JPS61148217A - Phosphorus-containing polyphenol compound and production thereof - Google Patents
Phosphorus-containing polyphenol compound and production thereofInfo
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- JPS61148217A JPS61148217A JP27008684A JP27008684A JPS61148217A JP S61148217 A JPS61148217 A JP S61148217A JP 27008684 A JP27008684 A JP 27008684A JP 27008684 A JP27008684 A JP 27008684A JP S61148217 A JPS61148217 A JP S61148217A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なリン含有ポリフェノール化合物およびそ
の製法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel phosphorus-containing polyphenol compound and a method for producing the same.
更に詳しくは、本発明は下記一般式(I)1式中、Ql
、Q2およびQ8は同一または異なり、水素、脂肪族基
、芳香族基または、式
(式中、R″およびR”は同一または異なり、脂肪族基
または芳香族基を表わす。)で示されるリン含有基を表
わす。ただし、Ql、Q2およびQ8の少なくとも1つ
は該リン含有基を表わす。R1、R2および伽は同一ま
たは素数1〜4のアルキル基を表わし、nは0以上の数
を表わすっ〕
で示されるリン含有ポリフェノール化合物、および(1
)、下記一般式(n) 、(m)および(TV)、Q+
1OH
〔式中、Ql、Q2、Q8、R1,R2およびRaは前
記の意味を有する〕 1で示されるフェ
ノール化合物から選ばれる少なくとも1種と、下記一般
式(V)
凡4cHo (v)
〔式中、IL4は前記の意味を有する、〕で示されるア
ルデヒドとを反応させるか、または(2)下記一般式(
vr)、
〔式中、R1、R2、R8−R4およびnは前記の意味
を有し、Yl 、Y2およびY8は同一または異なり、
水素、脂肪族基、芳香族基または式
(式中、Xはハロゲンまたはヒドロキシ基を表わす。)
で示される置換メチル基を表わす。More specifically, in the following general formula (I) 1, the present invention provides Ql
, Q2 and Q8 are the same or different and are hydrogen, an aliphatic group, an aromatic group, or a phosphorus group represented by the formula (wherein R'' and R'' are the same or different and represent an aliphatic group or an aromatic group) Represents a containing group. However, at least one of Ql, Q2 and Q8 represents the phosphorus-containing group. R1, R2 and 佽 are the same or represent an alkyl group having a prime number of 1 to 4, and n represents a number of 0 or more.] A phosphorus-containing polyphenol compound represented by
), the following general formulas (n), (m) and (TV), Q+ 1OH [wherein Ql, Q2, Q8, R1, R2 and Ra have the above-mentioned meanings] 1. At least one species is reacted with an aldehyde represented by the following general formula (V) approximately 4cHo (v) [wherein IL4 has the above-mentioned meaning], or (2) the following general formula (
vr), [wherein R1, R2, R8-R4 and n have the above meanings, Yl, Y2 and Y8 are the same or different,
Hydrogen, aliphatic group, aromatic group or formula (wherein, X represents a halogen or hydroxy group)
represents a substituted methyl group represented by
ただし、yt + Y2およびY8の少なくとも1つは
該置換メチル基を表わす。〕
で示される多核フェノール類と下記一般式(vn)、〔
式中、R″およびR″は前記の意味を有し、R5は1e
肪族基を表わす。〕
で示されるホスフィナイト類とを反応させることを特徴
とする前記一般式(T)で示されるリン含有ポリフェノ
ール化合物の製法に関する。However, at least one of yt + Y2 and Y8 represents the substituted methyl group. ] Polynuclear phenols represented by the following general formula (vn), [
In the formula, R″ and R″ have the above meanings, and R5 is 1e
Represents an aliphatic group. ] A method for producing a phosphorus-containing polyphenol compound represented by the general formula (T), characterized by reacting the compound with a phosphinite represented by the formula (T).
前記一般式において、Ql、 Q2−およびQ8で表わ
される脂肪族としてはメチル、エチル、ブチル基などの
cI C,sアルキル基が、また、芳香族基としては
置換または未置換のフェニル基が例示される。In the above general formula, examples of aliphatic groups represented by Ql, Q2- and Q8 include cI C,s alkyl groups such as methyl, ethyl, and butyl groups, and examples of aromatic groups include substituted or unsubstituted phenyl groups. be done.
