JPS61154270A - Picture processing method - Google Patents
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- JPS61154270A JPS61154270A JP59279493A JP27949384A JPS61154270A JP S61154270 A JPS61154270 A JP S61154270A JP 59279493 A JP59279493 A JP 59279493A JP 27949384 A JP27949384 A JP 27949384A JP S61154270 A JPS61154270 A JP S61154270A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、画像の拡大又は縮小の少なくとも−方と階調
処理とを行う画像処理方法に関寸ろ。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an image processing method that performs at least one of enlarging or reducing an image and gradation processing.
(tY来の1支拝F )
画素密劇変換方式により2値化画像を拡大又は縮小する
方法として、従来からSPC法、論理和法、9分割法、
投影法等が知られている。(TY's first support F) Conventionally, methods for enlarging or reducing a binarized image using the pixel density conversion method include the SPC method, the logical sum method, the 9-division method,
Projection methods etc. are known.
(発明が解決しようとづる問題点)
これら従来方法の問題点としては、線部のツブレ或いは
ヌケが目マLつという貞が挙げられるが、最大の問題点
は、組織的ディザ法で表現した2値化画像等のように固
期構)告のある中間調画像を拡大・縮小でイ)場合、モ
アレ縞が発生するということである。(Problems to be Solved by the Invention) Problems with these conventional methods include the fact that the lines are blurred or missing, but the biggest problem is that the systematic dithering method When a halftone image with a fixed phase structure, such as a binarized image, is enlarged or reduced (a), moiré fringes occur.
一方、この種の2値化中間調画像の場合、階調処理く変
換)を容易に行える方法がなかった。On the other hand, in the case of this type of binary halftone image, there is no method for easily performing gradation processing (conversion).
本発明はこの点に鑑みてなされたもので、その目的は、
開明構造のある2値化画像であってもモアレ縞を生じる
ことなく拡大・縮小を行えると共に、階調処理も容易に
行える画像処理方法を提供づ−ることにある。The present invention has been made in view of this point, and its purpose is to
It is an object of the present invention to provide an image processing method that can enlarge or reduce even a binarized image with a transparent structure without causing moiré fringes, and can also easily perform gradation processing.
(問題点を解決するための手段)
上記問題点を解決する本発明(」、2値化画像をブロッ
クに分割し、該ブロック毎に黒山系数若しくは白画素数
の少なくとも一方を、i’l数ゴる第1のステップと、
該画素数を階調曲線に基づき変換し、変換後の画素数か
ら各ブロックの澗1リレベルを決定し、前記各ブロック
毎に、その決定瀧1頁レベルに対応した第1のff1l
ll!マトリツクスパターンを用いて、拡大・縮小倍率
に応じたサイズの第2の濃度マトリックスパターンを1
9る第2のステップとを有し、該第2の淵麿マトリック
スパターンで再構成されろ画像を処理後の画像とするこ
とを特徴とするものである。(Means for Solving the Problems) The present invention to solve the above problems (') divides a binarized image into blocks, and for each block, at least one of the Kuroyama series number or the number of white pixels is set to the i'l number. Goru's first step and
The number of pixels is converted based on the gradation curve, the number of pixels of each block is determined from the number of pixels after conversion, and for each block, the first ff1l corresponding to the determined page level is
ll! Using the matrix pattern, a second density matrix pattern of a size corresponding to the enlargement/reduction magnification is
9, and the image reconstructed using the second Fuchimaro matrix pattern is used as the processed image.
(実施例)
以下、第1図乃至第7図を用いて、具体的に本発明の画
像処理方法を説明する。(Example) Hereinafter, the image processing method of the present invention will be specifically explained using FIGS. 1 to 7.
まず、画像処理の対象である21げ1化画像であるが、
この2値化画隙は、1f1えば4×4や8×8のサイズ
のディザマI・リツクスを閾値として用いることにより
容易に得られる。このディザマトリックスを構成する閾
値の設定幅は、例えば階調両の揚含反甲濃度で0.1〜
1.4稈(資)と広くし、線画の場合は反射濃度で0.
