JPS608257A - Production of 4-hydroxy-4-((e)-3-hydroxy-1-butenyl)-3,5,5- trimethyl-2-cyclohexen-1-one - Google Patents
Production of 4-hydroxy-4-((e)-3-hydroxy-1-butenyl)-3,5,5- trimethyl-2-cyclohexen-1-oneInfo
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- JPS608257A JPS608257A JP11647483A JP11647483A JPS608257A JP S608257 A JPS608257 A JP S608257A JP 11647483 A JP11647483 A JP 11647483A JP 11647483 A JP11647483 A JP 11647483A JP S608257 A JPS608257 A JP S608257A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式2
の構造を有する4−ヒドロキシ−4−((E)−6−ヒ
ドロキシ−1−ブテニル)−5,5,5−)ジメチル−
2−シクロヘキセン−1−オンの新規な製造法に関する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides 4-hydroxy-4-((E)-6-hydroxy-1-butenyl)-5,5,5-)dimethyl-
The present invention relates to a novel method for producing 2-cyclohexen-1-one.
式2の化合物、すなわち、4−ヒドロキシ−4−((E
)−5−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−3,5,5−)
ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オンは種々の植物
、例えば、 Rauwolfiavomitoria
、 Croton 5parsiflorus 。A compound of formula 2, i.e. 4-hydroxy-4-((E
)-5-hydroxy-1-butenyl]-3,5,5-)
Dimethyl-2-cyclohexen-1-one is found in various plants, e.g. Rauwolfiavomitoria
, Croton 5parsiflorus.
Podocarpus blumeiの精油、およびた
ばこの精油中に見い出される微量香気成分である。It is a trace aroma component found in the essential oil of Podocarpus blumei and the essential oil of tobacco.
この化合物はその官能的および嗅覚的性質が優れている
ため、芳香および香料組成物として食品、飲料およびた
ばこ製品に利用される。また種々の香料物質、例えば、
theaspirone 。Due to its excellent organoleptic and olfactory properties, this compound is used in aroma and flavor compositions in food, beverages and tobacco products. Also various flavoring substances, e.g.
theaspirone.
blumenol Bおよび8.9− dehydro
theaspironeを合成するだめの中間体として
も有用である。blumenol B and 8.9-dehydro
It is also useful as an intermediate for synthesizing theaspirone.
従来、側鎖の三重結合を還元して式2の化合物を得る方
法としては、下記式の方法が提案されている。Conventionally, as a method for obtaining the compound of formula 2 by reducing the triple bond in the side chain, the method of the following formula has been proposed.
(1) He1v、 Chim、 Acta 、 57
、2087(1974)H
しかし、従来提案されている方法ではL i A IH
4還元の選択性が悪く、三重結合のみならず水酸シー;
までも還元された化合物5が主生成物となる。目的とす
る化合物2はむしろ副生成物となる。その他にも還元の
程度に応じて、化合物6.7などのい(つかの副生成物
が得られるため、それらの分離が極めて煩雑になる欠点
がある。(1) He1v, Chim, Acta, 57
, 2087 (1974) H However, in the conventionally proposed method, L i A IH
The selectivity of 4-reduction is poor, resulting in not only triple bonds but also hydroxyl bonds;
The main product is compound 5, which has been reduced even to 50%. The target compound 2 rather becomes a by-product. In addition, depending on the degree of reduction, some by-products such as compound 6.7 are obtained, which has the disadvantage that their separation becomes extremely complicated.
本発明者らは、このような従来の提案の不利益ないしは
欠陥を克服すべく研究を行なった結果、本発明に到達し
た0
すなわち本発明は、一般式1
〔式中X、!:Yは低級アルキル基を示し、破線はXと
Yが各々独立の基を形成しているか、XとYがアルキル
基の炭素を介して共有結合していることを示し、Rは水
素、(CH3)58i基、低級2
は水素または低級アルキル基、几3は低級アルキル基を
示し、破線はB、tとR3が各々独立の基を形成してい
るか、アルキル基の炭素を介して共有結合していること
を示す)を示す〕のアセチレン誘導体の側鎖の三重結合
を、還元剤M A l−Hn(OR’)4−n(式中、
Mはアルカリ金ハを示し、几4は低級アルキル基または
酸素置換低級アルキル基を示し、nは1〜6の整数を示
す)により選択的にトランス二重結合に還元したのち、
保護基を除去し、高収率で式2の4−ヒドロキシ−4−
((E)−3−ヒドロキシ−1−ブテニルシー5.5.
5−1−リメチル−2−シクロヘキセン−1−オンを得
る方法に関する。The present inventors conducted research to overcome the disadvantages or deficiencies of such conventional proposals, and as a result arrived at the present invention. :Y represents a lower alkyl group, the broken line represents that X and Y each form an independent group, or that X and Y are covalently bonded via the carbon of the alkyl group, R is hydrogen, ( CH3) 58i group, lower 2 represents hydrogen or a lower alkyl group, 几3 represents a lower alkyl group, the broken line indicates B, t and R3 each form an independent group, or are covalently bonded via the carbon of the alkyl group. The triple bond in the side chain of the acetylene derivative of
M represents an alkali metal, 4 represents a lower alkyl group or an oxygen-substituted lower alkyl group, and n represents an integer of 1 to 6), and then selectively reduced to a trans double bond.
