JPS61165366A - Manufacture of lactam compound - Google Patents

Manufacture of lactam compound

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JPS61165366A
JPS61165366A JP61018305A JP1830586A JPS61165366A JP S61165366 A JPS61165366 A JP S61165366A JP 61018305 A JP61018305 A JP 61018305A JP 1830586 A JP1830586 A JP 1830586A JP S61165366 A JPS61165366 A JP S61165366A
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JP
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group
groups
acid
formula
substituted
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JP61018305A
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ラバト,バーンズ ウツドワード
ハンス,ビツケル
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Ciba Geigy AG
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D205/00Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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    • C07D205/095Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4 and with a nitrogen atom directly attached in position 3
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、エノール誘導体、特には一般式(この式で、
Rtは水素原子またはアミノ保護基R+であり、lは水
素原子またはアシル基ACであるか、またはlとR1!
とは両方で2価のアミノ保護基であるものとし、R2は
水酸基であるかまたは式中のカルボニル基、−C(=O
)−といっしょになって保護されたカルボキシル基を形
成している基R(であり、そしてR□は水素原子、低級
アルキル基または場合により置換されていることのある
α−フェニル−低級アルキル基である)で表わされる7
β−アミノ−3−セフェム−3−オール−4−カルボン
酸および式(IA)で表わされる3−セフェム−化合物
の1−オキシド、そして一般式 (この式で、RtとR1とR8とR5とは前記で与えた
意味を持つ) で表わされる相当する2−セフェム化合物、または塩形
成基をもつこれらの化合物の塩の製法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to enol derivatives, particularly those having the general formula
Rt is a hydrogen atom or an amino protecting group R+, l is a hydrogen atom or an acyl group AC, or l and R1!
are both divalent amino protecting groups, and R2 is a hydroxyl group or a carbonyl group in the formula, -C(=O
)- together with the group R to form a protected carboxyl group, and R□ is a hydrogen atom, a lower alkyl group or an optionally substituted α-phenyl-lower alkyl group 7 expressed as
β-Amino-3-cephem-3-ol-4-carboxylic acid and the 1-oxide of the 3-cephem compound represented by formula (IA), and the general formula (in which Rt, R1, R8, and R5 has the meaning given above) or the preparation of salts of these compounds having a salt-forming group.

本発明のエノール誘導体は、3−セフェム−3−オール
または2−セフェム−3−オール化合物のエーテルであ
る。
The enol derivatives of the present invention are ethers of 3-cephem-3-ol or 2-cephem-3-ol compounds.

2.3−位置に2重粘合をもつ式(IB)で表わされる
2−セフェム化合物において、弐C(=O) −Rtで
表わされる場合により保護されていることのあるカルボ
キシル基は、α配置であるのが好ましい。
In the 2-cephem compound represented by formula (IB) having double viscosity at the 2.3-position, the optionally protected carboxyl group represented by 2C(=O)-Rt is α Preferably, it is an arrangement.

アミノ保護基R↑は水素原子で置換できる基、主にアシ
ル基Acsさらにトリアリールメチル基殊にトリチル基
、ならびに有機シリル基または有機スタニル基である。
The amino protecting group R↑ is a group which can be substituted with a hydrogen atom, mainly an acyl group Acs, but also a triarylmethyl group, especially a trityl group, and an organosilyl or organostannyl group.

基R9のアシル基を含めて基Acは主に炭素原子を好ま
しくは18個までもっている有機カルボン酸のアシル基
、殊に置換されている場合のある脂肪族、脂環式、肪環
−脂肪族、芳香族、芳香脂肪族、複素環式または複素環
−脂肪族のカルボン酸(ぎ酸を含める)のアシル基なら
びに炭酸半誘導体のアシル基である。
The group Ac, including the acyl group of the group R9, is mainly an acyl group of organic carboxylic acids having preferably up to 18 carbon atoms, in particular optionally substituted aliphatic, cycloaliphatic, alicyclic-aliphatic acyl groups of group, aromatic, araliphatic, heterocyclic or heterocyclic-aliphatic carboxylic acids (including formic acid) and of carbonic acid semi-derivatives.

基R?とRvとが連結して形成している2価のアミノ保
護基は殊に炭素原子を好ましくは18個までもっている
有機ジカルボン酸の2価アシル基、主に脂肪族または芳
香族ジカルボン酸のジアシル基、さらにα−位置に置換
基例えば芳香族または複素環式基を好ましくはもってい
るα−アミノ酢酸(このアミノ酢酸のアミノ基は、置換
基例えばメチル基のような低級アルキル基2個をもつの
が好ましいメチレン基を介して前記の窒素原子と結合し
ている)のアシル基である。また、基1とlとはその両
方で炭素原子を好ましくは18個までもっている有機イ
リデン基例えば脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族または芳
香脂肪族イリデン基であることもできる。
Base R? The divalent amino-protecting group formed by the linkage of α-aminoacetic acid which preferably carries a substituent, e.g. an aromatic or heterocyclic group, in the α-position; is preferably an acyl group bonded to the nitrogen atom via a methylene group. The radicals 1 and l can also both be organic ylidene radicals having preferably up to 18 carbon atoms, such as aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic or araliphatic ylidene radicals.

式−C(=O)−R4で示される保護されたカルボキシ
ル基は主にエステル化されたカルボキシル基であるが、
無水物基、普通の混合無水物基または置換されている場
合のあるカルバモイル基またはヒドラジノカルボニル基
であることもできる。
The protected carboxyl group represented by the formula -C(=O)-R4 is mainly an esterified carboxyl group,
It can also be an anhydride group, a common mixed anhydride group or an optionally substituted carbamoyl or hydrazinocarbonyl group.

故に、基Rtは基−C(=O)−といっしょにエステル
化されたカルボキシル基を形成している炭素原子の数が
好ましくは18個までの有機基でエーテル化された水酸
基であることができる。このような有機基は例えば脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の
基、殊にこの種類の置換されている場合のある炭化水素
基ならびに複素環式または複素環−脂肪族基である。
Therefore, the group Rt can be a hydroxyl group etherified with an organic group whose number of carbon atoms, which together with the group -C(=O)- form the esterified carboxyl group, is preferably up to 18. can. Such organic radicals include, for example, aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic or araliphatic radicals, in particular optionally substituted hydrocarbon radicals of this type, as well as heterocyclic or heterocyclic radicals. It is a ring-aliphatic group.

また、MR8は有機シリルオキシ基または有機金属性基
でエーテル化された水酸基例えば相当する有機スタニル
オキシ基、殊に炭素原子を好ましくは18個までもって
いる置換されている場合のある炭化水素基例えば脂肪族
炭化水素基1〜3個によってそして場合によっては塩素
原子のようなハロゲン原子によって置換されているシリ
ルオキシ基またはスタニルオキシ基であることもできる
MR8 can also be an organosilyloxy group or a hydroxyl group etherified with an organometallic group, such as the corresponding organostannyloxy group, in particular an optionally substituted hydrocarbon group having preferably up to 18 carbon atoms, such as an aliphatic group. It can also be a silyloxy or stannyloxy group substituted by 1 to 3 hydrocarbon radicals and optionally by a halogen atom, such as a chlorine atom.

基−C(=O)−といっしょに無水物基主に混合無水物
基を形成している基R8は例えばハロゲン原子殊に塩素
原子、またはアシルオキシ基であって、アシル基は炭素
原子を好ましくは18個までもっている有機カルボン酸
例えば脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳
香脂肪族カルボン酸または炭酸半エステルのような炭酸
手誘導体の相当する基である。
The group R8 which together with the group -C(=O)- forms an anhydride group, mainly a mixed anhydride group, is, for example, a halogen atom, especially a chlorine atom, or an acyloxy group, the acyl group preferably being a carbon atom. is the corresponding group of an organic carboxylic acid having up to 18 atoms, such as an aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic or araliphatic carboxylic acid or a carbonate derivative such as a carbonic acid half ester.

基−C(=O)−といっしょにカルバモイル基を形成し
ている基R8は置換されている場合のあるアミノ基であ
る。この置換基は炭素原子を好ましくは18個までもっ
ている置換されている場合のある1価または2価の炭化
水素基、例えば炭素原子18個までをもっている置換さ
れている場合のある1価または2価の脂肪族、脂環式、
脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基、さ
らに炭素原子18個までをもつ相当する複素環式または
複素環−脂肪族基および(または)官能性基例えば官能
的に変えられていることのできる水酸基殊に遊離水酸基
、さらにエーテル化またはエステル化された水酸基(そ
のエーテル化またはエステル化している基は例えば前記
の意味をもちそして好ましくは炭素原子18個までをも
っている)またはアシル基主に炭素原子を好ましくは1
8個までもつ有機カルボン酸または炭酸手誘導体のアシ
ル基である。
The group R8 which together with the group -C(=O)- forms a carbamoyl group is an optionally substituted amino group. This substituent is an optionally substituted monovalent or divalent hydrocarbon radical having preferably up to 18 carbon atoms, such as an optionally substituted monovalent or divalent hydrocarbon radical having up to 18 carbon atoms. aliphatic, cycloaliphatic,
cycloaliphatic, aromatic or araliphatic hydrocarbon radicals, as well as corresponding heterocyclic or heterocyclic-aliphatic radicals having up to 18 carbon atoms and/or functional groups, e.g. hydroxyl groups, in particular free hydroxyl groups, also etherified or esterified hydroxyl groups (the etherified or esterified groups have, for example, the meanings given above and preferably have up to 18 carbon atoms) or acyl groups; Mainly carbon atoms, preferably 1
It is an acyl group of an organic carboxylic acid or carbonate derivative having up to 8 atoms.

式−C(=O)−R8で示される置換されたヒドラジノ
カルボニル基においては、その1方または両方の窒素原
子が置換されていることができる。
In the substituted hydrazinocarbonyl group represented by the formula -C(=O)-R8, one or both nitrogen atoms may be substituted.

置換基としては主に炭素原子を好ましくは18個までも
っている置換されていることのできる1価または2価の
炭化水素基、例えば炭素原子18個までをもっている置
換されていることのできる1価または2価の脂肪族、脂
環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素
基、さらに炭素原子18個までをもっている相当する複
素環式または複素環−脂肪族基および(または)官能性
基例えばアシル基主に炭素原子を好ましくは18個まで
もっている有機カルボン酸または炭酸手誘導体のアシル
基が挙げられる。
Substituents are mainly monovalent or divalent hydrocarbon radicals which can be substituted, preferably having up to 18 carbon atoms, such as monovalent, which can be substituted, having up to 18 carbon atoms. or divalent aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic or araliphatic hydrocarbon radicals, as well as corresponding heterocyclic or heterocycloaliphatic radicals having up to 18 carbon atoms and (or ) Functional groups, such as acyl groups, may be mentioned, mainly acyl groups of organic carboxylic acids or carbonate derivatives having preferably up to 18 carbon atoms.

本明細書に記載の一般用語は例えば次の意味をもってい
る。脂肪族基(相当する有機カルボン酸の脂肪族基を含
む)ならびに相当するイリデン基は置換されている場合
のある1価または2価の脂肪族炭化水素基、殊に炭素原
子を例えば7個までそして好ましくは4個までもってい
ることのできる低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基または低級アルキリデン基である。この
ような基は場合によっては官能性基によって、例えば遊
離のまたはエーテル化またはエステル化された水酸基ま
たはメルカプト基、例えば低級アルコキシ基、低級アル
ケニルオキシ基、低級アルキレンジオキシ基、置換され
ている場合のあるフェニルオキシ基またはフェニル低級
アルコキシ基、低級アルキルチオ基、置換されている場
合のあるフェニルチオ基またはフェニル低級アルキルチ
オ基、ヘテロサイクリルチオ基またはヘテロサイクリル
低級アルキルチオ基、置換されている場合のある低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカノイルオ
キシ基、またはハロゲン原子、さらにオキソ基、ニトロ
基、置換されている場合のあるアミノ基例えば低級アル
キルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキレ
ンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基またはアザ
低級アルキレンアミノ基ならびにアシルアミノ基例えば
低級アルカノイルアミノ基、低級アルコキシカルボニル
アミノ基、ハロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ基
、置換されている場合のあるフェニル低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基、置換されている場合のあるカルバモ
イルアミノ基、ウレイドカルボニルアミノ基またはグア
ジニノカルポニルアミノ基、さらにアルカリ金属塩のよ
うな塩の形で存在する場合のあるスルホアミノ基、アチ
ド基、低級アルカノイル基やベンゾイル基のようなアシ
ル基、官能的に変えられている場合のあるカルボキシル
基例えば塩の形にあるカルボキシル基、低級アルコキシ
カルボニル基のようなエステル化されたカルボキシル基
、N−低級アルキル−またはN、N−ジ低級アルキル−
カルバモイル基のような置換されている場合のあるカル
バモイル基、さらに、置換されている場合のあるウレイ
ドカルボニル基またはグアジニノカルポニル基、または
シアノ基、官能的に変えられている場合のあるスルホ基
例えばスルファモイル基または塩の形にあるスルホ基、
または0−モノ−またはo、o’−ジー置換されている
場合のあるホスホノ基(その置換基は例えば置換されて
いる場合のある低級アルキル基、フェニル基またはフェ
ニル低級アルキル基であって、〇−未置換または0−モ
ノ置換されたホスホノ基はアルカリ金属塩のような塩の
形であることもできる)によってモノ置換、ジ置換また
はポリ置換されていることができる。
The general terms described herein have, for example, the following meanings. Aliphatic radicals (including the corresponding aliphatic radicals of organic carboxylic acids) as well as the corresponding ylidene radicals are monovalent or divalent aliphatic hydrocarbon radicals which may be substituted, in particular up to 7 carbon atoms, for example. Preferably, it is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, or a lower alkylidene group which can have up to 4 groups. Such groups may optionally be substituted by functional groups, such as free or etherified or esterified hydroxyl or mercapto groups, such as lower alkoxy, lower alkenyloxy, lower alkylenedioxy groups. phenyloxy group or phenyl lower alkoxy group, lower alkylthio group, optionally substituted phenylthio group or phenyl lower alkylthio group, heterocyclylthio group or heterocyclyl lower alkylthio group, optionally substituted lower Alkoxycarbonyloxy group or lower alkanoyloxy group, or halogen atom, as well as oxo group, nitro group, optionally substituted amino group such as lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, lower alkylene amino group, oxa-lower alkylene Amino groups or aza lower alkylene amino groups and acylamino groups such as lower alkanoylamino groups, lower alkoxycarbonylamino groups, halogeno lower alkoxycarbonylamino groups, optionally substituted phenyl lower alkoxycarbonylamino groups, optionally substituted Certain carbamoylamino, ureidocarbonylamino or guazininocarponylamino groups, as well as sulfoamino groups which may be present in the form of salts such as alkali metal salts, acyl groups such as amide groups, lower alkanoyl groups and benzoyl groups. , carboxyl groups which may be functionally modified, e.g. carboxyl groups in the form of salts, esterified carboxyl groups such as lower alkoxycarbonyl groups, N-lower alkyl- or N,N-di-lower alkyl-
An optionally substituted carbamoyl group such as a carbamoyl group, an optionally substituted ureidocarbonyl or guazininocarbonyl group, or a cyano group, an optionally functionally modified sulfo group for example a sulfamoyl group or a sulfo group in salt form,
or a phosphono group which may be O-mono- or o,o'-di-substituted (the substituent being, for example, an optionally substituted lower alkyl group, phenyl group or phenyl lower alkyl group, -Unsubstituted or 0-monosubstituted phosphono groups can be mono-, di- or polysubstituted (which can also be in the form of salts, such as alkali metal salts).

2価脂肪族カルボン酸の脂肪族基を含めて2価の脂肪族
基は例えば低級アルキレン基または低級アルケニレン基
であって、これらは場合によっては前記脂肪族基のよう
にモノ置換、ジ置換またはポリ置換されていることがで
きそして(または)その鎖中に酸素、窒素またはいおう
原子のようなヘテロ原子が介在していることができる。
The divalent aliphatic group, including the aliphatic group of the divalent aliphatic carboxylic acid, is, for example, a lower alkylene group or a lower alkenylene group, which may be mono-substituted, di-substituted or substituted as the case may be. It can be polysubstituted and/or have heteroatoms such as oxygen, nitrogen or sulfur atoms interposed in the chain.

脂環式基または脂環−脂肪族基(相当する有機カルボン
酸における脂環式基または脂環−脂肪族基を含む)なら
びに相当する脂環式または脂環−脂肪族イリデン基は置
換されている場合のある単環式または2環式脂環式また
は脂環−脂肪族炭化水素基、例えば単環式、2環式また
は多環式のシクロアルキル基またはシクロアルケニル基
、さらにシクロアルキリデン基、またはシクロアルキル
−またはシクロアルケニル−低級アルキル基または一低
級アルケニル基、さらにシクロアルキル−低級アルキリ
デン基またはシクロアルケニル−低級アルキリデン基で
ある。これらの基においてシクロアルキルおよびシクロ
アルキリデンは例えば環炭素原子を12個まで、例えば
3〜8個、好ましくは3〜6個もっており、またシクロ
アルケニルは例えば環炭素原子を12個まで、例えば3
〜8個、例えば5〜8個、好ましくは5個または6個も
ちそして2重結合1個または2個をもっており、そして
脂環−脂肪族基の脂肪族部分は炭素原子を例えば7個ま
で、好ましくは4個までもっていることができる。これ
ら脂環式基または脂環−脂肪族基は所望ならば例えば置
換されている場合のある脂肪族炭化水素基によって、例
えば前に挙げた置換されている場合のある低級アルキル
基によってまたは例えば前記脂肪族炭化水素基のように
官能性基によってモノ置換、ジ置換またはポリ置換され
ていることができる。
Alicyclic or cycloaliphatic groups (including corresponding cycloaliphatic or cycloaliphatic groups in organic carboxylic acids) and corresponding cycloaliphatic or cycloaliphatic ylidene groups are substituted. monocyclic or bicyclic alicyclic or alicyclic-aliphatic hydrocarbon groups, such as monocyclic, bicyclic or polycyclic cycloalkyl or cycloalkenyl groups, as well as cycloalkylidene groups, or a cycloalkyl- or cycloalkenyl-lower alkyl group or a mono-lower alkenyl group, further a cycloalkyl-lower alkylidene group or a cycloalkenyl-lower alkylidene group. In these radicals, cycloalkyl and cycloalkylidene have e.g. up to 12 ring carbon atoms, e.g. 3 to 8, preferably 3 to 6, and cycloalkenyl has e.g. up to 12 ring carbon atoms, e.g.
up to 8, for example 5 to 8, preferably 5 or 6, and with 1 or 2 double bonds, and the aliphatic part of the cycloaliphatic group has up to 7 carbon atoms, for example Preferably, there may be up to four. These cycloaliphatic or cycloaliphatic groups may be substituted if desired, for example by aliphatic hydrocarbon radicals, e.g. by the optionally substituted lower alkyl groups mentioned above or by e.g. They can be mono-, di- or polysubstituted with functional groups such as aliphatic hydrocarbon groups.

芳香族基(相当するカルボン酸の芳香族基を含む)は置
換されている場合のある芳香族炭化水素基、例えば単環
式、2環式または多環式の芳香族炭化水素基、殊にフェ
ニル基ならびにビフェニリル基またはナフチル基であっ
て、これらは例えば前記の脂肪族および脂環式炭化水素
基のように場合によってはモノ置換、ジ置換またはポリ
置換されていることができる。
Aromatic groups (including the corresponding aromatic groups of carboxylic acids) are optionally substituted aromatic hydrocarbon groups, such as monocyclic, bicyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon groups, in particular Phenyl groups and biphenylyl or naphthyl groups, which can optionally be mono-, di- or polysubstituted, such as the aforementioned aliphatic and cycloaliphatic hydrocarbon groups.

芳香族カルボン酸の2価の芳香族基はとりわけ1.2−
アリーレン基特に1.2−フェニレン基であって、これ
らは例えば前記の脂肪族および脂環式炭化水素基のよう
に場合によってはモノ置換、ジ置換またはポリ置換され
ていることができる。
The divalent aromatic group of the aromatic carboxylic acid is especially 1.2-
Arylene radicals, especially 1,2-phenylene radicals, which can optionally be mono-, di- or polysubstituted, such as the aforementioned aliphatic and cycloaliphatic hydrocarbon radicals.

前記の芳香脂肪族基(相当するカルボン酸における芳香
脂肪族基を含む)およびまた芳香脂肪族イリデン基は例
えば置換されている場合のある芳香脂肪族炭化水素基、
例えば置換されている場合のある単環式、2環式または
多環式芳香族炭化水素基を3個までもっている置換され
ている場合のある脂肪族炭化水素基であって、とりわけ
フェニル−低級アルキル基またはフェニル−低級アルケ
ニル基、ならびにフェニル−低級アルキニル基およびま
たフェニル−低級アルキリデン基であり、そしてこのよ
うな基は例えばフェニル基1〜3個をもっておりそして
場合によっては例えば前記の脂肪族および脂環式基のよ
うにその芳香族および(または)脂肪族部分においてモ
ノ置換、ジ置換またはポリ置換されていることができる
The above-mentioned araliphatic groups (including araliphatic groups in the corresponding carboxylic acids) and also araliphatic ylidene groups are e.g. optionally substituted araliphatic hydrocarbon groups,
For example, optionally substituted aliphatic hydrocarbon radicals carrying up to three optionally substituted monocyclic, bicyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon radicals, especially phenyl-lower Alkyl or phenyl-lower alkenyl groups, as well as phenyl-lower alkynyl and also phenyl-lower alkylidene groups, and such groups have, for example, 1 to 3 phenyl groups and optionally contain, for example, the aliphatic and Like cycloaliphatic groups, they can be mono-, di- or polysubstituted in their aromatic and/or aliphatic parts.

複素環式基(複素環−脂肪族基におけるもの、および相
当するカルボン酸における複素環式基または複素環−脂
肪族基を含む)は芳香族性をもつ特に単環式ならびに2
環式または多環式のアザ環式、チア環式、オキサ環式、
チアザ環式、チアジアザ環式、オキサアザ環式、ジアザ
環式、トリアザ環式またはテトラアザ環式基およびさら
にこの種類の相当する部分的にまたは全体的に飽和され
た複素環式基であって、このような基は場合によっては
例えば前記の脂環式基のようにモノ置換、ジ置換または
ポリ置換されていることができる。
Heterocyclic groups (including those in heterocyclic-aliphatic groups and the corresponding heterocyclic or heterocyclic-aliphatic groups in carboxylic acids) are particularly monocyclic and dicyclic groups with aromatic character.
Cyclic or polycyclic azacyclic, thiacyclic, oxacyclic,
Thiazacyclic, thiadiazacyclic, oxaazacyclic, diazacyclic, triazacyclic or tetraazacyclic groups and also corresponding partially or totally saturated heterocyclic groups of this type, Such groups can optionally be mono-, di- or polysubstituted, such as the cycloaliphatic groups mentioned above.

複素環−脂肪族基における脂肪族部分は例えば相当する
脂環−脂肪族基または芳香脂肪族基に与えた意味をもつ
The aliphatic moiety in a heterocycloaliphatic radical has, for example, the meaning given to the corresponding cycloaliphatic or araliphatic radical.

炭酸手誘導体のアシル基は相当する半エステルのアシル
基(このエステル基の有機基は置換されている場合のあ
る脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族の炭化水素
基または複素環−脂肪族基である)、とりわけ炭酸の低
級アルキル半エステルのアシル基(これは例えばそのα
−またはβ−位置で置換されていることができる)およ
びその有機基において置換されている場合のある炭酸の
低級アルケニル、シクロアルキル、フェニルまたはフェ
ニル−低級アルキル半エステルのアシル基であるのが好
ましい。炭酸半エステルのアシル基は、さらに、その低
級アルキル部分が複素環式基例えば芳香族性の前記複素
環式基の1つをもっている炭酸の低級アルキル半エステ
ルの相当する基であって、その低級アルキル基および複
素環式基はいずれも場合によっては置換されていること
ができる。さらに、炭酸手誘導体のアシル基はハロゲン
化されている場合のあるN−低級アルキルカルハモイル
基のようなN−置換されている場合のあるカルバモイル
基であることもできる。
The acyl group of the carbonate derivative is the acyl group of the corresponding half ester (the organic group of this ester group is an optionally substituted aliphatic, cycloaliphatic, aromatic or araliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group). aliphatic groups), especially the acyl groups of lower alkyl half esters of carbonic acid (which are e.g.
- or β-position) and acyl groups of lower alkenyl, cycloalkyl, phenyl or phenyl-lower alkyl half esters of carbonic acid, which may be substituted in the organic group. . The acyl group of the carbonic acid half ester is further defined as the corresponding group of the lower alkyl half ester of carbonic acid, the lower alkyl part of which has a heterocyclic group, for example one of the aforementioned heterocyclic groups of aromatic character, Both alkyl groups and heterocyclic groups can be optionally substituted. Furthermore, the acyl group of the carbonate derivative can also be an optionally N-substituted carbamoyl group, such as an optionally halogenated N-lower alkylcarhamoyl group.

エーテル化された水酸基は主として置換されて。Etherified hydroxyl groups are mainly substituted.

いる場合のある低級アルコキシ基(その置換基は主とし
て遊離のまたは官能的に変換例えばエーテル化またはエ
ステル化された水酸基、殊に低級アルコキシ基またはハ
ロゲン原子である)、サラニ低級アルケニルオキシ基、
シクロアルキルオキシ基または置換されている場合のあ
るフェニルオキシ基、ならびにヘテロサイクリルオキシ
基またはヘテロサイクリル低級アルコキシ基、殊に置換
されている場合のあるフェニル低級アルコキシ基である
lower alkoxy groups, the substituents of which are mainly free or functionally converted eg etherified or esterified hydroxyl groups, especially lower alkoxy groups or halogen atoms;
cycloalkyloxy or optionally substituted phenyloxy groups, as well as heterocyclyloxy or heterocyclyl lower alkoxy groups, in particular optionally substituted phenyl lower alkoxy groups.

置換されている場合のあるアミノ基は例えばアミノ基、
低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキレンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基、
チア低級アルキレンアミノ基、アザ低級アルキレンアミ
ノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシアミノ基、
低級アルカノイルオキシアミノ基、低級アルコキシカル
ボニルアミノ基または低級アルカノイルアミノ基である
Examples of amino groups that may be substituted include amino groups,
lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, lower alkyleneamino group, oxa-lower alkyleneamino group,
thia lower alkylene amino group, aza lower alkylene amino group, hydroxyamino group, lower alkoxyamino group,
It is a lower alkanoyloxyamino group, a lower alkoxycarbonylamino group, or a lower alkanoylamino group.

置換されている場合のあるヒドラジノ基は例えばヒドラ
ジノ基、2−低級アルキルヒドラジノ基、2.2−ジ低
級アルキルヒドラジノ基、2−低級アルコキシカルボニ
ルヒドラジノ基または2−低級アルカノイルヒドラジノ
基である。
The hydrazino group which may be substituted is, for example, a hydrazino group, a 2-lower alkylhydrazino group, a 2,2-di-lower alkylhydrazino group, a 2-lower alkoxycarbonylhydrazino group or a 2-lower alkanoylhydrazino group. be.

低級アルキル基は例えばメチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基
、第2ブチル基、第3ブチル基、ならびにn−ペンチル
基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基
またはn−ヘプチル基であり、また低級アルケニル基は
例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル基、2−ま
たは3−メタリル基または3−ブテニル基であることが
でき、低級アルキニル基は例えばプロパルギル基または
2−ブチニル基であることができ、そして低級アルキリ
デン基は例えばイソプロピリデン基またはイソブチリデ
ン基であることができる。
Examples of lower alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tertiary-butyl, and n-pentyl, isopentyl, and n-hexyl groups. , isohexyl or n-heptyl; lower alkenyl groups can be, for example, vinyl, allyl, isopropenyl, 2- or 3-methallyl or 3-butenyl; lower alkynyl groups are, for example, It can be a propargyl group or a 2-butynyl group, and a lower alkylidene group can be, for example, an isopropylidene group or an isobutylidene group.

低級アルキレン基は例えば1.2−エチレン基、1.2
−または1.3−プロピレン基、1.4−ブチレン基、
1,5−ベンチレン基または1.6−ヘキシレン基であ
り、また低級アルケニレン基は例えば1.2−エテニレ
ン基または2−ブテン−1,4−イレン基である。ヘテ
ロ原子の介在する低級アルキレン基は例えば3−オキサ
−1,5−ペンチレン基のようなオキサ低級アルキレン
基、3−チア−1,5−ベンチレン基のようなチア低級
アルキレン基、または3−低級アルキルー3−アザ−1
,5−ベンチレン基例えば3−メチル−3−アザ−1,
5−ペンチリン基のようなアザ低級アルキレン基である
The lower alkylene group is, for example, 1.2-ethylene group, 1.2-ethylene group,
- or 1,3-propylene group, 1,4-butylene group,
The lower alkenylene group is, for example, a 1,2-ethenylene group or a 2-buten-1,4-ylene group. A lower alkylene group having an intervening heteroatom is, for example, an oxa-lower alkylene group such as 3-oxa-1,5-pentylene group, a thia-lower alkylene group such as 3-thia-1,5-bentylene group, or a 3-lower alkylene group such as 3-oxa-1,5-bentylene group. Alkyru 3-aza-1
, 5-benzene group e.g. 3-methyl-3-aza-1,
It is an aza lower alkylene group such as 5-pentyline group.

シクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、シクロブ
チル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはシ
クロヘプチル基、ならびにアダマンチル基であり、シク
ロアルケニル基は例えばシクロプロペニル基、1−12
−または3−シクロペンテニル基、1−12−または3
−シクロヘキセニル基、3−シクロヘプテニル基または
1,4−シクロへキサジェニル基であって、シクロアル
キリデン基は例えばシクロペンチリデン基またはシクロ
ヘキシリデン基である。シクロアルキル−低級アルキル
基またはシクロアルキル−低級アルケニル基は例えばシ
クロプロピル−、シクロベンチルー、シクロヘキシル−
またはシクロへブチル−メチル基、−1,■−または−
1,2−エチル基、−1,1−1−1,2−または−1
,3−プロピル基、−ビニル基または−アリル基であっ
て、シクロアルケニル−低級アルキル基またはシクロア
ルケニル−低級アルケニル基は例えば1−12−または
3−シクロペンテニル−11−12−または3−シクロ
ヘキセニル−または1−12−または3−シクロヘプテ
ニル−メチル基、−1,1−または−1,2−エチル基
、−1,1、−1,2−または−1,3−プロビル基、
−ビニル基または一アリル基である。シクロアルキル−
低級アルキリデン基は例えば3−シクロヘキセニル基メ
チレン基である。
Cycloalkyl groups are, for example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl, and adamantyl; cycloalkenyl groups are, for example, cyclopropenyl, 1-12
- or 3-cyclopentenyl group, 1-12- or 3
-cyclohexenyl group, 3-cycloheptenyl group or 1,4-cyclohexagenyl group, and the cycloalkylidene group is, for example, a cyclopentylidene group or a cyclohexylidene group. Cycloalkyl-lower alkyl or cycloalkyl-lower alkenyl groups are, for example, cyclopropyl, cyclobenthyl, cyclohexyl-
or cyclohebutyl-methyl group, -1, ■- or -
1,2-ethyl group, -1,1-1-1,2- or -1
, 3-propyl, -vinyl or -allyl, the cycloalkenyl-lower alkyl or cycloalkenyl-lower alkenyl group being, for example, 1-12- or 3-cyclopentenyl-11-12- or 3-cyclo hexenyl- or 1-12- or 3-cycloheptenyl-methyl group, -1,1- or -1,2-ethyl group, -1,1, -1,2- or -1,3-probyl group,
- vinyl group or monoallyl group. cycloalkyl
The lower alkylidene group is, for example, a 3-cyclohexenyl group or a methylene group.

ナフチル基は1−または2−ナフチル基であって、ビフ
ェニリル基は例えば4−ビフェニリル基である。
The naphthyl group is a 1- or 2-naphthyl group, and the biphenylyl group is, for example, a 4-biphenylyl group.

フェニル−低級アルキル基またはフェニル−低級アルケ
ニル基は例えばベンジル基、1−または2−フェニルエ
チル基、1−12−または3−フェニルプロピル基、ジ
フェニルメチル基、トリチル基、スチリル基またはシン
ナミル基であって、■−または2−ナフチルメチル基の
ようなナフチル−低級アルキル基は、1−または2−ナ
フチルメチル基であり、フェニル−低級アルキリデン基
は例えばベンジリデン基である。
Phenyl-lower alkyl or phenyl-lower alkenyl groups are, for example, benzyl, 1- or 2-phenylethyl, 1-12- or 3-phenylpropyl, diphenylmethyl, trityl, styryl or cinnamyl. A naphthyl-lower alkyl group such as (1)- or 2-naphthylmethyl group is a 1- or 2-naphthylmethyl group, and a phenyl-lower alkylidene group is, for example, a benzylidene group.

複素環式基はとりわけ芳香族性をもつ置換されている場
合のある複素環式基、例えば相当する単環式のモノアザ
環式、モノチア環式またはモノオキサ環式基例えば2−
ピリル基や3−ピリル基のようなピリル基、2−13−
または4−ピリジル基のようなピリジル基およびピリジ
ニウム基、2−または3−チェニル基のようなチェニル
基または2−フリル基のようなフリル基、2環式のモノ
アザ環式、モノオキサ環式またはモノチア環式基例えば
2−または3−インドリル基のようなインドリル基、2
−または4−キノリニル基のようなキノリニル基、1−
イソキノリニル基のようなイソキノリニル基、2−また
は3−ベンゾフラニル基のようなベンゾフラニル基また
は2−または3−ベンゾチェニル基のようなペンツチェ
ニル基、単環式のジアザ環式、トリアザ環式、テトラア
ザ環式、オキサアザ環式、チアザ環式またはチアジアザ
環式基、例えば2−イミダゾリル基のようなイミダゾリ
ル基、2−または4−ピリミジニル基のようなピリミジ
ニル基、1,2.4− )リアゾール−3−イル基のよ
うなトリアゾリル基、1−または5−テトラゾリル基の
ようなテトラゾリル基、2−オキサシリル基のようなオ
キサシリル基、3−または4−イソオキサシリル基のよ
うなイソオキサシリル基、2−チアゾリル基のようなチ
アゾリル基、3−または4−イソチアゾリル基のような
イソチアゾリル基、または1,2.4−チアジアゾール
−3−イル基や1.3.4−チアジアゾール−2−イル
基のような1.2.4−または1.3.4−チアジアゾ
リル基、あるいは2環式のジアザ環式、オキサアザ環式
またはチアザ環式基例えば2−ベンズイミダゾリル基の
ようなベンズイミダゾリル基、2−ベンズオキサシリル
基のようなベンズオキサシリル基または2−ベンズチア
ゾリル基のようなベンズチアゾリル基である。相当する
部分的にまたは全体に飽和された基は例えば2−テトラ
ヒドロチェニル基のようなテトラヒドロチェニル基、2
−テトラヒドロフリル基のようなテトラヒドロフリル基
または2−または4−ピペリジル基のようなピペリジル
基である。複素環−脂肪族基は複素環式基特に前記の基
をもつ低級アルキル基または低級アルケニル基である。
Heterocyclic radicals are in particular optionally substituted heterocyclic radicals with aromatic character, such as corresponding monocyclic monoazacyclic, monothiacyclic or monooxacyclic radicals, such as 2-
Pyryl group such as pyryl group and 3-pyryl group, 2-13-
or pyridyl groups and pyridinium groups such as 4-pyridyl groups, chenyl groups such as 2- or 3-chenyl groups, or furyl groups such as 2-furyl groups, bicyclic monoazacyclic, monooxacyclic or monothiacyclic groups. cyclic groups such as indolyl groups, such as 2- or 3-indolyl groups, 2
- or a quinolinyl group, such as a 4-quinolinyl group, 1-
isoquinolinyl group such as isoquinolinyl group, benzofuranyl group such as 2- or 3-benzofuranyl group or pentuchenyl group such as 2- or 3-benzochenyl group, monocyclic diazacyclic, triazacyclic, tetraazacyclic, Oxaazacyclic, thiazacyclic or thiadiazacyclic groups, e.g. imidazolyl groups such as 2-imidazolyl groups, pyrimidinyl groups such as 2- or 4-pyrimidinyl groups, 1,2.4-)lyazol-3-yl groups triazolyl group such as, tetrazolyl group such as 1- or 5-tetrazolyl group, oxasilyl group such as 2-oxasilyl group, isoxasilyl group such as 3- or 4-isoxasilyl group, 2-thiazolyl group a thiazolyl group such as a thiazolyl group, an isothiazolyl group such as a 3- or 4-isothiazolyl group, or a 1. 2.4- or 1.3.4-thiadiazolyl groups, or bicyclic diazacyclic, oxaazacyclic or thiazacyclic groups, such as benzimidazolyl groups such as 2-benzimidazolyl groups, 2-benzoxasilyl groups benzoxasilyl group such as or benzthiazolyl group such as 2-benzthiazolyl group. Corresponding partially or totally saturated groups are, for example, tetrahydrochenyl groups such as 2-tetrahydrochenyl groups, 2
- a tetrahydrofuryl group such as a tetrahydrofuryl group or a piperidyl group such as a 2- or 4-piperidyl group. Heterocyclic-aliphatic radicals are heterocyclic radicals, in particular lower alkyl or lower alkenyl radicals bearing the abovementioned radicals.

前記の複素環式基は、例えば置換されている場合のある
脂肪族または芳香族炭化水素基特にメチル基のような低
級アルキル基によってまたは場合によっては塩素原子の
ようなハロゲン原子により置換されたフェニル基例えば
フェニル基または4−クロルフェニル基によってまたは
例えば前記脂肪族炭化水素基のように官能性基によって
置換されていることができる。
Said heterocyclic radicals include, for example, aliphatic or aromatic hydrocarbon radicals which may be substituted, in particular phenyl substituted by lower alkyl radicals such as methyl radicals or optionally by halogen atoms such as chlorine atoms. It can be substituted by groups such as phenyl or 4-chlorophenyl groups or by functional groups such as the aliphatic hydrocarbon groups mentioned above.

低級アルコキシ基は例えばメトキシ基、エトキシ基、n
−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、
イソブトキシ基、第2ブトキシ基、第3ブトキシ基、n
−ペントキシ基または第3ペントキシ基である。これら
の基は例えばハロゲノ−低級アルコキシ基特に2−ハロ
ゲノ−低級アルコキシ基例えば2.2.2−トリクロル
エトキシ基、2−クロル−12−ブロム−または2−ヨ
ード−エトキシ基のように置換されていることができる
Lower alkoxy groups include, for example, methoxy, ethoxy, n
-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group,
Isobutoxy group, 2nd butoxy group, tertiary butoxy group, n
-pentoxy group or tertiary pentoxy group. These groups may be substituted, for example halogeno-lower alkoxy, especially 2-halogeno-lower alkoxy, such as 2.2.2-trichloroethoxy, 2-chloro-12-bromo or 2-iodo-ethoxy. I can be there.

低級アルケニルオキシ基は例えばビニルオキシ基または
アリルオキシ基であり、低級アルキレンジオキシ基は例
えばメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基またはイ
ソプロピリデンジオキシ基であり、シクロアルコキシ基
は例えばシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキ
シ基またはアダマンチルオキシ基であり、フェニル−低
級アルコキシ基は例えばベンジルオキシ基または1−ま
たは2−フェニルエトキシ基、ジフェニルメトキシ基ま
たは4,4′−ジメトキシ−ジフェニルメトキシ基であ
り、そしてヘテロサイクリル−オキシ基またはヘテロサ
イクリル低級アルコキシ基は例えば2−ピリジルメトキ
シ基のようなピリジル−低級アルコキシ基、フルフリル
オキシ基のようなフリル−低級アルコキシ基または2−
テニルオキシ基のようなチェニル−低級アルコキシ基で
ある。
Lower alkenyloxy groups are, for example, vinyloxy or allyloxy groups, lower alkylenedioxy groups are, for example, methylenedioxy, ethylenedioxy or isopropylidenedioxy groups, and cycloalkoxy groups are, for example, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy. or adamantyloxy group, the phenyl-lower alkoxy group being, for example, the benzyloxy group or the 1- or 2-phenylethoxy group, the diphenylmethoxy group or the 4,4'-dimethoxy-diphenylmethoxy group, and the heterocyclyl- An oxy group or a heterocyclyl lower alkoxy group is, for example, a pyridyl-lower alkoxy group such as a 2-pyridylmethoxy group, a furyl-lower alkoxy group such as a furfuryloxy group, or a 2-
It is a thenyl-lower alkoxy group such as a thenyloxy group.

低級アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エチルチオ
基またはn−ブチルチオ基であり、低級アルケニルチオ
基は例えばアリルチオ基であって、フェニル−低級アル
キルチオ基は例えばベンジルチオ基であり、また複素環
式基または複素環−脂肪族基でエーテル化されたメルカ
プト基は特に4−ピリジルチオ基のようなピリジルチオ
基、イミダゾリルチオ基、2−チアゾリルチオ基のよう
なチアゾリルチオ基、1,2.4−チアジアゾール−3
−イルチオ基や1.3.4−チアジアゾール−2−イル
チオ基のような1.2.4−または1.3.4−チアジ
アゾリルチオ基または1−メチル−5−テトラゾリルチ
オ基のようなテトラゾリルチオ基である。
Lower alkylthio groups are, for example, methylthio, ethylthio or n-butylthio, lower alkenylthio groups are, for example, allylthio groups, phenyl-lower alkylthio groups are, for example, benzylthio groups, and also heterocyclic groups or heterocyclic groups. -Mercapto groups etherified with aliphatic groups are in particular pyridylthio groups such as 4-pyridylthio, imidazolylthio, thiazolylthio groups such as 2-thiazolylthio, 1,2,4-thiadiazole-3
-ylthio group or 1.2.4- or 1.3.4-thiadiazolylthio group such as 1.3.4-thiadiazol-2-ylthio group or tetrazolylthio group such as 1-methyl-5-tetrazolylthio group. It is the basis.

エステル化された水酸基はとりわけハロゲン原子例えば
ふっ素、塩素、臭素またはよう素原子、ならびに低級ア
ルコキシ、カルボニルオキシ基例えばメトキシカルボニ
ルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基またはt−ブ
チルオキシカルボニルオキシ基、2−ハロゲノ低級アル
コキシカルボニルオキシ基例えば2,2.2−)リクロ
ルエトキシ力ルポニルオキシ基、2−ブロムエトキシカ
ルボニルオキシ基または2−ヨードエトキシカルボニル
オキシ基、またはアリールカルボニルメトキシカルボニ
ルオキシ基例えばフェナシルオキシカルボニルオキシ基
である。
Esterified hydroxyl groups are inter alia halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine or iodine atoms, and lower alkoxy, carbonyloxy groups such as methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy or t-butyloxycarbonyloxy groups, 2-halogeno lower an alkoxycarbonyloxy group such as a 2,2.2-)lychlorethoxylponyloxy group, a 2-bromoethoxycarbonyloxy group or a 2-iodoethoxycarbonyloxy group, or an arylcarbonylmethoxycarbonyloxy group such as a phenacyloxycarbonyloxy group; be.

低級アルコキシ−カルボニル基は例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボ
ニル基、イソプロポキシカルボニル基、t−ブトキシカ
ルボニル基またはt−ペントキシカルボニル基である。
Lower alkoxycarbonyl groups are, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl or t-pentoxycarbonyl.

N−低級アルキル−カルバモイル基またはN。N-lower alkyl-carbamoyl group or N.

N−ジ低級アルキル−カルバモイル基は例えばN−メチ
ルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N、N
−ジメチルカルバモイル基、N、 N−ジエチルカルバ
モイル基であるが、N−低級アルキルスルファモイル基
は例えばN−メチルスルファモイル基またはN、N−ジ
メチルスルファモイル基である。
N-dilower alkyl-carbamoyl group is, for example, N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N,N
-dimethylcarbamoyl group, N,N-diethylcarbamoyl group, while the N-lower alkylsulfamoyl group is, for example, N-methylsulfamoyl group or N,N-dimethylsulfamoyl group.

アルカリ金属塩の形にあるカルボキシル基またはスルホ
基は例えばナトリウム塩またはカリウム塩の形にあるカ
ルボキシル基またはスルホ基である。
Carboxyl or sulfo groups in the form of alkali metal salts are, for example, carboxyl or sulfo groups in the form of sodium or potassium salts.

低級アルキルアミノ基またはジー低級アルキルアミノ基
は例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基またはジエチルアミノ基であり、低級アルキレン
アミノ基は例えばピロリジノ基またはピペリジノ基であ
り、オキサ−低級アル°キレンアミノ基は例えばモルホ
リノ基、チア低級アルキレンアミノ基は例えばチオモル
ホリノ基そしてアザー低級アルキレンアミノ基は例えば
ピペラジノ基または4−メチルピペラジノ基である。
A lower alkylamino group or di-lower alkylamino group is, for example, a methylamino group, an ethylamino group, a dimethylamino group or a diethylamino group, a lower alkyleneamino group is, for example, a pyrrolidino group or a piperidino group, an oxa-lower alkyleneamino group is, for example, a morpholino group, a thia lower alkylene amino group is, for example, a thiomorpholino group, and an aza lower alkylene amino group is, for example, a piperazino group or a 4-methylpiperazino group.

アシルアミノ基は特にカルバモイルアミノ基、メチルカ
ルバモイルアミノ基のような低級アルキルカルバモイル
アミノ基、ウレイドカルボニルアミノ基、グアニジノカ
ルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ基
例えばメトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニ
ルアミノ基またはt−ブトキシカルボニルアミノ基、2
.2.2−トリクロルエトキシカルボニルアミノ基のよ
うなハロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ基、4−
メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ基のようなフ
ェニル低級アルコキシカルボニルアミノ基、アセチルア
ミノ基やプロピオニルアミノ基のような低級アルカノイ
ルアミノ基、さらにフタルイミド基または塩例えばナト
リウム塩のようなアルカリ金属塩またはアンモニウム塩
の形にあることのできるスルホアミノ基である。
Acylamino groups are in particular carbamoylamino groups, lower alkylcarbamoylamino groups such as methylcarbamoylamino groups, ureidocarbonylamino groups, guanidinocarbonylamino groups, lower alkoxycarbonylamino groups such as methoxycarbonylamino groups, ethoxycarbonylamino groups or t-butoxy carbonylamino group, 2
.. 2. Halogeno lower alkoxycarbonylamino group such as 2-trichloroethoxycarbonylamino group, 4-
Phenyl lower alkoxycarbonylamino groups such as methoxybenzyloxycarbonylamino groups, lower alkanoylamino groups such as acetylamino groups and propionylamino groups, as well as phthalimide groups or salts such as alkali metal or ammonium salts such as sodium salts. It is a sulfamino group that can be found in

低級アルカノイル基は例えばホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基またはピバロイル基である。
Examples of lower alkanoyl groups include formyl group, acetyl group,
It is a propionyl group or a pivaloyl group.

〇−低級アルキルーホスホノ基は例えば0−メチル−ま
たは0−エチル−ホスホノ基、0.0′一ジ低級アルキ
ルーホスホノ基は例えば0,0′−ジメチル−ホスホノ
基または0,0′−ジエチル−ホスホノ基、0−フェニ
ル低級アルキル−ホスホノ基は例えばO−ベンジル−ホ
スホノ基そして〇−低級アルキルーO′−フェニル低級
アルキル−ホスホノ基は例えば0−メチル−〇′−ベン
ジルーホスホノ基である。
〇-lower alkylphosphono group is, for example, 0-methyl- or 0-ethyl-phosphono group, and 0.0'-di-lower alkyl-phosphono group is, for example, 0,0'-dimethyl-phosphono group or 0,0' -diethyl-phosphono group, 0-phenyl lower alkyl-phosphono group is e.g. O-benzyl-phosphono group and 0-lower alkyl-O'-phenyl lower alkyl-phosphono group is e.g. It is.

低級アルケニルオキシカルボニル基は例えばビニルオキ
シカルボニル基であって、シクロアルコキシカルボニル
基およびフェニル−低級アルコキシカルボニル基は例え
ばアダマンチルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、4−メトキシベンジルオキシカルボニル基
、ジフェニルメトキシカルボニル基またはα−4−ビフ
ェニル−α−メチルエトキシカルボニル基である。その
低級アルキル基が例えば単環式のモノアザ環式、モノオ
キサ環式またはモノチア環式基をもっているような低級
アルコキシカルボニル基は例えばフルフリルオキシカル
ボニル基のようなフリル−低級アルコキシカルボニル基
または2−テニルオキシカルボニル基のようなチェニル
−低級アルコキシカルボニル基である。
The lower alkenyloxycarbonyl group is, for example, a vinyloxycarbonyl group, and the cycloalkoxycarbonyl group and the phenyl-lower alkoxycarbonyl group are, for example, an adamantyloxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 4-methoxybenzyloxycarbonyl group, a diphenylmethoxycarbonyl group. or α-4-biphenyl-α-methylethoxycarbonyl group. A lower alkoxycarbonyl group whose lower alkyl group has, for example, a monocyclic monoazacyclic, monooxacyclic or monothiacyclic group is a furyl-lower alkoxycarbonyl group such as furfuryloxycarbonyl or a 2-tenyl group. It is a chenyl-lower alkoxycarbonyl group such as an oxycarbonyl group.

2−低級アルキルヒドラジノ基および2.2−ジ低級ア
ルキルヒドラジノ基は例えば2−メチルヒドラジノ基ま
たは2.2−ジメチルヒドラジノ基であり、2−低級ア
ルコキシカルボニルヒドラ゛ジノ基は例えば2−メトキ
シカルボニルヒドラジノ基、2−エトキシカルボニルヒ
ドラジノ基マたは2−t−ブトキシカルボニルヒドラジ
ノ基であって、低級アルカノイルヒドラジノ基は例えば
2−アセチルヒドラジノ基である。
The 2-lower alkylhydrazino group and the 2,2-di-lower alkylhydrazino group are, for example, a 2-methylhydrazino group or a 2,2-dimethylhydrazino group, and the 2-lower alkoxycarbonylhydrazino group is, for example, a 2-dimethylhydrazino group. -methoxycarbonylhydrazino group, 2-ethoxycarbonylhydrazino group or 2-t-butoxycarbonylhydrazino group, and the lower alkanoylhydrazino group is, for example, 2-acetylhydrazino group.

アシル基Acは殊に6−アミノ−ペナム−3−カルボン
酸化合物または7−アミノ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸化合物の天然に生成されるかまたは生合成、半合成
または全合成により製造できる好ましくは薬理活性なN
−アシル誘導体に含まれる炭素原子の数が好ましくは1
8個までの有機カルボン酸のアシル基、または容易に分
裂できるアシル基殊に炭酸手誘導体のアシル基である。
The acyl group Ac can be produced naturally or biosynthetically, semi-synthetically or totally synthetically, especially from 6-amino-penam-3-carboxylic acid compounds or 7-amino-3-cephem-4-carboxylic acid compounds. Preferably pharmacologically active N
- The number of carbon atoms contained in the acyl derivative is preferably 1
Acyl groups of up to 8 organic carboxylic acids or easily cleavable acyl groups, especially acyl groups of carbonate derivatives.

6−アミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物または7−
アミノ−3−セフェム−4−カルボン酸化合物の薬理活
性なN−アシル誘導体に含まれるアシル基Acというの
は、主として式 〔この式でnは0でありそしてRIは水素原子または置
換されている場合のある脂環式または芳香族炭化水素基
、置換されている場合のあるそして好ましくは芳香族性
をもつ複素環式基、官能的に変性例えばエステル化また
はエーテル化されている水酸基またはメルカプト基ある
いは置換されている場合のあるアミノ基であるか、また
はnは1であり、RIは水素原子または置換されている
場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族また
は芳香脂肪族の炭化水素基、その複素環式基が好ましく
は芳香族性をもちそして(または)第4級窒素原子をも
っている置換されている場合のある複素環式基または複
素環−脂肪族基、官能的に変性(好ましくはエーテル化
またはエステル化)されている場合のある水酸基または
メルカプト基、官能的に変形されている場合のあるカル
ボキシル基、アシル基、置換されている場合のあるアミ
ノ基またはアチド基でありそして基R11とR1とがい
ずれも水素原子であるか、またはnはlであり、RIは
置換されている場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族の炭化水素基またはその複
素環式基が好ましくは芳香族性を有する置換されている
場合のある複素環式または複素環−脂肪族基であり、R
1[は官能的に変性例えばエステル化またはエーテル化
されている場合のある水酸基またはメルカプト基、例え
ばハロゲン原子、置換されている場合のあるアミノ基、
官能的に変形されている場合のあるカルボキシル基また
はスルホ基、0−モノ置換または0.0′−ジ置換され
ている場合のあるホスホノ基またはアチド基でありそし
てR11は水素原子であるか、またはnはlであり、基
RIとR1とがそれぞれ官能的に変性(好ましくはエー
テル化またはエステル化)された水酸基または官能的に
変性されている場合のあるカルボキシル基であり、そし
てRIMは水素原子であるか、またはnは1であり、R
Iは水素原子または置換されている場合のある脂肪族、
脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭化
水素基でありそしてR1とR111とはその両方で置換
されている場合のあるそして2重結合によって式中の炭
素原子と結合している脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族ま
たは芳香脂肪族の炭化水素基であるか、またはnは1で
あり、RIは置換されている場合のある脂肪族、脂環式
、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭化水素基
またはその複素環式基が好ましくは芳香族性を有する置
換されている場合のある複素環式または複素環−脂肪族
基であり、RI[は置換されている場合のある脂肪族、
脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭化
水素基でありそしてRmは水素原子または置換されてい
る場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族ま
たは芳香脂肪族の炭化水素基である〕 で表わされる基である。
6-amino-penam-3-carboxylic acid compound or 7-
The acyl group Ac contained in the pharmacologically active N-acyl derivative of the amino-3-cephem-4-carboxylic acid compound is mainly represented by the formula [in this formula, n is 0 and RI is a hydrogen atom or substituted] optionally cycloaliphatic or aromatic hydrocarbon groups, optionally substituted and preferably aromatic heterocyclic groups, functionally modified e.g. esterified or etherified hydroxyl or mercapto groups; or an optionally substituted amino group, or n is 1, and RI is a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic or aromatic aliphatic hydrocarbon radicals, optionally substituted heterocyclic radicals or heterocyclic-aliphatic radicals whose heterocyclic radicals preferably have aromatic character and/or have a quaternary nitrogen atom; hydroxyl or mercapto groups which may be functionally modified (preferably etherified or esterified), carboxyl groups which may be functionally modified, acyl groups, amino groups which may be substituted or is an amide group, and the groups R11 and R1 are both hydrogen atoms, or n is l, and RI is an optionally substituted aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic or an araliphatic hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic or heterocyclic-aliphatic group in which the heterocyclic group preferably has aromaticity, and R
1[ is a hydroxyl or mercapto group which may be functionally modified, e.g. esterified or etherified, e.g. a halogen atom, an amino group which may be substituted;
a carboxyl group or a sulfo group, which may be functionally modified, a phosphono group or an amide group, which may be 0-mono- or 0.0'-disubstituted, and R11 is a hydrogen atom; or n is l, the groups RI and R1 are each a functionally modified (preferably etherified or esterified) hydroxyl group or an optionally functionally modified carboxyl group, and RIM is a hydrogen atoms, or n is 1 and R
I is a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group,
a cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic or araliphatic hydrocarbon group, and R1 and R111 may both be substituted and bonded by a double bond to a carbon atom in the formula is an aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic, or araliphatic hydrocarbon group, or n is 1 and RI is an optionally substituted aliphatic, cycloaliphatic, an alicyclic-aliphatic, aromatic or araliphatic hydrocarbon group or a heterocyclic or heterocyclic-aliphatic group, the heterocyclic group of which may be substituted, preferably having aromatic character; RI [is optionally substituted aliphatic;
a cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic or araliphatic hydrocarbon group, and Rm is a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic, aromatic group; or an aromatic aliphatic hydrocarbon group].

