JPS61143379A - Production of thiazolacetic acid derivative - Google Patents
Production of thiazolacetic acid derivativeInfo
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- JPS61143379A JPS61143379A JP26479984A JP26479984A JPS61143379A JP S61143379 A JPS61143379 A JP S61143379A JP 26479984 A JP26479984 A JP 26479984A JP 26479984 A JP26479984 A JP 26479984A JP S61143379 A JPS61143379 A JP S61143379A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はセファロスポリン化合物の合成中間体として有
用な下記一般式で示されるチアゾール酢酸誘導体の製法
に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for producing a thiazole acetic acid derivative represented by the following general formula, which is useful as an intermediate for the synthesis of cephalosporin compounds.
(但し、 R1′NH−はアミ7基又は保護されたアミ
ノM 、 −GOOR”は力シボキシ基又は保護され
た力〜ボキシ基を表わす。)
(従来の技術)
特開昭59−51292号には下記反応式で示されるチ
アゾール酢酸誘導体の製法が記載されている。(However, R1'NH- represents an amine 7 group or a protected amino M, and -GOOR'' represents a hydroxy group or a protected hydroxy group.) (Prior art) In JP-A No. 59-51292 describes a method for producing thiazole acetic acid derivatives shown by the following reaction formula.
(但し、 Trはトリチル基を表わす。)(発明の目的
)
本発明は、優れた抗菌作用を有するセファロスポリン化
合物の合成中間体として有用なチアゾ−μ酢酸誘導体(
I)の新規製法を提供しようとす・るものである。(However, Tr represents a trityl group.) (Object of the Invention) The present invention is directed to a thiazo-μ acetic acid derivative (
This is an attempt to provide a new method for producing I).
(発明の構成及び効果)
本発明によれば、目的化合物(I)は一般式(:但し、
−COOR”はカルボキシ基又は保護された力Vポ
キシ基を表わす。)
で示される化合物と一般式
(但し R3は置換もしくは非置換フエ二〜基又は低級
アルキル基を表わす。)
で示される化合物とを反応させて一般式%式%
(但し、−GOOR”は前記と同一意味を有する。)で
示される化合物とし、該化合物(ff)をハロゲン化剤
で処理して一般式
(但し zlはハロゲン原子を表わし、 −GOOR
”は前記と同一意味を有する。)
で示される化合物とし、該化合物(V)と一般式%式%
()
(但し、R”&アミノ基又は保護されたアミノ基を表わ
す。)
で示される化合物とを反応させて一般式(但し、R”N
ト及び−COOR” は前記と同一意味を有する6)
で示される化合物とし、要すれば該化合物(I′)から
保護基を除去することにより製することができる。(Structure and Effects of the Invention) According to the present invention, the target compound (I) has the general formula (: However,
-COOR" represents a carboxy group or a protected poxy group) and a compound represented by the general formula (wherein R3 represents a substituted or unsubstituted phenylene group or lower alkyl group). is reacted to form a compound represented by the general formula % (wherein -GOOR" has the same meaning as above), and the compound (ff) is treated with a halogenating agent to form a compound represented by the general formula (where zl is halogen). represents an atom, -GOOR
” has the same meaning as above), and the compound (V) and the general formula %
() (However, R''&represents an amino group or a protected amino group) is reacted with a compound represented by the general formula (However, R''N
and -COOR'' have the same meanings as described above, and if necessary, the compound (I') can be produced by removing a protecting group from the compound (I').
