JPS61137125A - Optical information processor - Google Patents

Optical information processor

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Publication number
JPS61137125A
JPS61137125A JP25857084A JP25857084A JPS61137125A JP S61137125 A JPS61137125 A JP S61137125A JP 25857084 A JP25857084 A JP 25857084A JP 25857084 A JP25857084 A JP 25857084A JP S61137125 A JPS61137125 A JP S61137125A
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JP
Japan
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light
optical
filter
particles
heater
Prior art date
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Pending
Application number
JP25857084A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Suzuki
雅之 鈴木
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPS61137125A publication Critical patent/JPS61137125A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To simplifying the constitution of an optical information processor which operates optical input information through an optical filter and generates output information, and improve the operability by using the optical fiber whose patterns are freely changeable. CONSTITUTION:Irradiation luminous flux from a laser 51 is transmitted through an image 61 to be inspected to obtain optical input information, which is processed through the filter 63 of an optical controller and photodetected by a photoelectric converting element 65 in the form projection light of output information. This filter 63 has patterns changed freely by the movement of a grain body in a liquid layer on the basis of feeding to a specific heating resistance body by a heating resistance body driving circuit 71 which reacts to a filter pattern generating circuit 70. Therefore, an optical filter having many kinds of patterns need not be prepared, the constitution of the optical information processor is simplified, and the operability is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光学情報処理装置に関するものである。[Detailed description of the invention] 〔Technical field〕 The present invention relates to an optical information processing device.

〔従来技術〕′ 従来、光学的に情報処理を行なう装置は種々提案されて
いる。これら装置においては例えば情報源である被検画
像に対して目的に応じた光学特性を有するフィルターを
光学的に作用させることにより演算等を行ない、新たな
る情報(処理画像)を得ている。然しながら、このよう
な方式においては同じ目的の一連の処理を行なうに際し
ては、事前に多量の且つ、少しずつ光学特性の異なるフ
ィルターを準備する必要が有り、更に、装置の操作性も
悪いと云う欠点を有するものであった。
[Prior Art]' Conventionally, various devices for optically processing information have been proposed. In these devices, for example, new information (processed image) is obtained by performing calculations and the like by optically applying a filter having optical characteristics according to the purpose to a test image that is an information source. However, in this method, when carrying out a series of processes for the same purpose, it is necessary to prepare a large number of filters with slightly different optical characteristics in advance, and furthermore, the device has the disadvantage of poor operability. It had a

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は上述した従来例の欠点を鑑み、光学情報処理装
置用フィルターとして以下に説明する光量制御素子を用
いることによって、簡便なる構成でありながら実用性に
すぐれる光学情報処理装置を提供することを目的とする
In view of the above-mentioned drawbacks of the conventional example, the present invention provides an optical information processing device that has a simple structure and is highly practical by using a light amount control element described below as a filter for the optical information processing device. With the goal.

ここで言う光学情報処理とは、光学的に表現された入力
情報を光学的にフィルタリングすることにより、一般に
は入力情報と異なる光学的な出力情報を得る処理を意味
するものである。
The optical information processing referred to here means a process of obtaining optical output information that is generally different from the input information by optically filtering optically expressed input information.

本発明によれば、以−Lの如き目的は、−に記装置内に
於いて自在にフィルターパターンを形成することが可能
な光量制御素子を用いることにより達成される。
According to the present invention, the following objects are achieved by using a light amount control element that can freely form a filter pattern in the apparatus described in (-).

本発明に係るフィルターに用いる光量制御方法の一例と
しては、液体内に存在する粒体を移動させることにより
入射光束の波面の状態を変化せしめることにより光量制
御を行なうものである。即ち液体中に粒体を存在せしめ
、該液体の温度を部分的に変えることにより粒体を移動
させ、該粒体の移動経路に光束を入射させ、該粒体が入
射光束中に滞留する時間を制御することにより達成され
る。或は又、入射光束中における入射光束の方向に対す
る粒体の面積及び/又は入射光束中における粒体の数を
制御することにより達成される。
An example of a method for controlling the amount of light used in the filter according to the present invention is to control the amount of light by changing the state of the wavefront of the incident light beam by moving particles present in the liquid. In other words, particles are made to exist in a liquid, the particles are moved by partially changing the temperature of the liquid, a beam of light is incident on the movement path of the particles, and the time period during which the particles stay in the incident beam of light is calculated. This is achieved by controlling the Alternatively, this can be achieved by controlling the area of the particles in the incident light beam with respect to the direction of the incident light beam and/or the number of particles in the incident light beam.

尚、前記粒体とは、気体、固体及び液体の三つの状態を
含むものである。気体としては液体をNi1liiさせ
て形成した蒸気泡、液体とは異なり液体には溶解しにく
い成分より成る、気泡、例えば水溶液中に混入したアル
ゴン、空気、酸素窒素、水素、ヘリウム、ネオン、−酸
化炭素、〜耐化窒素、メタンなどの気泡である。固体と
しては比較的畜度の小さいもの、例えば高分子材料、液
体としてはもとの液体と混り合わない様な液体であり、
例えば水と油の組み合わせである。
Note that the particles include three states: gas, solid, and liquid. Gases include vapor bubbles formed by Ni1liii of a liquid, and bubbles made of components that are difficult to dissolve in liquids, such as argon, air, oxygen, nitrogen, hydrogen, helium, neon, and -oxidation mixed into an aqueous solution. These are bubbles of carbon, nitrogen, methane, etc. As a solid, it is a relatively small amount of material, such as a polymer material, and as a liquid, it is a liquid that does not mix with the original liquid.
For example, a combination of water and oil.

本発明に係るフィルターに用いる光星制御力法の更なる
例としては液晶を用いた7トリクスアレイが挙げられる
。たとえば液晶をサンドイッチした対向電極に与える電
圧を制御して、液晶の配向状態を制御して透過光量を可
変ならしめるものである。
A further example of the optical star control force method used in the filter according to the invention is a 7 trix array using liquid crystals. For example, the amount of transmitted light can be made variable by controlling the voltage applied to counter electrodes sandwiching liquid crystal to control the alignment state of the liquid crystal.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明に用いる光制御素子の動作機構を説明す
るための概略断面図であり、第2図はその概略斜視図で
ある。
FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining the operating mechanism of the light control element used in the present invention, and FIG. 2 is a schematic perspective view thereof.

