300重量部
である。
Further, as the organic carboxylic acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, etc. are preferable. The amount of the reaction solvent used is 150 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the raw material cresol.

そのノボラック樹脂の製造反応用触媒としては、酸触媒
、たとえば塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、トルエンスルホ
ン酸、シゆつ酸、メタンスルホン酸及び過塩素酸等のプ
ロトン酸が使用される。しかし、特開昭57−113号
及び特開昭56−92908号公報に好ましい触媒とし
て記載されている三ふつ化はう素、三ふつ化はう素エー
テル錯体、三塩化アルミニウム、四塩化スズ、塩化亜鉛
等のルイス酸は不適当である。酸触媒の使用量は原料ク
レゾール100重量部に対して0.01〜20重量部、
好ましくは1〜15重量部である。
As the catalyst for the novolac resin production reaction, acid catalysts such as protonic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, toluenesulfonic acid, citric acid, methanesulfonic acid and perchloric acid are used. However, boron trifluoride, boron trifluoride ether complex, aluminum trichloride, tin tetrachloride, which are described as preferred catalysts in JP-A-57-113 and JP-A-56-92908, Lewis acids such as zinc chloride are unsuitable. The amount of acid catalyst used is 0.01 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of raw material cresol,
Preferably it is 1 to 15 parts by weight.

そのノボラック樹脂の製造方法の態様例について詳述す
ると、たとえば■原料クレゾール、アルデヒド、溶剤及
び触媒を反応容器内に仕込み、攪拌しなからゆつ〈シと
加熱し、反応温度に達せしめるか、■原料のクレゾール
、溶剤及び触媒を仕込み、昇温して反応温度に達せしめ
た後に、アルデヒド及び触媒を溶剤4CI屏した溶液を
添加するか、■原料クレゾール、アルデヒド及び溶剤を
反  。
To explain in detail an embodiment of the method for producing the novolak resin, for example, (1) the raw materials cresol, aldehyde, solvent, and catalyst are placed in a reaction vessel and heated while stirring to reach the reaction temperature; (1) Charge the raw material cresol, a solvent, and a catalyst, raise the temperature to reach the reaction temperature, and then add a solution of the aldehyde and catalyst in 4 ml of solvent, or (2) separate the raw material cresol, aldehyde, and solvent.

!:1 底容器内に仕込み、攪拌しながら反応温度近くまで加熱
し、触媒又は触媒溶液を滴下する等の方法が用いられる
! :1 A method is used, such as charging the mixture into a bottom container, heating it to near the reaction temperature while stirring, and dropping the catalyst or catalyst solution.

O−クレゾール/p−クレゾールのランダム共重合樹脂
を製造する場合には、予めその両クレゾールをよく混合
して訃〈必要がある。
When producing a random copolymer resin of O-cresol/p-cresol, it is necessary to thoroughly mix both cresols in advance.

反応温度は95℃以上、好ましくは105〜150℃で
ある。低温では反応の進行がおそいし、高温ではゲル分
が発生しやすくなる。
The reaction temperature is 95°C or higher, preferably 105-150°C. At low temperatures, the reaction progresses slowly, and at high temperatures, gel components tend to occur.

反応系内の水分が多いと、ホルムアルデヒドが副反応で
消費され、重合に使われる量が減シ、分子量が増加しな
くなる。また、高分子量ノボラック樹脂は、水分含有量
が多いと溶剤に不溶となシ、析出して不均一系反応とな
るので、高分子量化し難くなる。そのために、反応系の
水分含有量を15重量−以下、好ましくは10重量−以
下にして反応を行なわせる。その場合に1水と共沸して
分離できる、九とえばn−ブタノールのような溶剤を用
いて還流しながら反応を朽なわせ、反応によシ生成する
水を共沸混合物として除くのが、水分除去に極めて有効
である。
If there is a lot of water in the reaction system, formaldehyde will be consumed in side reactions, the amount used for polymerization will decrease, and the molecular weight will not increase. Furthermore, if a high molecular weight novolac resin has a high water content, it will not be soluble in a solvent and will precipitate, resulting in a heterogeneous reaction, making it difficult to increase the molecular weight. For this purpose, the reaction is carried out with the water content of the reaction system being 15% by weight or less, preferably 10% by weight or less. In this case, it is recommended to let the reaction decay under reflux using a solvent such as n-butanol, which can be separated azeotropically from water, and remove the water produced by the reaction as an azeotrope. , is extremely effective in removing moisture.

反応終了後のクレゾールノボラック樹脂の分離扛、溶剤
として水に可溶な溶剤、九とえはメトキシエタノール、
エトキシエタノール、酢酸又はギ酸等を用いた場合には
、10〜20倍量の水中に投入し、水に不溶な樹脂とし
て沈でんさせて回収する。また、溶剤として水に不溶な
溶剤を用いた場合には、触媒を水洗や中和によシ除いた
のちに1溶剤を留去し、樹脂を溶融樹脂として抜き出し
回収する。
Separation of cresol novolak resin after completion of reaction, water soluble solvent as solvent, methoxyethanol,
When ethoxyethanol, acetic acid, formic acid, etc. are used, they are poured into 10 to 20 times the amount of water and recovered as a water-insoluble resin by precipitation. In addition, when a water-insoluble solvent is used as the solvent, after the catalyst is removed by washing with water or neutralization, one solvent is distilled off, and the resin is extracted and recovered as a molten resin.