上記反応において、記号1/で示される基としては1例
えば水素原子;又はホルミル基、アセチル基、ピパロイ
ル基の如き低級アルカノイル基;クロロアセチV基、ト
リフルオロアセチル基の如キモノー、ジーもしくはトリ
ハロゲノ−低級アルカノイ〃基:メトキシカルボニル基
、エトキシカMボニルM 6 tart、−プトキシカ
ルボニμ基の如き低級アルコキシカルボニV基;トリク
ロロエトキシカVボニル基の如きモノ−、ジーもしくは
トリハロゲノ−低級アVコキシカルボニル基;ベンジ〃
オキシカ〃ボニル基、P−メトキシベンジVオキシカル
ボニル基の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカル
ボニル基;ベンジ〃基、P−メトキシベンジy基、3,
4−ジメトキシベンジル基の如き置換もしくは非置換フ
ェニル低級アルキル基げられる。また記号R′で示され
る基としては0例えば水素原子;又はメチル基、エチル
基、 tart、 −エチル基の如き低級アyキ〃基;
ベンジル基、P−メトキシベンジル基、P−ニトロベン
ジA/ g (2)如き書換もしくは非置換フェニル低
級アVキル基;ベンズヒドリル基の如き保護基が挙げら
れる。In the above reaction, the group represented by the symbol 1/ is 1, for example, a hydrogen atom; or a lower alkanoyl group such as a formyl group, an acetyl group, or a piparoyl group; Alkanoyl group: lower alkoxycarbonyl V group such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl M 6 tart, -ptoxycarbonyl μ group; mono-, di- or trihalogeno-lower alkoxycarbonyl group such as trichloroethoxycarbonyl group ; Benji〃
Substituted or unsubstituted benzyloxycarbonyl group such as oxycarbonyl group, P-methoxybenziVoxycarbonyl group; benzyl group, P-methoxybenzi group, 3,
Substituted or unsubstituted phenyl lower alkyl groups such as 4-dimethoxybenzyl group are included. Groups represented by the symbol R' include 0, for example, a hydrogen atom; or a lower ay group such as a methyl group, an ethyl group, a tart group, and an -ethyl group;
Examples include a benzyl group, a P-methoxybenzyl group, a substituted or unsubstituted phenyl lower V-kyl group such as P-nitrobenzyl A/g (2); and a protecting group such as a benzhydryl group.
さらに記号BSで示される基としては1例えばフェニル
11s、p−メチルフェニル基の如き置換4L<は非置
換フェニル基又はメチル基、エチル基、プロピ〃基の如
き低級ア/L/キM基が挙げられる。Furthermore, as a group represented by the symbol BS, 1, for example, phenyl 11s, substituted 4L< such as p-methylphenyl group, is an unsubstituted phenyl group, or lower a/L/kiM group such as methyl group, ethyl group, propyl group. Can be mentioned.
化合物(II)と化合物([[)との反応は適当な溶媒
中脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤とし
ては0例えば炭酸ア〃カリ金属(例えば8炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム)、水累化アVカリ金属(例えば、水
素化ナトリウム)、水酸化アルカリ金@C例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム)などが挙げられる。溶
媒としては1例エバアセトン、テトラヒドロフラン、酢
Mエチtv、ジメチMスVホキシト、ジメ千Vホルムア
ミドなどが挙げられる。本反応は一10℃〜80℃。The reaction between compound (II) and compound ([[) can be carried out in an appropriate solvent in the presence of a deoxidizing agent. Examples of deoxidizers include alkali metal carbonates (e.g., sodium carbonate, potassium carbonate), water-accumulating alkali metals (e.g., sodium hydride), alkali gold hydroxides, e.g., sodium hydroxide, water. Potassium oxide), etc. Examples of the solvent include evacetone, tetrahydrofuran, vinegar Methtv, dimethyst Voxite, dimethyVformamide, and the like. This reaction is carried out at -10°C to 80°C.
好ましくは10℃〜50℃で実施するのが適当である。Preferably, it is appropriate to carry out the reaction at a temperature of 10°C to 50°C.
化合物QV)とハロゲン化剤との反応は適当な溶媒中実
施することができる。ハロゲン化剤としては3例えば塩
化スルフリ〃、塩素、臭素、N−プロモサクlンイミド
、ピリジニウムハイドログロミドバープロミドなどが好
適に挙げられる。溶媒としては1例えばクロロホルム、
塩化メチレン。The reaction of compound QV) with a halogenating agent can be carried out in a suitable solvent. Preferred examples of the halogenating agent include sulfuric chloride, chlorine, bromine, N-promosacrine imide, and pyridinium hydroglomide verbromide. Examples of solvents include chloroform,
Methylene chloride.