図中、1は透明保護板、2はエチルアルコールより成る
液体層、3は熱伝導性のある反射層で、例えばTa膜よ
り成る。4は発熱抵抗体(6a 、 6 b 、・・・
6e)を含み、旧つ各抵抗体間を絶縁性の物質5i02
で隔離した発熱抵抗体層、5は絶縁性の支持体である。
In the figure, 1 is a transparent protective plate, 2 is a liquid layer made of ethyl alcohol, and 3 is a thermally conductive reflective layer, which is made of, for example, a Ta film. 4 is a heating resistor (6a, 6b,...
6e) and an insulating material 5i02 between each resistor.
The heating resistor layer 5 is an insulating support.

7は気泡で形成された粒体、8は導電線であり、発熱抵
抗体(6a、6b、・・・6e)を各々独立に駆動でき
る様個々の駆動電源(Vl〜V5)に接続され、一方発
熱抵抗体(6a、6b、・・・6e)の他端9は接地あ
るいは共通の電圧に設定されている。従って各々の発熱
抵抗体に印加する電圧を制御することにより、発熱抵抗
体の近傍の液体層の温度を制御できる。S f02より
成る層4に埋設された発熱抵抗体の中文1は例えば20
pLm、発熱抵抗体の間隔文2は50gmである。
7 is a particle formed of bubbles, 8 is a conductive wire, and is connected to each driving power source (Vl to V5) so that the heating resistors (6a, 6b, . . . 6e) can be driven independently, On the other hand, the other ends 9 of the heating resistors (6a, 6b, . . . 6e) are grounded or set to a common voltage. Therefore, by controlling the voltage applied to each heating resistor, the temperature of the liquid layer near the heating resistor can be controlled. For example, the heating resistor embedded in the layer 4 made of S f02 is 20
pLm, the spacing of the heating resistor 2 is 50 gm.

第1図に示す素子で液体内に気泡を粒体として設ける場
合には、発熱抵抗体に熱をかけて液体に蒸気泡を形成す
ることで、容易に液体内に気泡を形成することが出来る
。例えば第1図に示す構成の素子では、液体がエチルア
ルコールである場合には、発熱抵抗体の両端に約4.2
vの直流電圧を印加すると、直径150ルm程度の泡が
形成され、一度形成された蒸気泡は印加電圧を下げても
消滅しなかった。そして気泡より成る粒体は、発熱抵抗
体に印加する電圧を1.5v程度まで下げても、発熱抵
抗体の近傍に引きつけられたままであった。従って、こ
のことにより、気泡の位置を保つことが出来た。
When providing bubbles as particles in a liquid using the element shown in Figure 1, the bubbles can be easily formed in the liquid by applying heat to the heating resistor and forming vapor bubbles in the liquid. . For example, in the element having the configuration shown in FIG. 1, if the liquid is ethyl alcohol, approximately 4.2
When a DC voltage of v was applied, bubbles with a diameter of about 150 lm were formed, and once formed, the vapor bubbles did not disappear even when the applied voltage was lowered. Even when the voltage applied to the heating resistor was lowered to about 1.5V, the particles made of air bubbles remained attracted to the vicinity of the heating resistor. Therefore, this made it possible to maintain the position of the bubbles.

粒体7の移動は次の様にして行なわれる。The movement of the grains 7 is carried out as follows.

即ち、第1因に示す様に発熱抵抗体6bに電圧が印加さ
れている場合には気泡の粒体7は前記発熱抵抗体の近傍
の位置に存在するが、発熱抵抗体6bに印加する電圧を
切り、発熱抵抗体6Cに電圧を印加すると粒体7は発熱
抵抗体6Cの近傍に移動する。この様に、液体内で温度
差を形成することにより粒体7は移動し、第1図で示す
様な素子であれば、発熱している抵抗体の近傍に粒体が
移動してゆく。従って電圧を印加する発熱抵抗体を選ぶ
ことにより、粒体の位置を制御することが出来るのであ
る。この場合50pL+nllれた隣接する発熱抵抗体
に1.5Vの電圧を印加すると同時に、気泡を引きつけ
ている発熱抵抗体の電圧を切ると、気泡は隣接する発熱
抵抗体の位置へ移動した。又、■20gm離れた2つ(
」の発熱抵抗体へ直接移動させる場合には、発熱抵抗体
に2Vの電圧を印加することにより、気泡は移動した。
That is, as shown in the first factor, when a voltage is applied to the heating resistor 6b, the bubble particles 7 are present in the vicinity of the heating resistor, but the voltage applied to the heating resistor 6b When the voltage is turned off and a voltage is applied to the heating resistor 6C, the particles 7 move to the vicinity of the heating resistor 6C. In this way, by creating a temperature difference within the liquid, the particles 7 move, and in the case of an element like the one shown in FIG. 1, the particles move near the resistor that is generating heat. Therefore, by selecting the heating resistor to which voltage is applied, the position of the particles can be controlled. In this case, when a voltage of 1.5 V was applied to the adjacent heating resistor of 50 pL+nll and at the same time the voltage of the heating resistor attracting the bubble was cut off, the bubble moved to the position of the adjacent heating resistor. Also, ■Two 20gm apart (
'', the bubbles were moved by applying a voltage of 2 V to the heating resistor.

この様な粒体の移動は液体層2内において温度差が形成
されることに基づくものであり、粒体7は低温側から高
温側へと移動する。
This movement of the particles is based on the formation of a temperature difference within the liquid layer 2, and the particles 7 move from the low temperature side to the high temperature side.

尚、第1図に示す素子では、液体内での粒体を保持する
為に、粒体を引きつけている発熱抵抗体に、液体に気泡
を生じない程度の電圧をバイアス電圧(保持電圧)とし
て印加しておくことが望ましい。又、別の駆動方法とし
ては、全ての発熱抵抗体に上記バイアス電圧を印加させ
ておき、粒体を移動させる目的の位置に存する発熱抵抗
体にバイアス電圧以上の比較的高い電圧を印加し、粒体
を引き寄せ、その後、バイアス電圧まで下げる。この様
にして、粒体を所定の位置に保持することができる。
In the device shown in Figure 1, in order to hold the particles in the liquid, a bias voltage (holding voltage) is applied to the heating resistor that attracts the particles to a level that does not create bubbles in the liquid. It is desirable to keep it applied. Another driving method is to apply the above bias voltage to all the heat generating resistors, and apply a relatively high voltage higher than the bias voltage to the heat generating resistors located at the target position to move the particles. The particles are pulled together and then lowered to the bias voltage. In this way, the granules can be held in place.