Removal of the protecting group provides 4-hydroxy-4- of formula 2 in high yield.
((E)-3-hydroxy-1-butenylcy5.5.
The present invention relates to a method for obtaining 5-1-limethyl-2-cyclohexen-1-one.
本発明方法では、三重結合の還元剤としてLiAtH4
O代りに、MAtHn(OR4)4−nを使用する点に
特徴がある。In the method of the present invention, LiAtH4 is used as a triple bond reducing agent.
The feature is that MAtHn(OR4)4-n is used instead of O.
一般に、−C=C−C−OHの部分構造をもつプロパル
ギルアルコール型の化合物をLiAtH4で還元すると
、三重結合のみがトランス二重結合に還元された生成物
が収率よく得られることは周知の事実である。しかるに
、三重結合の両の部分構造をもつ化合物では事情は一変
する。In general, it is well known that when a propargyl alcohol type compound having a partial structure of -C=C-C-OH is reduced with LiAtH4, a product in which only the triple bond is reduced to a trans double bond can be obtained in good yield. It is a fact. However, the situation changes completely for compounds that have both substructures of a triple bond.
このような系をLiAtH4で還元すると、水酸基が脱
離したアレン型の生成物、あるいはさらに還元が進行し
た生成物が主生成物となシ、OH
としてしか得られない。このことは上記(1)の文献例
からも明らかである。When such a system is reduced with LiAtH4, an arene-type product from which the hydroxyl group has been eliminated, or a product in which further reduction has proceeded, is not the main product, and only OH 2 is obtained. This is clear from the literature example in (1) above.
本発明者らは、三重結合の両側に水酸基のある部分構造
をもつ一般式1の化合物をMA7!)In (OR’)
4−nで還元することにより水酸基の脱離を抑制し、三
重結合を選択的にトランス二重結合に還元できることを
見い出した。本発明方法によれば、一般式1でRが水素
で、−X・−・Y−が−CH2−CH2−の化合物、す
なわち化合物4から45%の収率で化合物2が得られる
のに対して、上記(1)のL i A t H4を使用
する文献例では高々5%にすぎない。The present inventors created a compound of general formula 1 with MA7!, which has a partial structure with hydroxyl groups on both sides of the triple bond. )In (OR')
It has been found that reduction with 4-n suppresses the elimination of hydroxyl groups and selectively reduces triple bonds to trans double bonds. According to the method of the present invention, compound 2 can be obtained in a yield of 45% from a compound of general formula 1 in which R is hydrogen and -X・-・Y- is -CH2-CH2-, that is, compound 4. However, in the literature examples using Li At H4 in (1) above, the ratio is only 5% at most.
さらに、本発明方法によれば一般式1でRが水素以外の
系では、几が水素の場合よシも高い収率で三重結合の還
元が進行する。このように三重結合に隣接する2つの水
酸基のうち、一つ2
基で保護することにより三重結合の還元の選択性が向上
する効果は、本発明において認められたもう一つの著し
い特徴である。このような効果は、LiAtH4を還元
剤とした場合にはほとんど期待できない。LiAtH4
の場合には、水酸基を保護しても脱離が優先する〔例え
ば、J、 Chem。Furthermore, according to the method of the present invention, in systems in which R is other than hydrogen in general formula 1, the reduction of the triple bond proceeds in a higher yield than when R is hydrogen. This effect of improving the selectivity of reduction of the triple bond by protecting it with one or two of the two hydroxyl groups adjacent to the triple bond is another remarkable feature recognized in the present invention. Such an effect can hardly be expected when LiAtH4 is used as a reducing agent. LiAtH4
In this case, even if the hydroxyl group is protected, elimination takes precedence [eg, J, Chem.
8oc、、 Chem+Commun、、 541 (
1969) :、T、 Chem、 Soc、、 Pe
rkin I 、 720(1975):Acta C
hem、 5cand、、 26.2540(1972
)などに記載された例をあげることができる〕。8oc,, Chem+Commun,, 541 (
1969): T, Chem, Soc, Pe
rkin I, 720 (1975): Acta C
hem, 5cand, 26.2540 (1972
), etc.].
本発明方法は、一般式1の化合物の三重結合を溶媒中で
MA AHn (OR’ ) 4− nにより還元する
ことによシ、選択的にトランス二重結合を生成させるも
のである。還元生成物は次いで、6員環母核のケトンの
保護基−X −、、Y−と側鎖の水1代基の保護基几を
除去することによシ、化合物2に誘導できる。ただし、
Rが水素の場合には6員環母核のケトンの保護基−X−
Y−のみを除去することにより、化合物2が得られる。The method of the present invention selectively generates a trans double bond by reducing the triple bond of the compound of general formula 1 with MAAHn (OR') 4-n in a solvent. The reduction product can then be derived into Compound 2 by removing the ketone protecting groups -X-, , Y- from the six-membered ring core and the water-protecting group from the side chain. however,
When R is hydrogen, the ketone protecting group -X- of the 6-membered ring mother nucleus
Compound 2 is obtained by removing only Y-.