R″およびR″で表わされる脂肪族基としてはメチル、
エチル、ブチルなどのCt 04アルキル基が、また
芳香族基としては未置換または低級アルキル(メチル、
エチルなト)置換フェニル基が例示される。これらの中
、メチル基、フェニル基などが好ましい。The aliphatic groups represented by R'' and R'' include methyl,
Ct 04 alkyl groups such as ethyl, butyl, and aromatic groups include unsubstituted or lower alkyl groups (methyl,
An ethyl (t)substituted phenyl group is exemplified. Among these, methyl group, phenyl group, etc. are preferred.
R1、R2およびR8で表わされるハロゲンとは塩素、
臭素などであり、脂肪族基としてはメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、オクチル、ノニルなどのCt −ct
o アルキル基、メトキシ、エトキシなどの低級アル
コキシ基、アリル、イソプロペニルなどの低級アルケニ
ル基、ベンジルなどのアラルキル基が例示され、また芳
香族基としては未置換または低級アルキル置換フェニル
またはフェノキシ基などが例示される。The halogens represented by R1, R2 and R8 are chlorine,
Bromine, etc., and aliphatic groups include Ct-ct such as methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl, nonyl, etc.
o Examples include alkyl groups, lower alkoxy groups such as methoxy and ethoxy, lower alkenyl groups such as allyl and isopropenyl, and aralkyl groups such as benzyl, and aromatic groups include unsubstituted or lower alkyl substituted phenyl or phenoxy groups. Illustrated.
R5で表わされる脂肪族基としてはメチル、エチル、ブ
チルなどのCI−c4アルキル基が例示される。Examples of the aliphatic group represented by R5 include CI-c4 alkyl groups such as methyl, ethyl, and butyl.
前記一般式(I)で示されるリン含有ポリフェノール化
合物は、前記一般式(TI) −(m)および(tV)
で示されるフェノール化合物の少なくとも1種と、前記
一般式(V)で示されるアルデヒドを反応させることに
よって製造することができる。The phosphorus-containing polyphenol compound represented by the general formula (I) has the general formula (TI) -(m) and (tV)
It can be produced by reacting at least one phenol compound represented by the formula (V) with an aldehyde represented by the general formula (V).
一般式(II)、(m)または(Iv)で示されるフェ
ノール化合物の中、Qz 、 Q2またはQ8として
、式
(式中、R″およびR″は前記の意味を有する。)で示
されるリン含有基を有するフェノール化合物は、一般式
(■)、
H
(式中、R1、R2、R8およびXは前記の意味を有す
る。)
で示される化合物と、一般式(VTI)で示されるホス
フィナイト類とを反応させることによって得ることがで
きる。この反応は無溶媒下で、あるいは必要ならば溶媒
の存在下で、混合し加熱攪拌することにより行なうこと
ができる。用いられる溶媒としては、例えば、エチルエ
ーテル、 lテトラヒドロフラン、ジオキサン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、エチルメチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。反応
温度は20〜150℃、好ましくは、30〜120℃で
ある。Among the phenolic compounds represented by the general formula (II), (m) or (Iv), as Qz, Q2 or Q8, phosphorus represented by the formula (wherein R'' and R'' have the above meanings) Phenol compounds having a containing group include compounds represented by the general formula (■), H (wherein R1, R2, R8 and X have the above-mentioned meanings), and phosphinites represented by the general formula (VTI). It can be obtained by reacting with. This reaction can be carried out by mixing and heating and stirring in the absence of a solvent or in the presence of a solvent if necessary. Examples of the solvent used include ethyl ether, 1-tetrahydrofuran, dioxane, benzene, toluene, xylene, acetone, ethyl methyl ketone, and methyl isobutyl ketone. The reaction temperature is 20-150°C, preferably 30-120°C.
このようにして得られるリン含有基を有するフェノール
化合物としては、(ジメチルホスフィニルメチル)フェ
ノール、(ジエチルホスフィニルメチル)フェノール、
(ジフェニルホスフィニルメチル)フェノール、(メチ
ルフェニルホスフィニルメチル)フェノール(以上は0
9m。The phenolic compounds having a phosphorus-containing group obtained in this way include (dimethylphosphinylmethyl)phenol, (diethylphosphinylmethyl)phenol,
(diphenylphosphinylmethyl)phenol, (methylphenylphosphinylmethyl)phenol (more than 0
9m.
p−異性体を含む)、2−ジメチルホスフィニルメチル
−5−メトキシフェノール、3−ジフェニルホスフィニ
ルメチル−6−メトキシフェノール、2−ジフェニルホ
スフィニルメチル−5−ブロモフェノール等を例示する
ことができる。p-isomer), 2-dimethylphosphinylmethyl-5-methoxyphenol, 3-diphenylphosphinylmethyl-6-methoxyphenol, 2-diphenylphosphinylmethyl-5-bromophenol, etc. be able to.
