JPS6110498A - Method of forming relief engraving pattern - Google Patents

Method of forming relief engraving pattern

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JPS6110498A
JPS6110498A JP13061484A JP13061484A JPS6110498A JP S6110498 A JPS6110498 A JP S6110498A JP 13061484 A JP13061484 A JP 13061484A JP 13061484 A JP13061484 A JP 13061484A JP S6110498 A JPS6110498 A JP S6110498A
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mortar layer
pattern
mortar
sheet
forming
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怜 田中
雅史 狩野
充弘 松田
充 河野
輝行 高橋
高山 裕一
賢一 西川
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Dai Nippon Toryo KK
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Dai Nippon Toryo KK
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 浮彫模様を有する材料は、建築関係の外装及び内装用を
はじめとして、その他さまざまな分野において幅広く利
用されている 〔従来の技#i1 従来、モルタル層表面へ浮彫模様を形成する方法の代表
的なものとしては、(1)こて へらによる方法、(2
)ローラー(・(−よる方法、(3)吹付による方法(
4)エンボッソングによる方法、(5)ブラストによる
方法等が知らノ1ている。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] Materials with relief patterns are widely used in various fields including exterior and interior applications of architecture [Conventional Technique #i1] Typical methods for forming relief patterns on the surface of the mortar layer include (1) method using a trowel and spatula;
) Roller (・(− method, (3) Spraying method (
4) Embossing method, (5) Blasting method, etc. are known.

しかして、(1)の方法は、しっくい壁の仕上げ工法と
して発展してきたものであり、相かな浮彫模様を形成す
ることは非常に難しく、熟練を要するものであった。J また、(2)の方法は・Pターンローラーを押印してい
くことにより凹凸を形成させるものであるため、単純な
繰返し模様の形成には適した方法であるが、複雑、微細
な模様の形成には適さないものであったO さらに、(3)の方法は、吹付ガンによりランダムな凹
凸模様を形成するには適した方法であるが、任意の例え
ば図柄1文字等の特定な模様を形成することが出来りい
という欠点を有するものであった。
However, method (1) was developed as a finishing method for plaster walls, and it was extremely difficult to form a matching relief pattern and required skill. J In addition, method (2) is suitable for forming simple repeating patterns because it forms unevenness by stamping with a P-turn roller, but it is suitable for forming complex and fine patterns. In addition, method (3) is suitable for forming random uneven patterns using a spray gun, but it is not suitable for forming arbitrary patterns such as a single character. It had the disadvantage that it was difficult to form.

また、(4)の方V―は、一応工場における犬量牛産に
適した方法であAが、個々のシリ品El’千J1それ異
なった模様を付すV(−け不i+ζ当々方法で7bつか
In addition, (4), V-, is a method suitable for producing dogs and cattle in factories, and A is a method that is suitable for producing dogs and cattle in factories. So it's 7b.

(5)の方法はモルタル層」−を部分的に一1スクI2
、マスクさtlてない個所をプラスト処理すZ)−二と
により削り、凹凸状の浮彫模様を形成するものである。
Method (5) is to partially remove the mortar layer from
, the areas not covered by the mask are shaved off using a plastron process and a relief pattern having an uneven shape is formed.

1.かじ、この方法は、プラス) +11. Jllj
の際に、粉塵及び騒音等が発生するために作朶環境の悪
什をまねき、さらには作業場の周囲への悪影響も大Aく
、また、作業時間も長く、竜険をら伴う等の欠点を有す
るものであった。
1. However, this method is a plus) +11. Jllj
During this process, dust and noise are generated, which causes a negative impact on the working environment, and also has a large negative impact on the surroundings of the work place.In addition, the work time is long and there are risks, etc. It had a

さらに、コンクリート・千ネルにモルタルヲ塗布スル際
、モルタルとコンクリートの密着性を向上させるtl的
で、コンクリート表面を凹凸状にする手段として、次の
ような方法が知られている。すなわち、ヤ枠に5多)ら
かじめ部分的にセメント硬化M延剤を塗布し、次いでコ
ンクリートを型枠内に流し込み、養生し、次いで洗い出
しを行なう凹凸状のコニ・クリート・9オルを製造する
方法である。
Furthermore, the following method is known as a means of making the concrete surface uneven in order to improve the adhesion between the mortar and concrete when mortar is applied to the concrete. In other words, a concave-convex shaped Coni-Crete 9-or is manufactured by partially applying a cement hardening agent to the frame, then pouring concrete into the form, curing it, and then washing it out. This is the way to do it.