一般式1の化合物のXとYは1氏級アルキル基を示し、
破線はXとYが各々独立の基を形成しているか、XとY
がアルキル基の炭素を介して共有結合していることを示
す。好ましい−X−Y −は、−CH,−CH,−1C
H2CH2CH2ticはX%Y共に−CH3である。X and Y of the compound of general formula 1 represent a 1st grade alkyl group,
The broken line indicates whether X and Y each form an independent group or whether X and Y
is covalently bonded through the carbon of the alkyl group. Preferred -X-Y- is -CH, -CH, -1C
In H2CH2CH2tic, both X% and Y are -CH3.
また、一般式1の化合物のRは水素、(CHs)3ki
−基、低級アシ几2
水素または低級アルキル基、R13は低級アルキル基を
示し、破線はR,1とR3が各々独立の基を形成してい
るか、アルキル基の炭素を介して共有結合しているとと
を示す)を示す。ここで低級とは、1〜7個の炭素原子
を有することを意味する0圓級アルキル基の好ましい例
としては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、R2
CH3
基の好ましい例としては、−CH,0CH2C)(3、
などがあげられる。Further, R in the compound of general formula 1 is hydrogen, (CHs)3ki
- group, lower alkyl group, R13 represents a lower alkyl group, and the broken line indicates that R, 1 and R3 each form an independent group or are covalently bonded via the carbon of the alkyl group. (indicates that there is). Here, lower means having 1 to 7 carbon atoms. Preferred examples of the 0-ring alkyl group include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, and preferred examples of the R2 CH3 group include -CH, 0CH2C) (3,
etc.
還元反応の溶媒としては、還元剤の活性水素を失活させ
ないものであれば特に限定されないが、例ztrd、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチル
エーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジオキ
サンなどのエーテル系溶媒、およびこれらの任意の混合
系などが好ましく使用できる。還元剤MA tHn (
OR’ ) 4−nのMはアルカリ金属であり、好まし
くはLi%NaまたはKである。R+4は低級アルカリ
基または酸素置換1氏級アルカリ基を示し、酸素置換と
は酸素原子の介在により炭素骨格の連続が中断されてい
ることを意味する。The solvent for the reduction reaction is not particularly limited as long as it does not deactivate the active hydrogen of the reducing agent, but examples include aromatic hydrocarbon solvents such as ztrd, benzene, toluene, and xylene, diethyl ether, dipropyl ether, and diethyl ether. Ether solvents such as butyl ether, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, dioxane, and any mixtures thereof can be preferably used. Reducing agent MA tHn (
M in OR' ) 4-n is an alkali metal, preferably Li%Na or K. R+4 represents a lower alkali group or an oxygen-substituted 1st class alkali group, and oxygen substitution means that the continuity of the carbon skeleton is interrupted by the presence of an oxygen atom.
ここで低級とは1〜7個の炭素原子を有することを意味
し、nは1〜5の整数を示す。R4としてはメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、2−メトキシエチ
ル、2−エトキシエチル基などが好ましい。nは1〜5
の整数であり。Here, lower means having 1 to 7 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 5. Preferred examples of R4 include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, 2-methoxyethyl, and 2-ethoxyethyl groups. n is 1 to 5
is an integer.
好ましくはn = 2である。好ましい還元剤の具体例
としては、 N aAtHz (0CH2CHaOCH
3)2、N a A tH2(OCHa ) 2 、
NaAlH4(OC2H8) 2、NaAlH4(0−
n−Pr)2、NaAAH2(o−i−Pr)2、Na
AlH4(0−n−Bu)、 、NaA/J(2(0−
i−Bu)2、N aAtHz (0−t−Budsな
どがあげられる。還元剤の使用量は、一般式1の化合物
1モルに対して通常1〜10倍モルであシ、好ましくは
1〜6倍モルである。ただし、一般式1の化合物に含ま
れる遊離の水酸基、アシル基など還元剤の活性水素を消
費する基に活性水素を供給して、さらに三重結合を還元
するに充分な量の還元剤を使用する必要がある。還元剤
は過剰に使用してもかまわない。反応温度は一50〜5
0℃、好ましくは一10〜20℃であ、る。Preferably n=2. As a specific example of a preferable reducing agent, N aAtHz (0CH2CHaOCH
3) 2, N a A tH2 (OCHa ) 2 ,
NaAlH4(OC2H8) 2, NaAlH4(0-
n-Pr)2, NaAAAH2(o-i-Pr)2, Na
AlH4(0-n-Bu), , NaA/J(2(0-
i-Bu)2, NaAtHz (0-t-Buds, etc.) The amount of the reducing agent used is usually 1 to 10 times the mole of the compound of general formula 1, preferably 1 to 6 times the molar amount.However, the amount is sufficient to supply active hydrogen to groups that consume active hydrogen of the reducing agent, such as free hydroxyl groups and acyl groups contained in the compound of general formula 1, and further reduce the triple bond. It is necessary to use a reducing agent of
0°C, preferably -10 to 20°C.