一般式(II)、(m)または(TV)で示され、前記
のリン含有基を有しないフェノール化合物としては、フ
ェノール、レゾルシン、ハイドロキノン、クレゾール、
キシレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェノ
ール、オクチルフェノール、イソプロペニルフェノール
、アリルフェノール、フェニルフェノール、ベンジルフ
ェノール、クロルフェノール、ブロムフェノール(夫々
o 、 m 、 p−異性体を含む)等を例示すること
ができる。Examples of the phenol compound represented by the general formula (II), (m) or (TV) and having no phosphorus-containing group include phenol, resorcinol, hydroquinone, cresol,
Examples include xylenol, ethylphenol, isopropylphenol, octylphenol, isopropenylphenol, allylphenol, phenylphenol, benzylphenol, chlorophenol, bromophenol (including o, m, and p-isomers, respectively).
一般式〔v〕で表わされるアルデヒド類としては、具体
的には、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチル
アルデヒド等を例示することができる。Specific examples of the aldehydes represented by the general formula [v] include formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, and the like.
一般式(It)、(m’)または(TV)で示されるフ
ェノール化合物の少なくとも1種と、一般式(v)で示
されるアルデヒドとの反応は、酸性触媒の媒としては、
通常のノボラヴク型フェノール樹脂を製造する際に使用
される酸性触媒が使用でき、具体的には、硫酸、塩酸、
リン酸等の無機酸、パラトルエンスルホン酸、シュウ酸
等の有機酸、又は酢酸亜鉛、塩化亜鉛、四塩化スズ等の
金属塩を例示することができる。重縮合反応は溶媒の不
存在下に行なうこともできるし、溶媒の存在下に行なう
こともできる。溶媒としては、例えば、トルエン、ジク
ロルベンゼン、ジフェニルエーテル、ブタノール、ヘキ
サノール、シクロヘキサノール等を挙げることができる
。The reaction between at least one phenolic compound represented by the general formula (It), (m') or (TV) and the aldehyde represented by the general formula (v) can be carried out using the following as a medium for an acidic catalyst:
Acidic catalysts used in the production of ordinary novoravuk type phenolic resins can be used, specifically sulfuric acid, hydrochloric acid,
Examples include inorganic acids such as phosphoric acid, organic acids such as para-toluenesulfonic acid and oxalic acid, and metal salts such as zinc acetate, zinc chloride, and tin tetrachloride. The polycondensation reaction can be carried out in the absence of a solvent or in the presence of a solvent. Examples of the solvent include toluene, dichlorobenzene, diphenyl ether, butanol, hexanol, and cyclohexanol.
一般式(V)で示されるアルデヒド類は、全フェノール
類成分1モルに対し、通常0.5〜1.0モル好ましく
は0.6〜0.95モルの範囲で用いられる。酸性触媒
は全フェノール類成分に対し、通常Q、001〜2モル
好ましくは0.01〜1モルの範囲で用いられる。The aldehyde represented by the general formula (V) is generally used in an amount of 0.5 to 1.0 mol, preferably 0.6 to 0.95 mol, per 1 mol of all phenolic components. The acidic catalyst is generally used in an amount of Q, 001 to 2 mol, preferably 0.01 to 1 mol, based on the total phenolic components.
反応温度は通常60〜200°C1好ましくは80〜1
50“Cである。反応に要する時間は、反応温度および
その他の条件によって異なるが、通常1〜20時間であ
る。The reaction temperature is usually 60 to 200°C, preferably 80 to 1
50"C. The time required for the reaction varies depending on the reaction temperature and other conditions, but is usually 1 to 20 hours.
反応終了後、要すれば使用した触媒の中和等を行なった
後、加熱下に水、溶媒等を留去することにより、本発明
のリン含有ポリフェノール化合物(I)が得られる。After the reaction is completed, the catalyst used is neutralized if necessary, and water, solvent, etc. are distilled off under heating to obtain the phosphorus-containing polyphenol compound (I) of the present invention.
前記一般式(T)で示されるリン含有ポリフェノール化
合物は、一般式(vr)で示される多核フェノール類と
一般式(VU) で示されるホスフィナイト類とを反
応さぜることによっても製造することができる。The phosphorus-containing polyphenol compound represented by the general formula (T) can also be produced by reacting a polynuclear phenol represented by the general formula (vr) with a phosphinite represented by the general formula (VU). can.