1、 #)L、こ(h方法には型枠を心安と17、しか
も任意の基lにル1用できるものではなかった。さらに
、4!J r)れた凹凸は、シャープな(輪郭のはっき
りした)、かつ彫りの深い凹凸模様ではなかった。
1, #) L, this (h method requires no worry about formwork 17, and it cannot be applied to any base l.Furthermore, 4! J r) unevenness has a sharp (outline) It had a clear pattern), and it did not have a deeply carved uneven pattern.

それ故、この方法は、央観を目的とした浮彫模様の形成
手段としては不適当なものであった。
Therefore, this method was unsuitable as a means of forming a relief pattern for the purpose of creating a central view.

[、′Ir、明が解決しJ、つとする間舶点〕本発明l
tらは、以上の如き浮彫模様の分野における現状に鑑み
、任意の基材上に、鮮明でランダム模様でない任意の凹
凸状の浮彫模様を、熟練を要することなく簡単に形成す
る方法につき鋭意検討の結果、本発明に到ったのである
[, 'Ir, the point between the light and the light to be solved] The present invention l
In view of the current situation in the field of embossed patterns as described above, T et al. conducted a thorough study on a method for easily forming a clear, non-random embossed pattern on any base material without requiring any skill. As a result, we have arrived at the present invention.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち本発明は、 (1)基材−ヒに(ルタルを塗布し、モ/1.タ11.
層を形成する]、程、 (11)該モルタル層が未硬化の間に、給体6過性部分
と液体小^過f1部分とから模様を形成したノートをモ
ルタル層上p(−のせた後、あるいはWE体不透過性シ
ート金モルタル層上に俟様状にのせた後、モルタル層表
面にセメント硬化遅延剤溶液を塗布する工程、 (ii+)前記シートを除去した後、モルタル層を養生
する工程、及び (1v)モルタル層の養生後、セメント硬化遅延剤溶液
を塗布した個所のモルタル層を、洗浄除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の形成方
法に関するものである。
That is, the present invention has the following steps: (1) Apply rutal to the base material, and apply the coating to the base material.
(11) While the mortar layer is uncured, a notebook with a pattern formed from the feed material 6 part and the liquid part 1 is placed on the mortar layer p (-). After or after placing the WE body-impermeable sheet in a oval shape on the gold mortar layer, applying a cement hardening retardant solution to the surface of the mortar layer, (ii+) After removing the sheet, curing the mortar layer. (1v) After curing the mortar layer, cleaning and removing the mortar layer at the locations where the cement hardening retardant solution has been applied. be.

本発明の方法においては、前記未硬化のモルタル層上に
密着したシートの模様に応じ、セメント硬化遅延剤溶液
をモルタル層に含浸する。したがって、硬化遅延剤を含
浸した個所は、硬化が遅延し、養生後であっても洗浄に
より容易に除去できる、っそれ数本発明の方法は、シー
トの模様に応じてンヤーグな形伏で、深い凹凸を有する
浮彫模様を、モルタル層表面に形成できるという特長を
有するものである。
In the method of the present invention, the mortar layer is impregnated with a cement hardening retardant solution according to the pattern of the sheet that is in close contact with the uncured mortar layer. Therefore, the areas impregnated with the curing retarder are delayed in curing and can be easily removed by washing even after curing. It has the feature that a relief pattern with deep unevenness can be formed on the surface of the mortar layer.

