JPS61100744A - Photosensitive composition - Google Patents

Photosensitive composition

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Publication number
JPS61100744A
JPS61100744A JP22133384A JP22133384A JPS61100744A JP S61100744 A JPS61100744 A JP S61100744A JP 22133384 A JP22133384 A JP 22133384A JP 22133384 A JP22133384 A JP 22133384A JP S61100744 A JPS61100744 A JP S61100744A
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JP
Japan
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salt
group
photosensitive composition
acid
diazo resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP22133384A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Yoshihiro Maeda
佳宏 前田
Sei Goto
聖 後藤
Norihito Suzuki
鈴木 則人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP22133384A priority Critical patent/JPS61100744A/en
Publication of JPS61100744A publication Critical patent/JPS61100744A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

Abstract

PURPOSE:To obtain a photosensitive layer having a good visible image, a high sensitivity and a good storage stability by incorporating a salt of diazoresin, a high polymer compd. having a hydroxyl group and an oil soluble dyestuff. CONSTITUTION:The titled composition comprises a PF6 or a BR4 salt of the diazoresin, an org. salt of the diazoresin, the high polymer compd. contg. the hydroxyl group, and the oil soluble dyestuff. A weight ratio of the PF6 or BF4 salt of the diazoresin to the org. salt of the diazoresin is preferably (0.2:1)-(1:0.2). Total compounding amount of the PF6 or BF4 salt and the org. salt of the diazoresin is preferably 10-50wt% on the weight basis of the titled composition. The high polymer compd. contg. the hydroxyl group is usually the weight average molecular weight of 5,000-500,000 and is a polymer obtd. from a monomer contg. a hydroxyl substd. aromatic group such as N-(4- hydroxyphynyl) acrylamide. The oil soluble dyestuff preferably comprises about 1-5wt% on the weight basis of the titled composition.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は感光性組成物に関するものであり、特に感光性
平版印刷版に好適に使用される感光性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a photosensitive composition, and particularly to a photosensitive composition suitably used in a photosensitive lithographic printing plate.

更に詳しくは可視画性を持ち、保存安定性に優れた感光
層を与える感光性組成物に関する。
More specifically, the present invention relates to a photosensitive composition that provides a photosensitive layer with visible imageability and excellent storage stability.

〔従来の技術] あらかじめ感光性を与えられた印刷材料の感光性物質と
して使用されているものの大多数はジアゾニウム化合物
であり、その最も常用されているものにp−ジアゾシフ
エールアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表さ几るジ
アゾ(;1脂がある。このようなジアゾ樹脂を紙、プラ
スチック又は金属等の適当な支持体上に塗布し、それを
透明陰画を通して活性光線に蹟光した場合、露光された
部分のジアゾ樹脂は分解を起して不溶性に変化する。他
方、未露光部を水で溶解除去することによシ支持体表面
が露呈する。あらかじめ親水化処理を施した表面を有す
る支持体を用いれば、未露光部は現像により該親水層を
露呈する。したがってオフセット印刷機上において、こ
の部分は水を受付けてインキを反発する。ま九、分解し
た部分のジアゾ樹脂は親油性を呈し、水を反発してイン
キを受付ける。つまりこのような印刷材料はいわゆるネ
ガ−4ジ型の印刷版を与える。
[Prior Art] The majority of substances used as photosensitive substances in printing materials that have been given photosensitivity in advance are diazonium compounds, and the most commonly used one is a formaldehyde condensate of p-diazocypheleamine. There is a type of diazo resin represented by diazo resin.When such a diazo resin is coated on a suitable support such as paper, plastic, or metal, and exposed to actinic light through a transparent negative, it is exposed to The diazo resin in the exposed areas decomposes and becomes insoluble.On the other hand, by dissolving and removing the unexposed areas with water, the surface of the support is exposed. With this method, the unexposed area exposes the hydrophilic layer through development. Therefore, on an offset printing machine, this area accepts water and repels ink. Also, the diazo resin in the decomposed area exhibits lipophilic properties , which repels water and accepts ink.Such printing materials thus give so-called negative-4-type printing plates.

前記ジアゾ樹脂において、ジアゾニウム塩の対アニオン
が塩酸、硫酸などの鉱酸、又は、塩化亜鉛との複塩など
の水溶性ジアゾ樹11tの場合、湿気に対して不安定で
あり、保存安定性が悪く問題があった。これを改善する
ためにジアゾ樹脂と安定な塩を形成し、且つ該樹脂を有
機溶媒に可溶となすアニオン、例えば、特公昭47−1
167号公報あるいは米国特許第3300309号明細
書に記載されているような有機スルホン酸塩等の有機塩
、あるいは特開昭54−98613号公報に記載されて
いるような)・ロゲン化ルイス屯塩等の無機塩が知らn
ておシ、このジアゾ樹脂の有機塩又はジアゾ樹脂の無機
塩と有機溶媒可溶性樹脂等との混合物を支持体上に塗布
した印刷材料が知られている。
In the diazo resin, when the counter anion of the diazonium salt is a water-soluble diazo resin 11t such as a mineral acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or a double salt with zinc chloride, it is unstable against moisture and has poor storage stability. There was a problem. In order to improve this, anion that forms a stable salt with the diazo resin and makes the resin soluble in organic solvents, such as Japanese Patent Publication No. 47-1
Organic salts such as organic sulfonates as described in No. 167 or US Pat. No. 3,300,309, or rogenated Lewis salts as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-98613 Inorganic salts such as
Furthermore, printing materials are known in which a mixture of an organic salt of a diazo resin or an inorganic salt of a diazo resin and an organic solvent-soluble resin is coated on a support.

