JPS61104545U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例の断面図、第２図はこの考案の
実施例の断面図である。 １…反応ガス供給ヘツド、２…コンベア、３…
被加工体、４…区画室、５…区画室壁下端、６…
反応ガス噴出孔、７…余剰ガス吸引開口、８…吸
引管、９…ジエツトポンプ、１０…内管、１１…
外管、１２…微小間隙、１３…二重管部、１４…
不活性ガス室、１５…不活性ガス供給管。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 下端が開口し、各々に反応ガス噴出孔６_１，６
   _２が内設された多数の区画室４と、該区画室群の
   被加工体搬送方向両端に配設された余剰ガス吸引
   開口８と、該吸引開口に連通して吸引負圧を作用
   させる吸引管９とから成る反応ガス供給ヘツド１
   を、被加工体搬送コンベア２の上方に配設して成
   る加熱反応炉において、前記吸引管９に、上記吸
   引開口８に連通する内管１１と該内管の外周に微
   小間隙１３を介して重合される外管１２とから形
   成される二重管部１４と、該二重管部１４の外周
   を包囲する不活性ガス室１５と、該ガス室１５に
   接続された不活性ガス供給管１６とから成り、前
   記二重管部１４の微小間隙１３から不活性ガスを
   噴出して上記吸引開口８に吸引負圧を作用させる
   ジエツトポンプ１０を挿入したことを特徴とする
   加熱反応炉。