第3図は以上の如き粒体移動機構を有する光制御素子を
用いて、該粒体の入射光束中の滞留時間を制御すること
により、光量制御が可能であることを示す為の概略平面
図であり、第4図はその1V−IV断面図である。図に
おいて、11は粒体であり、該粒体11は気泡からなり
透明である。12は遮光フィルターであり、14は透明
ガラス板であり、15は不透明な液体である。16は透
明誘電体よりなる保護層であり、17はヒーター18a
、18bを含む発熱体層であり、19は透明ガラス基板
である。本実施例の素子においては、液体層15の厚き
は粒体(気泡)11の直径よりも小さく、従って粒体1
1は透明ガラス板14及び透明誘電体保護層16と比較
的大きな接触面積を有する。
FIG. 3 is a schematic plan view showing that it is possible to control the amount of light by controlling the residence time of the particles in the incident light beam using a light control element having the particle movement mechanism as described above. FIG. 4 is a sectional view taken along line 1V-IV. In the figure, 11 is a granule, and the granule 11 is made of air bubbles and is transparent. 12 is a light blocking filter, 14 is a transparent glass plate, and 15 is an opaque liquid. 16 is a protective layer made of a transparent dielectric, and 17 is a heater 18a.
, 18b, and 19 is a transparent glass substrate. In the device of this example, the thickness of the liquid layer 15 is smaller than the diameter of the particles (bubbles) 11, so
1 has a relatively large contact area with the transparent glass plate 14 and the transparent dielectric protective layer 16.

本素子においては、ヒーター18a及び18bの発熱温
度を制御することにより粒体11をヒーター18aの近
傍即ち遮光フィルター12のかかっている部分に位置せ
しめた場合には−L方からの入射光束は遮光フィルター
12のかかっていない部分の透明ガラス板14から不透
明液体層15へと入用し、ここで吸収されてF方へは射
出しない。次に、ヒーター18a及び18bの発熱温度
を制御することにより粒体11をヒーター18bの近傍
即ち遮光フィルター12のかかっていない部分に位置せ
しめた場合(第1図及び第2図の状8)には」断力から
の入射光束は透明ガラス板14から粒体11を透過して
透明ガラス基板19を通って下方に射出される。
In this element, by controlling the heat generation temperature of the heaters 18a and 18b, when the particles 11 are positioned near the heater 18a, that is, in the area covered by the light blocking filter 12, the incident light flux from the -L direction is blocked. The liquid enters the opaque liquid layer 15 from the transparent glass plate 14 in the area where the filter 12 is not covered, where it is absorbed and is not emitted in the F direction. Next, by controlling the heat generation temperature of the heaters 18a and 18b, the particles 11 are positioned in the vicinity of the heater 18b, that is, in the area where the light-shielding filter 12 is not covered (shape 8 in FIGS. 1 and 2). The incident light flux from the shear force passes through the grains 11 from the transparent glass plate 14, passes through the transparent glass substrate 19, and is emitted downward.

第5図を参照しつつ本例の素子の動作を説明する。同図
はヒーターに印加する電圧Vと時間Tとの関係を示すグ
ラフである。先ず、初期状態においてヒーター18bに
は電圧がかけられヒーター18aには電圧はかけられて
おらず、これにより粒体11はヒーター18bの近傍に
位置している。次に、ヒーター18bの印加電圧をOと
し、同時にヒーター18aに電圧を印加する。これによ
り、粒体11はヒーター18bの近傍からヒーター18
aの近傍へと移動する。ヒーター18aへの電圧印加を
時間E1だけ継続し粒体11をヒーター18aの近傍に
時間t1だけ保持した後、印加電圧なOとする。
The operation of the device of this example will be explained with reference to FIG. The figure is a graph showing the relationship between the voltage V applied to the heater and the time T. First, in the initial state, a voltage is applied to the heater 18b and no voltage is applied to the heater 18a, so that the particles 11 are located near the heater 18b. Next, the voltage applied to the heater 18b is set to O, and at the same time, a voltage is applied to the heater 18a. As a result, the particles 11 are moved from the vicinity of the heater 18b to the heater 18b.
Move to the vicinity of a. After continuing the voltage application to the heater 18a for a time E1 and keeping the grains 11 near the heater 18a for a time t1, the applied voltage is set to O.

同特にヒーター18bへ電圧を印加する。これにより、
粒体11はヒーター18aの近傍からヒーター18bの
近傍へと移動する。ヒーター18bへの電圧印加を時間
1またけ継続して粒体11をヒーター18bの近傍に時
間t2だけ保持した後、印加電圧をOとする。同時にヒ
ーター18aへ電圧を印加する。これにより、粒体11
はヒーター18bの近傍からヒーター18aの近傍へと
移動する。以下同様にして粒体11の移動及び保持を行
なう。第5図における時間To (−t 1+t2)に
おける透過光量は遮光フィルター12のかかつていない
部分に粒体11が存在する時間t2に比例する。従って
、たとえばToを一定としてt2を変化させることによ
り透過光量の特開平均を任意の値とすることができる。
In particular, a voltage is applied to the heater 18b. This results in
The particles 11 move from the vicinity of the heater 18a to the vicinity of the heater 18b. After continuing to apply the voltage to the heater 18b for one time and keeping the particles 11 near the heater 18b for a time t2, the applied voltage is set to O. At the same time, a voltage is applied to the heater 18a. As a result, the grains 11
moves from the vicinity of the heater 18b to the vicinity of the heater 18a. Thereafter, the granules 11 are moved and held in the same manner. The amount of transmitted light at time To (-t 1 + t2) in FIG. 5 is proportional to the time t2 during which the particles 11 are present in the part where the light shielding filter 12 is not present. Therefore, for example, by keeping To constant and varying t2, the JP-A average of the amount of transmitted light can be set to an arbitrary value.

第6図は上述した素子における駆動方法を実現するため
の駆動回路の説明図であり、図において20はヒーター
18a、18bを含む素子部テリ、21はスイッチング
回路であり、22は電圧発生回路であり、23は制御回
路であり、24は信号発生回路である。信号発生回路2
4からの信号に基つき制御回路23において第4図で示
される様なヒーター通電時間制御信号が生ぜしめられ、
該信号に基づきスイッチング回路21が電圧発生回路2
2とヒーター18a。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a drive circuit for realizing the above-mentioned driving method for the element. In the figure, 20 is an element part including heaters 18a and 18b, 21 is a switching circuit, and 22 is a voltage generation circuit. 23 is a control circuit, and 24 is a signal generation circuit. Signal generation circuit 2
Based on the signal from 4, a heater energization time control signal as shown in FIG. 4 is generated in the control circuit 23,
Based on the signal, the switching circuit 21 switches the voltage generation circuit 2
2 and heater 18a.