また、本発明においては、モルタル層の厚さ及びl=/
ノl−硬化遅蝋削の含浸及び除去の程度を適当にコント
ロールすることにより、浅い凹凸を有するものは勿論Q
)こと、深い凹凸を有するものまで、所望の深さの凹凸
を有する浮彫模様が自由に形成できるという特長を有す
る。さらに本発明の方法は、浮彫模様がモルタル層から
なるものであるため、非常に安価にしかも深い凹凸を有
する浮彫模様を形成することができるという特長を有す
る。
In addition, in the present invention, the thickness of the mortar layer and l=/
By appropriately controlling the degree of impregnation and removal of Nol-hardening slow wax cutting, it is possible to improve the Q
), it has the advantage of being able to freely form relief patterns with unevenness of a desired depth, even those with deep unevenness. Furthermore, the method of the present invention has the advantage that since the relief pattern is made of a mortar layer, it is possible to form a relief pattern with deep unevenness at a very low cost.

以下、本発明の凹凸を有する浮彫模様の形成方法につき
、さらに具体的に説明する。
Hereinafter, the method for forming a relief pattern having unevenness according to the present invention will be explained in more detail.

まず本号へ明において使用する基材としては、公知の)
ルタルを密着できるあらゆる基材が適用でキル。例えば
、鉄、アルミニウム、ステルレス等の金属、ガラス、タ
イル、陶磁器、コンクリート。
First of all, the base materials used in this issue are known)
It can be applied to any base material that can adhere to Rutaru. For example, metals such as iron, aluminum, stealth, glass, tiles, ceramics, and concrete.

レンガ、石材、木材、グラスチックあるいはこれらの積
層体等を挙げることができる。その森面は必ずしも平面
である必要はなく、例えば曲面であってもよい。これら
基材には、必要に応じて川面にしたり、着色したり、l
ライマーを施したり等の下地処理を施゛ノこともできる
Examples include brick, stone, wood, glass, and laminates thereof. The forest surface does not necessarily have to be a flat surface, and may be a curved surface, for example. These base materials can be made into a river surface, colored, or lubricated as needed.
It is also possible to apply a primer or other surface treatment.

本発明においては、第一工程として、前8〔二のよウナ
基材上にモルタル層、コテ、ヘラ、スプレー等の通常用
いられる手段により塗布し、モルタル層を形成する。該
モルタル層の厚さは、特に制限はない。しかし凹凸の彫
りの深さに応じ、実用1約/ −= 20 mmにする
ことが好ましい。
In the present invention, as the first step, a mortar layer is formed by applying the mortar layer onto the base material by a commonly used means such as a trowel, a spatula, or a spray. The thickness of the mortar layer is not particularly limited. However, depending on the depth of the carving of the unevenness, it is preferable for practical use to be about 1/-=20 mm.

本発明で使用するモルタルは、従来から一般に使用され
ているものがそのまま適用出来る。すなわち七メ/ト、
砂等の骨材及び水からなるものであり、必要に応じさら
に着色顔料、各種添加剤等を配合したものである。また
アクリル樹脂糸エマルジョン、酢酸ビニル樹脂系エマル
ゾヨ/、ニブキシ樹脂系エマルジョン、スチレンブタジ
ェン樹脂糸エマルション等を配合した、いわゆる樹脂モ
ルタルも本発明において使用出来る。
As the mortar used in the present invention, any mortar that has been commonly used can be used as is. In other words, seven meters/to,
It consists of aggregates such as sand and water, and if necessary, coloring pigments, various additives, etc. are added. In addition, so-called resin mortars containing acrylic resin thread emulsions, vinyl acetate resin emulsions, niboxy resin emulsions, styrene-butadiene resin thread emulsions, etc. can also be used in the present invention.