一般式(Vt )で示される多核フェノール類は、下記
一般式(TX) 、 (X)および(xr )、(TX
) (X) (XT)〔式中、R1、
R2およびR3は前記の意味を有し、Y1’ 、Y2’
およびY8’は夫々独立に螺、詣肪族基または芳香族基
を表わす。1
で示されるフェノール類の中、少なくとも1種はY1′
、Y2′またはYs’が水素であるフェノール類を用い
、それらと一般式(V)で示されるアルデヒド類とを酸
性触媒を用いて重縮合させた後、メチロール化、又はハ
ロメチル化することにより得ることができる。具体的に
は、5.5′−ビスヒドロキシメチル−2,2′−ジヒ
ドロキシ−3,3−ジメチルジフェニルメタン、8゜8
′−ビスヒドロキシメチル−2,2′−ジヒドロキシ−
5,5−ジメチルジフェニルメタン、8゜8′−ビスヒ
ドロキシメチル−5,5′−ジブロモ−2,2−ジヒド
ロキシジフェニルメタン、α−ヒドロキシメチル−ω−
ヒドロキシ−トリス〔(2−ヒドロキシ−5−メチル−
1,3−フェニレン)メチレン〕等を例示することがで
きる。Polynuclear phenols represented by the general formula (Vt) have the following general formulas (TX), (X), (xr), (TX
) (X) (XT) [wherein, R1,
R2 and R3 have the above meanings, Y1', Y2'
and Y8' each independently represents a screw, an aliphatic group or an aromatic group. Among the phenols represented by 1, at least one is Y1'
, using phenols in which Y2' or Ys' is hydrogen, polycondensing them with aldehydes represented by general formula (V) using an acidic catalyst, followed by methylolation or halomethylation. be able to. Specifically, 5,5'-bishydroxymethyl-2,2'-dihydroxy-3,3-dimethyldiphenylmethane, 8°8
'-bishydroxymethyl-2,2'-dihydroxy-
5,5-dimethyldiphenylmethane, 8゜8'-bishydroxymethyl-5,5'-dibromo-2,2-dihydroxydiphenylmethane, α-hydroxymethyl-ω-
Hydroxy-tris [(2-hydroxy-5-methyl-
1,3-phenylene)methylene] and the like.
一般式(vn) で示されるホスフィナイト類として
具体的には、メチルジメチルホスフィナイト、エチルジ
メチルホスフィナイト、メチルジフェニルホスフィナイ
ト、エチルジフェニルホスフィナイトなどを例示するこ
とができる。Specific examples of the phosphinites represented by the general formula (vn) include methyldimethylphosphinite, ethyldimethylphosphinite, methyldiphenylphosphinite, and ethyldiphenylphosphinite.
多核フェノール類(vr )とホスフィナイト類(vn
) との反応は、前記した化合物(vm) とホス
フィナイト類(VU) との反応と同様にして、例え
ば20°〜150°Cに加熱して行うことができる。Polynuclear phenols (vr) and phosphinites (vn)
) can be carried out by heating, for example, from 20° to 150°C, in the same manner as the reaction between the compound (vm) and phosphinites (VU) described above.
このようにして得られる本発明のリン含有ポリフエノー
ル化合物(T)は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、アルキ
ッド樹脂、通常のフェノール樹脂等の硬化型樹脂に配合
することにより難燃性の優れた硬化型樹脂組成物を得る
ことができる。又、ポリエステル、ポリアミドあるいは
ポリアクリロニトリル等の合成繊維やポリオレフィン、
ポリスチレンあるいはABS樹脂等の合成樹脂に対する
添加型の難燃剤としても用いることができる。更に又、
グリシジルエーテル化、アリルエーテル化等の変性によ
り新規な難燃性熱硬化型樹脂を提供することができる。The phosphorus-containing polyphenol compound (T) of the present invention thus obtained is blended into a curable resin such as an epoxy resin, urethane resin, urea resin, melamine resin, polybismaleimide resin, alkyd resin, or ordinary phenol resin. By doing so, a curable resin composition with excellent flame retardancy can be obtained. In addition, synthetic fibers such as polyester, polyamide or polyacrylonitrile, polyolefins,
It can also be used as an additive flame retardant for synthetic resins such as polystyrene or ABS resin. Furthermore,
Modifications such as glycidyl etherification and allyl etherification can provide novel flame-retardant thermosetting resins.
以下に本発明を実施例により説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.