かくして得られるO−クレゾールノボラック樹脂は、酢
酸、プロピオン駿等のカルボン酸類;メタノール、エタ
ノール、ブタノール等のアルキルアルコール類;アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ミ
クロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル類;テトラヒドロフランやジオキサン等の
エーテル類;メトキシエタノールやブトキシェタノール
等のグリ;−ル類に易溶である。そして、このように各
種の溶剤に易溶であシ、かつ不溶なゲル分が全く認めら
れないことからして、この樹脂は線状の樹脂であること
がわかる。
The O-cresol novolac resin obtained in this way can be used in combination with carboxylic acids such as acetic acid and propionate; alkyl alcohols such as methanol, ethanol, and butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and microhexanone; ethyl acetate and butyl acetate. It is easily soluble in esters such as; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; and glycols such as methoxyethanol and butoxyethanol. Since the resin is readily soluble in various solvents and no insoluble gel content is observed, it can be seen that this resin is a linear resin.

また、上記のようにしてO−クレゾールとp−クレゾー
ル混合物から得られたクレゾールノボラック樹脂は、ラ
ンダム共重合物であシ、テトラヒドロフランやジオキサ
ン等のエーテル類;ジメチルアセトアミドやジメチルホ
ルムアミドに可溶であシ、かつ不溶分が全く認められな
いことからして、この樹脂も線状の樹脂であることがわ
かる。
In addition, the cresol novolac resin obtained from the O-cresol and p-cresol mixture as described above is a random copolymer and is soluble in ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; dimethylacetamide and dimethylformamide. The fact that no insoluble matter was observed indicates that this resin is also a linear resin.

そして、この共重合樹脂の場合には、溶剤への溶解性は
0−クレゾールとp−クレゾールのモル比、及び分子量
によシ変化する。p−クレゾールのモル比が高いほど、
また分子量が高いほど難容性になる。たとえばO−クレ
ゾール/p−クレゾールのモル比が50150で、軟化
点が145℃以上の樹脂は、アセトンやメチルエチルケ
トン等のケトン類;メトキシエタノールやエトキシエタ
ノール等のグリコールエーテル類d酢sエチル等ノエス
テル類:エピクロルヒドリンには可溶であるが、メタノ
ールやエタノール等のアルコール類には難溶となる。こ
のような難溶性の著しい共重合樹脂鉱本発明のクレゾー
ルノボラック樹脂として不適当でアルが、0−クレゾー
ル/p−クレゾールモル比が5015081度のもので
あっても、分子量が比較的に小さくて、軟化点が145
℃よシも低いものは、メタノール等に可溶性になるので
、本発明のクレゾールノボラック樹脂として使用が可能
である。
In the case of this copolymer resin, the solubility in the solvent changes depending on the molar ratio of 0-cresol and p-cresol and the molecular weight. The higher the molar ratio of p-cresol,
Moreover, the higher the molecular weight, the more difficult it is to tolerate. For example, resins with a molar ratio of O-cresol/p-cresol of 50,150 and a softening point of 145°C or higher include ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; glycol ethers such as methoxyethanol and ethoxyethanol; d vinegar; and esters such as ethyl. : Soluble in epichlorohydrin, but poorly soluble in alcohols such as methanol and ethanol. Such extremely poorly soluble copolymer resin minerals are unsuitable for the cresol novolac resin of the present invention, and even if the molar ratio of 0-cresol/p-cresol is 5015081 degrees, the molecular weight is relatively small. , the softening point is 145
If the temperature is lower than the temperature, it becomes soluble in methanol and the like, so it can be used as the cresol novolak resin of the present invention.

以上のようkして製造された0−クレゾールノボラック
樹脂、又は0−クレゾール/p−クレゾールモル比が5
0150よシ大きい0−クレゾール/p−クレゾールラ
ンダム共重合樹脂は、通常、メチルエチルケトンを溶剤
とする蒸気王法で測定した数平均分子量が1500〜5
000であシ、テトラヒドロフランを溶剤とするゲルパ
ーミュエージョンクロマトグラフで測定した重量平均分
子量と前記の数平均分子量の比(Q)が1.5〜12で
あシ、かつメタノール及びアセトンに可溶であるので、
かかるクレゾールノボラック樹脂は、いずれも本発明の
(A)クレゾールノボラック樹脂として好適に使用でき
るものである。
The 0-cresol novolac resin produced as described above or the 0-cresol/p-cresol molar ratio is 5.
O-cresol/p-cresol random copolymer resins larger than 0150 usually have a number average molecular weight of 1500 to 5 as measured by the steam method using methyl ethyl ketone as a solvent.
000, the ratio (Q) of the weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent and the above number average molecular weight is 1.5 to 12, and is compatible with methanol and acetone. Since it is molten,
Any of such cresol novolak resins can be suitably used as the (A) cresol novolac resin of the present invention.

?!わ5、よう。□工、6ゎえ7、−tthbpv  
nゾールノボラック樹脂を用いて、本発明のソルダーレ
ジストインキ組成物を調製し、その組成物よシ得られた
樹脂硬化物の物性を調べたところ、優れた横均−性及び
高い耐熱性を示した。特に、数平均分子量が2100以
上で、かつ顕微鏡で樹脂粉末が流動し透明となる温度を
測定する軟化点測定法で145℃以上の軟化点を示すク
レゾールノボラック樹脂を用いた場合には耐熱性が著し
く優れていた。そして、O−クレゾール/p−クレゾー
ルランダム共重合樹脂の場合には、p−クレゾール分の
割合が多くなるにしたがって可溶性が低下してくるので
、O−クレゾール/p−クレゾール共重合モル比を50
150よシ大きくする必要があシ、好ましくは同モル比
を60750よシ大きく、さらに好ましくは90/10
よシ大きくするのが望ましいことがわかった。
? ! Wow 5, okay. □ 工、6ゎえ7、-tthbpv
A solder resist ink composition of the present invention was prepared using an n-sol novolac resin, and the physical properties of the cured resin obtained from the composition were examined, and the results showed that it had excellent lateral uniformity and high heat resistance. Ta. In particular, when using a cresol novolac resin that has a number average molecular weight of 2100 or more and a softening point of 145°C or more as determined by the softening point measurement method, which measures the temperature at which the resin powder becomes fluid and transparent under a microscope, heat resistance may be poor. It was significantly better. In the case of O-cresol/p-cresol random copolymer resin, the solubility decreases as the p-cresol content increases, so the O-cresol/p-cresol copolymer molar ratio is set to 50.
It is necessary to make the same molar ratio larger than 150, preferably larger than 60750, more preferably 90/10.
It turns out that it is desirable to make it larger.