本発明においてはモルタル層は、同一色のモルタルを使
用する以外に、色の異なるモルタルを複数回塗り重ねる
こともできる。このように色の異なる複数のモ/Lタル
層を形成することにより、後述する。−rp除去工程に
、おいて、モルタル層を洗浄除去する際の各場所の除去
程度、すなわち四部の深さを加減することにより、深さ
に応じて多色の変仕のある凹凸浮彫模様を形成すること
が可能となる。
In the present invention, for the mortar layer, in addition to using mortar of the same color, mortar of different colors can be applied multiple times. By forming a plurality of mo/L layers having different colors in this way, it will be described later. -In the rp removal process, by adjusting the degree of removal at each location when cleaning and removing the mortar layer, that is, the depth of the four parts, a relief pattern with multicolored variations can be created depending on the depth. It becomes possible to form.

このようにして形成したモルタル層が未硬化の間に、好
ましくはキルタル層表面の遊離水が消失し、指で軽く押
して変形しない程度になった時点で、液体透過性部分と
液体透過性部分とで模様を形成したシートを、モルタル
層表面に密着させる。
While the mortar layer formed in this manner is not yet cured, preferably when the free water on the surface of the mortar layer disappears and the mortar layer does not deform when lightly pressed with a finger, the liquid permeable portion and the liquid permeable portion are separated. The sheet with the pattern formed thereon is brought into close contact with the surface of the mortar layer.

該/−トは、具体的には、塗料業界で通常使用されてい
るシルクスクリーンであることが好ましい。
Specifically, the /-t is preferably a silk screen commonly used in the paint industry.

あるいは、シートを模様状に(所望の模様をjll成す
るように)切り抜いたものをモルタル層表面に密着させ
ることもできる。
Alternatively, a sheet cut out in a pattern (so as to form a desired pattern) may be brought into close contact with the surface of the mortar layer.

本発明に於てはまた別の即様々して、液体不透過性ノー
トをモルタル層−ヒに、該シーlが模様を形成するよう
にvljSさせることもできる。
In another variation of the present invention, the liquid-impermeable notebook may be applied to the mortar layer so that the seal forms a pattern.

このようVCL ’C’/−トをf= ルl ル層1:
、 (/LI C’) 14た後、該シートの上からモ
ルタル層表面に1!I/ト硬化遅延剤溶液を塗布する。
VCL 'C'/-t like this:
, (/LI C') After 14 minutes, apply 1! to the surface of the mortar layer from above the sheet. Apply curing retarder solution.

さらに塗布したセメント硬化遅延剤溶液を、ノートの液
体不1h過性部分が密着している以外のモルタル層に含
浸する。
Furthermore, the applied cement retardant solution is impregnated into the mortar layer other than the one in close contact with the liquid-impermeable part of the notebook.

すなわち、該シートを、モルタル層が未硬化の間にモル
タル層の上にのせるために、モルタル要人シート(液体
不透過性部分)との間に空き間はなく、液体不透過性部
分で覆われたモルタル層にセメント硬化遅延剤溶液が含
浸することはない。
That is, in order to place the sheet on the mortar layer while the mortar layer is uncured, there is no space between the sheet and the mortar VIP sheet (liquid impermeable portion), and the sheet is placed on the mortar layer while the mortar layer is uncured. The covered mortar layer is not impregnated with the cement retarder solution.

まだセメント硬化遅延剤溶液の粘度、塗布蓋を調節する
ことにより、凹凸の深さを自由に変えることができる。
However, by adjusting the viscosity of the cement hardening retarder solution and the application lid, the depth of the unevenness can be changed freely.

すなわち、例えばセメント硬化遅延剤の粘度を低くシ、
及び/又は塗布量を多くすることにより、セメント硬化
遅延剤をより深く含浸することができるため、凹凸の深
さを大きくすることができる。
That is, for example, by reducing the viscosity of a cement hardening retarder,
And/or by increasing the amount of application, the cement hardening retarder can be impregnated more deeply, so the depth of the unevenness can be increased.