1〜0.5Pi!度と狭くづる(或いlよ固定閾値を用
いる)ことが好ましい。First, the 21-ge unification image is the target of image processing.
This binarized gap can be easily obtained by using a dithering I-rix having a size of 4×4 or 8×8, for example 1f1, as a threshold value. The setting width of the threshold value constituting this dither matrix is, for example, 0.1 to
The width is 1.4 culms, and the reflection density is 0.0 for line drawings.
1~0.5Pi! It is preferable to use a fixed threshold value (or use a fixed threshold value).
これは画像のヌケや太りを防ぐためである。又、11P
i調画と線画では異押のディザマトリックスを用いるよ
うにしてもよい。尚、2値化の手法は、ディザ法Jソ外
の方法、例えば濃度パターン法や網か(プ法を用いても
よい。This is to prevent the image from becoming blank or thick. Also, 11P
Different dither matrices may be used for i-style drawings and line drawings. Note that the binarization method may be a method other than the dither method, such as a density pattern method or a dot method.
第1図に例示した本発明方法においては、まず、画像が
2値化画像でない場合、前述の2値化を行う(ステップ
■)。第2図1よ、サイズが4×4のドツト分散型(B
ayer型)のディザマトリックスDM1(第2図(イ
)参照)を用いて、ディIP法によりオリジナル画像A
(第2図(ロ)参照)を2値化し、第2図(ハ)に示す
2値化画像Bを得る例を示している。この図において、
ディザマトリックスDM1内及びオリジナル画像A内の
数字は規格化されたiIJ疫レムレベルし、2値化画像
Bの斜線部分の画素は黒画素であることを示している。In the method of the present invention illustrated in FIG. 1, first, if the image is not a binarized image, the above-mentioned binarization is performed (step 2). Figure 2 1. Dot dispersion type with size 4 x 4 (B
ayer type) dither matrix DM1 (see Figure 2 (a)), the original image A is
(See FIG. 2(B)) is binarized to obtain the binarized image B shown in FIG. 2(C). In this diagram,
The numbers in the dither matrix DM1 and in the original image A are standardized iIJ epilepsy levels, and the pixels in the shaded area of the binarized image B indicate that they are black pixels.
−4=
次にステップ■では、2値化画イq;を適当なサイズの
ブロックに分割する。第2図(ハ)ではく×4のサイズ
に分割している。ぞして、各ブロック内の黒画素数(或
いは白画素数)を計数して(ステップ■)、階調処理に
移る。ここで行う階調処理は、上記黒画素数(以下、こ
れをオリジナル画素数と呼ぶ)を所定の階調曲線に基づ
き他の黒画素数(1メ下、これを変換黒画素数と呼ぶ)
に変換することにより行う(ステップ■)。第3図の例
では、第3図(イ)に示t I!I!i調曲線を用いて
、第3図(ロ)に示すオリジナル黒画素数を第3図(ハ
)に示す変換黒画素数に変換している。どのような階調
処理がなされるかは、変換の際使用する階調曲線によっ
て決まるが、一般的には、第4図中の上に凸のカーブを
持った階調曲I!ilCへを用いると、黒画素数を大き
くし高濃度部分の庶数を増やす変換となり、第4図中の
下に凸のカーブを持った階調曲MA CBを用いると黒
画i素数を小さくし低m度部分の同数を減らす変換とな
る。従って、R[曲線CAは淡い2値化画像に対して有
効であリ、階調曲線CBは黒くつぶれた画像に対して有
効である。勿論、階調曲線CA、CBを組み合わせた例
えば8字形カーブの階調曲線等を用いることも可能であ
り、望みの階調処理に合致するようh階調曲線を選択す
ればよい。画像処理装置においては、3〜5種の代表的
な階調曲線を用意しておき、画像(こ応じて何れかを選
択するようにしておけばにい。-4=Next, in step (2), the binarized image q; is divided into blocks of appropriate size. In Fig. 2 (c), it is divided into 4×4 sizes. Then, the number of black pixels (or the number of white pixels) in each block is counted (step 2), and the process proceeds to gradation processing. The gradation processing performed here is based on the above black pixel number (hereinafter referred to as the original pixel number) to another black pixel number (one meter lower, this is referred to as the converted black pixel number) based on a predetermined gradation curve.