このようにして得られる還元生成物は、次いで6員環母
核のケトンの保護基−X−Y−と側鎖の水酸基の保護基
几を酸加水分解して除去することにより、化合物2に誘
導される。ただし、Rが水素の場合には、6員環母核の
ケトンの保護基−X・−Y−のみを加水分解して除去す
ればよい。また、一般式1でRが低級アシル基の化合物
をMAJJIn (O几’)4−nで還元した場合には
、還元反応段階において、三重結合の還元と同時に几で
ある低級アシル基が還元除去されるため、次の酸加水分
解段階においては、やはシロ員環母核のケトンの保護基
−X 、−Y−のみを加水分解することによシ、化合物
2が得られる。The thus obtained reduction product is then converted into compound 2 by removing the ketone protecting group -XY- of the 6-membered ring mother nucleus and the hydroxyl protecting group of the side chain by acid hydrolysis. be guided. However, when R is hydrogen, only the ketone protecting group -X·-Y- of the 6-membered ring mother nucleus may be removed by hydrolysis. In addition, when a compound in which R is a lower acyl group in general formula 1 is reduced with MAJJIn (O 几') 4-n, the lower acyl group, which is 几, is reduced and removed at the same time as the triple bond is reduced in the reduction reaction step. Therefore, in the next acidic hydrolysis step, Compound 2 can be obtained by hydrolyzing only the ketone protecting groups -X and -Y- of the ring nucleus.
加水分解する時は無機または有機系の酸を用いて行なう
。酸としては硫酸、塩酸、りん酸、過塩素酸などの鉱酸
、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸などの有機酸な
どが好んで使用、される。加水分解に用いる溶媒として
は、還元生成物と上記の酸を溶解し、酸の活性を低下さ
せないものであれば特に限定されないが、メタノール、
エタノール、プロパノール、フタノール、エチレングリ
コール、プロビレングリコールなどのアルコール系溶媒
、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、
ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどの
エーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステ
ル系溶媒、ギ酸、酢酸などの有機酸系溶媒、水あるいは
これらの混合溶媒が好んで使用される。加水分解温度は
一50〜100℃、好ましくは一10〜40℃である。Hydrolysis is carried out using an inorganic or organic acid. As acids, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, and perchloric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, and oxalic acid are preferably used. The solvent used for hydrolysis is not particularly limited as long as it dissolves the reduction product and the above acid and does not reduce the activity of the acid, but methanol,
Alcohol solvents such as ethanol, propanol, phthanol, ethylene glycol, and propylene glycol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone;
Ether solvents such as diethyl ether, dipropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and 1,2-dimethoxyethane, ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate, organic acid solvents such as formic acid and acetic acid, water, or mixed solvents thereof. is preferred. The hydrolysis temperature is -50 to 100°C, preferably -10 to 40°C.
一般式1の化合物の三重結合がトランス二重結合に還元
された対応する中間体は、カラムクロマトグラフィーな
どの手段を用いて精製してから保護基を除去しても、粗
生成物そのままを保護基を除去する工程に供してもよい
。Even if the corresponding intermediate in which the triple bond of the compound of formula 1 is reduced to a trans double bond is purified using a means such as column chromatography and then the protecting group is removed, the crude product remains protected. It may be subjected to a step of removing the group.
本発明方法において出発物質として使用されをケタール
化して得られる一般式9(式中、X1Yおよび破線は一
般式1におけるX%Yおよび破線と同じ意味をもつ)の
化合物に、一般式10(式中、几は一般式1におけるR
と同じ意味をもつ)のアセチレン誘導体をグリニヤー試
薬を用いて付加させることにより製造できる。また、一
般式1でRが水素の化合物をいったん合成したのち、水
素以外の几基を側鎖の2級水酸基に導入するといった別
法をとることもできる。Rが1氏級アシル基の場合のよ
うに、グリニヤー試薬ど反応する基の場合には、後者の
方法が適しモルに対して1〜2倍モルの一般式10の化
合物を用い、エーテル系溶媒中で行なう。使用されるグ
リニヤー試薬としては、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、ビニル、アリルグリニヤー試薬などを例示できる
。グIJ ニヤー試薬のハロゲン部分は、塩素、臭素、
ヨウ素のいずれでもよい。使用されるエーテル系溶媒と
しては、ジエチルエーテル、シフチルエーテル、シフチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどを
例示できる。The compound of the general formula 9 (wherein, X1Y and the broken line have the same meaning as the In, 几 is R in general formula 1
It can be produced by adding an acetylene derivative (having the same meaning as ) using a Grignard reagent. Alternatively, another method may be used in which a compound of general formula 1 in which R is hydrogen is once synthesized, and then a phosphorus group other than hydrogen is introduced into the secondary hydroxyl group of the side chain. When R is a group that reacts with a Grignard reagent, such as when R is a 1st class acyl group, the latter method is suitable, using a compound of general formula 10 in an amount of 1 to 2 times the mole, and using an ether solvent. Do it inside. Examples of Grignard reagents used include methyl, ethyl, propyl, butyl, vinyl, and allyl Grignard reagents. The halogen part of the Nyar reagent is chlorine, bromine,
Any iodine may be used. Examples of the ether solvent used include diethyl ether, cyphthyl ether, cyphthyl ether, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, and diethylene glycol dimethyl ether.