本発明において使用するセメント硬化遅延剤溶液の粘度
4」、モルタル層への浸誘性等を考慮すると10−10
311?イズ(20℃において)であることかなr上1
y 1.、い。該粘度範囲のセメント硬化遅延剤?d液
を使11]することによって、よりシャープなU字状の
1部1部をjし成することができる。
The viscosity of the cement hardening retardant solution used in the present invention is 4'', and considering the permeability into the mortar layer, it is 10-10.
311? (at 20℃)
y1. ,stomach. Cement hardening retardant in this viscosity range? By using liquid 11], a sharper U-shaped part can be formed.

本発明においてセメント硬化遅延剤溶液としては、従来
から一般に使用されているものがそのままfl! 74
1 u[能である。具体的には、例えばリン酸二水素プ
トリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム
、四ホウ酸ナトリウム、糖類、酢酸カル7ウム、オキシ
カルデン酸塩、リグニンスルフォン酸塩・アルコール等
が代表的々ものとしてあげられる。なお、固体のものに
ついては、水溶液として使用する。また、粘度が前記範
囲より低い場合は、ポリビニルアルコール、メチルセル
ロース、アルギン酸ソーダ、ベントナイト等の増粘剤を
添加する等の手段により、粘度を前記範囲に調整するこ
とができる。
In the present invention, as the cement hardening retardant solution, those commonly used in the past can be used as is! 74
1 u [capable. Specifically, representative examples include ptrium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium phosphate, sodium tetraborate, sugars, calcium acetate, oxycaldate, lignin sulfonate/alcohol, etc. It can be given as In addition, solid substances are used as aqueous solutions. If the viscosity is lower than the above range, the viscosity can be adjusted to the above range by adding a thickener such as polyvinyl alcohol, methylcellulose, sodium alginate, bentonite, or the like.

また、着色剤を配合したセメント硬化遅延剤溶液を、モ
ルタル層に塗布することにより、七メ・ト硬化遅延剤溶
液を含浸せしめた洗浄除去すべき個所が着色によって判
別できるために、後述する洗浄除去工程において便利な
ことがある。
In addition, by applying a cement hardening retardant solution containing a coloring agent to the mortar layer, the areas that are impregnated with the hardening retarder solution and should be cleaned and removed can be identified by coloring, which will be explained later in the cleaning process. It may be useful in the removal process.

本発明においては、セメント硬化遅延剤溶液を塗布後、
前記シートを除来し、次いでモルタル層を一定時間養生
させる。養生方法としては、通常モルタルの養生方法と
して知られている自然養生法、水蒸気養生法、加圧養生
法等が採用出来る。
In the present invention, after applying the cement hardening retarder solution,
The sheet is removed, and then the mortar layer is allowed to cure for a certain period of time. As the curing method, a natural curing method, a steam curing method, a pressure curing method, etc., which are generally known as mortar curing methods, can be adopted.

養生のための時間は、後述する洗浄除去工程において、
セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸していない個所の
モルタル層は除去されない程度に硬化し、かつセメント
硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個所のモルタル層は未
硬化であるかもしくは比較的容易に除去できる程度に半
硬化するに委する時間とする。具体的には、例えば自然
養生法の場合、常温(20℃)でざ〜j′θ時間とする
ことが好ましい。
The curing time is determined by the cleaning and removal process described below.
The mortar layer in areas where the cement setting retarder solution has not been applied or impregnated is hardened to the extent that it cannot be removed, and the mortar layer in areas where the cement setting retarder solution has been applied or impregnated is uncured or relatively easily cured. This is the time allowed to semi-cure to the extent that it can be removed. Specifically, for example, in the case of a natural curing method, it is preferable to set the temperature at room temperature (20°C) for ~j'θ hours.

モルタル層を養生させた後、水あるいは水と溶剤等から
なる洗浄液を用い、かつ同転ブラシで擦る方〃に、あ・
:)いは該洗浄液を高圧喧射する方法等の手段により、
セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個n「のモル
タル層を洗浄除去する。
After curing the mortar layer, use a cleaning solution consisting of water or water and a solvent, and scrub it with a rotating brush.
:) Or by means such as high-pressure spraying of the cleaning liquid,
The mortar layers impregnated with a cement hardening retardant solution are washed and removed.