四塩化炭素、1.2−ジクロロエタンなどが好適に挙げ
られる。本反応は0℃〜100℃、好ましくは10℃〜
50℃で実施するのが適当である。Preferred examples include carbon tetrachloride and 1,2-dichloroethane. This reaction is carried out from 0°C to 100°C, preferably from 10°C to
It is suitable to carry out at 50°C.
化合物(V)と化合物(VI)との反応は適当を溶媒中
脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤として
は0例えば11.N−ジメチルアニリン、トリエチルア
ミン、ピリジンの如き有機第3級アミンが好適に挙げら
れる。溶媒としては0例えば低級ブルカノール(例えば
、メタノ−/I/、エタノール、イングロパノール)或
いはこれら溶媒と水との混合溶媒を好適に用いることが
できる。水反応Viio℃〜80℃、好ましくは70℃
〜qo℃で実施するのが適当である。The reaction between compound (V) and compound (VI) can be carried out in a suitable solvent in the presence of an acid deoxidizing agent. As a deoxidizing agent, 0, for example, 11. Preferred examples include organic tertiary amines such as N-dimethylaniline, triethylamine, and pyridine. As the solvent, for example, lower vulcanol (for example, methanol/I/, ethanol, ingropanol) or a mixed solvent of these solvents and water can be suitably used. Water reaction Viio℃~80℃, preferably 70℃
It is suitable to carry out at ~qo°C.
かくして得られる化合物げ)からの保護基の脱離は1例
えば加水分解、加溶媒分解、#処理、還元の如き常法に
より容易に実施することができる。The protective group can be easily removed from the thus obtained compound by conventional methods such as hydrolysis, solvolysis, #treatment, and reduction.
例えば、アミ7基の保護基R1’がホルミル基、アセチ
ル基1 tert、−ブトキシカルボニル基、トリチl
し基もしくはベンズヒドリル基及び/又はカルボキシ基
の保護基♂′がtert、−ブチル基もしくはベンズヒ
ドリル基である場合、これら保護基は化合物(1′)を
酸で処理することにより除去することができる。酸とし
ては8例えばギ駿、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホ
ンWIN 、 p−)ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水
Xfkどが挙げられる。本反応は適当な溶媒又は無溶媒
中で実施することができ。For example, the protecting group R1' of amine 7 group is formyl group, acetyl group tert, -butoxycarbonyl group, trityl group,
When the protecting group ♂' for the cyclo group or the benzhydryl group and/or the carboxy group is a tert, -butyl group or a benzhydryl group, these protecting groups can be removed by treating compound (1') with an acid. Examples of the acid include acid, trifluoroacetic acid, benzenesulfone WIN, p-)luenesulfonic acid, hydrochloric acid, and water bromide. This reaction can be carried out in a suitable solvent or in the absence of a solvent.
溶媒としては例えば、水、メタノ−〃、エタノール、酢
酸、ジオキサンiどを使用することができる。本反応は
一30℃〜70℃、好ましくは10℃〜50℃で実施す
るのが適当である。なお1本反応において、′:aとし
てトリフルオロ詐りを用いる場合には、アニソールの存
在下に実施するのが好ましい。As the solvent, for example, water, methanol, ethanol, acetic acid, dioxane, etc. can be used. This reaction is suitably carried out at -30°C to 70°C, preferably at 10°C to 50°C. In this reaction, when trifluorocarbon is used as ':a, it is preferably carried out in the presence of anisole.
また、アミノ基の保護基R1がトリチル基である場合、
該保護基の除去は化合物(工うを適当な溶媒中加熱する
ことによっても実施することができる。溶媒としては9
例えば低級アVカッ−/L/(例えば、メタノ−V、エ
タノール)、水、或いはこれらの混合溶媒などを好適に
使用することができる。本反応は40℃〜100℃、好
ましくは50’e〜80℃で実施するのが適当である。Moreover, when the protecting group R1 of the amino group is a trityl group,
Removal of the protecting group can also be carried out by heating the compound in a suitable solvent.
For example, lower carbon dioxide (for example, methanol, ethanol), water, or a mixed solvent thereof can be suitably used. This reaction is suitably carried out at a temperature of 40°C to 100°C, preferably 50'e to 80°C.