〔発明が解決しようとする間繞点] しかし、従来の印刷版は、いまだ保存安定性、特に高温
、多湿下での保存安定性、可視画性が必ずしも十分と言
えず、改善が望まれていた。
[The gap that the invention seeks to solve] However, the storage stability of conventional printing plates, especially under high temperature and high humidity conditions, and visibility are not necessarily sufficient, and improvements are desired. Ta.

保存安定性を改良する方法として、特開昭59−387
47号公報に水溶性ジアゾ樹脂に有機カップリング剤及
び無機カンプリング剤を反応させて生成したジアゾ樹脂
塩を用いる方法が提案されているが、保存安定性、可視
画性共に必ずしも十分とは言えない。
As a method for improving storage stability, JP-A-59-387
No. 47 proposes a method using a diazo resin salt produced by reacting a water-soluble diazo resin with an organic coupling agent and an inorganic camping agent, but it is not always sufficient in terms of storage stability and visual imageability. do not have.

本発明の目的は、上記欠点を解決し、可視画性が著しく
向上し、高温、多湿下といった苛酷な条件下でも安定な
感光層を与える感光性組成物を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a photosensitive composition which solves the above-mentioned drawbacks, has significantly improved visual imageability, and provides a photosensitive layer that is stable even under severe conditions such as high temperature and high humidity.

〔問題点t−解決するための手段〕[Problem t-Means for solving]

本発明tR説すf14ば、本発明は感光性83放物に関
する発明であって、 塩 (a)  ジアゾ樹脂のPF、基又1−jBF4Aと、
ジアゾ樹1旨の有機塩、 (b)  水酸基を有する高分子化合物、及び、(c)
  油溶性染料 を含むことを特徴とする。
According to the present invention, the present invention relates to a photosensitive 83 paraboloid, comprising: a salt (a) PF of a diazo resin, a group 1-jBF4A;
an organic salt of diazo tree 1, (b) a polymer compound having a hydroxyl group, and (c)
It is characterized by containing an oil-soluble dye.

本発明に使用されるジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば
、フォトグラフィック サイエンスアンド エンジニア
リング(PF6oto、 sci、 Kng、 )第1
7巻、第33頁(b97M)、米国特許第206363
1号、同第2679498号各明細書に記載の方法に従
い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中で、ジアゾニウム塩と
アルデヒド類、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒドあるいはベンズアルデヒド等と縮合反応させること
により製造することができる。かかるジアゾニウム塩と
しては、p−ジアゾジフェニルアミイ  7″y′h′
LDn4Kf:f’f4r;b e 、!:””16・
その際、所望の平均分子負のジアゾ樹脂を得るために、
ジアゾニウム塩とアルデヒド類との仕込みモル比、ある
いは、反応の温度と時間を適当に選ぶことができる。
The diazo resin used in the present invention can be prepared by a known method, for example, Photographic Science and Engineering (PF6oto, Sci, Kng, ) No. 1.
Volume 7, page 33 (b97M), US Patent No. 206363
It can be produced by condensing a diazonium salt with an aldehyde, such as formaldehyde, acetaldehyde, or benzaldehyde, in sulfuric acid, phosphoric acid, or hydrochloric acid according to the methods described in the specifications of No. 1 and No. 2,679,498. Such diazonium salts include p-diazodiphenylamine 7″y′h′
LDn4Kf:f'f4r;b e,! :””16・
At that time, in order to obtain a diazo resin with a desired average molecular weight,
The molar ratio of the diazonium salt and aldehyde, or the reaction temperature and time can be appropriately selected.

本発明に使用されるジアゾ樹脂としてげ、下記一般式(
転): (式中、X’  t’;[7ニオy2表ワシ、R12〜
R14は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キ7基、カルボキタ基、カルボン酸エステル基又はハロ
ゲン原子を表わし RISは水素原子、アルキル基又ハ
・・ロゲン原子t−表わし、n3  は1以上、好まし
くは100以下の数を表わす。)で示されるものであり
、該ジアゾ樹脂を、公知の方法により、PF、基又Fi
BIF4塩、あるいは有機塩にして、本発明の(a)成
分として使用4n−る。
The diazo resin used in the present invention has the following general formula (
(translation): (in the formula, X't';
R14 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester group, or a halogen atom; RIS represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom; n3 is 1 or more, preferably represents a number of 100 or less. ), and the diazo resin is converted into PF, group or Fi by a known method.
BIF4 salt or organic salt is used as component (a) of the present invention.

本発明において、ジアゾ樹脂のPli6塩又はBF、塩
と、ジアゾ樹脂の有機塩との重旬比鉱、好ましくは0.
1 : 1〜1:(Llの範囲であり、より好ましくは
、(L2:1〜1:α2である。
In the present invention, a combination of a Pli6 salt or BF salt of a diazo resin and an organic salt of a diazo resin is preferably used.
1:1 to 1:(Ll, more preferably (L2:1 to 1:α2).

ジアゾ樹脂のPF’、塩又はE?、塩と、有様塩との総
会有量は、感光性組成物中に通常5〜90重量%、好ま
しくは、10〜501■である。
Diazo resin PF', salt or E? The total amount of salts and state salts in the photosensitive composition is usually 5 to 90% by weight, preferably 10 to 50% by weight.

本発明に使用されるジアゾ樹脂の有機塩において、ジア
ゾニウム塩の対アニオンは、トリイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸、4.4’−ビフェニルジスルホン2.5
−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、5−スルホサリ
チル酸、2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2.4
.6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベン
ゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−
ブロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−二トロベ
ンゼンスルホン酸、2−フルオロカブリルナ7タレンス
ルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、Et、C
Fp−トルエンスルホ/酸等の芳香族スルポン酸、2−
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホ
ン酸。
In the organic salt of the diazo resin used in the present invention, the counter anion of the diazonium salt is triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 4.4'-biphenyldisulfone 2.5
-Nitroortho-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2.5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2.4
.. 6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-
Bromobenzenesulfonic acid, 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid, 2-fluorocabryluna7talenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, Et, C
Aromatic sulfonic acids such as Fp-toluene sulfo/acid, 2-
Hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid.