前記の式(^)のアシル基においては、例えばnはOで
ありそしてRIは水素原子または環炭素原子5〜7個を
もつシクロアルキル基〔これは場合によってはアミノ基
、アシルアミノ基(そのアシル基は主に低級アルコキシ
カルボニル基、2−ハロゲノ低級アルコキシカルボニル
基またはフェニル低級アルコキシカルボニル基のような
炭酸半エステルのアシル基とする)またはスルホアミノ
基(これはアルカリ金属塩のような塩の形であることも
できる)のような保護されている場合のあるアミノ基に
よって好ましくは1−位置で置換されていることができ
る〕、置換されている場合のあるフェニル基、ナフチル
基またはテトラヒドロナフチル基〔これらは場合によっ
ては好ましくは水酸基、メトキシ基のような低級アルコ
キシ基、アシルオキシ基(そのアシル基は主として低級
アルコキシカルボニル基、2−ハロゲノ低級アルコキシ
カルボニル基またはフェニル低級アルコキシカルボニル
基のような炭酸半エステルのアシル基とする)および(
または)塩素原子のようなハロゲン原子によって置換さ
れていることができる〕、置換されている場合のある複
素環式基〔これは例えばメチル基のような低級アルキル
基によってそして(または)置換基例えば塩素原子のよ
うなハロゲン原子をそれ自体もっていることのできるフ
ェニル基によって置換されていることができる〕例えば
4−イソオキサシリル基またはアミノ基(このアミノ基
は例えば置換基例えば塩素原子のようなハロゲン原子を
もっていることのできる低級アルキル基によってN−置
換されているのが好ましい)であるか、またはnは1で
あり、RIは低級アルキル基〔これは場合によっては好
ましくは塩素原子のようなハロゲン原子によって、また
は置換基例えば水酸基、アシルオキシ基(そのアシル基
は前記の意味をもつ)および(または)塩素原子のよう
なハロゲン原子をもっていることのできるフェニルオキ
シ基によって、または保護されていることのできるアミ
ノ基および(または)カルボキシル基によって置換され
ていることができる〕、例えば保護されている場合のあ
るアミノ基および(または)カルボキシル基〔例えば、
シリル化例えばトリメチルシリル化のようなトリ低級ア
ルキルシリル化されたアミノ基またはアシルアミノ基例
えば低級アルカノイルアミノ基、ハロゲノ低級アルカノ
イルアミノ基またはフタロイル了ミノ基および(または
)シリル化例えばトリメチルシリル化のようなトリ低級
アルキルシリル化されているカルボキシル基かまたはエ
ステル化例えば低級アルキル基、2−ハロゲン低級アル
キル基またはジフェニルメチル基のようなフェニル低級
アルキル基でエステル化されたカルボキシル基〕をもつ
3−アミノ−3−カルボキシ−プロピル基、低級アルケ
ニル基、フェニル基〔これは場合によっては置換基例え
ば上記のようにアシル化されていることのできる水酸基
および(または)塩素原子のようなハロゲン原子によっ
て、さらに保護例えば上記のようにアシル化されている
ことのできるアミノメチル基のようなアミノ低級アルキ
ル基によって、または例えば上記のようにアシル化され
ていることのできる水酸基および(または)塩素原子の
ようなハロゲン原子をもっていることのできるフェニル
オキシ基によって置換されていることができる〕、置換
基例えばメチル基のような低級アルキル基によってまた
は保護(例えば、上記のようにアシル化)されているこ
とのできるアミノ基またはアミノメチル基によって置換
されていることのできるピリジル基例えば4−ピリジル
基、ピリジニウム基例えば4−ピリジニウム基、チェニ
ル基例えば2−チェニル基、フリル基例工ば2−フリル
基、イミダゾリル基例えばl−イミダゾリル基またはテ
トラゾリル基例えば1−テトラゾリル基であるか、また
は、置換されている場合のある低級アルコキシ基例えば
メトキシ基、フェニルオキシ基〔これは置換基、例えば
保護例えば上記のようにアシル化されていることのでき
る水酸基および(または)塩素原子のようなハロゲン原
子によって置換されていることができる〕、低級アルキ
ルチオ基例えばn−ブチルチオ基または低級アルケニル
チオ基例えばアリルチオ基、置換基例えばメチル基のよ
うな低級アルキル基で置換されていることのできるフェ
ニルチオ基、4−ピリジルチオ基のようなピリジルチオ
基、2−イミダゾリルチオ基、1,2.4−1−リアゾ
ール−3−イルチオ基例えば1.3.4−)リアゾール
−2−イルチオ基、1,2.4−チアジアゾール−3−
イルチオ基例えば5−メチル−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イルチオ基、1,3.4−チアジアゾ−″−
2−イルチオ基例えばメチル−1,3,4−チアジアゾ
ール−2−イルチオ基または5−テトラゾリルチオ基例
えば1−メチル−5−テトラゾリルチオ基、ハロゲン原
子特に塩素または臭素原子、官能的に変えられている場
合のあるカルボキシル基例えばメトキシカルボニル基や
エトキシカルボニル基のような低級アルコキシカルボニ
ル基、シアノ基またはN−置換例えばメチル基のような
低級アルキル基またはフェニル基でN−置換されている
場合のあるカルバモイル基、置換されている場合のある
低級アルカノイル基例えばアセチル基またはプロピオニ
ル基、ベンゾイル基またはアチド基でありそしてR[と
8厘とは水素原子であるか、あるいはnはlであり、R
1は低級アルキル基、または場合によっては例えば上記
のようにアシル化されていることのできる水酸基および
(または)塩素原子のようなハロゲン原子で置換されて
いることのできるフェニル基、2−フリル基のようなフ
リル基、2−または3−チェニル基のようなチェニル基
または4−イソチアゾリル基のようなイソチアゾリル基
、さらにまた1、4−シクロへキサジェニル基であり、
R1は保護または置換されている場合のあるアミノ基例
えばアミノ基、アシルアミノ基例えば低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基、2−ハロゲノ低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基または置換基例えばメトキシ基のような低
級アルコキシ基またはニトロ基をもっていることのでき
るフェニル低級アルコキシカルボニルアミノ基、例えば
t−ブトキシカルボニルアミノ基、2.2.2−トリク
ロルエトキシカルボニルアミノ基、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニルアミノ基またはジフェニルメチルオ
キシカルボニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基
例えば4−メチルフェニルスルホニルアミノ基、トリチ
ルアミノ基、アリールチオアミノ基例えば2−ニトロフ
ェニルチオアミノ基のようなニトロフェニルチオアミノ
基またはトリチルチオアミノ基、または置換基例えばエ
トキシカルボニル基のような低級アルコキシカルボニル
基やアセチル基のような低級アルカノイル基をもってい
ることのできる2−プロピリデンアミノ基例えば1−エ
トキシカルボニル−2−プロビリデグアミノ基、または
グアジニノカルボニルアミノ基のような置換されている
場合のあるカルバモイルアミノ基、またはアルカリ金属
塩のような塩の形であることのできるスルホアミノ基、
アチド基、アルカリ金属塩のような塩の形またはエステ
ル化された形のような保護された形にあることのできる
カルボキシル基(例えば、メトキシカルボニル基やエト
キシカルボニル基のような低級アルコキシカルボニル基
としてまたはジフェニルメトキシカルボニル基のような
フエゝルオキシカルボニル基としであることができる)
、シアノ基、スルホ基、官能的に変えられていることの
できる水酸基〔官能的に変えられた水酸基は殊にホルミ
ルオキシ基のようなアシルオキシ基ならびに低級アルコ
キシカルボニルオキシ基、2−ハロゲノ低級アルコキシ
カルボニルオキシ基または置換基(例えば、メトキシ基
のような低級アルコキシ基またはニトロ基)をもってい
る場合のあるフェニル低級アルコキシカルボニルオキシ
基、例えばt−ブトキシカルボニルオキシ基、2,2.
2−トリクロルエトキシカルボニルオキシ基、4−メト
キシベンジルオキシカルボニルオキシ基またはジフェニ
ルメトキシカルボニルオキシ基、または置換されている
場合のある低級アルコキシ基例えばメトキシ基またはフ
ェニルオキシ基である〕、〇−低級アルキルーまたは0
.0′−ジ低級アルキル−ホスホノ基例えば0−メチル
ホスホノ基または0,0′−ジメチルホスホノ基、また
はハロゲン原子例えば塩素または臭素原子でありそして
R11+は水素原子であるか、またはnは1であり、R
IとR1[とはそれぞれハロゲン原子例えば臭素原子ま
たは低級アルコキシカルボニル基例えばメ ゛トキシカ
ルポニル基でありそしてR璽は水素原子であるか、また
はnは1であり、RIは場合によっては例えば上記のよ
うにアシル化されていることのできる水酸基および(ま
たは)塩素原子のようなハロゲン原子によって置換され
ていることのできるフェニル基、2−フリル基のような
フリル基、2−または3−チェニル基のようなチェニル
基または4−イソチアゾリル基のようなイソチアゾリル
基、さらにまた1、4−シクロヘキサジェニル基であり
、R1は場合によっては例えば上記のように保護された
アミノメチル基でありそしてR11は水素原子であるか
、またはnは1でありそしてRIとR1[とR11とが
いずれも低級アルキル基例えばメチル基である。
In the acyl group of formula (^) above, for example, n is O and RI is a hydrogen atom or a cycloalkyl group having 5 to 7 ring carbon atoms [this may also be an amino group, an acylamino group (the acyl The group is mainly an acyl group of a carbonic acid half ester such as a lower alkoxycarbonyl group, a 2-halogeno lower alkoxycarbonyl group or a phenyl lower alkoxycarbonyl group) or a sulfoamino group (which can be used in the form of a salt such as an alkali metal salt). may be substituted preferably in the 1-position by an optionally protected amino group such as ), optionally substituted phenyl, naphthyl or tetrahydronaphthyl group [ These are optionally preferably hydroxyl groups, lower alkoxy groups such as methoxy groups, acyloxy groups (the acyl groups being primarily carbonic acid half esters such as lower alkoxycarbonyl groups, 2-halogeno lower alkoxycarbonyl groups or phenyl lower alkoxycarbonyl groups). acyl group) and (
or) by a halogen atom such as a chlorine atom], a heterocyclic group which may be substituted (e.g. by a lower alkyl group such as a methyl group) and/or by a substituent e.g. [can be substituted by a phenyl group which may itself carry a halogen atom such as a chlorine atom], for example a 4-isoxacylyl group or an amino group (which amino group may be substituted with a substituent such as a chlorine atom). (preferably N-substituted by a lower alkyl group which may bear a halogen atom) or n is 1 and RI is a lower alkyl group (which in some cases is preferably N-substituted, such as a chlorine atom); protected by a halogen atom or by a phenyloxy group which may bear a halogen atom, such as a substituent such as a hydroxyl group, an acyloxy group (wherein the acyl group has the meaning given above) and/or a chlorine atom; may be substituted with an amino group and/or a carboxyl group which may be protected], e.g.
Silylation e.g. tri-lower alkylsilylated amino or acylamino groups such as trimethylsilylation, e.g. lower alkanoylamino, halogeno-lower alkanoylamino or phthaloyl-termino groups and/or silylation e.g. 3-amino-3- with an alkylsilylated carboxyl group or a carboxyl group esterified with, for example, a lower alkyl group, a 2-halogen lower alkyl group or a phenyl lower alkyl group such as a diphenylmethyl group. Carboxy-propyl, lower alkenyl, phenyl groups, which may optionally be further protected by substituents e.g. or with an amino lower alkyl group such as an aminomethyl group which may be acylated as in a phenyloxy group which may be substituted], an amino group which may be substituted by a substituent, e.g. a lower alkyl group such as a methyl group, or protected (e.g. acylated as above); Pyridyl groups, which may be substituted by aminomethyl groups, such as 4-pyridyl groups, pyridinium groups, such as 4-pyridinium groups, chenyl groups, such as 2-chenyl groups, furyl groups, such as 2-furyl groups, imidazolyl groups, such as l- an imidazolyl or tetrazolyl group, e.g. 1-tetrazolyl, or a lower alkoxy group which may be substituted, e.g. methoxy, phenyloxy; lower alkylthio groups such as n-butylthio groups or lower alkenylthio groups such as allylthio groups, substituents such as methyl groups, phenylthio group, pyridylthio group such as 4-pyridylthio group, 2-imidazolylthio group, 1,2.4-1-riazol-3-ylthio group, which can be substituted with a lower alkyl group such as 1.3. 4-) Liazol-2-ylthio group, 1,2.4-thiadiazole-3-
ylthio group, e.g. 5-methyl-1,2,4-thiadiazol-3-ylthio group, 1,3.4-thiadiazol-''-
2-ylthio groups, such as methyl-1,3,4-thiadiazol-2-ylthio groups or 5-tetrazolylthio groups, such as 1-methyl-5-tetrazolylthio groups, halogen atoms, especially chlorine or bromine atoms, if functionally modified certain carboxyl groups, e.g. lower alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl or ethoxycarbonyl groups, cyano groups or N-substituted carbamoyl groups which may be N-substituted with lower alkyl groups such as methyl groups or phenyl groups; , an optionally substituted lower alkanoyl group such as an acetyl or propionyl group, a benzoyl group or an azido group, and R [ and 8 are hydrogen atoms, or n is l and R
1 is a lower alkyl group, or a phenyl group or a 2-furyl group, which can be optionally substituted with a hydroxyl group and/or a halogen atom such as a chlorine atom, which can be acylated as described above. a furyl group such as a chenyl group such as a 2- or 3-chenyl group or an isothiazolyl group such as a 4-isothiazolyl group, and also a 1,4-cyclohexagenyl group;
R1 has an optionally protected or substituted amino group such as an amino group, an acylamino group such as a lower alkoxycarbonylamino group, a 2-halogeno lower alkoxycarbonylamino group, or a substituent such as a lower alkoxy group such as a methoxy group or a nitro group; phenyl lower alkoxycarbonylamino groups, such as t-butoxycarbonylamino, 2.2.2-trichloroethoxycarbonylamino, 4-methoxybenzyloxycarbonylamino or diphenylmethyloxycarbonylamino, arylsulfonylamino; groups such as 4-methylphenylsulfonylamino, tritylamino, arylthioamino, nitrophenylthioamino or tritylthioamino, such as 2-nitrophenylthioamino, or substituents such as ethoxycarbonyl, A 2-propylideneamino group which may have a lower alkanoyl group such as a lower alkoxycarbonyl group or an acetyl group, such as a 1-ethoxycarbonyl-2-propylideguamino group, or a substituted group such as a guazininocarbonylamino group. a carbamoylamino group, which may be in the form of a salt, such as an alkali metal salt;
A carboxyl group which can be in protected form such as an acydo group, a salt form such as an alkali metal salt or an esterified form (e.g. as a lower alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group) or a phenyloxycarbonyl group such as diphenylmethoxycarbonyl group)
, cyano groups, sulfo groups, hydroxyl groups which can be functionally modified [functionally modified hydroxyl groups are in particular acyloxy groups such as formyloxy groups, as well as lower alkoxycarbonyloxy groups, 2-halogeno lower alkoxycarbonyl groups] a phenyl lower alkoxycarbonyloxy group which may have an oxy group or a substituent (e.g. a lower alkoxy group such as a methoxy group or a nitro group), such as a t-butoxycarbonyloxy group, 2,2.
2-trichloroethoxycarbonyloxy group, 4-methoxybenzyloxycarbonyloxy group or diphenylmethoxycarbonyloxy group, or optionally substituted lower alkoxy group such as methoxy group or phenyloxy group], 〇-lower alkyl group or 0
.. a 0'-dilower alkyl-phosphono group, such as a 0-methylphosphono group or a 0,0'-dimethylphosphono group, or a halogen atom, such as a chlorine or bromine atom, and R11+ is a hydrogen atom, or n is 1; ,R
I and R1 are each a halogen atom, such as a bromine atom, or a lower alkoxycarbonyl group, such as a methoxycarbonyl group, and R is a hydrogen atom, or n is 1, and RI is optionally, for example, a phenyl group, a furyl group such as a 2-furyl group, a 2- or 3-chenyl group, which may be substituted with a hydroxyl group and/or a halogen atom such as a chlorine atom; a chenyl group such as or an isothiazolyl group such as a 4-isothiazolyl group, and also a 1,4-cyclohexagenyl group, R1 is optionally an aminomethyl group protected, for example as above, and R11 is is a hydrogen atom, or n is 1, and RI, R1[, and R11 are all lower alkyl groups, such as methyl groups.

このようなアシル基Acは例えばホルミル基、シクロペ
ンチルカルボニル基、α−アミノシクロペンチルカルボ
ニル基またはα−アミノシクロヘキシルカルボニル基〔
これは置換されている場合のあるアミノ基、例えば塩の
形であることのできるスルホアミノ基、または例えばト
リフルオル酢酸のような酸性剤でまたは例えば酢酸水溶
液の存在下での亜鉛のような化学的還元剤または接触さ
れた水素で還元的に処理するかまたは加水分解によって
好ましくは容易に分裂することのできるアシル基または
このようなアシル基に変えることのできるアシル基で置
換されたアミノ基(好ましくは炭酸半エステルの適当な
アシル基例えばt−ブトキシカルボニル基のような低級
アルコキシカルボニル!、2,2.2−1−リクロルエ
トキシ力ルボニル基、2−ブロムエトキシカルボニル基
または2−ヨードエトキシカルボニル基のような2−ハ
ロゲノ低級アルコキシカルボニル基、フェナシルオキシ
カルボニル基のようなアリールカルボニルメトキシカル
ボニル基、置換基例えばメトキシ基のような低級アルコ
キシ基またはニトロ基をもっていることのできるフェニ
ル低級アルコキシカルボニル基例えば4−メトキシベン
ジルオキシカルボニル基またはジフェニルメトキシカル
ボニル基、または炭酸半アミドの適当なアシル基例えば
カルバモイル基またはN−置換されたカルバモイル基例
えばN−メチルカルバモイル基のようなN−低級アルキ
ルカルバモイル基によって、トリチル基によって、さら
にまた2−ニトロフェニルチオ基のようなアリールチオ
基、4−メチルフェニルスルホニル基のようなアリール
スルホニル基または1−エトキシカルボニル−2−プロ
ピリデン基のような1−低級アルコキシカルボニルー2
−プロピリデン基によって置換されたアミノ基)をもっ
ている)、2.6−シメトキシベンゾイル基、5.6,
7.8−テトラヒドロナフトイル基、2−メトキシ−1
−ナフトイル基、2−エトキシ−1−ナフトイル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基、ヘキサヒドロベンジルオキ
シカルボニル基、5−メチル−3−フェニル−4−イソ
オキサシリル−カルボニル基、3− (2−クロルフェ
ニル)−5−メチル−4−イソオキサシリルカルボニル
基、3−(2,6−ジクロルフェニル)−5−メチル−
4−イソオキサシリルカルボニル基、2−クロルエチル
アミノカルボニル基、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、オクタノイ
ル基、アクリリル基、クロトノイル基、3−ブテノイル
基、2−ペンテノイル基、メトキシアセチル基、ブチル
チオアセチル基、アリルチオアセチル基、メチルチオア
セチル基、クロルアセチル基、ブロムアセチル基、ジブ
ロムアセチル基、3−クロルプロピオニル基、3−ブロ
ムプロピオニル基、アミノアセチル基または5−アミノ
−5−カルボキシ−バレリル基〔これらは例えば上記の
ように例えば1〜2個のアシル基例えばアセチル基やジ
クロルアセチル基のようなハロゲン化されている場合の
ある低級アルカノイル基またはフタロイル基によって置
換されていることのできるアミノ基および(または)官
能的に例えばナトリウム塩のような塩の形またはエステ
ル例えばメチルエステルやエチルエステルのような低級
アルキルエステルまたはジフェニルメチルエステルのよ
うなアリール低級アルキルエステルの形に変えられてい
ることのできるカルボキシル基をもっている〕、アミノ
アセチル基、カルボキシアセチル基′、メトキシカルボ
ニルアセチル基、エトキシカルボニルアセチル基、ビス
−メトキシカルボニルアセチル基、N−フェニルカルバ
モイルアセチル基、シアノアセチル基、α−シアノプロ
ピオニル基、2−シアノ−3,3−ジメチルアクリリル
基、フェニルアセチル基、α−ブロムフェニルアセチル
基、α−アチドフェニルアセチル基、3−クロルフェニ
ルアセチル基、2−または4−アミノメチルフェニルア
セチル基(これは例えば前記のように置換されている場
合のあるアミノ基をもつ)、フェナシルカルボニル基、
フェニルオキシアセチルiF、4−トリフルオルメチル
フェニルオキシアセチル基、ベンジルオキシアセチル基
、フェニルチオアセチル基、ブロムフェニルチオアセチ
ル基、2−フェニルオキシプロピオニル基、α−フェニ
ルオキシフェニルアセチル基、α−メトキシフェニルア
セチル基、α−エトキシフェニルアセチル基、α−メト
キシ−3,4−ジクロルフェニルアセチル基、α−シア
ノフェニルアセチル基、殊にフェニルグリシル基、4−
ヒドロキシフェニルグリシル基、3−クロル−4−ヒド
ロキシフェニルグリシル基、3,5−ジクロル−4−ヒ
ドロキシフェニルグリシル基、α−アミノ−α−(1,
4−シクロヘキサジェニル)−アセチル基、α−アミノ
−α−(1−シクロヘキセニル)−アセチル基、α−ア
ミノメチル−α−フェニルアセチル基またはα−ヒドロ
キシフェニルアセチル基〔これらの基において、存在す
るアミノ基は例えば上記のように置換されていることも
できるものとしそして(または)存在する脂肪族水酸基
および(または)フェノール性水酸基はアミノ基と同様
に例えば適当なアシル基殊にホルミル基または炭酸半エ
ステルのアシル基で保護されていることもできる〕、ま
たはα−0−メチルホスホノ−フェニルアセチル基また
はα−0,0′−ジメチル−ホスホノ−フェニルアセチ
ル基、さらにベンジルチオアセチル基、ベンジルチオプ
ロピオニル基、α−カルボキシフェニルアセチル基(こ
れは場合によっては例えば上記のように官能的に変えら
れたカルボキシル基をもつことができる)、3−フェニ
ルプロピオニルi、3−(3−シアノフェニル)−プロ
ピオニル基、4−(3−メトキシフェニル)〜ブチリル
基、2−ピリジルアセチル基、4−アミノピリジニウム
アセチル基(これは場合によっては例えば前記のように
置換されたアミノ基をもつことができる)、2−チェニ
ルアセチル基、3−チェニルアセチル基、2−テトラヒ
ドロチェニルアセチル基、2−フリルアセチル基、1−
イミダゾリルアセチル基、1−テトラゾリルアセチル基
、α−カルボキシ−2−チェニルアセチル基またはα−
カルボキシ−3−チェニルアセチル基(これらは場合に
よっては例えば上記のように官能的に変えられたカルボ
キシル基をもつことができる)、α−シアノ−2−チェ
ニルアセチル基、α−アミノ−α−(2−チェニル)−
アセチル基、α−アミノ−α−(2−フリル)−アセチ
ル基またはα−アミノ−α−(4−イソチアゾリル)−
アセチル基(これらは場合によっては例えば上記のよう
に置換されたアミノ基をもつことができる)、α−スル
ホフェニルアセチル基(そのスルホ基は場合によっては
例えば前記カルボキシル基のように官能的に変えられた
スルホ基であることができる)、3−メチル−2−イミ
ダゾリルチオアセチル基、1.2.4− )リアゾール
−3−イルチオアセチル基、1,3.4− )リアゾー
ル−2−イルチオアセチル基5−メチル−1,2,4−
チアジアゾール−3−イルチオアセチル基、5−メチル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イルチオアセチル
基または1−メチル−5−テトラゾリルチオアセチル基
である。
Such an acyl group Ac is, for example, a formyl group, a cyclopentylcarbonyl group, an α-aminocyclopentylcarbonyl group, or an α-aminocyclohexylcarbonyl group [
This may be an amino group which may be substituted, for example a sulfamino group which may be in the form of a salt, or a chemical reduction such as zinc with an acidic agent such as trifluoroacetic acid or in the presence of an aqueous acetic acid solution. an amino group substituted with an acyl group (preferably Suitable acyl groups of carbonic acid half esters, such as lower alkoxycarbonyl groups such as t-butoxycarbonyl groups, 2,2.2-1-lychloroethoxycarbonyl groups, 2-bromoethoxycarbonyl groups or 2-iodoethoxycarbonyl groups; 2-halogeno lower alkoxycarbonyl groups such as 2-halogeno lower alkoxycarbonyl groups, arylcarbonyl methoxycarbonyl groups such as phenacyloxycarbonyl groups, phenyl lower alkoxycarbonyl groups which may have substituents e.g. lower alkoxy groups such as methoxy groups or nitro groups, e.g. by an N-lower alkylcarbamoyl group such as a 4-methoxybenzyloxycarbonyl group or a diphenylmethoxycarbonyl group, or a suitable acyl group of a carbonic hemiamide, such as a carbamoyl group or an N-substituted carbamoyl group, such as an N-methylcarbamoyl group, By the trityl group we can also add arylthio groups such as 2-nitrophenylthio groups, arylsulfonyl groups such as 4-methylphenylsulfonyl groups or 1-lower alkoxycarbonyl groups such as 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene groups.
- having an amino group substituted by a propylidene group), 2.6-simethoxybenzoyl group, 5.6,
7.8-tetrahydronaphthoyl group, 2-methoxy-1
-naphthoyl group, 2-ethoxy-1-naphthoyl group, benzyloxycarbonyl group, hexahydrobenzyloxycarbonyl group, 5-methyl-3-phenyl-4-isoxasilyl-carbonyl group, 3- (2-chlorophenyl) -5-methyl-4-isoxasilylcarbonyl group, 3-(2,6-dichlorophenyl)-5-methyl-
4-isoxasilylcarbonyl group, 2-chloroethylaminocarbonyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, pivaloyl group, hexanoyl group, octanoyl group, acrylyl group, crotonoyl group, 3-butenoyl group, 2-pentenoyl group, Methoxyacetyl group, butylthioacetyl group, allylthioacetyl group, methylthioacetyl group, chloroacetyl group, bromoacetyl group, dibromoacetyl group, 3-chloropropionyl group, 3-bromopropionyl group, aminoacetyl group or 5-amino -5-carboxy-valeryl groups [these may be substituted, e.g. by 1 or 2 acyl groups, e.g. lower alkanoyl or phthaloyl groups, which may be halogenated, such as acetyl or dichloroacetyl groups, as described above; amino groups and/or functionally in the form of salts such as sodium salts or esters such as lower alkyl esters such as methyl esters or ethyl esters or aryl lower alkyl esters such as diphenyl methyl esters. ], aminoacetyl group, carboxyacetyl group', methoxycarbonylacetyl group, ethoxycarbonylacetyl group, bis-methoxycarbonylacetyl group, N-phenylcarbamoylacetyl group, cyanoacetyl group group, α-cyanopropionyl group, 2-cyano-3,3-dimethylacrylyl group, phenylacetyl group, α-bromphenylacetyl group, α-acydophenylacetyl group, 3-chlorophenylacetyl group, 2- or 4-aminomethylphenylacetyl group (with an amino group which may be substituted, e.g. as described above), phenacylcarbonyl group,
Phenyloxyacetyl iF, 4-trifluoromethylphenyloxyacetyl group, benzyloxyacetyl group, phenylthioacetyl group, bromphenylthioacetyl group, 2-phenyloxypropionyl group, α-phenyloxyphenylacetyl group, α-methoxyphenyl Acetyl group, α-ethoxyphenylacetyl group, α-methoxy-3,4-dichlorophenylacetyl group, α-cyanophenylacetyl group, especially phenylglycyl group, 4-
Hydroxyphenylglycyl group, 3-chloro-4-hydroxyphenylglycyl group, 3,5-dichloro-4-hydroxyphenylglycyl group, α-amino-α-(1,
4-cyclohexagenyl)-acetyl group, α-amino-α-(1-cyclohexenyl)-acetyl group, α-aminomethyl-α-phenylacetyl group or α-hydroxyphenylacetyl group [in these groups, the presence The amino groups present may also be substituted, for example as mentioned above, and/or the aliphatic hydroxyl groups and/or phenolic hydroxyl groups present may be substituted, for example by suitable acyl groups, in particular formyl groups or ], or α-0-methylphosphono-phenylacetyl group or α-0,0′-dimethyl-phosphono-phenylacetyl group, and also benzylthioacetyl group, benzylthioacetyl group, etc. propionyl group, α-carboxyphenylacetyl group (which can optionally have a functionally modified carboxyl group, e.g. as mentioned above), 3-phenylpropionyl i, 3-(3-cyanophenyl)- propionyl groups, 4-(3-methoxyphenyl) to butyryl groups, 2-pyridylacetyl groups, 4-aminopyridinium acetyl groups (which can optionally carry amino groups substituted, for example, as described above), 2-thhenylacetyl group, 3-thhenylacetyl group, 2-tetrahydrothenylacetyl group, 2-furylacetyl group, 1-
imidazolylacetyl group, 1-tetrazolylacetyl group, α-carboxy-2-chenylacetyl group or α-
Carboxy-3-thhenylacetyl group (which can optionally have a functionally modified carboxyl group, e.g. as mentioned above), α-cyano-2-thhenylacetyl group, α-amino-α -(2-chenyl)-
Acetyl group, α-amino-α-(2-furyl)-acetyl group or α-amino-α-(4-isothiazolyl)-
acetyl groups (which may optionally carry substituted amino groups, e.g. as mentioned above), α-sulfophenylacetyl groups (which sulfo groups may optionally be functionally modified, e.g. the carboxyl groups mentioned above); 3-methyl-2-imidazolylthioacetyl group, 1.2.4-) lyazol-3-ylthioacetyl group, 1,3.4-) lyazol-2-y ruthioacetyl group 5-methyl-1,2,4-
They are a thiadiazol-3-ylthioacetyl group, a 5-methyl-1,3,4-thiadiazol-2-ylthioacetyl group, or a 1-methyl-5-tetrazolylthioacetyl group.

容易に分裂できる特に炭酸半エステルのアシル基Acは
とりわけ還元例えば化学的還元剤で処理することにより
または酸処理例えばトリフルオル酢酸で処理することに
より分裂することのできる炭酸半エステルのアシル基、
例えばその酸素原子に対するα−位置の炭素原子におい
て高度に分枝しているそして(または)芳香族的に置換
されている低級アルコキシカルボニル基、またはアリー
ルカルボニル基殊にベンゾイル基で置換されたメトキシ
カルボニル基、またはβ−位置でハロゲン置換された低
級アルコキシカルボニル基、例えばt−ブトキシカルボ
ニル基、t−ペントキシカルボニル基、フェナシルオキ
シカルボニル基、2.2.2−トリクロルエトキシカル
ボニル基または2−ヨードエトキシカルボニル基あるい
は2−コードエトキシカルボニル基に変えることのでき
る基例えば2−クロルエトキシカルボニル基または2−
ブロムエトキシカルボニル基のような基、そして好まし
くは多環式のシクロアルコキシカルボニル基例えばアダ
マンチルオキシカルボニル基、置換されている場合のあ
るフェニル−低級アリールカルボニル基、とりわけα−
フェニル−低級アルコキシカルボニル基(そのα−位置
はポリ置換されているのが好ましい)、例えばジフェニ
ルメトキシカルボニル基またはα−4−ビフェニリル−
α−メチルエトキシカルボニル基、またはフリル−低級
アルコキシカルボニル基とりわけα−フリル−低級アル
コキシカルボニル基例えばフルフリルオキシカルボニル
基である。
The acyl group Ac of the carbonate half-ester which is easily cleavable, especially the acyl group of the carbonate half-ester which can be cleaved by reduction, e.g. by treatment with a chemical reducing agent, or by acid treatment, e.g. by treatment with trifluoroacetic acid;
For example, lower alkoxycarbonyl radicals which are highly branched and/or aromatically substituted in the carbon atom in the α-position relative to the oxygen atom, or methoxycarbonyl radicals substituted with arylcarbonyl radicals, especially benzoyl radicals. or a lower alkoxycarbonyl group substituted with halogen in the β-position, such as t-butoxycarbonyl group, t-pentoxycarbonyl group, phenacyloxycarbonyl group, 2.2.2-trichloroethoxycarbonyl group or 2-iodo An ethoxycarbonyl group or a group that can be converted into a 2-coded ethoxycarbonyl group, such as a 2-chloroethoxycarbonyl group or a 2-coded ethoxycarbonyl group.
groups such as bromoethoxycarbonyl groups, and preferably polycyclic cycloalkoxycarbonyl groups such as adamantyloxycarbonyl groups, optionally substituted phenyl-lower arylcarbonyl groups, especially α-
a phenyl-lower alkoxycarbonyl group (preferably polysubstituted in the α-position), such as a diphenylmethoxycarbonyl group or an α-4-biphenylyl group;
α-methylethoxycarbonyl group or furyl-lower alkoxycarbonyl group, especially α-furyl-lower alkoxycarbonyl group, such as furfuryloxycarbonyl group.

基R+とI’とで形成されている2価のアシル基は例え
ば低級アルカンジカルボン酸または低級アルケンジカル
ボン酸のアシル基、例えばサクシニル基、またはフタロ
イル基のようなO−アリーレンジカルボン酸のアシル基
である。
The divalent acyl group formed by the groups R+ and I' is, for example, an acyl group of a lower alkanedicarboxylic acid or a lower alkenedicarboxylic acid, such as a succinyl group, or an acyl group of an O-arylene dicarboxylic acid such as a phthaloyl group. be.

また、基R+とR1i+とで形成されている他の2価の
基は例えば、特に2−位置に置換基例えば置換されてい
る場合のあるフェニル基またはチェニル基をもちそして
場合によっては4−位置でメチル基のような低級アルキ
ル基でモノ置換またはジ置換されていることのできる1
−オキソ−3−アザ−1,4−ブチレン基、例えば4.
4−ジメチル−2−フェニル−1−オキソ−3−アザ−
1,4−ブチレン基である。
Other divalent radicals formed by the radicals R+ and R1i+ can also carry, for example, substituents, such as phenyl or chenyl groups, which may be substituted, in particular in the 2-position, and optionally in the 4-position. 1 which can be mono- or di-substituted with a lower alkyl group such as a methyl group
-oxo-3-aza-1,4-butylene group, for example 4.
4-dimethyl-2-phenyl-1-oxo-3-aza-
It is a 1,4-butylene group.

エーテル化された水酸基R8は、式中のカルボニル基と
いっしょに、好ましくは容易に分裂できるかまたは他の
官能的に変えられたカルボキシル基(例えば、カルバモ
イル基またはヒドラジノカルボニル基)に容易に変える
ことのできるエステル化されたカルボキシル基を形成し
ている。このような基RI7は例えばメトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基またはイソプロポキシ基のよ
うな低級アルコキシ基であって、これらはカルポニ/L
4といっしょにエステル化されたカルボキシル基を形成
しており、これらを殊に2−セフェム化合物においては
容易に遊離カルボキシル基にまたは他の官能的に変えら
れたカルボキシル基に変えることができる。
The etherified hydroxyl group R8 together with the carbonyl group in the formula is preferably easily cleavable or easily converted into other functionally modified carboxyl groups, such as carbamoyl or hydrazinocarbonyl groups. It forms an esterified carboxyl group that can be esterified. Such groups RI7 are, for example, lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n-propoxy or isopropoxy, which are carbonyl/L
Together with 4, they form esterified carboxyl groups, which can be easily converted into free carboxyl groups or into other functionally modified carboxyl groups, especially in 2-cephem compounds.

基−C(=O)−といっしょに特に容易分裂することの
できるエステル化されたカルボキシル基を形成している
エーテル化された水酸基Reは、例えば、ハロゲン原子
として原子量が19以上のものをもっている2−ハロゲ
ノ−低級アルコキシ基である。このような基は基−C(
=O)−といっしょに、中性または弱酸性条件下で化学
的還元剤例えば水性酢酸の存在下で亜鉛で処理すること
により容易に分裂することのできるエステル化されたカ
ルボキシル基またはこのような基に容易に変えることの
できるエステル化されたカルボキシル基を形成している
。このような基は例えば2.2.2− )リクロルエト
キシ基または2−ヨードエトキシ基、あるいは2−ヨー
ドエトキシ基に容易に変えることのできる2−クロルエ
トキシ基または2−ブロムエトキシ基である。
The etherified hydroxyl group Re, which together with the group -C(=O)- forms an esterified carboxyl group which can be particularly easily split, has, for example, an atomic mass of 19 or more as a halogen atom. It is a 2-halogeno-lower alkoxy group. Such a group is the group -C(
=O)- together with esterified carboxyl groups or such which can be easily cleaved by treatment with zinc in the presence of a chemical reducing agent such as aqueous acetic acid under neutral or weakly acidic conditions. It forms an esterified carboxyl group that can be easily converted into a carboxyl group. Such groups are, for example, 2.2.2-) lychloroethoxy or 2-iodoethoxy, or 2-chloroethoxy or 2-bromoethoxy which can be easily converted into 2-iodoethoxy. .

さらに、同様に中性または弱酸性条件下で化学的還元剤
例えば水性酢酸の存在下で亜鉛で処理することによって
またはナトリウムチオフェノラートのような適当な親核
反応剤で処理することによって容易に分裂することので
きるエステル化されたカルボキシル基を、i−c (=
0)−といっしょに形成しているエーテル化された水酸
基R8としては、アリールカルボニルメトキシ基(アリ
ール基は殊に置換されている場合のあるフェニル基であ
る)そして好ましくはフェナシルオキシ基である。
Additionally, it can be easily treated with zinc in the presence of a chemical reducing agent such as aqueous acetic acid under neutral or weakly acidic conditions or by treatment with a suitable nucleophile such as sodium thiophenolate. The esterified carboxyl group that can be split is defined as i−c (=
The etherified hydroxyl group R8 formed together with 0)- is an arylcarbonylmethoxy group (the aryl group is in particular a phenyl group which may be substituted) and preferably a phenacyloxy group. .

さらに、基R合は、その了り−ル基が殊に単環式の好ま
しくは置換されている芳香族炭化水素基であるアリール
メトキシ基であることもできる。
Furthermore, the radical R can also be an arylmethoxy radical, in particular a monocyclic, preferably substituted aromatic hydrocarbon radical, in which case the -R radical is a monocyclic, preferably substituted, aromatic hydrocarbon radical.

このような基は、中性または酸性条件下で照射好ましく
は紫外線照射によって容易に分裂することのできるエス
テル化されたカルボキシル基を基−C(−〇)−といっ
しょにに形成している。このようなアリールメトキシ基
における了り−ル基は殊に低級アルコキシフェニル基例
えばメトキシフェニル基〔そのメトキシ基は主として3
−14−および(または)5−位置にあるものとする〕
および(または)へりわけニトロフェニル基(そのニト
ロ基は好ましくは2−位置にあるものとする)である。
Such groups together with the group -C(-0)- form an esterified carboxyl group which can be easily cleaved by radiation, preferably UV radiation, under neutral or acidic conditions. The aryl group in such an arylmethoxy group is particularly a lower alkoxyphenyl group such as a methoxyphenyl group [the methoxy group is mainly 3
-14- and (or) 5- position]
and/or a nitrophenyl group, with the nitro group preferably in the 2-position.

このような基は特に低級アルコキシ−1例えばメトキシ
−ベンジルオキシ基および(または)ニトロ−ベンジル
オキシ基、主として3−または4−メトキシベンジルオ
キシ基、3,5−ジメトキシベンジルオキシ基、2−ニ
トロベンジルオキシ基または4.5−ジメトキシ−2−
ニトロベンジルオキシ基である。
Such radicals are in particular lower alkoxy-1, such as methoxy-benzyloxy and/or nitro-benzyloxy radicals, principally 3- or 4-methoxybenzyloxy, 3,5-dimethoxybenzyloxy, 2-nitrobenzyl Oxy group or 4,5-dimethoxy-2-
It is a nitrobenzyloxy group.

さらに、エーテル化された水酸基R8は、酸性条件下で
例えばトリフルオル酢酸またはぎ酸で処理することによ
り容易に分裂できるエステル化されたカルボキシル基を
基−C(=O)−といっしょに形成している基であるこ
ともできる。このような基は主として、そのメチル基が
置換されている場合のある炭化水素基殊に脂肪族または
芳香族炭化水素基例えばメチル基のような低級アルキル
基および(または)フェニル基によってポリ置換されて
いるかまたは電子供与性置換基をもつ炭素環式アリール
基によってまたは環構成具として酸素原子またはいおう
原子をもつ芳香族性の複素環式基によってモノ置換され
ているメトキシ基であるかまたはそのメチル基が多環式
脂肪族炭化水素基における環構成具またはオキサ脂環式
または脂環式基における酸素原子またはいおう原子に対
するα−位置を占める環構成具を成しているようなメト
キシ基である。
Furthermore, the etherified hydroxyl group R8 forms together with the group -C(=O)- an esterified carboxyl group which can be easily cleaved under acidic conditions, e.g. by treatment with trifluoroacetic acid or formic acid. It can also be a group. Such radicals are primarily composed of hydrocarbon radicals, the methyl radicals of which may be substituted, in particular aliphatic or aromatic hydrocarbon radicals, such as polysubstituted lower alkyl radicals such as methyl radicals, and/or phenyl radicals. a methoxy group or its methyl monosubstituted by a carbocyclic aryl group having an electron-donating substituent or by an aromatic heterocyclic group having an oxygen or sulfur atom as a ring member; a methoxy group in which the group forms a ring member in a polycyclic aliphatic hydrocarbon group or a ring member occupying the α-position relative to the oxygen or sulfur atom in an oxacycloaliphatic or alicyclic group; .

この種類のポリ置換されたメトキシ基のうちで好ましい
ものはt−低級アルコキシ基例えば1−ブチルオキシ基
またはt−ペンチルオキシ基、置換されている場合のあ
るジフェニルメトキシ基、例えばジフェニルメトキシ基
または4,4″−ジメトキシ−ジフェニルメトキシ基、
さらに2−(4−ビフェニリル)−2−プロピルオキシ
基であり、上記の置換された了り−ル基または複素環式
基をもつメトキシ基は例えば4−メトキシベンジルオキ
シ基や3.4−ジメトキシベンジルオキシ基のようなα
−低級アルコキシフェニルー低級アルコキシ基または2
−フルフリルオキシ基のようなフルフリルオキシ基であ
る。メトキシ基のメチル基を好ましくは3種に分枝した
環構成員としてもっている多環式脂肪族炭化水素基は例
えば1−アダマンチル基のようなアダマンチル基であり
、そしてメトキシ基のメチル基を酸素原子またはいおう
原子に対するα−位置の環構成員としてもっている上記
のオキサ−またはチア−脂環式基は例えば環原子5〜7
個をもつ2−オキサ−または2−チアー低級アルキレン
基または低級アルケニレン基、例えば2−テトラヒドロ
フリル基、2−テトラヒドロピラニル基または2.3−
ジヒドロ−2−ピラニル基または相当するいおう同族体
の基である。
Among polysubstituted methoxy groups of this type, preferred are t-lower alkoxy groups, such as 1-butyloxy or t-pentyloxy, optionally substituted diphenylmethoxy groups, such as diphenylmethoxy or 4, 4″-dimethoxy-diphenylmethoxy group,
Furthermore, the methoxy group is a 2-(4-biphenylyl)-2-propyloxy group, and the above-mentioned substituted ester group or heterocyclic group is, for example, a 4-methoxybenzyloxy group or a 3,4-dimethoxy group. α like benzyloxy group
-lower alkoxyphenyl-lower alkoxy group or 2
- a furfuryloxy group such as a furfuryloxy group. The polycyclic aliphatic hydrocarbon group having the methyl group of the methoxy group as a preferably tri-branched ring member is, for example, an adamantyl group such as a 1-adamantyl group, and the methyl group of the methoxy group is an adamantyl group such as a 1-adamantyl group. The above-mentioned oxa- or thia-cycloaliphatic groups having as ring members in the α-position relative to the atom or sulfur atom include, for example, 5 to 7 ring atoms.
2-oxa- or 2-thia lower alkylene or lower alkenylene groups having 2-oxa- or 2-thia, such as 2-tetrahydrofuryl, 2-tetrahydropyranyl or 2,3-
A dihydro-2-pyranyl group or a corresponding sulfur homologue.

さらに、基R8は加水分解によって例えば弱塩基性また
は弱酸性条件下で分裂することのできるエステル化され
たカルボキシル基を基−C(・0)−といっしょに形成
しているエーテル化された水酸基であることもできる。
Furthermore, the group R8 is an etherified hydroxyl group which together with the group -C(·0)- forms an esterified carboxyl group which can be cleaved by hydrolysis, e.g. under weakly basic or weakly acidic conditions. It can also be.

このような基は好ましくは活性化されたエステル基を基
−C(=O)−といっしょに形成しているエーテル化さ
れた水酸基例えば4−二トロフェニルオキシ基や2,4
−ジニトロフェニルオキシ基のようなニトロフェニルオ
キシ基、4−ニトロベンジルオキシ基のようなニトロフ
ェニル低級アルコキシ基、4−ヒドロキシ−3,5−t
−ブチル−ベンジルオキシ基のようなヒドロキシ−低級
アルキル−ベンジルオキシ基、2.4.6− トリクロ
ルフェニルオキシ基や2.3,4.5.6−ペンタクロ
ルフェニルオキシ基のようなポリハロゲノフェニルオキ
シ基、さらにシアノメトキシ基ならびにアシルアミノメ
トキシ基例えばフタルイミノメトキシ基またはサクシニ
ルイミノメトキシ基である。
Such groups are preferably etherified hydroxyl groups such as 4-nitrophenyloxy or 2,4 which together with the group -C(=O)- form an activated ester group.
-nitrophenyloxy group such as dinitrophenyloxy group, nitrophenyl lower alkoxy group such as 4-nitrobenzyloxy group, 4-hydroxy-3,5-t
-Hydroxy-lower alkyl-benzyloxy groups such as -butyl-benzyloxy groups, polyhalogenophenyl groups such as 2.4.6-trichlorophenyloxy groups and 2.3,4.5.6-pentachlorophenyloxy groups. Oxy groups, as well as cyanomethoxy groups and acylaminomethoxy groups, such as phthaliminomethoxy or succinyliminomethoxy groups.

また、基R8は水素添加分解条件の下で分裂できるエス
テル化されたカルボキシル基をカルボニル4−C(=O
)−といっしょに形成しているエーテル化された水酸基
であることもでき、これは例えばベンジルオキシ基、4
−メトキシベンジルオキシ基または4−ニトロベンジル
オキシ基のような例えば低級アルコキシ基やニトロ基で
置換されていることのできるα−フェニル低級アルコキ
シ基である。
The group R8 also converts an esterified carboxyl group that can be split under hydrogenolysis conditions into a carbonyl 4-C(=O
)- can also be an etherified hydroxyl group, such as a benzyloxy group, 4
an α-phenyl lower alkoxy group which can be substituted with, for example, a lower alkoxy group or a nitro group, such as a -methoxybenzyloxy group or a 4-nitrobenzyloxy group.

また、基8食は生理学的条件の下で分裂することのでき
るエステル化されたカルボキシル基をカルボニル基−C
(=O)−といっしょに形成しているエーテル化された
水酸基、主としてアシルオキシメトキシ基(そのアシル
基は例えば存機カルボン酸、主に置換されている場合の
ある低級アルカンカルボン酸の基であるかまたはそのア
シルオキシメチル部分はラクトンの基を形成しているも
のとする)であることもできる。このようなエーテル化
された水酸基は低級アルカノイルオキシメトキシ基例え
ばアセチルオキシメトキシ基またはピバロイルオキシメ
トキシ基、アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシ基
殊にα−アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシ基例
えばグリシルオキシメトキシ基、L−バリルオキシメト
キシ基、L−ロイシルオキシメトキシ基、さらにフタリ
ジ、ルオキシ基である。
In addition, the group octopus converts the esterified carboxyl group, which can be cleaved under physiological conditions, into the carbonyl group -C
Etherified hydroxyl groups formed together with (=O)-, mainly acyloxymethoxy groups (the acyl groups are, for example, groups of existing carboxylic acids, mainly of lower alkane carboxylic acids that may be substituted) or its acyloxymethyl moiety forming a lactone group). Such etherified hydroxyl groups include lower alkanoyloxymethoxy groups, such as acetyloxymethoxy or pivaloyloxymethoxy groups, amino-lower alkanoyloxymethoxy groups, especially alpha-amino-lower alkanoyloxymethoxy groups, such as glycyloxymethoxy. group, L-valyloxymethoxy group, L-leucyloxymethoxy group, and furthermore phthalidi and ruoxy groups.

シリルオキシ基またはスタニルオキシ基としてのR8は
置換基として好ましくは置換されている場合のある脂肪
族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基例えば
低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、シクロアル
キル基、フェニル基またはフェニル低級アルキル基、ま
たは変えられている場合のある官能性基例えば低級アル
コキシ基のようなエーテル化された水酸基または塩素原
子のようなハロゲン原子をもっており、主としてトリメ
チルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキルシリルオ
キシ基、クロル−メトキシ−メチル−シリル基のような
ハロゲノ−低級アルコキシ−低級アルキル−シリル基ま
たはトリーn−プチルスタニルオキシ基のようなトリ低
級アルキルスタニルオキシ基である。
R8 as a silyloxy group or stannyloxy group is preferably an aliphatic, alicyclic, aromatic or araliphatic hydrocarbon group which may be substituted as a substituent, such as a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a cycloalkyl group , a phenyl group or a phenyl lower alkyl group, or a functional group which may be modified, such as an etherified hydroxyl group such as a lower alkoxy group or a halogen atom such as a chlorine atom, mainly a trimethylsilyloxy group, etc. A tri-lower alkylsilyloxy group, a halogeno-lower alkoxy-lower alkyl-silyl group such as a chloro-methoxy-methyl-silyl group, or a tri-lower alkylstannyloxy group such as a tri-n-butylstannyloxy group.

基−C<=O> −といっしょに好ましくは加水分解に
よって分裂することのできる混合無水物基を形成してい
るアシルオキシ基としてのR全は例えば前記有機カルボ
ン酸または炭酸手誘導体のアシル基をもってのり、例え
ば場合によってはふっ素原子や塩素原子のようなハロゲ
ン原子によって好ましくはα−位置で置換されているこ
とのできる低級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオ
キシ基、ピパリルオキシ基またはトリクロルアセチルオ
キシ基あるいは低級アルコキシカルボニルオキシ基例え
ばメトキシカルボニルオキシ基またはエトキシカルボニ
ルオキシ基である。
R as an acyloxy group which together with the group -C<=O>- preferably forms a mixed anhydride group which can be cleaved by hydrolysis, can be used, for example, with the acyl group of the organic carboxylic acid or carbonic acid derivative mentioned above. a lower alkanoyloxy group, such as an acetyloxy group, a piparyloxy group or a trichloroacetyloxy group, or a lower alkoxycarbonyl group, which may optionally be substituted in the α-position, preferably by a halogen atom such as a fluorine or chlorine atom; An oxy group is, for example, a methoxycarbonyloxy group or an ethoxycarbonyloxy group.

さらに、置換されている場合のあるカルバモイル基また
はヒドラジノカルボニル基を基−C(=O)−といっし
ょに形成している基としてのR8は例えばアミノ基、メ
チルアミン基やエチルアミノ基のような低級アルキルア
ミノ基、ジメチルアミノ基やジエチルアミノ基のような
ジ低級アルキルアミノ基、ピロリジノ基やピペリジノ基
のような低級アルキレンアミノ基、モルホリノ基のよう
なオキサ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシアミノ基
、ヒドラジノ基、2−メチルヒドラジノ基のような2−
低級アルキルヒドラジノ基または2,2−ジメチルヒド
ラジノ基のような2,2−ジ低級アルキルヒドラジノ基
である。
Furthermore, R8 as a group forming a carbamoyl group or a hydrazinocarbonyl group which may be substituted together with the group -C(=O)- is, for example, an amino group, a methylamine group or an ethylamino group. lower alkylamino groups, di-lower alkylamino groups such as dimethylamino and diethylamino groups, lower alkyleneamino groups such as pyrrolidino and piperidino groups, oxa-lower alkyleneamino groups such as morpholino groups, hydroxyamino groups, hydrazino groups; group, 2- such as 2-methylhydrazino group
A lower alkylhydrazino group or a 2,2-di-lower alkylhydrazino group such as a 2,2-dimethylhydrazino group.

低級アルキル基R3は炭素原子を7個まで好ましくは4
個までもち、そしてメチル基、エチル基、n−プロピル
基、ヘキシル基、またはへブチル基である。
The lower alkyl group R3 has up to 7 carbon atoms, preferably 4
and a methyl group, ethyl group, n-propyl group, hexyl group, or hebutyl group.

α−フェニル−低級アルキル基としてR1は、特にベン
ジル基およびジフェニルメチル基であり、フェニル核の
置換基は例えばエステル化またはエーテル化された水酸
基、例えばハロゲン原子例えばふっ素原子、塩素原子ま
たは臭素原子、または低級アルコキシ基例えばメトキシ
基である。塩は、殊に酸性基例えばカルボキシル基、ス
ルホ基またはホスホノ基をもつ式(IA)および(IB
)の化合物の塩であって、主として金属塩またはアンモ
ニウム塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム
またはカルシウムの塩のようなアルカリ金属またはアル
カリ土類金属の塩、ならびにアンモニアまたは適当な有
機アミノとのアンモニウム塩である。塩の形成に使用で
きる有機アミンはとりわけ脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族および芳香脂肪族の第1、第2または第3モノアミン
、ジアミンまたはポリアミンならびに複素環式塩基であ
って、このようなアミンはトリエチルアミンのような低
級アルキルアミン、2−ヒドロキシエチルアミン、ビス
−(2−ヒドロキシエチル)−アミンまたはトリー(2
−ヒドロキシエチル)−アミンのようなヒドロキシ−低
級アルキルアミン、4−アミノ安息香酸−2−ジエチル
アミノ−エチルエステルのようなカルボン酸の塩基性脂
肪族エステル、1−エチルピペリジンのような低級アル
キレンアミン、ビシクロヘキシルアミンのようなシクロ
アルキルアミンまたはN、N’−ジベンジルエチレンジ
アミンのようなベンジルアミンおよびまたピリジン、コ
リジンまたはキノリンのようなピリジン型の塩基である
。また、塩基性基をもつ式(IA)および(IB)の化
合物は酸付加塩例えば塩基、硫酸またはりん酸のような
無機酸または適当な有機カルボン酸またはスルホン酸例
えばトリフルオル酢酸またはp−トルエンスルホン酸と
の酸付加塩を形成することができる。酸性基と塩基性基
とを有する式(I A)および(IB)の化合物は分子
内塩の形すなわちツビッタ−イオンの形であることもで
きる。塩形成基をもっている式(IA)の化合物の1−
オキシドもまた上記のように塩を形成することができる
As α-phenyl-lower alkyl radicals R1 is in particular benzyl and diphenylmethyl, substituents on the phenyl nucleus being e.g. esterified or etherified hydroxyl groups, e.g. halogen atoms, e.g. fluorine, chlorine or bromine atoms, or a lower alkoxy group such as a methoxy group. Salts are suitable in particular of formulas (IA) and (IB) with acidic groups such as carboxyl, sulfo or phosphono groups.
), mainly metal salts or ammonium salts, for example salts of alkali metals or alkaline earth metals, such as salts of sodium, potassium, magnesium or calcium, as well as ammonium salts with ammonia or suitable organic amino acids. It is. Organic amines which can be used for the formation of salts are, in particular, aliphatic, cycloaliphatic, cycloaliphatic and araliphatic primary, secondary or tertiary monoamines, diamines or polyamines and heterocyclic bases. Such amines include lower alkyl amines such as triethylamine, 2-hydroxyethylamine, bis-(2-hydroxyethyl)-amine or tri(2-hydroxyethyl)-amine.
hydroxy-lower alkyl amines such as -hydroxyethyl)-amine, basic aliphatic esters of carboxylic acids such as 4-aminobenzoic acid-2-diethylamino-ethyl ester, lower alkylene amines such as 1-ethylpiperidine, cycloalkylamines such as bicyclohexylamine or benzylamines such as N,N'-dibenzylethylenediamine and also bases of the pyridine type such as pyridine, collidine or quinoline. Compounds of formula (IA) and (IB) having a basic group can also be used as acid addition salts, such as bases, inorganic acids such as sulfuric acid or phosphoric acid, or suitable organic carboxylic acids or sulfonic acids, such as trifluoroacetic acid or p-toluenesulfone. Acid addition salts can be formed with acids. The compounds of formulas (IA) and (IB) having acidic and basic groups can also be in the form of internal salts, ie in the form of Zwitter ions. 1- of a compound of formula (IA) having a salt-forming group
Oxides can also form salts as described above.