アミノ基の保護基がベンジルオキシカVボニV基、P−
メトキシベンジルオキシカルポニル基、ベンジ/L基。The protecting group for the amino group is benzyloxycarbonyV group, P-
Methoxybenzyloxycarponyl group, benzy/L group.
P−メトキシベンジル基もしくは3.4−ジメトキシヘ
ンシル基及び/又なカルボキシ基のl[iR”がベンジ
ル基、P−メトキシベンジル基もしくはP−ニトロベン
ジル基である場合、これら保護基の除去は化合物(工り
を水素ガス気流中触媒の存在下に接触還元することによ
シ実施することができる。触媒としては0例えばパッジ
ラム−炭酸バリウム、バッジラム1炭素バヲジウム黒な
どが好適に挙げられる。本接触遭元反応は適当な溶媒中
常圧乃至加工下O℃〜100℃、とくに10℃〜40℃
で実施するのが好ましい。溶媒としては0例えばメタノ
ール、エタノール、テトラヒドロフラン、水などを好適
に用いることができる。アミノ基の保31I基R1′が
トリフVオロアセチv基、ピバロイル基、メトキシカル
ボニル基もしくはエトキシカルボニル基及び/又はカル
ボキシ基の保護基R″′がメチM基、エチル基の如き低
級ア77 * A/基である場合、これら保護基は化合
物(I’)を加水分解することにより除去することがで
きる。化合物(Iりの加水分解は常法により実施するこ
とができ0例えば適当な溶媒中アルカリ試薬又は酸で処
理することにより実施することができる。γρ力・す試
薬としでは0例えば水p化アルカリ金W4(例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム)、水酸化アルカリ土類
金属(例えば、水酸化カルシウム、水酸化バリウム)な
どが挙げられ、また酸としては例えば、塩酸、臭化水素
酸などが挙げられる。溶媒としては1例えば低級アルカ
ノール(メタノール、エタノール)、ジメチ〃ホ〃ムア
ミド、或いはこれら溶媒と水との混合溶媒などを好適に
使用することができる。本反応は10”0〜80℃、好
ましくは20℃〜60℃で実施するのが適当である。さ
らに、アミノ基の保護基W′がクロロアセチ〃基である
場合、該保護基は適当な溶媒中化合物(I5をチオ尿素
で処理することにより除去することができる。溶媒とし
ては2例えばメタノール、エタノール、水などを好適に
使用することができる。When l[iR'' of P-methoxybenzyl group or 3,4-dimethoxyhensyl group and/or carboxy group is benzyl group, P-methoxybenzyl group or P-nitrobenzyl group, removal of these protecting groups This process can be carried out by catalytic reduction of the compound in the presence of a catalyst in a hydrogen gas stream. Preferred examples of the catalyst include Padillam-barium carbonate, Badgelum-Barium carbonate, and the like. The catalytic reaction is carried out in an appropriate solvent at normal pressure to 0°C to 100°C, especially 10°C to 40°C.
It is preferable to carry out. As the solvent, for example, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, water, etc. can be suitably used. The protecting group R'' of the amino group is a trifluoroacetyv group, pivaloyl group, methoxycarbonyl group or ethoxycarbonyl group and/or the protecting group R'' of the carboxyl group is a lower atom group such as a methoxyM group or an ethyl group.77*A / group, these protecting groups can be removed by hydrolyzing compound (I'). Hydrolysis of compound (I') can be carried out by a conventional method. This can be carried out by treatment with a reagent or an acid. Examples of γρ force reagents include hydrated alkali gold W4 (e.g., sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkaline earth metal hydroxide (e.g., water Examples of acids include hydrochloric acid and hydrobromic acid. Examples of solvents include lower alkanols (methanol, ethanol), dimethylformamide, and the like. A mixed solvent of a solvent and water can be suitably used. This reaction is suitably carried out at a temperature of 0 to 80°C, preferably 20 to 60°C. Furthermore, a protecting group for an amino group can be used. When W' is a chloroacetyl group, the protecting group can be removed by treating the compound (I5) with thiourea in a suitable solvent. As a solvent, for example, methanol, ethanol, water, etc. are preferably used. can do.
