JPS61149857A - Sensor for analyzing dissolved material - Google Patents

Sensor for analyzing dissolved material

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Publication number
JPS61149857A
JPS61149857A JP59272133A JP27213384A JPS61149857A JP S61149857 A JPS61149857 A JP S61149857A JP 59272133 A JP59272133 A JP 59272133A JP 27213384 A JP27213384 A JP 27213384A JP S61149857 A JPS61149857 A JP S61149857A
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JP
Japan
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sensor
metallic
fet
insulating film
gate insulating
Prior art date
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Pending
Application number
JP59272133A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Nakayama
中山 俊夫
Kenichi Sugano
菅野 憲一
Tetsuya Katayama
潟山 哲哉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP59272133A priority Critical patent/JPS61149857A/en
Publication of JPS61149857A publication Critical patent/JPS61149857A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403Cells and electrode assemblies
    • G01N27/414Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS

Abstract

PURPOSE:To detect the electrically neutral dissolved material in a soln. by forming a thin semiconductor layer as a photocatalyst on a gate insulating film of an FET. CONSTITUTION:The thin semiconductor layer 5 which acts photocatalytically is formed on the gate insulating film of the FET consisting of a gate 1, a source 2, a drain 3 and the gate insulating film 4, by which a sensor 6 for analyzing the dissolved material is constituted as a whole. The semiconductor which acts catalytically is exemplified by Si and Ge alone, metallic phosphide such as InP, GaP or Zn3O2, metallic arsenide such as AlAs or GaAs, metallic sulfide such as CdS, ZnS or Cu2S, metallic selenide such as CdSe ZnSe, metallic telluride such as CdTe or ZnTe, metallic oxide such as TiO2, ZnO or SrTiO3, and the ternary or quaternary mixed crystals consisting of semiconductors, for example, GaAlAs, InGaAs, CdSSe, ZnSSe, InGaAsP, GaAlAsP, CuInS2, CuInSe2, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は溶液中の溶存物質の定量分析に使用して好適な
溶存物質分析用センサに関し、更に詳しくは、電界効果
型トランジスタのゲートを作用電極とし、かつ、電荷を
持たない溶存物質の定量分析が可能な溶存物質分析用セ
ンサに関する。
Detailed Description of the Invention [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a sensor for analyzing dissolved substances suitable for quantitative analysis of dissolved substances in a solution. The present invention relates to a sensor for analyzing dissolved substances that is capable of quantitatively analyzing dissolved substances that do not have an electric charge.

[発明の技術的背景とその問題点] 近年、溶液中の溶存物質の定量分析に電界効果型トラン
ジスタ(以下、 FETという)を利用したものが注目
されている。すなわち、 FETのゲート表面に、ある
特定の物質に感応する物質を添着したものは、その特定
物質に感応するセンサとして機能しうる。このFETセ
ンサは、ゲート部が高いインピーダンスでかつ出力側が
低インピーダンスであるため、センサ機能と同時にイン
ピーダンス変換器機能も具備している。このため、 F
ETセンサを用いた測定には環境からのノイズの影響が
少なくなり正確さが保障される。
[Technical background of the invention and its problems] In recent years, devices using field effect transistors (hereinafter referred to as FETs) have been attracting attention for quantitative analysis of dissolved substances in solutions. That is, an FET with a substance sensitive to a specific substance attached to the gate surface can function as a sensor sensitive to the specific substance. This FET sensor has a high impedance at the gate and a low impedance at the output side, so it has both a sensor function and an impedance converter function. For this reason, F
Measurements using ET sensors are less affected by noise from the environment, ensuring accuracy.

そして、これは小型化することが可能であり、かつ、同
一特性、同一形状のセンサをばらつきを少なく多量に製
造することができるのでその価格の低源になる。
This can be miniaturized, and sensors with the same characteristics and shape can be manufactured in large quantities with little variation, which is a source of low prices.