本発明による新化合物は薬理的に価値ある性質を示しま
たはこのような性質をもつ化合物の製造用中間体として
使用できる。式(IA)において例えばR+が6β−ア
ミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物または7β−アミ
ノ−3−セフェム−4−カルボン酸化合物の薬理活性な
N−アシル誘導体に存在するアシル基Acでありそして
lが水素原子であるかまたはR+とRYとがその両方で
2−位置において好ましくは例えば芳香族基または複素
環式基によってそして4−位置において好ましくは例え
ばメチル基のような低級アルキル基2個によって置換さ
れている1−オキソ−3−アザ−1,4−ブチレン基を
表わし、R2が水酸基であるかまたは生理学的条件の下
で容易に分裂することのできるエステル化されたカルボ
キシル基をカルボニル基といっしょに形成しているエー
テル化された水酸基R8でありそしてR3が低級アルキ
ル基、そしてアシル基としてのRY中に存在する場合の
ある官能性基例えばアミノ基、カルボキシル基、水酸基
および(または)スルホ基が通常遊離の形で存在するよ
うな化合物または塩形成基をもつこのような化合物の塩
は、非経腸的および(または)経口的に投与する場合に
、微生物例えばダラム陽性菌例えばスタフイロコカス・
オーリウス(Staphylococcus aure
us)、ストレブリコカス0ピロゲネス(Strept
ococcus Pyrogenes)およびディプロ
コカス・ニューモニエ (Diplococcus pneumoniae )
 (例えばマウスでは約0.001〜0.02 g /
 kg S、c、またはP、o、の投与量で)およびダ
ラム陰性菌例えばニジエリチア・コリ (Escher
ichia coli ) %サルモネラ・チフイムリ
ウム(Salmonella typhimuriu麟
)、シゲルラ・フレクスネリ(Shigella fl
exneri ) 、タレブシルラ・ニュモニエ(Kl
ebsiellapneumoiae ) 、エンテロ
バクタ−・クロアカニ(EnterobacLer c
loacae )、プロテウス0ブルガリス(Prot
eus vulgaris )、プロテウス・レットゲ
リ(Proteus rettgeri)およびプロテ
ウス・ミラビリス(Proteus m1rabili
s )  (例えばマウスにおいて約0.001〜0.
15 g / kg S、c、またはP、0゜の投与量
で)に対し、殊にペニシリン耐性細菌にも、少い毒性で
有効である。故に、これら新化合物を例えば抗生物質製
剤の形で相当する感染の処置に使うことができる。
The new compounds according to the invention exhibit pharmacologically valuable properties or can be used as intermediates for the production of compounds with such properties. In formula (IA), for example, R+ is the acyl group Ac present in the pharmacologically active N-acyl derivative of the 6β-amino-penam-3-carboxylic acid compound or the 7β-amino-3-cephem-4-carboxylic acid compound, and l is a hydrogen atom or R+ and RY are both preferably in the 2-position by an aromatic or heterocyclic group and in the 4-position preferably by two lower alkyl groups, such as for example a methyl group; represents a 1-oxo-3-aza-1,4-butylene group substituted by carbonyl, where R2 is a hydroxyl group or an esterified carboxyl group that can be easily cleaved under physiological conditions. an etherified hydroxyl group R8 forming together with the group R3 a lower alkyl group, and functional groups which may be present in RY as an acyl group such as an amino group, a carboxyl group, a hydroxyl group and (or ) Compounds in which the sulfo group is normally present in free form, or salts of such compounds with salt-forming groups, when administered parenterally and/or orally, may be used to treat microorganisms such as Durham-positive bacteria, e.g. Staphylococcus
aureus (Staphylococcus aure)
us), Strebricocus 0 pyrogenes (Strept.
ococcus Pyrogenes) and Diplococcus pneumoniae
(For example, in mice, about 0.001 to 0.02 g/
kg S, c, or P, o,) and Durham-negative bacteria such as N. coli (Escher
ichia coli)% Salmonella typhimurium, Shigella fl.
exneri), Talebcilla numoniae (Kl
ebsiellapneumoiae), Enterobacter cloacani (Enterobacter c.
loacae ), Proteus 0 vulgaris (Prot.
eus vulgaris), Proteus rettgeri and Proteus mirabilis
s ) (for example, about 0.001-0.s in mice).
(at a dose of 15 g/kg S, c, or P, 0°) and is effective with low toxicity, especially against penicillin-resistant bacteria. These new compounds can therefore be used, for example in the form of antibiotic preparations, for the treatment of corresponding infections.

式(IB)の化合物、または式(IA)の化合物の1−
オキシドにおいて、RYとRYとR2とR3とは式(I
A)に関連して前記したのと同じ意味であるか、または
式(IA)においてR3は前記と同じ意味であり、RY
とR1とは水素原子であるか、またはRYが6β−アミ
ノ−ペナム−3−カルボン酸化合物または7β−アミノ
−3−セフェム−4−カルボン酸化合物の薬理活性なN
−アシル誘導体に存在するアシル基とは異るアミン保護
基でありそしてlが水素原子であるかまたはRYとlと
がその両方で2−位置において好ましくは例えば芳香族
基または複素環式基によってそして4−位置において好
ましくはメチル基のような低級アルキル基2個によって
置換されている1−オキソ−3−アザ−1,4−ブチレ
ン基とは異る2価のアミノ保護基でありそしてR2が水
酸基であるか、またはRYとlとが前記の意味をもちそ
してR2が好ましくは容易に分裂できる保護されたカル
ボキシル基を基−C(=O) −といっしょに形成して
いる基R1その保護されたカルボキシル基は生理学的に
分裂できるカルボキシル基ではないものとする)であり
、そしてR1が前記の意味をもつような化合物は、例え
ば下記のように簡単に上記の薬理活性な化合物に変える
ことのできる価値ある中間体である。
1- of a compound of formula (IB) or a compound of formula (IA)
In the oxide, RY, RY, R2 and R3 have the formula (I
A) or in formula (IA) R3 has the same meaning as defined above and RY
and R1 are hydrogen atoms, or RY is the pharmacologically active N of the 6β-amino-penam-3-carboxylic acid compound or the 7β-amino-3-cephem-4-carboxylic acid compound.
- an amine protecting group different from the acyl group present in the acyl derivative and l is a hydrogen atom or both RY and l are preferably in the 2-position, e.g. by an aromatic group or a heterocyclic group; and a divalent amino protecting group different from the 1-oxo-3-aza-1,4-butylene group which is preferably substituted in the 4-position by two lower alkyl groups such as methyl groups and R2 is a hydroxyl group, or RY and l have the abovementioned meanings and R2 preferably forms a readily cleavable protected carboxyl group with the group -C(=O)-. The protected carboxyl group shall not be a physiologically cleavable carboxyl group) and such compounds in which R1 has the above meanings can be easily converted into the above pharmacologically active compounds, e.g. as follows: It is a valuable intermediate that can be used for various purposes.

本発明は、特に式(IA)におけるlが水素原子または
6β−アミノ−ペナム−3〜力ルボン酸化合物または7
β−アミノ−3−セフェム−4−カルボン酸化合物の醗
酵的に(すなわち、天然産の)または生合成、半合成ま
たは全合成により製造できる殊に薬理活性(例えば高度
に活性)なN−アシル誘導体中に存在するアシル基例え
ば前記式(^)のアシル基例えば前記式(^)のアシル
基の1つ(この式でR工とR11とRIMとnとは主と
して前に好ましいとして挙げた意味をもつ)でありそし
てlが水素原子であるかまたはRYと1とが両方で2−
位置において好ましくは例えばフェニル基のような芳香
族または複素環式基によってそして4−位置において好
ましくは例えばメチル基のような低級アルキル基2個に
よって置換されている1−オキソ−3−アザ−ブチレン
基であり、そしてRzは水酸基、低級アルコキシ基〔こ
れは場合によっては好ましくはα−位置において、例え
ば置換されている場合のあるアリールオキシ基例えば4
−メトキシフェニルオキシ基のような低級アルコキシフ
ェニルオキシ基、アセチルオキシ基やピバロイルオキシ
基のような低級アルカノイルオキシ基、グリシルオキシ
基、L−バリルオキシ基またはL−ロイシルオキシ基の
ようなα−アミノ低級アルカノイルオキシ基、アリール
カルボニル基例えばベンゾイル基、または置換されてい
る場合のあるアリール基例えばフェニル基、4−メトキ
シフェニル基のような低級アルコキシフェニル基、4−
ニトロフェニル基のよウナニトロフェニル基または4−
ビフェニリル基のようなビフェニリル基によってまたは
β−位置においてハロゲン原子例えば塩素原子、臭素原
子またはよう素原子によってモノ置換またはポリ置換さ
れていることができる低級アルコキシ基、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、n−プロとルオキシ基、イソプロピ
ルオキシ基、n−ブチルオキシ基、1−ブチルオキシ基
またはt−ペンチルオキシ基のような低級アルコキシ基
、低級アルコキシ基で置換されていることのできるビス
−フェニルオキシ−メトキシ基例えばビス−4−メトキ
シフェニルオキシ−メトキシ基、低級アルカノイルオキ
シ−メトキシ基例えばアセチルオキシメトキシ基または
ピバロイルオキシメトキシ基、α−アミノ低級アルカノ
イルオキシ−メトキシ基例えばグリシル基オキシメトキ
シ基、フェナシルオキシ基、置換されていることのでき
るフェニル低級アルコキシ基殊にフェニルメトキシ基の
ような1−フェニル低級アルコキシ基(このような基は
例えば置換基例えばメトキシ基のような低級アルコキシ
基、ニトロ基またはフェニル基によって置換されている
場合のあるフェニル基1〜3個をもっことができる)、
例えばベンジルオキシ基、4−メトキシヘンシルオキシ
基、2−ビフェニリル−2−プロピルオキシ基、4−ニ
トロベンジルオキシ基、ジフェニルメトキシ基、4,4
′−ジメトキシ−ジフェニルメトキシ基またはトリチル
オキシ基、または2−ハロゲノ低級アルコキシ基例えば
2.2.2− )リクロルエトキシ基、2−クロルエト
キシ基、2−ブロムエトキシ基または2−ヨードエトキ
シ基である〕、さらに2−フタリジルオキシ基ならびに
アシルオキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ基
やエトキシカルボニルオキシ基のような低級アルコキシ
カルボニルオキシ基またはアセチルオキシ基やピバロイ
ルオキシ基のような低級アルカノイルオキシ基)、トリ
メチルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキルシリル
オキシ基、またはアミノ基またはヒドラジノ基(これら
は場合によっては例えばメチル基のような低級アルキル
基または水酸基によって置換されていることができる)
例えば、アミノ基、メチルアミノ基のような低級アルキ
ルアミノ基、ジメチルアミノ基のようなジ低級アルキル
アミノ基、ヒドラジノ基、2−メチルヒドラジノ基のよ
うな2−低級アルキルヒドラジノ基、2,2−ジメチル
ヒドラジノ基のような2,2−ジ低級アルキルヒドラジ
ノ基またはヒドロキシアミノ基であり、そしてR1は水
素原子、低級アルコキシ基、殊にメチル基、またはベン
ジル基またはジフェニルメチル基(例えばハロゲン原子
または低級アルコキシ基で置換されている場合がある)
であるセファム−3−オン化合物、その1−オキシドお
よび式(IB)で表わされる相当する2−セフェム化合
物または塩形成基をもつこのような化合物の塩に関する
ものである。とりわけ、弐   CI A)の3−セフ
ェム−化合物、そして式(IB)で表わされる相当する
2−セフェム化合物ざらに式(I A)の3−セフェム
−化合物の1−オキシドまたは塩形成基をもつこれら化
合物の塩においては、主として、R?は水素原子、また
は6β−アミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物または
7β−アミノ−3−セフェム−4−カルボン酸化合物の
醗酵(すなわち、天然産)によるまたは生合成的に製造
できるN−アシル誘導体中に存在するアシル基殊に弐(
^)の基(この式でRI、RI[、R11およびnは主
として先に好ましいと挙げた意味をもつ)、例えば水酸
基で置換されている場合のあるフェニルアセチル基また
はフェニルオキシアセチル基、さらに場合によっては例
えば低級アルキルチオ基または低級アルケニルチオ基、
置換例えばアシル化されている場合のあるアミノ基およ
び(または)官能的に変えられたカルボキシル基(例え
ば、エステル化されていることのできるカルボキシル基
)によって置換されていることのできる低級アルカノイ
ル基または低級アルケノイル基、例えば4−ヒドロキシ
−フェニルアセチル基、ヘキサノイル基、オクタノイル
基またはn−ブチルチオアセチル基および殊に5−アミ
ノ−5−カルポキシーバレリル基〔そのアミノ基および
(または)カルボキシル基は場合によっては保護されて
おり、例えばアシルアミノ基またはエステル化されたカ
ルボキシル基として存在することができる〕、フェニル
アセチル基またはフェニルオキシアセチル基であるか、
または6β−アミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物ま
たは7β−アミノ−3−セフェム−4−カルボン酸化合
物の高活性N−アシル誘導体中に存在するアシル基殊に
式(^)の基(この式で式Rx、R1,Rfllおよび
nは主に先に好ましいと挙げた意味をもつ)、例えばホ
ルミル基、2−クロルエチルカルバモイル基のような2
−ハロゲノエチルカルバモイル基、シアノアセチル基、
フェニルアセチル基、2−チェニルアセチル基のような
テトラゾリル基、しかし特にα−位置において脂環式、
芳香族または複素環式基のような環式基主に単環式基に
よっておよび官能性基主にアミノ基、カルボキシル基、
スルホ基または水酸基によって置換されたアセチル基、
殊にフェニルグリシル基〔この基におけるフェニル基は
場合によっては例えば保護されている場合のある水酸基
例えばアシルオキシ基例えばハロゲン置換されているこ
とのできる低級アルコキシカルボニルオキシ基または低
級アルカノイルオキシ基によっておよび(または)ハロ
ゲン原子例えば塩素原子によって置換されていることの
できるフェニル基、例えばフェニル基、3−または4−
ヒドロキシ−13−クロル−4−ヒドロキシ−または3
,5−ジクロル−4−ヒドロキシフェニル基(その水酸
基は保護例えばアシル化された水酸基であることもでき
る)であり、そしてアミノ基は場合によっては置換され
ていることもできそして例えば塩の形であることもでき
るスルホアミノ基または置換されたアミノ基(例えば、
置換基として、加水分解により分裂できるトリチル基ま
たは主としてアシル基例えば置換されている場合のある
カルバモイル基例えばウレイドカルボニル基やN′−ト
リクロルメチルウレイドカルボニル基のような置換され
ている場合のあるウレイドカルボニル基、またはグアニ
ジノカルボニル基のような置換されている場合のあるグ
アニジノカルボニル基、または例えばトリフルオル酢酸
のような酸でまたは水性酢酸の存在下での亜鉛のような
化学的還元剤または接触された水素で還元的に処理した
場合にまたは加水分解によって分裂することのできるア
シル基またはこのようなアシル基に変えることのできる
アシル基、好ましくは炭酸半エステルの適当なアシル基
例えばハロゲン置換またはベンゾイル置換されている場
合のあるアルコキシカルボニル基例えばt−ブチルオキ
シカルボニル基、2、2.2−トリクロルエチルオキシ
カルボニル基、2−クロルエトキシカルボニル基、2−
ブロムエトキシカルボニル基、2−ヨードエトキシカル
ボニル基、またはフェナシルオキシカルボニル基、低級
アルコキシ置換またはニトロ置換されている場合のある
フェニル低級アルコキシカルボニル基例えば4−メトキ
シベンジルオキシカルボニル基またはジフェニルメトキ
シカルボニル基、またはカルバモイル基やN−メチルカ
ルバモイル基のような炭酸半アミドのアシル基、さらに
またシアン化水素酸、亜鉱酸またはチオ酢酸アミドのよ
うな親核性剤によって分裂されるアリールチオ基またハ
ナリール低級アルキルチオ基例えば2−ニトロフェニル
チオ基またはトリチルチオ基、電解還元で分裂できる了
り−ルスルホニル基例えば4−メチルフェニルスルホニ
ル基、またはぎ酸または無機酸水溶液例えば塩酸または
りん酸のような酸性剤で分裂できる1−低級アルコキシ
力ルボニルー2−プロピリデン基または1−低級アルカ
ノイル−2−プロピリデン基例えばI−エトキシカルボ
ニル−2−プロピリデン基をもっている)である〕、さ
らにα−1,4−シクロへキサジェニル−グリシル基、
α−(l−シクロへキセニル)−グリシル基、α−2−
またはα−3−チェニルグリシル基のようなα−チェチ
ルグリシル基、α−2−フリルグリシル基のようなα−
フリルグリシル基、またはα−4−イソチアゾリル−グ
リシル基のようなα−イソチアゾリルグリシル基(これ
らの基のアミノ基は例えば先にフェニルグリシル基は述
べたように置換または保護されていることができる)、
さらにα−カルボキシ−フェニルアセチル基またはα−
カルボキシ−チェニルアセチル基例えばα−カルボキシ
−2−チェニルアセチル基(これらは場合によっては官
能的に変えられたカルボキシル基例えばナトリウム塩の
ような塩の形またはエステル例えばメチルエステルまた
はエチルエステルのような低級アルキルエステルやジフ
ェニルメチルエステルのようなフェニル−低級アルキル
エステルの形にあるカルボキシル基をもっていてもよい
)またはα−スルホ−フェニルアセチル基(これは場合
によっては例えば上記のカルボキシル基のように官能的
に変えられたスルホ基をもっていてもよい)、α−ホス
ホノ−1α−〇−メチルホスホノーまたはα−〇、0′
−ジメチルホスホノーフェニルアセチル基、またはα−
ヒドロキシ−フェニルアセチル基〔これは官能的に変え
られた水酸基、殊にアシルオキシ基(このアシル基は例
えばトリフルオル酢酸のような酸性剤で処理するかまた
は水性酢酸の存在下での亜鉛のような化学的還元剤で処
理する場合に好ましくは容易に分裂することのできるア
シル基またはこのようなアシル基に変えることのできる
アシル基、好ましくは炭酸半エステルのアシル基例えば
前記の例えばハロゲン置換またはベンゾイル置換されて
いることのできる低級アルコキシカルボニル基、例えば
2,2.2− トリクロルエトキシカルボニル基、2−
クロルエトキシカルボニル基、2−ブロムエトキシカル
ボニル基、2−ヨードエトキシカルボニル基、t−ブチ
ルオキシカルボニル基またはフェナシルオキシカルボニ
ル基、さらにホルミル基である)をもっていることがで
きる〕、ならびに〕1−アミノーシクへキシルカルボニ
ル基、2−または4−アミノメチル−フェニルアセチル
基のようなアミノメチルフェニルアセチル基または4−
アミノピリジニウムアセチル基のようなアミノ−ピリジ
ニウムアセチル基(これらも例えば上記のように置換さ
れたアミノ基をもっていることもできる)、または4−
ピリジルチオアセチル基のようなピリジルチオアセチル
基であり、そしてlは水素原子であるか、またはR?と
R9とはその両方で4−位置にメチル基のような低級ア
ルキル基2個をもつ場合のある1−オキソ−3−アザ−
1,4−ブチレン基〔これは2−位置において好ましく
は、場合によっては保護された水酸基例えばアシルオキ
シ基例えばハロゲン置換されていることのできる低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカノイルオ
キシ基によっておよび(または)ハロゲン原子例えば塩
素原子によって置換されていることのできるフェニル基
、例えばフェニル基、または3−または4−ヒドロキシ
−13−クロル−4−ヒドロキシ−または3.5−ジク
ロル−4−ヒドロキシ−フェニル基(その水酸基は保護
例えば上記のようにアシル化されていることもできる)
をもっていることができる〕であり、そしてR2は水酸
基、低級アルコキシ基殊にα−位置で高度に分枝した低
級アルコキシ基例えばL−ブトキシ基、さらにメトキシ
基またはエトキシ基、2−ハロゲノ低級アルコキシ基ま
たは2.2.2− トリクロルエトキシ基、2−ヨード
エトキシ基またはこの基に容易に変えることのできる2
−クロルエトキシ基または2−ブロムエトキシ基、フェ
ナシルオキシ基、低級アルコキシ基またはニトロ基で置
換されていることのできるフェニル基1〜3個をもつ1
−フェニル低級アルコキシ基例えば4−メトキシベンジ
ルオキシ基、4−ニトロベンジルオキシ基、ジフェニル
メトキシ基、4.4′−ジメトキシ−ジフェニルメトキ
シ基またはトリチルオキシ基、低級アルカノイルオキシ
メトキシ基例えばアセチルオキシメトキシ基またはピバ
ロイルオキシメトキシ基、α−アミノ低級アルカノイル
オキシメトキシ基例えばグリシルオキシメトキシ基、2
−フタリジルオキシメトキシ基、低級アルコキシカルボ
ニルオキシ基例えばエトキシカルボニルオキシ基または
低級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオキシ基、さ
らにトリ低級アルキルシリルオキシ基例えばトリメチル
シリルオキシ基であり、そしてR1は水素原子、低級ア
ルキル基特にメチル基であるか、またはベンジル基また
はジフェニルメチル基(これらは場合により例えばハロ
ゲン原子、塩素原子または臭素原子、または低級アルコ
キシ基例えばメトキシ基で置換されていることがある)
である。
The present invention particularly provides a compound in which 1 in formula (IA) is a hydrogen atom, 6β-amino-penam-3, or 7
Particularly pharmacologically active (e.g. highly active) N-acyl which can be prepared fermentatively (i.e. naturally occurring) or biosynthetically, semi-synthetically or totally synthetically of β-amino-3-cephem-4-carboxylic acid compounds. An acyl group present in the derivative, for example an acyl group of the above formula (^), for example one of the acyl groups of the above formula (^) (in this formula, R, R11, RIM and n mainly have the meanings mentioned above as preferred). ) and l is a hydrogen atom or RY and 1 are both 2-
1-oxo-3-aza-butylene substituted in the 4-position preferably by an aromatic or heterocyclic group, such as a phenyl group, and preferably by two lower alkyl groups, such as a methyl group, in the 4-position. and Rz is a hydroxyl group, a lower alkoxy group [which may optionally be substituted, preferably in the α-position, e.g. an aryloxy group, e.g.
- lower alkoxyphenyloxy groups such as methoxyphenyloxy, lower alkanoyloxy groups such as acetyloxy or pivaloyloxy, α-amino lower alkanoyloxy groups such as glycyloxy, L-valyloxy or L-leucyloxy; , an arylcarbonyl group such as a benzoyl group, or an optionally substituted aryl group such as a phenyl group, a lower alkoxyphenyl group such as a 4-methoxyphenyl group, a 4-
Nitrophenyl group or 4-
lower alkoxy groups, such as methoxy, ethoxy, n- A bis-phenyloxy-methoxy group which may be substituted with a lower alkoxy group, such as a pro-, isopropyloxy, n-butyloxy, 1-butyloxy or t-pentyloxy group, e.g. Bis-4-methoxyphenyloxy-methoxy group, lower alkanoyloxy-methoxy group such as acetyloxymethoxy group or pivaloyloxymethoxy group, α-amino lower alkanoyloxy-methoxy group such as glycyl group, oxymethoxy group, phenacyloxy group , a phenyl lower alkoxy group which may be substituted, in particular a 1-phenyl lower alkoxy group such as a phenylmethoxy group (such groups include, for example, substituents such as a lower alkoxy group such as a methoxy group, a nitro group or a phenyl group). may have 1 to 3 phenyl groups, which may be substituted with),
For example, benzyloxy group, 4-methoxyhensyloxy group, 2-biphenylyl-2-propyloxy group, 4-nitrobenzyloxy group, diphenylmethoxy group, 4,4
'-dimethoxy-diphenylmethoxy group or trityloxy group, or 2-halogeno lower alkoxy group, such as 2.2.2-)lychloroethoxy group, 2-chloroethoxy group, 2-bromoethoxy group or 2-iodoethoxy group; 2-phthalidyloxy group and acyloxy group (for example, lower alkoxycarbonyloxy group such as methoxycarbonyloxy group or ethoxycarbonyloxy group or lower alkanoyloxy group such as acetyloxy group or pivaloyloxy group), trimethylsilyl a tri-lower alkylsilyloxy group such as an oxy group, or an amino group or a hydrazino group (which may optionally be substituted by a lower alkyl group such as, for example, a methyl group or a hydroxyl group)
For example, an amino group, a lower alkylamino group such as a methylamino group, a di-lower alkylamino group such as a dimethylamino group, a hydrazino group, a 2-lower alkylhydrazino group such as a 2-methylhydrazino group, 2, 2,2-dilower alkylhydrazino, such as 2-dimethylhydrazino, or a hydroxyamino group, and R1 is a hydrogen atom, a lower alkoxy group, especially a methyl group, or a benzyl or diphenylmethyl group, e.g. (may be substituted with a halogen atom or lower alkoxy group)
cepham-3-one compounds, their 1-oxides and corresponding 2-cephem compounds of formula (IB) or salts of such compounds with salt-forming groups. In particular, the 3-cephem compounds of the formula (IA) and the corresponding 2-cephem compounds of the formula (IB) also contain the 1-oxide or salt-forming group of the 3-cephem compounds of the formula (IA). In the salts of these compounds, R? is a hydrogen atom, or an N-acyl derivative that can be produced by fermentation (i.e., naturally occurring) or biosynthetically of a 6β-amino-penam-3-carboxylic acid compound or a 7β-amino-3-cephem-4-carboxylic acid compound The acyl group present in
^) (in this formula RI, RI[, R11 and n mainly have the meanings given above as preferred), for example a phenylacetyl group or a phenyloxyacetyl group which may be substituted with a hydroxyl group, and if For example, lower alkylthio or lower alkenylthio groups,
lower alkanoyl groups which may be substituted, for example by amino groups which may be acylated and/or by functionally altered carboxyl groups (e.g. carboxyl groups which may be esterified); Lower alkenoyl groups, such as 4-hydroxy-phenylacetyl, hexanoyl, octanoyl or n-butylthioacetyl groups, and especially 5-amino-5-carpoxyvaleryl groups, the amino and/or carboxyl groups being optionally protected and can be present, for example, as an acylamino group or an esterified carboxyl group], a phenylacetyl group or a phenyloxyacetyl group,
or the acyl group present in the highly active N-acyl derivative of the 6β-amino-penam-3-carboxylic acid compound or the 7β-amino-3-cephem-4-carboxylic acid compound, especially the group of formula (^) (this formula in which the formulas Rx, R1, Rfll and n mainly have the meanings given above as preferred), such as formyl group, 2-chloroethylcarbamoyl group, etc.
-halogenoethylcarbamoyl group, cyanoacetyl group,
Tetrazolyl groups such as phenylacetyl group, 2-thhenylacetyl group, but especially cycloaliphatic in the α-position,
cyclic groups such as aromatic or heterocyclic groups, mainly by monocyclic groups and functional groups mainly by amino groups, carboxyl groups,
an acetyl group substituted by a sulfo group or a hydroxyl group,
In particular, a phenylglycyl group, in which the phenyl group may optionally be protected, for example by a hydroxyl group, such as an acyloxy group, such as a lower alkoxycarbonyloxy group or a lower alkanoyloxy group, which may be substituted with halogen, and ( or) a phenyl group, such as a phenyl group, 3- or 4-, which can be substituted by a halogen atom, e.g. a chlorine atom.
hydroxy-13-chloro-4-hydroxy- or 3
, 5-dichloro-4-hydroxyphenyl group, the hydroxyl group of which can also be a protected e.g. acylated hydroxyl group, and the amino group optionally substituted and e.g. in the form of a salt. There may also be sulfoamino groups or substituted amino groups (e.g.
Substituents include trityl groups which can be cleaved by hydrolysis or predominantly acyl groups such as optionally substituted carbamoyl groups such as optionally substituted ureidocarbonyl groups such as ureidocarbonyl groups and N'-trichloromethylureidocarbonyl groups. or an optionally substituted guanidinocarbonyl group, such as a guanidinocarbonyl group, or a chemical reducing agent such as zinc or hydrogen contacted with an acid such as trifluoroacetic acid or in the presence of aqueous acetic acid. Acyl groups which can be cleaved or converted into such acyl groups when treated reductively with Alkoxycarbonyl groups, which may include, for example, t-butyloxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethyloxycarbonyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group, 2-
a bromoethoxycarbonyl group, a 2-iodoethoxycarbonyl group, or a phenacyloxycarbonyl group, a phenyl lower alkoxycarbonyl group which may be lower alkoxy- or nitro-substituted, such as a 4-methoxybenzyloxycarbonyl group or a diphenylmethoxycarbonyl group, or acyl groups of carbonic acid hemiamides such as carbamoyl groups or N-methylcarbamoyl groups, and also arylthio groups or hanaryl lower alkylthio groups which are cleaved by nucleophilic agents such as hydrocyanic acid, mineral acid or thioacetamide, e.g. 2-nitrophenylthio or tritylthio groups, which can be cleaved by electrolytic reduction; -rusulfonyl groups, such as 4-methylphenylsulfonyl groups; or 1, which can be cleaved by acidic agents such as formic acid or aqueous inorganic acids, such as hydrochloric acid or phosphoric acid. -lower alkoxy carbonyl-2-propylidene group or 1-lower alkanoyl-2-propylidene group, such as I-ethoxycarbonyl-2-propylidene group], and further α-1,4-cyclohexagenyl-glycyl group,
α-(l-cyclohexenyl)-glycyl group, α-2-
or an α-thethylglycyl group such as an α-3-chenylglycyl group, an α-methylglycyl group such as an α-2-furylglycyl group,
Furylglycyl group, or α-isothiazolylglycyl group such as α-4-isothiazolyl-glycyl group (the amino group of these groups, for example, the phenylglycyl group, is substituted or protected as mentioned above) ),
Furthermore, α-carboxy-phenylacetyl group or α-
Carboxy-thhenylacetyl groups such as α-carboxy-2-thhenylacetyl groups (these may optionally be functionally modified carboxyl groups, e.g. in the form of salts such as the sodium salt or esters such as the methyl ester or ethyl ester) may have a carboxyl group in the form of a phenyl-lower alkyl ester, such as a phenyl-lower alkyl ester or diphenylmethyl ester) or an α-sulfo-phenylacetyl group (which may optionally have a functional group, such as the carboxyl group mentioned above). ), α-phosphono-1α-〇-methylphosphono or α-〇,0′
-dimethylphosphonophenylacetyl group, or α-
Hydroxy-phenylacetyl group [this is a functionally modified hydroxyl group, especially an acyloxy group (the acyl group can be treated with an acidic agent such as trifluoroacetic acid or treated with a chemical agent such as zinc in the presence of aqueous acetic acid). An acyl group which is preferably easily cleavable or convertible into such an acyl group when treated with a chemical reducing agent, preferably an acyl group of a carbonic acid half-ester, such as the halogen-substituted or benzoyl-substituted acyl groups mentioned above. lower alkoxycarbonyl groups, such as 2,2.2-trichloroethoxycarbonyl groups, 2-
a chloroethoxycarbonyl group, a 2-bromoethoxycarbonyl group, a 2-iodoethoxycarbonyl group, a t-butyloxycarbonyl group or a phenacyloxycarbonyl group, and a formyl group], and a 1-aminoxycarbonyl group. an aminomethylphenylacetyl group such as a hexylcarbonyl group, a 2- or 4-aminomethyl-phenylacetyl group, or a 4-
an amino-pyridinium acetyl group, such as an aminopyridinium acetyl group (which may also have a substituted amino group, e.g. as described above), or a 4-
a pyridylthioacetyl group, such as a pyridylthioacetyl group, and l is a hydrogen atom, or R? and R9 are 1-oxo-3-aza-, which may both have two lower alkyl groups such as methyl groups at the 4-position.
a 1,4-butylene group, which in the 2-position is preferably an optionally protected hydroxyl group, such as an acyloxy group, such as a lower alkoxycarbonyloxy group or a lower alkanoyloxy group, which may be substituted with halogen, and/or A phenyl group, such as a phenyl group, or a 3- or 4-hydroxy-13-chloro-4-hydroxy- or 3,5-dichloro-4-hydroxy-phenyl group ( The hydroxyl group can also be protected, e.g. acylated as above)
and R2 is a hydroxyl group, a lower alkoxy group, especially a highly branched lower alkoxy group in the α-position, such as an L-butoxy group, and also a methoxy or ethoxy group, a 2-halogeno lower alkoxy group. or 2.2.2-trichloroethoxy group, 2-iodoethoxy group or 2 that can be easily converted into this group.
- 1 to 3 phenyl groups which can be substituted with chloroethoxy or 2-bromoethoxy, phenacyloxy, lower alkoxy or nitro groups;
-Phenyl lower alkoxy group such as 4-methoxybenzyloxy group, 4-nitrobenzyloxy group, diphenylmethoxy group, 4,4'-dimethoxy-diphenylmethoxy group or trityloxy group, lower alkanoyloxymethoxy group such as acetyloxymethoxy group or pivaloyloxymethoxy group, α-amino lower alkanoyloxymethoxy group, e.g. glycyloxymethoxy group, 2
- a phthalidyloxymethoxy group, a lower alkoxycarbonyloxy group such as an ethoxycarbonyloxy group or a lower alkanoyloxy group such as an acetyloxy group, and also a tri-lower alkylsilyloxy group such as a trimethylsilyloxy group, and R1 is a hydrogen atom, a lower alkyl group in particular a methyl group, or a benzyl or diphenylmethyl group (which may optionally be substituted, for example with a halogen, chlorine or bromine atom, or with a lower alkoxy group, such as a methoxy group)
It is.

本発明は主として式IAにおいてR1?が式Ra −(
X)m−CH−C−(B) h 〔この式でRaはフェニル基またはヒドロキシフェニル
基例えば3−または4−ヒドロキシフェニル基、さらに
ヒドロキシ−クロルフェニル基例えば3−クロル−4−
ヒドロキシフェニル基まタハ3.5−ジクロル−4−ヒ
ドロキシフェニル基(これらの基において水酸基はハロ
ゲン化されていることのできる低級アルコキシカルボニ
ル基例えばt−ブトキシカルボニル基または2.2.2
− トリクロルエトキシカルボニル基のようなアシル基
によって保護されていることができる)、2−または3
−チェニル基のようなチェニル基、さらに4−ピリジル
基のようなピリジル基、4−アミノピリジニウム基のよ
うなアミノピリジニウム基、2−フリル基のようなフリ
ル基、4−インチアゾリル基のようなイソチアゾリル基
、1−テトラゾリル基のようなテトラゾリル基または1
.4−シクロへキサジェニル基またはl−シクロへキセ
ニル基であり、Xは酸素原子またはいおう原子であり、
mは0またはlであり、そしてRbは水素原子であるか
、またはmがOである場合にはRbはアミノ基、保護さ
れたアミノ基例えばアシルアミノ基例えばt−ブトキシ
カルボニルアミノ基のようなα−位置で高度に分校した
低級アルコキシカルボニルアミノ基、2.2.2−トリ
クロルエトキシカルボニルアミノ基、2−ヨードエトキ
シカルボニルアミノ基または2−ブロムエトキシカルボ
ニルアミノ基のような2−ハロゲノ低級アルコキシカル
ボニルアミノ基、または低級アルコキシ置換またはニト
ロ置換されている場合のあるフェニル低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基例えば4−メトキシヘンシルオキシカ
ルボニルアミノ基またはジフェニルメトキシカルボニル
アミノ基、または3−グアニルウレイド基、さらにスル
ホアミノ基、トリチルアミノ基、アリールチオアミノ基
例えば2−二トロフェニルチオアミノ基、アリールスル
ホニルアミノ基例えば4−メチルフェニルスルホニルア
ミノ基または1−低級アルコキシカルボニルー2−プロ
ピリデンアミノ基例えば1−エトキシカルボニル−2−
プロピリデンアミノ基、カルボキシ基または塩例えばナ
トリウム塩のようなアルカリ金属塩の形にあるカルボキ
シル基、ならびに保護されたカルボキシ基例えばエステ
ル化されたカルボキシル基例えばジフェニルメトキシカ
ルボニル基のようなフェニル低級アルコキシカルボニル
基、スルホ基または塩例えばナトリウム塩のようなアル
カリ金属塩の形にあるスルホ基、保護されたスルホ基、
水酸基または保護された水酸基例えばアシルオキシ基例
えばt−ブトキシカルボニルオキシ基のようなα−位置
で高度に分校した低級アルコキシカルボニルオキシ基、
2,2.2− )リクロルエトキシカルボニルオキシ基
、2−ヨードエトキシカルボニルオキシ基または2−ブ
ロムエトキシカルボニルオキシ基のような2−ハロゲン
低級アルコキシカルボニルオキシ基、さらにホルミルオ
キシ基、または〇−低級アルキルホスホノ基またはo、
o’−ジ低級アルキルホスホノ基例えば0−メチルホス
ホノ基または0.0′−ジメチルホスホノ基である〕で
示されるアシル基または5−アミノ−5−カルボキシバ
レリル基(そ例えばアセチルアミノ基のような低級アル
カノイルアミノ基、ジクロルアセチルアミノ基のような
ハロゲノ低級アルカノイルアミノ基、ヘンシイルアミノ
基またはフタロイルアミノ基、またはエステル化された
カルボキシル基例えばジフェニルメトキシカルボニル基
のようなフェニル低級アルコキシカルボニル基としであ
ることができる)であ゛す(なお、Raがフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシ−クロルフェニル基
またはピリジル基である場合にmは好ましくは1であり
、そしてRaがフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ヒ
ドロキシ−クロルフェニル基、チェニル基、フリル基、
イソチアゾリル基、1.4−シクロヘキサジェニル基ま
たは1−シクロへキセニル基である場合にmは0であっ
てRhは水素原子でないのが好ましい)、RIi+が水
素原子であり、R2が主として水酸基および低級アルコ
キシ基殊にα−位置で高度に分枝した低級アルコキシ基
例えば1−ブトキシ基、2−ハロゲノ−低級アルコキシ
基例えば2,2.2− トリクロルエトキシ基、2−ヨ
ードエトキシ基または2−ブロムエトキシ基、または例
えばメトキシ基のような低級アルコキシ基で置換されて
いる場合のあるジフェニルメトキシ基例えばジフェニル
メトキシ基または4.4′−ジメトキシ−ジフェニルメ
トキシ基、さらにトリメチルシリルオキシ基のようなト
リ低級アルキルシリルオキシ基であり、そして、R3が
水素原子、低級アルキル基例えばメチル基、エチル基ま
たはn−ブチル基、ならびにベンジル基またはジフェニ
ルメチル基(これらの基は場合により、ハロゲン原子例
えば塩素原子または臭素原子、または低級アルコキシ基
例えばメトキシ基で置換されていてもよい)である3−
セフェム−化合物、このような式(IA)の3−セフェ
ム化合物の1−オキシドおよび式(IB)で表わされる
相当する2−セフェム化合物、または塩形成基をもつこ
のような化合物の塩殊に医薬的に使用できる無毒な塩、
例えばR2が水酸基でありそして式(B)のアシル基中
に遊離アミノ基をもっている化合物のナトリウム塩のよ
うなアルカリ金属塩、カルシウム塩のようなアルカリ土
類金属塩またはアミン塩を含めたアンモニウム塩に関す
るものである。
The present invention mainly relates to R1? is the formula Ra −(
X) m-CH-C-(B) h [In this formula, Ra is a phenyl group or a hydroxyphenyl group, such as a 3- or 4-hydroxyphenyl group, and further a hydroxy-chlorophenyl group, such as 3-chloro-4-
Hydroxyphenyl group or 3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl group (in these groups, the hydroxyl group can be a lower alkoxycarbonyl group that can be halogenated, such as a t-butoxycarbonyl group or 2.2.2
- can be protected by an acyl group such as a trichloroethoxycarbonyl group), 2- or 3
- chenyl group such as chenyl group, pyridyl group such as 4-pyridyl group, aminopyridinium group such as 4-aminopyridinium group, furyl group such as 2-furyl group, isothiazolyl group such as 4-inchazolyl group group, a tetrazolyl group such as 1-tetrazolyl group or 1
.. 4-cyclohexagenyl group or l-cyclohexenyl group, X is an oxygen atom or a sulfur atom,
m is 0 or l, and Rb is a hydrogen atom, or if m is O, Rb is an amino group, a protected amino group such as an acylamino group such as an t-butoxycarbonylamino group. 2-halogeno lower alkoxycarbonylamino groups, such as 2.2.2-trichloroethoxycarbonylamino groups, 2-iodoethoxycarbonylamino groups or 2-bromoethoxycarbonylamino groups, which are highly branched at the - position. or a phenyl lower alkoxycarbonylamino group which may be lower alkoxy- or nitro-substituted, such as a 4-methoxyhensyloxycarbonylamino group or a diphenylmethoxycarbonylamino group, or a 3-guanylureido group, as well as a sulfamino group, trityl Amino group, arylthioamino group such as 2-nitrophenylthioamino group, arylsulfonylamino group such as 4-methylphenylsulfonylamino group or 1-lower alkoxycarbonyl-2-propylideneamino group such as 1-ethoxycarbonyl-2-
Propylidene amino groups, carboxyl groups or salts such as carboxyl groups in the form of alkali metal salts such as sodium salts, as well as protected carboxyl groups such as esterified carboxyl groups such as phenyl lower alkoxycarbonyl groups such as diphenylmethoxycarbonyl groups. groups, sulfo groups or salts, sulfo groups in the form of alkali metal salts, such as sodium salts, protected sulfo groups,
a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, such as an acyloxy group, a lower alkoxycarbonyloxy group highly branched in the α-position, such as a t-butoxycarbonyloxy group;
2,2.2-) 2-halogen lower alkoxycarbonyloxy group such as lychloroethoxycarbonyloxy group, 2-iodoethoxycarbonyloxy group or 2-bromoethoxycarbonyloxy group, further formyloxy group, or 〇-lower an alkylphosphono group or o,
o'-dilower alkylphosphono group such as 0-methylphosphono group or 0.0'-dimethylphosphono group] or 5-amino-5-carboxyvaleryl group (such as acetylamino group) a lower alkanoylamino group such as a halogenated lower alkanoylamino group such as a dichloroacetylamino group, a henshylamino group or a phthaloylamino group, or an esterified carboxyl group such as a phenyl lower alkoxycarbonyl group such as a diphenylmethoxycarbonyl group. (in addition, Ra is a phenyl group,
When it is a hydroxyphenyl group, a hydroxy-chlorophenyl group or a pyridyl group, m is preferably 1, and Ra is a phenyl group, a hydroxyphenyl group, a hydroxy-chlorophenyl group, a chenyl group, a furyl group,
isothiazolyl group, 1,4-cyclohexagenyl group or 1-cyclohexenyl group, m is preferably 0 and Rh is not a hydrogen atom), RIi+ is a hydrogen atom, and R2 is mainly a hydroxyl group and Lower alkoxy groups Highly branched lower alkoxy groups, especially in the α-position, such as 1-butoxy, 2-halogeno-lower alkoxy groups, such as 2,2.2-trichloroethoxy, 2-iodoethoxy or 2-bromo a diphenylmethoxy group which may be substituted with an ethoxy group or a lower alkoxy group such as a methoxy group, e.g. a diphenylmethoxy group or a 4,4'-dimethoxy-diphenylmethoxy group, and also a tri-lower alkyl group such as a trimethylsilyloxy group. a silyloxy group, and R3 is a hydrogen atom, a lower alkyl group such as a methyl, ethyl or n-butyl group, and a benzyl or diphenylmethyl group (these groups optionally contain a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom); 3-, which is an atom or a lower alkoxy group (optionally substituted with a methoxy group)
cephem-compounds, the 1-oxides of such 3-cephem compounds of formula (IA) and the corresponding 2-cephem compounds of formula (IB), or salts of such compounds with salt-forming groups, especially for pharmaceuticals. Non-toxic salt that can be used for
For example, an alkali metal salt such as a sodium salt, an alkaline earth metal salt such as a calcium salt, or an ammonium salt, including an amine salt, of a compound in which R2 is a hydroxyl group and has a free amino group in the acyl group of formula (B). It is related to.

主として、式(IA)の3−セフェム−化合物および式
(IB)の相当する2−セフェム−化合物または塩形成
基をもつこのような化合物の塩殊に前項で挙げたような
医薬的に使用できる無毒の塩においては、R?は水素原
子または式(B)のアシル基(この式でRaはフェニル
基、4−ヒドロキシフェニル基のようなヒドロキシフェ
ニル基、2−または3−チェニル基のようなチェニル基
、4−イソチアゾリル基または1.4−シクロヘキサジ
ェニル基または1−シクロへキセニル基であり、Xは酸
素原子であり、mは0または1であり、そしてRbは水
素原子であるかまたはmが0である場合にはRbはアミ
ノ基、保護されたアミノ基例えばアシルアミノ基例えば
t−ブトキシカルボニルアミノ基のようなα−位置で高
度に分校した低級アルコキシカルボニルアミノ基、2.
2.2− トリクロルエトキシカルボニルアミノ基、2
−−?−ドエトキシ力ルポニルアミノ基または2−ブロ
ムエトキシカルボニルアミノ基のような2−ハロゲノ低
級アルコキシカルボニルアミノ基、または低級アルコキ
シ置換またはニトロ置換されている場合のあるフェニル
低級アルコキシカルボニルアミノ基例えば4−メトキシ
ベンジルオキシカルボニルアミノ基、または水酸基また
は保護された水酸基例えばアシルオキシ基例えばt−ブ
トキシカルボニルオキシ基のようなα−位置で高度に分
枝した低級アルコキシカルボニルオキシ基、2,2.2
−トリクロルエトキシカルボニルオキシ基、2−ヨード
エトキシカルボニルオキシ基または2−ブロムエトキシ
カルボニルオキシ基のような2−ハロゲノ低級アルコキ
シカルボニルオキシ基、さらにホルミルオキシ基である
)または5−アミノ−5−カルボキシバレリル基(その
アミノ基およびカルボキシル基は保護されていることも
でき、例えばアシルアミノ基例えばアセチルアミノ基の
ような低級アルカノイルアミノ基、ジクロルアセチルア
ミノ基のようなハロゲノ低級アルカノイルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基またはフタロイルアミノ基としてまた
はエステル化されたカルボキシル基例えばジフェニルメ
トキシカルボニル基のようなフェニル低級アルコキシカ
ルボニル基としであることができる)であり(なお、R
aがフェニル基またはヒドロキシフェニル基である場合
にmはlであるのが好ましい)、R’i’は水素原子で
あり、R2は主として水酸基、さらに2−位置でハロゲ
ン原子例えば塩素原子、臭素原子またはよう素原子で置
換されている場合のある低級アルコキシ基殊にα−位置
で高度に分枝した低級アルコキシ基例えばt−ブトキシ
基、2−ハロゲノ−低級アルコキシ基例えば2.2.2
− )リクロルエトキシ基、2−ヨードエトキシ基また
は2−ブロムエトキシ基、または例えばメトキシ基のよ
うな低級アルコキシ基で置換されている場合のあるジフ
ェニルメトキシ基例えばジフェニルメトキシ基または4
.4′−ジメトキシ−ジフェニルメトキシ基、またはp
−ニトロベンジルオキシ基、さらにトリメチルシリルオ
キシ基のようなトリ低級アルキルオキシ基でありそして
R1は水素原子、低級アルキル基例えば特にメチル基、
ベンジル基またはジフェニルメチル基(場合によりハロ
ゲン原子例えば塩素原子または臭素原子、または低級ア
ルコキシ基例工ばメトキシ基で置換されていることがあ
る)である。
Primarily 3-cephem compounds of the formula (IA) and corresponding 2-cephem compounds of the formula (IB) or the salts of such compounds with salt-forming groups can be used pharmaceutically, especially as mentioned in the preceding paragraph. In non-toxic salts, R? is a hydrogen atom or an acyl group of formula (B) (in this formula, Ra is a phenyl group, a hydroxyphenyl group such as 4-hydroxyphenyl group, a chenyl group such as 2- or 3-chenyl group, a 4-isothiazolyl group, or 1.4-cyclohexagenyl group or 1-cyclohexenyl group, X is an oxygen atom, m is 0 or 1, and Rb is a hydrogen atom or when m is 0 Rb is an amino group, a protected amino group such as an acylamino group, a lower alkoxycarbonylamino group highly branched at the α-position, such as a t-butoxycarbonylamino group;2.
2.2- trichloroethoxycarbonylamino group, 2
--? -2-halogeno-lower alkoxycarbonylamino groups, such as luponylamino groups or 2-bromoethoxycarbonylamino groups, or phenyl lower alkoxycarbonylamino groups, which may be lower alkoxy-substituted or nitro-substituted, e.g. 4-methoxybenzyloxy a carbonylamino group, or a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, such as an acyloxy group, a lower alkoxycarbonyloxy group highly branched in the α-position, such as the t-butoxycarbonyloxy group, 2,2.2
-2-halogeno-lower alkoxycarbonyloxy, such as trichloroethoxycarbonyloxy, 2-iodoethoxycarbonyloxy or 2-bromoethoxycarbonyloxy, and also formyloxy) or 5-amino-5-carboxyvalene. a lyl group (whose amino and carboxyl groups may also be protected, such as an acylamino group, a lower alkanoylamino group such as an acetylamino group, a halogeno-lower alkanoylamino group such as a dichloroacetylamino group, a benzoylamino group) or as a phthaloylamino group or as an esterified carboxyl group, e.g. a phenyl lower alkoxycarbonyl group such as a diphenylmethoxycarbonyl group (where R
When a is a phenyl group or a hydroxyphenyl group, m is preferably l), R'i' is a hydrogen atom, R2 is mainly a hydroxyl group, and further a halogen atom at the 2-position, such as a chlorine atom or a bromine atom. or a lower alkoxy group which may be substituted with an iodine atom, especially a highly branched lower alkoxy group in the α-position, such as a t-butoxy group, a 2-halogeno-lower alkoxy group, such as 2.2.2
-) a lychloroethoxy group, a 2-iodoethoxy group or a 2-bromoethoxy group, or a diphenylmethoxy group, for example a diphenylmethoxy group, which may be substituted with a lower alkoxy group, such as a methoxy group;
.. 4'-dimethoxy-diphenylmethoxy group, or p
- a tri-lower alkyloxy group, such as a nitrobenzyloxy group, and also a trimethylsilyloxy group, and R1 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, especially a methyl group,
A benzyl group or a diphenylmethyl group (optionally substituted with a halogen atom, such as a chlorine or bromine atom, or a lower alkoxy group, such as a methoxy group).

本発明は主として7β−(D−α−アミノ−α−Ra−
アセチルアミノ)−3−低級アルコキシ−3−セフェム
−4−カルボン酸(Raはフェニル基、4−ヒドロキシ
フェニル基、2−チェニル基、1.4−シクロヘキサジ
ェニル基または1−シクロへキセニル基であり、そして
低級アルコキシは炭素原子を4個までもつもの例えばエ
トキシまたはn−ブトキシ、しかし主にメトキシである
)およびそれらの分子内塩、およびとりわけ3−メトキ
シ−7β−(D−α−フェニル−グリシルアミノ)−3
=セフェム−4−カルボン酸およびその分子内塩の製法
、および3−低級アルコキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸化合物の製造用中間体として役立つ3−ヒドロキ
シ−3−セフェム−4−カルボン酸化合物の製造を提供
するものである。これらの3−低級アルコキシ化合物は
、前記の投与量において殊に経口投与の場合に、著しい
抗生作用をダラム陽性菌および殊にダラム陰性菌に対し
て少い毒性をもって示す。
The present invention mainly focuses on 7β-(D-α-amino-α-Ra-
acetylamino)-3-lower alkoxy-3-cephem-4-carboxylic acid (Ra is a phenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 2-chenyl group, 1,4-cyclohexagenyl group or 1-cyclohexenyl group) and lower alkoxy having up to 4 carbon atoms, such as ethoxy or n-butoxy, but mainly methoxy) and their inner salts, and especially 3-methoxy-7β-(D-α-phenyl- glycylamino)-3
= 3-Hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid compound useful as a method for producing cephem-4-carboxylic acid and its inner salt, and as an intermediate for producing a 3-lower alkoxy-3-cephem-4-carboxylic acid compound The company provides the manufacturing of These 3-lower alkoxy compounds, at the doses indicated, especially when administered orally, exhibit a marked antibiotic effect with low toxicity against Durham-positive and especially Durham-negative bacteria.

本発明方法に従って、一般式(IA)で表わされる化合
物、その1−オキシド、一般式([B)で表わされる化
合物および塩形成基をもつそれらの化合物の塩は、一般
式 〔この式でR?は水素原子またはアミノ保護基R+であ
ってlは水素原子またはアシル基AcであるかまたはR
?とl’とは両方で2価のアミノ保護基であるものとし
、R8は式中のカルボニル基−C(=O)−といっしょ
になって保護されたカルボキシル基を形成する基であり
、基−N(Ra)(R覧)は第2または第37ミノ基で
あす、Yは除去する基である〕 で表わされる化合物からH−Yを除去することによって
前記化合物を環化し、中間生成物として形成される式 〔コノ式−cR?とR2とR8と−N(R:)(Rシ)
とは前記と同じ意味であり、2.3−位置または3.4
−位置に2重粘合をもつことができるものとする〕で表
わされるエナミンにおいてアミノ基−N (R:)(R
2)を加溶媒分解によって基 =〇R3 (この式でR8は水素原子、低級アルキル基または場合
により置換されていることのあるα−フェニル−低級ア
ルキル基である) に変え、そして所望により式(I A)または(I B
)で表わされる得られた化合物において式−〇 (=O
) −R8で表わされる保護されたカルボキシル基を遊
離のまたは他の保護されたカルボキシル基に変え、そし
て(または)所望により、α−フェニル−低級アルコキ
シ基−0−R3を遊離の水酸基に変え、そして(または
)得られた遊離の水酸基−〇−R,を低級アルコキシ基
−0−R1に変え、そして(または)所望により、最終
生成物の定義の範囲内で得られた化合物を他の化合物に
変え、そして(または)所望により、得られた塩形成基
をもつ化合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物
または他の塩に変え、そして(または)所望により得ら
れた異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離するこ
とによって、製造することができる。
According to the method of the present invention, the compound represented by the general formula (IA), its 1-oxide, the compound represented by the general formula (B) and the salts of these compounds having a salt-forming group are prepared by the general formula [in this formula R ? is a hydrogen atom or an amino protecting group R+, and l is a hydrogen atom or an acyl group Ac, or R
? and l' are both divalent amino protecting groups, and R8 is a group that forms a protected carboxyl group together with the carbonyl group -C(=O)- in the formula; -N(Ra) (R list) is the 2nd or 37th amino group, Y is the group to be removed] By removing H-Y from the compound represented by The formula formed as [Kono formula-cR? and R2 and R8 and -N(R:)(Rshi)
has the same meaning as above, 2.3-position or 3.4
The amino group -N (R:) (R
2) is converted by solvolysis into the group =〇R3 (in which R8 is a hydrogen atom, a lower alkyl group or an optionally substituted α-phenyl-lower alkyl group), and optionally the formula (I A) or (I B
) In the obtained compound represented by the formula -〇 (=O
) changing the protected carboxyl group represented by -R8 to a free or other protected carboxyl group, and (or) optionally changing the α-phenyl-lower alkoxy group -0-R3 to a free hydroxyl group, and (or) converting the resulting free hydroxyl group -0-R, into a lower alkoxy group -0-R1, and (or) optionally converting the resulting compound into other compounds within the definition of the final product. and (or) optionally converting the compound with the salt-forming group obtained into a salt or converting the salt obtained into the free compound or other salt, and (or) optionally converting the obtained isomeric compound can be produced by separating a mixture of into individual isomers.

式(n)で表わされる化合物において、アミノ基−N 
(R:)(R:)は、カルボキシル基に対して、トラン
ス−位(クロトン酸配位)またはシスーー位(イソクロ
トン酸配位)であることができる。
In the compound represented by formula (n), an amino group -N
(R:) (R:) can be in the trans-position (crotonic acid coordination) or in the cis-position (isocrotonic acid coordination) with respect to the carboxyl group.

式(■)で表わされる出発化合物において、除去する基
Yは、例えば−5Ra基、−SO□−R5基(いおう原
子によってチオ基−8−と結合している)、または−S
  SOz  Ra基である。
In the starting compound represented by formula (■), the group Y to be removed is, for example, -5Ra group, -SO□-R5 group (bonded to thio group -8- by a sulfur atom), or -S
SOzRa group.