等の水rg、基含有芳香族スルホン酸等が挙げられる。Examples include water rg, group-containing aromatic sulfonic acids, etc.

これらの中で特に好ましいものは、2−ヒドロキシ−4
−メトキンベンゾフェノン−5−スルホン酸である。
Particularly preferred among these is 2-hydroxy-4
-methquin benzophenone-5-sulfonic acid.

本発明に使用されるrb)成分である水散基を有する高
分子化合物としては、通常、Tf> Ml、平均分子量
5千〜50万の例えば芳香族性水酸基を有するモノマー
からの電合体、例えば、 (b)N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド
、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、
N−(4−ヒトクキジナフチル)メタクリルアミド等と
、他のモノマーとの共重合体(特公昭52−34930
号)(2)  o−、m−又tipミル−ヒドロキシス
チレンの七ツマ−との共重合体 (3)o−、m−又Fipミル−ヒドロキシフェニルメ
タクリレート他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
The polymer compound having an aqueous dispersion group, which is component rb) used in the present invention, is usually an electrolyte of monomers having an aromatic hydroxyl group, for example, with Tf>Ml and an average molecular weight of 5,000 to 500,000. , (b) N-(4-hydroxyphenyl)acrylamide, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide,
Copolymer of N-(4-human cuquidinaphthyl) methacrylamide etc. and other monomers (Japanese Patent Publication No. 52-34930
(2) Copolymers of o-, m- or tip-mil-hydroxystyrene with heptamers; (3) Copolymers of o-, m- or fi-mil-hydroxyphenyl methacrylate with other monomers. It will be done.

前記共重合体の他のモノマーとしてに、ρりえば (b)  アクリル酸、メタクリル酸、無水マレインr
欲等のα、β−不飽和カルボン酸 (2)  アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル
、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、クリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエ
チルアクリレート等の(置換)アルキルアクリレート (3)  メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート
、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
N−ジメチルアミンエチルメタクリレート等の(置換)
アルキルメタクリレート (4) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキ。
Other monomers of the copolymer include (b) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride.
Alpha, beta-unsaturated carboxylic acids (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2 - (Substituted) alkyl acrylates such as hydroxyethyl acrylate, chrycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate,
(Substituted) N-dimethylamine ethyl methacrylate etc.
Alkyl methacrylate (4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxy.

ジエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド
、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N
−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくは
メタタリルアミ ド類 (5)  エチルビニルエーテル、2−クロロエテルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、フロ
ビルビニルエーテル、フチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル類(6J  ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (8)  メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン専のビニ
ルケトン類 (9)  エチレン、プロピレン、インブチレン、ブタ
ジェン、イソプレン等のオレフィン類(b(j  N−
ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニ
ルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等 が挙げられるが、その他芳香族性水酸基を含有する七ツ
マ−と共重合し得る七ツマ−であればよい。
Diethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N
- Acrylamides or metathallylamides such as phenylacrylamide (5) Vinyl ethers (6J vinyl acetate, vinyl chloro Vinyl esters such as acetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene (8) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone,
Vinyl ketones exclusively for propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone (9) Olefins such as ethylene, propylene, imbutylene, butadiene, isoprene (b(j N-
Examples include vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc., but any other heptamer that can be copolymerized with a heptamer containing an aromatic hydroxyl group may be used.

また、前記の芳香族性水散基を有するモノマーの単独重
合体、共重合体、フェノールノボラック等の芳香族性水
酸基を一部エステル化又はエーテル化して得られる樹脂
も包含する。但し、取合体中に含まれる芳香族性水酸基
を有する構造単位(モノマー)は、1〜80モルチで6
D、好ましくは5〜60モルチである。
It also includes resins obtained by partially esterifying or etherifying aromatic hydroxyl groups such as homopolymers and copolymers of monomers having aromatic water-dispersible groups, and phenol novolacs. However, the structural unit (monomer) having an aromatic hydroxyl group contained in the aggregate is 6 to 80 mol.
D, preferably 5 to 60 mol.

構造単位が1モルチよシ低い場合は、保存安定性に問題
があり、80モルチを超える場合は、露光部が溶解して
ポジーポジ型の感光性複写層を与え、本発明の感光性組
成物としては不適となる。
If the structural unit is less than 1 mol, there is a problem with storage stability, and if it exceeds 80 mol, the exposed area will dissolve to give a positive-type photosensitive copying layer, and the photosensitive composition of the present invention may not be used. becomes inappropriate.

上に挙げた高分子化合物以外に、例えばホリビニルプチ
ラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラツク又
Fi特開昭50−118802号公報に記載された2−
ヒドロキシエチルツタクリレートやアクリロニトリル等
5c重合して得られた多元重合体も、本発明の水酸基を
有する高分子化合物として用いることができる。本発明
に用いられる水酸基t−Sする高分子化合物は、感光性
組成物中に、約10〜95重量%、好ましくは約50〜
90重量%含有させる。
In addition to the above-mentioned polymer compounds, for example, polyvinyl petyral resin, polyvinyl formal resin, shellac or Fi 2-
A multicomponent polymer obtained by 5c polymerization such as hydroxyethyl tutacrylate or acrylonitrile can also be used as the polymer compound having a hydroxyl group in the present invention. The hydroxyl group t-S polymer compound used in the present invention is contained in the photosensitive composition in an amount of about 10 to 95% by weight, preferably about 50 to 95% by weight.
Contains 90% by weight.