このFETセンナを溶液に浸漬して、例えば容質濃度を
測定する分析装置として用いた場合、ゲートと液界面と
の間の電位、電気容量がわずかに変動してもその変化先
出刃側のドレイン電流に有効に反映させることができる
。すなわち、ゲート/液界面間の電気化学的変化をドレ
イン電流の変化として検出することができるのである。
When this FET sensor is immersed in a solution and used as an analyzer for measuring volume concentration, for example, even if the potential and capacitance between the gate and the liquid interface change slightly, the drain on the cutting edge side will be the first to change. This can be effectively reflected in the current. That is, electrochemical changes between the gate/liquid interface can be detected as changes in drain current.

ところで、上述のように、FETセンサはゲート電位の
変動によって検出を行なうものであるから、検出物質が
イオンのように電荷を有するものである場合には、検出
物質が直接ゲート電位を変動させるので問題はないが、
検出物質が例えばガスのように電荷を持たないもの、す
なわち、電気的に中性なものである場合には検出が不可
能であるという問題があった。
By the way, as mentioned above, the FET sensor performs detection by changing the gate potential, so if the detection substance has a charge such as an ion, the detection substance directly changes the gate potential. No problem, but
There is a problem in that detection is impossible when the detection substance has no electric charge, such as a gas, that is, it is electrically neutral.

[発明の目的] 本発明は、従来のかかる問題を解消し、FETを利用し
た溶存物買分析用センサであって、かつ。
[Object of the Invention] The present invention solves the conventional problems and provides a sensor for analyzing dissolved substances using an FET.

溶液中の電気的に中性な溶存物質を検出することが可能
な溶存物質分析用センサの提供を目的とする。
The object of the present invention is to provide a sensor for analyzing dissolved substances that can detect electrically neutral dissolved substances in a solution.

[発明の概要・1 本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた
結果、光を照射することにより、物質の酸化還元反応に
関与する触媒として機能する、所謂光触媒となりうる半
導体に着目し、かかる半導体をFETセンサに付加して
使用すれば、その半導体の光触媒作用により、そこに存
在する中性の溶存物質が酸化還元作用を受けてイオン化
するので、その電気的挙動をFETが感知することによ
って電気的に中性な溶存物質の検出が可能であることを
確認して本発明を完成するに至った。
[Summary of the Invention/1] As a result of extensive research to achieve the above object, the present inventors have developed a semiconductor that can function as a so-called photocatalyst, which functions as a catalyst that participates in redox reactions of substances when irradiated with light. Focusing on this, if such a semiconductor is added to an FET sensor and used, the photocatalytic action of the semiconductor will cause the neutral dissolved substances present there to be ionized by the redox action, so that the electrical behavior can be changed to an FET sensor. The present invention was completed by confirming that it is possible to detect electrically neutral dissolved substances by sensing.

すなわち、本発明の溶存物賀分析用センサは。That is, the sensor for dissolved gas analysis of the present invention is as follows.

電界効果型トランジスタのゲートを作用電極とする溶存
物質分析用センサであって、該電界効果型トランジスタ
のゲート絶縁膜上に、光触媒としての半導体薄層が形成
されてなることを特徴とする。
A sensor for analyzing dissolved substances using the gate of a field effect transistor as a working electrode, characterized in that a semiconductor thin layer as a photocatalyst is formed on the gate insulating film of the field effect transistor.

第1図は本発明の溶存物質分析用センサ6の基本構造の
一例を示したものであり、ゲート1、ソース2、ドレイ
ン3およびゲート絶縁n* 4よりなるFETのゲート
絶縁膜上に、光触媒的に作用する半導体薄層5が形成さ
れて、全体として、溶存物質分析用センサ6が構成され
ている。
FIG. 1 shows an example of the basic structure of a sensor 6 for analyzing dissolved substances according to the present invention. A thin semiconductor layer 5 which acts as a material is formed, and the sensor 6 for analyzing dissolved substances is constituted as a whole.