なお、一般式1の化合物には、不斉炭素原子に基づく立
体異性体が存在するが、各異性体は等しく本発明におい
て用いることができる。Note that the compound of general formula 1 has stereoisomers based on asymmetric carbon atoms, and each isomer can be equally used in the present invention.
次に、本発明を実施例によシ具体的に説明する0
実施例1
テトラヒドロフラン(25m6)に金属マグネシウム(
820■、33.77IZ mot)を加え、氷冷下に
臭化エチル(3,25t、 29.6mmo7)のテト
ラヒドロフラン(7rttl )溶液を65分かけて滴
下する。滴下終了後1時間攪拌する。このエチルグリニ
ヤー試薬の溶液に5−ブチン−2−オlk (1,05
fs 15.Ommot)を滴下し、その後60℃で4
5分間加熱攪拌する。ここへ4−エチレンジオキシ−2
,6,6−ドリメチルー2−シクロヘキセン−1−オン
6(196F、10、 Ommot)を加え、60℃で
1時間攪拌する。反応混合物を水に加え、酢酸エチルで
抽出する。有機層は水洗したのち、溶媒を留去する。Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.0 Example 1 Tetrahydrofuran (25m6) was mixed with metallic magnesium (
A solution of ethyl bromide (3.25t, 29.6mmo7) in tetrahydrofuran (7rttl) was added dropwise over 65 minutes under ice-cooling. After completion of the dropwise addition, stir for 1 hour. Add 5-butyn-2-olk (1,05
fs 15. Ommot) was added dropwise and then heated at 60℃ for 4 hours.
Heat and stir for 5 minutes. here 4-ethylenedioxy-2
,6,6-drimethyl-2-cyclohexen-1-one 6 (196F, 10, Ommot) and stirred at 60°C for 1 hour. The reaction mixture is added to water and extracted with ethyl acetate. After washing the organic layer with water, the solvent is distilled off.
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル−ヘキサン 3:1)で精製して、化合l吻1(几=
H、−X ・−Y −= −CHx −CH2)C2
,21f、85%)を得た。このものは標品とIH−N
MR%I几およびマススペクトルが完全に一致した。The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate-hexane 3:1) to obtain compound 1 (⇠=
H, -X ・-Y -= -CHx -CH2)C2
, 21f, 85%). This item is a standard item and IH-N
The MR%I and mass spectra were in perfect agreement.
5.5.5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オ
ン?の製造上記の化合物1 (n+=H,−X−Y、−
OH,−CH,−)(506πハ 1.15 mmot
)をテトラヒドロフラン(7d)に溶かし、室温で攪拌
しながらN aAtH2(0CH2CH20CH3)、
の7o%トルエン溶液(2,5d)を3分間で滴下する
。滴下後1時間反応させる。反応混合物を水に加え、酢
酸エチルで抽出する。有機層は水洗したのち、溶媒を留
去する。残渣にアセトン(19ie)とIN−塩酸(6
,5d)を加え、室温で1時間攪拌する。反応混合物に
水を加え、酢酸エチルで抽出する。有機層は水洗したの
ち、溶媒を留去する。5.5.5-Trimethyl-2-cyclohexen-1-one? Preparation of the above compound 1 (n+=H, -X-Y, -
OH, -CH, -) (506πc 1.15 mmot
) was dissolved in tetrahydrofuran (7d) and NaAtH2 (0CH2CH20CH3), with stirring at room temperature.
A 70% toluene solution (2.5d) of was added dropwise over 3 minutes. After dropping, react for 1 hour. The reaction mixture is added to water and extracted with ethyl acetate. After washing the organic layer with water, the solvent is distilled off. Acetone (19ie) and IN-hydrochloric acid (6ie) were added to the residue.
, 5d) and stirred at room temperature for 1 hour. Add water to the reaction mixture and extract with ethyl acetate. After washing the organic layer with water, the solvent is distilled off.
残液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル)で分離して、化合物2 (111yq、46%)を
得た。このものは標品とI H−NM几、IRおよびマ
ススペクトルが完全に一致した。The residual liquid was separated by silica gel column chromatography (ethyl acetate) to obtain Compound 2 (111yq, 46%). The IH-NM, IR and mass spectra of this product completely matched those of the standard product.
実施例2
テトラヒドロフラン(25ie)に金4マグネシウム(
o、72r、2θ6 m mol )を加え、水冷下に
臭化エチル(3,25グ、29.6 m mot )を
滴下する。滴下終了後2時間攪拌を続ける。Example 2 Tetrahydrofuran (25ie) with 4 magnesium gold (
o, 72r, 2θ6 mmol), and ethyl bromide (3.25 g, 29.6 mmol) was added dropwise while cooling with water. Stirring was continued for 2 hours after the dropwise addition was completed.