本発明において(cl成分として使用される油溶性染料
は、例えばビクトリアピュアーブルーBOH,ビクトリ
アブルーベースF −4R,クリスタルバイオレット、
ビクトリアブルー、メチルバイオレット、オイルブルー
ナ603、ローダリンブルー、ダイアグリルブラック等
が好ましい。これらの油浴性染料は感光性組成物中に通
常的α5〜10ffi&%、好ましく(−1約1〜5重
¥チ含有させる。
In the present invention, the oil-soluble dyes used as the Cl component include, for example, Victoria Pure Blue BOH, Victoria Blue Base F-4R, Crystal Violet,
Victoria blue, methyl violet, Oilbruna 603, rhodaline blue, diagryl black, etc. are preferred. These oil bath dyes are usually contained in the photosensitive composition in an amount of α5 to 10%, preferably about 1 to 5% (-1).

本発明の感光性組成物には、更に種々の添加剤?加える
ことができる。
The photosensitive composition of the present invention may further contain various additives. can be added.

例えば、下記一般式(In)で示さね、るようなジアゾ
化合吻のPF、塩又はBF4塩: u (式中、x3  はPIP@又tiBIF4ftiわし
、R9−R11は水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、カルボキシ基、カルボン酸エステル基
又ハノ・ロゲン原子t−表わす。)、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース入フッ素ズ  8″WiifiMI’
?、Q4’、 / =x y*Wiliffi?i!i
4’tJ?l C@えば、プルロニックL−64(旭電
化株式会社製)〕、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を賦与する
ための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン師トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル醋又はメタクリル酸のオリゴマー)、画像部の感
脂性を向上させるための感脂化剤(例えば、特開昭55
−527号公報記載のスチレン−無水マレイン酵共重合
体のアルコールによるハーフェステル化物等)、公知の
安定剤〔例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸(クエン酸
、シュウ酸、酒石酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ナフタレンスルホン酸、4−メトキシ−2−ヒド
ロキシベンゾフェノン−5−スルホン酸等)〕等が挙げ
られる。これらの添加剤の添加量はその使用対象目的に
よって異なるが、一般に全固形分に苅して、11101
〜30重量%である。
For example, PF, salt or BF4 salt of a diazo compound as shown in the following general formula (In): u (where x3 is PIP@ or tiBIF4fti, R9-R11 are hydrogen atoms, alkyl groups, alkoxy group, hydroxy group, carboxy group, carboxylic acid ester group or hano-logen atom (t-), alkyl ethers (e.g. ethyl cellulose,
Fluorine with methylcellulose 8″WiifiMI’
? , Q4', / =x y*Wiliffi? i! i
4'tJ? l C@For example, Pluronic L-64 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.)], plasticizers for imparting flexibility and abrasion resistance to the coating film (e.g. butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, phthalate) dibutyl acid, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid), oil-sensitizing agent for improving the oil-sensitivity of image areas. curing agent (for example, JP-A-55
(e.g., hafesterized styrene-maleic anhydride copolymer with alcohol as described in Publication No. 527), known stabilizers [e.g., phosphoric acid, phosphorous acid, organic acids (citric acid, oxalic acid, tartaric acid, polyacrylic acid) , benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone-5-sulfonic acid, etc.). The amount of these additives added varies depending on the purpose of use, but generally it is added to the total solid content to 11101
~30% by weight.

本発明の感光性組成物1に塗布するのに適する支持体と
しては、紙、プラスチックフィルム、亜鉛、銅、アルミ
ニウム、ステンレス、又ハ、これらの2種以上を貼合し
た複合材料が用いられる。これらの中で特に好ましいの
はアルミニウム板である。
As a support suitable for coating the photosensitive composition 1 of the present invention, paper, plastic film, zinc, copper, aluminum, stainless steel, or (c) a composite material made by bonding two or more of these can be used. Among these, aluminum plates are particularly preferred.

しかし、アルミニウム板を無処理のまま使用すると、感
光性組成物の接着性が悪く、また、感光性組成物が分解
する欠点がある。この欠点をなくすため、従来、種々の
提案がなされている。
However, if an aluminum plate is used without treatment, it has the disadvantage that the adhesion of the photosensitive composition is poor and the photosensitive composition decomposes. In order to eliminate this drawback, various proposals have been made in the past.

例えば、アルミニウム板の表面を砂目立てした後、ケイ
酸塩で処理する方法(米国特許第2714066号)、
有機酸塩で処理する方法(米国特許fi2714066
号)、ホスホン酸及びそれらの誘褥体で処理する方法(
米国特許第3220832号)、ヘキサフルオロジルフ
ン鹸カリウムで処理する方法(米国特許第294668
5号)、陽極酸化する方法及び陽極酸化後、アルカリ金
属ケイ酸塩の水浴液で処理する方法(米国特許FA A
 181461号)等がある。
For example, a method in which the surface of an aluminum plate is grained and then treated with silicate (US Pat. No. 2,714,066);
Method of treatment with organic acid salts (US Patent fi2714066)
method of treatment with phosphonic acids and their derivatives (No.
(U.S. Pat. No. 3,220,832), a method of treatment with hexafluorozylic potassium (U.S. Pat. No. 2,94668),
No. 5), a method of anodizing and a method of treating with an alkali metal silicate water bath solution after anodizing (U.S. Patent FA A
181461) etc.