なお、p−クレゾールを単独使用し、エトキシエタノー
ル中で硫酸触媒を用いてホルムアルデヒドと重合させて
も、軟化点が300℃以上の線状高分子量のp−クレゾ
ールノボラック樹脂を得ることができる。しかし、この
樹脂は溶剤への溶解性が悪く、テトラヒドロ7ラン、ジ
オキサン、ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトア
ミドを除く、前述の各種の溶剤に難溶であった。また、
この樹脂はエポキシ樹脂との相溶性が悪く、両樹脂を1
50℃以上の温度で加熱混合しても均一に相溶しなかつ
友。
Note that even if p-cresol is used alone and polymerized with formaldehyde using a sulfuric acid catalyst in ethoxyethanol, a linear high molecular weight p-cresol novolak resin with a softening point of 300° C. or higher can be obtained. However, this resin had poor solubility in solvents, and was hardly soluble in the various solvents mentioned above except for tetrahydro-7-ran, dioxane, dimethylformamide, and dimethylacetamide. Also,
This resin has poor compatibility with epoxy resin, and both resins are
Even if heated and mixed at a temperature of 50°C or higher, they do not dissolve uniformly.

そして、この高分子量のp−クレゾールノボラック樹脂
を、本発明で用いる(D)の溶剤であるグリコールエー
テル類、ジグリコールエーテル類又はそれらのエステル
類に溶解させようとしたが、溶解性が悪く均一に溶解し
なかった。たとえば、その高分子量のp−クレゾールノ
ボラック樹脂を再沈法で微粉化した微粉末を用いて上記
の溶剤中に溶解させようとしたが、樹脂微粉末が不溶性
である丸めに溶剤中に樹脂が懸濁したインキしか得られ
ず、その硬化物は本物−で、多くの未硬化部分を含み、
このインキから得られたソルダーレジストは耐水性が悪
く、耐久性に著しく劣った。
An attempt was made to dissolve this high molecular weight p-cresol novolak resin in glycol ethers, diglycol ethers, or their esters, which are the solvents (D) used in the present invention, but the solubility was poor and the dissolution was uniform. did not dissolve in the For example, an attempt was made to dissolve the high molecular weight p-cresol novolak resin in the above solvent using a fine powder obtained by re-precipitation, but the resin was insoluble in the solvent. Only suspended ink is obtained, and the cured product is authentic and contains many uncured parts.
The solder resist obtained from this ink had poor water resistance and was significantly inferior in durability.

次くい本発明のソルダーレジストインキ組成物は、以上
詳述した(A)線状高分子量クレゾールノボラック樹脂
とともに、必須成分としてCB)分子中IC2個以上の
エポキシ基を有するエポキシ樹脂が含有されているが、
その(B)エポキシ樹脂としては種々−のものが使用で
きる。たとえば、ビスフェノールA1ビスフエノールF
、 ビスフェノール3、フェノールノボラック、O−ク
レゾールノボラック、1,1,2.2−テトラキス(4
−ヒドロキシフェニル)エタンなどのポリフェノール類
とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂;カ
テコール、レゾルシン、ヒドロキノンなどの多価フェノ
ールとエビハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂
;エチレングリコール、ブタンジオール、ペンタエリス
リトール、ポリエチレングリコール等の多価アルコール
のグリシジルエーテル盟エポキシ樹脂;シンクロペンタ
ジェンジオキシド、3.4−エポキシシクロヘキシルメ
チル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の脂環式エポキ
シ樹脂ニアタル駿、ヘキサヒドロフタル酸等のポリカル
ボン酸のポリグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジア
ミノジフェニルメタンのグリシジル化物等のポリグリシ
ジルアミン;アミノフェノールのグリシジル化物などの
エポキシ樹脂があげられる。さらに1そのエポキシ樹脂
として、ハロゲン化芳香族核を含む種々の難燃性エポキ
シ樹脂を使用することができる。かかる/10ゲン化芳
香族を含む難燃性エポキシ樹脂としては、たとえばテト
ラブロモビスフェノール人のグリシジルエーテル、ブロ
ム化フェノールノボラック樹脂のグリシジルエーテル等
があげられる。かかる難燃性エポキシ樹脂を使用すれば
、ンルダーレジストインキよシの硬化皮膜を容易に難燃
性にすることができる。
Next, the solder resist ink composition of the present invention contains (A) the linear high molecular weight cresol novolac resin detailed above as well as CB) an epoxy resin having two or more IC epoxy groups in the molecule as an essential component. but,
Various kinds of epoxy resins can be used as the (B) epoxy resin. For example, bisphenol A1 bisphenol F
, bisphenol 3, phenol novolak, O-cresol novolak, 1,1,2,2-tetrakis(4
- Epoxy resins manufactured from polyphenols such as hydroxyphenyl)ethane and epihalohydrin; Epoxy resins manufactured from polyhydric phenols such as catechol, resorcinol, and hydroquinone and epihalohydrin; ethylene glycol, butanediol, pentaerythritol, polyethylene glycol Epoxy resins based on glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as; alicyclic epoxy resins such as synchropentadiene dioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide; Examples include polyglycidyl ester type epoxy resins of polycarboxylic acids such as hydrophthalic acid, polyglycidyl amines such as glycidylated products of diaminodiphenylmethane, and epoxy resins such as glycidylated products of aminophenol. Furthermore, as the epoxy resin, various flame-retardant epoxy resins containing halogenated aromatic nuclei can be used. Examples of flame-retardant epoxy resins containing such /10-genated aromatics include glycidyl ethers of tetrabromobisphenols and glycidyl ethers of brominated phenol novolac resins. If such a flame-retardant epoxy resin is used, the cured film of the exposed resist ink can be easily rendered flame-retardant.