本発明の溶存物質分析用センサにあって、光触媒的に作
用する半導体としては、とくに限定されるものではない
が、Si、 Geなどの単体; InP。
In the sensor for analyzing dissolved substances of the present invention, semiconductors that act photocatalytically include, but are not particularly limited to, simple substances such as Si and Ge; InP;

GaP 、 Zn3P2などの金属リン化物;  Al
l As、 GaAsなどの金属ヒ化物; CdS 、
 Zr+S 、 Cu2Sなどの金属硫化物; GdS
e、 Zn5eなどの金属セレン化物:CdTe、Zn
Teなどの金属テルル化物; TiO2、ZnO1Sr
Ti03などの金属酸化物;ならびにこれらの半導体よ
りなる3元もしくは4元混晶、例えば、GaAJL A
s、rnGaAs、 Cd5Se 、 ZnSSe 、
 InGaAgP、GaA!LAsP 、 Cu1nS
2、(:ulnSe2などがあげられる。
Metal phosphides such as GaP, Zn3P2; Al
l Metal arsenides such as As, GaAs; CdS,
Metal sulfides such as Zr+S and Cu2S; GdS
e, metal selenide such as Zn5e: CdTe, Zn
Metal telluride such as Te; TiO2, ZnO1Sr
Metal oxides such as Ti03; and ternary or quaternary mixed crystals made of these semiconductors, such as GaAJL A
s, rnGaAs, Cd5Se, ZnSSe,
InGaAgP, GaA! LAsP, Cu1nS
2, (:ulnSe2, etc.).

上記のような光触媒作用を有する半導体は、光を照射す
るだけでその界面に存在する溶存物質の酸化還元反応を
行なわしめる機能をもつため、外部からバイアスをかけ
るなどの操作を全く必要としない。したがって、溶存物
質分析用センサの構造は、基本的には上述のように、F
ETのゲート絶縁膜上に上記の半導体よりなる薄膜が積
層された構造であれば足りる。このとき、該半導体薄膜
がFET自身の動作特性を擾乱することは全くない。 
本発明の溶存物質分析用センサは、通常の方法を適用し
てFETを製造したのち、そのゲート絶縁膜上に上記の
光触媒作用を有する半導体薄層を形成することによって
容易に製造することができる。半導体薄層の形成には真
空蒸着法、スパッタ法、CVD法などが適用できる。そ
して。
Semiconductors with a photocatalytic effect as described above have the function of causing a redox reaction of dissolved substances present at the interface simply by irradiation with light, so there is no need for any operation such as applying a bias from the outside. Therefore, the structure of the sensor for dissolved substance analysis is basically as described above.
A structure in which a thin film made of the above semiconductor is laminated on the gate insulating film of the ET is sufficient. At this time, the semiconductor thin film does not disturb the operating characteristics of the FET itself at all.
The sensor for analyzing dissolved substances of the present invention can be easily manufactured by applying a conventional method to manufacturing an FET, and then forming the above-mentioned semiconductor thin layer having a photocatalytic effect on the gate insulating film. . A vacuum evaporation method, a sputtering method, a CVD method, etc. can be applied to form the semiconductor thin layer. and.

その層厚は500〜10.000A程度であることが好
ましい、一方、上記した光触媒作用を有する半導体の中
には水溶液中で安定でないものも含まれるので、そのよ
うなものを使用する際は、半導体薄層を保護するための
保護膜を積層させるとよい。
The layer thickness is preferably about 500 to 10,000 A. On the other hand, some of the above-mentioned photocatalytic semiconductors are not stable in aqueous solutions, so when using such semiconductors, It is preferable to laminate a protective film to protect the semiconductor thin layer.

かかる保護膜は、半導体薄層表面に光により生成したキ
ャリアを輸送する必要があり、そのため。
Such a protective film is therefore required to transport carriers generated by light to the surface of the semiconductor thin layer.

金属薄膜、ポリピロールなどの導電性高分子膜などによ
り形成することが好ましい、尚、5102のような絶縁
物であっても 100人程度の超薄膜であればさしつか
えない。
It is preferable to use a thin metal film, a conductive polymer film such as polypyrrole, etc. However, even an insulating material such as 5102 can be used as long as it is an ultra-thin film of about 100 layers.