本発明において感光性組成物?設置するアルミニウム板
(アルミナ積層板を含む、以下同じ)は、表面を脱脂し
た後、ブラシ研曙法、ボール研磨法、化学研磨法、電解
エツチング法が適用され、好ましくは深くて均質な砂目
の得られる電解エツチング法で砂目立てされる。陽極酸
化処理は例えばリン酸、クロム酸、ホウ酸、硫酸等の無
機塩若しくはシュウ酸等の有機摩の単独、あるいはこれ
らの酸2種以上5c7M、合した水溶液中で、好ましく
は硫酸水溶液中でアルミニウム板を陽極として電流を通
じることによって行われる。陽極酸化被膜針は5〜60
1q/dm”  が好ましく、更に好ましくは5〜30
η/ d m 2である。5 q/am2  より下で
は感光層とアルミニウム板の接着性が悪くなシ、60巧
/dm2に超える場合は画像再現性の点で劣る結果とな
り。本発明に適用される封孔処理はケイ酸ナトリウム水
溶液、濃度(b1〜3チ、温度80〜95℃で10秒〜
2分間浸漬して行われ、好ましくはその後に40〜95
℃の水に10秒〜2分間浸漬して処理される。
Photosensitive composition in the present invention? After degreasing the surface of the aluminum plate (including alumina laminate, the same shall apply hereinafter) to be installed, a brush polishing method, ball polishing method, chemical polishing method, or electrolytic etching method is applied, preferably to create a deep and uniform grain. It is grained using an electrolytic etching method. The anodizing treatment is performed by using an inorganic salt such as phosphoric acid, chromic acid, boric acid, or sulfuric acid, or an organic salt such as oxalic acid alone, or a combination of two or more of these acids at 5c7M in an aqueous solution, preferably in a sulfuric acid aqueous solution. This is done by passing an electric current through an aluminum plate as an anode. Anodized needles are 5-60
1q/dm” is preferable, more preferably 5 to 30
η/d m2. Below 5 q/am2, the adhesion between the photosensitive layer and the aluminum plate is poor, and above 60 q/dm2, the image reproducibility is poor. The sealing treatment applied to the present invention is performed using a sodium silicate aqueous solution, concentration (b1 to 3, and temperature of 80 to 95°C for 10 seconds to
It is carried out by soaking for 2 minutes, preferably after that 40 to 95
℃ water for 10 seconds to 2 minutes.

以上の処理ヲ、シたアルミニウム板は本発明の感光性組
成物と適度の親和性を有しており、感光層と高い接着性
を有しておシ、且つ現像後に非画1象部の感光性組成物
をその表面に残すこともなく、病い保水性を有すると共
に強固な表面物性を有している。
After the above treatment, the aluminum plate has a moderate affinity with the photosensitive composition of the present invention, has high adhesion to the photosensitive layer, and has a non-image area after development. It does not leave any photosensitive composition on its surface, has strong water retention properties, and has strong surface properties.

支持体上に塗布された複写用感光材料は、従来の常法が
適用嘔れる。すなわち、線画像、網点画像等を有する透
明原l[liiを通して感光し、次いで、水性現像液で
現像することにより、原画に対してネガのレリーフ像が
得られる。露光に好適な光源としては、カーボンアーク
灯、水銀灯、キセノンランフ、メタルハライドランプ、
ストロボ等が挙げら几る。
The photosensitive material for copying coated on the support can be prepared using conventional methods. That is, a negative relief image is obtained for the original image by exposing it to light through a transparent original l[lii having a line image, a halftone image, etc., and then developing it with an aqueous developer. Light sources suitable for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps,
Strobe lights etc. are used.

本発明に係る感光性印刷版の現像処理に用いられる現像
′tLニ公知のいずれのものであっても良いが、好1し
くに以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印
刷版を現像する現像液は、水、あるいは特定の有機溶媒
及び/又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。ここ
に特定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述
の感光性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解又は膨
潤することができ、しかも常温(20℃)において水に
対する溶解度が10重量%以下の有機溶媒をいう。この
ような有機溶媒としては上記のような特性を有するもの
でありさえすればよく、以下のもののみに限定宴れるも
のではないが、これらを例示するならば、例えば酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベ
ンジル、エチレングリコールモノブチルア文テート、乳
酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステ
ル:エテルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンのようなケトン頑:エチレンクリコール
モノフチルエーテル、エチレンクリコールベンジルエー
テル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベン
ジルアルコール、メチルフェニルカルビノール、n−7
ミルアルコール、メチルアミルアルコールのよりなアル
コール頌:キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水
素:メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モ
ノクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがあ
る。これら有機溶媒は−A黴以上用いてもよい。これら
有機溶媒の中でハ、エチレンクリコールモノフェニルエ
ーテルとベンジルアルコールが特に有効である。また、
これら有象溶媒の現像液中における含有量は、おおむね
1〜20重景係であシ、特に2〜10重量係重量色より
好ましい結果を得る。
Any known developer may be used for the development of the photosensitive printing plate according to the present invention, but the following are preferred. That is, the developer for developing the photosensitive printing plate according to the present invention may be water or an aqueous solution containing a specific organic solvent and/or alkaline agent. Here, the specific organic solvent is one that can dissolve or swell the non-exposed area (non-image area) of the above-mentioned photosensitive composition layer when contained in the developer, and that is resistant to water at room temperature (20°C). refers to an organic solvent with a solubility of 10% by weight or less. Such organic solvents only need to have the above-mentioned characteristics, and are not limited to the following, examples of which include ethyl acetate, propyl acetate, and acetic acid. Carboxylic acid esters such as butyl, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl abutate, butyl lactate, butyl levulinate: Ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone: ethylene glycol monobutyl ether , ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-7
Alcohols such as methyl alcohol and methyl amyl alcohol include: alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; and halogenated hydrocarbons such as methylene dichloride, ethylene dichloride, and monochlorobenzene. These organic solvents may be used for -A mold or higher. Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol are particularly effective. Also,
The content of these illustrative solvents in the developing solution is generally 1 to 20% by weight, and more preferably 2 to 10% by weight is obtained.