This is done by converting it into (Step ■). In the example of FIG. 3, t I! is shown in FIG. I! Using the i-tone curve, the original number of black pixels shown in FIG. 3(B) is converted to the converted number of black pixels shown in FIG. 3(C). The type of gradation processing to be performed is determined by the gradation curve used during conversion, but generally, the gradation tune I! with the upwardly convex curve in Figure 4 is used. When ilC is used, the number of black pixels is increased and the number of pixels in high-density areas is increased.When gradation tune MA CB with the downwardly convex curve in Figure 4 is used, the number of black pixels is reduced. This is a conversion that reduces the same number of low m degree parts. Therefore, the R[curve CA is effective for pale binarized images, and the gradation curve CB is effective for darkened images. Of course, it is also possible to use a gradation curve, such as a figure-8 curve, which is a combination of gradation curves CA and CB, and the h gradation curve may be selected to match the desired gradation processing. In an image processing device, three to five types of typical gradation curves are prepared, and one of them can be selected depending on the image.
このようにして得た変換黒画素数から、各ブ「1ツクの
濃度レベルを決定し、第1の)開度マトリックスパター
ンを得る(ステップ■)。ここで、ブロックIYイズと
して(ま、2値化画像を1qる際に使用したディザマト
リックス(閥)直前)のサイズ(4×4又は8×8)と
同等、好ましくはディザマトリックスの+ノイズよりも
小さいサイズを選ぶ。From the number of converted black pixels obtained in this way, the density level of each block is determined and the first) opening matrix pattern is obtained (step ■). Select a size that is equal to the size (4 x 4 or 8 x 8) of the dither matrix (immediately before the division) used when converting the valued image into 1q, and preferably smaller than +noise of the dither matrix.
このJ:うにすれば、階調数を増やしながら高解像度を
保持できる。第5図(ロ)は各ブロック内の変換黒画素
数をそのまま各ブロックの規格化された平均濃度レベル
としたもの、第5図(ハ)はこの各ブ[lツクの変換黒
画素数に基づき、各ブロック上に第1の濃度71〜リッ
クスパターンを写したもので、この例での第1の濃度パ
ターンの決定は、前記のディザマ[−リックスDM1と
同一のディザマ1へリックスDM2 (第5図(イ)参
照)と各ブロックの濃度レベルとの比較ににって行って
いる。If J: is used, high resolution can be maintained while increasing the number of gradations. Figure 5 (B) shows the number of converted black pixels in each block as the normalized average density level of each block, and Figure 5 (C) shows the number of converted black pixels in each block. Based on this, the first density 71 to helix pattern are copied onto each block, and the determination of the first density pattern in this example is based on the ditherer 1 helix DM2 (the same as the ditherer [-lix DM1) described above. 5 (a)) and the density level of each block.
例えば、ブ1−1ツクSK1の場合、その濃度レベルが
11であるから、第5図(イ)のディザマトリックスr
) M 2の内、11以下の濃度レベルの部分は黒画素
となり、前記第5図(ハ)のブ「コックB1〈1のよう
な濃度マトリックスパターンになる。For example, in the case of block 1-1 block SK1, its density level is 11, so the dither matrix r in FIG.
) Of M2, the portion with a density level of 11 or less becomes a black pixel, forming a density matrix pattern such as B1<1 in FIG. 5(C).
この第1の′a唯マトリックスパターンを得た後、拡大
・縮小倍率に応じたサイズの第2の濃度マトリックスパ
ターンを各ブロック毎に得て(ステップ面)、これをブ
ロック順に並べ拡大・縮小画像を稗る(ステップ■)。After obtaining this first 'a' matrix pattern, a second density matrix pattern of a size corresponding to the enlargement/reduction magnification is obtained for each block (step plane), and these are arranged in block order as enlarged/reduced images. Determine (step ■).