次いで、かかる半導体の光触媒作用の原理について説明
する。第2図は半導体自身のエネルキーレベル並びに溶
液中の溶存物質の酸化還元レベルを模式的に示したもの
であり、先ず半導体11に、この半導体が吸収可能な波
長域の光17を溶液14中で照射すると、価電子帯12
に正孔、伝導帯13に電子がそれぞれ励起される。この
とき。
Next, the principle of the photocatalytic action of such a semiconductor will be explained. FIG. 2 schematically shows the energy level of the semiconductor itself and the redox level of dissolved substances in the solution. First, the semiconductor 11 is exposed to light 17 in the wavelength range that the semiconductor can absorb in the solution 14. When irradiated, valence band 12
Holes are excited in the conduction band 13, and electrons are excited in the conduction band 13. At this time.

伝導帯13が溶液14中の電子受容性物質(アクセプタ
ー)の酸化還元レベル15よりも高い位置であり、かつ
、価電子帯12が溶液14中の電子供与物質(ドナー)
の酸化還元レベル16よりも低い位置である場合は、上
記光照射によって生成した電子および正孔はそれぞれア
クセプターを還元し、ドナーを酸化することができる。
The conduction band 13 is at a position higher than the redox level 15 of the electron-accepting substance (acceptor) in the solution 14, and the valence band 12 is at a position higher than the redox level 15 of the electron-donating substance (donor) in the solution 14.
If the redox level is lower than 16, the electrons and holes generated by the light irradiation can reduce acceptors and oxidize donors, respectively.

すなわち、溶液中の検出すべき物質の酸化還元レベルに
対して、第2図に示す如き価電子帯および伝導帯のレベ
ルをとりうる半導体を適宜選択して使用することにより
、検出すべき物質をイオン化することができるのである
In other words, the substance to be detected can be detected by appropriately selecting and using a semiconductor that can take on the valence band and conduction band levels as shown in Figure 2, relative to the redox level of the substance to be detected in the solution. It can be ionized.

この場合、電気的に中性の7クセプター(A)の検出に
は、反応を促進させるためにドナー(D−)を溶液中に
共存させておくと、第2図において、酸化還元レベル1
5においては反応A→A−が、又、酸化還元レベル1B
においては反応D−→Dがそれぞれ進行してアクセプタ
ーAは速やかにイオン化する。一方、これとは逆に電気
的に中性のドナー(D)を検出する場合には、アクセプ
ター(A1)を共存させておけばよい。
In this case, in order to detect the electrically neutral 7 receptor (A), if a donor (D-) is present in the solution to promote the reaction, the redox level is 1 in Figure 2.
In 5, the reaction A→A- is also at the redox level 1B.
In this case, the reaction D−→D progresses, and the acceptor A is quickly ionized. On the other hand, when detecting an electrically neutral donor (D), on the other hand, an acceptor (A1) may be allowed to coexist.

このようにイオン化された被検出物質は分析用センサの
ゲート電位を変動させ、その結果、ドレイン電流の変化
として検出される。
The ionized substance to be detected changes the gate potential of the analytical sensor, and as a result, it is detected as a change in drain current.

しかしながら、溶液中に、酸化還元レベルが互いに似通
った物質が共存する場合には反応が競争的に進行する可
能性があり、目的とする物質の分析が阻害されることも
ある。このような場合には、■半導体自身の触媒として
の選択性を利用するか、■半導体薄層上に更に検出すべ
き溶存物質に対して選択的な触媒作用を有する、云わば
However, if substances with similar redox levels coexist in the solution, the reaction may proceed competitively, and analysis of the target substance may be inhibited. In such a case, 1) the selectivity of the semiconductor itself as a catalyst is utilized, or 2) it has a selective catalytic effect on the dissolved substance to be further detected on the semiconductor thin layer.