このエチルグリニヤー試桑の溶液にブチンアルコール誘
導体10(R=−8i(CHa)s)(445f150
、9 ns mot)を滴下する。滴下後、40℃で1
時間4Jt拌する。ここへ4−エチレンジオキシ−2,
6,6−)IJメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
6(3,92f、20.Ommot)を一度に加え、4
0℃で1時間攪拌する。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出する。有機層は水洗したのち、溶媒を留去し
化合物1〔R=−8i(CHs)s、−X−Y−=−C
H2−CH2−)(6,79f、96%)を得た。Butyne alcohol derivative 10 (R=-8i(CHa)s) (445f150
, 9 ns mot). 1 at 40℃ after dropping
Stir for 4 Jt. here 4-ethylenedioxy-2,
Add 6,6-)IJ methyl-2-cyclohexen-1-one 6 (3,92f, 20.Ommot) in one portion and
Stir at 0°C for 1 hour. The reaction mixture is poured into water and extracted with ethyl acetate. After washing the organic layer with water, the solvent was distilled off to give compound 1 [R=-8i(CHs)s, -X-Y-=-C
H2-CH2-) (6,79f, 96%) was obtained.
■几(液膜)
3470.1670.1245.1090.840.7
50cm−1
’)(−NMR(CD CLs )δ
o、 15 (s s 9 H)、1.08 (s、
3H)、1.15(s、!、H)、1.41 (ds
J=6Hz%gH)、1.8〜2.1 (m−5H)%
3.92 (A2B2.4)1)、4.54 (Q%
J=6Hzs 2H)、5.35(br、s、 IH
)(2)4−ヒドロキシ−4−((E)−5−ヒドロキ
上記化合物1 (R=−8i (CH3)5 、−X・
−・Y−= −CH2−CH2) (6,79t、19
.5 mmoL )をテトラヒドロフラン(62+e)
に溶かし、水冷下に攪拌しながらNaAlH4(OCH
,CH2OCH3) 2の70%トルエン溶液(21,
8ml )を滴下する。■几(Liquid film) 3470.1670.1245.1090.840.7
50cm-1') (-NMR(CDCLs)δo, 15 (ss9H), 1.08 (s,
3H), 1.15 (s,!,H), 1.41 (ds
J=6Hz%gH), 1.8-2.1 (m-5H)%
3.92 (A2B2.4)1), 4.54 (Q%
J=6Hzs 2H), 5.35(br, s, IH
) (2) 4-Hydroxy-4-((E)-5-hydroxy Compound 1 (R=-8i (CH3)5 , -X.
−・Y−= −CH2−CH2) (6,79t, 19
.. 5 mmoL) in tetrahydrofuran (62+e)
of NaAlH4 (OCH) while stirring under water cooling.
, CH2OCH3) 2 in 70% toluene solution (21,
8 ml) was added dropwise.
滴下終了後、室温に戻し1時間攪拌する。反応混合物を
氷水中に加え、酢酸エチルで抽出する。After completing the dropwise addition, the mixture was returned to room temperature and stirred for 1 hour. The reaction mixture is poured into ice water and extracted with ethyl acetate.
有機層は水洗し、溶媒を留去する。残渣にアセ) 7
(70m6 )とIN−塩酸(14ml?)を加え、1
時間攪拌する。反応混合物を炭酸水素す) IJウム水
溶液に加え、酢酸エチルで抽出する。有機層は水洗し、
溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル)で分離し、化合物2 (3,24
4r、5からの収率72%)を得た。The organic layer is washed with water and the solvent is distilled off. ace on the residue) 7
(70m6) and IN-hydrochloric acid (14ml?),
Stir for an hour. The reaction mixture was added to an aqueous solution of hydrogen carbonate and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water;
The solvent is distilled off. The residue was separated by silica gel column chromatography (ethyl acetate) and compound 2 (3,24
4r, yield of 72% from 5) was obtained.
実施例3
実施例2と同様にして、ブチンアルコール誘導体10
(R= −S i (CHs )s )の代りにブチン
を使用して反応を行なった。4−エチレンジオキシ−2
,6,6−)ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
3から65%の収率で、4−ヒドロキシ−4−((E)
−5−ヒドロキシ−1−ブテニル)−!1,5.5−)
ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オン2を得た。中
間に生成す= −c)(2−cIi、 −)のスペクト
ルデータを次に示す。Example 3 Butyne alcohol derivative 10 was prepared in the same manner as in Example 2.
The reaction was carried out using butyne instead of (R=-Si(CHs)s). 4-ethylenedioxy-2
,6,6-)dimethyl-2-cyclohexen-1-one 4-hydroxy-4-((E)
-5-hydroxy-1-butenyl)-! 1,5.5-)
Dimethyl-2-cyclohexen-1-one 2 was obtained. The spectral data of the intermediate generated = -c) (2-cIi, -) is shown below.
エル(液膜)
5460.1550.1205.1095.10201
980s 955.815cm−”
”)(−NMR(CDC63)δ
1.10.1.16.1.14 (6H,CH3X C
H’ )、1.69、t42、t46.1.49(5H
。L (liquid film) 5460.1550.1205.1095.10201
980s 955.815cm-” ”)(-NMR(CDC63)δ 1.10.1.16.1.14 (6H, CH3X C
H'), 1.69, t42, t46.1.49 (5H
.