本反応は20℃〜80℃、好ましくは20℃〜50℃で
実施するのが適当である。This reaction is suitably carried out at a temperature of 20°C to 80°C, preferably 20°C to 50°C.
上記反応において、原料化合物(1[)は分子内に1個
の不斉炭素原子を有する九め2個の光学異性体が存在す
るが、上記本発明の反応は全てラセミ化を伴うことなく
進行するなめ原料化合物として化合物(1[)の光学活
性体を使用すれば、目的化合物(I)を光学活性体とし
て容易に取得することができる。また目的化合物(I)
にはオキシイミノ基が2(すなわち、シン)配置の化合
物とF!(すなわち、アンチ)配置の化合物が存在する
が、上記本発明の反応においては、オキシイミノ基が主
として2配置である化合物(I)が生成する。In the above reaction, the starting compound (1[) has ninety two optical isomers having one asymmetric carbon atom in the molecule, but all the reactions of the present invention proceed without racemization. If an optically active form of compound (1[) is used as a raw material compound, the target compound (I) can be easily obtained as an optically active form. Also, the target compound (I)
is a compound in which the oximino group is in the 2 (i.e. syn) configuration and F! Although there are compounds with (that is, anti) configuration, the reaction of the present invention produces compound (I) in which the oximino group is mainly in the 2-configuration.
上記の如くして得られる本発明の目的化合物(I)Hセ
ファロスポリン化合物合成中間体として有用であり1例
えば特開昭59−51292号に記載されている優れた
抗閑活性を有するセファロスポリン化合物の合成中間体
と+−,て有用である。The object compound (I) of the present invention obtained as described above is useful as an intermediate for the synthesis of cephalosporin compounds. It is useful as a synthetic intermediate for phosphorus compounds.
尚、原料化合物(給の光学活性体は1例えば光学活性3
−ヒドロキシ−2−ピロリドン(AataChamia
a 5oandinavioa、 、 B 34 、7
3 ]−−733訂(1980年)参照)と一般式
%式%
(但し 1gはハロゲン原子を表わし R1は前記と同
一意味を有する。)
で示される化合物とを反応壊せることにより製すること
かできる。In addition, the raw material compound (supplied optically active substance is 1, for example, optically active 3
-Hydroxy-2-pyrrolidone (AataChamia
a 5 oandinavioa, , B 34, 7
3 ]--733rd edition (1980)) and a compound represented by the general formula % (where 1g represents a halogen atom and R1 has the same meaning as above). can.
実施例 1
(1)2−ヒドロキシイミノ−3−オキソ酪酸工寿
千Mエステ/l/ 3.21をアセトン2F+ff+/
に呑解し。Example 1 (1) 2-Hydroxyimino-3-oxobutyric acid Kojusen M Esthe/l/3.21 was added to acetone 2F+ff+/
I understand it.
該溶液に炭酸カリウム4.21及び(R1−3−(p−
トシルオキシ)−2−ピロリドン7.6y−を加え室温
で15時間かく拌する。混合@を減圧下に濃縮乾固する
。残査に冷水50−?前え、該混合物を酢酸エチVで抽
出する。抽出液を乾燥後減圧下に濃縮乾固することによ
り1Zl−2−(((3S )−2−ピロリドン−3−
イ/L/)オキシイミノ〕−3−オキソ酪酸エチルエス
テル3.3F?得る。4.21 potassium carbonate and (R1-3-(p-
Add 7.6y- of tosyloxy)-2-pyrrolidone and stir at room temperature for 15 hours. The mixture @ is concentrated to dryness under reduced pressure. Cold water for the residue 50-? Beforehand, the mixture is extracted with ethyl acetate. After drying the extract, the extract was concentrated to dryness under reduced pressure to obtain 1Zl-2-(((3S)-2-pyrrolidone-3-
I/L/)oximino]-3-oxobutyric acid ethyl ester 3.3F? obtain.
N M R(00013)δ:
1.32(3H、t 、J=7Hz)、2.00 (3
1。NMR(00013)δ: 1.32 (3H, t, J=7Hz), 2.00 (3
1.