触媒層(金属層あるいは有機金属錯体修飾層)を設ける
か、又は、■この金属層上に選択的物質透過膜を設ける
ことによって、実質的に目的とする反応のみを検出する
ことが可能となる。
By providing a catalyst layer (metal layer or organometallic complex modification layer) or by providing a selective substance permeable membrane on this metal layer, it becomes possible to substantially detect only the desired reaction. .

尚、上記の金属層は単に検出すべき溶存物質に対して選
択的に作用するのみならず、目的とする反応に対する光
触媒作用を促進することによってセンナとしての感度を
高める上でも非常に効果的である。このような触媒選択
性を有する金属としては、Ir、 Os、 Pd、 P
t、 Rh、 Ru、 Re、 Fe、 Go。
The above metal layer not only acts selectively on the dissolved substances to be detected, but is also extremely effective in increasing the sensitivity of senna by promoting the photocatalytic action for the desired reaction. be. Metals with such catalyst selectivity include Ir, Os, Pd, P
t, Rh, Ru, Re, Fe, Go.

旧又はラネーニッケルなどが好適であり、またこれら金
属の酸化物を使用することもできる。
Old or Raney nickel is preferred, and oxides of these metals can also be used.

以上のように本発明の溶存物質分析用センサは、数々の
電気的に中性の溶存物質、例えば血液中の02a度或い
は002濃度の測定を可能にする。
As described above, the dissolved substance analysis sensor of the present invention makes it possible to measure a number of electrically neutral dissolved substances, such as 02a degrees or 002 concentration in blood.

実際の測定に際しては、上記のセンサを溶液中に浸漬し
たのち、使用した半導体の吸収波長の光を照射すること
により、溶液中で然るべき酸化還元反応を行なわしめ、
生じたイオンによるFETのドレイン電流の変動を検出
すればよい。
During actual measurements, the sensor described above is immersed in a solution and then irradiated with light at the absorption wavelength of the semiconductor used to carry out the appropriate redox reaction in the solution.
It is sufficient to detect fluctuations in the drain current of the FET due to the generated ions.

[発明の実施例] (1)溶存物質分析用センサの製造 −例として、02ガス分析用センサを製造した。[Embodiments of the invention] (1) Manufacture of sensors for dissolved substance analysis - As an example, a 02 gas analysis sensor was manufactured.

すなわち、第3図に示すように、p型シリコン基板に形
成したゲート21、ソース22、ドレイン23並びにゲ
ート絶縁膜(Si02) 24よりなるFETを通常の
方法を適用して製造したのち、ゲート保護膜として厚さ
約1000人のSi3N4膜27をGVD法により形成
し、さらに、02ガスに対して光触媒的に作用する半導
体としてTiO2を選択し、 Si3N4膜27上にこ
のTiO2よりなる厚さ約5000人の薄層25をスパ
ッタ法により形成してTiO2面以外を被覆し、02ガ
ス分析用センサ26を完成した。
That is, as shown in FIG. 3, after manufacturing an FET consisting of a gate 21, a source 22, a drain 23, and a gate insulating film (Si02) 24 formed on a p-type silicon substrate by applying a conventional method, gate protection is performed. A Si3N4 film 27 with a thickness of about 1000 mm is formed as a film by the GVD method, and TiO2 is selected as a semiconductor that acts photocatalytically on the 02 gas, and a Si3N4 film 27 with a thickness of about 5000 mm is formed on the Si3N4 film 27. A thin layer 25 of the material was formed by sputtering to cover the surface other than the TiO2 surface, and a sensor 26 for 02 gas analysis was completed.

