JPS61114103A - Pattern positioning method of image processing - Google Patents
Pattern positioning method of image processingInfo
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- JPS61114103A JPS61114103A JP23498684A JP23498684A JPS61114103A JP S61114103 A JPS61114103 A JP S61114103A JP 23498684 A JP23498684 A JP 23498684A JP 23498684 A JP23498684 A JP 23498684A JP S61114103 A JPS61114103 A JP S61114103A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、プリント基板パターン検査装置における画像
処理の中で、前処理に当る位置合せに係り、特に、同一
パターンの比較等のだめの、好適なパターン位置合せに
関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to alignment, which is pre-processing, in image processing in a printed circuit board pattern inspection device, and in particular, to a suitable method for comparing identical patterns. Regarding pattern alignment.
従来のパターン位置ずれ検出は、ずれ量を計算する時、
一方のパターンの中心点と、他方のパターンとのずれ量
で算出していた。この方法は、複数の積算カウンタを用
い、カウンタ値の最小値を見つけ出し算出するものであ
る。これは、最小値が複数存在するとずれ量が算出でき
ない欠点があツタ。パターンの位置合せについて詳しく
述べである特許の例として特許昭57−113227号
がある。In conventional pattern position deviation detection, when calculating the amount of deviation,
It was calculated based on the amount of deviation between the center point of one pattern and the other pattern. This method uses a plurality of integration counters to find and calculate the minimum value of the counter values. This has the disadvantage that the amount of deviation cannot be calculated if there are multiple minimum values. An example of a patent that describes pattern alignment in detail is Japanese Patent No. 57-113227.
本発明の目的は、パターンの位置ずれを、画素単位に検
出するのではなく、画素の周辺を考慮して統計処理を行
い、位置ずれを正確に検出することを提供することにあ
る。An object of the present invention is to provide a method for accurately detecting positional deviations of a pattern by performing statistical processing in consideration of the periphery of a pixel, rather than detecting positional deviations on a pixel-by-pixel basis.
本発明は、パターン位置合せにおいて、位置ずれを検出
した時、その位置ずれの正当性を検証出来なかったので
、そこに統計的手法を付加することにより、位置ずれを
正確に算出しようとしたものである。The present invention attempts to accurately calculate the positional deviation by adding a statistical method to the problem, since the validity of the positional deviation could not be verified when the positional deviation was detected in pattern alignment. It is.
以下、本発明の一実施例を図面によυ説明する。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be explained with reference to the drawings.
第1図はプリント基板のパターンを検査する装置の構成
例である。本装置は2枚の同じプリント基板を比較し、
欠陥を検出するものである。カメラ1.2は、2枚のプ
リント基板から5.12w平方の画像を取シ出す検出器
である。ステージ3.4は同一方向に同じ幅(= 5
m )だけ、いっしょに移動する駆動系である。プリン
ト基板5.6はステージ3,4の上に置き固定される。FIG. 1 shows an example of the configuration of an apparatus for inspecting patterns on printed circuit boards. This device compares two identical printed circuit boards,
It detects defects. Camera 1.2 is a detector that takes 5.12w square images from two printed circuit boards. Stage 3.4 has the same width in the same direction (= 5
m) is a drive system that moves together. The printed circuit board 5.6 is placed and fixed on the stages 3 and 4.
本装置の欠陥検出方法は2枚の同一プリント基板から、
同じ座標にあるパターンを取り出し、画像を2値化して
、パターンのマツチングも実施する。The defect detection method of this device is to detect defects from two identical printed circuit boards.
Patterns at the same coordinates are extracted, the image is binarized, and pattern matching is also performed.
1回に検出できる範囲は5.I2w平方のパターン7.
8であるため、ステージ3.4’a:5關ピツチで移動
させ、検出パターン部7.8′!f−1ずらしてプリン
ト基板全平面にわたり欠陥を検出する。The range that can be detected at one time is 5. I2w square pattern7.
8, so the stage 3.4'a: is moved by 5 pitches, and the detection pattern section 7.8'! Defects are detected over the entire plane of the printed circuit board by shifting f-1.
第2図はカメラ1.2で取シ出した2値化のパターンか
ら、取り出した部分7.8の位置ずれを検出する回路で
ある。この回路の必要性は、比較する対象の画像のずれ
を修正し、正確な比較を行うためである。位置ずれ算出
は、取り出し画像の7.8の範囲だけ実施する。方法は
、画像7.8の全平面に対して、同一場所の9ピント乎
方9゜10を取り出し、取シ出した9、10から、一方
の9の中心点のデータ11と、他方10のすべてのデー
タとを排他的論理和で演算する。この演算で9の中心位
置のデータ11と同じ値を持つ10のデータが値1とな
り、積算カラ/り13にプラス1される。この演算を7
.8の画像全平面に対して 9ビット平方取り出しを、
縦横1ビツトづつずらしく (512−9)X(51
2−9)回行うと積算カウンタの値が14のグラフとし
て表わされる。この結果、カウンタNoの中で、最小の
値を持ったNoから位置ずれ量を算出できる。FIG. 2 shows a circuit for detecting the positional deviation of the extracted portion 7.8 from the binarized pattern extracted by the camera 1.2. This circuit is necessary to correct deviations in images to be compared and to perform accurate comparison. Positional deviation calculation is performed only in a range of 7.8 of the extracted image. The method is to extract 9 points 9° and 10 from the same location on all planes of image 7.8, and from the extracted 9 and 10, data 11 of the center point of one 9 and data 11 of the other 10. Performs an exclusive OR operation with all data. In this calculation, data 10 having the same value as data 11 at the center position of 9 becomes 1, and 1 is added to the integrated value 13. This operation is 7
.. 9-bit square extraction for all image planes of 8,
Shifted by 1 bit vertically and horizontally (512-9)
When the process is repeated 2-9) times, the value of the integration counter is represented as a graph of 14. As a result, the amount of positional deviation can be calculated from the counter number having the smallest value.