人。)、1.89(5H,込。□3)、3
(I H,−= J(H)、4.7−5.0 (1H1
HH
実施例4
実施例2と同様にして、ブチンアルコール誘導体io
(R= 5i(CHa)s )の代りにブチH3
ンアルコール誘導体10 (R=−CHOCH,CH3
)を使用して反応を行なった。4−エチレンジオキシ−
2,6,6−17メチルー2−シクロヘキセン−1−オ
ン5から75%の収率で、4−ヒドロキシ−4−C(E
)−3−ヒドロキシ−1−ブテニル)−5,5,5−)
ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オン2を得た0中
間に生成すCH3
す
る化合物1 (R=−CHOCH2CH3、−X 、−
Y −= −CI42−CHs )のスペクトルデータ
を次に示す。Man. ), 1.89 (5H, included.□3), 3 (I H, -= J(H), 4.7-5.0 (1H1
HH Example 4 In the same manner as in Example 2, butyne alcohol derivative io
Butyn H3 alcohol derivative 10 (R=-CHOCH, CH3
) was used to carry out the reaction. 4-ethylenedioxy-
2,6,6-17methyl-2-cyclohexen-1-one 4-hydroxy-4-C(E
)-3-hydroxy-1-butenyl)-5,5,5-)
Dimethyl-2-cyclohexen-1-one 2 was obtained. Compound 1 (R=-CHOCH2CH3, -X, -
Spectral data of Y -= -CI42-CHs) are shown below.
■几(液膜)
5450.1670.1205.1090.1025.
950.795crrL−’
’H−NMR,(CDCAs)δ
1.20,12B、1.60.1.56.1,40、■
実施例5〜7
実施例4と同様にして、NaA7H2(OC)12 C
Hz OCHs)2の70%トルエン溶液を用いる三重
結合の還元反応時に、テトラヒドロフランの代シにジエ
チルエーテル、1,2−ジメトキシエタンを共溶媒とし
て用いるか、l・ルエン単独で反応を行ない1次の結果
を得た。■几(Liquid film) 5450.1670.1205.1090.1025.
950.795crrL-''H-NMR, (CDCAs) δ 1.20,12B, 1.60.1.56.1,40, ■ Examples 5 to 7 In the same manner as in Example 4, NaA7H2 (OC) 12C
During the reduction reaction of triple bonds using a 70% toluene solution of Hz OCHs)2, diethyl ether and 1,2-dimethoxyethane are used as co-solvents in place of tetrahydrofuran, or the reaction is carried out with l-toluene alone to obtain the primary Got the results.
実施例8〜9
実施例4と同様にして、NaALH2(OCH2CH2
0CH3)2の代りにNaAtH2(On Bu )2
、L 1AtH2(0−n−Bu)2を使用して反応
を行ない、次の結果を得た。Examples 8 to 9 In the same manner as in Example 4, NaALH2(OCH2CH2
NaAtH2(On Bu)2 instead of 0CH3)2
, L 1AtH2(0-n-Bu)2 and the following results were obtained.
実施例10
化合物1(几=H1−X−,,Y−=−CH,−CH2
−)(tl 27 f、 4.24 mmot)をビリ
ジ:’(5ml)に溶かし、無水酢酸(5耐)を加えた
のち、室温で16時間攪拌する。真空ポンプで吸引して
ピリジンと無水酢酸を留去し、残液を酢酸エチルに溶か
す。酢酸エチル層は炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
、水洗したのち溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル 2:1
)で精製して化合物1(几=cn3co、−X、−,Y
−=−CH。Example 10 Compound 1 (几=H1-X-,,Y-=-CH,-CH2
-) (tl 27 f, 4.24 mmot) was dissolved in viridi:' (5 ml), acetic anhydride (5 resistant) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Pyridine and acetic anhydride are distilled off using a vacuum pump, and the remaining liquid is dissolved in ethyl acetate. The ethyl acetate layer is washed with an aqueous sodium bicarbonate solution and then with water, and then the solvent is distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane:ethyl acetate 2:1).
) to obtain compound 1 (几=cn3co, -X, -,Y
-=-CH.
CH2)(1,267f、97%)を得た。CH2) (1,267f, 97%) was obtained.
IR(液膜)
5480.1740.1670.1370.1250゜
1090b 1020% 940cm−’’H−NMR
(CDCl2)δ
I08(s、5H)、1.12 (s、5H)、1、4
7(d 、 J=7Hz、 5H)、1.88−2.0
8(m、5H)、2.05(s、5H)、2.!+5(
ss 1H)、3.93(S、4H)、5.35(br
、s 、 I H)、5.45(q%J=7H2゜1H
)
CH2−C)12 ) (1,267f、 4.11m
mot)をテトラヒドロ−7ラン(10ml)に溶かす
。水冷下で攪拌しながらN aA7H2(OCH2CH
,0CH3)2の70%トルエン溶液(4,07d)を
滴下する。IR (liquid film) 5480.1740.1670.1370.1250°1090b 1020% 940cm-''H-NMR
(CDCl2)δ I08 (s, 5H), 1.12 (s, 5H), 1, 4
7 (d, J=7Hz, 5H), 1.88-2.0
8 (m, 5H), 2.05 (s, 5H), 2. ! +5(
ss 1H), 3.93 (S, 4H), 5.35 (br
, s, I H), 5.45 (q%J=7H2゜1H
) CH2-C)12) (1,267f, 4.11m
mot) in tetrahydro-7ran (10 ml). N aA7H2 (OCH2CH
,0CH3)2 in toluene (4,07d) is added dropwise.