S  Raで表わされる基において、R4は炭素原子1
5個まで好ましくは9個までで、環窒素原子少なくとも
1個と場合によりその他の環複素原子例えば酸素原子ま
たはいおう原子とを含む場合により置換されていること
のある芳香族性複素環式基であり、その基は2重結合に
よって環窒素原子と結合している1つの環炭素原子によ
ってチオ基−8−と結合しているものとする。このよう
な基は、単環式または2環式であり、そして置換基例え
ばメチル基またはエチル基のような低級アルキル基、メ
トキシ基またはエトキシ基のような低級アルコキシ基、
ふっ素原子または塩素原子のようなハロゲン原子、また
はフェニル基のようなアリール基で置換されていること
ができる。
In the group represented by S Ra, R4 is 1 carbon atom
up to 5, preferably up to 9, optionally substituted aromatic heterocyclic groups containing at least one ring nitrogen atom and optionally other ring heteroatoms such as oxygen or sulfur atoms; and the group is connected to the thio group -8- by one ring carbon atom which is connected to the ring nitrogen atom by a double bond. Such groups are monocyclic or bicyclic and contain substituents such as lower alkyl groups such as methyl or ethyl groups, lower alkoxy groups such as methoxy or ethoxy groups,
It can be substituted with a halogen atom, such as a fluorine or chlorine atom, or an aryl group, such as a phenyl group.

このような基R4は、例えば単環式5員環の、チアザ環
基、チアトリアザ環基、オキサジアザ環基またはオキサ
トリアザ環基(これらの基は芳香族性の基である)であ
り、特には芳香族性の特に単環式5員環のジアザ環基、
オキシアザ環基およびチアザ環基であり、および(また
は)とりわけ相当するベンズジアザ環基、ベンズオキシ
アザ環基またはベンズチアザ環基(ここで複素環基部分
は5員環であり、芳香族性を示す)であり、基R4にお
いて置換可能な窒素原子が例えば低級アルキル基によっ
て置換されていてもよい。このような基R1としては、
例えば1−メチル−イミダゾール−2−イル基、1,3
−チアゾール−2−イル基、1,3.4−チアジアゾー
ル−2−イル基、1.3,4.5−チアトリアゾール−
2−イル基、1.3−オキサゾール−2−イル基、1,
3.4−オキサジアゾール−2−イル基、1,3,4.
5−オキサトリアゾール−2−イル基、2−キノリル基
、1−メチル−ベンズイミダゾール−2−イル基、ベン
ズオキサゾール−2−イル基および特にベンズチアゾー
ル−2−イル基である。さらに基R4は、有機カルボン
酸またはチオカルボン酸のアシル基、例えば炭素原子1
8個まで好ましくは10個までの場合により置換されて
いることのある脂肪族の、脂環式の、芳香脂肪族のまた
は芳香族のアシル基またはチオアシル基例えば低級アル
カノイル基例えばアセチル基またはプロピオニル基、低
級チオアルカノイル基例えばチオアセチル基またはチオ
プロピオニル基、シクロアルカンカルボニル基例えばシ
クロヘキサンカルボニル基、シクロアルカンチオカルボ
ニル基例えばシクロヘキサンチオカルボニル基、ベンゾ
イル基、チオベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、ナ
フチルチオカルボニル基、複素環式カルボニル基または
チオカルボニル基例えば2−93−または4−ピリジル
カルボニル基、2−または3−テノイル基、2−または
3−フロイル基、2−13−または4−ピリジルチオカ
ルボニル基、2−または3−チオテノイル基、または2
−または3−チオフロイル基であるか、または置換され
た相当するアシル基またはチオアシル基例えば低級アル
キル基例えばメチル基、ハロゲン原子例えばふっ素原子
または塩素原子、低級アルコキシ基例えばメトキシ基、
アリール基例えばフェニル基、またはアリールオキシ基
例えばフェノキシ基によって1置換または多置換された
アシル基またはチオアシル基である。
Such a group R4 is, for example, a monocyclic five-membered thiaza ring group, thiatriaza ring group, oxadiaza ring group or oxatriaza ring group (these groups are aromatic groups), in particular an aromatic group. Family-based especially monocyclic 5-membered diaza ring group,
oxyaza ring groups and thiaza ring groups, and/or especially corresponding benzdiaza ring groups, benzoxyaza ring groups or benzthiaza ring groups, where the heterocyclic group moiety is a 5-membered ring and exhibits aromatic character. and the substitutable nitrogen atom in the group R4 may be substituted, for example, by a lower alkyl group. As such a group R1,
For example, 1-methyl-imidazol-2-yl group, 1,3
-thiazol-2-yl group, 1,3.4-thiadiazol-2-yl group, 1.3,4.5-thiatriazole-
2-yl group, 1,3-oxazol-2-yl group, 1,
3.4-oxadiazol-2-yl group, 1,3,4.
5-oxatriazol-2-yl, 2-quinolyl, 1-methyl-benzimidazol-2-yl, benzoxazol-2-yl and especially benzthiazol-2-yl. Furthermore, the group R4 can be an acyl group of an organic carboxylic acid or a thiocarboxylic acid, e.g.
up to 8, preferably up to 10, optionally substituted aliphatic, cycloaliphatic, araliphatic or aromatic acyl or thioacyl groups such as lower alkanoyl groups such as acetyl or propionyl groups , lower thioalkanoyl groups such as thioacetyl or thiopropionyl groups, cycloalkanecarbonyl groups such as cyclohexanecarbonyl groups, cycloalkanethiocarbonyl groups such as cyclohexanethiocarbonyl groups, benzoyl groups, thiobenzoyl groups, naphthylcarbonyl groups, naphthylthiocarbonyl groups, hetero Cyclic carbonyl or thiocarbonyl groups, such as 2-93- or 4-pyridylcarbonyl, 2- or 3-thenoyl, 2- or 3-furoyl, 2-13- or 4-pyridylthiocarbonyl, 2- or 3-thiothenoyl group, or 2
- or 3-thiofuroyl groups or substituted corresponding acyl or thioacyl groups, such as lower alkyl groups such as methyl groups, halogen atoms such as fluorine or chlorine atoms, lower alkoxy groups such as methoxy groups,
An aryl group such as a phenyl group, or an acyl or thioacyl group mono- or polysubstituted by an aryloxy group such as a phenoxy group.

式−so、−R5および−5−SO□−R3で表わされ
る基において、基R3は場合により置換されていること
のある、炭素原子18個好ましくは10個までの特に脂
肪族、脂環式、芳香脂肪族または芳香族炭化水素基であ
る。このような基R6としては、場合により例えば低級
アルコキシ基例えばメトキシ基、ハロゲン原子例えばフ
ッ素原子、塩素原子または臭素原子、アリール基例えば
フェニル基、またはアリールオキシ基例えばフェノキシ
基によって1置換または多置換されていることのあるア
ルキル基特には低級アルキル基例えばメチル基またはブ
チル基、アルケニル基例えばアリル基またはブテニル基
、シクロアルキル基例えばシクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基、またはナフチル基、または特には場合に
より低級アルキル基例えばメチル基、低級アルコキシ基
例えばメトキシ基、ハロゲン原子例えばフッ素原子、塩
素原子または臭素原子、アリール基例えばフェニル基、
アリールオキシ基例えばフェノキシ基、またはニトロ基
によって1置換または多置換されていることのあるフェ
ニル基例えばフェニル基、〇−1m−または好ましくは
p−)リル基、0−lm−または好ましくはp〜トリル
基、0−lm−または好ましくはp−メトキシフェニル
基、0−2m−またはp−クロルフェニル基、p−ビフ
ェニリル基、p−フェノキシフェニル基、p−ニトロフ
ェニル基、または1−または2−ナフチル基である。
In the radicals of the formulas -so, -R5 and -5-SO□-R3, the radical R3 is an optionally substituted, in particular aliphatic, cycloaliphatic group having up to 18 carbon atoms, preferably up to 10 carbon atoms. , an araliphatic or aromatic hydrocarbon group. Such radicals R6 may optionally be mono- or polysubstituted, for example by lower alkoxy groups such as methoxy, halogen atoms such as fluorine, chlorine or bromine, aryl groups such as phenyl, or aryloxy groups such as phenoxy. an alkyl group, in particular a lower alkyl group, such as a methyl or butyl group, an alkenyl group, such as an allyl or butenyl group, a cycloalkyl group, such as a cyclopentyl or cyclohexyl group, or a naphthyl group, or, in particular, an optional lower alkyl group. For example, a methyl group, a lower alkoxy group such as a methoxy group, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, an aryl group such as a phenyl group,
Aryloxy groups, such as phenoxy groups, or phenyl groups, which may be mono- or polysubstituted by nitro groups, such as phenyl groups, 〇-1m- or preferably p-)lyl groups, 0-lm- or preferably p- tolyl, 0-lm- or preferably p-methoxyphenyl, 0-2m- or p-chlorophenyl, p-biphenylyl, p-phenoxyphenyl, p-nitrophenyl, or 1- or 2- It is a naphthyl group.

式(n)で表わされる出発材料において、R8は、−C
(=O’)−で表わされる基といっしょになってエステ
ル化されたカルボキシル基(緩和な条件下で分裂するこ
とができる)を形成するエーテル化された水酸基であり
、カルボキシル保護基R8中に官能性基が存在する場合
にはそれを、前記と同様にしてそれ自身公知の方法で保
護することができる。基8合は例えば特に場合によりハ
ロゲン原子で置換されていることのある低級アルコキシ
基例えばメトキシ基、α−位置で高度に分枝した低級ア
ルコキシ基例えばt−ブトキシ基、またはハロゲン原子
2個(ハロゲン原子は例えば塩素原子、臭素原子または
よう素原子である)で置換された低級アルコキシ基、と
りわけ2.2.2− )リクロルエトキシ基、2−ブロ
ムエトキシ基または2−ヨードエトキシ基であるか、ま
たは場合により置換されていることのある1−フェニル
−低級アルコキシ基例えばメトキシ基のような低級アル
コキシ基またはニトロ基をもっている1−フェニル−低
級アルコキシ基例えばベンジルオキシ基またはジフェニ
ルメトキシ基(これらは前記のように場合により置換さ
れていることがある)、例えばベンジルオキシ基、4−
メトキシベンジルオキシ基、4−ニトロベンジルオキシ
基、ジフェニルメトキシ基、または4,4′−ジメトキ
シ−ジフェニルメトキシ基、およびまた有機のシリルオ
キシ基またはスタニルオキシ基、例えばトリー低級アル
キルシリルオキシ基例えばトリメチルシリルオキシ基、
またはハロゲン原子例えば塩素原子である。好ましくは
、式(If)で表わされる出発原料において、R?がア
ミノ保護基R+例えばアシル基Ac(その基中に遊離の
官能性基例えばアミノ基、水酸基、カルボキシル基また
はホスホノ基が存在する場合には、それ自身公知の方法
によりアミノ基は前記のようにアシル基、トリチル基、
シリル基またはスタニル基ならびに置換されているチオ
基またはスルホニル基により保護することができ、水酸
基カルボキシル基またはホスホノ基は例えば前記のよう
なシリル基またはスタニル基を含むエーテル基またはエ
ステル基によって保護することができる)であり、RY
は水素原子である。
In the starting material represented by formula (n), R8 is -C
It is an etherified hydroxyl group that together with the group represented by (=O')- forms an esterified carboxyl group (which can be split under mild conditions), and in the carboxyl protecting group R8. If functional groups are present, they can be protected in a manner known per se in the same manner as described above. The group 8 can be, for example, a lower alkoxy group optionally substituted with a halogen atom, such as a methoxy group, a lower alkoxy group highly branched in the α-position, such as a tert-butoxy group, or two halogen atoms (a halogen atom). the atom is, for example, a chlorine, bromine or iodine atom), in particular a 2.2.2-) lychloroethoxy, 2-bromoethoxy or 2-iodoethoxy group; , or an optionally substituted 1-phenyl-lower alkoxy group such as a lower alkoxy group such as a methoxy group or a 1-phenyl-lower alkoxy group bearing a nitro group such as a benzyloxy group or a diphenylmethoxy group (these are optionally substituted as described above), e.g. benzyloxy group, 4-
methoxybenzyloxy, 4-nitrobenzyloxy, diphenylmethoxy or 4,4'-dimethoxy-diphenylmethoxy groups, and also organic silyloxy or stannyloxy groups, such as tri-lower alkylsilyloxy groups, such as trimethylsilyloxy groups,
or a halogen atom, such as a chlorine atom. Preferably, in the starting material represented by formula (If), R? is an amino protecting group R + for example an acyl group Ac (if a free functional group such as an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group or a phosphono group is present in the group, the amino group can be protected by a method known per se as described above). Acyl group, trityl group,
It can be protected by a silyl or stannyl group as well as a substituted thio or sulfonyl group, and a hydroxyl carboxyl or phosphono group can be protected by an ether or ester group containing, for example, a silyl or stannyl group as described above. ) and RY
is a hydrogen atom.

第27ミノ基−N(R電)(R2)において、置換基R
2とR2との1方が水素原子であって他方が炭素原子1
8個まで特に12個までそして好ましくは7個までの脂
肪族または脂環式炭化水素基である。
In the 27th amino group -N(R) (R2), the substituent R
One of 2 and R2 is a hydrogen atom and the other is a carbon atom 1
Up to 8, especially up to 12 and preferably up to 7 aliphatic or cycloaliphatic hydrocarbon groups.

脂肪族炭化水素基1またはR1としては、例えば場合に
より置換されていることのあるアルキル基特に低級アル
キル基、例えば置換基低級アルコキシ基例えばメトキシ
基、低級アルキルチオ基例えばメチルチオ基、シクロア
ルキル基例えばシクロヘキシル基、アリール基例えばフ
ェニル基または複素環式基例えばチェニル基で置換され
ているアルキル基特には低級アルキル基であり、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、2−
エトキシエチル基、2−メチルチオエチル基、シクロヘ
キシルメチル基、ベンジル基またはチェニルメチル基で
ある。脂環式炭化水素基R鵞またはlとしては、例えば
場合により置換されていることのあるシクロアルキル基
例えば置換基、低級アルキル基例えばメチル基、低級ア
ルコキシ基例えばメトキシ基、低級アルキルチオ基例え
ばメチルチオ基、シクロアルキル基例えばシクロヘキシ
ル基、アリール基例えばフェニル基または複素環式基例
えばフリル基によって置換されているシクロアルキル基
例えば場合により前記のように置換されていることのあ
るシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基またはシクロヘプチル基である。
Aliphatic hydrocarbon groups 1 or R1 include, for example, optionally substituted alkyl groups, especially lower alkyl groups, such as substituents lower alkoxy groups, such as methoxy groups, lower alkylthio groups, such as methylthio groups, cycloalkyl groups, such as cyclohexyl. alkyl groups, especially lower alkyl groups, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl; group, hexyl group, 2-
They are ethoxyethyl group, 2-methylthioethyl group, cyclohexylmethyl group, benzyl group or chenylmethyl group. Examples of alicyclic hydrocarbon groups include optionally substituted cycloalkyl groups such as substituents, lower alkyl groups such as methyl groups, lower alkoxy groups such as methoxy groups, and lower alkylthio groups such as methylthio groups. , a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group, an aryl group such as a phenyl group or a heterocyclic group such as a furyl group, such as a cyclopropyl group optionally substituted as above, a cyclopentyl group, It is a cyclohexyl group or a cycloheptyl group.

第37ミノ基−N (R’)(R”)において、置換基
R2およびRRはそれぞれ、前記の脂肪族または脂環式
炭化水素のいずれかであり、そしてR2とR2とは同じ
であるかまたは異なる基であることができ、そして2個
の置換基R鵞とR2とはいっしょになって、炭素−炭素
結合により、また酸素原子またはいおう原子により、ま
たは場合により置換例えば低級アルキル化例えばメチル
化されている窒素原子により、環を形成していることが
できる。
In the 37th amino group -N (R')(R''), the substituents R2 and RR are each one of the aliphatic or alicyclic hydrocarbons described above, and R2 and R2 are the same or or can be different groups, and the two substituents R and R2 together can be substituted by carbon-carbon bonds and by oxygen or sulfur atoms, or optionally substituted, e.g. by lower alkylation, e.g. by methyl The nitrogen atom may form a ring.

適当な第37ミノ基−N (R:)(R2)としては例
えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチ
ル−エチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、N−メ
チル−イソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、N−
メチル−イソブチルアミノ基、ジシクロプロピルアミノ
基、N−メチル−シクロプロピルアミノ基、ジシクロペ
ンチルアミノ基、N−メチル−シクロペンチルアミノ基
、ジシクロへキシルアミノ基、N−メチル−シクロへキ
シルアミノ基、ジベンジルアミノ基、N−メチ7L/−
ベンジルアミノ基、N−シクロプロピル−ベンジルアミ
ノ基、1−アジリジニル基、l−ピロリジニル基、1−
ピペリジル基、I H−2,3,4,5゜6.7−キサ
ヒドロアゼピニル基、4−モルホリニル基、4−チオモ
ルホリニル基、1−ピペラジニル基または4−メチル−
1−ピペラジニルである。
Suitable 37th amino groups -N (R:) (R2) include, for example, dimethylamino group, diethylamino group, N-methyl-ethylamino group, diisopropylamino group, N-methyl-isopropylamino group, dibutylamino group, N-
Methyl-isobutylamino group, dicyclopropylamino group, N-methyl-cyclopropylamino group, dicyclopentylamino group, N-methyl-cyclopentylamino group, dicyclohexylamino group, N-methyl-cyclohexylamino group, dibenzyl Amino group, N-methy7L/-
Benzylamino group, N-cyclopropyl-benzylamino group, 1-aziridinyl group, l-pyrrolidinyl group, 1-
Piperidyl group, I H-2,3,4,5゜6.7-xahydroazepinyl group, 4-morpholinyl group, 4-thiomorpholinyl group, 1-piperazinyl group or 4-methyl-
1-Piperazinyl.

本発明方法に従って、式(III)で表わされる化合物
を得るための式(II)で表わされる化合物の環化反応
は、適当な不活性溶媒剤例えば脂肪族、脂環式または芳
香族炭化水素例えばヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼ
ンまたはトルエン、ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチ
レン、エーテル例えばジー低級アルキルエーテル、例え
ばジエチルエーテル、ジ低級アルコキシ−低級アルカン
、例えばジメトキシエタン、環状エーテル例えばジオキ
サンまたはテトラヒドロフラン、または脂肪族、゛ 脂
環式または芳香族ニトリル例えばアセトニトリル、また
はそれらの混合物中で、場合により水分吸着剤例えば乾
燥された分子ふるいの存在下で、室温または約150℃
好ましくは約80〜100℃に加温して、そして所望に
より不活性気体雰囲気例えば窒素ガス雰囲気中で行う。
According to the process of the invention, the cyclization reaction of a compound of formula (II) to obtain a compound of formula (III) can be carried out in a suitable inert solvent such as an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbon, e.g. Hexane, cyclohexane, benzene or toluene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, ethers such as di-lower alkyl ethers such as diethyl ether, di-lower alkoxy-lower alkanes such as dimethoxyethane, cyclic ethers such as dioxane or tetrahydrofuran, or aliphatics, in a cycloaliphatic or aromatic nitrile such as acetonitrile, or mixtures thereof, optionally in the presence of a moisture adsorbent such as dried molecular sieves, at room temperature or about 150°C.
Preferably, the reaction is carried out at a temperature of about 80-100° C., and optionally in an inert gas atmosphere, such as a nitrogen gas atmosphere.

環化反応により形成する式(I[[)で表わされるエナ
ミンは、場合により粗生成物として単離することができ
、また同じ反応溶液中で加溶媒分解して式(I A)ま
たは(IB)で表わされる化合物を得ることができる。
The enamines of formula (I[ ) can be obtained.

中間生成物として生成してくる式(III)で表わされ
るエナミンにおいて、2重結合は、2,3−位置または
3,4−位置であることができる。2種の異性体の混合
物もまた得ることができる。水または式R,−OHで表
わされるアルコールを環化反応中に完全に除去しなけれ
ば、得られる粗生成物もまたすてに式(IA)または(
IB)で表わされる加溶媒分解生成物がいくらか含まれ
ている。加溶媒分解は、水分吸着剤例えば乾燥分子ふる
いの存在による作用で阻止することができる。式(IA
)または(IB)で表わされる化合物は、RaOH化合
物、特には低級アルカノールの存在下で環化反応を行う
ことにより直接に得ることができる。
In the enamine represented by formula (III) produced as an intermediate product, the double bond can be at the 2,3-position or the 3,4-position. Mixtures of the two isomers can also be obtained. If the water or the alcohol of the formula R, -OH is not completely removed during the cyclization reaction, the crude product obtained will also be of the formula (IA) or (
Some solvolysis products represented by IB) are present. Solvolysis can be inhibited by the presence of moisture adsorbents such as dry molecular sieves. Formula (IA
) or (IB) can be obtained directly by carrying out a cyclization reaction in the presence of an RaOH compound, particularly a lower alkanol.

得られる式(III)で表わされるエナミンの加溶媒分
解は、水または式R3−OHのアルコールおよび適当な
らば触媒の、等モル量までの有機または無機酸、例えば
カルボン酸、スルホン酸または鉱酸例えばギ酸、酢酸、
ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、p−)ルエン
スルホンM、塩M、硫酸またりん酸を約−10℃〜約4
0℃、好ましくは室温で加えることによって行う。
Solvolysis of the resulting enamine of formula (III) is carried out using up to equimolar amounts of an organic or inorganic acid, such as a carboxylic acid, sulfonic acid or mineral acid, of water or an alcohol of formula R3-OH and, if appropriate, a catalyst. For example, formic acid, acetic acid,
Benzenesulfonic acid, methanesulfonic acid, p-)luenesulfone M, salt M, sulfuric acid or phosphoric acid from about -10°C to about 4
The addition is carried out at 0° C., preferably at room temperature.

本発明方法による環化反応および加溶媒分解において、
出発材料および反応条件に基づき、式(IA)または式
(IB)で表わされる単一の化合物、または式(IA)
および式(IB)で表わされる化合物の混合物が得られ
る。得られる混合物は、それ自身公知の方法により分離
することができ、例えば適当な分離法により、吸着およ
び分別溶離〔適当な吸着剤たとえばシリカゲルまたは酸
化アルミニウム、および溶離剤を使ったクロ7トグラフ
イー(カラム、紙またはプレートクロマトグラフィー)
に含まれる〕および分別結晶、溶媒分配等により行うこ
とができる。
In the cyclization reaction and solvolysis according to the method of the present invention,
Depending on the starting materials and reaction conditions, a single compound of formula (IA) or formula (IB), or formula (IA)
and a mixture of compounds represented by formula (IB) is obtained. The resulting mixture can be separated by methods known per se, for example by adsorption and fractional elution [chromatography (column) using a suitable adsorbent such as silica gel or aluminum oxide and an eluent. , paper or plate chromatography)
] and fractional crystallization, solvent distribution, etc.

得られる式(IA)および式(IB)で表わされる化合
物は、薬理的により活性は最終生成物用の中間体として
適当であり、それ自身公知の種々の付加的方法によって
そのような活性最終生成物に変えることができる。
The resulting compounds of formula (IA) and formula (IB) are suitable as intermediates for pharmacologically active end products and can be prepared by various additional methods known per se to such active end products. It can be turned into something.

本発明方法により得られる式(I″A)または式(IB
)で表わされる化合物において、α−フェニル−低級ア
ルキル基R3は、容易に分裂して、水素原子で置換する
ことができる。場合により置換されていることのあるα
−フェニル−低級アルキル基、例えばベンジル基または
ジフェニルメチル基は、アシドリシス例えば適当な無機
または有機酸例えば塩酸、硫酸、ギ酸または特にトリフ
ルオル酢酸で処理することにより、または水素化分解、
たとえば触媒例えばパラジウム存在中の水素原子で処理
することにより分裂することができる。
Formula (I″A) or formula (IB
In the compound represented by ), the α-phenyl-lower alkyl group R3 can be easily split and replaced with a hydrogen atom. α may be substituted in some cases
-Phenyl-lower alkyl groups, such as benzyl or diphenylmethyl groups, can be synthesized by acidolysis, e.g. by treatment with suitable inorganic or organic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid or especially trifluoroacetic acid, or by hydrogenolysis,
For example, cleavage can be effected by treatment with hydrogen atoms in the presence of a catalyst such as palladium.

得られる3−ヒドロキシ化合物は、主に3−セフェムの
形である。α−フェニル−低級アルキル基R1の脱離は
、場合により選択的に、すなわちカルボキシル保護基R
仝を同時に1分離せずに、行うことができる。
The 3-hydroxy compounds obtained are primarily in the form of 3-cephems. The elimination of the α-phenyl-lower alkyl group R1 can optionally be carried out selectively, i.e. the carboxyl protecting group R
This can be done simultaneously without any separation.

エノール−エーテル、すなわち式(IA)および(また
は)式(IB)で表わされる化合物においてR8が低級
アルキル基である化合物は、式(IA)または(IB)
においてR3が水素原子または水酸基を保護している残
基である化合物から得ることができ、R3が水酸基を保
護している残基である場合には、この基を水素原子で置
換しそして引き続いて、エノール基のエーテル化に適す
る任意の方法に従って遊離の水酸基をエーテル化するこ
とにより得られる。エーテル化剤としては、基R3に相
当する式 %式% で表わされるジアゾ化合物、主として置換されている場
合のあるジアゾ低級アルカン例えばジアゾメタン、ジア
ゾエタンまたはジアゾ−n〜ブタン、さらに置換されて
いる場合のあるα〜フェニルージアゾ低級アルカン例え
ばフェニルジアゾメタンやジフェニルジアゾメタンを使
うのが好ましい。
Enol-ethers, that is, compounds represented by formula (IA) and/or formula (IB) in which R8 is a lower alkyl group, are compounds represented by formula (IA) or (IB).
can be obtained from a compound in which R3 is a hydrogen atom or a residue protecting a hydroxyl group, and when R3 is a residue protecting a hydroxyl group, replacing this group with a hydrogen atom and subsequently , obtained by etherifying free hydroxyl groups according to any method suitable for etherifying enol groups. Suitable etherification agents include diazo compounds of the formula % corresponding to the group R3, mainly optionally substituted diazo lower alkanes such as diazomethane, diazoethane or diazo-n-butane, and further substituted diazo-lower alkanes such as diazomethane, diazoethane or diazo-n-butane. It is preferred to use certain alpha-phenyldiazo lower alkanes such as phenyldiazomethane and diphenyldiazomethane.

これら反応剤を適当な不活性溶媒例えばヘキサン、シク
ロヘキサン、ベンゼンまたはトルエンのような脂肪族、
脂環式または芳香族炭化水素、塩化メチレンのようなハ
ロゲン化された脂肪族炭化水素、メタノール、エタノー
ルまたはt−ブタノールのような低級アルカノール、エ
ーテル例えばジエチルエーテルのようなジ低級アルキル
エーテルまたはテトラヒドロフランやジオキサンのよう
な環状エーテルまたはそれらの溶媒混合物の存在の下で
そしてジアゾ化合物によって冷却、室温または僅かに加
熱の下で、さらに必要ならば密封容器内でそして(また
は)窒素ガスのような不活性ガスの下で使う。
These reactants can be dissolved in a suitable inert solvent such as an aliphatic solvent such as hexane, cyclohexane, benzene or toluene,
Cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons, halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, lower alkanols such as methanol, ethanol or t-butanol, ethers such as di-lower alkyl ethers such as diethyl ether or tetrahydrofuran, in the presence of a cyclic ether such as dioxane or a solvent mixture thereof and with a diazo compound, cooled at room temperature or under slight heating, and if necessary in a sealed container and/or an inert gas such as nitrogen gas. Use under gas.

さらに、式 %式% (この式でR1は低級アルキル基または置換されている
場合のあるα−フェニル−低級アルキル基、例えばベン
ジル基またはジフェニルメチル基である) で表わされるアルコールの反応性エステルで処理するこ
とによって、式(IA)および(または)式(IB)で
表わされるエノールエーテルを生成することができる。
Furthermore, reactive esters of alcohols of the formula % (in which R1 is a lower alkyl group or an optionally substituted α-phenyl-lower alkyl group, such as a benzyl group or a diphenylmethyl group) By treatment, enol ethers of formula (IA) and/or formula (IB) can be produced.

適するエステルは主として強い無機または有機酸、例え
ば鉱酸、例えばハロゲン化水素酸例えば塩酸、臭化水素
酸またはよう化水素酸、硫酸またはフルオル硫酸のよう
なハロゲノ硫酸あるいは強い有機スルホン酸例えばふっ
素のようなハロゲンで置換されている場合のある低級ア
ルカンスルホン酸、または芳香族スルホン酸例えばメチ
ル基のような低級アルキル基、臭素のようなハロゲン原
子および(または)ニトロ基で置換されていることので
きるベンゼンスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、ト
リフルオルメタンスルホン酸またはp−トルエンスルホ
ン酸とのエステルである。これらエーテル化剤殊に硫酸
ジメチルのような硫酸ジ低級アルキル、さらにフルオル
硫酸メチルのようなフルオル硫酸低級アルキルまたはト
リフルオルメタンスルホン酸メチルのようなハロゲン置
換されていることのできるメタンスルホン酸低級アルキ
ルエステルを一般には溶媒例えば塩素化のようなハロゲ
ン化されている場合のある脂肪族、脂環式または芳香族
炭化水素例えば塩化メチレン、ジオキサンやテトラヒド
ロフランのようなエーテル、メタノールのような低級ア
ルカノールまたはそれらの混合物の中で使う。この場合
に、適当な縮合剤例えばナトリウムやカリウムのような
アルカリ金属の炭酸塩または重炭酸塩(一般に硫酸エス
テルの場合に)または有機塩基例えばN、N−ジイソプ
ロピル−N−エチルアミンのような一般に立体障害のあ
るトリ低級アルキルアミン(好ましくはハロゲノ硫酸低
級アルキルエステルまたはハロゲン置換されている場合
のあるメタンスルホン酸低級アルキルエステルの場合に
)を使うのが好ましい。この反応を冷却、室温または加
熱の下で例えば約−20〜50℃でそして必要ならば密
封容器内でそして(または)窒素のような不活性ガスの
下で操作する。
Suitable esters are primarily strong inorganic or organic acids, such as mineral acids, such as hydrohalic acids, such as hydrochloric acid, hydrobromic acid or hydroiodic acid, halogenosulfuric acid, such as sulfuric acid or fluorosulfuric acid, or strong organic sulfonic acids, such as fluorine. lower alkanesulfonic acids which may be substituted with halogens, or aromatic sulfonic acids which may be substituted with lower alkyl groups such as methyl groups, halogen atoms such as bromine and/or nitro groups; Esters with benzenesulfonic acid, such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid or p-toluenesulfonic acid. These etherifying agents are particularly di-lower alkyl sulfates such as dimethyl sulfate, and also lower alkyl fluorosulfates such as methyl fluorosulfate or lower alkyl methanesulfonates which may be halogen-substituted such as methyl trifluoromethanesulfonate. Esters are generally defined as solvents such as aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons which may be halogenated such as chlorinated, ethers such as methylene chloride, dioxane or tetrahydrofuran, lower alkanols such as methanol or the like. Use in a mixture of In this case, suitable condensing agents such as carbonates or bicarbonates of alkali metals such as sodium or potassium (generally in the case of sulfuric esters) or organic bases such as N,N-diisopropyl-N-ethylamine, generally steric Preference is given to using hindered tri-lower alkyl amines (preferably in the case of halogenosulfuric acid lower alkyl esters or methanesulfonic acid lower alkyl esters which may be halogen-substituted). The reaction is operated cooled, at room temperature or under heat, for example from about -20 to 50°C, and if necessary in a sealed vessel and/or under an inert gas such as nitrogen.

エーテル化反応は、相転移触媒によってさらに促進する
ことができる。使うことのできる相転移触媒は、第4り
ん塩および特に4級アンモニウム塩、例えば場合により
置換されていることのあるテトラアルキルアンモニウム
ハライド、例えばテトラブチルアンモニウムクロリド、
プロミドまたはヨーダイト、またはベンジル−トリエチ
ルアンモニウムクロリドであり、触媒的な量または等モ
ル量までで使う。水と混和しない任意の溶媒を有機相と
して使うことができ、例えば場合によりハロゲン化たと
えば塩素化されていることのある脂肪族、脂環式または
芳香族炭化水素、例えばトリーまたはテトラ−クロルエ
チレン、ジー、トリーまたはテトラ−クロルエタン、ク
ロルベンゼン、または特に4塩化炭素、またはトルエン
またはキシレンである。アルカリ金属の炭酸塩または重
炭酸塩、例えば炭酸または重炭酸カリウム、炭酸または
重炭酸ナトリウム、アルカリ金属リン酸塩例えばリン酸
カリウム、およびアルカリ金属水酸化物例えば水酸化ナ
トリウムは、縮合剤として適当であり、塩基−感応性化
合物の場合には、エーテル化の間pH値が約7と8.5
の間になるように反応混合物中に加えることができる。
The etherification reaction can be further promoted by a phase transfer catalyst. Phase transfer catalysts that can be used are quaternary phosphorus salts and especially quaternary ammonium salts, such as optionally substituted tetraalkylammonium halides, such as tetrabutylammonium chloride,
Bromide or iodite, or benzyl-triethylammonium chloride, used in catalytic or up to equimolar amounts. Any water-immiscible solvent can be used as the organic phase, such as optionally halogenated, e.g. chlorinated, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons, e.g. tri- or tetra-chloroethylene; di-, tri- or tetra-chloroethane, chlorobenzene, or especially carbon tetrachloride, or toluene or xylene. Alkali metal carbonates or bicarbonates, such as potassium carbonate or bicarbonate, sodium carbonate or bicarbonate, alkali metal phosphates, such as potassium phosphate, and alkali metal hydroxides, such as sodium hydroxide, are suitable as condensing agents. In the case of base-sensitive compounds, the pH value during etherification is approximately 7 and 8.5.
can be added to the reaction mixture so that the

さらに、脂肪族性の同一炭素原子に式 : で示されるエーテル化された水酸基2〜3個をもつ化合
物すなわち相当するアセタールまたはオルトエステルで
酸性剤の存在の下で処理することによって、エノールエ
ーテルを作ることもできる。
Furthermore, the enol ether can be prepared by treatment with a compound having 2 to 3 etherified hydroxyl groups of the formula on the same aliphatic carbon atom, i.e. the corresponding acetal or orthoester, in the presence of an acidic agent. You can also make one.

従って、エーテル化剤として例えば2.2−ジメトキシ
−プロパンのようなgeII+−低級アルコキシ低級ア
ルカンをp−1−ルエンスルホン酸のような強い有機ス
ルホン酸の存在の下でそして適当な溶媒例えばメタノー
ルのような低級アルカノールまたはジメチルスルホキシ
ドのようなジ低級アルキル−または低級アルキレン−ス
ルオキシドの存在の下で、またはオルトぎ酸トルエチル
エステルのようなオルトぎ酸トリ低級アルキルエステル
を硫酸のような強い無機酸またはp−)ルエンスルホン
酸のような強い有機スルホン酸の存在の下でそして適当
な溶媒例えばエタノールのような低級アルカノールまた
はジオキサンのようなエーテルの存在の下で使うことが
でき、こうしてR□がメチル基またはエチル基のような
低級アルキル基である式(rA)および(または)式(
IB)で表わされる化合物が得られる。
Thus, geII+-lower alkoxy lower alkanes such as 2,2-dimethoxy-propane are used as etherification agents in the presence of a strong organic sulfonic acid such as p-1-luenesulfonic acid and in a suitable solvent such as methanol. strong inorganic acids such as sulfuric acid, or tri-lower alkyl orthoformates such as orthoformate toluethyl ester in the presence of lower alkanols or di-lower alkyl- or lower alkylene-sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. or p-) can be used in the presence of a strong organic sulfonic acid such as luenesulfonic acid and in the presence of a suitable solvent such as a lower alkanol such as ethanol or an ether such as dioxane, such that R□ Formula (rA) and/or formula (which is a lower alkyl group such as a methyl group or an ethyl group)
The compound represented by IB) is obtained.

さらに、式(IA)および(または’)(IB)で表わ
される化合物(ここでR3は水素原子である)を式 %式%() で表わされるトリーR1−オキソニウム塩(いわゆるメ
ールワイン塩)または式 %式% で表わされるジーR30−力ルベニウム塩または式 %式% (これらの式でA○は酸の陰イオンでありそしてHag
○はブロモニウムイオンのようなハロニウムイオンであ
る) で表わされるジーR3−ハロニウム塩で処理する場合に
も、式(IA)および(または”)(IB)で表わされ
るエノールエーテルが得られる。このような反応体とし
て、主にトリ低級アルキルオキソニウム塩、ジ低級アル
キルハロニウム塩またはジ低級アルキルハロニウム塩、
−殊に錯ふっ素含有酸との相当する塩、例えば相当する
テトラフルオルボレート、ヘキサフルオルホスフェート
、ヘキサフルオルホスフェ−トまたはへキサクロルアン
チモネートが挙げられる。このような反応体は例えばト
リメチルオキソニウム−またはトリエチルオキソニウム
ーヘキサフルオルアンチモネート、−へキサクロルアン
チモネート、−へキサフルオルホスフェートまたは−テ
トラフルオルボレート、ジメトキシカルベニラムへキサ
フルオルホスフェートまたはジメチルブロモニウムーヘ
キサフルオルアンチモネートである。これらエーテル化
剤を好ましくは不活性溶媒例えばジエチルエーテルやテ
トラヒドロフランのようなエーテルまたは塩化メチレン
のようなハロゲン化された炭化水素またはそれらの混合
物の中で、必要ならば塩基例えば好ましくは立体障害の
あるトリ低級アルキルアミン例えばN、N−ジイソプロ
ピル−N−エチルアミンのような有機塩基の存在の下で
そして冷却、室温またはわずかに加熱の下で例えば約−
20〜+50℃で、必要ならば密封容器内でそして(ま
たは)窒素のような不活性ガスの下で使う。
Furthermore, compounds represented by formulas (IA) and (or') (IB) (wherein R3 is a hydrogen atom) may be added to tri-R1-oxonium salts (so-called Meherwein salts) represented by the formula % formula % () or DiR30-rubenium salt or formula% expressed by the formula% formula% (in these formulas A○ is an anion of the acid and Hag
(○ is a halonium ion such as a bromonium ion) Enol ethers represented by formulas (IA) and (or ") (IB) are also obtained when treated with di-R3-halonium salts represented by: Such reactants are mainly tri-lower alkyloxonium salts, di-lower alkylhalonium salts or di-lower alkylhalonium salts,
- Particular mention may be made of the corresponding salts with complex fluorine-containing acids, such as the corresponding tetrafluoroborates, hexafluorophosphates, hexafluorophosphates or hexachloroantimonates. Such reactants are, for example, trimethyloxonium- or triethyloxonium-hexafluorantimonate, -hexachlorantimonate, -hexafluorophosphate or -tetrafluoroborate, dimethoxycarbenylam hexafluorophosphate. or dimethylbromonium-hexafluorantimonate. These etherifying agents are preferably carried out in an inert solvent such as an ether such as diethyl ether or tetrahydrofuran or a halogenated hydrocarbon such as methylene chloride or a mixture thereof, if necessary a base such as a preferably sterically hindered tri-lower alkylamines in the presence of an organic base such as N,N-diisopropyl-N-ethylamine and under cooling, room temperature or slight heating, e.g.
Used at 20-+50°C, if necessary in a sealed container and/or under an inert gas such as nitrogen.

さらに、式R3が水素原子である式(IA)および(ま
たは)式(IB)で表わされる化合物を、3−位置で置
換されたIR:I−)リアゼン化合物(すなわち、置換
基−N=N−NH−R,をもつ化合物)で処理すること
によっても、式(IA)および(または)(IB)で表
わされるエノールエーテルが作られる。この3−窒素原
子の置換基は炭素原子を介して結合している有機基好ま
しくは炭素環式子り−ル基、例えば置換されている場合
のあるフェニル基例えば4−メチルフェニル基のような
低級アルキルフェニル基である。このようなトリアゼン
化合物は3−アリール−1−低級アルキル−トリアゼン
例えば3−(4−メチルフェニル)−1−メチル−トリ
アゼン、3− (4−メチルフェニル)−1−エチル−
トリアゼン、3−(4−メチルフェニル)−1−n−プ
ロピル−トリアゼンまたは3−(4−メチルフェニル)
−1−イソプロピル−トリアゼン、または3−了り−ル
ー1−(α−フェニル低級アルキル)−トリアゼン例え
ば1−ベンジル−3−(4−メチルフェニル)−トリア
ゼンである。これら反応体を一般に不活性溶媒例えばハ
ロゲン化されている場合のある炭化水素例えばベンゼン
またはエーテルまたは溶媒混合物の中でそして冷却、室
温または好ましくは高めた温度の下で例えば約20〜1
00℃で、必要ならば密封容器内でそして(または)窒
素のような不活性ガスの中で使う。
Furthermore, compounds represented by formula (IA) and (or) formula (IB) in which formula R3 is a hydrogen atom can be added to an IR:I-) riazene compound substituted at the 3-position (i.e., a substituent -N=N Enol ethers of formulas (IA) and/or (IB) are also produced by treatment with compounds having -NH-R,. The substituent on the 3-nitrogen atom is an organic group bonded via a carbon atom, preferably a carbocyclic ring group, such as an optionally substituted phenyl group, such as a 4-methylphenyl group. It is a lower alkylphenyl group. Such triazene compounds include 3-aryl-1-lower alkyl-triazenes such as 3-(4-methylphenyl)-1-methyl-triazene, 3-(4-methylphenyl)-1-ethyl-
Triazene, 3-(4-methylphenyl)-1-n-propyl-triazene or 3-(4-methylphenyl)
-1-isopropyl-triazene, or 3-ori-1-(α-phenyl lower alkyl)-triazene, such as 1-benzyl-3-(4-methylphenyl)-triazene. These reactants are generally dissolved in an inert solvent such as a hydrocarbon which may be halogenated such as benzene or an ether or a solvent mixture and cooled, at room temperature or preferably at an elevated temperature, e.g.
00°C, if necessary in a sealed container and/or under an inert gas such as nitrogen.

式(IA)および(IB)において−0R3が反応性に
エステル化された水酸基である化合物を、R,−OH(
ここでR1は低級アルキル基またはα−フェニル−低級
アルキル基である)で表わされるアルコールと反応させ
ることによっても、式(IA)および(または)式(I
B)で表わされるエノールエーテルを得ることができる
。反応性にエステル化された水酸基−OR,は、特に無
機または有機の強酸でエステル化された水酸基である。
Compounds in which -0R3 is a reactively esterified hydroxyl group in formulas (IA) and (IB) are converted into R, -OH (
wherein R1 is a lower alkyl group or an α-phenyl-lower alkyl group), formula (IA) and/or formula (I
The enol ether represented by B) can be obtained. Reactively esterified hydroxyl groups -OR, are in particular hydroxyl groups esterified with strong inorganic or organic acids.

このような酸としては、例えば鉱酸、ノ10ゲン化水素
酸例えば塩酸、臭化水素酸またはコー化水素酸、および
または硫酸またはハロゲン化硫酸、例えばフルオル硫酸
、または好ましくは強有機スルホン酸例えば式 %式% (この式でR6は基Yにおいて与えたと同じ意味をもつ
)で表わされる酸、例えば低級アルカンスルホン酸(こ
れは場合によりふっ素原子のようなハロゲン原子によっ
て置換されていることがある)、または芳香族スルホン
酸例えばベンゼンスルホン酸(場合により例えばメチル
基のような低級アルキル基、臭素原子のようなハロゲン
原子、および(または)ニトロ基によって置換されてい
ることがある)、例えば特にメタンスルホン酸、トリフ
ルオルメタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸
である。式Rs  OHで表わされるアルコールとの反
応は、通常溶媒例えば場合によりノ\ロゲン化例えば塩
素化されていることのある脂肪族、脂環式または芳香族
炭化水素例えばベンゼン、トルエンまたは塩化メチレン
、エーテル例えばジオキサンまたはテトラヒドロフラン
、ジー低級アルキルアミド例えばジメチルホルムアミド
またはジメチルスルホキシド等中でか、またはそれらの
混合物中で、好ましくは適当な縮合剤例えばアルカリ金
属の炭酸塩または重炭酸塩、例えば炭酸または重炭酸ナ
トリウム、炭酸または重炭酸カリウム、の存在下または
有機塩基例えば通常立体障害のあるトリ低級アルキルア
ミン例えばトリエチルアミンまたはN、N−ジイソプロ
ピル−N−エチルアミンの存在下で行う、さらに反応は
、冷却、室温または加温して例えば約−20℃〜50℃
の温度で、必要ならば密封容器中で、そして(または)
不活性ガス雰囲気例えば窒素雰囲気中で行う。
Such acids include, for example, mineral acids, hydrochloric acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid or hydrocolic acid, and or sulfuric acid or halogenated sulfuric acids, such as fluorosulfuric acid, or preferably strong organic sulfonic acids such as acids of the formula % formula % (in which R6 has the same meaning as given in the group Y), such as lower alkanesulfonic acids, which may optionally be substituted by halogen atoms, such as fluorine atoms; ), or aromatic sulfonic acids such as benzenesulfonic acid (optionally substituted, e.g. by lower alkyl groups such as methyl groups, halogen atoms such as bromine atoms, and/or nitro groups), e.g. especially Methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid or p-toluenesulfonic acid. The reaction with alcohols of the formula Rs OH is usually carried out in solvents such as optionally halogenated, e.g. chlorinated, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or methylene chloride, ethers. For example in dioxane or tetrahydrofuran, di-lower alkyl amides such as dimethylformamide or dimethylsulfoxide, etc., or in mixtures thereof, preferably with suitable condensing agents such as alkali metal carbonates or bicarbonates, such as sodium carbonate or bicarbonate. , potassium carbonate or bicarbonate, or in the presence of an organic base such as a normally sterically hindered tri-lower alkylamine such as triethylamine or N,N-diisopropyl-N-ethylamine. Warm it to about -20℃ to 50℃, for example.
in a sealed container if necessary, and/or
It is carried out in an inert gas atmosphere, for example, a nitrogen atmosphere.

式(IA)および(または)式(IB)において、−0
R1が反応性にエステル化された水酸基である化合物は
、すでに独国特許公開第2.408,686号および同
第2.408.698号により開示されており、また本
発明方法により得られる、−0R3が遊離の水酸基であ
る式(IA)および(または)式(I B)で表わされ
る化合物から前記独国公開の各号に開示されている方法
と同様にして作ることができる。
In formula (IA) and/or formula (IB), -0
Compounds in which R1 is a reactively esterified hydroxyl group have already been disclosed in DE 2.408,686 and DE 2.408.698, and can also be obtained by the method of the present invention. It can be produced from compounds represented by formula (IA) and/or formula (IB) in which -0R3 is a free hydroxyl group in the same manner as the methods disclosed in the above-mentioned German publications.

例えば、R3が一3ow  Rsである式(IA)およ
び(または)式(IB)で表わされる化合物のスルホン
酸エステルは、−0R1が遊離の水酸基である式(IA
)および(または)式(IB)で表わされる化合物を、
式HOSOx  Rsで表わされるスルホン酸の反応性
に官能化された誘導体でエステル化することによって作
ることができる。使用することのできる、弐〇〇 −S
O□−R3で表わされるスルホン酸の反応性官能誘導体
は、例えばその反応性無水物、特にハロゲン化水素酸と
の混合無水物、例えばその塩化物、例えば塩化メシルと
p−)ルエンスルホン酸クロリドである。
For example, a sulfonic acid ester of a compound represented by formula (IA) and/or formula (IB) in which R3 is 13ow Rs is a compound represented by formula (IA) in which -0R1 is a free hydroxyl group.
) and (or) a compound represented by formula (IB),
It can be made by esterification with a reactively functionalized derivative of a sulfonic acid of the formula HOSOx Rs. 2〇〇-S that can be used
Reactive functional derivatives of sulfonic acid represented by O□-R3 include, for example, its reactive anhydrides, especially mixed anhydrides with hydrohalic acids, such as its chlorides, such as mesyl chloride and p-)luenesulfonic acid chloride. It is.

エステル化は、好ましくは有機の第3窒素塩基例えばピ
リジン、トリエチルアミンまたはエチル−ジイソプロピ
ルアミンの存在下で、適当な不活性溶媒例えば脂肪族、
脂環式または芳香族炭化水素例えば、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン、塩化メチレンのよ
うなハロゲン化された脂肪族炭化水素、メタノール、エ
タノールまたはt−ブタノールのような低級アルカ/−
ル、エーテル例えばジエチルエーテルのようなジ低級ア
ルキルエーテルまたはテトラヒドロフランやジオキサン
のような環状エーテルまたはそれらの溶媒混合物の存在
の下でそしてエステル化剤の反応性によって冷却、室温
または僅かに加熱、すなわち約−10℃〜+50℃の温
度の下で、さらに必要ならば密封容器内でそして(また
は)窒素ガスのような不活性ガスの下で行う。得られる
スルホン酸エステルは、単離することができ、また同一
の反応混合物中でさらに処理することもできる。
The esterification is preferably carried out in the presence of an organic tertiary nitrogen base such as pyridine, triethylamine or ethyl-diisopropylamine in a suitable inert solvent such as an aliphatic,
Cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons, e.g. hexane, cyclohexane, benzene or toluene, halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, lower alkalis such as methanol, ethanol or t-butanol.
cooled, room temperature or slightly heated, i.e. in the presence of a di-lower alkyl ether such as diethyl ether or a cyclic ether such as tetrahydrofuran or dioxane or a solvent mixture thereof and depending on the reactivity of the esterifying agent, i.e. It is carried out at a temperature of -10°C to +50°C, if necessary in a sealed container and/or under an inert gas such as nitrogen gas. The resulting sulfonic ester can be isolated or further processed in the same reaction mixture.

本発明方法ならびに所望によっては行うことのできる追
加工程においては、必要ならば、その原料または本発明
方法によって得られる化合物中の反応に関与しない遊離
の官能性基を、例えば遊離アミノ基はこれを例えばアシ
ル化、トリチル化またはシリル化によって、遊離水酸基
またはメルカプト基はこれを例えばエーテル化またはエ
ステル化によってそして遊離カルボキシル基はこれを例
えばシリル化を含めたエステル化によって、予じめそれ
自身公知の方法によって一時的に保護しそして反応終了
後にそれ自体公知の方法によってそれらの基を所望なら
ば個々にまたは同時に遊離させることができる。従って
、好ましくは例えばアシル基としてのR+またはRbに
おけるアミノ基、水酸基、カルボキシル基またはホスホ
ノ基を例えば前記のようなアシルアミノ基例えば2,2
.2−トリクロルエトキシカルボニルアミノ基、2−ブ
ロムエトキシカルボニルアミノ基、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニルアミノ基、ジフェニルメトキシカル
ボニルアミノ基またはt−ブトキシカルボニルアミノ基
の形で、了り−ルチオアミノ基またはアリール低級アル
キルチオアミノ基例えば2−ニトロフェニルチオアミノ
基の形で、アリールスルホニルアミノ基例えば4−メチ
ルフェニルスルホニルアミノ基の形で、l−低級アルコ
キシカルボニルー2−プロピリデンアミノ基の形で、前
記のようなアシルオキシ基例えば(−ブトキシカルボニ
ルオキシ基、2.2.2− )リクロルエトキシカルボ
ニルオキシ基または2−ブロムエトキシカルボニルオキ
シ基の形で、前記のようなエステル化されたカルボキシ
ル基例えばジフェニルメトキシカルボニル基の形である
いは前記のような0.0′−ジ置換されたホスホノ基例
えば0.0′−ジメチルホスホノ基のような0,0′−
ジ低級アルキルホスホノ基の形でそれぞれ保護しそして
後に、場合によってはその保護基を変換(例えば2−ブ
ロムエトキシカルボニル基を2−ヨードエトキシカルボ
ニル基に)してから、それ自体公知の方法によってそし
て保護基の種類によって、例えば2,2.2−)リクロ
ルエトキシカルボニルアミノ基または2−ヨードエトキ
シカルボニルアミノ基はこれを水性酢酸の存在下での亜
鉛のような適当な還元剤で処理し、ジフェニルメトキシ
カルボニルアミノ基やt−ブトキシカルボニルアミノ基
はこれをぎ酸またはトリフルオル酢酸で処理し、アリー
ルチオアミノ基やアリール低級アルキルチオアミノ基は
これを亜硫酸のような親核性剤で処理し、了り−ルスル
ホニルアミノ基はこれを電解還元によって、l−低級ア
ルコキシカルボニルー2−プロピリデンアミノ基はこれ
を無機酸水溶液で処理し、t−ブトキシカルボニルオキ
シ基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢酸で処理し、2
.2.2−トリクロルエトキシカルボニルオキシ基はこ
れを水性酢酸の存在下での亜鉛のような化学的還元剤で
処理し、ジフェニルメトキシカルボニル基はこれをぎ酸
またはトリフルオル酢酸で処理するかまたは加水分解し
、または0,0′−ジ置換されたホスホノ基はこれをア
ルカリ金属のハロゲン化物で処理して所望ならば例えば
部分的に分裂することができる。
In the process of the invention and the additional steps which may be carried out if desired, free functional groups which do not take part in the reaction in the starting materials or in the compounds obtained by the process of the invention may be removed, for example free amino groups. For example, by acylation, tritylation or silylation, free hydroxyl groups or mercapto groups can be converted by etherification or esterification, and free carboxyl groups can be converted by esterification, for example by esterification, including silylation. The groups can be temporarily protected by a method and, if desired, liberated individually or simultaneously after the end of the reaction by methods known per se. Therefore, preferably an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group or a phosphono group in R+ or Rb as an acyl group is replaced with an acylamino group such as the above-mentioned acylamino group such as 2,2
.. in the form of a 2-trichloroethoxycarbonylamino group, a 2-bromoethoxycarbonylamino group, a 4-methoxybenzyloxycarbonylamino group, a diphenylmethoxycarbonylamino group or a t-butoxycarbonylamino group, an aryl-ruthioamino group or an aryl lower alkylthio group. Amino groups, for example in the form of a 2-nitrophenylthioamino group, arylsulfonylamino groups, for example in the form of a 4-methylphenylsulfonylamino group, l-lower alkoxycarbonyl-2-propylideneamino groups, as mentioned above; Acyloxy groups, for example in the form of (-butoxycarbonyloxy, 2.2.2-)lychloroethoxycarbonyloxy or 2-bromoethoxycarbonyloxy groups, esterified carboxyl groups as mentioned above, such as diphenylmethoxycarbonyl groups. or a 0.0'-disubstituted phosphono group as described above, e.g.
in each case in the form of a di-lower alkylphosphono group and subsequently, optionally after conversion of the protecting group (e.g. a 2-bromoethoxycarbonyl group into a 2-iodoethoxycarbonyl group), by methods known per se. Depending on the type of protecting group, e.g. 2,2.2-)lychloroethoxycarbonylamino or 2-iodoethoxycarbonylamino, this can be treated with a suitable reducing agent such as zinc in the presence of aqueous acetic acid. , diphenylmethoxycarbonylamino groups and t-butoxycarbonylamino groups are treated with formic acid or trifluoroacetic acid, and arylthioamino groups and aryl lower alkylthioamino groups are treated with a nucleophilic agent such as sulfite. The sulfonylamino group is obtained by electrolytic reduction, the l-lower alkoxycarbonyl-2-propylideneamino group is treated with an aqueous inorganic acid solution, and the t-butoxycarbonyloxy group is treated with formic acid or trifluoroacetic acid. Process with 2
.. 2. The 2-trichloroethoxycarbonyloxy group is treated with a chemical reducing agent such as zinc in the presence of aqueous acetic acid, and the diphenylmethoxycarbonyl group is treated with formic acid or trifluoroacetic acid or hydrolyzed. The or 0,0'-disubstituted phosphono group can be partially cleaved, for example, if desired by treating it with an alkali metal halide.