第6図(イ)はこのようにして1!′Iた拡大倍率5
、、/ /lの拡大画像であり、第6図(ロ)は縮小倍
率3 / 7Iの縮小画像である。Figure 6 (a) is thus 1! 'I magnification factor 5
, / /l, and FIG. 6(b) is a reduced image with a reduction magnification of 3/7I.
ここで、第1.第2の製団マトリックスパターンのサイ
ズ比は縦横の拡大・縮小倍率に応じたものであり、第2
の′aI′ct′マトリックスパターンの縦横のサイズ
は、第1の濃度マトリックスパターンの縦横のサイズに
縦横の拡大・縮小倍率を乗じたものである。従って、第
6図の例では、第6図(イ)の場合は5×5の]Yイズ
となり、第6図(ロ)では3×3のサイズとなっている
。Here, the first. The size ratio of the second matrix pattern is according to the vertical and horizontal expansion/reduction magnification.
The vertical and horizontal size of the 'aI'ct' matrix pattern is the vertical and horizontal size of the first density matrix pattern multiplied by the vertical and horizontal expansion/reduction magnification. Therefore, in the example of FIG. 6, the size is 5×5 in FIG. 6(a), and 3×3 in FIG. 6(b).
ここの例では、第1の′D度マトリックスパターン内の
該当するパターンを2次元的に配列さUることにより得
られるR1パターンを、第2の濃度マトリックスパター
ンのサイズで区画したときに、求めようとJる第2のt
ttlrcf、マトリックスパターンと同一の位置関係
にあるパターンを切り出1ノで、これを該当する第2の
濃度マトリックスパターンとして用いている。第7図は
第1の濃度マトリックスパターンから第2のmlαマト
リックスパターンを得る例を示す説明図〈拡大倍率5/
4)で、第1の濃度マトリックスパターン(サイズは4
×4)のブロックf11.f12.f13+・1.、f
21+’22+・・・、・・・でなる平面を、第2の澗
麿マトリックスパターンのくサイズは5×5)のブロッ
クF++・F121 Ft3+−、F;)I、F=8−
22、・・・、・・・に区画した状態を示している。ま
ず、ブロック[菫1に相当する第2のi11度マ[・リ
ックスパターンとしては、全ブ1]ツクrlllrl?
。In this example, when the R1 pattern obtained by two-dimensionally arranging the corresponding patterns in the first density matrix pattern is divided by the size of the second density matrix pattern, The second t
ttlrcf, a pattern having the same positional relationship as the matrix pattern is extracted and used as the corresponding second density matrix pattern. FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of obtaining the second mlα matrix pattern from the first density matrix pattern (magnification: 5/
4), the first density matrix pattern (size is 4)
×4) block f11. f12. f13+・1. , f
21+'22+...,..., the second Kanmaro matrix pattern is a block F++・F121 Ft3+-, F;) I, F=8- 22,・. . . indicates a partitioned state. First, block [second i11 degree matrix corresponding to violet 1] [all blocks 1 as a matrix pattern] check rllllrl?
.
f13.・・・、f21+f22+・・・、・・・に、
ブロックf I ’1に相当づる同一の第1の濃度マト
リックスパターンが入っていると想定した母パターンか
ら、ブロックF++の位置にあるパターンを切り出した
ものを用いる。同様に、ブロック「12に相当づろ第2
のamマトリックスパターンとしては、全ブロックf1
1+’+2+ f13+”’+f21、f22.・・・
、・・・に、ブロックf12に相当する同一の第1の濃
度マトリックスパターンが入っていると想定した母パタ
ーンから、ブロックF12の位置にあるパターンを切り
出したちのを用いる。即ち、ブロックFi、iに相当す
る第2のartマトリックスパターンとしては、全ブロ
ックf11・f12・r+3・°°°・「21・’22
+’・・。f13. ..., f21+f22+...,...,
A pattern at the position of block F++ is cut out from a mother pattern that is assumed to contain the same first density matrix pattern corresponding to block f I '1. Similarly, the block “Zuro 2nd equivalent to 12”
The am matrix pattern for all blocks f1
1+'+2+ f13+"'+f21, f22...