18bとの間のスイッチングを行なう。この様な回路は
容易に実現できるので、回路の具体的構成の説明は省略
する。
18b. Since such a circuit can be easily realized, a description of the specific configuration of the circuit will be omitted.

第7図は第1図、第2図を用いて説明した粒体移動機構
を有する光制御素子を用いて、入射光束中における入射
光束の方向に対する粒体の面積及び/又は入射光束中に
おける粒体の数を制御することにより光量制御が可能で
あることを示す概略平面図であり、第8図はその■−■
断面図である。図において、31は粒体であり、該粒体
31は気泡からなり透明である。32は遮光フィルター
であり、34は透明ガラス板であり、35は不透明な液
体である。36は透明誘電体よりなる保護層であり、3
7はヒーター38a、38b 、38cm−−−を含む
発熱体層であり、39は透明ガラス基板である。本素子
においては、液体層35の厚さは粒体(気泡)31の直
径よりも小さく、従って粒体31は透明ガラス板34及
び透明誘電体保護層36と比較的大きな接触面積を有す
る。
FIG. 7 shows the area of particles in the direction of the incident light beam and/or the particle size in the incident light beam using the light control element having the particle movement mechanism explained using FIGS. 1 and 2. Fig. 8 is a schematic plan view showing that the amount of light can be controlled by controlling the number of bodies;
FIG. In the figure, 31 is a granule, and the granule 31 is made of air bubbles and is transparent. 32 is a light blocking filter, 34 is a transparent glass plate, and 35 is an opaque liquid. 36 is a protective layer made of a transparent dielectric;
7 is a heating element layer including heaters 38a, 38b, 38cm---, and 39 is a transparent glass substrate. In this device, the thickness of the liquid layer 35 is smaller than the diameter of the particles (bubbles) 31, and therefore the particles 31 have a relatively large contact area with the transparent glass plate 34 and the transparent dielectric protective layer 36.

本素子においては、各ヒーターの発熱温度を制御するこ
とにより粒体31をヒーター38aの近傍即ち遮光フィ
ルター32のかかってし上る部分に位置せしめた場合に
は情報からの入射光束は遮光フィルター32のかかつて
(\なI/X部分の透明ガラス板34から不透明液体層
35へと入射し、ここで吸収されて下方へは射出しなl
、%。
In this element, when the grains 31 are positioned near the heater 38a, that is, in the area where the light-shielding filter 32 hangs and rises, by controlling the heat generation temperature of each heater, the incident light flux from the information is transmitted to the light-shielding filter 32. In the past, it entered the opaque liquid layer 35 from the transparent glass plate 34 of the I/X part, where it was absorbed and did not emit downward.
,%.

次に、各ヒーターの発熱温度を制御すること番こより粒
体31をヒーター38bの近傍へと移動ネせることがで
き、以下同様にして粒体を順次遮光フィルター32のか
かってl、)なし1部分へと移動させることができる。
Next, by controlling the heat generation temperature of each heater, the particles 31 can be moved to the vicinity of the heater 38b, and in the same manner, the particles are sequentially passed through the light-blocking filter 32. It can be moved from part to part.

そして、第1図及び第2図に示される状態においては上
方力\らの入用光束は透明ガラス板34から31を透過
して透明カラス基板39を通って下方に射出される。
In the state shown in FIGS. 1 and 2, the required light flux of the upward force is transmitted through the transparent glass plates 34 to 31, passes through the transparent glass substrate 39, and is emitted downward.

第9図を参照しつつ本実施例の素子の動作を説明する。The operation of the device of this example will be explained with reference to FIG.

同図は各ヒーターに印加する電圧Vと時間Tとの関係を
示すグラフである。先ず、初期状態においてヒーター3
8aのみに電圧がかけられており、これにより粒体31
はヒーター38aの近傍に位置している。次に、ヒータ
ー38aへの電圧印加を止め、同時にヒーター38bへ
電圧を印加する。以下同様にしてヒーターに順次短いパ
ルス状の電圧を印加し、ヒーター38aから数えて第i
番目のヒーターには比較的長い時間toだけ電圧印加を
行ない、該ヒーター1−に粒体31を時間toだけ保持
し、再び第(i−1)番目、第(i−2)番目、−一と
逆向きに順次短いパルス状電圧印加を行ない、ヒーター
38aへと粒体を移動させる。
This figure is a graph showing the relationship between the voltage V applied to each heater and the time T. First, in the initial state, heater 3
Voltage is applied only to 8a, which causes the particles 31
is located near the heater 38a. Next, the voltage application to the heater 38a is stopped, and at the same time, the voltage is applied to the heater 38b. Thereafter, short pulse-like voltages are sequentially applied to the heaters in the same manner, and the
A voltage is applied to the heater 1- for a relatively long time to, the particles 31 are held in the heater 1- for a time to, and then the (i-1)-th, (i-2)-th, -1-th A short pulse-like voltage is sequentially applied in the opposite direction to move the particles to the heater 38a.

粒体31が第i番目のヒーターの近傍に保持されている
とき、第7図及び第8図に示される如く、粒体31か遮
光フィルター32のかかった部分とかかっていない部分
とにわたって位置し、上方から見た粒体31の面積がS
Oで該遮光フィルター32のかかつていない粒体部分の
面積がSであるとすれば、−4二方から光束を入射させ
たときには、該入射光量のS/So倍の光量のみが下方
へ外部へと射出される。従って、粒体31を保持するヒ
ーターを選択することによって透過光量を任意の値とす
ることが出来る。
When the grains 31 are held near the i-th heater, as shown in FIGS. , the area of the grains 31 seen from above is S
If the area of the uncovered grain part of the light-shielding filter 32 is S at O, then -4 When light flux is incident from two directions, only the amount of light S/So times the amount of incident light goes downward to the outside. is ejected. Therefore, by selecting a heater that holds the particles 31, the amount of transmitted light can be set to an arbitrary value.