他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、 (A)  ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又
は第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケ
イ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機
アルカリ剤 (B)  モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、
n−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン
、モノ、ジ又はトリインプロパツールアミン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が皐
げられる。
On the other hand, the alkaline agents contained in the developer include (A) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium or ammonium salt of dibasic or tertiary phosphoric acid; Inorganic alkaline agents (B) such as sodium metasilicate, sodium carbonate, ammonia, etc. Mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono- or diisopropylamine,
Organic amine compounds such as n-butylamine, mono-, di-, or triethanolamine, mono-, di-, or tripropanolamine, ethyleneimine, and ethylenediamine are used.

これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常[1
L05〜4重量%で、好ましくり0,5〜2重を嘩であ
る。
The content of these alkaline agents in the developer is usually [1
L05-4% by weight, preferably 0.5-2%.

また、保存安定性、耐刷性等をより以上に高めるために
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水浴性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸す) IJウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現
像液組成物における含有量は通常105〜4重量%で、
好ましくは11〜1 ft!%である。
Further, in order to further improve storage stability, printing durability, etc., it is preferable to include a water-soluble sulfite in the developer. Such water bathable sulfites are preferably alkali or alkaline earth metal salts of sulfite, such as sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite,
Examples include magnesium sulfite. The content of these sulfites in the developer composition is usually 105 to 4% by weight,
Preferably 11-1 ft! %.

また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、用
いる有機溶媒よシ水易溶性で、低分子のアルコール、ケ
トンmt用いるのがよい。また、アニオン活性剤、両性
活性剤等も用いることができる。このようなアルコール
、ケトン類としては、例えばメタノール、エタノール、
フロハノール、フp)−pv、アセトン、メチルエチル
ケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノー
ル、エトキシブタノール、4−メトキシ−4−メチルブ
タノール、N−メチルピロリドン等倉用いることが好ま
しい。また、活性剤としては例えばインプロピルナフタ
レンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミ
ノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩
等が好ましい。これらアルコール、ケトン類フ   等
o’mえイIs WIJ Oあ□8.つい、74oゆゆ
ヶいが、一般に現像液全体に対し約30重量う以下とす
ることが好ましい。
Certain solubilizers may also be included to aid in the dissolution of the organic solvents mentioned above in water. As such a solubilizing agent, in order to achieve the desired effect of the present invention, it is preferable to use a low-molecular alcohol or ketone that is easily water-soluble in the organic solvent used. Furthermore, anionic activators, amphoteric activators, etc. can also be used. Examples of such alcohols and ketones include methanol, ethanol,
It is preferable to use furohanol, p)-pv, acetone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methoxybutanol, ethoxybutanol, 4-methoxy-4-methylbutanol, N-methylpyrrolidone, and the like. Preferred examples of the activator include sodium inpropylnaphthalene sulfonate, sodium n-butylnaphthalene sulfonate, sodium N-methyl-N-pentadecylaminoacetate, and sodium lauryl sulfate. These alcohols, ketones, etc. 8. Furthermore, it is generally preferred that the weight of 74° is less than about 30% by weight based on the entire developer.

本発明の感光性組成物は、画像露光後、露光部と非露光
部とを黄色安全党下で視覚的に識別しうる特性(可視画
性)を持ち、保存安定性に優れた感光層を与える点で有
用なものである。
The photosensitive composition of the present invention has a property (visible imageability) that allows the exposed area and the unexposed area to be visually distinguished after image exposure under a yellow safety mask, and has a photosensitive layer with excellent storage stability. It is useful in that it gives.

以下、本発明で使用するジアゾ樹脂及び共重合体の合成
例並びにアルミニウム板の作成例を示す。
Examples of synthesis of the diazo resin and copolymer used in the present invention and examples of production of aluminum plates are shown below.

合成例1 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5 rを水冷
下で40dの濃硫酸に溶解し、該混合液に、1.4fの
パラホルムアルデヒド?反応温度゛が10℃を超えない
ように注意しながら、徐々に加えた。その後、2時間、
水冷下でかくはんした。該反応混合物t、500−のエ
タノールに注ぎ、生じた沈殿を吸引濾過により回収し、
エタノールで数回洗浄した。該沈殿物を100−氷水に
溶解し、10Fの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加
え、生じた沈殿(+−吸引濾過によシ回収した。該沈殿
物を、部分的に乾燥した後、500mの水に溶解し、1
01Fのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解した
冷濃厚水溶液を加え、生じた沈殿を吸引濾過によシ回収
し、水洗後、30〜40℃で減圧乾燥し、ジアゾ樹脂(
b)’)(b0?得た。
Synthesis Example 1 14.5 r of p-diazodiphenylamine sulfate was dissolved in 40 d of concentrated sulfuric acid under water cooling, and 1.4 f of paraformaldehyde was added to the mixture. The mixture was added gradually while being careful not to allow the reaction temperature to exceed 10°C. After that, 2 hours
It was stirred under water cooling. The reaction mixture t was poured into 500-mL of ethanol, and the resulting precipitate was collected by suction filtration.
Washed several times with ethanol. The precipitate was dissolved in 100-ice water, a cold concentrated aqueous solution containing 10F zinc chloride was added, and the resulting precipitate (+- was collected by suction filtration. After partially drying the precipitate, Dissolved in 500 m of water, 1
A cold concentrated aqueous solution containing 01F ammonium hexafluorophosphate was added, and the resulting precipitate was collected by suction filtration, washed with water, and dried under reduced pressure at 30 to 40°C to obtain a diazo resin (
b)') (b0? Got it.