本発明方法によって得られた、式−C(= O) −R
8の保護殊にエステル化されたカルボキシル基をもつ式
(IA)または式(IB)で表わされる化合物において
、これをそれ自体公知の方法によって例えば基R8の種
類によって、遊離カルボキシル基に変えることができる
。エステル化例えば低級アルキル基殊にメチル基または
エチル基、またはベンジル基でエステル化されたカルボ
キシル基(特に式(IB)で表わされる2−セフェム化
合物において)を弱塩基性媒質中で加水分解することに
より、例えばアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水
酸化物または炭酸塩例えば水酸化ナトリウムまたは水酸
化ナトリウムの水溶液で好ましくは約9〜10のpH値
でそして場合によっては低級アルカノールの存在の下で
処理することにより、遊離カルボキシル基に変えること
ができる。
Formula -C(=O)-R obtained by the method of the present invention
In the compounds of formula (IA) or formula (IB) with a particularly esterified carboxyl group, this can be converted into a free carboxyl group by methods known per se, for example depending on the nature of the group R8. can. Esterification, for example hydrolysis of lower alkyl groups, especially methyl or ethyl groups, or carboxyl groups esterified with benzyl groups (especially in 2-cephem compounds of formula (IB)) in a weakly basic medium. for example with an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide or carbonate, such as sodium hydroxide or an aqueous solution of sodium hydroxide, preferably at a pH value of about 9 to 10 and optionally in the presence of lower alkanols. By doing so, it can be converted to a free carboxyl group.

適当な2−ハロゲノ低級アルキル基またはアリールカル
ボニルメチル基でエステル化されたカルボキシル基はこ
れを例えば化学的還元剤例えば亜鉛のような金属または
2価クロム塩例えば2価クロムの塩化物のような還元性
金属塩で、一般にその金属によって発生期の水素を生成
することのできる水素給与体例えば酸主に酢酸またはぎ
酸あるいはアルコール(好ましくはこれらに水を加える
)の存在の下で処理することによって分裂させるこ、 
 とができ、またアリールカルボニルメチル基でエステ
ル化されたカルボキシル基はこれをナトリウムチオフェ
ノラートまたはよう化ナトリウムのような親核性の好ま
しくは塩形成性の反応剤で処理することによって分裂さ
せることができ、また適当なアリールメチル基でエステ
ル化されたカルボキシル基はこれを例えば照射によって
〔好ましくはそのアリールメチル基が3−14−および
(または)5−位置において例えば低級アルコキシ基お
よび(または)ニトロ基で置換されている場合のあるベ
ンジル基であれば例えば290mμ以下の紫外線を使い
そしてそのアリールメチル基が例えば2−位置でニトロ
基によって置換されたベンジル基であれば例えば290
mμ以上の長波長紫外線を使う〕分裂することができ、
またt−ブチル基やジフェニルメチル基のような適当に
置換されたメチル基でエステル化されたカルボキシル基
はこれを例えばぎ酸またはトリフルオル酢酸のような適
当な酸性剤で、場合によってはフェノールやアニソール
のような親核性化合物を加えて処理することによって分
裂することができ、また活性エステル化されたカルボキ
シル基およびまた無水物の形にあるカルボキシル基はこ
れを加水分解例えば塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液ま
たはpH約7〜9のりん酸カリウム緩衝水溶液のような
酸性または弱塩基性の水性剤で処理することによって分
裂することができ、そしてまた水素添加分解できるエス
テル化されたカルボキシル基はこれを例えばパラジウム
触媒のような貴金属触媒の存在の下で水素で処理するこ
とによって分裂させることができる。
A carboxyl group esterified with a suitable 2-halogeno lower alkyl group or arylcarbonylmethyl group can be reduced by a chemical reducing agent such as a metal such as zinc or a divalent chromium salt such as a chloride of divalent chromium. nascent hydrogen by treatment in the presence of a hydrogen donor such as an acid, primarily acetic acid or formic acid, or an alcohol (preferably with the addition of water). Let's divide,
and the carboxyl group esterified with the arylcarbonylmethyl group can be cleaved by treating it with a nucleophilic, preferably salt-forming, reagent such as sodium thiophenolate or sodium iodide. and a carboxyl group esterified with a suitable arylmethyl group, for example by irradiation [preferably the arylmethyl group is esterified in the 3-14- and/or 5-position with a lower alkoxy group and/or For example, if the benzyl group is substituted with a nitro group, use ultraviolet light of 290 mμ or less, and if the arylmethyl group is a benzyl group substituted with a nitro group at the 2-position, for example, 290 mμ or less.
using long wavelength ultraviolet light of mμ or more] can be split,
Carboxyl groups esterified with suitably substituted methyl groups such as t-butyl or diphenylmethyl may be treated with suitable acidic agents such as formic acid or trifluoroacetic acid, and in some cases with phenol or anisole. The active esterified carboxyl group and also the carboxyl group in anhydride form can be cleaved by treatment with nucleophilic compounds such as hydrochloric acid, aqueous sodium bicarbonate solution, etc. or an esterified carboxyl group that can be cleaved by treatment with an acidic or weakly basic aqueous agent such as an aqueous potassium phosphate buffer solution of pH about 7-9, and can also be hydrogenolyzed, e.g. It can be split by treatment with hydrogen in the presence of a noble metal catalyst such as a palladium catalyst.

保護例えばシリル化またはスタニル化によって保護され
ているカルボキシル基は、これを常法によって例えば水
またはアルコールで処理して遊離することができる。
Carboxyl groups which have been protected, for example by silylation or stannylation, can be liberated by conventional treatment, for example with water or alcohol.

得られる式(IA)または式(IB)で表わされる化合
物はそれ自身公知の方法により、式(IA)または式(
IB)で表わされる他の化合物に変えることができる。
The resulting compound represented by formula (IA) or formula (IB) can be prepared by a method known per se.
It can be changed to other compounds represented by IB).

得られた化合物において、例えばアミノ保護基R+また
はRy、殊に容易に分裂できるアシル基をそれ自体公知
の方法によって分裂することができる。例えば、t−ブ
トキシカルボニル基のようなα−位置で高度に分枝した
低級アルコキシカルボニル基はこれをトリフルオル酢酸
で処理することによって、また2、2.2− )リクロ
ルエトキシカルホニル基や2−ヨードエトキシカルボニ
ル基のような2−ハロゲノ低級アルコキシカルボニル基
またはフェナシルオキシカルボニル基はこれを適当な還
元性金属または相当する金属化合物例えば亜鉛または2
価クロムの塩化物や酢酸塩のような2価クロム化合物で
、有利にはこの金属または金属化合物といっしょに発生
期の水素を生成するような水素給体の存在の下で、好ま
しくは含水酢酸の存在の下で処理することによって、分
裂することができる。
In the compounds obtained, for example, amino protecting groups R+ or Ry, in particular easily cleavable acyl groups, can be cleaved off by methods known per se. For example, a highly branched lower alkoxycarbonyl group at the α-position, such as t-butoxycarbonyl group, can be prepared by treating it with trifluoroacetic acid or a 2,2.2-)lychloroethoxycarbonyl group. A 2-halogeno-lower alkoxycarbonyl group such as a 2-iodoethoxycarbonyl group or a phenacyloxycarbonyl group can be treated with a suitable reducing metal or corresponding metal compound such as zinc or
A divalent chromium compound such as a chloride or acetate of valent chromium, preferably in the presence of a hydrogen donor which together with this metal or metal compound forms nascent hydrogen, preferably hydrated acetic acid. can be split by processing in the presence of.

さらに、式(IA)または式(IB)(ここで、式−C
(=O)  Rzで表わされるカルボキシル基は、シリ
ル化をもふくめたエステル化によって保護されているの
が好ましく、例えば適当な有機ハロゲン化ケイ素または
ハロゲノ−スズ(IV)化合物たとえばトリメチルクロ
ルシランまたはトリーn−ブチル−スズクロリドとの反
応によって保護されているカルボキシル基であるのが好
ましい)で表わされる得られた化合物において、アシル
基R?またはR11(この基中に存在することのできる
遊離の官能性基は場合により保護されている)をイミド
−ハライド形成剤で処理し、得られたイミド−ハライド
をアルコールと反応させそしてこうして生成したイミノ
エーテルを分裂することにより分裂することができ、保
護されたカルボキシル基例えば有機シリル基で保護され
たカルボキシル基が反応の間に遊離になっていてもよい
Furthermore, formula (IA) or formula (IB) (wherein formula -C
The carboxyl group represented by (=O) Rz is preferably protected by esterification, including silylation, for example with a suitable organosilicon halide or halogeno-tin(IV) compound such as trimethylchlorosilane or trimethylchlorosilane. In the resulting compound, the acyl group R? or R11 (free functional groups which may be present in this group are optionally protected) is treated with an imide-halide forming agent, the resulting imide-halide is reacted with alcohol and thus formed The iminoether can be cleaved by cleavage, and protected carboxyl groups, such as carboxyl groups protected with organosilyl groups, may become free during the reaction.

ハロゲン原子が親電子性中心原子に結合しているイミド
−ハライド形成剤はとりわけ酸ハロゲン化物、例えば酸
臭化物および特に酸塩化物である。
Imide-halide formers in which a halogen atom is bonded to an electrophilic central atom are especially acid halides, such as acid bromides and especially acid chlorides.

これらは主として無機酸とりわけりん含有酸の酸ハロゲ
ン化物例えばオキシハロゲン化りん、3ハロゲン化りん
および特に5ハロゲン化りん、例えばオキシ塩化りん、
3塩化りんおよび主に5塩化りん、ならびにピロカテキ
ルー3塩化りん、ならびにいおう含有酸またはカルボン
酸の酸ハロゲン化物特に塩化物、例えば塩化チオニル、
ホスゲンまたは塩化オキザリルである。
These are mainly acid halides of inorganic acids, especially phosphorus-containing acids, such as phosphorus oxyhalides, phosphorus trihalides and especially phosphorus pentahalides, such as phosphorus oxychloride,
phosphorus trichloride and mainly phosphorus pentachloride, as well as pyrocatekyl-phosphorus trichloride, and acid halides, especially chlorides, of sulfur-containing acids or carboxylic acids, such as thionyl chloride,
Phosgene or oxalyl chloride.

上記イミド−ハライド形成剤の1つと反応させるには、
一般に適当な塩基特に有機塩基とりわけ第3アミン例え
ば第3脂肪族モノアミンまたはジアミン例えばトリー低
級アルキルアミン例えばトリメチルアミン、トリエチル
アミンまたはN、N−ジイソプロピルーN−エチル−ア
ミン、さらにN、 N、 N’、 N’−テトラ−低級
アルキル−低級アルキレンジアミン例えばN、N、N’
、N’−テトラメチル−1,5−ベンチレンジアミンま
たはN、N、N’、N’−テトラメチル−1,6−へキ
シレンジアミン、単環式または2環弐のモノアミンまた
はジアミン例えばN−置換(例えば、N−低級アルキル
化)されたアルキレンアミン、アザアルキレンアミンま
たはオキサアルキレンアミン例えばN−メチルピペリジ
ンまたはN−メチルモルホリン、または2,3.4,6
.7.8−ヘキサヒドローピローロ(1,2−a)ピリ
ミジン(すなわち、ジアザビシクロノネン、DBN)ま
たは第3芳香族アミン例えばジー低級アルキルアニリン
例えばN、N−ジメチルアニリンまたはとりわけ第3複
素環式単環式または2環式塩基例えばキノリンやイソキ
ノリン、特にピリジンの存在の下で、好ましくはハロゲ
ン化(例えば、塩素化)されている場合のある脂肪族ま
たは芳香族炭化水素例えば塩化メチレンのような溶媒の
存在の下で反応させる。この反応においては、イミド−
ハライド形成剤および塩基をほぼ当モル量で使うことが
できるが、塩基を過剰にまたは当量より少い量で、例え
ば約0.2〜2倍量または約10倍の過剰量までの量、
特に約3〜5倍過剰量の量で使うこともできる。
To react with one of the above imide-halide forming agents,
In general, suitable bases, especially organic bases, especially tertiary amines, such as tertiary aliphatic monoamines or diamines, such as tri-lower alkyl amines, such as trimethylamine, triethylamine or N,N-diisopropyl-N-ethyl-amine, and also N, N, N', N '-Tetra-lower alkyl-lower alkylene diamine e.g. N, N, N'
, N'-tetramethyl-1,5-benzenediamine or N,N,N',N'-tetramethyl-1,6-hexylene diamine, monocyclic or bicyclic monoamines or diamines such as N- Substituted (e.g. N-lower alkylated) alkylene amines, azaalkylene amines or oxaalkylene amines such as N-methylpiperidine or N-methylmorpholine, or 2,3.4,6
.. 7.8-hexahydropyrrolo(1,2-a)pyrimidine (i.e. diazabicyclononene, DBN) or tertiary aromatic amines such as di-lower alkylaniline such as N,N-dimethylaniline or especially tertiary hetero of aliphatic or aromatic hydrocarbons such as methylene chloride, which may preferably be halogenated (e.g. chlorinated), in the presence of a cyclic monocyclic or bicyclic base such as quinoline or isoquinoline, especially pyridine. The reaction is carried out in the presence of a solvent such as In this reaction, imide-
The halide former and the base can be used in approximately equimolar amounts, but the base can be used in excess or less than an equivalent amount, such as up to about 0.2 to 2 times or about 10 times excess;
In particular, an amount of about 3 to 5 times excess can also be used.

このイミド−ハライド形成剤との反応を冷却しながら、
例えば約−50〜+lO℃で行うのが好ましいが、原料
の安定性および生成物の安定性が一層高い温度を許容す
るならば一層高い温度すなわち例えば約75°Cまでの
温度で反応させることもできる。
While cooling the reaction with the imide-halide forming agent,
For example, it is preferred to carry out the reaction at a temperature of about -50 to +lO<0>C, but the reaction can be carried out at higher temperatures, e.g. up to about 75<0>C, if the stability of the raw materials and the stability of the product permit higher temperatures. can.

こうして生成したイミド−ハライド生成物を一般に単離
しないで、好ましくは前記塩基の1つの存在の下で、ア
ルコールと反応させてイミノエーテルを得る。アルコー
ルとしては例えば脂肪族または芳香脂肪族アルコール、
とりわけハロゲン化(例えば塩素化)のような置換され
ている場合のある低級アルカノールまたは別に水酸基を
さらにもつ低級アルカノール、例えばエタノール、プロ
パツール、またはブタノール、特にメタノール、ならび
に2,2.2− トリクロルエタノールや2−ブロムエ
タノールのような2−ハロゲノ低級アルカノール、およ
びまた置換されている場合のあるフェニル−低級アルカ
ノール例えばベンジルアルコールが適する。このアルコ
ールを一般に過剰量例えば約100倍までの過剰量で使
い、そしてその工程を冷却しながら例えば約−50〜+
10℃で行うのが好ましくい。
The imide-halide product thus formed is generally not isolated, but is reacted with an alcohol, preferably in the presence of one of the bases mentioned, to give the iminoether. Alcohols include, for example, aliphatic or araliphatic alcohols;
In particular, lower alkanols which may be substituted, such as halogenated (e.g. chlorinated) or which additionally carry a hydroxyl group, such as ethanol, propatool or butanol, especially methanol, as well as 2,2,2-trichloroethanol. Suitable are 2-halogeno lower alkanols such as and 2-bromoethanol, and also optionally substituted phenyl-lower alkanols such as benzyl alcohol. The alcohol is generally used in excess, e.g. up to about 100 times excess, and the process is continued with cooling, e.g.
Preferably it is carried out at 10°C.

こうして生成したイミノエーテル生成物を有利には単離
せずに分裂することができる。このイミノエーテルの分
裂は適当なヒドロキシ化合物で処理することによって、
好ましくは加水分解またはさらにアルコーリシスによっ
て達せられる(このアルコーリシスを前記イミノエーテ
ルの生成に引続いて過剰量のアルコールを使って行うこ
とができる)。この際に水、またはアルコール特にメタ
ノールのような低級アルカノール、またはアルコールの
ような有機溶媒の水との混合物を使うのが好ましい。こ
の工程を一般に酸性媒質中で例えば約1〜5のpH値で
行い、そしてこのpH値は、必要ならば、塩基性剤例え
ば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムのようなアルカリ
金属水酸化物の水溶液または酸例えば塩酸、硫酸、ぶつ
化はう素数、トリフルオル酢酸またはp−トルエンスル
ホン酸のような無機酸または有機酸を加えることによっ
て調整することができる。
The iminoether product thus formed can advantageously be cleaved off without being isolated. The splitting of this iminoether can be achieved by treating it with an appropriate hydroxy compound.
This is preferably achieved by hydrolysis or even alcoholysis (which alcoholysis can be carried out following the formation of the iminoether using an excess of alcohol). Preference is given here to use water or a mixture of an organic solvent such as an alcohol, in particular a lower alkanol such as methanol, or an alcohol with water. This step is generally carried out in an acidic medium at a pH value of, for example, about 1 to 5, and this pH value is, if necessary, a solution of a basic agent, e.g. an aqueous alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Alternatively, acids can be adjusted by adding inorganic or organic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, borohydride, trifluoroacetic acid or p-toluenesulfonic acid.

上記のアシル基を分裂するための3段階工程を、途中で
イミド−ハライドおよびイミノエーテル中間体を単離せ
ずに、一般にはそれら反応体に対し不活性な有機溶媒例
えば塩化メチレンのようなハロゲン化されている場合の
ある炭化水素の存在下でそして(または)窒素ガスのよ
うな不活性ガスの中で行うのが有利である。
The three-step process for cleavage of the acyl group described above can be carried out without intermediate isolation of the imido-halide and iminoether intermediates, generally in an organic solvent inert towards these reactants, such as methylene chloride. It is advantageous to carry out the reaction in the presence of hydrocarbons, which may be present, and/or in an inert gas such as nitrogen gas.

上記の方法によって得られるイミド−ハライド中間体を
アルコールと反応させる代りにカルボン酸特に立体障害
のあるカルボン酸のアルカリ金属塩のような塩と反応さ
せれば、式(IA)または(IB)におけるR?とRI
i+とが共にアシル基である化合物が得られる。
If the imide-halide intermediate obtained by the above method is reacted with a carboxylic acid, especially a salt such as an alkali metal salt of a sterically hindered carboxylic acid, instead of reacting with an alcohol, in formula (IA) or (IB), R? and R.I.
A compound in which i+ and both are acyl groups is obtained.

式(TA)または(IB)における基R?とR1i′と
がいずれもアシル基である化合物においては、これらの
基の1方好ましくは立体障害の少い方の基を選択的に例
えば加水分解またはアミツリシスによって除くことがで
きる。
Group R in formula (TA) or (IB)? and R1i' are both acyl groups, one of these groups, preferably the one with less steric hindrance, can be selectively removed, for example, by hydrolysis or amithrisis.

式(IA)または(IB)で表わされる化合物において
R?とRbとがそれらの結合している窒素原子と共にフ
タルイミド基を表わす場合には、これを例えばヒドラジ
ツリシスによって(すなわち、このような化合物をヒド
ラジンで処理することによって)遊離アミノ基に変える
ことができる。
In the compound represented by formula (IA) or (IB), R? If and Rb together with their attached nitrogen atom represent a phthalimide group, this can be converted into a free amino group, for example, by hydraziturysis (ie, by treating such a compound with hydrazine).

本発明方法によって得た化合物におけるアシルアミノ基
のアシル基R+の中では、例えば5−アミノ−5−カル
ボキシ−バレリル基〔そのカルボキシル基は例えばエス
テル化によって、特にジフェニルメチル基によって、そ
して(または)アミノ基は例えばアシル化によって、特
に有機カルボン酸のアシル基例えばジクロルアセチル基
のようなハロゲノ低級アルカノイル基またはフタロイル
基によって保護されていることもできる〕は塩化ニトロ
シルのようなニトロシル化剤、ベンゼンジアゾニウムク
ロライドのような炭素環式アレン−ジアゾニウム塩また
はN−ハロゲン−アミドまたはN−ハロゲン−イミド例
えばN−ブロムこはく酸イミドのような陽性ハロゲン原
子を供与する反応剤で、好ましくは適当な溶媒または溶
媒混合物、例えばニトロ−低級アルカンまたはシアノ−
低級アルカンといっしょにぎ酸の中で処理し、その反応
生成物を水または低級アルカノール例えばメタノールの
ような水酸基をもつ化合物と混合するか、またはiR↑
としての5−アミノ−5−カルボキシ−バレリル基にお
けるアミノ基が未置換でありそしてカルボキシル基が例
えばエステル化によって保護されておりそしてRI!+
がアシル基であるのが好ましいが水素原子であることも
できる場合には、ジオキサンまたはハロゲン化された脂
肪族炭化水素例えば塩化メチレンのような適当な溶媒の
中で放置し、そして必要ならばこうして生成した遊離の
またはモノアシル化されたアミノ化合物をそれ自体公知
の方法によって後処理することによって、分裂させるこ
とができる。
Among the acyl radicals R+ of the acylamino groups in the compounds obtained by the process of the invention, for example the 5-amino-5-carboxy-valeryl group [the carboxyl group of which is removed, for example by esterification, in particular by the diphenylmethyl group and/or by the amino The group can also be protected, for example by acylation, in particular by an acyl group of an organic carboxylic acid, e.g. a halogeno-lower alkanoyl group such as dichloroacetyl group or a phthaloyl group], a nitrosylating agent such as nitrosyl chloride, benzenediazonium Carbocyclic allene-diazonium salts such as chlorides or N-halogen-amides or N-halogen-imides A reactant donating a positive halogen atom such as N-bromosuccinimide, preferably in a suitable solvent or solvent mixtures, such as nitro-lower alkanes or cyano-
treatment with lower alkanes in formic acid and mixing the reaction product with water or lower alkanols such as methanol, or with iR↑
The amino group in the 5-amino-5-carboxy-valeryl group as is unsubstituted and the carboxyl group is protected, for example by esterification, and RI! +
is preferably an acyl group, but can also be a hydrogen atom, by standing in a suitable solvent such as dioxane or a halogenated aliphatic hydrocarbon, for example methylene chloride, and if necessary in this way. The free or monoacylated amino compounds formed can be cleaved off by working up by methods known per se.

ホルミル基R+は、酸性剤例えばp−)ルエンスルホン
酸または塩酸、弱塩基性剤例えば希薄なアンモニアまた
は脱カルボニル化剤例えばトリス−(トリフェニルホス
フィン)−ロジウムクロライドで処理することによって
除去することもできる。
The formyl group R+ may also be removed by treatment with acidic agents such as p-)luenesulfonic acid or hydrochloric acid, weakly basic agents such as dilute ammonia or decarbonylating agents such as tris-(triphenylphosphine)-rhodium chloride. can.

トリチル基のようなトリアリールメチル基R+は、例え
ば無機酸のような酸性剤例えば塩酸で処理することによ
って除去できる。
A triarylmethyl group R+ such as a trityl group can be removed by treatment with an acidic agent such as an inorganic acid, such as hydrochloric acid.

式(IA)または(IB)(この式においてR?および
lが水素原子である)の化合物において、遊離アミノ基
をそれ自体公知の方法で置換、例えばカルボン酸のよう
な酸またはその反応性酸誘導体で処理してアシル化する
ことができる。
In the compounds of formula (IA) or (IB), in which R? and l are hydrogen atoms, the free amino group is replaced in a manner known per se, for example by an acid such as a carboxylic acid or a reactive acid thereof. Acylation can be achieved by treatment with derivatives.

遊離酸(存在している場合のある官能性基例えば存在し
ている場合のあるアミノ基は保護されているのが好まし
い)を使ってアシル化する場合には一般に使われる適当
な縮合剤例えばカルボジイミド例えばN、N’−ジエチ
ル−1N、N’−ジプロピル−1N、N’−ジイソプロ
ピル−1N。
In the case of acylation with free acids (preferably the optional functional groups, e.g. the optional amino groups, are protected), suitable condensing agents commonly used, such as carbodiimides. For example, N,N'-diethyl-1N, N'-dipropyl-1N, N'-diisopropyl-1N.

N′−ジシクロへキシル−またはN−エチル−N′−3
−ジメチルアミノプロピル−カルボジイミド、適当なカ
ルボニル化合物例えばカルボニルイミダゾールまたはイ
ソオキサゾリニウム塩、例えばN−エチル−5−フェニ
ル−イソオキサゾリニウム−3’−スルホネート、およ
びN−t−ブチル−5−メチル−イソオキサゾリニウム
バークロレート、または適当なアシルアミノ化合物例え
ば2−エトキシ−I−エトキシカルボニル−1,2−ジ
しドロキノリンを使う。
N'-dicyclohexyl- or N-ethyl-N'-3
-dimethylaminopropyl-carbodiimide, suitable carbonyl compounds such as carbonylimidazole or isoxazolinium salts such as N-ethyl-5-phenyl-isoxazolinium-3'-sulfonate, and N-t-butyl-5-methyl -isoxazolinium verchlorate, or a suitable acylamino compound such as 2-ethoxy-I-ethoxycarbonyl-1,2-dishdroquinoline.

この縮合反応を後に述べる無水反応媒質例えば塩化メチ
レン、ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリルの中
で行うのが好ましい。
This condensation reaction is preferably carried out in an anhydrous reaction medium as described below, such as methylene chloride, dimethylformamide or acetonitrile.

また、アミドの形成に使う酸の官能性誘導体(これはア
ミノ基のような官能性基をもつ場合にはこの基を保護し
ておくのが好ましい)としては、主にこのような酸の無
水物、好ましくは混合無水物である。混合無水物は例え
ば無機酸殊にハロゲン化水素酸との無水物すなわち相当
する酸ハロゲン化物例えば酸塩化物または臭化物、さら
にアジ化水素酸との無水物すなわち相当する酸アチド、
りん含有酸例えばりん酸または亜りん酸、いおう含有酸
例えば硫酸またはシアン化水素酸との無水物である。他
の適する無水物は例えば有機酸例えばふっ素または塩素
原子のようなハロゲン原子で置換されている場合のある
低級アルカンカルボン酸のような有機カルボン酸例えば
ピバル酸またはトリクロル酢酸との無水物または炭酸の
半エステル例えばエチル半エステルやイソブチル半エス
テルのような特に低級アルキル半エステルとの無水物あ
るいは有機殊に脂肪族または芳香族スルホン酸例えばp
−)ルエンスルホン酸との無水物である。
In addition, the functional derivatives of acids used to form amides (if they have a functional group such as an amino group, it is preferable to protect this group) are mainly anhydrides of such acids. a mixed anhydride, preferably a mixed anhydride. Mixed anhydrides are, for example, anhydrides with inorganic acids, especially hydrohalic acids, i.e. the corresponding acid halides, such as acid chlorides or bromides, and also anhydrides with hydroazidic acid, i.e. the corresponding acid amide,
Anhydrides with phosphorus-containing acids such as phosphoric acid or phosphorous acid, sulfur-containing acids such as sulfuric acid or hydrocyanic acid. Other suitable anhydrides are e.g. anhydrides of organic acids e.g. with organic acids e.g. lower alkanecarboxylic acids such as lower alkane carboxylic acids which may be substituted with halogen atoms e.g. fluorine or chlorine atoms or with carbonic acids e.g. pivalic acid or trichloroacetic acid. half esters, especially lower alkyl half esters, such as ethyl half ester or isobutyl half ester, anhydrides or organic, especially aliphatic or aromatic sulfonic acids, such as
-) Anhydride with luenesulfonic acid.

さらに、アシル化剤として分子内無水物、例えばジケテ
ンのようなケテン、イソシアネート(すなわち、カルバ
ミン酸化合物の分子内無水物)、またはカルボキシ置換
された水酸基またはアミノ基をもつカルボン酸化合物の
分子内無水物例えばマンデル酸−〇−カルボキシアンハ
イドライトマたは1−N−カルボキシアミノ−シクロヘ
キサンカルボン酸の無水物を使うことができる。
Furthermore, intramolecular anhydrides such as ketenes such as diketene, isocyanates (i.e., intramolecular anhydrides of carbamic acid compounds), or intramolecular anhydrides of carboxylic acid compounds with carboxy-substituted hydroxyl or amino groups can be used as acylating agents. For example, mandelic acid-〇-carboxyanhydrite or the anhydride of 1-N-carboxyamino-cyclohexanecarboxylic acid can be used.

また、遊離アミノ基との反応に適する他の酸誘導体は活
性化されたエステル(これが官能性基をもつ場合には一
般にこれを保護しておくのが好ましい)、例えばビニル
属低級アルカノールのようなビニル属アルコール(すな
わち、エノール)とのエステル、またはアリールエステ
ル例えば好ましくは例えばニトロ基または塩素のような
ハロゲン原子で置換されたフェニルエステル例えばペン
タクロルフェニルエステル、4−ニトロフェニルエステ
ルまたは2.4−ジニトロフェニルエステル、ヘテロ芳
香族エステル例えばベンズトリアゾールエステル、また
はサクシニルイミノエステルやフタリルイミノエステル
のようなジアシルイミノエステルである。
Other acid derivatives suitable for reaction with free amino groups include activated esters (if they carry functional groups it is generally preferred to keep them protected), such as lower vinyl alkanols. Esters with vinyl alcohols (i.e. enols), or aryl esters such as phenyl esters preferably substituted with e.g. a nitro group or a halogen atom such as chlorine, e.g. pentachlorophenyl ester, 4-nitrophenyl ester or 2.4- dinitrophenyl esters, heteroaromatic esters such as benztriazole esters, or diacylimino esters such as succinylimino esters and phthalyl imino esters.

他のアシル化誘導体として、例えば酸の置換されたホル
ムイミノ誘導体例えば置換されたN、 N−ジメチルク
ロルホルムイミノ誘導体、またはN、N−ジアシル化さ
れたアニリンのようなN−置換N、N−ジアシルアミン
がある。
Other acylated derivatives include, for example, substituted formimino derivatives of acids, such as substituted N,N-dimethylchloroformimino derivatives, or N-substituted N,N-diacyls, such as N,N-diacylated anilines. There is an amine.

無水物または殊に酸ハロゲン化物のような酸誘導体でア
シル化するには、酸結合剤例えば有機アミンのような有
機塩基例えば第3アミン例えばトリエチルアミンのよう
なトリ低級アルキルアミン、N、  N−ジメチルアニ
リンのようなN、N−ジ低級アルキルアニリンまたはピ
リジン型の塩基例えばピリジン、無機塩基例えばアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩また
は重炭酸塩例えばナトリウム、カリウムまたはカルシウ
ムの水酸化物、炭酸塩または重炭酸塩、またはオキシラ
ン例えばエチレンオキシドやプロピレンオキシドのよう
な低級1,2−アルキレンオキシドの存在の下で行うこ
とができる。
For acylation with acid derivatives such as anhydrides or especially acid halides, acid binders such as organic bases such as organic amines such as tertiary amines such as tri-lower alkyl amines such as triethylamine, N, N-dimethyl bases of the N,N-dilower alkylaniline or pyridine type such as aniline, e.g. pyridine, inorganic bases e.g. alkali metal or alkaline earth metal hydroxides, carbonates or bicarbonates e.g. sodium, potassium or calcium hydroxides; The reaction can be carried out in the presence of carbonates, carbonates or bicarbonates, or oxiranes such as lower 1,2-alkylene oxides such as ethylene oxide or propylene oxide.

上記のアシル化を水性または好ましくは非水性溶媒また
は溶媒混合物、例えばN、 N−ジ低級アルキルアミド
例えばジメチルホルムアミドのようなカルボン酸アミド
、塩化メチレン、4塩化炭素またはクロルベンゼンのよ
うなハロゲン化された炭化水素、アセトンのようなケト
ン、酢酸エチルのようなエステルまたはアセトニトリル
のようなニトリルまたはそれらの混合物の中でそして必
要ならば低めた温度または高めた温度でそして(または
)窒素のような不活性ガスの下で行うことができる。
The above acylation may be carried out in aqueous or preferably non-aqueous solvents or solvent mixtures, such as N,N-di-lower alkylamides, carboxylic acid amides such as dimethylformamide, halogenated acids such as methylene chloride, carbon tetrachloride or chlorobenzene. hydrocarbons, ketones such as acetone, esters such as ethyl acetate or nitrites such as acetonitrile or mixtures thereof and if necessary at reduced or elevated temperature and/or non-containing substances such as nitrogen. It can be carried out under active gas.

前記のアシル化反応において、式(IA)または(IB
)(この式で、R5は低級アルキル基、または場合によ
り置換されていることのあるα−フェニル低級アルキル
基例えばベンジル基またはジフェニルメチル基であり、
R3は前記で与えた意味をもつ)で表わされる化合物か
ら出発することができ、そして式−C(=O)’−RZ
  (ここでR2は水酸基である)で表わされる遊離の
カルボキシル基をもつ化合物は塩の形たとえばアンモニ
ウム塩例えばトリエチルアミンとの塩の形で使うことが
でき、また適当な有機リンハロゲン化物例えば低級アル
キル−ホスホラスシバライドまたは低級アルコキシ−ホ
スホラスシバライド例えばメチル−ホスホラスジクロリ
ド、エチル−ホスホラスジプロミドまたはメトキシ−ホ
スホラスジクロリドとの反応によって保護されたカルボ
キシル基をもつ化合物の型でも使うことができる。得ら
れるアシル化生成物において、保護されたカルボキシル
基はそれ自身公知の方法、例えば前記したような加水分
解またはアルコーリシスによって遊離にすることができ
る。
In the above acylation reaction, formula (IA) or (IB
) (in this formula, R5 is a lower alkyl group or an optionally substituted α-phenyl lower alkyl group, such as a benzyl group or a diphenylmethyl group,
R3 has the meaning given above) and the formula -C(=O)'-RZ
(where R2 is a hydroxyl group) can be used in the form of a salt, for example an ammonium salt, for example with triethylamine, or a suitable organophosphorus halide, for example a lower alkyl- Phosphorus civalides or lower alkoxy-phosphorus civalides can also be used in the form of compounds with carboxyl groups protected by reaction with, for example, methyl-phosphorus dichloride, ethyl-phosphorus dibromide or methoxy-phosphorus dichloride. . In the acylated products obtained, the protected carboxyl groups can be liberated by methods known per se, for example by hydrolysis or alcoholysis as described above.

アシル基は、式(IA)または(IB)(この式でR?
およびlは共にイリデン基(この基はR?およびR1)
が水素原子である化合物を例えば脂肪族、芳香族または
芳香脂肪族アルデヒドのようなアルデヒドで後処理する
ことにより導入することもできる)〕の化合物を例えば
上記のような方法に従ってアシル化し、そして得られた
アシル化生成物を好ましくは中性または弱酸性の媒質中
で加水分解することにより導入することもできる。
The acyl group has the formula (IA) or (IB) (in this formula R?
and l are both ylidene groups (this group is R? and R1)
is a hydrogen atom, for example by post-treatment with an aldehyde, such as an aliphatic, aromatic or araliphatic aldehyde), and the obtained It is also possible to introduce the acylated product by hydrolysis, preferably in a neutral or slightly acidic medium.

また、アシル基を段階を経て導入することもできる。す
なわち、例えば遊離アミノ基をもつ式(IA)、iよび
(IB)の化合物中にハロゲノ低級アルカノイル基例え
ばブロムアセチル基を導入しまたは例えばホスゲンのよ
うな炭酸シバライドで処理してクロルカルボニル基のよ
うなハロゲノカルボニル基を導入しそしてこうして得ら
れるN−(ハロゲノ−低級アルカノイル)−アミノ化合
物またはN−(ハロゲノカルボニル)−アミノ化金物を
適当な置換剤例えばテトラゾールのような塩基性化合物
、2−メルカプト−1−メチル−イミダゾールのような
チオ化合物、アジ化ナトリウムのような金属塩またはア
ルコール例えば仁−ブタノールのような低級アルカノー
ルと反応させることによって、置換されたN−低級アル
カノイルアミノまたはN−ヒドロキシカルボニルアミノ
化合物を得ることができる。
Alternatively, the acyl group can be introduced in steps. That is, for example, by introducing a halogeno-lower alkanoyl group, such as a bromoacetyl group, into a compound of formula (IA), i and (IB) having a free amino group, or by treating with a carbonic acid civalide, such as phosgene, to form a chlorocarbonyl group. and the N-(halogeno-lower alkanoyl)-amino compound or N-(halogenocarbonyl)-aminated gold compound thus obtained is treated with a suitable substituent such as a basic compound such as tetrazole, 2-mercapto. - Substituted N-lower alkanoylamino or N-hydroxycarbonyl by reaction with a thio compound such as 1-methyl-imidazole, a metal salt such as sodium azide or an alcohol such as a lower alkanol such as di-butanol. Amino compounds can be obtained.

両方の反応物系において、遊離の官能性基は、アシル化
反応の間、公知の方法によって1時的に保護することが
でき、そして、アシル化後、それ自身公知の方法たとえ
ば前記した方法によって遊離化することができる。
In both reactant systems, free functional groups can be temporarily protected during the acylation reaction by known methods and, after the acylation, can be protected by methods known per se, such as those described above. It can be liberated.

さらに、既存のアシル基を他の好ましくは立体障害のあ
るアシル基で例えば上記の方法によって交換することに
よってアシル化することもできる。
Furthermore, it is also possible to acylate existing acyl groups by replacing them with other preferably sterically hindered acyl groups, for example by the methods described above.

この場合に、そのイミドハライド化合物を製造し、これ
を酸の塩で処理しそしてこうして得た生成物中のアシル
基の1つ(一般には立体障害の少い方のアシル基)を加
水分解によって分裂させるのである。
In this case, the imidohalide compound is prepared, it is treated with a salt of an acid, and one of the acyl groups (generally the less sterically hindered acyl group) in the product thus obtained is removed by hydrolysis. It causes division.

さらに、例えば、式(IA)または(IB)におけるR
?がα−位置で好ましくは置換されているグリシル基例
えばフェニルグリシル基でありそしてRIilが水素原
子である化合物をホルムアルデヒドのようなアルデヒド
またはケトン例えばアセトンのような低級アルカノンと
反応させることによって、R?とlとがその両方でこれ
らの結合している窒素原子と共に5−オキソ−1,3−
ジアザ−シクロペンチル基(これは4−位置で好ましく
は置換されておりそして2−位置で場合によっては置換
されていることができる)を表わす式(IA)または(
IB)の化合物が得られる。
Furthermore, for example, R in formula (IA) or (IB)
? R is a glycyl group, preferably substituted in the α-position, such as a phenylglycyl group, and RIil is a hydrogen atom, by reacting a compound with an aldehyde such as formaldehyde or a ketone, such as a lower alkanone such as acetone. ? and l together with these bonding nitrogen atoms are 5-oxo-1,3-
Formula (IA) representing a diaza-cyclopentyl group, which is preferably substituted in the 4-position and optionally substituted in the 2-position, or (
The compound IB) is obtained.

式(IA)または(IB)のR?およびRIilが水素
原子である化合物において、例えば塩化トリチルのよう
なトリアリールメタノールの反応性エステルで好ましく
はピリジンのような塩基性剤の存在下で処理してトリア
リールメチル基を導入することによって、その遊離アミ
ノ基を保護することもできる。
R in formula (IA) or (IB)? and in compounds where RIil is a hydrogen atom, by introducing a triarylmethyl group, for example by treatment with a reactive ester of triarylmethanol such as trityl chloride, preferably in the presence of a basic agent such as pyridine. The free amino group can also be protected.

また、シリル基またはスタニル基を導入することによっ
て、アミノ基を保護することもできる。
Moreover, the amino group can also be protected by introducing a silyl group or stannyl group.

このような基を導入するには、それ自体公知の方法によ
って、例えば適当なシリル化剤例えばジクロルジメリル
シランのようなジハロゲノ−ジ低級アルキルシラン、メ
トキシーメチルージクロルシランのような低級アルコキ
シ−低級アルキル−ジハロゲノシランまたはトリメチル
シリルクロライドやジメチル−t−ブチルシリルクロラ
イドのようなトリ低級アルキルシリルハライド(これら
をピリジンのような塩基の存在下で使うのが好ましい)
で処理するか、N−モノ低級アルキル化、N。
Such groups can be introduced by methods known per se, for example by using a suitable silylating agent, e.g. Lower alkyl-dihalogenosilanes or tri-lower alkylsilyl halides such as trimethylsilyl chloride or dimethyl-t-butylsilyl chloride (preferably these are used in the presence of a base such as pyridine)
or N-monolower alkylation, N.

N−ジ低級アルキル化、N−)リー低級アルキルシリル
化またはN−低級アルキル−N−トリー低級アルキルシ
リル化されている場合のあるN−(トリー低級アルキル
−シリル)−アミン(例えば、イギリス特許第1,07
3,530号の明細書を参照され度い)またはシリル化
されたカルボン酸アミド例えばビスートリメチルシリル
ーアセトアミドノヨウなビス−トリ低級アルキルシリル
−アセトアミドまたはトリフルオルシリルアセトアミド
で処理するか、または適当なスタニル化剤例えばビス−
(トリーn−ブチル−すず)−オキサイドのようなビス
−(トリー低級アルキル〜すず)−オキサイド、トリエ
チル−すず−ハイドロオキサイドのようなトリー低級ア
ルキルすずハイドロオキサイド、トリー低級アルキル−
低級アルコキシ−すず化合物、テトラ−低級アルコキシ
すず化合物またはテトラ−低級アルキルすず化合物ある
いはトリーn−ブチルすずクロライドのようなトリー低
級アルキルすずハライド(例えば、オランダ特別第67
/17107号の明細書を参照され度い)で処理するの
である。
N-(tri-lower alkyl-silyl)-amines which may be N-di-lower alkylated, N-)-ly lower alkylsilylated or N-lower alkyl-N-tri-lower alkylsilylated (e.g. British patents No. 1,07
3,530) or a silylated carboxylic acid amide such as bis-trimethylsilylacetamide, bis-trilower alkylsilyl-acetamide or trifluorosilylacetamide, or a suitable Stannylating agents such as bis-
Bis-(tri-lower alkyl-tin)-oxide such as (tri-n-butyl-tin)-oxide, tri-lower alkyl-tin hydroxide such as triethyl-tin-hydroxide, tri-lower alkyl-
Lower alkoxy-tin compounds, tetra-lower alkoxytin compounds or tetra-lower alkyltin compounds or tri-lower alkyltin halides such as tri-n-butyltin chloride (e.g. Dutch Special No. 67
Please refer to the specification of No./17107).

本発明方法によって得られた、式−C(=0)−R。Formula -C(=0)-R obtained by the method of the present invention.

の遊離カルボキシル基をもつ式(IA)または(IB)
の化合物においては、この基をそれ自体公知の方法によ
って保護されたカルボキシル基に変えることができる。
Formula (IA) or (IB) with a free carboxyl group of
In the compounds, this group can be converted into a protected carboxyl group by methods known per se.

すなわち、例えば適当なジアゾ化合物例えばジアゾメタ
ンやジアゾブタンのようなジアゾ−低級アルカンまたは
ジフェニルジアゾメタンのようなフェニルジアゾ−低級
アルカンで必要ならば3ふっ化はう素のようなルイス酸
の存在の下で処理するか、またはエステル化剤例えばジ
シクロへキシルカルボジイミドのようなカルボジイミド
またはカルボニルジイミダゾールの存在の下でエステル
化に適するアルコールと反応させるか、またはN、N’
−ジ置換された〇−またはS−置換イソ尿素またはイソ
チオ尿素と反応させるか(そのO−およびS−置換基は
例えば低級アルキル基、殊にt−ブチル基、フェニル低
級アルキル基またはシクロアルキル基でありそしてN−
またはN′−置換基は例えば低級アルキル基殊にイソプ
ロピル基、シクロアルキル基またはフェニル基である)
、またはその酸の塩をアルコールと強い無機酸または強
い有機スルホン酸との反応性エステルと反応させるよう
な他の公知の適当なエステル化方法によって、エステル
が得られる。
That is, for example, treatment with a suitable diazo compound such as a diazo-lower alkane such as diazomethane or diazobutane or a phenyldiazo-lower alkane such as diphenyldiazomethane, if necessary in the presence of a Lewis acid such as boron trifluoride. or with an alcohol suitable for esterification in the presence of an esterifying agent such as a carbodiimide such as dicyclohexylcarbodiimide or carbonyldiimidazole, or N,N'
- with a disubstituted O- or S-substituted isourea or isothiourea, the O- and S-substituents being, for example, lower alkyl groups, in particular tert-butyl, phenyl lower alkyl or cycloalkyl groups; And then N-
or the N'-substituent is, for example, a lower alkyl group, in particular an isopropyl group, a cycloalkyl group or a phenyl group)
or other known suitable esterification methods such as reacting a salt of the acid with a reactive ester of an alcohol and a strong inorganic or organic sulfonic acid.

さらに、酸塩化物のような酸ハロゲン化物(これは例え
ば塩化オキザリルで処理して作られる)、活性化された
エステル(これは例えばN−ヒドロキシ−サクシノイミ
ドのようなN−ヒドロキシ−窒素化合物を使って生成さ
れる)または混合無水物(これは例えばクロルぎ酸エチ
ルやクロルぎ酸イソブチルのようなハロゲノぎ酸低級ア
ルキルエステルまたはトリクロル酢酸クロライドのよう
なハロゲノ酢酸ハライドを使って生成される)を、場合
によってはピリジンのような塩基の存在下で、アルコー
ルと反応させることによって、エステル化されたカルボ
キシル基に変えることができる。
In addition, acid halides such as acid chlorides (which are made, for example, by treatment with oxalyl chloride), activated esters (which are made by treatment with N-hydroxy-nitrogen compounds such as, for example, N-hydroxy-succinimide), mixed anhydrides (which are produced using, for example, halogenoformic acid lower alkyl esters such as ethyl chloroformate or isobutyl chloroformate or halogenoacetic acid halides such as trichloroacetic acid chloride), It can be converted into an esterified carboxyl group by reaction with an alcohol, optionally in the presence of a base such as pyridine.

式−C(=0)−Rzのエステル化された基をもつ得ら
れた化合物においては、この基を同じ式で表わされる他
のエステル化された基に変えることができる0例えば、
2−クロルエトキシカルボニル基または2−ブロムエト
キシカルボニル基をアセトンのような適当な溶媒の存在
下でよう化ナトリウムのようなよう素塩で処理して2−
ヨードエトキシカルボニル基に変えることができる。
In the resulting compounds with an esterified group of the formula -C(=0)-Rz, this group can be changed to other esterified groups of the same formula, e.g.
A 2-chloroethoxycarbonyl group or a 2-bromoethoxycarbonyl group is treated with an iodine salt such as sodium iodide in the presence of a suitable solvent such as acetone to form a 2-chloroethoxycarbonyl group.
It can be changed to iodoethoxycarbonyl group.

混合無水物は、式(IA)または(IB)における基−
C(=O)−Rzが遊離カルボキシル基である化合物ま
たは好ましくはその塩特にナトリウム塩のようなアルカ
リ金属塩またはトリエチルアンモニウム塩のようなアン
モニウム塩を酸の反応性誘導体例えば酸塩化物のような
ハロゲン化物またはハロゲノぎ酸低級アルキルエステル
または低級アルカンカルボン酸クロライドと反応させる
ことによって製造される。
The mixed anhydride is a group in formula (IA) or (IB) -
Compounds in which C(=O)-Rz is a free carboxyl group or preferably salts thereof, especially alkali metal salts such as sodium salts or ammonium salts such as triethylammonium salts, are combined with reactive derivatives of acids such as acid chlorides. It is produced by reacting with a halide or halogenoformic acid lower alkyl ester or lower alkanecarboxylic acid chloride.

本発明方法によって得られた基−C(=0)−R,が遊
離カルボキシル基である化合物において、この基を置換
されている場合のあるカルバモイル基またはヒドラジノ
カルボニル基に変えることができる。この場合に、好ま
しくは反応性の官能的に変えられた誘導体例えば前記の
酸ハロゲン化物、一般にエステル例えば前記の活性化さ
れたエステルまたは相当する酸との混合無水物をアンモ
ニア、ヒドロキシルアミンを含めたアミンまたはヒドラ
ジンと反応させる。
In the compounds obtained by the process of the invention in which the group -C(=0)-R, is a free carboxyl group, this group can be converted into an optionally substituted carbamoyl group or a hydrazinocarbonyl group. In this case, preferably reactive functionally modified derivatives such as the aforementioned acid halides, generally esters such as the aforementioned activated esters or mixed anhydrides with the corresponding acids, including ammonia, hydroxylamine, etc. React with amine or hydrazine.

有機シリル基またはスタニル基で保護されたカルボキシ
ル基はそれ自身公知の方法によって、例えば式(IA)
または(IB)におけるR2が水酸基である化合物また
はその塩例えばナトリウム塩のようなアルカリ金属塩を
前記のシリル化剤またはスタニル化剤の1つのような適
当なシリル化剤またはスタニル化剤で処理することによ
って形成される。これについては例えばイギリス特許第
1,073,530号またはオランダ特許第67/17
107号の明細書を参照され度い。
A carboxyl group protected with an organic silyl group or a stannyl group can be prepared by a method known per se, for example, by formula (IA).
or a compound in which R2 in (IB) is a hydroxyl group or a salt thereof, e.g. an alkali metal salt such as a sodium salt, is treated with a suitable silylating agent or stannylating agent, such as one of the above-mentioned silylating agents or stannylating agents. formed by For example, British Patent No. 1,073,530 or Dutch Patent No. 67/17
Please refer to the specification of No. 107.

さらに、基R+、Rvおよび(または)Rzにおける置
換されたアミノ基、アシル化された水酸基、エステル化
されたカルボキシル基または0,0′−ジ置換されたホ
スホノ基のような変性された官能性基をそれ自体公知の
方法によって例えば前記の方法によって遊離させること
ができるし、または基R+、lおよび(または)RZに
おける遊離のアミノ基、水酸基、カルボキシル基または
ホスホノ基のような遊離の官能性基をそれ自体公知の方
法によって例えばアシル化、エステル化または置換反応
によって官能的に変えることができる。
Furthermore, modified functionalities such as substituted amino groups, acylated hydroxyl groups, esterified carboxyl groups or 0,0'-disubstituted phosphono groups in the groups R+, Rv and/or Rz The groups can be liberated by methods known per se, for example by the methods mentioned above, or free functionalities such as free amino, hydroxyl, carboxyl or phosphono groups in the radicals R+, l and/or RZ The groups can be functionally modified by methods known per se, for example by acylation, esterification or substitution reactions.

従って、例えばアミノ基を3酸化いおう(好ましくは有
機塩基例えばトリエチルアミンのようなトリ低級アルキ
ルアミンとの錯体の形にあるもの)で処理してスルホア
ミノ基に変えることができる。
Thus, for example, an amino group can be converted to a sulfamino group by treatment with a trioxidized sulfur, preferably in the form of a complex with an organic base, such as a tri-lower alkylamine, such as triethylamine.

さらに、4−グアニルセミカルバチドの酸付加塩と亜硝
酸ナトリウムとの反応によって得られた反応混合物を、
式(IA)または(IB)におけるアミノ保護基R↑が
例えば置換されている場合のあるグリシル基である化合
物と反応させることによって、そのアミノ基を3−グア
ニルウレイド基に変えることができる。さらに、脂肪族
結合したハロゲン原子例えば置換されている場合のある
α−ブロムアセチル基をもつ化合物をトリ低級アルキル
ホスファイト化合物のような亜りん酸エステルと反応さ
せれば、相当するホスホノ化合物が得られる。
Furthermore, the reaction mixture obtained by the reaction of the acid addition salt of 4-guanyl semicarbatide and sodium nitrite,
The amino group can be converted into a 3-guanylureido group by reaction with a compound in which the amino protecting group R↑ in formula (IA) or (IB) is, for example, an optionally substituted glycyl group. Furthermore, if a compound with an aliphatically bonded halogen atom, such as a possibly substituted α-bromoacetyl group, is reacted with a phosphite such as a tri-lower alkyl phosphite compound, the corresponding phosphono compound can be obtained. It will be done.

得られる式(IA)および(IB)で表わされる化合物
は、適当な酸化剤、例えば後記の酸化剤で酸化すること
によって式(IA)で表わされる相当する3−セフェム
化合物の1−オキシドに変えることができる。得られる
式(IA)で表わされる3−セフェム化合物の1−オキ
シドを、適当な還元剤例えば後記の還元剤で還元するこ
とにより、式(IA)で表わされる相当する3−セフェ
ム化合物に還元することができる。これらの反応におい
て、必要により遊離官能基を保護し、そして所望により
引き続いて再び遊離するように確実に行なわなければな
らない。
The resulting compounds of formula (IA) and (IB) are converted into the 1-oxide of the corresponding 3-cephem compound of formula (IA) by oxidation with a suitable oxidizing agent, such as the oxidizing agent described below. be able to. The resulting 1-oxide of the 3-cephem compound represented by formula (IA) is reduced to the corresponding 3-cephem compound represented by formula (IA) by reducing with a suitable reducing agent, such as the reducing agent described below. be able to. In these reactions, it must be ensured that the free functional groups are protected if necessary and subsequently released again if desired.

得られるセフェム化合物を異性化することができる。こ
のようにして、得られる式(IB)で表わされる2−セ
フェム化合物、または得られる2−および3−セフェム
化合物の混合物を、式(IB)で表わされる2−セフェ
ム化合物または2−および3−セフェム化合物(これら
の中で遊離官能性基は、適当ならば、前記のように1時
的に保護されていることができる)からなる混合物の異
性化により、式(IA)で表わされる相当する3−セフ
ェム化合物に変えることができる。この反応において、
例えば式(IB)において式−C(=0)−Rv基が遊
離または保護されたカルボキシル基である2−セフェム
化合物を使うことができ、また保護されたカルボキシル
基が反応中に生成されてもよい。
The resulting cephem compounds can be isomerized. In this way, the obtained 2-cephem compound represented by formula (IB) or the obtained mixture of 2- and 3-cephem compounds is added to the 2-cephem compound represented by formula (IB) or the 2- and 3-cephem compound obtained. By isomerization of a mixture consisting of cephem compounds (in which the free functional groups can, if appropriate, be temporarily protected as described above), the corresponding compounds of formula (IA) are prepared. It can be converted into a 3-cephem compound. In this reaction,
For example, it is possible to use a 2-cephem compound in which the formula -C(=0)-Rv group in formula (IB) is a free or protected carboxyl group, and even if a protected carboxyl group is generated during the reaction. good.

式(IB)の2−セフェム化合物はこれを塩基性剤で処
理し、そして2−および3−セフェム化合物の平衡混合
物から式(IA)の相当する3−セフェム化合物を単離
することによって、異性化することができる。
The 2-cephem compound of formula (IB) can be converted to isomerism by treating it with a basic agent and isolating the corresponding 3-cephem compound of formula (IA) from the equilibrium mixture of 2- and 3-cephem compounds. can be converted into

適する異性化剤は例えば有機窒素含有塩基例えば芳香族
性の第3複素環式塩基および主に第3脂肪族、アザ脂環
式または芳香脂肪族塩基例えばN、N、N−)ジメチル
アミン、N、N−ジメチル−N−エチルアミン、N、N
、N−1−リエチルアミンまたはN、N−ジイソプロピ
ル−N−エチルアミンのようなN、N、N−)り低級ア
ルキルアミン、N−メチル−ピペリジンのようなN−低
級アルキル−アザシクロアルカンまたはN−ベンジル−
N、N−ジメチルアミンのようなN−フェニル低級アル
キル−N、N−低級アルキル−アミン、またはそれらの
混合物例えばピリジンとトリエチルアミンとの混合物の
ようなピリジン型塩基例えばピリジンとN、N、N−)
す低級アルキルアミンとの混合物である。さらに、塩基
の無機または有機塩、殊に中程度に強いかまたは強い塩
基の弱酸との塩例えば酢酸ナトリウム、酢酸トリエチル
アンモニウムまたはN−メチルピペリジン酢酸塩のよう
な低級アルカンカルボン酸のアルカリ金属塩またはアン
モニウム塩、ならびに他の同様の塩基またはこのような
塩基性剤の混合物を使うこともできる。
Suitable isomerizing agents are, for example, organic nitrogen-containing bases, such as aromatic tertiary heterocyclic bases and predominantly tertiary aliphatic, azaalicyclic or araliphatic bases such as N,N,N-)dimethylamine, N , N-dimethyl-N-ethylamine, N,N
, N-1-ethylamine or N,N-diisopropyl-N-ethylamine, N-lower alkyl-azacycloalkanes such as N-methyl-piperidine or -Benzyl-
N-phenyl lower alkyl-N,N-lower alkyl-amines, such as N,N-dimethylamine, or mixtures thereof; pyridine-type bases, such as mixtures of pyridine and triethylamine, e.g. pyridine and N,N,N- )
It is a mixture with lower alkylamine. Furthermore, inorganic or organic salts of bases, especially salts of moderately strong or strong bases with weak acids, such as alkali metal salts of lower alkane carboxylic acids such as sodium acetate, triethylammonium acetate or N-methylpiperidine acetate; Ammonium salts as well as other similar bases or mixtures of such basic agents can also be used.