自) 、2.04−2.86(2TI 、ff1) 、
3.3−3.7(28。auto), 2.04-2.86 (2TI, ff1),
3.3-3.7 (28.
111) 、4−36(2H、q 、J=7E[z )
、4.96(1!1 。111), 4-36 (2H, q, J=7E[z)
, 4.96 (1!1.
6、Jgs7Hz) +7.5(II、broad s
)+21 (Kl−2−〔((3El) −2−ピ
ロリドン−3−イ/I/)オキシイミノツー3−オキソ
酪酸エチルエステA/2.4Fを塩化メチレン15rn
lに溶解し。6, Jgs7Hz) +7.5(II, broad s
)+21 (Kl-2-[((3El)-2-pyrrolidone-3-i/I/)oximino-3-oxobutyric acid ethyl ester A/2.4F in methylene chloride 15rn
Dissolve in l.
該溶液に塩化スルフリル1.61を加え15〜25℃で
20時間かく拌する。混合物を減圧下に濃縮して溶媒を
留去する。残査全クロロホルムに溶解し、該溶液を水で
洗浄する。クロロホルム液を乾燥後減圧下に濃縮乾固す
ることにより、(Z)−2−(((3S)−2−ピロリ
ドン−3−イル)オキシイミノ〕−3−オキソー4−ク
ロロ酪酸エチVエステルを粗製物として得る。この粗製
物をエタノール20−に溶解し、該溶液にチオ尿素1.
01及びN、N−ジメチMアニリン1.2 F ?加え
20〜25℃で2時間かく拌する。混合物を減圧下に濃
縮して溶媒全留去する。残査をクロロホルムに溶解し、
該溶液を水及び炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する。Add 1.61 sulfuryl chloride to the solution and stir at 15-25°C for 20 hours. The mixture is concentrated under reduced pressure to remove the solvent. The entire residue is dissolved in chloroform and the solution is washed with water. After drying the chloroform solution, the chloroform solution was concentrated to dryness under reduced pressure to obtain crude (Z)-2-(((3S)-2-pyrrolidon-3-yl)oximino]-3-oxo-4-chlorobutyric acid ethyl V ester. This crude product was dissolved in 20% of ethanol, and 1.0% of thiourea was added to the solution.
01 and N,N-dimethyM aniline 1.2 F? Add and stir at 20-25°C for 2 hours. The mixture is concentrated under reduced pressure to remove all the solvent. Dissolve the residue in chloroform,
The solution is washed with water and aqueous sodium bicarbonate solution.
クロロホルム液を乾燥後減圧下に濃縮して溶媒を留去す
る。残査をイソプロパツールで結晶化し、ろ取すること
により、ml−2−(2−アミ/チアゾ−A/−4−イ
A/)−2−(((3S)−2−ピロリドン−3−イ/
I/)オキシイミノ〕酢酸エチルエステyi、2pを得
ル。After drying the chloroform solution, it is concentrated under reduced pressure to remove the solvent. The residue was crystallized with isopropanol and collected by filtration to give ml-2-(2-amino/thiazo-A/-4-iA/)-2-(((3S)-2-pyrrolidone-3 −i/
I/) Oximino]ethyl acetate ester, 2p was obtained.
M、p、160−163℃
〔α〕哲 −15,90(C−1,メタノ−/L/)N
MR(DMlIO−d@)a : 。M, p, 160-163℃ [α] Tetsu -15,90 (C-1, methanol-/L/)N
MR(DMlIO-d@)a: .