参考例1
温度計、攪拌器、コンデンサーを備えた反応器に、0−
(ヒドロキシメチル)フェノール99.21及びテトラ
ヒドロフラン40〇−を仕込み、均一溶液とした。つい
で、エチルジフェニルホスフィナイト184gを仕込ん
だ後、加熱し還流させながら3時間反応した。Reference Example 1 In a reactor equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser, 0-
(Hydroxymethyl)phenol (99.21 kg) and tetrahydrofuran (400 kg) were charged to form a homogeneous solution. Next, 184 g of ethyl diphenylphosphinite was charged, and the mixture was reacted for 3 hours while being heated and refluxed.
反応液を冷却し、析出した白色結晶を炉別し、乾燥させ
て、0・−(ジフェニルホスフィニルメチル)フェノー
ル180Fを%だ。収率73%、融点179°Cであっ
た。The reaction solution was cooled, and the precipitated white crystals were separated in a furnace and dried to remove 0.-(diphenylphosphinylmethyl)phenol 180%. The yield was 73%, and the melting point was 179°C.
参考例2
0−(ヒドロキシメチル)フェノール99.2gの代わ
りに、p−(ヒドロキシメチル)フェノール99.2
fを使用すること以外は製造例1と同様に反応して、白
色結晶のP−(ジフェニルホスフィニルメチル)フェノ
ール160gを得た。収率65%、融点125”Cであ
った。Reference Example 2 Instead of 99.2g of 0-(hydroxymethyl)phenol, 99.2g of p-(hydroxymethyl)phenol
The reaction was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that f was used to obtain 160 g of white crystalline P-(diphenylphosphinylmethyl)phenol. The yield was 65% and the melting point was 125"C.
参考例3
エチルジフェニルホスフィナイト184f同様に反応し
て、白色結晶のo −(ジエチルホスフィニルメチル)
フェノール144fを得た。収率85%、一点127°
Cであった。Reference Example 3 Ethyldiphenylphosphinite 184f Reacts in the same manner as white crystals o -(diethylphosphinylmethyl)
Phenol 144f was obtained. Yield 85%, one point 127°
It was C.
参考例4
温度計、攪拌器、コンデンサーを備えた反応器に、p−
クレゾール540f187.7%ホルマリン80g及び
86%塩酸20fを仕込ミ、60〜65゛cで4時間反
応させた。ついで減圧下に加熱し系内の水及び未反応p
−クレゾールを留去した後、減圧度BtrrJJf下で
沸点200〜205”Cの留去として、2.2′−ジヒ
ドロキシ−5,5′−ジメチルジフェニルメタン142
fを取得した。冷却すると固 □化し、その融点は1
24°Cであった。Reference Example 4 P-
Cresol 540f, 80 g of 187.7% formalin and 20 g of 86% hydrochloric acid were charged and reacted at 60 to 65°C for 4 hours. Then, the water and unreacted p in the system are heated under reduced pressure.
- After distilling off the cresol, 2,2'-dihydroxy-5,5'-dimethyldiphenylmethane 142
Obtained f. When cooled, it solidifies and its melting point is 1
The temperature was 24°C.
次に、同様の反応装置に、水1850f。Then, in a similar reactor, add 1850 f of water.
20%苛性ソーダ水溶液40gを仕込み、窒素を吹き込
んだ。ついで、2,2′−ジヒドロキシ−5,5−ジメ
チルジフェニルメタン114fを仕込み、均一に溶解さ
せた後、87.7%ホルマリン119fを加えた。72
〜75℃で2時間反応させた後、30℃まで冷却し、炭
酸ガスを吹き込んだ。系のpHが7.1となったところ
で炭酸ガスの吹き込みを止めた。析出した白色沈殿物を
炉別し、十分に水洗した後、室温下に減圧乾燥し、1.
2−ジクロルエタンより再結晶して、8.8’−ビスヒ
ドロキシメチル−2,2′−ジヒドロキシ−5,5−ジ
メチルジフェニルメタン118fを得た。融点は147
℃であった。40 g of 20% caustic soda aqueous solution was charged and nitrogen was blown into the flask. Next, 114f of 2,2'-dihydroxy-5,5-dimethyldiphenylmethane was charged and dissolved uniformly, and then 119f of 87.7% formalin was added. 72
After reacting at ~75°C for 2 hours, it was cooled to 30°C and carbon dioxide gas was blown into it. When the pH of the system reached 7.1, the blowing of carbon dioxide gas was stopped. The precipitated white precipitate was separated in a furnace, thoroughly washed with water, and then dried under reduced pressure at room temperature.1.
Recrystallization from 2-dichloroethane gave 8,8'-bishydroxymethyl-2,2'-dihydroxy-5,5-dimethyldiphenylmethane 118f. Melting point is 147
It was ℃.