尚、この際ヒーターの数をできるだけ多くし、また粒体
31を移動させる時間が第i番目のヒーターの近傍に保
持される時間toに比べて十分小さくなる様に駆動を制
御することがハーフト−ンの階調数や光利用率の向」−
のためには好ましい。
At this time, it is important to increase the number of heaters as much as possible and to control the drive so that the time for moving the grains 31 is sufficiently small compared to the time to during which the grains 31 are held in the vicinity of the i-th heater. The number of gradation levels and the light utilization rate
preferred for.

第10図は本素子における駆動方法を実現するための駆
動回路の説明図であり、図において40はヒーター38
 a 、 38 b 、 38 c 、 −−−−を含
む素子部であり、41はスイッチング回路であり、42
は電圧発生回路であり、43は制御回路であり、44は
信号発生回路である。信号発生回路44からの信号に基
づき制御回路43において第9図で示される様なヒータ
ー通電時間制御信号が生ぜしめられ、該信号に基づきス
イッチング回路41が電圧発生回路42とヒーター38
a、38b、38cm−−一との間のスイッチングを行
なう。この様な回路は容易に実現できるので、回路の旦
体的構成の説明は省略する。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a drive circuit for realizing the drive method in this element, and in the figure, 40 is a heater 38.
an element section including a, 38b, 38c, -----, 41 is a switching circuit, and 42
is a voltage generation circuit, 43 is a control circuit, and 44 is a signal generation circuit. Based on the signal from the signal generation circuit 44, a heater energization time control signal as shown in FIG.
a, 38b, 38cm--1. Since such a circuit can be easily realized, a description of the physical structure of the circuit will be omitted.

以」−第1図から第10図を用いて説明した光量制御装
置を使用する光学情報処理装置について、以下にその実
施例を説明する。
Embodiments of an optical information processing device using the light amount control device described with reference to FIGS. 1 to 10 will be described below.

第11図に示す実施例はインコヒーレント、マツチド、
フィルタリング装置であり、前記光量制御装置を可変マ
ツチドフィルターとして用いる点に特徴かある。第11
図において、レーザー51からの出射光束は、光学系5
2により一旦点60に集光され、次に点60に前側焦点
が位置する光学系53によりコリメートSれる。
The embodiment shown in FIG.
It is a filtering device, and its feature is that the light amount control device is used as a variable matched filter. 11th
In the figure, the light beam emitted from the laser 51 is emitted from the optical system 5.
2, the light is once focused on a point 60, and then collimated S by an optical system 53 whose front focal point is located at the point 60.

そのコリメート光束中に被検画像61を配置し、且つ光
学系54の前側焦点を被検画像61に合致させる。他方
、光学系54の後側焦点位置には拡散板62を配置する
。この結果、光学系53と54の合成系はフーリエ変換
光学系として機能し、被検画像61のフーリエ変換像a
61が拡散板621に現われる。然し乍ら、拡散板62
の拡散作用により、位相成分の確定関係が除去される為
、拡散板62以降の光学系にとっては拡散板62は強度
分布が1a6112で表現されるインコヒーレント物体
とみなせる。
A test image 61 is placed in the collimated light beam, and the front focus of the optical system 54 is made to coincide with the test image 61. On the other hand, a diffuser plate 62 is arranged at the rear focal position of the optical system 54. As a result, the composite system of the optical systems 53 and 54 functions as a Fourier transform optical system, and the Fourier transform image a of the test image 61
61 appears on the diffuser plate 621. However, the diffuser plate 62
Due to the diffusion effect, the deterministic relationship of the phase components is removed, so for the optical system after the diffuser plate 62, the diffuser plate 62 can be regarded as an incoherent object whose intensity distribution is expressed by 1a6112.

次に、光学系55をその前側焦点位置に拡散板62.後
側焦点位置に前記光量制御装置63が位置する様配置す
る。更に光学系56は、その前側焦点位置に光量制御装
置63が、後側焦点位置に中心に開口を有する遮光板6
4がそれぞれ位置する様配置する。遮光板64の開口部
後方に光電変換素子65を配置する。光量制御装置63
は、本発明に係る粒体移動素子を2次元的に配列したも
のであり、各素子においては、粒体の存在する位置によ
り装置への入射光を透過するか否か或いは適切な透過光
量の選択を行なう。粒体の位置は、フィルターパターン
発生装置70からの信号に基づき、発熱抵抗体駆動回路
71から与えられる駆動信号により制御される。従って
、フィルターパターン発生装置70からの信号によって
光量制御装置63は種々のマツチドフィルターパターン
を呈するわけである。マツチドフィルタリングの機能を
以下に説明する。今、拡散板62の中心に点光源が有る
場合を考える。この時、遮光板64上には強度分布がl
 as312で表わされるフーリエ変換像が現われる。
Next, the optical system 55 is placed at the front focal position of the diffuser plate 62. The light amount control device 63 is arranged so as to be located at the rear focal position. Furthermore, the optical system 56 includes a light amount control device 63 at its front focal position, and a light shielding plate 6 having an opening in the center at its rear focal position.
Arrange them so that the number 4 is in their respective positions. A photoelectric conversion element 65 is arranged behind the opening of the light shielding plate 64. Light amount control device 63
is a two-dimensional arrangement of particle moving elements according to the present invention, and in each element, depending on the position of the particles, it is determined whether or not to transmit incident light to the device, or to transmit an appropriate amount of transmitted light. Make a selection. The position of the particles is controlled by a drive signal given from a heating resistor drive circuit 71 based on a signal from a filter pattern generator 70 . Therefore, depending on the signal from the filter pattern generator 70, the light amount control device 63 exhibits various matched filter patterns. The function of matched filtering will be explained below. Now, consider the case where there is a point light source at the center of the diffuser plate 62. At this time, the intensity distribution on the light shielding plate 64 is l.
A Fourier transform image represented by as312 appears.

すなわち、光学系55と56の合成系は、点像分布関数
がl ae312で表わされるインコヒーレント結像系
とみなせる。従って、被検画像61を図示の位置に挿入
すれば、拡散板62上は、強度分布が1ast、12で
表わされる物体面とみなせ、その結果遮光板64上には
1ae112とl ae312(7)相関パターンが現
われる。従って、光電変換素子65からの出力を検出す
ることにより被検画像61とマツチドフィルター63と
の相関の程度を知ることが可能である。
That is, the combined system of optical systems 55 and 56 can be regarded as an incoherent imaging system whose point spread function is expressed by lae312. Therefore, if the test image 61 is inserted at the position shown in the figure, the area on the diffuser plate 62 can be regarded as an object plane whose intensity distribution is represented by 1ast and 12, and as a result, the areas on the light shielding plate 64 are 1ae112 and lae312(7). Correlation patterns emerge. Therefore, by detecting the output from the photoelectric conversion element 65, it is possible to know the degree of correlation between the test image 61 and the matched filter 63.