本発明のソルダーレジストインキ組成物における(C)
アミン系硬化促進剤としては、たとえばベンジルジメチ
ルアミン、トリスジメチルアミノメチルフェノール等の
三級アミン:ピペリジン等の二級アミン;イミダゾ−類
、イミダゾール類と   ・BP、やホルボン酸との塩
類、たとえばBF、・ピペリジン、BP、・2−メチル
イミダゾール、2−メチルイミダゾールアセテート等が
めげられる。これらのアミン系硬化促進剤の使用量は、
(A)線状高分子量クレゾールノボラック樹脂及び(B
)エポキシ樹脂の合計量100重量部に対して0.01
〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部である。
(C) in the solder resist ink composition of the present invention
Examples of amine curing accelerators include tertiary amines such as benzyldimethylamine and trisdimethylaminomethylphenol; secondary amines such as piperidine; salts of imidazoles, imidazoles and BP, and phorboxic acid, such as BF. , ·piperidine, BP, ·2-methylimidazole, 2-methylimidazole acetate, etc. The usage amount of these amine curing accelerators is as follows:
(A) Linear high molecular weight cresol novolac resin and (B
) 0.01 per 100 parts by weight of the total amount of epoxy resin
~10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight.

本発明のソルダーレジストインキ組成物における(D)
溶剤としては、上記した一般式のいずれかで表わされる
少なくとも1種の化合物からなる溶剤であって、かつ前
記(A)のクレゾールノボラック樹脂及び前記(B)の
エポキシ樹脂を溶解する溶剤が用いられる。かかる特定
の溶剤を使用する理由は、これらの溶剤が沸点が高くて
、揮発しにくいので、ポットライフの長いことが要求さ
れるソルダーレジストインキ用に特に適するからであり
、かつこれらの溶剤がスクリーン印刷用のスクリーンを
おかすおそれがないためである。かかる溶剤の異体例と
しては、エチルセロソルブ、イソプロビルセロソルダ、
ブチルセロソルブ、アミルセロンルブ、ジエチレングリ
コールモノアセテート、エチルカルピトール、ブチルカ
ルピトール、セロソルブアセテート及びカルピトールア
セテート等があげられ、これらの溶剤は場合によっては
2種以上の混合溶剤として使用することができる。
(D) in the solder resist ink composition of the present invention
As the solvent, a solvent consisting of at least one compound represented by any of the above general formulas and which dissolves the cresol novolac resin (A) and the epoxy resin (B) is used. . The reason for using such specific solvents is that these solvents have high boiling points and are difficult to volatilize, making them particularly suitable for use in solder resist inks that require a long pot life. This is because there is no risk of damaging the printing screen. Variant examples of such solvents include ethyl cellosolve, isoprovil cellosolde,
Examples include butyl cellosolve, amylceronlube, diethylene glycol monoacetate, ethyl carpitol, butyl carpitol, cellosolve acetate, carpitol acetate, etc., and these solvents can be used as a mixed solvent of two or more types depending on the case.

本発明に訃けるかかる(D)溶剤の使用量は、(A)線
状高分子量クレゾールノボラック樹脂及び(B)エポキ
シ樹脂の合計量100重量部に対して20〜100重量
部、好ましくは25〜50重量部である。
The amount of solvent (D) used in the present invention is 20 to 100 parts by weight, preferably 25 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of (A) linear high molecular weight cresol novolak resin and (B) epoxy resin. It is 50 parts by weight.

溶剤量が少なすぎるとインキの流動性が悪く、配線基板
へのスクリーン印刷性が悪くなるし、逆に多すぎると印
刷後の塗膜に厚膜が得られず、硬化塗膜の耐熱性が悪く
なる。
If the amount of solvent is too small, the fluidity of the ink will be poor, resulting in poor screen printing properties on wiring boards.On the other hand, if it is too large, a thick film will not be obtained after printing, and the heat resistance of the cured film will be affected. Deteriorate.

本発明のソルダーレジストインキ組成物には、前記した
(A)〜(D)の各成分のほかに1必要に応じて種々の
添加剤を含有せしめることができる。
The solder resist ink composition of the present invention may contain various additives, if necessary, in addition to the components (A) to (D) described above.

たとえば、7タロシアニンブルーをはじめとする各種の
顔料;シリカ、タルク、アルミナ等の充填剤;コロイダ
ルシリカ等の褐変剤1シリコーン等のレヘリング剤;二
硫化アンチ七ノ等の難燃化剤等を含有せしめることがで
きる。これらの添加剤の含有量は、前記(A)〜(D)
の必須の各成分の合計量100重量部に対して、充填剤
が50重量部以下、充填剤以外の添加剤が合計量で10
重量部以下である。
For example, 7 various pigments including talocyanine blue; fillers such as silica, talc, and alumina; 1 browning agents such as colloidal silica; 1 leveling agents such as silicone; flame retardants such as anti-sulfide, etc. It can be made to contain. The content of these additives is as described in (A) to (D) above.
The total amount of fillers is 50 parts by weight or less, and the total amount of additives other than fillers is 10 parts by weight per 100 parts by weight of each essential component.
Parts by weight or less.