1−27 (3H、t 、J =7 Hz ) * 1
.93−2.60 (2” −’I)−3,1−3,5
(2H,ai)−4−32(2”*q−’−7Hg)、
4.74(IF5t 、J−7Hg)、8.93(I
II。1-27 (3H, t, J = 7 Hz) * 1
.. 93-2.60 (2”-'I)-3,1-3,5
(2H,ai)-4-32(2''*q-'-7Hg),
4.74 (IF5t, J-7Hg), 8.93 (I
II.
s)、7.30(211、s)、7.96(III、5
)fi / 4−1シーIW−4−4v)−2−C(<
3s>−2−ピロリドン−3−イ/I/)オキシイミノ
〕酢酸エチルエステル1.OFを加え20℃で1時間か
く拌する。混合物をlO鳴墳酸でpH5とし、811合
物を減圧下に濃縮してメタノールを留去する。s), 7.30 (211, s), 7.96 (III, 5
) fi / 4-1 sea IW-4-4v) -2-C (<
3s>-2-pyrrolidon-3-i/I/)oximino]acetic acid ethyl ester 1. Add OF and stir at 20°C for 1 hour. The mixture was brought to pH 5 with 1O sonoric acid, and the 811 compound was concentrated under reduced pressure to remove methanol.
残査を10哄塩酸でPl(3とし、該混合物を水冷する
。析出晶をろ取し、メタノ−μで洗浄後乾燥することに
より、(zl−2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(((3g)−2−ピロリドン−3−イA/)
オキVイミノ〕酢酸730IIPを得る。The residue was adjusted to PI (3) with 10 liters of hydrochloric acid, and the mixture was cooled with water. )-2-(((3g)-2-pyrrolidone-3-i A/)
730IIP is obtained.
M、p、 199−200℃ C分解)〔α〕甘せ5
0.8° (Cコ1.水)N M R(D O+
NaHCOi ) δ :2.0−2.7(21
1、m)、3.3−3.6(2R,m)。M, p, 199-200℃ C decomposition) [α] Amase 5
0.8° (Cco1. Water) N M R (D O+
NaHCOi) δ:2.0-2.7(21
1, m), 3.3-3.6 (2R, m).
4.95(IFI 、t 、J−8k )、6.90
(ill +!り上記実施例1に準拠して下記表記載
の化合物を上記表中の化合物は全て1!+配置である。4.95 (IFI, t, J-8k), 6.90
(Ill +!) Compounds listed in the table below were prepared based on Example 1 above. All compounds in the table above are in the 1!+ configuration.
(注1):l’1MHの溶媒: CDCIg(注2):
(a)%’ −:1g、8° (C−1,ジメ+p
v*Vムアミド)
(注s> : ca)v−21,5° (C窃1.メタ
ノール)(注4):〔α)DI′−342° (C−1
,ジメチ〃ホVムアミド)
(郡) : Cbg :ベンジVオキシカ〃ボニル〔原
料化合物の調製〕
(R1−3−ヒドロキF −2−ピロリドン(Aata
に2N水酸化ナトリウム15−を室温で加えけん濁物を
溶解させる。この溶液を一3〜5℃に冷却し、該溶液に
p−)シルクロリド5.7yを加え同温で1時間かく拌
する。混合物?10〜15℃で一夜かく拌後、該混合物
を2N塩#10&でPH2とする。混合物を減圧下に濃
縮してアセトンを留去する。残査をクロロホVムで抽出
し、抽出液を飽和食塩水で洗浄後乾燥する。クロロホル
ム液を減圧下に濃縮して溶媒を留去する。残査をエーテ
〃で結晶化し、酢酸エチルから再結晶することにより、
1R)−3−(p−)シルオキシ)−2−ピロリドン3
.5ノを得る。(Note 1): Solvent of l'1MH: CDCIg (Note 2):
(a) %' -: 1g, 8° (C-1, diminutive + p
v*Vmuamide) (Note s>: ca) v-21,5° (C steal 1. methanol) (Note 4): [α) DI'-342° (C-1
, dimethypho-V-mamide) (Group): Cbg: BendiV-oxycarbonyl [Preparation of raw material compound] (R1-3-hydroxyF-2-pyrrolidone (Aata
2N sodium hydroxide 15- is added to the solution at room temperature to dissolve the suspension. This solution was cooled to -3 to 5°C, and 5.7y of p-)sil chloride was added to the solution and stirred at the same temperature for 1 hour. blend? After stirring overnight at 10-15°C, the mixture is brought to pH 2 with 2N salt #10&. The mixture is concentrated under reduced pressure to remove the acetone. The residue is extracted with chloroform, and the extract is washed with saturated saline and dried. The chloroform solution is concentrated under reduced pressure to remove the solvent. By crystallizing the residue with ether and recrystallizing it from ethyl acetate,
1R)-3-(p-)yloxy)-2-pyrrolidone 3
.. Get 5 no.