マツチドフィルターとして、前記光量制御装置を用いる
ことによって第11図に示す装置は以下の特徴を有する
。即ち従来のマツチドフィルタリング装置においては、
被検画像61に対して、あらかじめ準備したマツチドフ
ィルターを順次機械的に交換して、相互相関値を調べる
ことにより、例えば文字読取り等の用途に用いられてい
た。しかるに第11図に示す実施例においては、光量制
御装置63を固定化したままで、その内部において粒体
の存在位置を変化させることにより、種々のフィルター
パターンを作成することが可能であるため、機械的動作
部が不要であり、ひいては装置の小型化が可能であるこ
と、又、処理の高速化も可能である。更に第11図に示
す光学系は、パワースペクトル1asx12と1aea
12cr+相関を調べる方式であるため、画像の置かれ
る位置の制限が緩和されると云う特徴を木来有している
が、それに加えて、本実施例においては、マッチトフイ
ルターパターンの光@hを中心とする回転、或いはパタ
ーンの拡大縮小が、フィルターパターン発生装置の信号
により容易に行なうことができる。従って従来例に比べ
ても装置の操作性の簡便化が可能である。
By using the light amount control device as a matched filter, the device shown in FIG. 11 has the following features. In other words, in the conventional matched filtering device,
It has been used for purposes such as character reading, for example, by mechanically exchanging matched filters prepared in advance for the test image 61 one after another and checking the cross-correlation values. However, in the embodiment shown in FIG. 11, it is possible to create various filter patterns by changing the position of the particles inside the light amount control device 63 while keeping it fixed. No mechanical operating parts are required, and as a result, the device can be made smaller and the processing speed can be increased. Furthermore, the optical system shown in FIG. 11 has power spectra 1asx12 and 1aea.
Since this method examines the 12cr+ correlation, it has the characteristic that restrictions on the position of the image are relaxed.In addition, in this embodiment, the matched filter pattern light @ Rotation around the center or scaling of the pattern can be easily performed using signals from the filter pattern generator. Therefore, the operability of the device can be simplified compared to the conventional example.

光学情報処理装置用フィルターとして光量制御装置を用
いた更なる実施例を第12図に示す。第12図はコヒー
レント画像情報処理装置テアル。レーザーs1からのコ
ヒーレント光はビームエキスパンダー82により径を拡
大され被検画像91を照明する。光学系83.84はい
わゆるf−f配置の再回折光学系を形成している。被検
画像91は光学系83の前側焦点位置に、;4.、発明
に係る光量制御装置92は光学系83の後側焦点位置で
、且つ、光学系84の前側焦点位1ηに、観測面85は
光学系84の後側焦点位置にそれぞれ配置される。良く
知られる様に1−配光学系においては、被検画像91の
フーリエスペクトルが光量制御装置92上に形成される
。一方、先述した原理により光量制御装置92において
所定の透過率分布を有するフィルターパターンを発生す
ることが可能であるので、ローパス、バイパス、バンド
パス導杆々の処理を行ない、その結果を観測面85上で
観測する事が可能である。或いは観1111面85の位
置に2次元センサーを配置して事後、更なる処理を行な
うことも可能である。
A further embodiment using a light amount control device as a filter for an optical information processing device is shown in FIG. FIG. 12 shows the coherent image information processing device TEAL. The coherent light from the laser s1 is expanded in diameter by the beam expander 82 and illuminates the test image 91. The optical systems 83 and 84 form a re-diffraction optical system having a so-called ff configuration. The test image 91 is placed at the front focal position of the optical system 83;4. The light amount control device 92 according to the invention is located at the rear focal position of the optical system 83 and the front focal position 1η of the optical system 84, and the observation surface 85 is located at the rear focal position of the optical system 84. As is well known, in the 1-optical distribution system, a Fourier spectrum of a test image 91 is formed on a light amount control device 92 . On the other hand, since it is possible to generate a filter pattern having a predetermined transmittance distribution in the light amount control device 92 according to the principle described above, low-pass, bypass, and band-pass transmission processing is performed, and the results are transmitted to the observation surface 85. It can be observed above. Alternatively, it is also possible to arrange a two-dimensional sensor at the position of the view 1111 surface 85 and perform further processing afterward.

光量制御装置92中の粒体の移動は、フィルターパター
ン発生装置93からの信号に基づき、発熱抵抗体駆動回
路94から与えられる駆動信号により制御される。本実
施例においても光量制御装置92内の粒体の配列を制御
することにより所望のパターンが得られるので、フィル
ター交換等機械的動作部が不要、装置の簡便化が可能、
処理の高速化が可能、汎用処理に適する等の特徴を有す
るものである。
The movement of the particles in the light amount control device 92 is controlled by a drive signal given from a heating resistor drive circuit 94 based on a signal from a filter pattern generation device 93 . In this embodiment as well, the desired pattern can be obtained by controlling the arrangement of the particles in the light amount control device 92, so there is no need for mechanical operating parts such as filter replacement, and the device can be simplified.
It has features such as being able to speed up processing and being suitable for general-purpose processing.

光学情報処理装置用フィルターとして光量制御装置を用
いた更なる実施例を第13図に平面図で、第14図には
正面図で示す。両図に示す装置は、光学的マトリクス演
算処理装置であり、Y=A  ・ X の演算を行なう。今、−例として の演算を行なう場合を説明する。両図において101は
LED光源であり、各LED I O1a、101b、
101cの節度が上式のxl。
A further embodiment using a light amount control device as a filter for an optical information processing device is shown in a plan view in FIG. 13 and in a front view in FIG. 14. The device shown in both figures is an optical matrix calculation processing device, and performs the calculation of Y=A.X. Now, a case will be described in which an example calculation is performed. In both figures, 101 is an LED light source, and each LED I O1a, 101b,
The moderation of 101c is xl in the above formula.

x2 、x3に対応する。各LEDからの光束は、アナ
モフィック光学系102を介して本実施例では光量制御
装置103−fニーを3木のライン状に照明する。光量
制御装置103は先述した原理にしたがい、上式のal
l 、 a12 、 a13 。
Corresponds to x2 and x3. In this embodiment, the light flux from each LED passes through the anamorphic optical system 102 and illuminates the light amount control device 103-f knee in the form of three tree lines. The light amount control device 103 operates according to the above-mentioned principle.
l, a12, a13.

a2+ 、 a22 、 a23のそれぞれ所定の値で
各照明光重を透過させる。即ち光量制御装置103が1
一式のマトリクスAを表現するものであり、先述した動
作により、所望の値を設定できるものである。尤翰制御
装置103を透過後の光束はアナモフィック光学系10
4を介して2個の受光素子105a 、105bにより
光量検出が成される。この受光素子105からの出力が
上式の71.”/2に対応するものである。
Each illumination light weight is transmitted at predetermined values of a2+, a22, and a23. That is, the light amount control device 103
It represents a set of matrices A, and desired values can be set by the operations described above. The light beam after passing through the light control device 103 is transmitted through the anamorphic optical system 10.
The amount of light is detected by the two light receiving elements 105a and 105b via the light receiving element 4. The output from this light receiving element 105 is 71. ”/2.