しかし、その算出に不都合が生じる場合がある。However, there may be some inconvenience in the calculation.
それは、最小値の値を複数のカウンタが持つ時である。That is when multiple counters have the minimum value.
そこで、この解決策として、第3図に示すような平滑化
を実施する。平滑化とは第4図に例を示すように、1点
の周りのデータを加算して、その点の値とする方法で、
周辺のデータを影響に入れたものである。そこでグラフ
14で表わしたデータに関し、平滑化を行うと、グラフ
17となり、最小値をもつカウンタが、ただ1つとなり
、正確な位置ずれ検出が出来ることになる。Therefore, as a solution to this problem, smoothing as shown in FIG. 3 is performed. Smoothing is a method of adding data around one point to obtain the value of that point, as shown in Figure 4.
This takes into account surrounding data. Therefore, if the data represented by graph 14 is smoothed, graph 17 will be obtained, and only one counter will have the minimum value, allowing accurate positional deviation detection.
本発明によれば、位置ずれ検出に、平滑化の統計処理を
付加することにより、ずれ量の最適化ができるため、位
置ずれ検出のデータに正確さが増す、According to the present invention, by adding statistical smoothing processing to positional deviation detection, the amount of deviation can be optimized, which increases the accuracy of positional deviation detection data.
第1図はプリント基板パターン検査装置におけるパター
と検出方法を示す図、第2図はパターン位置ずれ検出回
路構成図、第3図はパターン位置ずれ検出後の平滑化の
結果を示す図、第4図は平滑化の方法例を示す図である
。
1.2・・・カメラ、3,4・・・駆動ステージ、5,
6・・・プリント基板、7.8・・・検出パターン部、
9゜10・・・2値化の位置ずれ検出比較・ぐターン、
1】・・・位置ずれ検出用基準画素、12・・・位置ず
れ幅、13・・・位置ずれ検出用積算カウンタ、14・
・・積算カラyり群のカウンタ値のグラフ、15,1.
6・・・積算カウンタの配列、17・・・積算カウンタ
の平滑化のグラフ、18・・・平滑化前のデータ例、1
9・・・平滑化後のデータ例。Fig. 1 is a diagram showing a pattern and a detection method in a printed circuit board pattern inspection device, Fig. 2 is a diagram showing the configuration of a pattern position deviation detection circuit, Fig. 3 is a diagram showing the smoothing results after pattern position deviation detection, and Fig. 4 is a diagram showing a pattern position deviation detection circuit configuration diagram. The figure is a diagram showing an example of a smoothing method. 1.2... Camera, 3, 4... Drive stage, 5,
6... Printed circuit board, 7.8... Detection pattern section,
9゜10...Binarization position shift detection comparison/Turn,
1]... Reference pixel for positional deviation detection, 12... Positional deviation width, 13... Integration counter for positional deviation detection, 14.
・Graph of counter value of integrated color group, 15,1.
6... Array of integration counters, 17... Graph of smoothing of integration counters, 18... Example of data before smoothing, 1
9...Example of data after smoothing.
Claims (1)
つき、そのパターンの細部を2台のカメラにて同時撮影
し、両者を比較して欠陥を検出するプリント基板パター
ン検査装置において、2枚の基板より同一部分のパター
ンを比較するため、同一部分を抽出するためには、欠陥
検出の前に、位置合せ補正を行うため位置ずれ量を精度
よく求める位置ずれ量算出法において、2段階の過程を
経て実施し第1段はパターンの2値化のデータより、パ
ターンの1方の中心位置の点(画素データ)と、他方の
すべての点(画素データ)を排他的論理和の演算し、積
算値の最小値よりずれ量を算出する第2段にその積算値
の平滑化を加えたことで、ずれ量を算出することを特徴
とする画像処理におけるパターン位置合せ法。1. In a printed circuit board pattern inspection system that simultaneously photographs the details of two printed circuit boards that should have the same pattern using two cameras and compares them to detect defects, In order to compare patterns of the same part and extract the same part, a two-step process is performed in the positional deviation amount calculation method that accurately calculates the amount of positional deviation in order to perform alignment correction before detecting defects. In the first stage, from the binarized data of the pattern, the point at the center of one side of the pattern (pixel data) and all the points on the other side (pixel data) are subjected to an exclusive OR operation, and then integrated. A pattern alignment method in image processing characterized in that the amount of deviation is calculated by adding smoothing of the integrated value to the second stage of calculating the amount of deviation from the minimum value of the values.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23498684A JPS61114103A (en) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | Pattern positioning method of image processing |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23498684A JPS61114103A (en) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | Pattern positioning method of image processing |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61114103A true JPS61114103A (en) | 1986-05-31 |
Family
ID=16979355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23498684A Pending JPS61114103A (en) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | Pattern positioning method of image processing |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61114103A (en) |
-
1984
- 1984-11-09 JP JP23498684A patent/JPS61114103A/en active Pending
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