, . . . , a pattern at the position of block F12 is cut out from a mother pattern that is assumed to contain the same first density matrix pattern corresponding to block f12. That is, the second art matrix pattern corresponding to block Fi,i is all blocks f11, f12, r+3, °°°, "21, '22
+'...
・・・にブロックfijに相当する同一の第1の濃度マ
トリックスパターンが入っていると想定した母パターン
から、ブロック「ijの位置にあるパターンを切り出し
たものを用いる。前述の第6図(イ)は、このようにし
て得た第2の濃度マトリックスパターンを平面上に並べ
たものである。第6図(ロ)についても同様である。... is assumed to contain the same first density matrix pattern corresponding to block fij. A pattern at the position of block "ij" is cut out from the mother pattern. ) is the second density matrix pattern obtained in this way arranged on a plane. The same applies to FIG. 6(b).
尚、マトリックスDM1とDM2を同一のもので構成す
る必要はなく、例えばマトリックスDM2をドツト集中
型(渦巻型)としてもよい。Incidentally, the matrices DM1 and DM2 do not need to be made of the same material; for example, the matrix DM2 may be of a dot concentrated type (spiral type).
又、前)本の変倍後の各ブロックのパターンを得る具体
的方法は、前)ホの母パターンを実際にメモリ内に構成
し、これから所定の番地のデータを読み出し、パターン
を得るようにしてもよいが、このようにすると極めて大
きなメモリ容量が必要となる。イこで、母パターンを実
際には作らず、パターンの周期性に注目し、以下のよう
にして各画素の濃度を求ダ)変倍後のパターンを得るよ
うにしても」;い。Also, the specific method for obtaining the pattern of each block after scaling of the previous item is to actually configure the mother pattern of the previous item in memory, read data at a predetermined address from it, and obtain the pattern. However, this would require an extremely large memory capacity. In this case, instead of actually creating a mother pattern, you can pay attention to the periodicity of the pattern and calculate the density of each pixel in the following manner to obtain the pattern after scaling.
即ち、拡大(イΔ率m7n>の場合には、新たなブロッ
ク(拡大後のブロック)の行方向1番目のブロック内の
x行目のパターンは、拡大前のブロックの行方向1番目
のブロックにおける、△D1=mod [x 4−
mod [(T−1) (m −n >。That is, in the case of expansion (i) rate m7n>, the x-th pattern in the first block in the row direction of the new block (block after expansion) is the same as the pattern in the first block in the row direction of the block before expansion. , ΔD1=mod [x 4−
mod [(T-1) (m-n>.
nコ千1−2.r+]+1
行目のパターンに等しく、且つ新たなブロックの列方向
JIS目のブロック内のy列目のパターンは、拡大前の
ブロックの列り向0番目のブロックにおける、
AD2=morl [y +mod [LJ−1)
(m −n ) 。nko 1-2. The pattern in the y-th column in the JIS-th block in the column direction of the new block, which is equal to the pattern in the JIS-th row of the new block, is AD2=morl [y + mod [LJ-1)
(m-n).
n ]+1−2. n 1+1
列目のパターンに等しく、一方、縮小(倍率IIl/r
l)の場合には、新たなブロック〈縮小後のブロック)
の行方向Tffi目のブロック内のx行目のパターンは
、縮小前の行方向TI目のブロックにおける、
AD1=mod [X +morl [(T−1)
(n −’、 n−m l > 、 n
]+1−2. n コ + 1行目のパターン
に等しく、目つ新たなブロックの列方向8番目のブロッ
ク内のy列目のパターンは、縮小前のブロックの列方向
8番目のブロックにおける。n]+1-2. equal to the pattern in the n 1+1th column, while reduced (magnification IIl/r
In case l), a new block (block after reduction)
The x-th pattern in the Tffi-th block in the row direction is AD1=mod [X + morl [(T-1)] in the TI-th block in the row direction before reduction.