かくて深い凹凸を南する浮彫模様を形成したモルタル層
が得らねる。本発明に於いてはさらに会費に応じ、色彩
を付与したり、光沢度を調整したりすることができる。
In this way, it is impossible to obtain a mortar layer that forms a relief pattern with deep unevenness. In the present invention, it is also possible to add color and adjust the degree of gloss depending on the membership fee.

さらに耐候性、耐水性、耐薬品性等を付与するために、
全面もl、 <は凹部(又は凸部)に別の着色塗膜を施
したり、全面にクリヤーもし、〈はカラークリヤー等の
塗膜を施したり、あるいは研tメすることもできる。
Furthermore, in order to provide weather resistance, water resistance, chemical resistance, etc.
The entire surface can also be coated with another colored coating on the concave portions (or convex portions), or the entire surface can be coated with a clear coating, or a coat of color clear or the like can be applied, or it can be polished.

以上、記載したように本発明の方法により、任意の深さ
の、深い凹凸を有する、浮彫模様を、簡単に、かつ安価
に得ることかり能である。またシー)KJiJ成さil
、fC模様を色々と変化させることにより、所望の凹凸
模様を簡単にうることができるという特長を有する。
As described above, by the method of the present invention, it is possible to easily and inexpensively obtain a relief pattern having deep unevenness of any depth. Also see) KJiJ Narasil
, by changing the fC pattern in various ways, it has the advantage that a desired uneven pattern can be easily obtained.

また、本発明の方法により得られた凹凸模様を形成した
モルタル層を有するものは、建材、装飾品等に利用でき
、工場あるいは現場においても製造できる特長を411
−でいる。
Furthermore, the mortar layer with an uneven pattern obtained by the method of the present invention can be used as building materials, decorative items, etc., and has the feature that it can be manufactured in a factory or on-site.
-I am.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

なお、実施例中1部」、「%」は重量基準である。In the Examples, "1 part" and "%" are based on weight.

実施例 / 周囲に木製枠をもうけた石綿ツ、レート板(り00 X
 /110θX10mm)表面に、チルトランドセメン
トノ00部、シリカ粉20θ部、減水剤/部及び水75
部からなるモルタルを、コテにて3 mm厚の平滑なモ
ルタル層を形成した。7時間放置し、表面の水が消失し
、指で軽く押して変形しないことをs′認した後、液体
透過性部分と液体不透過性部分とから模様を形成したシ
ルクスクリーンを、モルタル層表面に密着させた。
Example / Asbestos wood plate with a wooden frame around it (R00
/110θX10mm) 00 parts of chilled land cement, 20θ parts of silica powder, water reducing agent/part and 75 parts of water on the surface.
A smooth mortar layer with a thickness of 3 mm was formed using a trowel. After leaving it for 7 hours and confirming that the water on the surface has disappeared and that it is not deformed by pressing lightly with your finger, a silk screen with a pattern formed from a liquid-permeable part and a liquid-impermeable part is placed on the surface of the mortar layer. Closely attached.

次いでリン酸水素二ナトリウムg部、メチル奄ルローに
糸増粘M/、3部、フタロシアニンブルー1部及び水9
0部からなる粘度、210ボイズ(,20’c)oセメ
ント硬化〃延剤后液を、シルクスクリーン上にドクター
ブレードで塗布(10θ9/m″)した11次いでンル
クス、クリーンを除去1.た後、温度:2部フ℃、相対
18度7jチの雰囲気中で7日養生させた。
Next, g parts of disodium hydrogen phosphate, 3 parts of thread thickening M/, methyl rouleau, 1 part of phthalocyanine blue and 9 parts of water were added.
A viscosity of 0 parts, 210 pores (,20'c) o Cement hardening spreader solution was applied on the silk screen with a doctor blade (10θ9/m''), then 11 lux was removed, and the clean was removed. Temperature: 2 parts were cured for 7 days in an atmosphere of 18° C. relative to 70° C.

