JPS61169852U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は、本考案の一実施例を示す断面図、第
２図は第１図図示実施例を下方より見る正面図、
第３図は本考案の一使用例を示す二段式タンデム
マスターシリンダの断面図である。 １……弁装置、２……固定部材、３……弁座部
材、７……調整弁、８……ダイヤフラムスプリン
グ、９……弁座、１５，１６，１７，１８，１９
，２０，２１，２２……小孔、２３……開口面、
２４……ボス、２５……弾性吸入弁体、２６……
舌部、２７……湾曲部、２８……液溜室、２９…
…細孔、３０……支持穴、３６……二段式ダンデ
ムマスターシリンダ、３８……段部、３９……大
径シリンダ、４０……小径シリンダ、４３……主
ピストン、４４……大径部、４５……小径部、４
６……低液圧室、４７……遊動ピストン、４８…
…第１高液圧室、５４……第２高液圧室。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 二段式マスターシリンダの低液圧室に発生され
   る液圧が所定の値になると、該液圧をリザーバに
   開放する調整弁と、リザーバより低液圧室の方向
   への液体の流通を許容する吸入弁と、リザーバと
   低液圧室とを連通する最小限の通路とを備えた弁
   装置において、リザーバに連通する小孔と、該小
   孔の低液圧室側開口部を、該低液圧室側開口部を
   含む開口面との間に圧縮可能な液溜室を形成しつ
   つ覆うと共に、舌部が前記開口面に密接する弾性
   吸入弁体とから前記吸入弁を構成し、前記弾性吸
   入弁体の、前記小孔から外れた位置で、前記液溜
   室に連通する位置に設けた通路によつて、前記最
   小限の通路を構成したことを特徴とする弁装置。