得られたジアゾ樹脂(b)を、ゲルパーミニ−7ヨンク
ロマトグラフイー(以下GP(3と略記する)により分
子量分布の測定をしたところ、6量体以上が約40モル
係含まnでいた。
The molecular weight distribution of the obtained diazo resin (b) was measured by Gel Permini-7 chromatography (hereinafter referred to as GP (abbreviated as 3)), and it was found that it contained about 40 moles of hexamer or more.

合成例2 合成例1010fのへキサフルオロリン酸アンモニウム
f20fの2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン−5−スルホン酸ニ代、tた以外は、合成例1と同じ
方法でジアゾ樹脂(2)を得た。
Synthesis Example 2 Diazo resin (2) was obtained in the same manner as Synthesis Example 1, except that ammonium hexafluorophosphate f20f of Synthesis Example 1010f was replaced with 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid. Ta.

合成例3 合成例1の1.42のバラホルムアルデヒドをα75t
のパラホルムアルデヒドに代えた以外は、合成例1と同
じ方法で、ジアゾ樹脂(3)を得た。得られたジアゾ樹
脂(3)ヲ、GPOにより分子量分布の測定をしたとこ
ろ、3最体以上が約20モル係官まれていた。
Synthesis Example 3 1.42 rose formaldehyde of Synthesis Example 1 was converted to α75t
A diazo resin (3) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that paraformaldehyde was used instead. When the molecular weight distribution of the obtained diazo resin (3) was measured by GPO, it was found that about 20 moles of 3 or more polymers were involved.

合成例4 窒素気流下で、アセトン100?とメタノール100t
の混合溶媒に、p−ヒドロキシフェニルメタクリルアミ
ド25?、アクリロニトリル302、メチルメタクリレ
ート35v1メタクリル酸10F及び、アゾビスイソブ
チロニトリル2−02を溶解し、この混合液をかくはん
しながら、60℃で8時間加熱した。反応終了後、反応
混合液を水中に投入して共重合体(b)ヲ得た。
Synthesis Example 4 Under nitrogen flow, acetone 100? and 100 tons of methanol
p-hydroxyphenylmethacrylamide 25? , acrylonitrile 302, methyl methacrylate 35v1, methacrylic acid 10F, and azobisisobutyronitrile 2-02 were dissolved, and the mixture was heated at 60° C. for 8 hours while stirring. After the reaction was completed, the reaction mixture was poured into water to obtain copolymer (b).

得られた共重合体(b)iGPc!により分子量分布の
測定をしたところ、重量平均分子量は7万であった。
The obtained copolymer (b) iGPc! As a result of measuring the molecular weight distribution, the weight average molecular weight was 70,000.

アルミニウム板の作成例 厚さく12mのアルミニウム板を3%水酸化ナトリウム
水溶液に浸漬して脱脂し、水洗後1%塩酸及び1%ホウ
酸水溶液中、25℃で3A/dが、5分間、電解エツチ
ングし、水洗した。
Example of making an aluminum plate An aluminum plate with a thickness of 12 m was immersed in a 3% sodium hydroxide aqueous solution to degrease it, and after washing with water, it was electrolyzed at 3 A/d at 25°C for 5 minutes in a 1% hydrochloric acid and 1% boric acid aqueous solution. Etched and washed with water.

次に、Q、9%水酸化ナトリウム水浴故に浸漬し、水洗
後40%bAt酸水溶液中、30℃で15 A /am
2.2分゛間、陽極酸化し、水洗した。更に、90℃で
p)ia5の水[25秒+s1浸漬し、水洗し、乾燥し
て、アルミニウム板(b)全作成した。
Next, Q was immersed in a 9% sodium hydroxide water bath, washed with water, and then immersed in a 40% bAt acid aqueous solution at 30°C at 15 A/am.
2. It was anodized for 2 minutes and washed with water. Furthermore, it was immersed in p)ia5 water [25 seconds + s1 at 90°C, washed with water, and dried to prepare an aluminum plate (b).

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明にこれら実施例に限定されない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples.

実施例1〜3及び比較例1.2 前記アルミニウム板(b)に、表−1の感光液(b)、
(2)、(3)及び比較用として感光液(4)、(5ン
ヲ、ホワラーを用いて塗布し、80℃で3分間乾燥し、
感光性平版印刷版体)〜(尊を得た。乾燥塗布重量は1
.5?/m”でらつ九。
Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.2 The photosensitive liquid (b) in Table 1 was applied to the aluminum plate (b),
(2), (3) and for comparison, photosensitive liquids (4) and (5) were applied using a whirler, dried at 80°C for 3 minutes,
Photosensitive lithographic printing plate) ~ (obtained). Dry coating weight is 1
.. 5? /m”Deratsu9.

表−1 感光性平版印刷版(4)〜(x) +1I−3Kw超高
圧水銀灯で60口の距離から30秒間、画像露光した後
、露光部と未−に元部の濃度差をマクベス反射濃度計R
D514でビジュアルフィルターr通して測定したとこ
ろ、下記表−2に示す結果を得た。表−2において、濃
度差[120以上?可視画性が良好、濃度差[120未
満を可視画性が不良とした。
Table-1 Photosensitive lithographic printing plates (4) to (x) After image exposure for 30 seconds from a distance of 60 holes using a +1I-3Kw ultra-high pressure mercury lamp, the difference in density between the exposed area and the original area was calculated as the Macbeth reflection density. Total R
When measured using D514 through visual filter R, the results shown in Table 2 below were obtained. In Table 2, the concentration difference [120 or more? The visible image quality was good, and the density difference [less than 120 was considered poor visual image quality.