本発明のソルダーレジストインキ組成物の調製は種々の
方法で行々うことができる。たとえば、成分(A)〜(
D)と顔料等の添加剤とを同時に室温程度の温度で混合
して溶解させてもよいし、或いは成分(A)、(B)、
(D)及び顔料等の添加剤を混合し、成分(D)の沸点
以下で、かつ200℃を越えない温度で加熱して溶解さ
せ、冷却後に成分(C)を添加して混合してもよい。
The solder resist ink composition of the present invention can be prepared in various ways. For example, components (A) to (
D) and additives such as pigments may be simultaneously mixed and dissolved at a temperature of about room temperature, or components (A), (B),
(D) and additives such as pigments may be mixed, heated to dissolve at a temperature below the boiling point of component (D) and not exceeding 200°C, and after cooling, component (C) may be added and mixed. good.

本発明のソルダーレジストインキ組成物の配線基板への
塗布は、通常、スクリーン印刷機を使用して行なわれる
。そして、その塗布後に約130〜200℃で加熱して
溶剤を飛散させると同時に硬化させれば耐熱性に富む硬
化皮膜が形成されるのであり、その硬化皮膜は保護皮膜
として優れたものとなる。
The solder resist ink composition of the present invention is usually applied to a wiring board using a screen printer. Then, if the coating is heated at about 130 to 200° C. to scatter the solvent and cured at the same time, a cured film with high heat resistance is formed, and the cured film is excellent as a protective film.

(発明の効果) 本発明のソルダーインキ組成物は均一であって、その塗
布乾燥して硬化させて得られる硬化皮膜は耐熱性、電気
絶縁性、及び基板との密着性に優れている。したがって
、本発明のソルダーインキ組成物は、ポリイミド、ふっ
素樹脂、各種セラミック、アルミニウム等の各種の金属
をはじめとする種々の耐熱性基板を用いたプリント配線
基板用のソルダーレジストインキとして特に適する。
(Effects of the Invention) The solder ink composition of the present invention is uniform, and the cured film obtained by applying, drying, and curing the composition has excellent heat resistance, electrical insulation, and adhesion to a substrate. Therefore, the solder ink composition of the present invention is particularly suitable as a solder resist ink for printed wiring boards using various heat-resistant substrates including polyimide, fluororesin, various ceramics, and various metals such as aluminum.

(実施例等) 次に、ノボラック樹脂の製造例、実施例及び比較例をあ
げて、本発明をさらに詳述する。
(Examples, etc.) Next, the present invention will be further described in detail with reference to production examples, examples, and comparative examples of novolac resins.

ノボラック樹脂製造例1 0−クレゾール108g、パラホルムアルデヒド32g
及びエチルセロソルブ240gを硫酸10gと共に反応
器内に仕込み、拌攪しながら115℃で4時間反応を行
なわせた。
Novolac resin production example 1 0-cresol 108g, paraformaldehyde 32g
and 240 g of ethyl cellosolve were charged into a reactor together with 10 g of sulfuric acid, and the reaction was carried out at 115° C. for 4 hours with stirring.

反応終了後、17 l ONaHCOsと水311を加
えて中和したのち、高速攪拌中の水2j中に1その反応
液を投入し、沈でんした樹脂をp別後乾燥し、曾115
gのクレゾールノボラック樹脂を得た。
After the reaction was completed, 17 liters of ONaHCOs and 311 liters of water were added to neutralize, and the reaction solution was poured into 2 liters of water under high speed stirring, and the precipitated resin was separated and dried.
g of cresol novolak resin was obtained.

この樹脂は、メタノール、エタノール、ブタノール、オ
クタツール、エチルセルソルブ、エチルセルソルブ、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、メチルエチ
ルケトン、酢酸エチルに可溶であシ、ゲル分が全く認め
られなかった。しかし、ベンゼン、トラエン、キシレン
、クロロホルム、四塩化炭素には不溶であった。
This resin was soluble in methanol, ethanol, butanol, octatool, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, and ethyl acetate, and no gel content was observed. However, it was insoluble in benzene, tolaene, xylene, chloroform, and carbon tetrachloride.

この樹脂の分子量を蒸気圧法(メチルエチルケトン中、
40℃、以下同様)で測定したところ、数平均分子量は
2600であった。顕微鏡法によシ求めた樹脂の軟化点
は155℃であった。さらに1テトラヒドロフラン溶液
のゲルパーミュエーションクロマトグラフ分析(以下、
rGPcJという。)によるQ値は3.0であった。
The molecular weight of this resin was determined by vapor pressure method (in methyl ethyl ketone,
When measured at 40°C (hereinafter the same), the number average molecular weight was 2,600. The softening point of the resin determined by microscopy was 155°C. Furthermore, gel permeation chromatography analysis of 1-tetrahydrofuran solution (hereinafter referred to as
It is called rGPcJ. ) was 3.0.

ノボラック樹脂製造例2 パラホルムアルデヒドの使用量を35.2.9に変更し
、そのはかは実施例1と同様に反応させ、同様に処理し
てクレゾールノボラック樹脂を得た。
Novolak resin production example 2 The amount of paraformaldehyde used was changed to 35.2.9, and the amount was reacted in the same manner as in Example 1, and the same treatment was performed to obtain a cresol novolak resin.

この樹脂の蒸気圧法で測定した数平均分子量は3.40
0であシ、顕微鏡法で測定した軟化点は175℃であっ
た。また、GPCによるQ値は6.8であった。
The number average molecular weight of this resin measured by vapor pressure method is 3.40.
The softening point measured by microscopy was 175°C. Moreover, the Q value by GPC was 6.8.