次いで、水を注ぎ(3017分)ながらj分/mr槽]
合で111転(2ダOrpm >するナイUン糸(?゛
Lθ.mm)を束ねた円型ブラシ(φ100mm)で給
り、七メ/ト硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモルタ
ル層を除去した。
Then, while pouring water (3017 minutes) j minutes/mr tank]
A circular brush (φ100 mm) made of a bundle of yarns (?゛Lθ.mm) with 111 rotations (2 da Orpm) was applied to the mortar layer at the location impregnated with a 7-metal curing retarder solution. was removed.

得らitだ表面には、シルクスクリーンの模様に対応し
また、平均深さ約/ mmのシャープな模様状凹凸が形
成、された1、 次いでアクリルクリヤーラッカーを全面に塗布した。
On the obtained surface, sharp pattern-like irregularities with an average depth of about 1/2 mm were formed, corresponding to the silk screen pattern.1 Then, acrylic clear lacquer was applied to the entire surface.

このようにして得られたモルタル層表面には、きわめて
浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
On the surface of the mortar layer thus obtained, a relief pattern with an extremely embossed appearance was obtained.

実施例 ! !Irl鈑力A/Cツム/j部、メチルセルo−スJ[
粘ff’l / 部、フタ0ンアニンブル一/部及び水
ト3B1〜からなる粘度gOIイズC,20℃)のセメ
ント硬什遅廷剤uり液を1ψ用[7た以外は、実施例/
と同様にしてモルタル層表面に凹凸を形成した。
Example ! ! Irl Kanriki A/C Tsumu/j part, Methyl cell o-su J [
A cement hardening retardant solution with a viscosity of 1/part of viscosity, 1/part of lid, and 1/part of water (gOI = 3B, 20°C) was used for 1ψ [Except Example 7]
In the same manner as above, irregularities were formed on the surface of the mortar layer.

得られた表面にはシルクスクリーンの模様に対応した、
平均深さ約2.3mrnのシャープな模様状凹凸が形成
でき、きわめて浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
The resulting surface has a pattern that corresponds to the silkscreen pattern.
Sharp pattern-like unevenness with an average depth of about 2.3 mrn could be formed, and an embossed pattern with an extremely embossed feeling was obtained.

実施例 3 デルトランドセメ/ト30部、シリカ粉、2.!i部。Example 3 30 parts of Deltland cement/to, silica powder, 2. ! Part i.

メチルセルロース系増粘剤/部、酢酸ビニル樹脂系エマ
ルション(NVJ0チ)に部、減水剤0.3部及び水、
2部部からなる樹脂モルタルを/ 、2 mm厚に塗布
し、モルタル層を形成したこと、リン酸三ナトリウム、
20部、メチルセルロース糸増粘剤/部、フタロシアー
/ブルー/部及び水7り部からなる粘度、20ポイズ(
,20℃)のセメ/ト硬化遅延剤溶液を使用したこと以
外iJ 、実施例/と同様にしてモルタル層表面に凹凸
を1[チ成17た、。
Methyl cellulose thickener/part, vinyl acetate resin emulsion (NVJ0chi) part, water reducer 0.3 part and water,
A resin mortar consisting of two parts was applied to a thickness of 2 mm to form a mortar layer, trisodium phosphate,
Viscosity, 20 poise (
Irregularities were formed on the surface of the mortar layer in the same manner as in Example except that a cement hardening retardant solution was used at 20° C.).

得られた表向には、シルクスクリーンの(9様に対応し
た平均深さ約3.、fmmのシャーfな(Q機状凹凸が
形成でき、きわめて浮彫り感のあるfr彫模様が得られ
た。
On the surface obtained, silk screen (9) patterns with an average depth of approximately 3mm and a shear fmm (Q pattern) can be formed, resulting in an extremely embossed fr carving pattern. Ta.