本実施例においても、先述の実施例と同様に、光量制御
装置103をフィルターとして用いることにより多大な
効果が得られる。
Also in this embodiment, great effects can be obtained by using the light amount control device 103 as a filter, as in the previous embodiments.

以上第1図から第10図を用いて説明した、第15図及
び第16 (A)(B)(C)(D)は、本発明に係る
光学情報処理装置の更なる実施例を示す図で、光量制御
素子(装置)を合成開口関数の形成手段として使用する
画像情報処理装置の実施例である。(以下に示す。)一
様に照明された原画像に対して、それぞれが所定の透過
率を有する複数の開口から成る合成開口を用いて、コン
ポレーション処理することにより、原画像の画像処理・
修正を行なう手法は広く知られている。本実施例に於い
ては、単一の光制御素子を単一の開口に対応させ、前述
した光制御素子中を透過する光量を制御する手法に基づ
き、開口を透過する光量を制御して画像処理を行なうも
のである。
FIGS. 15 and 16 (A), (B), (C), and (D) described above using FIGS. 1 to 10 are diagrams showing further embodiments of the optical information processing device according to the present invention. This is an embodiment of an image information processing apparatus that uses a light amount control element (device) as a means for forming a synthetic aperture function. (See below.) Image processing of the original image is performed on the uniformly illuminated original image by performing composition processing using a synthetic aperture consisting of a plurality of apertures each having a predetermined transmittance.
Techniques for making corrections are widely known. In this example, a single light control element corresponds to a single aperture, and the amount of light transmitted through the aperture is controlled based on the method of controlling the amount of light transmitted through the light control element described above. It performs processing.

第15図において、光源111からの光束は光学系11
2により、はぼ均一な光量分布と成り、原画像113を
照明する。110は前記光制御素子から成る合成開口で
あり、2次元7トリクス状に各素子は配設されている。
In FIG. 15, the light beam from the light source 111 is transmitted to the optical system 11.
2, a nearly uniform light amount distribution is achieved and the original image 113 is illuminated. Reference numeral 110 denotes a synthetic aperture made up of the light control elements, and each element is arranged in a two-dimensional seven-trix pattern.

各素子における透過率は、開ロバターン発生回路121
からの信号に基づき、発熱抵抗体駆動回路122によっ
て制御される。透過率の制御については、開口の面積に
対する粒体の面積の比、或いは、単位時間中に開1コ内
に粒体の存在する時間等を制御する事により成されるが
その詳細については前述しており、ここでは省略する。
The transmittance in each element is determined by the open pattern generating circuit 121.
The heating resistor drive circuit 122 controls the heating resistor drive circuit 122 based on the signal from the heating resistor drive circuit 122. The transmittance can be controlled by controlling the ratio of the area of the particles to the area of the aperture, or the amount of time the particles remain within the aperture per unit time, but the details are described above. and will be omitted here.

114は集光光学系であり、合成開口110を透過した
光束を像面115上に設けられた開口]−に集光する。
114 is a condensing optical system, which condenses the light beam transmitted through the synthetic aperture 110 onto an aperture provided on the image plane 115.

光電変換素子116は、集光光重に応じた電気信号を発
生する。この電気信号が原画像上の成る一画素に対応し
た処理画像情報である。
The photoelectric conversion element 116 generates an electric signal according to the weight of the condensed light. This electrical signal is processed image information corresponding to one pixel on the original image.

本実施例に係る光学情報処理の原理を、1次元モデルを
用いて、第16図により説明する。
The principle of optical information processing according to this embodiment will be explained with reference to FIG. 16 using a one-dimensional model.

第16図−Aは原画像113を模式化して表わしたもの
である。横軸は位置情報である。標本化の間隔は合成開
口110における隣接する開口間の距離によって定まる
。縦軸は、標本化された位置での画像情報(例えば透過
率)である。
FIG. 16-A is a schematic representation of the original image 113. The horizontal axis is position information. The sampling interval is determined by the distance between adjacent apertures in the synthetic aperture 110. The vertical axis is image information (eg, transmittance) at the sampled position.

説明の簡単化の為、2値画像を表示している。To simplify the explanation, a binary image is displayed.

第16図−Bは、合成開口110の各開口の透過率を表
わす6木図においては、−次元ラプラシアン演算用の合
成開口例を示している。各開口の透過率は、0から1の
間で可変であるため、中央の開口の透過率を1、その両
脇のそれをOとしている。他の開口は1/3の透過率を
与える。第16図−Aに示す原画像に、第16図−Bに
示す合成開口を対応させた結果、光電変換素子116か
らの出力は5/3(相対値)が得られる。次に、開ロバ
ターン発生回路121からの信号に基づき、発熱抵抗体
駆動回路122によって第16図−Bに示す開ロバター
ンを1画素分シフトする。この手順を繰り返すことによ
り、コンポレーション演算が順次成される。
FIG. 16-B shows an example of a synthetic aperture for -dimensional Laplacian calculation in a six-tree diagram representing the transmittance of each aperture of the synthetic aperture 110. Since the transmittance of each aperture is variable between 0 and 1, the transmittance of the central aperture is 1, and the transmittances on both sides thereof are 0. Other apertures give 1/3 transmission. As a result of matching the synthetic aperture shown in FIG. 16-B to the original image shown in FIG. 16-A, an output of 5/3 (relative value) from the photoelectric conversion element 116 is obtained. Next, based on the signal from the open pattern generating circuit 121, the heating resistor drive circuit 122 shifts the open pattern shown in FIG. 16-B by one pixel. By repeating this procedure, composition calculations are sequentially performed.