上記の塩基性剤による異性化を例えば混合無水物の形成
に適するカルボン酸の誘導体例えばカルボン酸の無水物
またはハロゲン化物の存在の下で、例えば無水酢酸の存
在下でピリジンを使って行うことができる。この際、無
水媒質の中で、溶媒例えば塩素化のようなハロゲン化さ
れている場合のある脂肪族、脂環式または芳香族炭化水
素または溶媒混合物(この場合に、反応体として使うそ
の反応条件下で液体の塩基を溶媒として同時に使うこと
もできる)の存在または不在の下で、必要ならば冷却ま
たは加熱の下で、好ましくは約−30〜+100℃で、
窒素のような不活性ガス中でそして(または)密封容器
内で操作する。
The isomerization with a basic agent as described above can be carried out, for example, in the presence of a derivative of a carboxylic acid suitable for the formation of a mixed anhydride, such as an anhydride or a halide of the carboxylic acid, for example using pyridine in the presence of acetic anhydride. can. In this case, solvents such as aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons or solvent mixtures which may be halogenated, such as chlorinated, in an anhydrous medium (in which case the reaction conditions used as reactants) under cooling or heating, preferably at about -30 to +100° C.
Operate under an inert gas such as nitrogen and/or in a sealed container.

こうして生成した式(IA)の3−セフェム化合物をそ
れ自体公知の方法によって、例えば吸着および(または
)結晶化によって、まだ共存する場合のある式(IB)
の2−セフェム化合物から分離することができる。
The 3-cephem compound of the formula (IA) thus produced can be converted to the 3-cephem compound of the formula (IB), which may still be present, by methods known per se, for example by adsorption and/or crystallization.
can be separated from the 2-cephem compound.

また、式(IB)の2−セフェム化合物を1−位置で酸
化し、所望によってはこうして生成した異性体混合物か
ら式(IA)の3−セフェム化合物の1−オキシドを分
離しそして式(IA)で表わされる相当する3−セフェ
ム化合物の1−オキシドを還元することによって、異性
化することもできる。
Alternatively, a 2-cephem compound of formula (IB) may be oxidized at the 1-position, optionally the 1-oxide of a 3-cephem compound of formula (IA) may be separated from the isomer mixture thus formed, and the 1-oxide of a 3-cephem compound of formula (IA) Isomerization can also be carried out by reducing the 1-oxide of the corresponding 3-cephem compound represented by

この2−セフェム化合物の1−位置の酸化に適する酸化
剤としては、還元電位が少(とも+1.5ボルトであり
そして非金属元素から成る無機過酸、有機過酸、または
過酸化水素と解離定数が少くとも10−5である酸殊に
有機カルボン酸との混合物が挙げられる。適する無機過
酸は過よう素数および過硫酸である。有機過酸は相当す
る過カルボン酸および過スルホン酸であって、これをそ
れ自体使用できるしまたは反応の場において少くとも当
量の過酸化水素とカルボン酸とを使って生成させること
ができる。この場合に、例えば酢酸を溶媒として使う場
合にカルボン酸を大過剰に使うのが適する。適する過酸
は例えば過ぎ酸、過酢酸、過トリフルオル酢酸、過マレ
イン酸、過安息香酸、モノ過フタル酸またはp−トルエ
ン過スルホン酸である。
Suitable oxidizing agents for the 1-position oxidation of this 2-cephem compound include inorganic peracids, organic peracids, or hydrogen peroxides that have a low reduction potential (+1.5 volts) and are composed of nonmetallic elements. Mention may be made of acids whose constant is at least 10-5, especially in mixtures with organic carboxylic acids.Suitable inorganic peracids are periodic and persulfuric acids.Organic peracids include the corresponding percarboxylic and persulfonic acids. It can be used as such or it can be formed in the reaction using at least equivalent amounts of hydrogen peroxide and a carboxylic acid. Suitable peracids are, for example, peracid, peracetic acid, pertrifluoroacetic acid, permaleic acid, perbenzoic acid, monoperphthalic acid or p-toluene persulfonic acid.

さらに、解離定数が少くとも10−5である酸を触媒と
して十分な量で含む過酸化水素で酸化することもできる
。この酸を低濃度例えば1〜2%またはそれ以下、しか
しより多量に使うこともできる。この混合物の効果は主
としてその酸の強さに依存する。適する混合物は例えば
過酸化水素と酢酸、過塩素酸またはトリフルオル酢酸と
の混合物である。
Furthermore, the oxidation can be carried out with hydrogen peroxide containing a sufficient amount of an acid having a dissociation constant of at least 10@-5 as a catalyst. It is also possible to use this acid in lower concentrations, for example 1-2% or less, but in higher amounts. The effectiveness of this mixture depends primarily on the strength of the acid. Suitable mixtures are, for example, mixtures of hydrogen peroxide and acetic acid, perchloric acid or trifluoroacetic acid.

上記の酸化を適当な触媒の存在下で行うことができる0
例えば、過カルボン酸による酸化を解離定数が少くとも
10−5の酸の存在によって接触させることができ、こ
の酸の効果はその強さに依存する。触媒として適する酸
は例えば酢酸、過塩素酸およびトリフルオル酢酸である
。一般に酸化剤の少(とも等モル量、好ましくは約10
〜b少過剰量を使う。この酸化を穏和な条件の下で、例
えば約−50〜+100℃、好ましくは約−10〜+4
0℃で行う。
The above oxidation can be carried out in the presence of a suitable catalyst.
For example, oxidation with percarboxylic acids can be mediated by the presence of an acid with a dissociation constant of at least 10@-5, the effectiveness of which depends on its strength. Acids suitable as catalysts are, for example, acetic acid, perchloric acid and trifluoroacetic acid. Generally a small (equimolar amount of oxidizing agent, preferably about 10
~b Use a small excess amount. This oxidation is carried out under mild conditions, e.g. about -50 to +100°C, preferably about -10 to +40°C.
Perform at 0°C.

さらに、2−セフェム化合物を酸化して相当する3−セ
フェム化合物の1−オキシドとなすのにオゾン、さらに
有機次亜ハロゲン酸エステル化合物例えばt−ブチルハ
イポクロライドのような低級アルキル−ハイポクロライ
ド(これを不活性溶媒例えば塩化メチレンのようなハロ
ゲン化されている場合のある炭化水素の中でそして約−
10〜+30℃で使う)、過よう素数塩化合物例えば過
よう素数カリウムのようなアルカリ金属の過よう素数塩
(これを好ましくは水性媒質中で約6のpHでそして約
−10〜+30℃で使う)、ヨードベンゼンジクロライ
ド(これを水性媒質中で、好ましくはピリジンのような
有機塩基の存在の下そして冷却して例えば約−20〜0
℃で使う)、またはチオ基をスルホキシド基に変えるの
に適する他の酸化剤を使って行うことができる。
In addition, ozone is used to oxidize the 2-cephem compound to the 1-oxide of the corresponding 3-cephem compound, as well as an organic hypohalite compound such as a lower alkyl-hypochloride such as t-butylhypochloride. in an inert solvent, such as a hydrocarbon which may be halogenated, such as methylene chloride, and about -
10 to +30°C), periodic salt compounds, such as periodic salts of alkali metals, such as potassium periodine, preferably at a pH of about 6 and at about -10 to +30°C in an aqueous medium. (used), iodobenzene dichloride (which is dissolved in an aqueous medium, preferably in the presence of an organic base such as pyridine and cooled, for example from about -20 to 0
°C) or other oxidizing agents suitable for converting thio groups to sulfoxide groups.

こうして得た式(IA)の3−セフェム化合物の1−オ
キシド、殊にR?、lおよびR2が前記の好ましい意味
をもつ化合物において、基R?、R1)および(または
)R2をその定義の範囲内で他の基に変えるか、分裂す
るかまたは導入することができる。また、異性体のα−
1−オキシドとβ−1−オキシドとの混合物を例えばク
ロマトグラフィによって分けることができる。
The 1-oxide of the 3-cephem compound of formula (IA) thus obtained, especially R? , l and R2 have the preferred meanings given above, in which the group R? , R1) and/or R2 can be changed, split or introduced into other groups within the scope of their definition. In addition, the isomer α-
The mixture of 1-oxide and β-1-oxide can be separated, for example by chromatography.

式(IA)の3−セフェム化合物の1−オキシドをそれ
自体公知の方法によって、必要ならば活性化剤の存在の
下で、還元剤で処理して還元することができる。還元剤
としては次のものが挙げられる。接触的に活性化された
水素(パラジウム、白金またはロジウムのような貴金属
触媒を、場合によっては炭や硫酸バリウムのような適当
な担体上に担持して使う)、還元性のすす、鉄、銅また
はマンガンの陽イオン〔これらを無機または有機の相当
する化合物または錯体の形で、例えばすず(II)の塩
化物、ぶつ化物、酢酸塩またはぎ酸塩として、鉄(II
)の塩化物、硫酸塩、しゅう酸塩またはこはく酸塩とし
て、銅(I)の塩化物、安息香酸塩または酸化物として
、またはマンガン(n)の塩化物、硫酸塩、酢酸塩また
は酸化物として、あるいは錯体例えばエチレンジアミン
テトラ酢酸またはニドロールトリ酢酸との錯体として使
う〕、還元性の亜2チオン酸陰イオン・よう素陰イオン
またはシアン化鉄(n)陰イオン(これらを相当する無
機または有機塩の形で、例えば亜2千オン酸ナトリウム
、亜2チオン酸カリウム、よう化ナトリウム、よう化カ
リウム、フェロシアン化ナトリウムまたはフェロシアン
化カリウムのようなアルカリ金属塩またはよう化水素酸
のような相当する酸の形で使う)、還元性の3価の無機
または有機りん化合物例えばホスフィン、さらに亜ホス
フィン酸、亜ホスホン酸または亜2りん酸のエステル、
アミドおよびハロゲン化物ならびにこれらりん・酸素化
合物に相当するりん・いおう化合物(これら化合物の有
機基は主として脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基例え
ば置換されている場合のある低級アルキル基、フェニル
基またはフェニル低級アルキル基である)、例えばトリ
フェニルホスフィン、トリーn−ブチルホスフィン、ジ
フェニル亜ホスフイン酸メチル、ジフェニルクロルホス
フィン、フェニルジクロルホスフィンゝベンゼン亜ホス
ホン酸ジメチルエステル、ブタン亜ホスホン酸メチルス
テル、亜りん酸トリフェニルエステル、亜りん酸トリメ
チルエステル、3塩化りん、3臭化りん、その他、還元
性のハロゲノシラン化合物(これらはけい素原子に結合
した水素原子少くとも1個をもちそしてさらに塩素原子
、臭素原子またはよう素原子のようなハロゲン原子、有
機基例えば脂肪族または芳香族基例えば置換されている
場合のある低級アルキル基またはフェニル基をもってい
ることができる)、例えばクロルシラン、ブロムシラン
、ジーまたはトリークロルシラン、ジーまたはトリルブ
ロムシラン、ジフェニルクロルシラン、ジメチルクロル
シランその他、還元性の第4級クロルメチレン−イミニ
ウム塩、殊に相当するクロライドまたはブロマイド(そ
のレン基または低級アルキル基によって置換されている
ものとする)、例えばN−クロルメチレン−N、N−ジ
エチルイミニウムクロライドまたはN−クロルメチレン
−ピロリジニウムクロライド、および塩化コバルト(n
)のような適当な活性化剤の存在下での水素化ナトリウ
ムはう素のような錯金属水素化物、ならびにボランジク
ロライド。
The 1-oxide of the 3-cephem compound of formula (IA) can be reduced by methods known per se, if necessary in the presence of an activating agent, by treatment with a reducing agent. Examples of reducing agents include: Catalytically activated hydrogen (using a noble metal catalyst such as palladium, platinum or rhodium, optionally supported on a suitable support such as charcoal or barium sulfate), reducing soot, iron, copper or manganese cations [in the form of the corresponding inorganic or organic compounds or complexes, e.g. as tin(II) chloride, butide, acetate or formate;
) as chlorides, sulphates, oxalates or succinates; as chlorides, benzoates or oxides of copper(I); or as chlorides, sulphates, acetates or oxides of manganese(n); or as a complex with ethylenediaminetetraacetic acid or nidololtriacetic acid], the reducing dithionite anion, iodine anion or iron(n) cyanide anion (using their corresponding inorganic or organic salts) alkali metal salts such as sodium dithionite, potassium dithionite, sodium iodide, potassium iodide, sodium ferrocyanide or potassium ferrocyanide or corresponding acids such as hydroiodic acid. ), reducing trivalent inorganic or organophosphorus compounds such as phosphines, as well as esters of phosphinic acid, phosphonic acid or diphosphorous acid,
Amides and halides, as well as phosphorus and sulfur compounds corresponding to these phosphorus and oxygen compounds (the organic groups of these compounds are mainly aliphatic, aromatic or araliphatic groups, such as lower alkyl groups that may be substituted, phenyl groups or phenyl lower alkyl group), such as triphenylphosphine, tri-n-butylphosphine, methyl diphenylphosphinate, diphenylchlorophosphine, phenyldichlorophosphine, benzene phosphonite dimethyl ester, butane methyl phosphonite, phosphorous acid Triphenyl ester, phosphorous acid trimethyl ester, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, and other reducing halogenosilane compounds (these have at least one hydrogen atom bonded to a silicon atom and also contain a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or halogen atoms such as iodine atoms, organic groups such as aliphatic or aromatic groups such as optionally substituted lower alkyl groups or phenyl groups), such as chlorosilane, bromosilane, di- or trichloro silanes, di- or tolylbromosilanes, diphenylchlorosilanes, dimethylchlorosilanes, and other reducing quaternary chlormethylene-iminium salts, especially the corresponding chlorides or bromides, substituted by lene or lower alkyl groups. ), for example N-chlormethylene-N, N-diethyliminium chloride or N-chlormethylene-pyrrolidinium chloride, and cobalt chloride (n
complex metal hydrides such as sodium hydride in the presence of a suitable activating agent such as borane, as well as borane dichloride.

それ自体非ルイス酸性を示す上記還元剤といっしょに使
う、すなわち主として亜2チオン酸塩還元剤、よう素還
元剤、シアン化鉄(II)還元剤またはハロゲンを含ま
ない3価りん還元剤といっしょにまたは接触還元の場合
に加える活性化剤としては、殊に有機カルボン酸および
スルホン酸の/’tロゲン化物、さらに2次加水分解定
数が塩化ベンゾイルと同じかまたはそれより大きいいお
う、リド、クロル酢酸クロライド、ピバリン酸クロライ
ド、4−メトキシ安息香酸クロライド、4−シアノ安息
香酸クロライド、p−)ルエンスルホン酸クロライド、
メタンスルホン酸クロライド、塩化チオニル、オキシ塩
化りん、3塩化りん、3臭化りん、フェニルジクロルホ
スフィン、ベンゼン亜ホスホン酸クロライド、ジメチル
クロルシランまたはトリクロルシラン、さらにトリフル
オル酢酸無水物のような適当な酸無水物、または環状サ
ルトン、例えばエタンサルトン、1.3−プロパンサル
トン、1.4−ブタンサルトンまたは1. 3−ヘキサ
ンサルトンが挙げられる。
For use with the above-mentioned reducing agents which themselves are non-Lewis acidic, i.e. primarily with dithionite reducing agents, iodine reducing agents, iron(II) cyanide reducing agents or halogen-free trivalent phosphorus reducing agents. Activators which can be added to or in the case of catalytic reduction include, in particular, /'t halides of organic carboxylic acids and sulfonic acids, as well as sulfur, lido, chloride, whose secondary hydrolysis constant is the same as or higher than that of benzoyl chloride. acetic acid chloride, pivalic acid chloride, 4-methoxybenzoic acid chloride, 4-cyanobenzoic acid chloride, p-)luenesulfonic acid chloride,
Methanesulfonyl chloride, thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phenyldichlorophosphine, benzenephosphonite chloride, dimethylchlorosilane or trichlorosilane, as well as a suitable acid such as trifluoroacetic anhydride. Anhydrides, or cyclic sultones such as ethanesultone, 1,3-propanesultone, 1,4-butanesultone or 1. 3-hexane sultone is mentioned.

上記の還元反応を溶媒またはその混合物の中で行うのが
好ましい、溶媒の選択は主として原料の溶解性および還
元剤の種類による。すなわち、例えば接触還元では低級
アルカンカルボン酸またはそのエステル例えば酢酸およ
び酢酸エチルを使いそして化学的還元剤では例えばハロ
ゲン化またはニトロ化ような置換されている場合のある
脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭化水素例え
ばベンゼン、塩化メチレン、クロロホルムまたはニトロ
メタン、適当な酸誘導体例えば酢酸エチルのような低級
アルカンカルボン酸エステル、アセトニトリルのような
低級アルカノニトリル、無機または有機酸のアミド例え
ばジメチルホルムアミドまたはへキサメチルりん酸アミ
ド、エーテル例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ランまたはジオキサン、ケトン例えばアセトンまたはス
ルホン殊に脂肪族スルホン例えばジメチルスルホンまた
はテトラ゛メチレンスルホンを使い、これら溶媒は水を
含まないのが好ましい。一般に約−20〜+100℃で
行うが、非常に反応性の活性化剤を使う場合には一層低
い温度で反応を行うことができる。
Preferably, the above reduction reaction is carried out in a solvent or a mixture thereof; the choice of solvent depends primarily on the solubility of the raw materials and the type of reducing agent. Thus, for example, catalytic reduction uses lower alkane carboxylic acids or their esters, such as acetic acid and ethyl acetate, and chemical reducing agents use aliphatic, cycloaliphatic, aromatic, which may be substituted, such as halogenated or nitrated. or araliphatic hydrocarbons such as benzene, methylene chloride, chloroform or nitromethane, suitable acid derivatives such as lower alkanecarboxylic acid esters such as ethyl acetate, lower alkanonitriles such as acetonitrile, amides of inorganic or organic acids such as dimethylformamide or Hexamethyl phosphoric acid amide, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran or dioxane, ketones such as acetone or sulfones, especially aliphatic sulfones such as dimethyl sulfone or tetramethylene sulfone, are used; these solvents are preferably free from water. The reaction is generally carried out at temperatures of about -20 DEG to +100 DEG C., but the reaction can be carried out at lower temperatures if very reactive activators are used.

このようにして得られる式(rA)で表わされる3−セ
フェム化合物において、基R?、R1)および(または
)RZは、前記の他の基1.R1?またはR2に変える
ことができる。
In the 3-cephem compound represented by the formula (rA) thus obtained, the group R? , R1) and/or RZ are other groups 1. R1? Or it can be changed to R2.

式(IA)および(IB)で表わされる化合物の塩はそ
れ自体公知の方法によって製造される。
Salts of compounds represented by formulas (IA) and (IB) are produced by methods known per se.

すなわち、酸性基をもつこのような化合物の塩は、例え
ば適当なカルボン酸のアルカリ金属塩のような金属化合
物例えばα−エチルカプロン酸のナトリウム塩またはア
ンモニアまたは適当な有機アミンで処理することによっ
て、生成することができる。この目的には、その塩形成
剤を化学量論的量または僅かに過剰な量で使うのが好ま
しい。また、塩基性基をもつ式(IA)および(IB)
の化合物の酸付加塩は常法によって、例えば酸または適
とをもつ式(IA)および(IB)の化合物の分子内塩
は、例えばその酸付加塩のような塩を等電点まで例えば
弱塩基で中和するかまたは液状イオン交換剤で処理する
ことによって生成される。塩形成基をもつ式(IA)の
化合物の1−オキシドの塩は同様の方法により作ること
ができる。
That is, salts of such compounds with acidic groups can be prepared by treatment with metal compounds such as alkali metal salts of the appropriate carboxylic acids, such as the sodium salt of α-ethylcaproic acid, or with ammonia or with suitable organic amines. can be generated. For this purpose, it is preferred to use the salt-forming agent in stoichiometric or slightly excess amounts. In addition, formulas (IA) and (IB) having a basic group
The acid addition salts of the compounds of formulas (IA) and (IB) can be prepared by conventional methods, for example, the internal salts of the compounds of formulas (IA) and (IB) with acids or salts can be prepared by, for example, weakly Produced by neutralization with base or treatment with liquid ion exchange agents. Salts of the 1-oxides of compounds of formula (IA) with salt-forming groups can be made by similar methods.

塩はこれを常法により遊離化合物に変えることができる
。例えば、金属塩およびアンモニウム塩を適当な酸で処
理することによって、また酸付加塩を例えば適当な塩基
性剤で処理することによって、遊離化合物に変えること
ができる。
The salt can be converted into the free compound by conventional methods. For example, metal and ammonium salts can be converted to the free compounds by treatment with a suitable acid, and acid addition salts can be converted into the free compounds, for example by treatment with a suitable basic agent.

得られた異性体混合物は、これをそれ自体公知の方法に
よって、例えばジアステレオマー異性体の混合物を分別
結晶化、吸着クロマトグラフィ(カラムクロマトグラフ
ィまたは薄層クロマトグラフィ)または他の適当な分離
方法によって個々の異性体に分けることができる。得ら
れたラセミ体は、これを常法によって、適当ならば適当
な塩形成基を導入した後に、例えば光学活性の塩形成剤
とのジアステレオマー塩混合物を生成し、この混合物を
各ジアステレオマー塩に分けそしてこうして分けたジア
ステレオマー塩を遊離化合物に変えることによって、ま
たは光学活性の溶媒から分別結晶化することによって、
個々の対掌体に分けることができる。
The isomer mixture obtained can be separated by methods known per se, for example by fractional crystallization of the mixture of diastereoisomers, adsorption chromatography (column chromatography or thin layer chromatography) or other suitable separation methods. Can be separated into isomers. The obtained racemate is treated by a conventional method, if appropriate, after introducing a suitable salt-forming group, for example, to form a diastereomer salt mixture with an optically active salt-forming agent, and this mixture is divided into each diastereomer. by separating into diastereomeric salts and converting the thus separated diastereomeric salts into the free compounds, or by fractional crystallization from an optically active solvent.
Can be divided into individual enantiomers.

本発明は、その工程で中間体として生成する化合物を原
料として使いそして残りの工程段階を行うかまたはその
工程を任意の段階で中断するような具体例をも包含する
。さらに、原料を誘導体の形で使うことができるしまた
はその反応中に生成させることができる。
The present invention also includes embodiments in which compounds produced as intermediates in the process are used as raw materials and the remaining process steps are carried out or the process is interrupted at any stage. Furthermore, the raw materials can be used in the form of derivatives or generated during the reaction.

なお、原料および反応条件としては、先に殊に好ましい
ものとして挙げた化合物が得られるように選ぶのが好ま
しい。
Note that the raw materials and reaction conditions are preferably selected so as to obtain the compounds listed above as particularly preferred.

式(n)で表わされる出発原料において、除去する基Y
は、式−3ow  Rs  (この式でR1は前記で与
えた意味であるが、特に前記で好ましいものとして与え
た基である)で表わされる基であるのが好ましい。
In the starting material represented by formula (n), the group to be removed Y
is preferably a group represented by the formula -3ow Rs (in which R1 has the meaning given above, but is particularly the group given as preferred above).

本発明による方法は、先行技術と比較して、安価であっ
て特に容易に入手できる出発材料例えばの1−オキシド
から出発すること、そして本発明方法において必要とさ
れる中間生成物が高収率で製造されることにおいて特に
すぐれている。特に本発明方法はまた、R1が水素原子
である式(1)で表わされる化合物を、水酸基保護基R
3を分裂せずに、直接製造できる。
Compared to the prior art, the process according to the invention starts from inexpensive and particularly readily available starting materials, such as 1-oxide, and the intermediate products required in the process according to the invention are produced in high yields. It is particularly excellent in that it is manufactured in In particular, the method of the present invention also provides a method for converting the compound represented by formula (1) in which R1 is a hydrogen atom into a hydroxyl-protecting group R
3 can be manufactured directly without splitting.

本発明に使われる、式(n)で表わされる出発原料は、
例えば次の化学方程式に従って作ることができる。
The starting material represented by formula (n) used in the present invention is:
For example, it can be created according to the following chemical equation.

以下余白 01ニア 、 0         、l           
       工匡   匡            
              国   α、α   匡 式(IV)で表わされる出発化合物は公知であり、また
公知の方法によって作ることができる。
Below margin 01 near, 0, l
Takashi Takashi
The starting compounds of formula (IV) are known and can be prepared by known methods.

式(Va)で表わされる化合物もまた公知であり、また
オランダ特許第72108671号明細書に記載の方法
によって作る。
Compounds of formula (Va) are also known and made by the method described in Dutch Patent No. 72108671.

式(■a)、(■b)、(■C)、(IIa)、(Ir
b)および(Inc)(これらの式でR?とlとReと
Yとは前記式(II)で与えた意味をもつ)で表わされ
る新規化合物、およびそれらの製法もまた本発明の目的
である。
Formulas (■a), (■b), (■C), (IIa), (Ir
b) and (Inc) (in these formulas, R?, l, Re and Y have the meanings given in formula (II) above), and processes for their preparation are also contemplated for the purpose of the present invention. be.

式(vb)で表わされる化合物は、式(IV)で表わさ
れる化合物と、式Hsog−Rsで表わされるスルフィ
ン酸または式N=c−soz −R5で表わされるスル
ホニルシアニドとの反応によって得ることができる。式
(rVc)で表わされる化合物は、式HS  Sow 
 Rsで表わされるチオスルホン酸との反応によって式
(IV)で表わされる化合物から得ることができる。反
応は、不活性溶媒または溶媒混合物中で、例えば場合に
よりハロゲン化例えば塩素化されている、脂肪族、脂環
式または芳香族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、
クロロホルムまたはクロロベンゼン、脂肪族、脂環式ま
たは芳香族アルコール例えば低級アルカノール、例えば
メタノールまたはエタノール、シクロヘキサノールまた
はフェノール、ポリヒドロキシ化合物例えばポリヒドロ
キシアルカン例えばジヒドロキシ−低級アルカン、例え
ばエチレングリコールまたはプロピレングリコール、低
級ケトン例えばアセトンまたはメチルエチルケトン、エ
ーテル様溶媒例えばジエチルエーテル、ジオキサンまた
はテトラヒドロフラン、低級カルボン酸アミド例えばジ
メチルホルムアミドまたはジメチルアセタミド、低級ア
ルキルスルホキシド例えばジメチルスルホキシドなどま
たはこれらの混合物中で行う。
The compound represented by formula (vb) can be obtained by reacting the compound represented by formula (IV) with a sulfinic acid represented by formula Hsog-Rs or a sulfonyl cyanide represented by formula N=c-soz-R5. I can do it. The compound represented by the formula (rVc) has the formula HS Sow
It can be obtained from the compound represented by formula (IV) by reaction with thiosulfonic acid represented by Rs. The reaction is carried out in an inert solvent or solvent mixture, for example with an optionally halogenated, e.g. chlorinated, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbon, e.g. pentane, hexane,
Cyclohexane, benzene, toluene, methylene chloride,
Chloroform or chlorobenzene, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic alcohols such as lower alkanols such as methanol or ethanol, cyclohexanol or phenol, polyhydroxy compounds such as polyhydroxyalkanes such as dihydroxy-lower alkanes such as ethylene glycol or propylene glycol, lower ketones For example, it is carried out in acetone or methyl ethyl ketone, ether-like solvents such as diethyl ether, dioxane or tetrahydrofuran, lower carboxylic amides such as dimethylformamide or dimethyl acetamide, lower alkyl sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, or mixtures thereof.

反応は、室温、または好ましくは高めた温度例えば使っ
た溶媒の沸点で、所望により不活性ガス例えば窒素ガス
中で行う。
The reaction is carried out at room temperature or preferably at an elevated temperature, eg the boiling point of the solvent used, optionally under an inert gas, eg nitrogen gas.

弐N=c  SOx  Rsで表わされるスルホニルシ
アニドとの反応は、ハロゲン陰イオンを供給する化合物
を加えることによって促進させることができる。ハロゲ
ン陰イオンを供給する化合物として適当なものは、例え
ば第4級アンモニウムハライド、特にクロリドおよびプ
ロミド、例えばテトラ−低級アルキル−アンモニウムハ
ライド(場合により低級アルキル基において置換されて
いることがあり、例えばアリール基例えばフェニル基に
よりモノまたはポリ置換されていることがある)、例え
ばテトラエチルアンモニウムクロリドまたはプロミド、
またはベンジルトリエチルアンモニウムクロリドまたは
プロミドである。ハロゲン陰イオンを供給する化合物を
、約1〜50モル%、好ましくは約2〜5モル%の量で
加える。
The reaction with the sulfonyl cyanide represented by N=c SOx Rs can be accelerated by adding a compound that supplies a halogen anion. Suitable compounds supplying halogen anions are, for example, quaternary ammonium halides, especially chlorides and bromides, such as tetra-lower alkyl-ammonium halides (optionally substituted in the lower alkyl group, e.g. aryl (may be mono- or polysubstituted by groups such as phenyl groups), such as tetraethylammonium chloride or bromide,
or benzyltriethylammonium chloride or bromide. The compound providing the halogen anion is added in an amount of about 1 to 50 mole %, preferably about 2 to 5 mole %.

式(Vb)および(Vc)で表わされる化合物はまた、
式(IV)で表わされる化合物と、弐M”(−50□−
R2)、で表わされるスルフィン酸の重金属塩または弐
M” (−S−5ow−Rs)n (ここでMは重金属
陽イオンであり、nはこの陽イオンの原子価を表わす)
で表わされるチオスルホン酸の重合属塩との反応によっ
ても作ることができる。適当なスルフィン酸またはチオ
スルホン酸の重金属塩は、反応中に生成する式M”(S
  R4)、で表わされる重金属化合物よりも、使われ
た反応媒質中においてより大きな溶解度積をもつものテ
アル・重金属陽イオンM”ゝとして、特に難溶性のスル
フィドを生成するものが適当である。例えば銅、水銀、
銀およびスズの1価または2価の陽イオンであり、Cu
 + +およびAg”が特に好ましい。
Compounds represented by formulas (Vb) and (Vc) also have
A compound represented by formula (IV) and 2M"(-50□-
R2), a heavy metal salt of sulfinic acid or 2M'' (-S-5ow-Rs)n (where M is a heavy metal cation and n represents the valence of this cation)
It can also be produced by reaction with a polymeric metal salt of thiosulfonic acid represented by: Suitable heavy metal salts of sulfinic or thiosulfonic acids have the formula M''(S
As the heavy metal cation M'', which has a larger solubility product in the reaction medium used than the heavy metal compound represented by copper, mercury,
It is a monovalent or divalent cation of silver and tin, and Cu
+ + and Ag'' are particularly preferred.

スルフィン酸の重金属塩またはチオスルホン酸の重金属
塩は、その形で使うことができ、また反応工程中その場
で、式5R(h  Rsで表わされるスルフィン酸また
は弐〇−5−SO!−R,で表わされるチオスルホン酸
またはそれらの可溶性塩例えばナトリウム塩のようなア
ルカリ金属塩と、重金属塩(その溶解度積は、生成する
スルフィン酸の重金属塩またはチオスルホン酸の重金属
塩よりも大きい)例えば硝酸、酢酸または硫酸の重金属
塩、例えば硝酸銀、水銀(If)−2酢酸または硫酸銅
(II)、または可溶性塩化物例えば塩化すず(II)
・2水塩とから生成することもできる。
The heavy metal salts of sulfinic acids or heavy metal salts of thiosulfonic acids can be used in that form and in situ during the reaction process to form sulfinic acids of the formula 5R (hRs or 2〇-5-SO!-R, thiosulfonic acids or their soluble salts, e.g. alkali metal salts such as sodium salts, and heavy metal salts (the solubility product of which is greater than the heavy metal salts of sulfinic acids or heavy metal salts of thiosulfonic acids formed), e.g. nitric acid, acetic acid. or heavy metal salts of sulfuric acid, such as silver nitrate, mercury(If)-diacetic acid or copper(II) sulfate, or soluble chlorides such as tin(II chloride).
・It can also be produced from dihydrate salt.

式(Va)で表わされる化合物と、式 M”(−5(h−Rs)−で表わされるスルフィン酸の
重金属塩または式P・(−S−5Oz−Rs)−で表わ
されるチオスルホン酸の重金属塩との反応は、不活性有
機溶媒中、水中、または水と水混和性溶媒とから成る溶
媒混合物中で行うことができる。不活性有機溶媒として
は例えば、脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素例えば
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トル
エンまたはキシレン、脂肪族、脂環式または芳香族アル
コール例えば低級アルカノール、例えばメタノールまた
はエタノール、シクロヘキサノールまたはフェノール、
ポリヒドロキシ化合物例えばポリヒドロキシアルカン例
えばジヒドロキシ−低級アルカン、例えばエチレングリ
コールまたはプロピレングリコール、カルボン酸エステ
ル例えばカルボン酸低級アルキルエステル例えば酢酸エ
チル、低級ケトン例えばアセトンまたはメチルエチルケ
トン、エーテル様溶媒例えばジオキサンまたはテトラヒ
ドロフラン、またはポリエーテル例えばジメトキシエタ
ン、低級カルボン酸アミド例えばジメチルホルムアミド
または低級アルキルニトリル例えばアセトニトリル、低
級アルキルスルホキシド例えばジメチルスルホキシドで
ある。反応は、通常有機溶媒のみよりも、水中または特
に水と前記溶媒との混合物(乳液も含む)中で、より急
速に進行する。
A compound represented by formula (Va) and a heavy metal salt of sulfinic acid represented by formula M"(-5(h-Rs)- or a heavy metal salt of thiosulfonic acid represented by formula P.(-S-5Oz-Rs)- The reaction with the salt can be carried out in an inert organic solvent, in water or in a solvent mixture consisting of water and a water-miscible solvent. Inert organic solvents include, for example, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic solvents. hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, benzene, toluene or xylene, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic alcohols such as lower alkanols such as methanol or ethanol, cyclohexanol or phenol,
Polyhydroxy compounds such as polyhydroxyalkanes such as dihydroxy-lower alkanes such as ethylene glycol or propylene glycol, carboxylic acid esters such as carboxylic acid lower alkyl esters such as ethyl acetate, lower ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, ether-like solvents such as dioxane or tetrahydrofuran, or Ethers such as dimethoxyethane, lower carboxylic acid amides such as dimethylformamide or lower alkyl nitriles such as acetonitrile, lower alkyl sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. The reaction usually proceeds more rapidly in water or especially in a mixture of water and said solvent (including emulsions) than in organic solvents alone.

反応温度は通常室温であるが、反応を遅くするために低
くすることができ、また反応を促進されるために高くす
なわち使われた溶媒の沸点までにすることもでき、また
反応を常圧または高めに圧力で行うことができる。
The reaction temperature is usually room temperature, but can be lower to slow the reaction, higher to accelerate the reaction, i.e. up to the boiling point of the solvent used, and the reaction can be carried out at normal pressure or It can be done with high pressure.

得られる式(V)で表わされる化合物において、基R?
 、 Rl マタハR+を、他(7)R?、RY * 
タはR8に変えることができ、そしてその場合に式様な
反応を使うことができる。
In the resulting compound represented by formula (V), the group R?
, Rl Mataha R+, and others (7) R? ,RY*
ta can be changed to R8, and in that case a similar reaction can be used.

第2および3または2a段階において、式(V)で表わ
される化合物を、メチレン基からオキソ基への酸化的デ
グラデーションによって式(■)で表わされる化合物に
変えること、式の化合物のメチレン基をオキソ基を形成
しながら酸化分裂するには、オゾンで処理してオゾン化
合物を生成させて行うのが好ましい。この場合に、オゾ
ンを一般に溶媒例えば低級アルカノール例えばメタノー
ルやエタノールのようなアルコール、低級アルカノン例
えばアセトンのようなケトン、ハロゲン化されている場
合のある脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素例えば塩
化メチレンや四塩化炭素のようなハロゲノ低級アルカン
または水性混合物を含めた溶媒混合物の中でそして冷却
またはわずかな加熱の下で例えば約−90〜+40℃で
使う。
In the second and third or 2a steps, converting the compound of formula (V) into a compound of formula (■) by oxidative degradation from the methylene group to the oxo group, converting the methylene group of the compound of formula In order to perform oxidative splitting while forming an oxo group, it is preferable to perform treatment with ozone to generate an ozone compound. In this case, ozone is generally used as a solvent such as lower alkanols such as alcohols such as methanol or ethanol, lower alkanones such as ketones such as acetone, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons which may be halogenated, such as chlorinated It is used in a solvent mixture, including a halogenated lower alkane such as methylene or carbon tetrachloride, or an aqueous mixture and under cooling or slight heating, e.g., from about -90 to +40°C.

こうして中間体として得られる式(VIa)で表わされ
るオシニドを、場合により単離することなしに、そして
式(Va)の化合物の式(Vb)および(Vc)の化合
物への変換と同様にして、弐M” (−SORs)−で
表わされるスルフィン酸の重金属塩または弐M” (−
5SOz  Rs)、、で表わされるチオスルホン酸の
重金属塩との反応によって式(■b)または(Vlc)
で表わされる化合物に変えることができる。
The oscinide of the formula (VIa) thus obtained as an intermediate, optionally without isolation, and analogously to the conversion of the compound of the formula (Va) into the compounds of the formulas (Vb) and (Vc). , 2M" (-SORs)- or 2M" (-
5SOz Rs), by reaction with a heavy metal salt of thiosulfonic acid represented by formula (■b) or (Vlc)
It can be converted into a compound represented by

式(V)で表わされるオシニドを第3段階で還元分裂す
ることによって式(■)で表わされる化合物を得ること
ができる。この場合に、接触的に活性化された水素例え
ばニッケルまたはパラジウム触媒(好ましくは炭酸カル
シウムや炭のような適当な担体上に担持する)のような
重金属水素化触媒の存在下の水素、または化学的還元剤
例えば重金属合金または重金属アマルガムを含めた還元
性重金属例えば水素給体例えば酢酸のような酸または低
級アルカノールのようなアルコールの存在下での亜鉛、
還元性無機塩例えば水素給体例えば酢酸のような酸の存
在下でのよう化ナトリウムのようなアルカリ金属よう化
物またはぎ酸のような還元性有機化合物、還元性サルフ
ァイド化合物例えばジメチルサルファイドのようなジ低
級アルキルサルファイド、ホスフィンのような還元性有
機りん化合物(これは置換されている場合のある脂肪族
または芳香族炭化水素基を置換基としてもっていること
ができる)例えばトリーn−ブチルホスフィンのような
トリ低級アルキルホスフィンまたはトリフェニルホスフ
ィンのようなトリアリ−・ルホスフィン、さらに置換さ
れている場合のある脂肪族炭化水素基を置換基としても
っているホスファイト例えばトリメチルホスファイトの
ようなトリ低級アルキルホスファイト(これは一般には
相当するアルコール付加化合物の形にある)または置換
されている場合のある脂肪族炭化水素基を置換基として
もっている亜りん酸トリアミド例えばヘキサメチル亜り
ん酸トリアミドのようなヘキサ低級アルキル亜りん酸ト
リアミド(これは好ましくはメタノール付加物の形にあ
る)またはテトラシアノエチレンを使うことができる。
A compound represented by formula (■) can be obtained by subjecting the oscinide represented by formula (V) to reductive splitting in the third step. In this case, catalytically activated hydrogen, e.g. hydrogen in the presence of a heavy metal hydrogenation catalyst such as a nickel or palladium catalyst (preferably supported on a suitable support such as calcium carbonate or charcoal), or a chemical zinc in the presence of a hydrogen donor such as an acid such as acetic acid or an alcohol such as a lower alkanol;
Reducing inorganic salts such as hydrogen donors such as alkali metal iodides such as sodium iodide or formic acid in the presence of acids such as acetic acid, reducing sulfide compounds such as dimethyl sulfide, etc. Reducing organophosphorus compounds such as di-lower alkyl sulfides, phosphines (which may carry optionally substituted aliphatic or aromatic hydrocarbon groups) such as tri-n-butylphosphine; tri-lower alkyl phosphines such as tri-lower alkyl phosphines or triphenylphosphine; phosphites having aliphatic hydrocarbon groups as substituents which may be further substituted; e.g. (generally in the form of the corresponding alcohol addition compound) or phosphite triamides with optionally substituted aliphatic hydrocarbon groups as substituents, such as hexamethyl phosphite triamide; Alkyl phosphite triamides (which are preferably in the form of methanol adducts) or tetracyanoethylene can be used.

上記の一般には単離しないオシニドを通常その製造に採
用した条件の下で、すなわち適当な溶媒または溶媒混合
物の存在の下でそして冷却または僅かに加熱して分裂さ
せる。
The generally unisolated oscinides mentioned above are cleaved under the conditions customarily employed for their preparation, ie in the presence of a suitable solvent or solvent mixture and by cooling or slight heating.

式(■)で表わされるエノール化合物は、互変異性のケ
ト型で存在することもできる。
The enol compound represented by formula (■) can also exist in a tautomeric keto form.

式(■a)で表わされるエノール化合物は、式(Va)
の化合物の式(Vb)または(Vc)の化合物への変換
と同様に、弐M”(−5O□−R5) nで表わされる
スルフィン酸の重金属塩または弐M”(−So□−Rs
)で表わされるチオスルホン酸の重金属塩との反応によ
って、それぞれ式(■b)または(■C)で表わされる
化合物に変えることができる。
The enol compound represented by formula (■a) is represented by formula (Va)
Similarly to the conversion of the compound into the compound of formula (Vb) or (Vc), the heavy metal salt of sulfinic acid represented by 2M"(-5O□-R5)
) can be converted into a compound represented by formula (■b) or (■C) by reaction with a heavy metal salt of thiosulfonic acid represented by formula (■b) or (■C), respectively.

得られる式(■)で表わされる化合物において、基Rマ
、R1?またはR8は、式(iA)または(IB)で表
わされる化合物におけるこれらの基の変換に適当な反応
と同様にして、他の基R?、lまたはR8に変えること
ができる。
In the resulting compound represented by formula (■), the groups R, R1? Or R8 can be converted to another group R? in the same manner as the reaction suitable for the conversion of these groups in the compound represented by formula (iA) or (IB). , l or R8.

第4段階において、得られる式(■)で表わされるエノ
ール化合物を、エステル化によって式(■)で表わされ
る化合物に変える。
In the fourth step, the obtained enol compound represented by formula (■) is converted into a compound represented by formula (■) by esterification.

式(■)で表わされるスルホン酸エステルを作るために
は、式(■)で表わされる化合物を、式HOSow  
Rs  (ここでR3は基YにおけるR2に与えたと同
じ意味である)で表わされるスルホン酸の反応性官能誘
導体でエステル化する。
In order to prepare a sulfonic acid ester represented by the formula (■), a compound represented by the formula (■) is converted into a compound represented by the formula HOSow.
Esterification with a reactive functional derivative of sulfonic acid represented by Rs (where R3 has the same meaning as given to R2 in the group Y).

基Rsに対して与えた意味の範囲内におl/1テ・これ
ら2つの基は、式(■)で表わされる化合物において同
一または異なる基であってよい。
Within the meaning given to the group Rs, these two groups may be the same or different groups in the compound of formula (■).

使われる、式HOSot Rsで表わされるスルホン酸
の反応性官能誘導体は、例えばそれらの反応性無水物特
にハロゲン化水素酸との混合熱 ゛水物、例えばそれら
の塩化物例えばメシルクロリドとp−)ルエンスルホン
酸クロリドである。
The reactive functional derivatives of sulfonic acids of the formula HOSot Rs which are used include, for example, their reactive anhydrides, especially heat-of-mixture with hydrohalic acids, hydrates, e.g. their chlorides, e.g. mesyl chloride and p-). It is luenesulfonic acid chloride.

エステル化は、好ましくは有機第3窒素塩基例えばピリ
ジン、トリエチルアミンまたはエチル−ジイソプロピル
アミンの存在下、適当な不活性溶媒例えば脂肪族、脂環
式または芳香族炭化水素例えばヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼンまたはトルエン、ハロゲン化脂肪族炭化水
素例えば塩化メチレン、またはエーテル例えばジー低級
アルキルエーテル例えばジエチルエーテル、環状エーテ
ル例えばテトラヒドロフランまたはジオキサン中で、ま
たは溶媒混合物中で、そしてエステル化剤の活性によっ
て冷却、室温またはわずかに加温、すなわち約−10〜
+50℃の温度で、そしてまた必要により密封容器中そ
して(または)不活性ガス例えば窒素ガス中で行う。
The esterification is preferably carried out in the presence of an organic tertiary nitrogen base such as pyridine, triethylamine or ethyl-diisopropylamine, in a suitable inert solvent such as an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbon such as hexane, cyclohexane, benzene or toluene, Halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, or ethers such as di-lower alkyl ethers such as diethyl ether, cyclic ethers such as tetrahydrofuran or dioxane, or in a solvent mixture, and depending on the activity of the esterifying agent, cooled, at room temperature or slightly temperature, i.e. about -10~
It is carried out at a temperature of +50° C. and also optionally in a sealed container and/or under an inert gas, for example nitrogen gas.

得られる式(■)で表わされるスルホン酸エステルは単
離することができ、また同一の反応混合物中でさらに反
応させることもできる。
The resulting sulfonic ester of formula (■) can be isolated or further reacted in the same reaction mixture.

式(■a)で表わされる化合物は、式(Va)の化合物
の式(Vb)および(Vc)の化合物への変換と同様に
、弐M”(−SOz  Rs)−で表わされるスルフィ
ン酸の重金属塩または弐M”(−S  SOz  Rs
)で表わされるチオスルホン酸の重金属塩との反応によ
って、それぞれ式(■b)または(■C)で表わされる
化合物に変えることができる。
The compound represented by formula (■a) can be obtained by converting a sulfinic acid represented by Heavy metal salt or 2M” (-S SOz Rs
) can be converted into a compound represented by formula (■b) or (■C) by reaction with a heavy metal salt of thiosulfonic acid represented by formula (■b) or (■C), respectively.

得られる式(■)で表わされる化合物において、基R?
、RV マタハR: cat、式(I A) *タハ(
IB)で表わされる化合物におけるこれらの基の変換に
適当な反応と同様にして、他の基R=7、lまたはR8
に変えることができる。
In the resulting compound represented by formula (■), the group R?
, RV Mataha R: cat, formula (I A) * Taha (
Analogously to the reactions suitable for the transformation of these groups in compounds of IB), other groups R=7, l or R8
can be changed to

第5段階において、得られる式(■)で表わされるスル
ホン酸エステルを、式H−N cR2)(R讐)で表わ
される第1または第2アミンで処理することにより、式
(n)で表わされる化合物に変えることができる。
In the fifth step, the resulting sulfonic acid ester represented by formula (■) is treated with a primary or secondary amine represented by formula can be converted into a compound that

アミノ化は、適当な不活性溶媒、例えば脂肪族、脂環式
または芳香族炭化水素例えばヘキサン−シクロヘキサン
、ベンゼンまたはトルエン、ハロゲン化脂肪族炭化水素
例えば塩化メチレン、またはエーテル例えばジー低級ア
ルキルエーテル例えばジエチルエーテル、または環状エ
ーテル例えばテトラヒドロフランまたはジオキサン中で
、または溶媒混合物中で、そして基−OSO2Rsおよ
び使われるアミンの活性により約−10″C〜50℃好
ましくは約0℃〜20’Cの温度で、必要により密封容
器中そして(または)不活性ガス例えば窒素ガス中で行
う。
Amination can be carried out using suitable inert solvents, such as aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons such as hexane-cyclohexane, benzene or toluene, halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, or ethers such as di-lower alkyl ethers such as diethyl an ether, or a cyclic ether such as tetrahydrofuran or dioxane, or in a solvent mixture, and at a temperature of from about -10"C to 50"C, preferably from about 0"C to 20"C, depending on the group -OSO2Rs and the activity of the amine used. If necessary, the reaction is carried out in a sealed container and/or in an inert gas such as nitrogen gas.

第5a段階において、式(■)で表わされる化合物を、
式H−N (R’)(R14)で表わされる第1または
第2アミンの塩例えば塩酸付加塩により、第3塩基例え
ばピリジンの存在下、適当な溶媒例えば低級アルコール
例えば無水エタノール中で、約20〜100℃好ましく
は約40〜60℃の温度において、処理することによっ
ても式(II)で表わされる化合物を作ることができる
In step 5a, a compound represented by formula (■) is
A salt of a primary or secondary amine of the formula H-N (R') (R14), such as a hydrochloric acid addition salt, in the presence of a tertiary base, such as pyridine, in a suitable solvent such as a lower alcohol such as absolute ethanol, about Compounds of formula (II) can also be prepared by treatment at temperatures of 20 to 100°C, preferably about 40 to 60°C.

式(Ila)で表わされる化合物は、式(Va)の化合
物の式(Vb)または(Vc)化合物への変換と同様に
、弐M”(−5Ox  Rs)11で表わされるスルフ
ィン酸の重金属塩または弐M”(−5Sow  Rs)
で表わされるチオスルホン酸の重金属塩との反応によっ
て、それぞれ式(■b)または(■C)で表わされる化
合物に変えることができる。
The compound of formula (Ila) is a heavy metal salt of a sulfinic acid represented by 2M''(-5Ox Rs)11, similar to the conversion of a compound of formula (Va) to a compound of formula (Vb) or (Vc). Or 2M” (-5Sow Rs)
By reacting the thiosulfonic acid represented by the formula with a heavy metal salt, it can be converted into a compound represented by the formula (■b) or (■C), respectively.

得られる式(■)で表わされる化合物において、基R1
?、R7またはR今は、式(IA)または(IB)で表
わされる化合物におけるこれらの基の変換に適当な反応
と同様にして、他の基R?、lまたはR8に変えること
ができる。
In the resulting compound represented by formula (■), the group R1
? , R7 or R can now be converted to other groups R? in analogy to the reactions suitable for the transformation of these groups in compounds of formula (IA) or (IB). , l or R8.

本発明による薬理的に有用な化合物は、例えばこの活性
物質の医薬としてを効な量を経腸投与または非経腸投与
に適する無機または有機の固体または液体の医薬的に有
用な担体といっしょにまたは混合して含む医薬用製剤の
製造に使うことができる。従って、この活性物質を希釈
剤例えば乳糖、ぶどう糖、しょ糖、マンニット、ソルビ
ット、セルロースおよび(または)グリシンおよび潤滑
剤例えばシリカ、タルク、ステアリン酸またはステアリ
ン酸カルシウムのようなステアリン酸塩および(または
)ポリエチレングリコールといっしょに含む錠廟または
ゼラチンカプセルを使う。錠剤としては、結合剤例えば
けい酸マグネシウムアルミニウム、でんぷん例えばとう
もろこしでんぷん、小麦でんぷん、米でんぷんまたはア
ロー・ルートでんぷん、ゼラチン、トラガカントゴム、
メチルセルロース、ナトリ・ラムカルボキシメチルセル
ロースおよび(または)ポリビニルピロリドンおよび所
望ならば砕解剤例えばでんぷん、寒天、アルギン酸また
はアルギン酸ナトリウム、または起泡性混合物および(
または)吸着剤、染料、香料および甘味剤を含むことが
できる。さらに、それら新薬理活性化合物を注射用例え
ば静脈内投与用配合物または注入溶液の形で使うことが
できる。このような溶液は等強性の水溶液または水性懸
濁体であるのが好ましく、これらは例えばその活性物質
だけを含むかまたは担体例えばマンニットといっしょに
含む真空凍結乾燥された配合物から投与前に調製される
。これら医薬用製剤を殺菌しそして(または)助剤例え
ば防腐剤、安定剤・湿潤剤および(または)乳化剤、可
溶化剤、浸透圧を調整する塩および(または)緩衝剤を
含ませることができる。これら医薬用製剤はそれ自体公
知の方法によって、例えば慣用の混合、顆粒化、打錠、
溶解または真空凍結乾燥の方法によって作られそして活
性物質を約0.1〜100%殊に約1〜50%(真空凍
結乾燥物は100%までの量)の量で含みそして所望に
よっては他の薬理的に価値ある物質  ゛を含むことが
できる。
The pharmacologically useful compounds according to the invention can be prepared, for example, by combining a pharmaceutically effective amount of the active substance with an inorganic or organic solid or liquid pharmaceutically useful carrier suitable for enteral or parenteral administration. Alternatively, it can be used in the production of pharmaceutical preparations containing the mixture. Therefore, this active substance is combined with diluents such as lactose, dextrose, sucrose, mannitol, sorbitol, cellulose and/or glycine and lubricants such as silica, talc, stearates such as stearic acid or calcium stearate and/or polyethylene. Use tablets or gelatin capsules containing glycol. For tablets, binders such as magnesium aluminum silicate, starches such as corn starch, wheat starch, rice starch or arrowroot starch, gelatin, tragacanth,
Methylcellulose, sodium carboxymethylcellulose and/or polyvinylpyrrolidone and if desired disintegrants such as starch, agar, alginic acid or sodium alginate, or effervescent mixtures and (
or) adsorbents, dyes, flavors and sweeteners. Furthermore, these new pharmacologically active compounds can be used in the form of injectable, eg intravenous, formulations or infusion solutions. Such solutions are preferably isotonic aqueous solutions or suspensions, which can be prepared, for example, from a vacuum lyophilized formulation containing the active substance alone or together with a carrier such as mannitol, prior to administration. It is prepared in These pharmaceutical preparations can be sterilized and/or contain auxiliary agents such as preservatives, stabilizers/wetting agents and/or emulsifiers, solubilizers, salts to adjust the osmotic pressure and/or buffers. . These pharmaceutical preparations can be prepared by methods known per se, such as conventional mixing, granulation, tabletting,
prepared by the method of dissolving or vacuum freeze-drying and containing the active substance in an amount of about 0.1 to 100%, especially about 1 to 50% (up to 100% for vacuum freeze-dried products) and optionally other substances. It can contain pharmacologically valuable substances.

なお、本明細書において、低級と示された有機基は特に
定義してない限り炭素原子を7個まで、好ましくは4個
までもつものである。アシル基は炭素原子を20個まで
、好ましくは12個までそして主として7個までもつも
のである。
In this specification, organic groups indicated as lower have up to 7 carbon atoms, preferably up to 4 carbon atoms, unless otherwise specified. Acyl groups are those having up to 20 carbon atoms, preferably up to 12 and primarily up to 7 carbon atoms.

次に実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、温
度の単位は摂氏である。以下の実施例に記載のセフェム
化合物は6−位置と7−位置トニR−配置をもち、また
以下の実施例に記載のアゼチジノン化合物は3−位置お
よび4−位置にR−配置をもつ。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, in which the temperature unit is Celsius. The cephem compounds described in the examples below have the toniR-configuration at the 6- and 7-positions, and the azetidinone compounds described in the examples below have the R-configuration at the 3- and 4-positions.

例  1 2−(4−(p−)ルエンスルホニルチオ)−3−フェ
ノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イル
)−3−(1−ピロリジル)−クロトンHp−ニトロベ
ンジルエステルと相当スるイソクロトン酸エステルとか
ら成る混合物160mg(0,23mモル)を乾燥アセ
トニトリル3 tal中に溶かした溶液を窒素雰囲気下
で80℃で約4時間、出発材料が薄層クロマトグラフ(
シリカゲル、トルエン/酢酸エチル1:1)で検出でき
なくなまで加熱する。加熱浴を取りはずし、7β−フェ
ノキシアセトアミド−3−ピロリジノ−セフェム−4−
カルボン酸p−ニトロベンジルエステルを含む前記反応
混合物にp−)ルエンスルホン酸(約0.23mモル)
と水0.2mJ!とを加え、この混合物を室温でさらに
2時間かきまぜる。この反応混合物をベンゼンで希釈し
、水で洗い、硫酸ナトリウム上で乾かし、真空中で蒸発
させる。残さを0℃でジエチルエーテルと粉砕すると青
黄色の7β−フェノキシアセトアミド−3−ヒドロキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステルが得られる。
Example 1 Isocrotonic acid corresponding to 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3-(1-pyrrolidyl)-croton Hp-nitrobenzyl ester A solution of 160 mg (0.23 mmol) of a mixture consisting of
Heat with silica gel, toluene/ethyl acetate 1:1) until undetectable. Remove the heating bath and add 7β-phenoxyacetamide-3-pyrrolidino-cephem-4-
p-)luenesulfonic acid (approximately 0.23 mmol) was added to the reaction mixture containing carboxylic acid p-nitrobenzyl ester.
And water 0.2mJ! and stir the mixture for an additional 2 hours at room temperature. The reaction mixture is diluted with benzene, washed with water, dried over sodium sulphate and evaporated in vacuo. The residue is triturated with diethyl ether at 0°C to give blue-yellow 7β-phenoxyacetamido-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester.