実施例 ≠ 石綿スレー ト板表面に白色ダルトランドセメント30
fm、シリカ粉、2部部、メチルセルロース糸増粘剤/
部、′rクリル樹脂糸エマルノヨン(NVJ O% )
 7 部、フタロンアニンブルー〇。3部、−・ンザイ
エロー1部、減水剤0.3部及び水、2部部からなるモ
ルタルを3 mm厚に塗布し、次いで前記モルタル中の
着色剤の代りにナフトールレッド/部を配合したモルタ
ルを1.2mm厚に塗り重ねた。
Example ≠ White Daltland cement 30 on the surface of asbestos slate board
fm, silica powder, 2 parts, methylcellulose thread thickener/
Part, 'rCrylic resin thread emulsion (NVJ O%)
Part 7, Phthalone Anine Blue. A mortar in which a mortar consisting of 3 parts, Naphthol Red, 1 part Naphthol Red, 0.3 parts water reducer, and 2 parts water is applied to a thickness of 3 mm, and then 1 part naphthol red is added in place of the coloring agent in the mortar. was coated to a thickness of 1.2 mm.

2時間放置し、表向の水が消失し、指で軽く押して変形
しないことをfIii認した後、液体透過性部分と液体
不透過性部分とから模様を形成したシルクスクリーンを
、モルタル層表面に密着させた。
After leaving it for 2 hours and confirming that the water on the surface has disappeared and that it does not deform by pressing lightly with your finger, a silk screen with a pattern formed from a liquid-permeable part and a liquid-impermeable part is placed on the surface of the mortar layer. Closely attached.

次いで、実施例3で使用したものと同じ七メン) 硬(
L ′M延剤溶液をシルクスクリーン上に塗布し、以下
実施例/と同様にしてモルタル層表面に凹凸を形成した
Next, the same Shichimen) hardening (as used in Example 3)
The L'M spreading agent solution was applied onto a silk screen, and irregularities were formed on the surface of the mortar layer in the same manner as in Example.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)(i)基材上にモルタルを塗布し、モルタル層を
形成する工程、 (ii)液体透過性部分と液体不透過性部分とで模様を
形成したシートをモルタル層上にのせた後、あるいは液
体不透過性シートをモルタル層上に模様状にのせた後、
モルタル層表面にセメント硬化遅延剤溶液を塗布する工
程、 (iii)前記シートを除去し、モルタル層を養生する
工程、 (iv)モルタル層の養生の後、セメント硬化遅延剤溶
液を塗布した個所のモルタル層を洗浄除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の形成方
法。
(1) (i) Step of applying mortar on the base material to form a mortar layer; (ii) After placing a sheet with a pattern formed of a liquid permeable part and a liquid impermeable part on the mortar layer. , or after placing a liquid-impermeable sheet in a pattern on the mortar layer,
(iii) removing the sheet and curing the mortar layer; (iv) after curing the mortar layer, applying the cement retarder solution to the surface of the mortar layer; A method for forming an embossed pattern with deep unevenness, comprising the steps of: washing and removing a mortar layer;
(2)セメント硬化遅延剤溶液の粘度が10〜10^3
ポイズ(20℃において)であることを特徴とする、特
許請求の範囲第(1)項記載の浮彫模様の形成方法。
(2) The viscosity of the cement hardening retardant solution is 10-10^3
A method for forming a relief pattern according to claim 1, characterized in that the temperature is poise (at 20° C.).
(3)模様を形成したシートが、シルクスクリーンであ
ることを特徴とする、特許請求の範囲第(1)項又は第
(2)項記載の浮彫模様の形成方法。
(3) The method for forming a relief pattern according to claim (1) or (2), wherein the sheet on which the pattern is formed is a silk screen.
(4)モルタル層が、色の異なる複数のモルタル層から
構成されていることを特徴とする、特許請求の範囲第(
1)項〜第(3)項のいずれか一項に記載の浮彫模様の
形成方法。
(4) The mortar layer is composed of a plurality of mortar layers of different colors.
The method for forming a relief pattern according to any one of items 1) to 3).
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