ノボラック樹脂製造例3 0−クレゾール86.49 (0,8モル)及びp−ク
レゾール21.6g(0,2モル)をエチルセルソルブ
24G 、f K溶解し、パラホルムアルデヒド32g
及び硫酸10gを加え、105℃で攪拌下に6時間反応
させた。
Novolac resin production example 3 86.49 (0.8 mol) of 0-cresol and 21.6 g (0.2 mol) of p-cresol were dissolved in ethyl cellosolve 24G and fK, and 32 g of paraformaldehyde was added.
and 10 g of sulfuric acid were added, and the mixture was reacted at 105° C. for 6 hours with stirring.

次いで、17IのNaHCOsと水301を加えて中和
し九のち、攪拌中の2jの水中に反応生成物を投入し、
沈でんした樹脂をF別、乾燥して112 !iの樹脂を
得た。この樹脂の数平均分子量は2,600であシ、軟
化点は165℃であった。
Next, 17I of NaHCOs and 301 of water were added to neutralize, and after 9 hours, the reaction product was poured into 2J of water while stirring,
Separate the precipitated resin by F and dry it to 112! Resin i was obtained. This resin had a number average molecular weight of 2,600 and a softening point of 165°C.

この樹脂は、メタノール、エタノール、ブタノール、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸
エチルに可溶であったが、ベンゼン、トルエン、クロロ
ホルム、トリクロロエチレンには不溶であった。
This resin was soluble in methanol, ethanol, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, dioxane, and ethyl acetate, but insoluble in benzene, toluene, chloroform, and trichloroethylene.

ノボラック樹脂製造例4 0−クレゾール10811、パラホルムアルデヒド29
.31i、及びn−ブタノール2401 t P−トル
エンスルホン酸15gと共に反応器に仕込み、攪拌しな
がら110〜115℃で4時間反応させた。このとき、
生成する水を分離器を用いて系外に排出しながら反応さ
せた。
Novolac resin production example 4 0-cresol 10811, paraformaldehyde 29
.. 31i, and n-butanol 2401t were charged into a reactor together with 15 g of P-toluenesulfonic acid, and reacted at 110 to 115° C. for 4 hours with stirring. At this time,
The reaction was carried out while the produced water was discharged from the system using a separator.

反応終了後に、NaHCOsを179含む300Iの水
で中和して洗浄後、ブタノール相を分離し、加熱してブ
タノールを留去させ、190℃の温度の溶融樹脂を抜出
し、冷却して樹脂115gを得た。この樹脂の数平均分
子量は1900 、軟化点は130℃であつ九。
After the reaction was completed, the butanol phase was separated after neutralization and washing with 300 I water containing 179 NaHCOs, and the butanol was distilled off by heating. Obtained. This resin has a number average molecular weight of 1900 and a softening point of 130°C.

ノボラック樹脂製造例5 この例は、比較例で使用するノボラック樹脂の製造例で
ある。
Novolac Resin Production Example 5 This example is a production example of a novolac resin used in a comparative example.

p−クレゾール108g、バラホルムアルデヒド32J
i’、及びエチルセロソルブ8001を硫酸lOgと共
に反応器に仕込み、攪拌しながら115℃で6時間反応
させた。
p-cresol 108g, rose formaldehyde 32J
i' and ethyl cellosolve 8001 were charged into a reactor together with 10 g of sulfuric acid, and reacted at 115° C. for 6 hours with stirring.

反応終了後、1710NaHCOsと水30Iiを加え
て中和したのち、高速攪拌中の水4ノ中に反応生成液を
投入し、沈でんした樹脂をF別、乾燥し、117.9の
樹脂を得た。
After the reaction was completed, 1710 NaHCOs and 30 Ii of water were added to neutralize, and then the reaction product solution was poured into 4 bottles of water under high speed stirring, and the precipitated resin was separated from F and dried to obtain a resin of 117.9. .

この樹脂のジメチルアセトアミドによる蒸気圧法で求め
た数平均分子量は1800であり、軟化点は300℃以
上であった。この樹脂はテトラヒドロ7ラン、ジオキサ
ン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアずドには
溶解するが、アルコール類、ケトン類、芳香族炭化水素
には不溶であった。
The number average molecular weight of this resin determined by vapor pressure method using dimethylacetamide was 1800, and the softening point was 300°C or higher. This resin was soluble in tetrahydro-7rane, dioxane, dimethylacetamide, and dimethylformad, but insoluble in alcohols, ketones, and aromatic hydrocarbons.

を九、グリコールエーテル類には一部溶解するIL%不
溶分があり、その溶解液り白濁していた。さらに1この
樹脂はビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、プロふ化ビスフェノール型エポ
キシ樹脂、0−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の
いずれKも溶解しなかった。
(9) Glycol ethers had IL% insoluble matter which was partially dissolved, and the solution was cloudy. Furthermore, this resin did not dissolve K in any of the bisphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, profluorinated bisphenol type epoxy resin, and 0-cresol novolac type epoxy resin.

ノボラック樹脂製造例に の例も比較例で使用するノボラック樹脂の製造例である
。                   !1゜0−
クレゾール108II、37%ホルマリン739、及び
しゆう酸IIを反応器に仕込み、90℃で1時間反応さ
せ、さらに120℃に昇温して4時間反応させた。
The examples in Novolac resin production examples are also production examples of novolac resins used in comparative examples. ! 1゜0-
Cresol 108II, 37% formalin 739, and oxalic acid II were charged into a reactor and reacted at 90°C for 1 hour, and then heated to 120°C and reacted for 4 hours.