赤外線吸収スペクトル(塩化メチレン”) : 2.9
5 i3.3 ; 5.6 ; 5.75;(sh) 
; 5.9 ; 5.95 (sh)  ;6.55 
i 7.45 、8.15および8.3μに特性ハンド
、NMRスペクトル(ジューテロクロロホルム);δp
pm  ; 3.4 (2H,2,J= 17Hz) 
 ; 4.57(2H,s);5.06(IH,d;J
=5Hz);5.35 (2H,q、  J= 14H
z)  ; 5.7(L H,dd 。
Infrared absorption spectrum (methylene chloride): 2.9
5 i3.3; 5.6; 5.75; (sh)
; 5.9 ; 5.95 (sh) ; 6.55
Characteristic hand at i 7.45, 8.15 and 8.3μ, NMR spectrum (deuterochloroform); δp
pm; 3.4 (2H, 2, J = 17Hz)
; 4.57 (2H, s); 5.06 (IH, d; J
= 5Hz); 5.35 (2H, q, J = 14H
z) ; 5.7 (L H, dd.

J=5.10Hz)  ; 6.8〜8.4 (10H
,c)および11.4 (L H,br、 s、)。
J=5.10Hz); 6.8~8.4 (10H
, c) and 11.4 (L H, br, s,).

出発材料は次のようにして製造することができる。The starting material can be produced as follows.

(a)6−フニノキシアセトアミドペニシラン酸1β−
オキシド36.6g (0,1モル)、トリエチルアミ
ン11.1 ml  (0,11モル)およびp−ニト
ロヘンシルプロミド23.8 g (0,11モル)を
ジメチルホルムアミド200 mllに溶かした溶液を
窒素雰囲気下で4時間室温でかきまぜる。次に反応溶液
を氷水1.5β中に入れ、沈澱をろ過し、乾かしてから
酢酸エチル/塩化メチレンから2回再結晶する。無色の
結晶性6−フエツキシアセトアミドペニシラン酸p−ニ
トロベンジルエステル1β−オキシドは179〜180
℃で融ける。
(a) 6-funinoxyacetamidopenicillanic acid 1β-
A solution of 36.6 g (0.1 mol) of oxide, 11.1 ml (0.11 mol) of triethylamine and 23.8 g (0.11 mol) of p-nitrohensylbromide in 200 ml of dimethylformamide was prepared. Stir at room temperature for 4 hours under nitrogen atmosphere. The reaction solution is then poured into ice water 1.5β, the precipitate is filtered, dried and recrystallized twice from ethyl acetate/methylene chloride. Colorless crystalline 6-phethoxyacetamidopenicillanic acid p-nitrobenzyl ester 1β-oxide is 179-180
Melts at °C.

(b)6−フエツキシアセトアミドペニシラン酸p−ニ
トロベンジルエステル1β−オキシド5.01g(10
mモル)と2−メルカプトベンズチアゾール1.67g
 (10mモル)を乾燥トルエン110iに溶かした溶
液を窒素雰囲気下で還流下で4時間沸とうさせる。この
溶液を蒸留により約25m1に濃縮し、エーテル約10
0 wllで希釈する。分離する生成物を塩化メチレン
/エーテルから再結晶すれば2− (4−(ベンズチア
ゾール−2−イルジチオ)−3−フェノキシアセトアミ
ド−2−オキソアゼチジン−1−イル〕−3−メチレン
ー酪酸p−二トロベンジルエステルが得られる。融点は
138〜141’Cである。
(b) 5.01 g (10
mmol) and 1.67 g of 2-mercaptobenzthiazole
A solution of (10 mmol) in 110 i of dry toluene is boiled under reflux for 4 hours under a nitrogen atmosphere. This solution was concentrated by distillation to about 25 ml and the ether was concentrated to about 10 ml.
Dilute with 0 wll. Recrystallization of the separated product from methylene chloride/ether yields p-nitro 2-(4-(benzthiazol-2-yldithio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl]-3-methylene-butyric acid. A benzyl ester is obtained, with a melting point of 138-141'C.

(C)2−(4−(ベンズチアゾール−2−イル−ジチ
オ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチ
ジン−1−イル〕−3−メチレンー酪酸p−ニトロベン
ジルニス3.25g (5,0mモル)をアセトン/水
9 : 1  (v/ v) 200mj!溶かした溶
液に微細に粉末化した硝酸銀1.06gを加える。その
直後にp−トルエンスルフィン酸ナトリウム890■(
5mモル)を前記と同じ溶媒混合物100mf中溶かし
た溶液を1.0分間かけて加える。すぐに青黄色の沈澱
が形成される。室温で1時間かきまぜてからこの混合物
をろ過し、セライト(Ce l i te)を加える。
(C) 2-(4-(benzthiazol-2-yl-dithio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl]-3-methylene-butyric acid p-nitrobenzyl varnish 3.25 g (5.0 mmol) ) in acetone/water 9:1 (v/v) 200 mj! Add 1.06 g of finely powdered silver nitrate to the dissolved solution. Immediately after that, add 890 mj of sodium p-toluenesulfinate (
A solution of 5 mmol) in 100 mf of the same solvent mixture as above is added over 1.0 min. A blue-yellow precipitate forms immediately. After stirring for 1 hour at room temperature, the mixture is filtered and Celite is added.

ろ液を水で希釈しエーテルで2回抽出する。いっしょに
混ぜたエーテル抽出物を硫酸ナトリウム上で乾かし、濃
縮すれば青黄色の固体の2− (4−(p−トルエンス
ルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オ
キソアゼチジン−1−イル〕−3−メチレン酪酸p−ニ
トロペンシルエステルが得られる。
The filtrate is diluted with water and extracted twice with ether. The combined ethereal extracts were dried over sodium sulfate and concentrated to give a blue-yellow solid, 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3. -methylenebutyric acid p-nitropencyl ester is obtained.

薄層クロマトグラフ(シリカゲル、トルエン/酢酸x−
f−ル2 : 1): Rf値= 0.24 ;赤外線
吸収スペクトル(CH2Cf Z中)  : 3.90
.5゜56.5.70.5.87.6,23.6.53
.6.66.7.40.7.50.8.10.8.72
.9.25および10.95μに特性バンド。
Thin layer chromatography (silica gel, toluene/acetic acid x-
F-R2: 1): Rf value = 0.24; Infrared absorption spectrum (in CH2Cf Z): 3.90
.. 5゜56.5.70.5.87.6, 23.6.53
.. 6.66.7.40.7.50.8.10.8.72
.. Characteristic bands at 9.25 and 10.95μ.

この生成物は更に精製しないで次の反応に使うことがで
きる。
This product can be used in the next reaction without further purification.

前記と同じ化合物を次の方法によっても製造することが
できる。
The same compound as above can also be prepared by the following method.

(c−i)アセトン/水9 : 1 (v/v) 20
0 ml!中の2− (4−(ベンズチアゾール−2−
イルジチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキ
ソアゼチジン−1−イルシー3−メチレン酪酸p−ニト
ロベンジル3.25g (5,0mモル)の溶液中にp
−)ルエンスルフィンam 1.58 g (1,2当
量)を10分間かけて滴加する。この懸濁液を室温で1
時間かきまぜて、ろ過し、更に例の1の(C)に記載し
たとおりに操作する。2−〔4=(p−トルエンスルホ
ニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソ
アゼチジン−1−イルツー3−メチレン酪酸p−ニトロ
ベンジルエステルが定量的に得られる。
(c-i) Acetone/water 9:1 (v/v) 20
0ml! 2- (4-(benzthiazole-2-
In a solution of 3.25 g (5.0 mmol) of p-nitrobenzyl 3-methylenebutyrate, p.
-) Luensulfine am 1.58 g (1.2 eq.) is added dropwise over a period of 10 minutes. This suspension was mixed at room temperature for 1
Stir for a period of time, filter and proceed as described in Example 1 (C). 2-[4=(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-methylenebutyric acid p-nitrobenzyl ester is obtained quantitatively.

を組合せれば無色の沈澱として得られる。その生成物を
真空中で24時間乾かす。
When combined, a colorless precipitate is obtained. The product is dried in vacuo for 24 hours.

(c −ii )例1の(c−i)と同様の方法により
、2−(4−(ベンズチアゾール−2−イルジチオ)−
3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−
1−イル〕−3−メチレン酪酸p−ニトロヘンシルエス
テル3.25gとジーp−トルエンスルフィン酸銅(I
[)  1.87g  (2当量)とからでも2− (
4−(p−トルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシ
アセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イル〕−3
−メチレン酪酸p−ニトロヘンシルエステルを定量的に
得ることができる。
(c-ii) 2-(4-(benzthiazol-2-yldithio)-
3-phenoxyacetamide-2-oxoazetidine-
1-yl]-3-methylenebutyric acid p-nitrohensyl ester and copper p-toluenesulfinate (I
[) 1.87g (2 equivalents) and Karademo 2- (
4-(p-Toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl]-3
-methylenebutyric acid p-nitrohensyl ester can be obtained quantitatively.

ジ−p−トルエンスルフィン酸1m (11) ハ硫酸
銅とp−トルエンスルフィン酸ナトリウム(2当量)と
を水中で対応させて得る。ろ過した後、その塩を真空中
で1z時間60℃で乾力ゝす。
Di-p-toluenesulfinic acid 1m (11) Obtained by combining copper halosulfate and sodium p-toluenesulfinate (2 equivalents) in water. After filtration, the salt is dried in vacuo at 60°C for 1z hours.

(c −iii )例1の(c−i)と同様の方法で、
2−〔4−(ベンズチアゾール−2−イルジチオ)−3
−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1
−イルツー3−メチレン酪酸p−ニトロベンジルエステ
ル130+wgとジーp−)ルエンスルフィン酸錫(I
I)  85mg (2当量)とカラでも2− (4−
(p−)ルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシアセ
トアミド−2−オキソアゼチジン−1−イルツー3−メ
チレン酪酸p−ニトロベンジルエステルを得ることがで
きる。
(c-iii) In a similar manner to (c-i) of Example 1,
2-[4-(Benzthiazol-2-yldithio)-3
-Phenoxyacetamide-2-oxoazetidine-1
-yl2-3-methylenebutyric acid p-nitrobenzyl ester 130+wg and p-)tin luenesulfinate (I
I) 85 mg (2 equivalents) and 2- (4-
(p-)Luensulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-methylenebutyric acid p-nitrobenzyl ester can be obtained.

ジ−p−1−ルエンスルフイン酸錫(Il)は塩化錫(
n)(2H20)とp−トルエンスルフィン酸ナトリウ
ムとを水中で反応させて得る。
Tin di-p-1-luenesulfinate (Il) is tin chloride (
Obtained by reacting n) (2H20) with sodium p-toluenesulfinate in water.

ろ過して水で洗った後、その塩を真空中で約12時間5
0〜60℃で乾かす。
After filtering and washing with water, the salt was stored in vacuum for about 12 hours.
Dry at 0-60°C.

(c−iv)例1の(c−i)と同様に、2−C4−(
ベンズチアゾール−2−イルジチオ)−3−フェノキシ
アセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イルツー3
−メチレン酪酸p−ニトロベンジルエステル130n+
gとジ−p−トルエンスルフィン酸水銀(II) 10
2mg  (2当量)とからでも2− (4−(p−ト
ルエンスルホニルチオ)=3−フェノキシアセトアミド
−2−オキソアゼチジン−1−イルツー3−メチレン酪
酸p−ニトロベンジルエステルを得ることができる。
(c-iv) Similar to (c-i) of Example 1, 2-C4-(
Benzthiazol-2-yldithio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl23
-methylenebutyric acid p-nitrobenzyl ester 130n+
g and mercury(II) di-p-toluenesulfinate 10
2 mg (2 equivalents) of 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)=3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-methylenebutyric acid p-nitrobenzyl ester) can be obtained even from 2 mg (2 equivalents).

ジーp−)ルエンスルフイン酸水SM (II ) ハ
’;酢t’l水SR(■)とp−トルエンスルフィン酸
ナトリウムを水中で反応させて得る。ろ過し水で洗って
から、その塩を真空中で約12時間50〜60℃で乾か
す。
p-)Toluenesulfinic acid water SM (II) c'; Obtained by reacting vinegar t'l water SR (■) and sodium p-toluenesulfinate in water. After filtering and washing with water, the salt is dried in vacuo at 50-60° C. for about 12 hours.

(c−v)1.2−ジメトキシエタン(またはジオキサ
ン)10mj!中の6−フニノキシアセトアミドベニシ
ラン酸p−ニトロヘンジルエステノ′1β−オキシド5
17mg (1,02mモル)とp−トルエンスルフィ
ン酸187mg (1,2mモル)との溶液を還流下で
4.5時間3Aモレキュラーシーブ3.5gの存在下で
そして窒素雰囲気下で加熱し、次に1.2−ジメトキシ
エタン2tailに溶かしたp−1−ルエンスルフィン
酸308mg (1,98mモル)を45分間隔で5回
に分けて更に加える。4.5時間後、反応混合物を5%
強度の重炭酸ナトリウム水溶液100 mji中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出する。いっしょに合せた有機相を水
と塩化ナトリウム飽和水溶液とで洗い、硫酸マグネシウ
ム上で乾かし、蒸発する。残さをシリカゲル薄層クロマ
トグラフ(トルエン/酢酸エチル2:1)でクロマトグ
ラフ処理すれば2−〔4−p−トルエンスルホニルチオ
)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジ
ン−1−イル〕−3−メチレン酪酸p−ニトロヘンシル
エステルが得られる。
(c-v) 10 mj of 1,2-dimethoxyethane (or dioxane)! 6-Funinoxyacetamidobenicillanic acid p-nitrohendylaceteno'1β-oxide 5
A solution of 17 mg (1,02 mmol) and 187 mg (1,2 mmol) of p-toluenesulfinic acid was heated under reflux for 4.5 hours in the presence of 3.5 g of 3A molecular sieves and under a nitrogen atmosphere, and then Then, 308 mg (1,98 mmol) of p-1-luenesulfinic acid dissolved in 2 tails of 1,2-dimethoxyethane was further added in 5 portions at 45 minute intervals. After 4.5 hours, the reaction mixture was reduced to 5%
Pour into 100 mji of strong aqueous sodium bicarbonate solution and extract with ethyl acetate. The combined organic phases are washed with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulphate and evaporated. Chromatography of the residue with silica gel thin layer chromatography (toluene/ethyl acetate 2:1) yields 2-[4-p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl]-3- Methylene butyric acid p-nitrohensyl ester is obtained.

(c−vi)過酸化物を含まない乾燥ジオキサン2m/
中の6−フニノキシアセトアミドペニシラン酸p−ニト
ロベンジルエステル1β−オキシド250mg  (0
,5mモル)とp−トルエンスルホニルシアニド110
mg (0,61mモル)とベンジル−トルエチルアン
モニウムクロリド5mg (0,022mモル)との混
合物をアルゴン雰囲気下で4.5時間110℃でかきま
ぜる。溶媒を真空下で除去し、残留黄色油を酸洗浄シリ
カゲル上でクロマトグラフ処理する。トルエン中の30
%酢酸エチルで溶離すれば2− (4−(p−トルエン
スルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−
オキソアゼチジン−1−イル)−3−メチレンe1M6
Rp−ニトロベンジルエステルが得られる。
(c-vi) peroxide-free dry dioxane 2 m/
250 mg of 6-funinoxyacetamidopenicillanic acid p-nitrobenzyl ester 1β-oxide
, 5 mmol) and p-toluenesulfonyl cyanide 110
A mixture of 5 mg (0.022 mmol) of benzyl-toluethylammonium chloride and 5 mg (0.022 mmol) of benzyl-toluethylammonium chloride is stirred at 110 DEG C. for 4.5 hours under an argon atmosphere. The solvent is removed under vacuum and the residual yellow oil is chromatographed on acid-washed silica gel. 30 in toluene
Elution with % ethyl acetate yields 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamide-2-
Oxoazetidin-1-yl)-3-methylene e1M6
Rp-nitrobenzyl ester is obtained.

(c −vi )純粋なジオキサン1 mll中のp−
トルエンスルホニルアニドL10+++g (0,61
mモル)とテトラエチルアンモニウムプロミド4.5 
mg(0,021mモル)との混合物をアルゴン雰囲気
下で110℃で30分間かきまぜる。次にジオキサンl
ll16中の6−フニノキシアセトアミドペニシラン酸
p−ニトロベンジルエステル1β−オキシド250mg
  (0,5mモル)の懸濁液を加え、得られた溶液を
アルゴン雰囲気下で4時間110℃でかきまぜる。溶媒
を真空中で除去し、粗生成物を酢酸エチルに溶かし、そ
の溶液を水と塩化ナトリウム飽和水溶液とで洗う。有機
相を硫酸マグネシウムで乾かし、真空中で溶媒を除けば
、粗製の2− (4−(p −トルエンスルホニルチオ
)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジ
ン−1−イル〕−3−メチレン酪酸p−ニトロベンジル
エステルが得られる。
(c-vi) p- in 1 ml of pure dioxane
Toluenesulfonylanide L10+++g (0,61
mmol) and tetraethylammonium bromide 4.5
mg (0.021 mmol) is stirred for 30 minutes at 110° C. under an argon atmosphere. Then dioxane l
250 mg of 6-funinoxyacetamidopenicillanic acid p-nitrobenzyl ester 1β-oxide in ll16
(0.5 mmol) is added and the resulting solution is stirred at 110° C. for 4 hours under an argon atmosphere. The solvent is removed in vacuo, the crude product is dissolved in ethyl acetate and the solution is washed with water and saturated aqueous sodium chloride solution. The organic phase is dried with magnesium sulfate and the solvent is removed in vacuo to give the crude 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl]-3-methylenebutyric acid p -Nitrobenzyl ester is obtained.

(d)  乾燥酢酸メチル30mf中の2− (4−(
p−トルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシアセト
アミド−2−オキソアゼチジン−1−イルツー3−メチ
レン酪酸p−ニトロベンジルエステル1.92g (3
,0mモル)の溶液中にオゾン1.1当量を一78℃で
33分間かけて通す。その後すぐに、過剰のオゾンを窒
素流で除去する(−78℃、15分間)、ジメチルスル
フィド2.2n+j!(10当量)を加え、溶液を室温
まで暖ためる。5時間放置した後、溶媒を真空中で蒸発
させ、残った無色の油をベンゼン100 mlに取る。
(d) 2-(4-(
p-Toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-methylenebutyric acid p-nitrobenzyl ester 1.92 g
, 0 mmol) of ozone is passed through the solution at -78° C. for 33 minutes. Immediately thereafter, excess ozone is removed with a stream of nitrogen (-78°C, 15 min), dimethyl sulfide 2.2n+j! (10 eq.) and warm the solution to room temperature. After standing for 5 hours, the solvent is evaporated in vacuo and the remaining colorless oil is taken up in 100 ml of benzene.

そのベンゼン溶液を塩化ナトリウム飽和溶液501Il
ずつで3回洗い、硫酸マグネシウム上で乾かし、真空中
で乾燥するまで濃縮する。残さをトルエンから再結晶す
れば2−〔4−(p−トルエンスルホニルチオ)−3−
フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−
イル〕−3−ヒドロキシクロトン酸p−ニトロベンジル
エステルが得られる。融点は159〜160℃である。
The benzene solution was added to 501 Il of a saturated sodium chloride solution.
Wash three times, dry over magnesium sulfate, and concentrate to dryness in vacuo. Recrystallizing the residue from toluene yields 2-[4-(p-toluenesulfonylthio)-3-
Phenoxyacetamide-2-oxoazetidine-1-
]-3-hydroxycrotonic acid p-nitrobenzyl ester is obtained. The melting point is 159-160°C.

(d−i)例1の(c−vi)で得られる粗製の2−(
4−(p−)ルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシ
アセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イルツー3
−メチレン酪酸p−ニトロベンジルエステルを酢酸メチ
ル20mA中に溶かし、−70℃でオゾン化する。オゾ
ン化は薄層クロマトグラフで出発材料が認められなくな
るまで行う。次に窒素流をその溶液に通し、その溶液は
0〜5℃に暖ためる。水5 mll中の重亜硫酸ナトリ
ウム300++gの溶液を加え、その混合物を約5分間
もはやオシニドがヨウ化カリウム/でん検紙で検出でき
なくなるまでかきまぜる。混合物を酢酸エチルで希釈し
、水性相を分離し、有機相を水で洗い、硫酸マグネシウ
ム上で乾かし、真空中で溶媒を除く。粗生成物を塩化メ
チレン3m7i中溶かし、トルエン15aj!を加える
。沈澱をろ過し、ろ液を真空中で蒸発させる。残さをメ
タノールから再結晶すると2− C4−(p−トルエン
スルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−
オキシアゼチジン−1−イルツー3−ヒドロキシクロト
ン酸p−ニトロベンジルエステルが得られる。融点は1
59〜160℃である。
(d-i) Crude 2-( obtained in (c-vi) of Example 1
4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl23
- Methylenebutyric acid p-nitrobenzyl ester is dissolved in 20 mA of methyl acetate and ozonated at -70°C. Ozonation is carried out until no starting material is detected by thin layer chromatography. A stream of nitrogen is then passed through the solution and the solution is warmed to 0-5°C. A solution of 300++ g of sodium bisulfite in 5 ml of water is added and the mixture is stirred for about 5 minutes until no more ocinide can be detected on the potassium iodide/starch paper. The mixture is diluted with ethyl acetate, the aqueous phase is separated, the organic phase is washed with water, dried over magnesium sulphate and freed from the solvent in vacuo. The crude product was dissolved in 3m7i of methylene chloride and 15aj! of toluene. Add. Filter the precipitate and evaporate the filtrate in vacuo. Recrystallization of the residue from methanol yields 2-C4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamide-2-
Oxyazetidin-1-yl-3-hydroxycrotonic acid p-nitrobenzyl ester is obtained. The melting point is 1
The temperature is 59-160°C.

tel  乾燥ピリジン5 ml中の2−(4−(p−
トルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミ
ド−2−オキソアゼチジン−1−イルツー3−ヒドロキ
シクロトン酸p−ニトロベンジルエステル641mg 
(1mモル)の溶液をアセトン/氷浴中で一10℃に冷
やし、p−トルエンスルホニルクロリド285+wg 
(1,5mモル)を加え、その混合物を窒素雰囲気下で
約5時間もはや出発材料が薄層クロマトグラフ(シリカ
ゲル:トルエン/酢酸エチル1:1)で検出できなくな
るまでかきまぜる。反応溶液をベンゼン50mj!で希
釈し、水、水冷10%クエン酸水溶液および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で洗い、硫酸ナトリウム上で乾かし、真
空中で蒸発させる。青黄色の2−(4−(p−)ルエン
スルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−
オキソアゼチジン−1−イル)−3−p−トルエンスル
ホニルオキシ−クロトン酸p−ニトロベンジルエステル
が得られ、これはその後の工程に対し充分純粋である。
tel 2-(4-(p-
Toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl2-3-hydroxycrotonic acid p-nitrobenzyl ester 641 mg
A solution of (1 mmol) was cooled to -10°C in an acetone/ice bath and 285+wg of p-toluenesulfonyl chloride was added.
(1.5 mmol) is added and the mixture is stirred under a nitrogen atmosphere for about 5 hours until no starting material can be detected anymore by thin layer chromatography (silica gel: toluene/ethyl acetate 1:1). Add 50 mj of benzene to the reaction solution! diluted with water, washed with water, water-cooled 10% aqueous citric acid solution and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over sodium sulfate and evaporated in vacuo. Blue-yellow 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamide-2-
Oxoazetidin-1-yl)-3-p-toluenesulfonyloxy-crotonic acid p-nitrobenzyl ester is obtained, which is sufficiently pure for further processing.

赤外線吸収スペクトル(塩化メチレン):特性バンドは
5.6;5、8 G 5.9 ; 6.55 i 7.
45 i 8.55および8.75μ;NMRスペクト
ル(ジューテロクロロホルム):δppn+  : 2
.4 (6H,s)  ; 2.45 (3H,s) 
 ;4.4 (2H,q、J=15Hz);5.3  
(2H。
Infrared absorption spectrum (methylene chloride): Characteristic bands are 5.6; 5, 8 G 5.9; 6.55 i 7.
45 i 8.55 and 8.75μ; NMR spectrum (deuterochloroform): δppn+: 2
.. 4 (6H, s); 2.45 (3H, s)
;4.4 (2H, q, J=15Hz);5.3
(2H.

s)  ; 5.3 (I H,dd、  J =5.
10Hz) ; 5.8(IHd;J=5Hz)および
6.6〜8.4(18H,c)。
s); 5.3 (I H, dd, J = 5.
10Hz); 5.8 (IHd; J=5Hz) and 6.6-8.4 (18H,c).

(fl  乾燥テトラヒドロフラン2m7!中の2−〔
4−<p−トルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシ
アセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イル)−3
−p−)ルエンスルホニルオキシークロトン酸p−ニト
ロベンジルエステル80mg (0,1mモル)および
ピロリジン0.0175m1  (0,21mモル)の
溶液を窒素雰囲気下で約1時間もはや出発材料が薄層ク
ロマトグラフ(シリカゲル:トルエン/酢酸エチル1:
1)で検出できなくなるまでかきまぜる。反応混合物を
ベンゼン10m1で希釈し、塩化ナトリウム飽和水溶液
5 mlで2回洗い、硫酸ナトリウム上で乾かし、真空
中で蒸発する。残さをトルエン/酢酸エチル1:1でシ
リカゲルの薄層クロマトグラフにかければ、無色の2−
 (4−(p−トルエンスルホニルチオ)−3−フェノ
キシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イル)
−3−(1−ピロリジル)−クロトン酸p−ニトロベン
ジルエステルおよびその相当するイソクロトン酸エステ
ルから成る混合物が得られる。赤外線吸収スペクトル(
塩化メチレン)  : 5.6 i 5.95 ; 6
.55 、7.45および8.75μに特性バンド; 
 NMRスペクトル(ジューテロクロロホルム):δp
pm : 1.6〜2.2および3.0〜3.8  (
8H,c)  ; 2.0Bおよび2.27 (3H,
s)  ;2゜38および2.39 (3H,s)  
; 4.42 (2H,q。
(fl 2-[ in 2 m7 of dry tetrahydrofuran!
4-<p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3
-p-) A solution of 80 mg (0.1 mmol) of luenesulfonyloxy-crotonic acid p-nitrobenzyl ester and 0.0175 ml (0.21 mmol) of pyrrolidine was heated under a nitrogen atmosphere for about 1 hour until the starting material was thin layer chromatographed. (Silica gel: toluene/ethyl acetate 1:
Stir until it can no longer be detected in step 1). The reaction mixture is diluted with 10 ml of benzene, washed twice with 5 ml of saturated aqueous sodium chloride solution, dried over sodium sulfate and evaporated in vacuo. Thin layer chromatography of the residue on silica gel in 1:1 toluene/ethyl acetate yields colorless 2-
(4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)
A mixture is obtained consisting of -3-(1-pyrrolidyl)-crotonic acid p-nitrobenzyl ester and its corresponding isocrotonic ester. Infrared absorption spectrum (
methylene chloride): 5.6 i 5.95; 6
.. Characteristic bands at 55, 7.45 and 8.75μ;
NMR spectrum (deuterochloroform): δp
pm: 1.6-2.2 and 3.0-3.8 (
8H, c); 2.0B and 2.27 (3H,
s); 2°38 and 2.39 (3H, s)
; 4.42 (2H, q.

J=15Hz);4.8〜6.0 (4H,c)および
6.6〜8.4 (14H,c)。
J=15Hz); 4.8-6.0 (4H, c) and 6.6-8.4 (14H, c).

同じ化合物を次のようにして製造することもできる。The same compound can also be prepared as follows.

(f−i)乾燥塩化メチレンS tel中の2−C4−
(p−トルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシアセ
トアミド−2−オキソアゼチジン−1−イルツー3−ヒ
ドロキシクロトン酸p−ニトロベンジルエステル256
mg (0,4mモル)の−10℃に冷やした溶液を窒
素雰囲気下でトリエチルアミン0.1115 ml  
(0,8mモル)と次にメタンスルホニルクロリド0.
062mj? (0,8mモル)で処理する。1時間後
、新しく蒸留したピロリジン0.104+++j!  
(1,24mモル)を加え、その混合物を一10℃で更
に2時間かきまぜる。反応溶液を塩化メチレン20mf
で希釈し、水15mlで3回洗い、硫酸ナトリウム上で
乾かし、真空中で蒸発する。残さをジエチルエーテルで
粉砕すれハ青黄色の2−(4−(p−)ルエンスルホニ
ルチオ)〜3−フェノキシアセトアミドー2−オキソア
ゼチジン−1−イル) −3−(1〜ピロリジル)−ク
ロトン酸p−ニトロベンジルエステルおよびその相当す
るイソクロトン酸p−ニトロベンジルエステルから成る
混合物力ゝ得られ、これはそのままの形で次の段階で使
うことができる。(IRスペクトル二特徴的バンド5.
6.5.95.6.55.7.45及び8.75μ)。
(fi) 2-C4- in dry methylene chloride S tel
(p-Toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl2-3-hydroxycrotonic acid p-nitrobenzyl ester 256
A solution of 0.4 mmol of triethylamine cooled to -10 °C was added with 0.1115 ml of triethylamine under a nitrogen atmosphere.
(0.8 mmol) and then 0.8 mmol of methanesulfonyl chloride.
062mj? (0.8 mmol). After 1 hour, 0.104+++j of freshly distilled pyrrolidine!
(1.24 mmol) is added and the mixture is stirred for a further 2 hours at -10°C. Add 20 mf of methylene chloride to the reaction solution.
Wash 3 times with 15 ml of water, dry over sodium sulfate and evaporate in vacuo. The residue was triturated with diethyl ether to give a blue-yellow 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3-(1-pyrrolidyl)-crotonic acid p. A mixture consisting of -nitrobenzyl ester and its corresponding isocrotonic acid p-nitrobenzyl ester is obtained, which can be used as such in the next step. (IR spectrum two characteristic bands 5.
6.5.95.6.55.7.45 and 8.75μ).

中間生成物として形成されるメタンスルホン酸エステル
は次のようにして分離または調製することができる。
The methanesulfonic acid ester formed as an intermediate product can be isolated or prepared as follows.

(f−ii)乾燥塩化メチレン1mβ中の2−(4−(
p−1ルエンスルホニルチオ)−3−フェノキシアセト
アミド−2−オキソアゼチジン−1−イル〕−3−ヒド
ロキシクロトン酸p−ニトロヘンシルエステル128n
+g (0,2mモル)の−10℃に冷やした溶液を窒
素雰囲気下でトリエチルアミン0.042m1(0,3
mモル)とメタンスルホニルクロリド0.017mf 
 (0,22mモル)とで処理し、その混合物を30分
間同じ温度でかきまぜる。反応混合物を塩化メチレン1
0m1で希釈し、塩化ナトリウム飽和水溶液10I11
7!で3回洗い、硫酸ナトリウム上で乾かし、真空中で
蒸発させる。2−(4−(p−)ルエンスルホニルチオ
)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジ
ン−1−イルツー3−メタンスルホニルオキシ−クロト
ン酸p−ニトロベンジルエステル トン酸エステルを含む残さば不安定であるのでクロマト
グラフによって精製することはできないが、以下の工程
〔例えば例1の(f−i)に使うには充分純粋である。
(f-ii) 2-(4-(
p-1ruenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl]-3-hydroxycrotonic acid p-nitrohensyl ester 128n
A solution of +g (0.2 mmol) cooled to -10°C was added with 0.042 ml (0.3 mmol) of triethylamine under a nitrogen atmosphere.
mmol) and methanesulfonyl chloride 0.017mf
(0.22 mmol) and the mixture is stirred for 30 minutes at the same temperature. The reaction mixture was diluted with methylene chloride 1
Dilute with 0 ml of saturated aqueous sodium chloride solution 10I11
7! Wash three times with water, dry over sodium sulfate and evaporate in vacuo. 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-methanesulfonyloxy-crotonic acid p-nitrobenzyl ester Remains containing tonic acid ester are unstable. Although it cannot be purified by chromatography, it is sufficiently pure to be used in the following steps, such as (fi) in Example 1.

赤外線吸収スペクトル(塩化メチレン):5、55 i
  5.7 ;  5.8 ; 6.55 ; 7.4
5 i 8.55および8、75μに特性バンド、  
NMRスペクトル(ジューテロクロロホルム:δI)l
)III  7 2.37 ( 3 H. s) ;2
、39および2.5  (3 H, s) ; 3.1
2および3.27( 3 H, s) ;4.39およ
び4.41 (2 H, s) ; 5.2(I H 
 dd, J −5.10Hz) ; 5.25 (2
 H,  s) ;5、88および5.95 (IH,
 d.J=5Hz)および6、6〜8.4  (1 5
H,  c)  。
Infrared absorption spectrum (methylene chloride): 5,55 i
5.7; 5.8; 6.55; 7.4
5 i 8.55 and 8,75μ characteristic band,
NMR spectrum (deuterochloroform: δI)
)III 7 2.37 (3 H.s);2
, 39 and 2.5 (3 H, s); 3.1
2 and 3.27 ( 3 H, s); 4.39 and 4.41 (2 H, s); 5.2 (I H
dd, J -5.10Hz); 5.25 (2
H, s); 5, 88 and 5.95 (IH,
d. J = 5Hz) and 6,6~8.4 (1 5
H, c).

例  2 2 − (4 − (p−1−ルエンスルホニルチオ)
−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン
−1−イル)−3−(N−メチルシクロへキシルアミノ
)−クロトン酸p−ニトロベンジルエステルと相当する
イソクロトン酸エステルとから成る混合物148mg 
( 0. 2 mモル)を乾燥アセトニトリル3 ml
中に溶かした溶液を窒素雰囲気下で80℃で約4時間、
出発材料が薄層クロマトグラフ(シリカゲル、トルエン
/酢酸エチル1:1)で検出できなくなるまで加熱する
。加熱浴を取りはずし、前記反応混合物にp−)ルエン
スルホン酸38mg(0.2mモル)と水約0.2mj
!とを加え、この混合物を室温でさらに2時間かきまぜ
る。この反応混合物をベンゼンで希釈し、水で洗い、硫
酸ナトリウム上で乾かし、真空中で蒸発させる。
Example 2 2-(4-(p-1-luenesulfonylthio)
-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3-(N-methylcyclohexylamino)-crotonic acid p-nitrobenzyl ester and the corresponding isocrotonic ester 148 mg
(0.2 mmol) in 3 ml of dry acetonitrile
The solution dissolved in
Heat until the starting material is no longer detectable by thin layer chromatography (silica gel, toluene/ethyl acetate 1:1). The heating bath was removed, and 38 mg (0.2 mmol) of p-)luenesulfonic acid and about 0.2 mj of water were added to the reaction mixture.
! and stir the mixture for an additional 2 hours at room temperature. The reaction mixture is diluted with benzene, washed with water, dried over sodium sulphate and evaporated in vacuo.

残さを0℃でジエチルエーテルと粉砕すると青黄色の7
β−フェノキシアセトアミド−3−ヒドロキシ−3−セ
フェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジルエステルが
得られる。
The residue was triturated with diethyl ether at 0°C to give a blue-yellow color 7.
β-phenoxyacetamido-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester is obtained.

赤外線吸収スペクトル(塩化メチレン):2.95;3
、3  ;  5.6;  5.75 (sh) ; 
5.9;5.95(sh) ;6.55。
Infrared absorption spectrum (methylene chloride): 2.95; 3
, 3; 5.6; 5.75 (sh);
5.9; 5.95 (sh); 6.55.

7、45; 8.15および8.3μに特性バンドi 
 NMRスペクトル(ジューテロクロロホルム);δp
pm  :3、4 (zH. q.J= 1 7Hz 
)  ; 4.57 (2H,s)  ;5、06 (
I H,  d,  J=5Hz )  ; 5.35
 (2H,  d。
7, 45; characteristic band i at 8.15 and 8.3μ
NMR spectrum (deuterochloroform); δp
pm: 3, 4 (zH. q. J= 1 7Hz
) ; 4.57 (2H,s) ; 5,06 (
IH, d, J=5Hz); 5.35
(2H, d.

J=14Hz);5.7 (IH,dd,J=5.10
Hz )  ; 6.8〜8.4 (1 0H, c 
)および11.4( I Hl br+ s.)。
J=14Hz); 5.7 (IH, dd, J=5.10
Hz); 6.8-8.4 (10H, c
) and 11.4 (I Hl br+ s.).

出発材料は次のようにして製造することができる。The starting material can be produced as follows.

ジアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イル)−
3−p−)ルエンスルホニルオキシークロトン酸p−ニ
トロベンジルエステル160mg ( 0. 2mモル
)の溶液に窒素雰囲気下でかきまぜなからN−メチル−
N−シクロヘキシルアミン0.056mj2(0,42
mモル)を加え、この混合物を更に約2時間もはや出発
材料が薄層クロマトグラフ(シリカゲル:トルエン/酢
酸エチル1:l)で検出できなくなるまで室温でかきま
ぜる。反応溶液をベンゼンで希釈し、水で数回洗い、硫
酸ナトリウム上で乾かし、真空中で蒸発する。残さをベ
ンゼン/酢酸エチル3:1で酸洗浄シリカゲル10gの
クロマトグラフにかける。2− (4−(p−トルエン
スルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−
オキソアゼチジン−1−イル〕−3−(N−メチルシク
ロへキシルアミノ)−クロトン61 p−ニトロベンジ
ルエステルおよびその相当するイソクロトン酸エステル
から成る混合物が青黄色油として得られる。赤外線吸収
スペクトル(塩化メチレン)  :2.95;  3.
4;  5.6;  5.8;6.55;7.4および
8.75μに特性バンド。
diacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-
N-methyl-
N-cyclohexylamine 0.056 mj2 (0,42
mmol) is added and the mixture is stirred for a further approximately 2 hours at room temperature until starting material can no longer be detected by thin layer chromatography (silica gel: toluene/ethyl acetate 1:l). The reaction solution is diluted with benzene, washed several times with water, dried over sodium sulfate and evaporated in vacuo. The residue is chromatographed on 10 g of acid-washed silica gel with benzene/ethyl acetate 3:1. 2- (4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamide-2-
A mixture of oxoazetidin-1-yl]-3-(N-methylcyclohexylamino)-croton 61 p-nitrobenzyl ester and its corresponding isocrotonic acid ester is obtained as a blue-yellow oil. Infrared absorption spectrum (methylene chloride): 2.95; 3.
Characteristic bands at 4; 5.6; 5.8; 6.55; 7.4 and 8.75μ.

例  3 例1に記載の方法により、2−(4−(p−トルエンス
ルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オ
キソアゼチジン−1−イルツー3−シクロヘキシルアミ
ノ−クロトン酸p−ニトロベンジルエステルおよびその
相当するイソクロトン酸エステルから出発して7β−フ
ェノキシアセトアミド−3−シクロへキシルアミノ−セ
フェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル(
2−および3−セフェム誘導体混合物)を製造し、そし
てそれから7β−フェノキシアセトアミド−3−ヒドロ
キシ−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステルを製造することができる。
Example 3 By the method described in Example 1, 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-cyclohexylamino-crotonic acid p-nitrobenzyl ester and its equivalents) 7β-phenoxyacetamido-3-cyclohexylamino-cephem-4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (
2- and 3-cephem derivative mixture) and from it 7β-phenoxyacetamido-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester.

出発材料は次のようにして製造することができる。The starting material can be produced as follows.

(a)  乾燥テトラヒドロフラン2 tsl中に溶か
した2−(4−(p−)ルエンスルホニルチオ)−3−
フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−
イル)−3−p−)ルエンスルホニルオキシークロトン
酸p−ニトロベンジルエステル160mg (0,2m
モル)の溶液を窒素雰囲気下でシクロヘキシルアミン0
.0577 ml  (0,5mモル)で処理し、この
混合物を室温で1時間かきまぜる。反応溶液をベンゼン
で希釈し、水で洗い、硫酸ナトリウム上で乾かし、真空
中で’9発させる。2−(4−(p−)ルエンスルホニ
ルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソア
ゼチジン−1−イルツー3−シクロヘキシルアミノ−ク
ロトン酸p−二トロ67ジルエステルとその相当するイ
ソクロトン酸エステルとから成る混合物を含む残さば精
製しないで以下の工程に使うことができる。赤外線吸収
スペクトル(塩化メチレン):2.9;3.4;5、6
 i 5.9 ; 6.0 ; 6.25 ; 6.5
5 ; 7.45 ; 8.10および8.75μに特
性ハンドi NMRスペクトル(ジューテロクロロホル
ム):δppm:1.8〜2.0  (11H,c )
 2.02 (3H,s)  ; 2.35(3H,s
);4.43(2H,s);4.95(IHdd、  
J 〜5.10Hz )  ; 5.1? (2H,s
) ; 5.80(IH,d、J=5Hz)および6.
6〜9.2(15H,c)。
(a) 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3- dissolved in 2 tsl of dry tetrahydrofuran.
Phenoxyacetamide-2-oxoazetidine-1-
yl)-3-p-)luenesulfonyloxy-crotonic acid p-nitrobenzyl ester 160 mg (0.2
cyclohexylamine (mol) solution under nitrogen atmosphere
.. 0577 ml (0.5 mmol) and stirred the mixture for 1 hour at room temperature. The reaction solution is diluted with benzene, washed with water, dried over sodium sulfate and evaporated in vacuo. Consisting of 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-cyclohexylamino-crotonic acid p-nitro67dyl ester and its corresponding isocrotonic acid ester The residue containing the mixture can be used in the following step without purification. Infrared absorption spectrum (methylene chloride): 2.9; 3.4; 5, 6
i 5.9; 6.0; 6.25; 6.5
Characteristic hand i NMR spectrum (deuterochloroform): δppm: 1.8-2.0 (11H,c) at 5; 7.45; 8.10 and 8.75μ
2.02 (3H, s); 2.35 (3H, s
); 4.43 (2H, s); 4.95 (IHdd,
J~5.10Hz); 5.1? (2H,s
); 5.80 (IH, d, J=5Hz) and 6.
6-9.2 (15H, c).

例4 (a)  乾燥クロロホルム10mA’中に7β−フェ
ノキシアセトアミド−3−ヒドロキシ−3−セフェム−
4−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル485mg
を溶かし0℃に冷やした溶液にエーテル性ジアゾメタン
溶液3IIl(0,5モル、1.5当量)を約10分間
かけて加える。その青黄色の溶液を0℃で1時間かきま
ぜ、過剰のジアゾメタンを除くために窒素を流し込み、
真空中で濃縮する。残さを塩化メチレンから再結晶すれ
ば7βフェノキシアセトアミド−3−メトキシ−3−セ
フェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジルエステルが
得られる。融点は140.5〜142℃である。
Example 4 (a) 7β-phenoxyacetamide-3-hydroxy-3-cephem- in 10 mA' of dry chloroform
4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester 485mg
An ethereal diazomethane solution 3IIl (0.5 mol, 1.5 equivalents) is added to the solution, which has been dissolved and cooled to 0° C., over about 10 minutes. The blue-yellow solution was stirred for 1 hour at 0°C and flushed with nitrogen to remove excess diazomethane.
Concentrate in vacuo. If the residue is recrystallized from methylene chloride, 7β phenoxyacetamido-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester is obtained. The melting point is 140.5-142°C.

同じ化合物が相転移触媒によって次のようにしてえるこ
とができる。
The same compound can be obtained by phase transfer catalysis as follows.

(a−i)4塩化炭素25+w6と水21m1lとの中
の7β−フェノキシアセトアミド−3−ヒドロキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジルエステ
ル4.85gの懸濁液を20℃で激しくかきまぜながら
連続的に重炭酸カリウム3.0gと硫酸ジメチル3.8
m/とテトラブチルアンモニウムプロミド1.93gと
で処理する。その混合物を20℃で4時間激しくかきま
ぜる。
(a-i) 7β-phenoxyacetamido-3-hydroxy-3 in 25+w6 carbon tetrachloride and 21 ml water
- A suspension of 4.85 g of cephem-4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester was continuously mixed with 3.0 g of potassium bicarbonate and 3.8 g of dimethyl sulfate while stirring vigorously at 20°C.
m/ and 1.93 g of tetrabutylammonium bromide. The mixture is stirred vigorously for 4 hours at 20°C.

水50II+7!で希釈した後、その混合物を塩化メチ
レン50mfで2回抽出する。抽出物を蒸発し、硫酸塩
上で乾かし、塩化メチレン/ジエチルエーテルから残さ
を再結晶すれば、7β−フェノキシアセトアミド−3−
メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベ
ンジルエステルが得られる。融点140.5〜142℃
Water 50II+7! After diluting with water, the mixture is extracted twice with 50 mf of methylene chloride. Evaporation of the extracts, drying over sulfate and recrystallization of the residue from methylene chloride/diethyl ether yields 7β-phenoxyacetamide-3-
Methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester is obtained. Melting point 140.5-142℃
.

tb+  メタノール/テトラヒドロフラン1:1の2
ml中に溶かした7β−フェノキシアセトアミド−3−
メトキシ−3−セフェム−4−カルボン61p−ニトロ
ベンジルエステル250mg (0,5mモル)の溶液
を同じ溶媒21中の5%バナジウム/木炭の混合物(こ
の混合物は大気圧下で1時間、前水素化しておく)に加
え、この反応混合物を室温で大気圧下で3時間水素化す
る。
tb+ methanol/tetrahydrofuran 1:1 2
7β-phenoxyacetamide-3- dissolved in ml
A solution of 250 mg (0.5 mmol) of methoxy-3-cephem-4-carvone 61p-nitrobenzyl ester was prepared in a 5% vanadium/charcoal mixture in the same solvent 21 (this mixture was prehydrogenated for 1 h at atmospheric pressure). ) and the reaction mixture is hydrogenated at room temperature and under atmospheric pressure for 3 hours.

ここで水素の理論量の約90%が摂取される。Approximately 90% of the theoretical amount of hydrogen is taken up here.

触媒をろ過し、ろ液を真空中で蒸発乾燥する。The catalyst is filtered and the filtrate is evaporated to dryness in vacuo.

残さを塩化メチレンIom/!中に取り、50%重炭酸
ナトリウム水溶液10n+!!で2回抽出する。いっし
ょに合せた重炭酸塩抽出物をQ ”cで希塩酸で中性に
し、塩化メチレン10mJで3回抽出する。有機相を硫
酸ナトリウム上で乾がし、真空中で溶媒を除く。クロロ
ホルム/ペンタンから結晶させると残さから7β−フェ
ノキシアセトアミド−3−メトキシ−3−セフェム−4
−カルボン酸が得られる。融点は173〜174℃であ
る。
The residue is methylene chloride Iom/! Take it inside and add 10n+ of 50% sodium bicarbonate aqueous solution! ! Extract twice. The combined bicarbonate extracts are neutralized with dilute hydrochloric acid at Q"c and extracted three times with 10 mJ of methylene chloride. The organic phase is dried over sodium sulfate and the solvent is removed in vacuo. Chloroform/pentane. When crystallized from the residue, 7β-phenoxyacetamide-3-methoxy-3-cephem-4
- A carboxylic acid is obtained. The melting point is 173-174°C.

(C1無水塩化メチレンI1m/中の7β−フェノキシ
アセトアミド−3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カ
ルボン酸2.55g(7mモル)とN。
(C1 2.55 g (7 mmol) of 7β-phenoxyacetamido-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid in 1 m/m of anhydrous methylene chloride and N.

N−ジメチルアニリン2.9 tail (22,4m
モル)との懸濁液にジメチル−ジクロルシラン0.7n
+j2(5,7mモル)を窒素雰囲気下で20℃で加え
次にその混合物を同じ温度で30分間かきまぜる。こう
して得られた透明な溶液を一20℃に冷やし、固体の5
塩化リン1.6g(7,7mモル)を加え、その混合物
を30分間かきまぜる。あらかじめ冷やしておいた(−
20℃)N、N−ジメチルアニリンO09mj!  (
7mモル) トn −ブタノール0.9ml!、との混
合物を同じ温度で2−3分間で加え、次にあらかじめ冷
やしておいた(−20℃)n−ブタノール10m#を速
やかに加え、次にその混合物を一20℃で20分間そし
て冷やさないで10分間かきまぜる。水0.4mAを約
−10℃で加え、その混合物を水浴(0℃)中で約10
分間かきまぜ、次にジオキサン11m1を加え、そして
0℃で更に10分間かきまぜた後で、トリーn−ブチル
アミン約4.5mAを(水で希釈した試料が一定のpH
値3.5を示すまで)滴加する。0℃で1時間かきまぜ
てから、沈澱をろ過し、ジオキサンで洗い、水/ジオキ
サンが再結晶する。こうして得られる7β−アミノ−3
−メトキシ−セフ−3−エム−4−カルボン酸塩酸塩ジ
オキサネートの融点は300℃以上である。薄層クロマ
トグラフ:Rf値=0.17(シリカゲル;系、n−ブ
タノール/4塩化炭素/メタノール/ぎ酸/水、30:
40:20:5:5)。
N-dimethylaniline 2.9 tail (22.4m
0.7 n of dimethyl-dichlorosilane in suspension with
+j2 (5.7 mmol) is added at 20° C. under nitrogen atmosphere and the mixture is stirred for 30 minutes at the same temperature. The clear solution thus obtained was cooled to -20°C and the solid 5
1.6 g (7.7 mmol) of phosphorus chloride are added and the mixture is stirred for 30 minutes. I chilled it in advance (-
20°C) N,N-dimethylaniline O09mj! (
7 mmol) n-butanol 0.9 ml! , at the same temperature for 2-3 minutes, then quickly add 10 m# of pre-chilled (-20°C) n-butanol, then let the mixture cool at -20°C for 20 minutes and cool. Stir for 10 minutes without stirring. Add 0.4 mA of water at about -10°C and store the mixture in a water bath (0°C) for about 100 mA.
After stirring for a minute, 11 ml of dioxane was added, and after stirring for a further 10 minutes at 0°C, about 4.5 mA of tri-n-butylamine (the sample diluted with water was at a constant pH) was added.
(until it shows a value of 3.5). After stirring for 1 hour at 0° C., the precipitate is filtered and washed with dioxane to recrystallize the water/dioxane. 7β-amino-3 thus obtained
-Methoxy-cef-3-em-4-carboxylic hydrochloride dioxanate has a melting point of 300°C or higher. Thin layer chromatography: Rf value = 0.17 (silica gel; system, n-butanol/carbon tetrachloride/methanol/formic acid/water, 30:
40:20:5:5).

(c−i)無水塩化メチレン(PzOs上で蒸留)47
mA中の93%7β−フェノキシアセトアミド−3−メ
トキシ−セフ−3−エム−4−カルボン酸11.75g
 (100%の10.93 gに相当)とN、N−ジメ
チルアニリン13.4mj! (12,73g )との
懸濁液を+20℃で窒素雰囲気下でジメチルジクロルシ
ラン3.6mj! (3,87g)で処理し、次にその
混合物を同じ温度で30分間かきまぜる。透明になった
溶液を−18”C(−19℃)に冷やし、固体の5塩化
リンフ、8gを加え、内部温度を一10℃に上げる。−
20℃の浴中で30分間かきまぜてから、約7分間かけ
て前記透明溶液を一20℃に冷やしたn−ブタノール(
無水、シラカン上で乾燥>41m(lとジメチルアニリ
ン4.4mA (4,18g)との混合物に滴加する。
(c-i) Anhydrous methylene chloride (distilled over PzOs) 47
11.75 g of 93% 7β-phenoxyacetamido-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid in mA
(equivalent to 10.93 g of 100%) and 13.4 mj of N,N-dimethylaniline! (12,73 g) was heated to +20°C under a nitrogen atmosphere with 3.6 mj of dimethyldichlorosilane! (3.87 g) and then stir the mixture for 30 minutes at the same temperature. Cool the clear solution to -18"C (-19°C), add 8 g of solid phosphoric pentachloride, and raise the internal temperature to -10°C.
After stirring in a 20°C bath for 30 minutes, the clear solution was mixed with n-butanol (cooled to -20°C) over about 7 minutes.
Add dropwise to a mixture of anhydrous, dried over silica >41 mA and 4.4 mA (4,18 g) of dimethylaniline.

内部温度は一8℃に上がる。その混合物を最初は一20
℃の浴で続いて水浴(0℃)で更に30分間かきまぜる
と、内部温度は最終的に−10℃になる。その温度じジ
オキサン47−と水1.6mj!との混合物を滴加する
(所要時間約5分)。すると生成物が徐々に析出する。
The internal temperature rises to -8°C. The mixture was initially mixed with 120
C. bath followed by a water bath (0.degree. C.) for an additional 30 minutes, the internal temperature finally reaches -10.degree. At that temperature, 47 mj of dioxane and 1.6 mj of water! Add the mixture dropwise (required time: approximately 5 minutes). The product then gradually precipitates out.

さらに10分間かきまぜてから、トリーn−ブチルアミ
ン約9.5n/!を約1時間かけて滴加する(最初の3
mlは最初の5分間に加える)ことによって水浴中で混
合物のpH値を2.2−2.4の間に調節し、その値を
保つ。次に生成物をろ過し、ジオキサン約30m1と次
に塩化メ千しン約15n/!とで少しずつ洗えば、結晶
性の7β−アミノ−3−メトキシ−セフ−3−エム−4
−カルボン酸塩酸塩ジオキサネートが得られる。融点は
300℃以上である。紫外線吸収スペクトル(0,1β
重炭酸ナトリウム中):λmax = 270mμ(ε
=7,600) i赤外線吸収スペクトル(ヌジョール
)  :  5.62  ;5.80;5.88;6.
26 ; 6.55 ; 7.03 : 7.45 ;
 7.72 ;7.96 i 8・14i8.26 i
 8.45 ; 8゜64 i 8.97 ; 9.2
9 ; 10.40および11.47mμに特性バンド
; 〔α〕菅=+134° ±1°(C=1i0.5N
重炭酸ナトリウム溶液)。
After stirring for another 10 minutes, about 9.5 n/! of tri-n-butylamine! dropwise over about 1 hour (first 3
ml during the first 5 minutes) and maintain the pH value of the mixture between 2.2 and 2.4 in a water bath. The product is then filtered, followed by about 30 ml of dioxane and then about 15 n/! of methichloride! If you wash it little by little with
-Carboxylic hydrochloride dioxanate is obtained. The melting point is 300°C or higher. Ultraviolet absorption spectrum (0,1β
in sodium bicarbonate): λmax = 270 mμ (ε
=7,600) i Infrared absorption spectrum (Nujol): 5.62; 5.80; 5.88; 6.
26; 6.55; 7.03: 7.45;
7.72 ;7.96 i 8・14i8.26 i
8.45; 8°64 i 8.97; 9.2
9; characteristic bands at 10.40 and 11.47 mμ; [α] tube = +134° ±1° (C = 1i0.5N
sodium bicarbonate solution).

7β−アミノ−3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カ
ルボン酸の双性イオンは前記の得られた塩酸塩ジオキサ
ネートの20%水溶性をpHサネートから得ることがで
きる。ろ過してから乾かせば、双性イオンの融点は30
0℃以上である。紫外線吸収スペクトル(0,IN重炭
酸ナトリウム溶液中)λmax = 270nm (ε
=7,600)。
The zwitterion of 7β-amino-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid can be obtained from the pH sanate with 20% water solubility of the hydrochloride dioxanate obtained above. If filtered and dried, the melting point of the zwitterion is 30.
The temperature is 0°C or higher. Ultraviolet absorption spectrum (in 0,IN sodium bicarbonate solution) λmax = 270 nm (ε
=7,600).