実施例1
温度計、攪拌器及びコンデンサーを備えた反応器に、参
考例1で得られた0−(ジフェニルホスフィニルメチル
)フェノール92.4f1パラトルエンスルホン酸−水
塩19f及びn−ブタノール60−を仕込み、105℃
に加熱攪拌し均一な溶液とした。ここへ、37%ホルマ
リン19.5gを仕込み、100〜110℃で7時間反
応させた。ついで、20%苛性ソーダ水溶液2Ofを加
えて触媒を中和した。水層を分液除去した後、減圧濃縮
により水分、n−ブタノール等を除去し、樹脂98.4
1を得た。この樹脂の軟化点は、162℃であった。Example 1 In a reactor equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser, 92.4 f of 0-(diphenylphosphinylmethyl)phenol obtained in Reference Example 1, 19 f of para-toluenesulfonic acid hydrate, and 60 g of n-butanol were added. - and 105℃
The mixture was heated and stirred to obtain a homogeneous solution. 19.5 g of 37% formalin was charged here and reacted at 100 to 110°C for 7 hours. Then, 2Of 20% caustic soda aqueous solution was added to neutralize the catalyst. After separating and removing the aqueous layer, moisture, n-butanol, etc. were removed by vacuum concentration, and the resin
I got 1. The softening point of this resin was 162°C.
ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより求めた
この樹脂の数平均分子量Mn (ポリスチレン換算)
は1340であり、分子量分布(Mw/Mn )は1
.4であった。Number average molecular weight Mn of this resin determined by gel permeation chromatography (polystyrene equivalent)
is 1340, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) is 1
.. It was 4.
この樹脂をジメチルスルホキシド−d6中に溶解して測
定したH核磁気共鳴スペクトルの結果を第1表に示した
。Table 1 shows the results of H nuclear magnetic resonance spectra measured by dissolving this resin in dimethyl sulfoxide-d6.
以上の結果から、得られた樹脂は、〇−(ジフェニルホ
スフィニルメチル)フェノールのノボラ・lりであるこ
とが確認され、繰り返し単位構造は下記の通りであった
。From the above results, it was confirmed that the obtained resin was a novola-l of 〇-(diphenylphosphinylmethyl)phenol, and the repeating unit structure was as follows.
第1表
実施例2
参考例2で得られたp−(ジフェニルホスフィニルメチ
ル)フェノール92.4fを、〇−(ジフェニルホスフ
ィニルメチル)フェノールの代わりに使用する以外は実
施例1と同様に反応させて、樹脂94.1 fを得た。Table 1 Example 2 Same as Example 1 except that p-(diphenylphosphinylmethyl)phenol 92.4f obtained in Reference Example 2 was used instead of 〇-(diphenylphosphinylmethyl)phenol. Resin 94.1f was obtained.
得らし?:樹111ハ、p−(ジフェニルホスフィニル
メチル)フェノールのノボラックであった。Is it worth it? : Tree 111 was a novolak of p-(diphenylphosphinylmethyl)phenol.
実施例3
実施例1と同様の反応装置に、参考例8で得られた0−
(ジエチルホスフィニルメチル)フェノール106F、
85%塩酸5−及びn−ブタノール100−を仕込み、
100℃に加熱し均一に溶解させた後、87%ホルマリ
ン82.49を仕込み、100〜110℃で6時間反応
させた。次いで水層を分液除去した後、減圧濃縮し、樹
I11108.6 fを得た。Example 3 Into the same reaction apparatus as in Example 1, the 0-
(diethylphosphinylmethyl)phenol 106F,
Prepare 85% hydrochloric acid 5- and n-butanol 100-,
After heating to 100°C to uniformly dissolve, 82.49% of 87% formalin was charged and reacted at 100 to 110°C for 6 hours. Next, the aqueous layer was separated and removed, and then concentrated under reduced pressure to obtain Tree I11108.6 f.
得られた樹脂は、0−(ジエチルホスフィニルメチル)
フェノールのノボラ・ツクであった。The obtained resin is 0-(diethylphosphinylmethyl)
It was the phenol Novola Tsuku.
(2B)
実施例4
実施例1と同様の反応装置に、参考例1で得うれた0−
(ジフェニルホスフィニルメチル)フェノール61.6
fI、オルリフレゾール21.6f、濃塩酸8m7!及
びトルエン10〇−を仕込み、加熱攪拌し均一な溶液と
した。(2B) Example 4 In the same reaction apparatus as Example 1, the 0-
(diphenylphosphinylmethyl)phenol 61.6
fI, orrifresol 21.6f, concentrated hydrochloric acid 8m7! and toluene were added, and heated and stirred to obtain a homogeneous solution.