反応終了後、100.9の水を加え、生成樹脂を沈降さ
せ、水をデカンテーションによシ除いてから、100 
mmHgの減圧下で脱水し、徐kK温度を上げて140
℃になった時に、樹脂を溶融状態でMRシ出し、冷却固
化して粉砕した。樹脂115 IIが得られた。この樹
脂の製造例IKおけると同様の蒸気圧法によシ測定した
数平均分子量拡490であ)、顕微鏡法による軟化点は
60℃であった。
After the reaction was completed, 100.9% of water was added to settle the produced resin, the water was removed by decantation, and 100.9% of water was added.
Dehydrated under reduced pressure of mmHg and gradually increased to 140 kK temperature.
When the temperature reached 0.degree. C., the resin was MR-extruded in a molten state, solidified by cooling, and pulverized. Resin 115 II was obtained. This resin had a number average molecular weight of 490 measured by the same vapor pressure method as in Production Example IK), and a softening point of 60° C. by microscopy.

実施例1 フェノールノボラック樹脂のグリシジルエーテル(油化
シェルエポキシ社商品名 エビコー)154)6ell
、ブロム化フェノールノボラックのグリシジルエーテル
(日本化某社商品名 プレン)4011前記の製造例1
で得られた高分子量クレゾールノボラック樹脂5777
.2−フェニルイミダゾール1g、微粉シリカ(日本ア
エロジル社商品名アエロジル380)4.9、タルク2
0g、消泡剤(日本二二カー社商品名 L −722)
 0.5 i フタロシアニングリーン311及びn−
エテルカルピトール459を室温で混合してソルダーレ
ジストインキを調製した。この場合のノボラック樹脂の
OH基基当当量対するエポキシ樹脂のエポキシ基当量は
1であった。
Example 1 Glycidyl ether of phenol novolak resin (Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. trade name: Ebiko) 154) 6ell
, Glycidyl ether of brominated phenol novolac (Nippon Ka Co., Ltd. trade name Prene) 4011 Production Example 1
High molecular weight cresol novolak resin 5777 obtained in
.. 2-phenylimidazole 1g, fine powder silica (Japan Aerosil Co., Ltd. trade name Aerosil 380) 4.9, talc 2
0g, antifoaming agent (Nippon Niniker Co., Ltd. product name L-722)
0.5 i Phthalocyanine Green 311 and n-
Etelcalpitol 459 was mixed at room temperature to prepare a solder resist ink. In this case, the epoxy group equivalent of the epoxy resin was 1 relative to the OH group equivalent of the novolac resin.

このインキを鋼スルーホールポリイミド基板上にスクリ
ーン印刷機(180メツシエ、ポリエステル版、乳剤厚
20μ)を用いて、膜厚が約25μになるようxm布し
、200℃で60分間加熱して硬化させ、保護膜を有す
る鋼張プリント配線基板を得た。
This ink was spread on a steel through-hole polyimide substrate using a screen printing machine (180 mesh, polyester plate, emulsion thickness 20μ) to a film thickness of approximately 25μ, and was cured by heating at 200℃ for 60 minutes. A steel-clad printed wiring board having a protective film was obtained.

この銅張プリント配線基板の保護膜について、下記の試
験を行なった結果は第1表に示すとおシであった。
The following tests were conducted on the protective film of this copper-clad printed wiring board, and the results are shown in Table 1.

密着性・・・J I S  C−0202ゴバン目密着
テスト。供試体の塗膜KIXI−の大きさのゴバン目を
100個刻み、セロファンテープではく離゛した後の密
着性を評価した。
Adhesion...JIS C-0202 goblin adhesion test. The coating film KIXI- of the test piece was cut into 100 goblets of the size and peeled off with cellophane tape, and then the adhesion was evaluated.

耐半田性・・・J I 8  C−6481260℃の
錫60チの溶融半田に2分間及び4分間浸漬し、塗膜の
状態で判定した。その判定基準は次のとおシである。
Solder resistance: J I 8 C-64812 It was immersed in molten tin solder of 60 tin at 60° C. for 2 minutes and 4 minutes, and evaluated based on the state of the coating film. The criteria for this judgment are as follows.

○・・・塗膜の外観異状なし ×・・・塗膜のふくれ、はく離、溶融あシ熱劣化テスト
・・・J I S  C−6481250℃の乾燥器(
オープン)中で72時間エージング後の塗膜の状態及び
密着性を下記の判定基準によシ評価した。
○...No abnormality in the appearance of the paint film ×...Blistering, peeling, and melting heat deterioration test of the paint film...J I S C-6481250℃ dryer (
The condition and adhesion of the coating film after aging for 72 hours in an open oven) were evaluated according to the following criteria.

O・・・異状なし ×・・・塗膜のふくれ、はく離あシ 実施例2〜4 第1表に記載し九配合を用い、そのほかは実施例1にお
けると同様にしてソルダーレジストインキを製造し、同
様にして保護膜を有する鋼張プリント配線基板を製造し
、試験をし九結果は第1表に示すとおシであった。なか
、これらの6例におけるノボラック樹脂のOH基基当当
量対するエポキシ基当量は、実施例2が1、実施例3が
1、実施例4が1であった。
O: No abnormalities ×: Blistering and peeling of paint film Examples 2 to 4 Solder resist ink was produced in the same manner as in Example 1, using the nine formulations listed in Table 1. Similarly, a steel-clad printed wiring board with a protective film was manufactured and tested, and the results are shown in Table 1. Among these, the epoxy group equivalent to the OH group equivalent of the novolac resin in these six examples was 1 in Example 2, 1 in Example 3, and 1 in Example 4.

比較例1〜2 第1表に記載した配合を用い、そのほかは実施例IKk
ける方法に準じてソルダーレジストインキを製造し、同
様にして保護膜を有する鋼張プリント配線基板を製造し
、試験をした結果は第1表に示すとおシであった。
Comparative Examples 1 to 2 The formulations listed in Table 1 were used, and the rest was as in Example IKk.
A solder resist ink was produced in accordance with the method described above, and a steel-clad printed wiring board having a protective film was produced in the same manner and tested. The results are shown in Table 1.