輩、p、 148−149℃
〔α〕π +17.7° (C,=1 、メタノ−/L
/)NMR(CDCIg) δ:
2.0−2.7(211,+11)、2.43(3FI
、!l)3.1−3.5(21!、+m )、4.91
(IH,t、J−711g)7.2(lEi、broa
d)、7.32(2F1.d、2m9Hzン7.84
(2H,d 、 J−9tlz )・−−−1p, 148-149℃ [α]π +17.7° (C,=1, methanol-/L
/) NMR (CDCIg) δ: 2.0-2.7 (211, +11), 2.43 (3FI
,! l) 3.1-3.5 (21!, +m), 4.91
(IH, t, J-711g) 7.2 (lEi, broa
d), 7.32 (2F1.d, 2m9Hz 7.84
(2H, d, J-9tlz)・---1
Claims (1)
カルボキシ基を表わす。) で示される化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (但し、R^3は置換もしくは非置換フエニル基又は低
級アルキル基を表わす。) で示される化合物とを反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (但し、−COOR^2′は前記と同一意味を有する。 )で示される化合物とし、該化合物(IV)をハロゲン化
剤で処理して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (但し、X^1はハロゲン原子を表わし、−COOR^
2′は前記と同一意味を有する。) で示される化合物とし、該化合物(V)と一般式R^1
′NH−CS−NH_2 (VI) (但し、R^1′NH−はアミノ基又は保護されたアミ
ノ基を表わす。) で示される化合物とを反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ′) (但し、R^1′NH−及び−COOR^2′は前記と
同一意味を有する。) で示される化合物とし、要すれば該化合物( I ′)か
ら保護基を除去することを特徴とする一般式▲数式、化
学式、表等があります▼( I ) (但し、R^1NH−はアミノ基又は保護されたアミノ
基、−COOR^2はカルボキシ基又は保護されたカル
ボキシ基を表わす。) で示されるチアゾール酢酸誘導体の製法。[Claims] Compounds represented by the general formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (II) (However, -COOR^2 represents a carboxy group or a protected carboxy group) and the general formula ▲ Numerical formula , chemical formulas, tables, etc. ▼ (III) (However, R^3 represents a substituted or unsubstituted phenyl group or lower alkyl group.) By reacting with a compound represented by the general formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. There is a compound represented by ▼(IV) (However, -COOR^2' has the same meaning as above.), and the compound (IV) is treated with a halogenating agent to form the general formula ▲mathematical formula, chemical formula, table etc.▼(V) (However, X^1 represents a halogen atom, -COOR^
2' has the same meaning as above. ), and the compound (V) and the general formula R^1
'NH-CS-NH_2 (VI) (However, R^1'NH- represents an amino group or a protected amino group.) By reacting with a compound represented by the general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼(I') (However, R^1'NH- and -COOR^2' have the same meanings as above.) If necessary, the protecting group is removed from the compound (I'). There are general formulas that are characterized by A method for producing a thiazole acetic acid derivative represented by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26479984A JPS61143379A (en) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | Production of thiazolacetic acid derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26479984A JPS61143379A (en) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | Production of thiazolacetic acid derivative |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61143379A true JPS61143379A (en) | 1986-07-01 |
Family
ID=17408367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26479984A Pending JPS61143379A (en) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | Production of thiazolacetic acid derivative |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61143379A (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0101265A2 (en) * | 1982-08-07 | 1984-02-22 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
JPS59134784A (en) * | 1983-01-07 | 1984-08-02 | Takeda Chem Ind Ltd | Aminothiazoleacetic acid derivative and its preparation |
-
1984
- 1984-12-14 JP JP26479984A patent/JPS61143379A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0101265A2 (en) * | 1982-08-07 | 1984-02-22 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
JPS59134784A (en) * | 1983-01-07 | 1984-08-02 | Takeda Chem Ind Ltd | Aminothiazoleacetic acid derivative and its preparation |
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