(2)溶存物質濃度の定量 上記により製造した02ガス分析用センサ2Bを数々の
溶存02濤度を有する被測定液に浸漬し、TiO2層表
面を高圧水銀ランプからの光28で照射しながらドレイ
ン電流の変化を調べた。その結果を第4図に示した。す
なわち、第4図は02濃度とドレイン電流との関係を、
横軸に文og[pp履(02)]、縦軸に電流をそれぞ
れとることによって示したものであり1図から明らかな
ように、溶存02濃度によりドレイン電流が一定の関係
をもって変化した。したがって、この02ガスセンサー
としての機能が良好であることが確認された。
(2) Determination of dissolved substance concentration The 02 gas analysis sensor 2B manufactured as described above is immersed in the liquid to be measured having various dissolved 02 concentrations, and the surface of the TiO2 layer is irradiated with light 28 from a high-pressure mercury lamp while draining. We investigated changes in current. The results are shown in Figure 4. In other words, Figure 4 shows the relationship between 02 concentration and drain current,
This is shown by plotting OG[pp(02)] on the horizontal axis and current on the vertical axis, and as is clear from Figure 1, the drain current changed with a certain relationship depending on the dissolved 02 concentration. Therefore, it was confirmed that this 02 gas sensor functioned well.

[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明の溶存物質分析
用センサは、FETの機能に対し、更に光触媒的作用を
付加することにより得られるので、従来のFETセンサ
では不可能であった電気的に中性な物質の定量分析が可
能になった。すなわち。
[Effects of the Invention] As is clear from the above description, the sensor for analyzing dissolved substances of the present invention is obtained by adding a photocatalytic action to the FET function, which is impossible with conventional FET sensors. Quantitative analysis of electrically neutral substances has become possible. Namely.

02、002など、のガスのみならず、電気的に中性な
物質全般に対して、高感度なセンサとして使用すること
ができる。更に、本発明の溶存物質分析用センサは、原
理的にいって、使用する半導体のバンド位置と、場合に
よっては金属の選択的触媒活性のみを利用して物質の選
択的検出を行なっているため、他の方法、例えば、選択
性物質内の拡散過程を伴なうような選択検出方法と比較
して、センナの応答速度が非常に速いという利点を有す
る。
It can be used as a highly sensitive sensor not only for gases such as 02 and 002, but also for all electrically neutral substances. Furthermore, the sensor for analyzing dissolved substances of the present invention, in principle, selectively detects substances using only the band position of the semiconductor used and, in some cases, the selective catalytic activity of the metal. Compared to other methods, such as selective detection methods that involve diffusion processes in selective substances, senna has the advantage of a very fast response speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の溶存物質分析用センナの基本構成の一
例を示す概念図、第2図は本発明の光触媒反応の原理を
示す図、第3図は本発明の一実施例を示す概念的構成図
、第4図は溶存酵素濃度とセンサのドレイン電流との関
係を示す図である。 ■、21・・・・・・・・・ゲート、5,25・・・・
・・・・・半導体薄層。 6.26・・・・・・・・・溶存物質分析用センサ、1
2・・・・・・・・・価電子帯、 13・・・・・・・
・・伝導帯。 第1図 第3図 1o9[02+ppm +]
Fig. 1 is a conceptual diagram showing an example of the basic configuration of the senna for dissolved substance analysis of the present invention, Fig. 2 is a conceptual diagram showing the principle of the photocatalytic reaction of the present invention, and Fig. 3 is a conceptual diagram showing an example of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the dissolved enzyme concentration and the drain current of the sensor. ■, 21......Gate, 5, 25...
...Semiconductor thin layer. 6.26......Dissolved substance analysis sensor, 1
2・・・・・・・・・Valence band, 13・・・・・・・
...Conduction band. Figure 1 Figure 3 1o9 [02+ppm +]

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 電界効果型トランジスタのゲートを作用電極とする溶存
物質分析用センサであって、該電界効果型トランジスタ
のゲート絶縁膜上に、光触媒としての半導体薄層が形成
されてなることを特徴とする溶存物質分析用センサ。
A sensor for analyzing dissolved substances that uses the gate of a field effect transistor as a working electrode, characterized in that a semiconductor thin layer as a photocatalyst is formed on the gate insulating film of the field effect transistor. Sensor for analysis.
JP59272133A 1984-12-25 1984-12-25 Sensor for analyzing dissolved material Pending JPS61149857A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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