演算結果を第16図−Cに示す。第16図−Dは、第1
6図−Cに示した演算結果からバイアス成分5/3を図
示されない演算系により差し引いて得られた処理画像で
ある。ラプラシアン処理の結果、原画像の輪郭が抽出さ
れている。
The calculation results are shown in FIG. 16-C. Figure 16-D is the first
This is a processed image obtained by subtracting 5/3 of the bias component from the calculation result shown in FIG. 6-C by a calculation system not shown. As a result of Laplacian processing, the outline of the original image is extracted.

本実施例に示す光情報処理装置の特徴は以下の通りであ
る。即ち、演算の為の合成開口として、前記光制御素子
を用いる事により、各種演算に対応する2次元合成開口
を自在に形成することが可能である。更に合成開口は電
気信号により、原画面上を相対的に移動する構成であっ
て、機械的移動機構を必要としない為、演算の高速化、
操作の簡便化、装置の小型化が可能である。加えて前記
光制御素子は先述の説明から理解できるように、入射光
束の偏光、波長特性等に影響を受けないと云う優れた特
徴を有する。
The characteristics of the optical information processing device shown in this embodiment are as follows. That is, by using the light control element as a synthetic aperture for calculations, it is possible to freely form two-dimensional synthetic apertures that correspond to various calculations. Furthermore, the synthetic aperture is configured to move relative to the original screen using electrical signals, and does not require a mechanical movement mechanism, which speeds up calculations.
It is possible to simplify the operation and downsize the device. In addition, as can be understood from the above description, the light control element has the excellent feature of not being affected by the polarization, wavelength characteristics, etc. of the incident light beam.

以上の図面を用いた実施例においては、光学情報処理装
置用フィルターとして、粒体の移動による光量制御素子
を用いたものを示した。
In the embodiments using the above drawings, a filter for an optical information processing device using a light amount control element based on movement of particles is shown.

本発明にあっては光量制御素子として液晶マドリクスア
レイを用いることも可能であることを以下に説明する。
It will be explained below that in the present invention, it is also possible to use a liquid crystal matrix array as the light amount control element.

即ち、液晶マトリクスアレイをはさんで両側に偏光子を
直交ニコル状態に配置する。この状態でアレイ内の個々
のマトリクスを構成する液晶の配向状態を制御すること
により入射光束の偏光状態を個別に変化させることが可
能である。したがって出射側の偏光子(検光子)の偏光
軸の方向と、各マトリクスを通過した光束の偏光方向の
差異により検光子出射後の光量が変化するものである。
That is, polarizers are arranged on both sides of the liquid crystal matrix array in a crossed Nicol state. In this state, by controlling the alignment state of the liquid crystals constituting each matrix in the array, it is possible to individually change the polarization state of the incident light beam. Therefore, the amount of light after exiting from the analyzer changes depending on the difference between the direction of the polarization axis of the polarizer (analyzer) on the exit side and the polarization direction of the light flux that has passed through each matrix.

もちろん入用光束が直線偏光であるものでは、入射側の
偏光子は不用である。
Of course, if the input light beam is linearly polarized light, a polarizer on the incident side is unnecessary.

この液晶マトリクスアレイを用いた光量制御素子を前記
第11図から第16図において説明した光学情報処理装
置に適用することが可能であり、この場合においても又
、粒体の移動による光量制御素子を適用する場合と同様
の効果が得られるものである。
It is possible to apply a light amount control element using this liquid crystal matrix array to the optical information processing apparatus described in FIGS. The same effect can be obtained when it is applied.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以1−1液体中の粒体の移動により光量を町変ならしめ
る素子について、更に液晶マトリクスアレイをもちいる
光量可変素子について説明を行ない、これらをフィルタ
ーとして用いる各種光学情報処置装置について図面を用
いて説明を行なった。
Below, we will explain 1-1 an element that varies the amount of light by moving particles in a liquid, a variable light amount element that uses a liquid crystal matrix array, and use drawings to explain various optical information processing devices that use these as filters. I gave an explanation.

本発明によれば、簡便なる構成で且つ操作性に優れる光
学情報処理装置を提供する事が可能である。
According to the present invention, it is possible to provide an optical information processing device that has a simple configuration and excellent operability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図、第2図は本発明にフィルターとして用いる光制
御素子の動作原理を説明するだめの図、第3図から第1
0図は」−配素子を用いて光量制御が可能であることを
説明するための図、第11図から第16図は本発明に係
る光情報処理装欝の実施例を示す図である。 1・・・透明保護板、2・・・液体薄層、3・・・反対
層、4・・・発熱抵抗体層、5・・・支持体、6a、6
b。 6c、6d、6e・・・発熱抵抗体、7・・・粒体、5
1・・・レーザー、52,53,54,55゜56・・
・光学系、61・・・被検画像、62・・・拡散板、6
3・・・先部制御装置、64・・・遮光板、65・・・
光電変換素子、70・・・フィルターパターン発生装置
、71・・・発熱抵抗体駆動回路。
FIGS. 1 and 2 are diagrams for explaining the operating principle of the light control element used as a filter in the present invention, and FIGS.
FIG. 0 is a diagram for explaining that the amount of light can be controlled using a "-distribution element," and FIGS. 11 to 16 are diagrams showing embodiments of the optical information processing equipment according to the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Transparent protective plate, 2...Liquid thin layer, 3...Opposite layer, 4...Heating resistor layer, 5...Support, 6a, 6
b. 6c, 6d, 6e...Heating resistor, 7...Particle, 5
1... Laser, 52, 53, 54, 55° 56...
・Optical system, 61...Test image, 62...Diffusion plate, 6
3... Tip control device, 64... Light shielding plate, 65...
Photoelectric conversion element, 70... Filter pattern generator, 71... Heat generating resistor drive circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 光学的に表現される入力情報を光学的フィルターを用い
て演算を行ない出力情報を得る光学情報処理装置におい
て、該光学フィルターはフィルターパターンが可変であ
ることを特徴とする光学情報処理装置。
1. An optical information processing device that obtains output information by calculating optically expressed input information using an optical filter, wherein the optical filter has a variable filter pattern.
JP25857084A 1984-12-07 1984-12-07 Optical information processor Pending JPS61137125A (en)

Priority Applications (1)

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JP25857084A JPS61137125A (en) 1984-12-07 1984-12-07 Optical information processor

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JP25857084A JPS61137125A (en) 1984-12-07 1984-12-07 Optical information processor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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