他方、感光性平版印刷版(4)〜(K) ’にステップ
ウェッジ(光学濃度が115ずつ段階増加)を通して、
3KW超高圧水銀灯で60αの距離から30秒間、画像
露光した。次いで、下記現像液(b)で25℃で45分
間現像し、平版印刷版を得た。その結果を表−2に示し
た。
On the other hand, a step wedge (optical density increased in steps of 115) was passed through the photosensitive lithographic printing plates (4) to (K)'.
Image exposure was carried out for 30 seconds from a distance of 60α using a 3KW ultra-high pressure mercury lamp. Next, the plate was developed with the following developer (b) at 25° C. for 45 minutes to obtain a lithographic printing plate. The results are shown in Table-2.

現像液(b1 更に、高温・多湿下での保存安定性?検討したところ、
下記表−2に示す結果を得た。但し、表中、保存安定性
は、45℃、湿度85%の雰囲気中に保存し、感光性平
版印刷版製造直後のものと比較して、感度、地汚れ等の
性能が変化した場合を不安定と判断した。
Developer (b1) Furthermore, storage stability under high temperature and high humidity? After considering,
The results shown in Table 2 below were obtained. However, in the table, storage stability is measured when stored in an atmosphere of 45°C and 85% humidity, and does not include changes in performance such as sensitivity and scumming when compared to the photosensitive lithographic printing plate immediately after production. It was judged to be stable.

表−2 表−2より、本発明の感光性組成物は、良好な可視画性
を示すと共に、保存安定性において、従来のものよシ格
段に優れていることが判る。
Table 2 From Table 2, it can be seen that the photosensitive composition of the present invention exhibits good visible imageability and is significantly superior in storage stability to conventional compositions.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上、説明したように、本発明の感光性ASjJy。 As explained above, the photosensitive ASjJy of the present invention.

物を使用す几d、高感度で保存安定性及び可視画性に優
れた感光層が得られるという顕著な効果が奏せられる。
The remarkable effect of using the material is that a photosensitive layer with high sensitivity, excellent storage stability and visible image quality can be obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(a)ジアゾ樹脂のPF_6塩又はBF_4塩と、
ジアゾ樹脂の有機塩、 (b)水酸基を有する高分子化合物、及び (c)油溶性染料、 を含むことを特徴とする感光性組成物。 2、前記(a)成分におけるジアゾ樹脂が、置換又は非
置換のp−ジアゾジフェニルアミンとアルデヒド類との
縮合物である特許請求の範囲第1項記載の感光性組成物
。 3、前記(a)成分におけるジアゾ樹脂のPF_6塩又
はBF_4塩が、下記一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (式中、X^1はPF_6又はBF_4を表わし、R^
1〜R^3は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、カルボキシ基、カルボン酸エステル基又は
ハロゲン原子を表わし、R^4は水素原子、アルキル基
又はフェニル基を表わし、n^1は1以上の数を表わす
。)で示されるものである特許請求の範囲第1項記載の
感光性組成物。 4、前記(a)成分におけるジアゾ樹脂の有機塩が、下
記一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) (式中、X^2は有機アニオンを表わし、R^5〜R^
7は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、カルボン酸エステル基又はハロゲン
原子を表わし、R^8は水素原子、アルキル基又はフェ
ニル基を表わし、n^2は、以上の数を表わす。)で示
されるものである特許請求の範囲第1項記載の感光性組
成物。 5、該組成物がジアゾ化合物のPF_6塩又はBF_4
塩を含むものである特許請求の範囲第1項記載の感光性
組成物。 6、該ジアゾ化合物のPF_6塩又はBF_4塩が、下
記一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(III) (式中、X^3はPF_6又はBF_4を表わし、R^
9〜R^1^1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、カルボキシ基、カルボン酸エステル基
又はハロゲン原子を表わす。)で示されるものである特
許請求の範囲第5項記載の感光性組成物。
[Claims] 1. (a) PF_6 salt or BF_4 salt of diazo resin;
A photosensitive composition comprising: an organic salt of a diazo resin; (b) a polymer compound having a hydroxyl group; and (c) an oil-soluble dye. 2. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the diazo resin in the component (a) is a condensate of substituted or unsubstituted p-diazodiphenylamine and aldehydes. 3. The PF_6 salt or BF_4 salt of the diazo resin in component (a) above has the following general formula (I): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(I) (In the formula, X^1 is PF_6 Or represents BF_4, R^
1 to R^3 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a carboxy group, a carboxylic acid ester group, or a halogen atom, R^4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a phenyl group, and n^1 is Represents a number greater than or equal to 1. ) The photosensitive composition according to claim 1, which is represented by: 4. The organic salt of the diazo resin in component (a) has the following general formula (II): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(II) (In the formula, X^2 represents an organic anion. , R^5~R^
7 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a carboxy group, a carboxylic acid ester group, or a halogen atom, R^8 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a phenyl group, and n^2 is the above number represents. ) The photosensitive composition according to claim 1, which is represented by: 5. The composition is a diazo compound PF_6 salt or BF_4
The photosensitive composition according to claim 1, which contains a salt. 6. The PF_6 salt or BF_4 salt of the diazo compound has the following general formula (III): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(III) (In the formula, X^3 represents PF_6 or BF_4, R^
9 to R^1^1 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a carboxy group, a carboxylic acid ester group, or a halogen atom. ) The photosensitive composition according to claim 5, which is represented by:
JP22133384A 1984-10-23 1984-10-23 Photosensitive composition Pending JPS61100744A (en)

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