薄層クロマトグラフ:塩酸塩のRf値と同定されるRf
値(シリカゲル、前記の系);〔α〕廿=+232°±
1° (C=1;0.5N重炭酸ナトリウム溶液)。
Thin layer chromatography: Rf identified as Rf value of hydrochloride
Value (silica gel, above system); [α] = +232°±
1° (C=1; 0.5N sodium bicarbonate solution).

fdl  乾燥塩化メチレン20mz中の7β−アミノ
−3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カルボン酸塩酸
塩ジオキサネー) 1 g (2,82mモル)の?!
L、濁液にビス−(トリメチルシリル)−アセトアミド
1.65 earlを室温で窒素雰囲気下で加える。4
0分後退明な溶液を0℃に冷やし、固体のD−α−フェ
ニルグリシル酸クロリド塩酸塩900mg (4,37
mモル)を加える。5分後、プロピレンオキシド0.1
ml  (10mモル)を加える。次にその懸濁液を窒
素雰囲気下で1時間0℃でかきまぜ、その後メタノール
0.5111ffiを加えると7β−(D−α−フェニ
ルグリシルアミノ)−3−メトキシ−セフ−3−エム−
4−カルボン酸塩酸塩が結晶で沈澱する。その塩酸塩を
ろ過し、水9ml中に溶かし、溶液のpH値をIN水酸
化ナトリウム溶液で4.6に調節する。
fdl of 7β-amino-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic hydrochloride dioxane) 1 g (2,82 mmol) in 20 mz dry methylene chloride. !
L. Add 1.65 earl of bis-(trimethylsilyl)-acetamide to the suspension at room temperature under nitrogen atmosphere. 4
After 0 min, the bright solution was cooled to 0 °C and 900 mg of solid D-α-phenylglycylic acid chloride hydrochloride (4,37
mmol) is added. After 5 minutes, propylene oxide 0.1
ml (10 mmol) is added. The suspension was then stirred at 0° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere, after which 0.5111 ffi of methanol was added and 7β-(D-α-phenylglycylamino)-3-methoxy-cef-3-em-
The 4-carboxylic hydrochloride salt precipitates as crystals. The hydrochloride salt is filtered, dissolved in 9 ml of water and the pH value of the solution is adjusted to 4.6 with IN sodium hydroxide solution.

析出する7β−(D−α−フェニルグリシルアミノ)−
3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カルボン酸の分子
内塩の2水和物をろ過し、アセトンとジエチルエーテル
で洗って乾かす。融点は174〜176℃(分解を伴う
)。〔α〕萱=+132° (c=0.714  ;0
.IN塩酸中);薄層クロマトグラフ(シリカゲル) 
 : Rf (+!0.18(系、n−ブタノール/酢
酸/水、67:10:23)。紫外線吸収スペクトル(
0,IN重炭酸ナトリウム水溶液中)λIIIax =
 269μ(ε=7.000 )  i赤外線吸収スペ
クトル(鉱油中):5.72.5.94.6.23およ
び6.60μに特性ハンド。
Precipitated 7β-(D-α-phenylglycylamino)-
The dihydrate of the inner salt of 3-methoxy-ceph-3-em-4-carboxylic acid is filtered, washed with acetone and diethyl ether and dried. Melting point: 174-176°C (with decomposition). [α] 萱=+132° (c=0.714;0
.. IN hydrochloric acid); thin layer chromatography (silica gel)
: Rf (+!0.18 (system, n-butanol/acetic acid/water, 67:10:23). Ultraviolet absorption spectrum (
0,IN in aqueous sodium bicarbonate solution) λIIIax =
269μ (ε=7.000) i Infrared absorption spectrum (in mineral oil): characteristic hand at 5.72.5.94.6.23 and 6.60μ.

(d−i)塩化メチレンlo#If中の7β−アミノ−
3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カルボン酸(内部
塩) 993+++g (4,32mモル)の懸濁液に
N、N−ビス−(トリメチルシリル)−アセトアミド1
.37+wj!  (5,6mモル)を加え、その混合
物を窒素雰囲気下で45分間室温でかきまぜる。透明な
溶液を0℃に冷やし、D−α−フェニルグリシル酸ツク
ロリド塩酸塩111g(5,4mモル)を加える。5後
後プロピレンオキシド0.4r*It  (5,6mモ
ル)を加える。次にその懸濁液を窒素雰囲気下で1時間
0℃でかきまぜてから、メタノール0.6mfを加える
。析出する7β−(D−α−フェニルグリシルアミノ)
−3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カルボン酸塩を
ろ過し、0℃で水15mj!に溶かし、その溶液のpH
値をIN水酸化ナトリウム5IIllで約4に調節する
。溶液を室温に暖ため、溶液のpHをトリエチルアミン
で約4.8に調節すると7β−(D−α−フェニルグリ
シルアミド)−3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カ
ルボン酸が2水和物の形で析出する。
(d-i) 7β-amino- in methylene chloride lo#If
N,N-bis-(trimethylsilyl)-acetamide 1 was added to a suspension of 993+++ g (4.32 mmol) of 3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid (internal salt).
.. 37+wj! (5.6 mmol) is added and the mixture is stirred at room temperature for 45 minutes under nitrogen atmosphere. The clear solution is cooled to 0° C. and 111 g (5.4 mmol) of D-α-phenylglycylic acid tuchloride hydrochloride are added. After 5 hours, 0.4r*It (5.6 mmol) of propylene oxide is added. The suspension is then stirred for 1 hour at 0° C. under a nitrogen atmosphere before 0.6 mf of methanol is added. 7β-(D-α-phenylglycylamino) precipitates
-3-Methoxy-ceph-3-em-4-carboxylate was filtered and added with 15 mj of water at 0°C! and the pH of the solution
Adjust the value to about 4 with 5IIIL of IN sodium hydroxide. When the solution is warmed to room temperature and the pH of the solution is adjusted to about 4.8 with triethylamine, 7β-(D-α-phenylglycylamide)-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid is converted to dihydrochloride. It precipitates in the form of hydrate.

例5 2−(4−(p−)ルエンスルホニルチオ)=3−フェ
ノキシアセトアミド−3−オキソアゼチジン−1−イル
)−3−(1−ピロリジル)−クロトン酸ジフェニルメ
チルエステルと相当するイソクロトン酸エステルとから
成る混合物158.2g(0,2モル)を乾燥アセトニ
トリル1.500mA 中に溶かした溶液を窒素雰囲気
下で80℃で約5時間、出発材料が薄層クロマトグラフ
(シリカゲル、トルエン/酢酸エチル1:l)で検出で
きなくなるまで加熱する。加熱浴を取りははずし、7β
−フェノキシアセトアミド−3−ピロリジノ−セフェム
−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルを含む前記
反応混合物を0.1 N HC12200m1で処理し
、室温で更に3時間かきまぜる。反応混合物を真空中で
蒸発乾燥させる。
Example 5 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)=3-phenoxyacetamido-3-oxoazetidin-1-yl)-3-(1-pyrrolidyl)-crotonic acid diphenylmethyl ester and the corresponding isocrotonic ester A solution of 158.2 g (0.2 mol) of a mixture consisting of :1) until it becomes undetectable. Remove the heating bath and
The reaction mixture containing -phenoxyacetamido-3-pyrrolidino-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester is treated with 12200 ml of 0.1 N HC and stirred for a further 3 hours at room temperature. The reaction mixture is evaporated to dryness in vacuo.

残さを酢酸エチル中に取り、そして希硫酸、水、重炭酸
ナトリウム飽和水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液
で続けて洗い、硫酸ナトリ°ウム上で乾かす。溶液を真
空中で蒸発させ、粗製の7β−フェノキシアセトアミド
−3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステルをカラムクロマトグラフ(シリカ
ゲル;トルエン/酢酸エチル、4:1)で精製する。薄
層クロマトグラフ: Rf (!0.24 (シリカゲ
ル;トルエン/酢酸エチル、1:1)。
The residue is taken up in ethyl acetate and washed successively with dilute sulfuric acid, water, saturated aqueous sodium bicarbonate and saturated aqueous sodium chloride and dried over sodium sulfate. The solution is evaporated in vacuo and the crude 7β-phenoxyacetamide-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester is purified by column chromatography (silica gel; toluene/ethyl acetate, 4:1). Thin layer chromatography: Rf (!0.24 (silica gel; toluene/ethyl acetate, 1:1).

得られた生成物は次のように更に工程にかけることがで
きる。
The product obtained can be further processed as follows.

(i)得られた7β−フェノキシアセトアミド−3−ヒ
ドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルをメタノール中に取り、0℃でジアゾメタ
ンのエーテル性溶液の過剰量で処理する。5分間の反応
時間後、溶液を完全に濃縮し、油状残さをシリカゲルの
薄層クロマトグラフで処理する(トルエン/酢酸エチル
、3 : 1) 、 Rf =0.19のシリカゲルを
酢酸エチルで抽出すると7β−フェノキシアセトアミド
−3−メトキシ−セフ−3−エム−4−カルポン酸ジフ
エニルメチルエステルが得られる。融点120℃(エー
テルから)。赤外線吸収スペクトル(CHCl 3中)
  ;  3310.1775.1700.1690お
よび1600cse−’。
(i) The resulting 7β-phenoxyacetamide-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester is taken up in methanol and treated at 0° C. with an excess of an ethereal solution of diazomethane. After a reaction time of 5 min, the solution is completely concentrated and the oily residue is subjected to thin layer chromatography on silica gel (toluene/ethyl acetate, 3:1), when the silica gel with Rf = 0.19 is extracted with ethyl acetate. 7β-phenoxyacetamido-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester is obtained. Melting point 120°C (from ether). Infrared absorption spectrum (in CHCl3)
; 3310.1775.1700.1690 and 1600cse-'.

(ii )例4の(a−i)と同様に、得られか7β−
フェノキシアセトアミド−3−ヒドロキシ−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルを硫酸ジ
メチルおよび重炭酸カリウムとにより相転移法で7β−
フェノキシアセトアミド−3−メトキシ−セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルに変える
ことができる。
(ii) Similarly to (a-i) of Example 4, the obtained 7β-
Phenoxyacetamide-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester was prepared by a phase transfer method using dimethyl sulfate and potassium bicarbonate.
It can be converted to phenoxyacetamido-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester.

(iii )塩化メチレン5n+j!中の7β−フェノ
キシアセトアミド−3−メトキシ−セフ−3−エム−4
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル2.0 g (
3,78mモル)の溶液にアニソール0.87m1lを
加え、その混合物を0℃に冷やし、トリフルオル酢酸1
.2mlを加えてから1時間放置する。反応混合物を真
空中で濃縮し、残さをアセトン/エーテルから再結晶す
る。7β−フェノキシアセトアミド−3−メトキシ−セ
フ−3−エム−4−カルボン酸が得られる。融点は17
0℃(分解を伴う)である。
(iii) Methylene chloride 5n+j! 7β-phenoxyacetamido-3-methoxy-cef-3-em-4 in
-carboxylic acid diphenylmethyl ester 2.0 g (
0.87 ml of anisole was added to a solution of 3.78 mmol), the mixture was cooled to 0°C, and 1 liter of trifluoroacetic acid was added.
.. Add 2ml and leave for 1 hour. The reaction mixture is concentrated in vacuo and the residue is recrystallized from acetone/ether. 7β-phenoxyacetamido-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic acid is obtained. Melting point is 17
0°C (with decomposition).

出発材料は次の様に製造することができる。The starting material can be produced as follows.

(a)6−フエツキシアセトアミドペニシラン酸1β−
オキシド100g (27,3モル)とジオキサン50
0m+1とジフェニルメチルジアゾメタン58.4g(
30mモル)とから約2時間後に6−フニノキシアセト
アミドペニシラン酸ジフェニルメチルエステル1β−オ
キシドが得られる。融点144〜146℃(酢酸エチル
/石油エーテル)。
(a) 6-fethoxyacetamidopenicillanic acid 1β-
100 g (27.3 mol) of oxide and 50 g of dioxane
0m+1 and diphenylmethyldiazomethane 58.4g (
30 mmol), 6-funinoxyacetamidopenicillanic acid diphenylmethyl ester 1β-oxide is obtained after about 2 hours. Melting point 144-146°C (ethyl acetate/petroleum ether).

(b)  例1の(bJと同様にして、6−フエツキシ
アセトアミドペニシラン酸ジフェニルメチルエステル1
β−オキシド292g (55mモル)と2−メルカプ
トベンズチアゾール99g(59,5mモル)とから2
− (4−(ベンズチアゾール−2−イルジチオ)−3
−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1
−イルツー3−メチレン酪酸ジフェニルメチルエステル
が得られる。融点140〜141℃(トルエン/エーテ
ルがら)。
(b) 6-fethoxyacetamidopenicillanic acid diphenylmethyl ester 1 as in Example 1 (bJ)
292 g (55 mmol) of β-oxide and 99 g (59.5 mmol) of 2-mercaptobenzthiazole
- (4-(benzthiazol-2-yldithio)-3
-Phenoxyacetamide-2-oxoazetidine-1
-Il2-3-methylenebutyric acid diphenylmethyl ester is obtained. Melting point: 140-141°C (toluene/ether).

CC1例1の(C)と同様にして、酢酸エチル50II
IN中(7)2− (4−(ベンズチアゾール−2−イ
ルジチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソ
アゼチジン−1−イルゴー3−メチレン酪酸ジフェニル
メチルエステル10g(14゜7mモル) ト微粉末状
p −トルエンスルフィン酸銀4.92g (24,9
8mモル)とから室温で7時間かキマセて2−(4−(
p−)ルエンスルホニルーチオ)−3−フェノキシアセ
トアミド−2=オキソアゼチジン−1−イルゴー3−メ
チレン酪酸ジフェニルメチルエステルが得られる。
In the same manner as in (C) of CC1 Example 1, ethyl acetate 50II
(7) 2-(4-(benzthiazol-2-yldithio)-3-phenoxyacetamide-2-oxoazetidin-1-ylgo-3-methylenebutyric acid diphenylmethyl ester 10 g (14° 7 mmol) in IN) Fine powder p -Silver toluenesulfinate 4.92g (24,9
8 mmol) and 2-(4-(
p-)luenesulfonyl-thio)-3-phenoxyacetamide-2=oxoazetidin-1-ylgo-3-methylenebutyric acid diphenylmethyl ester is obtained.

Rf値=0.28(シリカゲル、トルエン/酢酸エチル
、3:1)、赤外線吸収スペクトル(CHCl 、):
 1782.1740.1695.1340および11
50C11−’。
Rf value = 0.28 (silica gel, toluene/ethyl acetate, 3:1), infrared absorption spectrum (CHCl, ):
1782.1740.1695.1340 and 11
50C11-'.

(d)  例1の(dlと同様にして、塩化メチレンl
l中の2− (4−(p−1−ルエンスルホニルチオ)
−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン
−1−イルゴー3−メチレン酪酸ジフェニルメチルエス
テル10.8 g (16,2mモル)とオソ゛ン1.
1当量とから2−(4−(p−)ルエンスルホニルチオ
)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジ
ン−1−イルツー3−ヒドロキシクロトン酸ジフェニル
メチルエステルが得られる。融点は142〜143℃(
エーテル/ペンタンから)。
(d) Methylene chloride l in the same manner as (dl) in Example 1.
2-(4-(p-1-luenesulfonylthio)) in l
10.8 g (16.2 mmol) of -3-phenoxyacetamide-2-oxoazetidin-1-ylgo-3-methylenebutyric acid diphenylmethyl ester and 1.0 g (16.2 mmol) of osone.
1 equivalent gives 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-hydroxycrotonic acid diphenylmethyl ester. The melting point is 142-143℃ (
from ether/pentane).

[e)  乾燥塩化メチレン500 vall中の2−
C4−(p−1−ルエンスルホニルチオ)−3−フェノ
キシアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イルツ
ー3−ヒドロキシクロトン酸ジフェニルメチルエステル
134.4g (0,2モル)の−10℃に冷やした溶
液を窒素雰囲気下でトリエチルアミン34.8m1(0
,25モル)と次にメタンスルホニルクロリド24.5
 ml (0,25モル)とで処理する。20分後、新
しく蒸留したピロリジン47 nil  (0,55モ
ル)を迎え、その混合物を一10℃で更に2時間半かき
まぜる。反応溶液を水1501mlで3回洗い、硫酸ナ
トリウム上で乾かし、真空中で蒸発する。残さを泡状に
乾燥させると青黄色の2−(4−(p−)ルエンスルホ
ニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソ
アゼチジン−1−イル〕−3−(1−ピロリジル)−ク
ロトン酸ジフェニルメチルエステルおよびその相当する
イソクロトン酸ジフェニルメチルエステルから成る混合
物が得られ、これはそのままの形で次の段階で使うこと
ができる。
[e) 2- in 500 vall of dry methylene chloride
A solution of 134.4 g (0.2 mol) of C4-(p-1-luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-hydroxycrotonic acid diphenylmethyl ester cooled to -10°C was Triethylamine 34.8ml (0
, 25 mol) and then methanesulfonyl chloride 24.5 mol)
ml (0.25 mol). After 20 minutes, 47 nil (0.55 mol) of freshly distilled pyrrolidine is introduced and the mixture is stirred at -10° C. for a further 2.5 hours. The reaction solution is washed three times with 1501 ml of water, dried over sodium sulfate and evaporated in vacuo. When the residue is dried to form a foam, a blue-yellow color of 2-(4-(p-)luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl]-3-(1-pyrrolidyl)-crotonate diphenyl is obtained. A mixture of the methyl ester and its corresponding isocrotonic acid diphenylmethyl ester is obtained, which can be used as such in the next step.

例6 例4の(dlと同様にして、本発明方法によって得るこ
とのできる7β−アミノ−3−メトキシ−セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸塩酸塩ジオキサネート1.16g(
3mモル)とビス−(トリメチルシリル)−アセトアミ
ド1.5*j!  (6,2mモル)とをまず反応させ
、次にその反応生成物と(a)  D−α−アミノ−(
2−チェニル)−酢酸クロリド塩酸塩765mg (3
,6mモル)とを反応させれば7β−〔D−α−アミノ
−α−(2−チェニル)−アセチルアミノコ−3−メト
キシ−3−セフェム−4−カルボン酸を分子内塩の形で
得ることができる。融点140℃(分解を伴う)。
Example 6 1.16 g of 7β-amino-3-methoxy-cef-3-em-4-carboxylic hydrochloride dioxanate (
3 mmol) and bis-(trimethylsilyl)-acetamide 1.5*j! (6.2 mmol), and then the reaction product and (a) D-α-amino-(
2-chenyl)-acetic acid chloride hydrochloride 765mg (3
, 6 mmol), 7β-[D-α-amino-α-(2-thenyl)-acetylaminoco-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid is reacted with Obtainable. Melting point 140°C (with decomposition).

1層クロマトグラフ(シリカゲル、ヨウ素で同定)  
: Rf 〜0.22 (系、n−ブタノール/酢酸/
水、67:10:23)およびRf〜0.53(系、イ
ソプロパツール/ぎ酸/水、77:4:19);紫外線
吸収スペクトル:λmax =235mμ(ε=11.
400)およびλ肩= 272 r@μ(ε=6.10
0) (0,I N塩酸中〕、およびλmax” 23
8 taμ(ε=11,800)およびλ肩= 267
+wμ(ε=6.500) (重炭酸ナトリウム水溶液
中〕。
Single layer chromatography (identified with silica gel, iodine)
: Rf ~0.22 (system, n-butanol/acetic acid/
water, 67:10:23) and Rf~0.53 (system, isopropanol/formic acid/water, 77:4:19); UV absorption spectrum: λmax = 235 mμ (ε = 11.
400) and λ shoulder = 272 r@μ(ε=6.10
0) (0,IN in hydrochloric acid), and λmax” 23
8 taμ (ε = 11,800) and λ shoulder = 267
+wμ(ε=6.500) (in aqueous sodium bicarbonate solution).

(bl  またD−α−アミノ−(1,4−シクロヘキ
サジェニル)−酢酸クロリド塩酸塩940 mg(4,
5mモル)とを反応させれば7β−CD−α−アミノ−
α−(1,4−シクロへキサジェニル)−アセチルアミ
ノコ−3−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸を
分子内塩の形で得ることができる。融点170℃(分解
を伴う)。
(bl also D-α-amino-(1,4-cyclohexagenyl)-acetic acid chloride hydrochloride 940 mg (4,
7β-CD-α-amino-
α-(1,4-cyclohexagenyl)-acetylaminoco-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid can be obtained in the form of an inner salt. Melting point: 170°C (with decomposition).

薄層クロマトグラフ(シリカゲル、ヨウ素で同定)  
: Rf 〜0.19 (系、n−ブタノール/酢酸/
水、67:10:23)およびRf〜0.58(系、イ
ソプロパツール/ぎ酸/水、77:4:19);紫外線
吸収スペクトル:λmax =267mμ(ε=6,3
00) (0,I N塩酸中〕、λwax= 268m
μ(ε=6.600) (0,I N重炭酸ナトリウム
水溶液〕、〔α〕智=十88°±1° (c=1.06
 i 0. I N塩酸)。
Thin layer chromatography (identified with silica gel, iodine)
: Rf ~0.19 (system, n-butanol/acetic acid/
water, 67:10:23) and Rf~0.58 (system, isopropanol/formic acid/water, 77:4:19); UV absorption spectrum: λmax = 267 mμ (ε = 6,3
00) (0,IN in hydrochloric acid), λwax = 268m
μ (ε = 6.600) (0, IN aqueous sodium bicarbonate solution), [α] = 188° ± 1° (c = 1.06
i0. IN hydrochloric acid).

(C)  またD−α−アミノ−4−ヒドロキシフェニ
ル酢酸クロリド塩酸塩800mg (3,6mモル)と
を反応させれば7β−〔D−α−アミノ−α−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−アセチルアミノコ−3−メトキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸を分子内塩の形で得る
ことができる。融点243〜244.5℃(231℃か
ら焼結が始まる)(分解を伴う)。薄層クロマトグラフ
(シリカゲル、ヨウ素で同定) : Rf−0,24(
系、n−ブタノール/酢酸/水、67 : 10 : 
23)およびRf〜0.57(系、イソプロパツール/
ぎ酸/水、77:4:19);紫外線吸収スペクトル:
λIIIax =228 mμ(ε=12,000)お
よび271 mμ(ε=6.900)  (0,I N
塩酸中〕、およびλwax = 227mμ(ε=10
,500)およびλ肩= 262 tag(ε=8.0
00) (0,I N重炭酸ナトリウム水溶液中〕、(
CM) W=+ 165° ±1’  (c=1.3;
0.IN塩酸)。
(C) Also, if 800 mg (3.6 mmol) of D-α-amino-4-hydroxyphenylacetic acid chloride hydrochloride is reacted with 7β-[D-α-amino-α-(4-hydroxyphenyl)-acetyl Aminoco-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid can be obtained in the form of an inner salt. Melting point 243-244.5°C (sintering begins at 231°C) (accompanied by decomposition). Thin layer chromatography (identified with silica gel, iodine): Rf-0,24 (
system, n-butanol/acetic acid/water, 67:10:
23) and Rf~0.57 (system, isopropanol/
Formic acid/water, 77:4:19); Ultraviolet absorption spectrum:
λIIIax = 228 mμ (ε = 12,000) and 271 mμ (ε = 6.900) (0,I N
in hydrochloric acid], and λwax = 227 mμ (ε = 10
, 500) and λ shoulder = 262 tag (ε = 8.0
00) (0,IN in aqueous sodium bicarbonate solution), (
CM) W=+165° ±1'(c=1.3;
0. IN hydrochloric acid).

例7゜ 10抛lのCHtCII z中6 g (10,24m
モル)の結晶3−モルホリノ−7β−フェノキシアセト
アミド−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメ
チルエステル溶液及び2011Itのメタノールを0.
2 N HCj? 100mA’と混合し、そして激し
く撹拌して乳濁液を生成せしめる。反応終了後(約48
時間)有機相を分離し、乾燥し、そして溶剤を真空除去
する。こうして、融点87〜79℃の非常に純粋な3−
ヒドロキシ−7β−フェノキシアセトアミド−3−セフ
ェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエステルから
成る白色泡状物質を得る。
Example 7 6 g (10,24 m
mol) of crystalline 3-morpholino-7β-phenoxyacetamide-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester solution and 2011It of methanol were added to 0.
2 N HCj? 100 mA' and stir vigorously to form an emulsion. After the reaction is completed (approximately 48
time) the organic phase is separated, dried and the solvent removed in vacuo. Thus, very pure 3-
A white foam is obtained consisting of hydroxy-7β-phenoxyacetamido-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester.

出発物質は次のようにして製造することができる。1.
62の塩化メチレン中107.5g (151,1mモ
ル)の2− (4−(p−トルエンスルフォニルチオ)
−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン
−1−イルツー3−ヒドロキシ−カルボン酸−ジフェニ
ルメチルエステルの溶液に、−10℃において29.2
mj2 (374,4mモル)のメタンスルホニルクロ
リドを滴加し、そして52.2ml  (374,4m
モル)のトリエチルアミンを加える。30分後、−10
℃において750mモルのモルホリンをゆっくり滴加し
、そして−10℃においてさらに3時間攪拌する。25
0w+1の0.2NHC1及び飽和NaCl溶液で2回
洗浄し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、ろ
液を十分に濃縮し、650 mlのメタノールを加え、
結晶を生成せしめる。こうして、2−(4−(p−1ル
エンスルホニルチオ)−3−フェノキシアセトアミド−
2−オキシアゼチジン−1−イル)−3−(1−モルホ
リニル)−クロトン酸−ジフェニルメチルエステルと、
対応するインクロトン酸エステルからなる結晶混合物(
融点111〜114℃、分解)を分離する。
The starting material can be produced as follows. 1.
107.5 g (151.1 mmol) of 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)) in methylene chloride of 62
-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl2-3-hydroxy-carboxylic acid-diphenylmethyl ester solution at -10°C.
mj2 (374.4 mmol) of methanesulfonyl chloride are added dropwise and 52.2 ml (374.4 mmol) of methanesulfonyl chloride are added dropwise.
mol) of triethylamine. After 30 minutes, -10
750 mmol of morpholine are slowly added dropwise at 0.degree. C. and stirred for a further 3 hours at -10.degree. 25
Wash twice with 0w+1 0.2N HCl and saturated NaCl solution, dry the organic phase over sodium sulfate, filter, concentrate the filtrate thoroughly, add 650 ml of methanol,
Generates crystals. Thus, 2-(4-(p-1 luenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamide-
2-oxyazetidin-1-yl)-3-(1-morpholinyl)-crotonic acid-diphenylmethyl ester,
A crystalline mixture consisting of the corresponding incrotonic ester (
Melting point 111-114°C, decomposition).

400 tagのアセトニトリル(塩基性A g 、0
3により乾燥)中74.1g (0,1モル)の2− 
(4−(p−トルエンスルホニルチオ)−3−フェノキ
シアセトアミド−2−オキソアゼチジン−1−イル)−
3−(1−モルホリニル)−クロトン酸−ジフェニルメ
チルエステルの溶液を7時間還流加熱する。この後、真
空中で溶剤を十分に除去し、続いて感想した冷メタノー
ルを加える。これから融点167〜169℃のほとんど
無色の3−モルホリノ−7β−フェノキシアセトアミド
−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエ
ステルを晶析せしめる。
400 tag of acetonitrile (basic A g , 0
74.1 g (0.1 mol) of 2-
(4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-
A solution of 3-(1-morpholinyl)-crotonic acid-diphenylmethyl ester is heated under reflux for 7 hours. After this, the solvent is thoroughly removed in vacuo, followed by the addition of cold methanol. From this an almost colorless 3-morpholino-7β-phenoxyacetamide-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester having a melting point of 167-169° C. is crystallized.

例8゜ 例7と同様にして、結晶3−ピペリジノ−7β−フェノ
キシアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸−ジ
フェニルメチルエステルから3−ヒドロキシ−7β−フ
ェノキシアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
−ジフェニルメチルエステルを得る。
Example 8゜Crystalline 3-piperidino-7β-phenoxyacetamide-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester to 3-hydroxy-7β-phenoxyacetamide-3-cephem-4-carboxylic acid -diphenyl methyl ester is obtained.

出発物質を次のようにして得ることができる。The starting material can be obtained as follows.

100+w/の乾燥アセトニトリル中11’、1g C
15mモル)の2− (4−(p−トルエンスルホニル
チオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼ
チジン−1−イル)−3−(1−ピペリジニル)−クロ
トン酸−ジフェニルメチルエステルを5.5時間還流加
熱する。この溶液を濃縮し、そして100 tellの
乾燥した冷メタノールと混合し、こうして融点184〜
188℃(分解)の純3−ピペリジノ−7β−フエノキ
シアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフ
ェニルメチルエステルを晶析せしめる。
11', 1g C in 100+w/dry acetonitrile
15 mmol) of 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3-(1-piperidinyl)-crotonic acid diphenylmethyl ester for 5.5 hours. Heat to reflux. This solution was concentrated and mixed with 100 tell of dry, cold methanol, thus giving a melting point of 184-
Pure 3-piperidino-7β-phenoxyacetamide-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester is crystallized at 188° C. (decomposition).

例9゜ 5mlの塩化メチレン中10 mg (0,017mモ
ル)の7β−フェノキシアセトアミド−3−(1−モル
ホリニル)−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニ
ルメチルエステルの溶液に、5N塩Mltmlを滴加す
る。この反応混合物を室温において30分間攪拌する。
Example 9 To a solution of 10 mg (0.017 mmol) of 7β-phenoxyacetamido-3-(1-morpholinyl)-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester in 5 ml of methylene chloride was added 5N salt Mltml. Add dropwise. The reaction mixture is stirred for 30 minutes at room temperature.

水相を除去し、有機相を水と混合し、硫酸ナトリウム上
で乾燥し、そして蒸発せしめる。こうして7β−フェノ
キシアセトアミド−3−ヒドロキシ−3−セフェム−4
−カルボン酸−ジフェニルメチルエステルヲ得る。IR
−スペクトル(塩化メチレン中)  :  3410 
、2925〜2850 、1780 、1690 、1
600 、1510 、1490 。
The aqueous phase is removed, the organic phase is mixed with water, dried over sodium sulphate and evaporated. Thus 7β-phenoxyacetamide-3-hydroxy-3-cephem-4
-Carboxylic acid-diphenylmethyl ester is obtained. IR
-Spectrum (in methylene chloride): 3410
, 2925-2850 , 1780 , 1690 , 1
600, 1510, 1490.

1360 、1220及び1200 (J−’に特異的
吸収帯を有する。
1360, 1220 and 1200 (has specific absorption bands at J-').

出発物質は次のようにして得られる。The starting material is obtained as follows.

a)  25mj!の塩化メチレン中6.83g (1
0mモル)の2− (4−(ベンズチアゾール−2−イ
ル−ジチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキ
ソアゼチジン−1−イルツー3−ヒドロキシクロトン酸
−ジフェニルメチルエステルの一20℃に冷却した溶液
を、0.971tj’  (12,5mモル)のメタン
スルホニルクロリドと、そして次に1.74rall 
(12,5mモル)のトリエチルアミンと混合する。反
応混合物を1.5時間−20℃に冷却し、これニ2.3
9 tal(27,5mモル)のモルホリンを加える。
a) 25mj! of methylene chloride (6.83 g (1
0 mmol) of 2-(4-(benzthiazol-2-yl-dithio)-3-phenoxyacetamide-2-oxoazetidin-1-yl-3-hydroxycrotonic acid-diphenylmethyl ester) was cooled to 20°C. , 0.971 tj' (12,5 mmol) of methanesulfonyl chloride and then 1.74 rall
(12.5 mmol) of triethylamine. The reaction mixture was cooled to -20°C for 1.5 hours and
Add 9 tal (27.5 mmol) of morpholine.

この反応混合物をさらに1時間−15℃に冷却し、そし
て次に室温まで加温する。この混合物を50IIIIl
の塩化メチレンで希釈し、40m1の2N)ICfで1
回そして飽和食塩水で3回洗浄する。
The reaction mixture is cooled to −15° C. for an additional hour and then warmed to room temperature. Add this mixture to 50IIIl
diluted with methylene chloride and diluted with 40 ml of 2N) ICf.
and then washed three times with saturated saline.

有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発せしめ
る。粗生成物を400gのシリカゲル(メルク)を用い
て、トルエン/酢酸エチル(9: 1゜3=1.1=1
)によりクロマトグラフ処理し、そして2−〔4−ベン
ズチアゾール−2−イル〕−3−フェノキシアセトアミ
ド−2−オキソアゼチジン−1−イル−3−(l−モル
ホリニル)−クロトン酸−ジフェニルメチルエステルを
得る。
The organic phase is dried over sodium sulphate and evaporated. The crude product was dissolved in toluene/ethyl acetate (9:1°3=1.1=1) using 400 g of silica gel (Merck).
) and obtain 2-[4-benzthiazol-2-yl]-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl-3-(l-morpholinyl)-crotonic acid-diphenylmethyl ester. .

b)5mfの乾燥トルエン中100a+g (0,13
3mモル)の2− (4−(ベンズチアゾール−2−イ
ル−ジチオ)−3−フェノキシアセトアミド−2−オキ
ソアゼチジン−1−イル)−3−(1−モルホリニル)
−クロトン酸−ジフェニルメチルエステルの溶液を24
時間70℃に加熱する。溶液を蒸発せしめ、残さを塩化
メチレンに溶解し、そしてメタノールで希釈する。塩化
メチレンを真空中でゆっくりと除去し、そして生成物を
残留メタノールから結晶化せしめる。こうして、融点1
72〜173℃の7β−フェノキシアセトアミド−3−
(1−モルホリニル)−3−セフェム−4−カルボン酸
−ジフェニルメチルエステルを得る。
b) 100a+g (0,13
3 mmol) of 2-(4-(benzthiazol-2-yl-dithio)-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3-(1-morpholinyl)
-Crotonic acid-diphenylmethyl ester solution
Heat to 70°C for an hour. The solution is evaporated, the residue is dissolved in methylene chloride and diluted with methanol. The methylene chloride is slowly removed in vacuo and the product is crystallized from residual methanol. Thus, melting point 1
7β-phenoxyacetamide-3- at 72-173°C
(1-morpholinyl)-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester is obtained.

例10゜ 例9と同様にして、結晶3−ピロリジノ−7β−フェノ
キシアセトアミド−3−セフェム−4−一セフェムー4
−カルボン酸−ジフェニルメチルエステルを得る。
Example 10゜Crystals of 3-pyrrolidino-7β-phenoxyacetamide-3-cephem-4-1cephem-4 were prepared in the same manner as in Example 9.
-Carboxylic acid-diphenylmethyl ester is obtained.

出発物質は次のようにして得られる。The starting material is obtained as follows.

15抛lの乾燥アセトニトリル中14.5g (20m
モル)の2−(4−(p −トルエンスルホニルチオ)
−3−フェノキシアセトアミド−2−オキソアゼチジン
−1−イル)−3−(1−ピロリジニル)−クロトン酸
−ジフェニルメチルエステルの溶液を、出発物質が薄層
クロマトグラフ的に認められなくなるまで80℃にて加
熱する。溶剤を真空中で十分に除去し、そしてかわりに
1001の乾燥した冷メタノールを加え、こうして融点
190〜194℃の3−ピロリジノ−7β−フェノキシ
アセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェ
ニルメチルエステルを結晶化せしめる。
14.5 g (20 m
mol) of 2-(4-(p-toluenesulfonylthio)
-3-phenoxyacetamido-2-oxoazetidin-1-yl)-3-(1-pyrrolidinyl)-crotonic acid-diphenylmethyl ester solution at 80°C until no starting material is visible on thin layer chromatography. Heat. The solvent was thoroughly removed in vacuo and replaced with 1001 dry cold methanol, thus producing 3-pyrrolidino-7β-phenoxyacetamide-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester with a melting point of 190-194°C. to crystallize.

例11゜ 同様にして、対応する出発物質から次の化合物を製造す
ることできる。
Example 11 The following compounds can be prepared in a similar manner from the corresponding starting materials.

7β−フェニルアセトアミド−3−ヒドロキシ−3−セ
フェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエステル、
IR−スペクトル(CHzCNz中):2.95 、5
.61 、5.77 、5.85 、5.95 、6.
21及び6.87μにバンドを有する; 7β−アミノ−3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カ
ルボン酸−ジフェニルメチルエステル、IR−スペクト
ル(cozczz中) :  5.58 、5.77(
肩)、6.02及び6,22μにバンドを有する;7β
−〔D−α−tert−ブチルオキシカルボニルアミノ
−α−フェニルアセチルアミノ〕−3−ヒドロキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエステ
ル、IR−スペクトル(CHzCNz中)  : 2.
94 、3.40 、5.62 、5.77 。
7β-phenylacetamido-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester,
IR-spectrum (in CHzCNz): 2.95, 5
.. 61, 5.77, 5.85, 5.95, 6.
7β-amino-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester, IR-spectrum (in cozczz): 5.58, 5.77 (
shoulder), with bands at 6.02 and 6,22μ; 7β
-[D-α-tert-butyloxycarbonylamino-α-phenylacetylamino]-3-hydroxy-3
-Cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, IR-spectrum (in CHzCNz): 2.
94, 3.40, 5.62, 5.77.

5.75 、5.95 、6.21及び6.88μにバ
ンドを有する; 7β−〔D−α−ter t−ブチルオキシカルボニル
アミノ−α−(4−ヒドロキシフェニル)−アセチルア
ミノツー3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボメ
チージフェニルメヂルエステル、紫外線吸収スペクトル
(95%含水エタノール中):λmax = 284 
tsp (a =5.100 ) 、赤外線吸収スペク
トル(塩化メチレン中’)  :  5.59 、5.
83(肩) 、 5.88 、6.18及び6.67μ
に特異的バンドを有する; 7β−〔D−α−tert−ブチルオキシカルボニルア
ミノ−α−(2−チェニル)−アセチルアミノツー3−
ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニ
ルメチルエステル、紫外線吸収スペクトル(95%含水
エタノール中)λmax =283 mμ(ε= 5.
300 ) 、赤外線吸収スペクトル(塩化メチレン中
)  :  5.59 、5.87 、6.19及び6
.66μに特異的バンドを有する; 7β−〔D−α−tert  7’チルオキシカルボニ
ルアミノ−α−(3−チェニル)−アセチルアミノツー
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフ
ェニルメチルエステル、紫外線吸収スペクトル(95%
含水エタノール中):λ+WaX=283111μ(ε
= 5.300 > 、赤外線吸収スペクトル(塩化メ
チレン中)  : 5.59 、5.87 、6.19
及び6.66μに特異的吸収を有する; 7β−〔D−α〜tert−ブチルオキシカルボニルア
ミノ−α−(2−フリル)−アセチルアミノツー3−ヒ
ドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニル
メチルエステル、紫外mi収スペクトル(95%含水エ
タノール中) :λ1IIax =28311μ(ε=
 5.300 ’) 、赤外線吸収スペクトル(塩化メ
チレン中)  :  5.59 、5.8? 、 6.
19及び6.66μに特異的バンドを有する;  。
Has bands at 5.75, 5.95, 6.21 and 6.88μ; 7β-[D-α-tert-butyloxycarbonylamino-α-(4-hydroxyphenyl)-acetylamino-to-3-hydroxy -3-cephem-4-carbomethydiphenylmedyl ester, ultraviolet absorption spectrum (in 95% aqueous ethanol): λmax = 284
tsp (a = 5.100), infrared absorption spectrum (in methylene chloride): 5.59, 5.
83 (shoulder), 5.88, 6.18 and 6.67μ
has a specific band; 7β-[D-α-tert-butyloxycarbonylamino-α-(2-chenyl)-acetylamino2-3-
Hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester, UV absorption spectrum (in 95% aqueous ethanol) λmax = 283 mμ (ε = 5.
300), infrared absorption spectrum (in methylene chloride): 5.59, 5.87, 6.19 and 6
.. 7β-[D-α-tert 7′-tyloxycarbonylamino-α-(3-chenyl)-acetylamino-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester with a specific band at 66μ; , ultraviolet absorption spectrum (95%
in aqueous ethanol): λ+WaX=283111μ(ε
= 5.300 >, Infrared absorption spectrum (in methylene chloride): 5.59, 5.87, 6.19
and has a specific absorption at 6.66μ; Methyl ester, ultraviolet mi yield spectrum (in 95% aqueous ethanol): λ1IIax = 28311μ (ε =
5.300'), infrared absorption spectrum (in methylene chloride): 5.59, 5.8? , 6.
with specific bands at 19 and 6.66μ;

7β−〔D−α−tert −7’チルオキシカルボニ
ルアミノ−α−(4−イソチアゾリル)−アセチルアミ
ノツー3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸
−ジフェニルメチルエステル、紫外線吸収スペクトル(
95%含水エタノール中):λ+*ax = 250 
tmμ(ε−12,000)及び280−μ(ε= 5
.800)、赤外線吸収スペクトル(塩化メチレン中)
  : 5.59 、5.87 、6.19及び6.6
6μに特異的バンドを有する; 7β−〔D−α−ter t−ブチルオキシカルボニル
アミノ−α−(1,4−シクロヘキサジェニル)−アセ
チルアミノツー3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カ
ルボン酸−ジフェニルメチルエステル、IR−スペクト
ル(C)l(1,中) 3380.17B0゜1690
 、1610 、1590及び1470 >−’にバン
ドを有する; 7β−(2−チェニル)−アセチルアミノ−3−ヒドロ
キシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチ
ルエステル、紫外線吸収スペクトル(95%含水エタノ
ール中):λtaax =280mμ(ε= 5.10
0 ”) 、赤外線吸収スペクトル(塩化メチレン中)
  :  5.5B 、 5.82 (肩) 、5.8
B 、 6.17及び6.67μに特異的バンドを有す
る;7β−(l−テトラゾリル)−アセチルアミノ−3
−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェ
ニルメチルエステル、紫外線吸収スペク:  5.59
 、5.87 、6.19及び6.66μに特異的バン
ドを有する; 7β−(4−ピリジルチオ)−アセチルアミノ−3−ヒ
ドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニル
メチルエステル、!外線吸収スペクトル(95%含水エ
タノール中):λn+ax = 283−μ、赤外線吸
収スペクトル(塩化メチレン中): 5.59 、5.
83 (肩”) 、5.88 、6.18及び6.67
μに特異的バンドを有する; 7β−(4−アミノピリジニウム−アセチルアミノ)−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフ
ェニルメチルエステル、紫外線吸収スペクトル(95%
含水エタノール中):λS+aX=282111μ、赤
外線吸収スペクトル(塩化メチレン中)  :  5.
59 、5.87 、6.19及び6.66μに特異的
バンドを有する; 7β−〔D−α−(2,2,2−トリクロロエトキシカ
ルボニルオキシ)−α−フェニル−アセチルアミノコ−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフ
ェニルメチルエステル、s外線吸収スペクトル(95%
含水エタノール中):λmax−284mμ、赤外線吸
収スペクトル(塩化メチレン中)  5.59 、5.
87 、6.19及び6.66μに特異的バンドを有す
る。
7β-[D-α-tert-7'Tyloxycarbonylamino-α-(4-isothiazolyl)-acetylamino-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, ultraviolet absorption spectrum (
(in 95% aqueous ethanol): λ++ax = 250
tmμ(ε−12,000) and 280−μ(ε=5
.. 800), infrared absorption spectrum (in methylene chloride)
: 5.59, 5.87, 6.19 and 6.6
Has a specific band at 6μ; 7β-[D-α-ter t-butyloxycarbonylamino-α-(1,4-cyclohexagenyl)-acetylamino-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid -Diphenylmethyl ester, IR-spectrum (C)l (1, medium) 3380.17B0°1690
, 1610, 1590 and 1470>-'; 7β-(2-chenyl)-acetylamino-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester, ultraviolet absorption spectrum (95% aqueous ethanol Medium): λtaax = 280 mμ (ε = 5.10
0”), infrared absorption spectrum (in methylene chloride)
: 5.5B, 5.82 (shoulder), 5.8
B, with specific bands at 6.17 and 6.67μ; 7β-(l-tetrazolyl)-acetylamino-3
-Hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, UV absorption spec: 5.59
7β-(4-pyridylthio)-acetylamino-3-hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, with specific bands at , 5.87, 6.19 and 6.66μ; External absorption spectrum (in 95% aqueous ethanol): λn+ax = 283-μ, infrared absorption spectrum (in methylene chloride): 5.59, 5.
83 (shoulder), 5.88, 6.18 and 6.67
Has a specific band for μ; 7β-(4-aminopyridinium-acetylamino)-
3-Hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester, ultraviolet absorption spectrum (95%
(in aqueous ethanol): λS+aX=282111μ, infrared absorption spectrum (in methylene chloride): 5.
7β-[D-α-(2,2,2-trichloroethoxycarbonyloxy)-α-phenyl-acetylaminoco-
3-Hydroxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester, s external absorption spectrum (95%
(in aqueous ethanol): λmax-284 mμ, infrared absorption spectrum (in methylene chloride) 5.59, 5.
It has specific bands at 87, 6.19 and 6.66μ.

さらに、3−ヒドロキシル基がエーテル化された対応す
る次のような化合物を製造することができる。
Furthermore, the following corresponding compounds in which the 3-hydroxyl group is etherified can be produced.

3−メトキシ−7β−フェニルアセトアミド−3−セフ
ェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエステル、I
R−スペクトル(cozclz中):2.94 、5.
63 、5.83 、5.94 、6.26及び6.6
6μにバンドを有する; 3−メトキシ−7β−アミノ−3−セフェム−4−カル
ボン酸−ジフェニルメチルエステル(及びその塩)、I
R−スペクトル(ジオキサン中)2.87 、5.62
及び6.26μにバンドを有する;3−メトキシ−7β
−フェニルアセチルアミノ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(又はその塩)、IR−スペクトル(C1hC12
z中”) : 3.03 、5.60 。
3-Methoxy-7β-phenylacetamido-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, I
R-spectrum (in cozclz): 2.94, 5.
63, 5.83, 5.94, 6.26 and 6.6
Has a band at 6μ; 3-methoxy-7β-amino-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester (and its salt), I
R-spectrum (in dioxane) 2.87, 5.62
and has a band at 6.26μ; 3-methoxy-7β
-Phenylacetylamino-3-cephem-4-carboxylic acid (or its salt), IR-spectrum (C1hC12
Z Medium”): 3.03, 5.60.

5.74 、5.92 、6.24及び6.67μにバ
ンドを有する; 3−メトキシ−7β−(D−α−tert、ブチルオキ
シカルボニルアミノ−α−フェニルアセチル−アミノ)
−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエ
ステル、融点162〜163℃(ジエチルエーテル); 3−メトキシ−7β−(D−α−フェニルグリシル−ア
ミノ)−3−セフェム−4−カルボン酸(又はその塩)
、融点174〜176℃(分解);2−n−ブチルオキ
シ−7β−フェニルアセチル−アミノ−3−セフェム−
4−カルボン酸−ジフェニルメチルエステル、融点16
8〜170℃(CH2Cl 2/ジエチルエーテルより
); 3−n−ブチルオキシ−7β−(D−at−tert 
−ブチルオキシカルボニルアミノ−α−フェニル−アセ
チルアミノ)−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェ
ニルメチルエステル、IR−スペクトル(C)!、+l
z中)  :  2.8B 、 5.63 、5.84
 (肩)。
Has bands at 5.74, 5.92, 6.24 and 6.67μ; 3-methoxy-7β-(D-α-tert, butyloxycarbonylamino-α-phenylacetyl-amino)
-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, melting point 162-163°C (diethyl ether); 3-methoxy-7β-(D-α-phenylglycyl-amino)-3-cephem-4-carboxylic acid (or its salt)
, melting point 174-176°C (decomposition); 2-n-butyloxy-7β-phenylacetyl-amino-3-cephem-
4-Carboxylic acid-diphenylmethyl ester, melting point 16
8-170°C (from CH2Cl2/diethyl ether); 3-n-butyloxy-7β-(D-at-tert
-Butyloxycarbonylamino-α-phenyl-acetylamino)-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, IR-spectrum (C)! ,+l
Z medium): 2.8B, 5.63, 5.84
(shoulder).

5.88 、6.26及び6.71μにバンドを有する
:3 =n−ブチルオキシー7β−(D−α−フェニ・
ルグリシルーアミノ)−3−セフェム−4−カルボン酸
(又はその塩)、融点141〜142℃(アセトン/ジ
エチルエーテル); 3−メトキシ−7β−フェニルアセチルアミノ−3−セ
フェム−4−カルボン酸−メチルエステル、融点171
〜174℃(CIICjl、/ヘキサンより);3−エ
トキシ−7β−(D−α−ter t−ブチルオキシカ
ルボニルアミノ−α−フェニル−アセチル−アミノ)−
3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエス
テル、IR−スペクトル(CHz(1,中)  ?  
2.96 、5.64 、5.90 、6.28及び6
.73μにバンドを有する; 3−エトキシ−7β−(D−α−フェニルグリシル−ア
ミノ)−3−セフェム−4−カルボン酸(又はその塩)
、Ul−スペクトル(0,1MNa)lcOi溶液中)
:λtsax = 263 mμ(ε=5.500 )
  ;3−ベンジルオキシ−7β−(D−α−terL
−ブチルオキシカルボニルアミノ−α−フェニル−アセ
チル−アミノ)−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフ
ェニルメチルエステル、JR−スペクトル(CHICj
22中) :  2.96 、5.63 、5.88 
、6.26及び6.72μにバンドを有する; 3−ベンジルオキシ−7β−(D−α−フェニルグリシ
ル−アミノ)−3−セフェム−4−カルボン酸(又はそ
の塩)、UV−スペクトル(0,INNaHCO,溶液
中):λmax = 266m p (ε=6.500
) ;7β−(5−ベンゾイルアミノ−5−ジフェニル
メトキシカルボニル−バレリルアミノ)−3−メトキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチルエ
ステル、IR−スペクトル(CH2Cl 。
It has bands at 5.88, 6.26 and 6.71μ: 3 = n-butyloxy-7β-(D-α-phenylacetate)
3-methoxy-7β-phenylacetylamino-3-cephem-4-carboxylic acid (or its salt), melting point 141-142°C (acetone/diethyl ether); Methyl ester, melting point 171
~174°C (from CIICjl,/hexane); 3-ethoxy-7β-(D-α-ter t-butyloxycarbonylamino-α-phenyl-acetyl-amino)-
3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, IR-spectrum (CHZ (1, medium)?
2.96, 5.64, 5.90, 6.28 and 6
.. Has a band at 73μ; 3-ethoxy-7β-(D-α-phenylglycylamino)-3-cephem-4-carboxylic acid (or salt thereof)
, Ul-spectrum (0,1M Na) in lcOi solution)
:λtsax = 263 mμ (ε=5.500)
;3-benzyloxy-7β-(D-α-terL
-butyloxycarbonylamino-α-phenyl-acetyl-amino)-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, JR-spectrum (CHICj
22): 2.96, 5.63, 5.88
, has bands at 6.26 and 6.72μ; 3-benzyloxy-7β-(D-α-phenylglycylamino)-3-cephem-4-carboxylic acid (or its salt), UV-spectrum ( 0, INNaHCO, in solution): λmax = 266 m p (ε = 6.500
); 7β-(5-benzoylamino-5-diphenylmethoxycarbonyl-valerylamino)-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, IR-spectrum (CH2Cl.

中”)  :  5.65 、5.7B 、 6.03
及び6.64μにバンドを有する; 7β−(D−α−ter t−ブチルオキシカルボニル
アミノ−α−フェニルアセチル−アミノ)−3−メトキ
シ−3−セフェム−4−カルボン酸又はその塩、IR−
スペクトル(CHzC12z中)  :3.00゜5.
64 、5.92 、6.25及び6.72μにバンド
を有する; 7β−(D−α−ter t−ブチルオキシカルボニル
アミノ−α−(2−チェニル)−アセチルアミノコ−3
−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニ
ルメチルエステル、IR−スペクトル(C11□(1,
中) : 2.94 、5.62 、5.85 、6.
26及び6.72μにバンドを有する; 7β−〔D−α−ter t−ブチルオキシカルボニル
アミノ−α−(1,4−シクロへキサジェニル)−アセ
チルアミノコ−3−メトキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸−ジフェニルメチルエステル、IR−スペクトル
(CH2CI Z中) :  2.96 、5.64゜
5.86 、5.90  (肩) 、 6.27及び6
.73μにノhンドを有する; 7β−〔D−α−アミノ−α−(1−シクロヘキセン−
1−イル)−アセチルアミノコ−3−メトキシ−3−セ
フェム−4−カルボン酸又はその塩;7β−〔D−α−
tert−ブチルオキシカルボニルアミノ−α−(4−
ヒドロキシフェニル)−アセチル−アミノコ−3−メト
キシ−3−セフェム−4−カルボン酸−ジフェニルメチ
ルエステル、IR−スペクトル(CHzCj!z ) 
 :  2.83 、2.96 。
Medium”): 5.65, 5.7B, 6.03
and has a band at 6.64μ; 7β-(D-α-ter t-butyloxycarbonylamino-α-phenylacetyl-amino)-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid or its salt, IR-
Spectrum (in CHZC12z): 3.00°5.
Has bands at 64, 5.92, 6.25 and 6.72μ; 7β-(D-α-tert-butyloxycarbonylamino-α-(2-chenyl)-acetylaminoco-3
-Methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid-diphenylmethyl ester, IR-spectrum (C11□(1,
Medium): 2.94, 5.62, 5.85, 6.
Has bands at 26 and 6.72μ; 7β-[D-α-ter t-butyloxycarbonylamino-α-(1,4-cyclohexagenyl)-acetylaminoco-3-methoxy-3-cephem-4 -Carboxylic acid-diphenylmethyl ester, IR-spectrum (in CH2CIZ): 2.96, 5.64° 5.86, 5.90 (shoulder), 6.27 and 6
.. 7β-[D-α-amino-α-(1-cyclohexene-
1-yl)-acetylaminoco-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid or salt thereof; 7β-[D-α-
tert-butyloxycarbonylamino-α-(4-
Hydroxyphenyl)-acetyl-aminoco-3-methoxy-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester, IR-spectrum (CHzCj!z)
: 2.83, 2.96.

5.64 、5.86 、5.91 (肩) 、6.2
3 、6.28.6.65及び6.72μにバンドを有
する; 7β−〔D−α−アミノ−α−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−アセチルアミノコ−3−メトキシ−3−セフェム
−4−カルボン酸(又はその塩)、融点180℃(分解
);
5.64, 5.86, 5.91 (shoulder), 6.2
3, has bands at 6.28, 6.65 and 6.72μ; 7β-[D-α-amino-α-(4-hydroxyphenyl)-acetylaminoco-3-methoxy-3-cephem-4- Carboxylic acid (or salt thereof), melting point 180°C (decomposed);

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、次の式(VII)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 〔式中、R^a_1は水素原子またはアミノ保護基R^
A_1でありそしてR^b_1は水素原子またはアシル
基Acであるか、あるいはR^a_1とR^b_1とは
両方で2価のアミノ保護基であるものとし、R^A_2
はカルボニル基−C(=O)−といっしょになって保護
されたカルボキシル基を形成している基であり、Yは除
去する基である〕 で表わされる化合物、または次の式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中、R^a_1、R^b_1、R^A_1、及びY
は前記と同じ意味であり、R_5は炭素原子18個まで
の場合により置換されていることのある特に脂肪族、脂
環式、芳香脂肪族または芳香族の炭化水素基である)で
表わされる前記化合物のスルホン酸エステルと式、 HN(R^a_4)(R^b_4) 〔式中、−N(R^a_4)(R^b_4)は第二また
は第三アミノ基であるものとする〕 で表わされる第二もしくは第三アミンまたはその塩とを
反応させ、そして所望により得られた化合物をその最終
生成物の定義の範囲内で他の化合物に変えることを特徴
とする、次の式(II)、▲数式、化学式、表等がありま
す▼(II) 〔式中、R^a_1、R^b_1、R^A_2、Y、及
び−N(R^a_4)(R^b_4)は前記と同じ意味
である〕で表わされる化合物の製造方法。
[Claims] 1. The following formula (VII), ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VII) [In the formula, R^a_1 is a hydrogen atom or an amino protecting group R^
A_1 and R^b_1 is a hydrogen atom or an acyl group Ac, or R^a_1 and R^b_1 are both divalent amino protecting groups, and R^A_2
is a group forming a protected carboxyl group together with the carbonyl group -C(=O)-, and Y is the group to be removed] or the following formula (VIII) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VIII) (In the formula, R^a_1, R^b_1, R^A_1, and Y
have the same meaning as above and R_5 is an optionally substituted in particular aliphatic, cycloaliphatic, araliphatic or aromatic hydrocarbon radical of up to 18 carbon atoms) A sulfonic acid ester of a compound with the formula HN(R^a_4)(R^b_4) [wherein -N(R^a_4)(R^b_4) shall be a secondary or tertiary amino group]. A compound of the following formula (II ), ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) [In the formula, R^a_1, R^b_1, R^A_2, Y, and -N(R^a_4) (R^b_4) are the same as above. A method for producing a compound represented by:
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