ここに、87%ホルマリン26fを仕込み、100〜1
05℃で10時間反応させた。ついで水層を分液除去し
た後、減圧濃縮し、樹脂86gを得た。得られた樹脂は
、0−(ジフェニルホスフィニルメチル)フェノール/
オルソクレゾール共重合ノボラックであった。Add 87% formalin 26f to this, and add 100 to 1
The reaction was carried out at 05°C for 10 hours. After separating and removing the aqueous layer, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 86 g of resin. The obtained resin is 0-(diphenylphosphinylmethyl)phenol/
It was an orthocresol copolymerized novolak.
実施例5
参考例1と同様の反応装置に、参考例4で得られた3、
8′−ビスヒドロキシメチル−2゜2′−ジヒドロキシ
−5,5′−ジメチルジフェニルメタン115.2F及
びテトラヒドロフラン500−を仕込み、均一溶液とし
た。ついで、エチルジフェニルホスフィナイト184g
を仕込んだ後、67〜70℃で4時間反応させた。反応
終了後、反応液を冷却し、析出した白色結晶を炉別し、
乾燥させた。白色結晶の取得量は、233fであった。Example 5 In the same reaction apparatus as Reference Example 1, 3 obtained in Reference Example 4,
115.2 F of 8'-bishydroxymethyl-2°2'-dihydroxy-5,5'-dimethyldiphenylmethane and 500 F of tetrahydrofuran were charged to form a homogeneous solution. Next, 184g of ethyldiphenylphosphinite
After charging, the mixture was reacted at 67 to 70°C for 4 hours. After the reaction is complete, the reaction solution is cooled and the precipitated white crystals are separated from the furnace.
Dry. The amount of white crystals obtained was 233f.
収率は88.8%であった。結晶の融点は 221℃で
あった。The yield was 88.8%. The melting point of the crystals was 221°C.
得られた白色結晶の元素分析値は、第2表の通りであっ
た。The elemental analysis values of the obtained white crystals were as shown in Table 2.
第2表 元素分析値
又、電界脱離質量分析の結果、分子量が656であるこ
とが確認された。更に、結晶をCDCl2に溶解して測
定したH核磁気共鳴スペクトルを第8表に示したが、以
上の分析結果から、得られた結晶の構造は、下記の通り
であることが確認された。Table 2 Elemental analysis values Also, as a result of field desorption mass spectrometry, it was confirmed that the molecular weight was 656. Furthermore, the H nuclear magnetic resonance spectrum measured by dissolving the crystal in CDCl2 is shown in Table 8. From the above analysis results, it was confirmed that the structure of the obtained crystal was as follows.
第8表 (27完)Table 8 (27 completed)
Claims (3)
り、水素、脂肪族基、芳香族基また は、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′およびR″は同一または異なり、脂肪族基
または芳香族基を表わす。)で示 されるリン含有基を表わす。ただし、Q_1、Q_2及
びQ_3の少なくとも1つは該リン含有基を表わす。R
_1、R_2およびR_3は同一または異なり、水素、
ハロゲン、ヒドロキ シル基、脂肪族基または芳香族基を表わし、R_4は水
素または炭素数1〜4のアルキル基を表わし、nは0以
上の数を表わす。〕 で示されるリン含有ポリフェノール化合物。(1) The following general formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) [In the formula, Q_1, Q_2 and Q_3 are the same or different, and are hydrogen, an aliphatic group, an aromatic group, or a formula ▲Mathematical formula , chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R' and R'' are the same or different and represent an aliphatic group or an aromatic group.) Represents a phosphorus-containing group. However, Q_1, Q_2 and Q_3 At least one represents the phosphorus-containing group.R
_1, R_2 and R_3 are the same or different, hydrogen,
It represents a halogen, a hydroxyl group, an aliphatic group, or an aromatic group, R_4 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents a number of 0 or more. ] A phosphorus-containing polyphenol compound represented by
、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中、Q_1、Q_2およびQ_3は同一または異な
り、水素、脂肪族基、芳香族基、ま たは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′およびR″は同一または異なり、脂肪族基
または芳香族基を表わす。)で示 されるリン含有基を表わす。ただし、Q_1、Q_2お
よびQ_3の少なくとも1つは該リン含有基を表わす。 R_1、R_2およびR_3は同一または異なり、水素
、ハロゲン、ヒドロキ シル基、脂肪族基または芳香族基を表わす。〕で示され
るフェノール化合物から選ばれる少なくとも1種と、下
記一般式(V) R_4CHO(V) (式中、R_4は水素または炭素数1〜4のアルキル基
を表わす。)で示されるアルデ ヒドとを反応させることを特徴とする下記 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Q_1、Q_2、Q_3、R_1、R_2、R
_3およびR_4は前記の意味を有し、nは0以上の数
を表わす。〕 で示されるリン含有フェノール化合物の製法。(2) The following general formulas (II), (III) and (IV) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (II) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (III) ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (IV) [In the formula, Q_1, Q_2 and Q_3 are the same or different, and may be hydrogen, an aliphatic group, an aromatic group, or a formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R' and R '' are the same or different and represent an aliphatic group or an aromatic group.) However, at least one of Q_1, Q_2 and Q_3 represents the phosphorus-containing group. R_1, R_2 and R_3 are the same or different and represent hydrogen, a halogen, a hydroxyl group, an aliphatic group or an aromatic group. ] and the following general formula (V) R_4CHO(V) (wherein, R_4 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) The following general formula (I) ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) Medium, Q_1, Q_2, Q_3, R_1, R_2, R
_3 and R_4 have the above meanings, and n represents a number of 0 or more. ] A method for producing a phosphorus-containing phenol compound.