實 第1表の注: $1.2.3・・・いずれも油化シェルエポキシ社商品
名 黄4・・・・・・・・・・・・・・・・・・日本化某社
商品名
Notes to Table 1: $1.2.3...All are product names of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.Yellow 4......Product name of a certain company, Nipponka Co., Ltd.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はソルダーレジスト印刷前のプリント配線 線基を示す部分断面図、第2図は第1図に示すよ八 うなプリント配線基板にソルダーレジスト印刷を施して
から部品のリード線を半田付けしたプリント配線基板を
示す部分断面図である。図中の各符号はそれぞれ下記の
ものを示す。 1・・・鋼箔 2・・・ポリイミド絶縁板 3・・・穿孔 4・・・ソルダーレジストー 5・・・半田 6・・・部品 7・・・リード線 特許出願人 三菱油化株式、会社 第1図 第2図
Figure 1 is a partial cross-sectional view showing a printed wiring board before solder resist printing, and Figure 2 shows a printed wiring board like the one shown in Figure 1 after solder resist printing was applied and the lead wires of the components were soldered. FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a printed wiring board. Each symbol in the figure indicates the following. 1... Steel foil 2... Polyimide insulating plate 3... Perforation 4... Solder resist 5... Solder 6... Part 7... Lead wire Patent applicant Mitsubishi Yuka Co., Ltd. Figure 1 Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)(A)o−クレゾールノボラック樹脂及びo−クレ
ゾール/p−クレゾール共重合モル比が50/50より
大きいo−クレゾール/pクレゾールランダム共重合ノ
ボラック樹脂から選ばれた、メチルエチルケトンを溶剤
とする蒸気圧法で測定した数平均分子量が1500以上
の、溶剤可溶性に優れた線状高分子量クレゾールノボラ
ック樹脂、(B)1分子中に2個以上のエポキシ基を有
するエポキシ樹脂、 (C)アミン系硬化促進剤、並びに (D)一般式 R−(OCH_2CH_2)−_nOH ▲数式、化学式、表等があります▼、及び ▲数式、化学式、表等があります▼ (各式中、R及びR′はいずれも炭素数1〜8のアルキ
ル基を示し、nは1〜4の整数を示す。)のいずれかで
表わされる少なくとも1種の化合物からなる溶剤であっ
て、かつ前記(A)のクレゾールノボラック樹脂及び前
記(B)のエポキシ樹脂を溶解する溶剤が含有され、前
記(A)のクレゾールノボラック樹脂と前記(B)のエ
ポキシ樹脂とは、前者のOH基1当量に対して後者のエ
ポキシ基が0.5〜1.5当量になる割合で含有され、
前記(A)のクレゾールノボラック樹脂と前記(B)の
エポキシ樹脂の合計量100重量部に対し前記(C)の
アミン系硬化促進剤が0.01〜10重量部、前記(D
)の溶剤が20〜100重量部の各割合で含有されてな
ることを特徴とするソルダーレジストインキ組成物。 2)(A)クレゾールノボラック樹脂が、炭素数3〜1
2のアルキルアルコール類、ベンジルアルコール、炭素
数3〜12のアルキルアルコールのグリコールエーテル
類、及び炭素数1〜6の有機カルボン酸よりなる群から
選ばれた極性溶剤中で、酸性触媒の存在下で、o−クレ
ゾール又はo−クレゾール/p−クレゾールモル比が5
0/50より大きいo−クレゾールとp−クレゾールと
の混合クレゾールをホルムアルデヒドと反応させて得ら
れたクレゾールノボラック樹脂である特許請求の範囲第
1項記載の組成物。 3)(A)クレゾールノボラック樹脂が軟化点145℃
以上のものである特許請求の範囲第1項又は第2項記載
の組成物。
[Scope of Claims] 1) (A) selected from o-cresol novolac resins and o-cresol/p-cresol random copolymerized novolac resins having an o-cresol/p-cresol copolymerization molar ratio greater than 50/50; A linear high molecular weight cresol novolak resin with excellent solvent solubility, having a number average molecular weight of 1500 or more as measured by vapor pressure method using methyl ethyl ketone as a solvent, (B) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, ( C) Amine curing accelerator, and (D) General formula R-(OCH_2CH_2)-_nOH ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, and ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In each formula, R and R' each represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 4. The cresol novolak resin of (A) and the epoxy resin of (B) contain a solvent that dissolves the cresol novolac resin of The epoxy group is contained in a proportion of 0.5 to 1.5 equivalents,
0.01 to 10 parts by weight of the amine curing accelerator (C) and 100 parts by weight of the cresol novolac resin (A) and the epoxy resin (B);
1. A solder resist ink composition comprising 20 to 100 parts by weight of each solvent. 2) (A) Cresol novolac resin has 3 to 1 carbon atoms
In a polar solvent selected from the group consisting of alkyl alcohols of 2, benzyl alcohol, glycol ethers of alkyl alcohols having 3 to 12 carbon atoms, and organic carboxylic acids having 1 to 6 carbon atoms, in the presence of an acidic catalyst. , o-cresol or o-cresol/p-cresol molar ratio is 5
2. The composition according to claim 1, which is a cresol novolac resin obtained by reacting a mixed cresol of o-cresol and p-cresol with a ratio of 0/50 or more to formaldehyde. 3) (A) Cresol novolac resin has a softening point of 145°C
The composition according to claim 1 or 2, which is the above composition.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6460670A (en) * 1987-08-31 1989-03-07 Sakata Inks Printing ink for metal
JP2008127551A (en) * 2006-11-24 2008-06-05 Nippon Foil Mfg Co Ltd Resist ink composition

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