(n −', n−ml > , n
]+1-2. The pattern in the y-th column in the 8th block in the column direction of the new block, which is equal to the pattern in the n + 1st row, is in the 8th block in the column direction of the block before reduction.
AD2=mod [y +mod [(J−1>
(n −1n−Inl)、n コ + 1−2.
n ] + 1列目のパターンに等しい。AD2=mod [y +mod [(J-1>
(n −1n-Inl), n co + 1-2.
n ] + equal to the pattern in the first column.
ここで、mod[l’1.Q]はp÷qの余りであり、
当然qより小さい。Here, mod[l'1. Q] is the remainder of p÷q,
Of course it is smaller than q.
従って、変倍前の各ブロックの画素?1度をメモリに格
納しておけば、ADI、AD2を行1列方向のアドレス
として変倍前の該当ブロック内の画素濃度を読み出すこ
とにより、容易に新たなブ[]ツクのパターンを得るこ
とができる。Therefore, the pixels of each block before scaling? Once stored in memory, a new block pattern can be easily obtained by using ADI and AD2 as addresses in the row and column direction and reading out the pixel density in the corresponding block before scaling. I can do it.
(発明の効果)
以上説明したように、本発明は、第1の濃度マトリック
スパターンから倍率に応じたサイズの第2の濃度マトリ
ックスパターンを各ブロック毎に得るものであるから、
網点ピッチは不変であり、サンプリング間隔を変えるこ
とにより拡大・縮小画像を得る従来の方法と異なり、モ
アレ縞が生じ難い。又、ブロックの平均濃度レベル(黒
画素数)の変換により階調処理を達成するため、階調処
理を容易に行える。(Effects of the Invention) As explained above, in the present invention, a second density matrix pattern of a size corresponding to the magnification is obtained for each block from the first density matrix pattern.
The halftone dot pitch remains unchanged, and unlike the conventional method of obtaining enlarged/reduced images by changing the sampling interval, moiré fringes are less likely to occur. Furthermore, since gradation processing is achieved by converting the average density level (number of black pixels) of a block, gradation processing can be easily performed.
第1図の本発明方法の一例を示すフローチャート、第2
図は第1図における2値化の一例を示す説明図、第3図
は第1図における階調処理の説明図、第4図は階調曲線
の説明図、第5図は第1図における第1の濃度マトリッ
クスパターンの説明図、第6図は第1図における第2の
濃度マトリックスパターン(拡大・縮小画i>の説明図
、第7図は第1の濃度マトリックスパターンから第2の
濃度マトリックスパターンを得る方法の説明図である。
DMl、DM2・・・ディザマトリックスA・・・オリ
ジナル画像 B・・・2値化画像f11.f12.”’
、f2+・f 22 、 ”’・・・第1のmaマトリ
ックスパターンのブロックF11.F12.・・・1F
21.F22.・・・・・・第2の濃度マトリックスパ
ターンのブロックCA、CB・・・階調曲線
特許出願人 小西六写真工業株式会社
代 理 人 弁理士 井 島 藤 治外
1名
1N開11U61−154270(6)凧4図
A
吊上
図FIG. 1 is a flowchart showing an example of the method of the present invention;
The figure is an explanatory diagram showing an example of the binarization in Fig. 1, Fig. 3 is an explanatory diagram of the gradation processing in Fig. 1, Fig. 4 is an explanatory diagram of the gradation curve, and Fig. 5 is an explanatory diagram of the gradation process in Fig. 1. FIG. 6 is an explanatory diagram of the second density matrix pattern (enlarged/reduced image i>) in FIG. 1, and FIG. 7 is an explanatory diagram of the first density matrix pattern to the second density matrix pattern. It is an explanatory diagram of a method of obtaining a matrix pattern.DMl, DM2...Dither matrix A...Original image B...Binarized image f11.f12."'