り、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、 脂肪族基または芳香族基を表わし、R_4は水素または
炭素数1〜4のアルキル基を表 わし、Y_1、Y_2およびY_3は同一または異なり
、水素、脂肪族基、芳香族基または式 −CH_2X (式中、Xはハロゲンまたはヒドロキシ基 を表わす。)で示される置換メチル基を表 わす。ただし、Y_1、Y_2およびY_3の少なくと
も1つは該置換メチル基を表わす。n は0以上の数を表わす。〕 で示される多核フェノール類と、下記一般 式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 〔式中、R′およびR″は同一または異なり、脂肪族基
または芳香族基を表わし、R_5は脂肪族基を表わす。 〕 で示されるホスフィナイト類とを反応させることを特徴
とする下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1、R_2、R_3、R_4およびnは前
記の意味を有し、Q_1、Q_2およびQ_3は同一ま
たは異なり、水素、脂肪族基、芳香 族基または、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′およびR″は前記の意味を有する。)で示
されるリン含有基を表わす。た だし、Q_1、Q_2およびQ_3の少なくとも1つは
該リン含有基を表わす。〕 で示されるリン含有ポリフェノール化合物の製法。(3) General formula (VI) below ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VI) [In the formula, R_1, R_2, and R_3 are the same or different, and are hydrogen, halogen, hydroxy group, aliphatic group, or aromatic group , R_4 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Y_1, Y_2 and Y_3 are the same or different and are hydrogen, an aliphatic group, an aromatic group or a group of the formula -CH_2X (wherein, X is a halogen or hydroxy (represents a substituted methyl group). However, at least one of Y_1, Y_2 and Y_3 represents the substituted methyl group. n represents a number of 0 or more. ] Polynuclear phenols represented by the following general formula (VII) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VII) [In the formula, R' and R'' are the same or different and represent an aliphatic or aromatic group where R_5 represents an aliphatic group.] The following general formula (I) is characterized by reacting with a phosphinite represented by ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) [In the formula, R_1, R_2, R_3, R_4 and n have the above meanings, and Q_1, Q_2 and Q_3 are the same or different and are hydrogen, an aliphatic group, an aromatic group or a formula▲a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc.▼ (in the formula , R' and R'' have the above-mentioned meanings. However, at least one of Q_1, Q_2 and Q_3 represents the phosphorus-containing group. ] A method for producing a phosphorus-containing polyphenol compound.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27008684A JPS61148217A (en) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | Phosphorus-containing polyphenol compound and production thereof |
US06/809,007 US4621123A (en) | 1984-12-20 | 1985-12-16 | Phosphinylmethyl polypenols and polyglycidyl ethers thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27008684A JPS61148217A (en) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | Phosphorus-containing polyphenol compound and production thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61148217A true JPS61148217A (en) | 1986-07-05 |
Family
ID=17481333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27008684A Withdrawn JPS61148217A (en) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | Phosphorus-containing polyphenol compound and production thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61148217A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014516973A (en) * | 2011-05-25 | 2014-07-17 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | Phosphorus-containing compounds useful for the production of halogen-free ignition resistant polymers |
-
1984
- 1984-12-20 JP JP27008684A patent/JPS61148217A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2014516973A (en) * | 2011-05-25 | 2014-07-17 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | Phosphorus-containing compounds useful for the production of halogen-free ignition resistant polymers |
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