, f2+・f 22 , ”'...Block F11.F12...1F of the first ma matrix pattern
21. F22. ...Second density matrix pattern blocks CA, CB...Tone curve Patent applicant Roku Konishi Photo Industry Co., Ltd. Agent Patent attorney Fuji Ijima 1 person 1N Kai 11U61-154270 ( 6) Kite diagram 4 A: Hoisting diagram
Claims (4)
黒画素数若しくは白画素数の少なくとも一方を計数する
第1のステップと、該画素数を階調曲線に基づき変換し
、変換後の画素数から各ブロックの濃度レベルを決定し
、前記各ブロック毎に、その決定濃度レベルに対応した
第1の濃度マトリックスパターンを用いて、拡大・縮小
倍率に応じたサイズの第2の濃度マトリックスパターン
を得る第2のステップとを有し、該第2の濃度マトリッ
クスパターンで再構成される画像を処理後の画像とする
ことを特徴とする画像処理方法。(1) A first step of dividing the binarized image into blocks and counting at least one of the number of black pixels or the number of white pixels for each block, converting the number of pixels based on the gradation curve, and after the conversion The density level of each block is determined from the number of pixels, and for each block, a second density matrix of a size corresponding to the enlargement/reduction magnification is created using the first density matrix pattern corresponding to the determined density level. and a second step of obtaining a pattern, and an image reconstructed using the second density matrix pattern is used as a processed image.
使用した閾値群と前記決定濃度レベルとの比較によって
決まるパターンを、前記第1の濃度マトリックスパター
ンとして用いるようにしたことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の画像処理方法。(2) The first density matrix pattern is characterized in that a pattern determined by a comparison between a threshold group used to obtain a binarized image to be subjected to image processing and the determined density level is used as the first density matrix pattern. An image processing method according to claim 1.
使用した閾値群のサイズ以下に前記ブロックのサイズを
選ぶことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の画像処理方法。(3) Image processing according to claim 1 or 2, characterized in that the size of the block is selected to be less than or equal to the size of the threshold group used when obtaining the binarized image that is the object of image processing. Method.
るパターンを2次元的に配列させることにより得られる
母パターンを、前記第2の濃度マトリックスパターンの
サイズで区画したときに、求めようとする第2の濃度マ
トリックスパターンと同一の位置関係にあるパターンを
切り出して、これを該当する第2の濃度マトリックスパ
ターンとして用いることを特徴とする特許請求の範囲第
1項、第2項又は第3項記載の画像処理方法。(4) When the mother pattern obtained by two-dimensionally arranging the corresponding patterns in the first density matrix pattern is divided by the size of the second density matrix pattern, Claim 1, 2, or 3 is characterized in that a pattern having the same positional relationship as the second density matrix pattern is cut out and used as the corresponding second density matrix pattern. image processing method.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59279493A JPS61154270A (en) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | Picture processing method |
US06/813,050 US4783838A (en) | 1984-12-26 | 1985-12-24 | Image processing method and apparatus therefor |
DE19853546136 DE3546136A1 (en) | 1984-12-26 | 1985-12-27 | IMAGE PROCESSING METHOD AND DEVICE |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59279493A JPS61154270A (en) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | Picture processing method |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60280133A Division JPS61154274A (en) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | Picture reloading method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61154270A true JPS61154270A (en) | 1986-07-12 |
JPH0376630B2 JPH0376630B2 (en) | 1991-12-06 |
Family
ID=17611812
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP59279493A Granted JPS61154270A (en) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | Picture processing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61154270A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS641074A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Fuji Xerox Co Ltd | Picture processor |
US5287209A (en) * | 1990-10-09 | 1994-02-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Image forming device for enhancing tone reproduction by changing dot size |
US5337167A (en) * | 1991-04-03 | 1994-08-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Halftone image forming apparatus including density based dot enlargement |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5814673A (en) * | 1981-07-20 | 1983-01-27 | Hitachi Ltd | Gradation signal restoring system |
JPS5825767A (en) * | 1981-08-07 | 1983-02-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | Picture processing device |
JPS58221567A (en) * | 1981-12-28 | 1983-12-23 | Ricoh Co Ltd | Picture processor |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP59279493A patent/JPS61154270A/en active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0376630B2 (en) | 1991-12-06 |
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