その後、水冷下で50分、室温で1時間攪拌する。反応
混合物を氷水中に加え、酢酸エチルで抽出する。有機層
は水洗し、溶媒を留去する。Thereafter, the mixture was stirred for 50 minutes under water cooling and for 1 hour at room temperature. The reaction mixture is poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer is washed with water and the solvent is distilled off.
残シ友にアセトン(15d)とIN−塩酸(4,4m1
)を加え、室温で1時間攪拌する。反応混合物を炭酸水
素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出する。有
機層は水洗し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で分離し、化合物
2 (495■、!1からの収率54%)を得た。Add acetone (15d) and IN-hydrochloric acid (4.4ml) to the remaining residue.
) and stir at room temperature for 1 hour. The reaction mixture is added to an aqueous sodium bicarbonate solution and extracted with ethyl acetate. The organic layer is washed with water and the solvent is distilled off. The residue was separated by silica gel column chromatography (ethyl acetate) to obtain Compound 2 (495μ, 54% yield from !1).
特許出願人 東 し 株 式 会 社Patent applicant Higashi Shikikai Co., Ltd.
Claims (6)
各々独立の基を形成しているか、XとYがアルキル基の
炭素を介して共有結合していることを示し、Rは水素、
(CH3)3Si−2 し、R1、R”は水素または低級アルキル基 Bsは低
級アルキル基を示し、破線はR1とR3が各々独立の基
を形成しているか、アルキル基の炭素を介して共有結合
していることを示す)を示す〕のアセチレン誘導体をM
AtHn (OR’ )4−n(ただしMはアルカリ金
属を示し、R14は低級アルキル基または酸素置換低級
アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す)により還
元することを特徴とする4−ヒドロキシ−4−((E)
−5−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−!1,5.5−)
ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オンの製造方法。(1) General formula: R is hydrogen,
(CH3)3Si-2, R1 and R'' are hydrogen or a lower alkyl group, Bs is a lower alkyl group, and the broken line indicates whether R1 and R3 each form an independent group or are shared through the carbon of the alkyl group. The acetylene derivative of
AtHn (OR' ) 4-n (where M represents an alkali metal, R14 represents a lower alkyl group or an oxygen-substituted lower alkyl group, and n represents an integer of 1 to 5) 4 -Hydroxy-4-((E)
-5-hydroxy-1-butenyl]-! 1,5.5-)
A method for producing dimethyl-2-cyclohexen-1-one.
特許請求の範囲第(1)項記載の製造方法。 CH3(2) The manufacturing method according to claim (1), wherein R in the general formula is (CHs) or ssi - group. CH3
許請求の範囲第(11項記載の脛造方法。(3) The method for creating a shin according to claim 11, wherein in general formula 1, R is a CH3CH20CH- group.
る特許請求の範囲第(1)項記載の製造方法。(4) The manufacturing method according to claim (1), wherein -X-Y- in General Formula 1 is -CH2-CH2-.
X=Y−が−CH,−CH,−である特許請求の範囲第
(1)項記載の製造方法。 CH3(5) In general formula 1, R is a (CH3)38i- group υ, -
The manufacturing method according to claim (1), wherein X=Y- is -CH, -CH, -. CH3
、−X 、−、Y−が−〇H2−CH2−である特許請
求の範囲第(1)項記載の製造方法。 (力 還元剤がN a AlH3(OCH2CH2OC
H3) 2 である特許請求の範囲第(1)項記載の製
造方法。(6) The manufacturing method according to claim (1), wherein in the general formula, R is a C)i30H,0CR- group, and -X, -, Y- are -0H2-CH2-. (Force The reducing agent is Na AlH3 (OCH2CH2OC
H3) 2 The manufacturing method according to claim (1).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11647483A JPS608257A (en) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | Production of 4-hydroxy-4-((e)-3-hydroxy-1-butenyl)-3,5,5- trimethyl-2-cyclohexen-1-one |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11647483A JPS608257A (en) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | Production of 4-hydroxy-4-((e)-3-hydroxy-1-butenyl)-3,5,5- trimethyl-2-cyclohexen-1-one |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS608257A true JPS608257A (en) | 1985-01-17 |
JPS6324509B2 JPS6324509B2 (en) | 1988-05-20 |
Family
ID=14687993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11647483A Granted JPS608257A (en) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | Production of 4-hydroxy-4-((e)-3-hydroxy-1-butenyl)-3,5,5- trimethyl-2-cyclohexen-1-one |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS608257A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6362369B2 (en) | 1997-11-25 | 2002-03-26 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Phthalic acid diamide derivatives fluorine-containing aniline compounds as starting material, agricultural and horticultural insecticides, and a method for application of the insecticides |
-
1983
- 1983-06-28 JP JP11647483A patent/JPS608257A/en active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6362369B2 (en) | 1997-11-25 | 2002-03-26 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Phthalic acid diamide derivatives fluorine-containing aniline compounds as starting material, agricultural and horticultural insecticides, and a method for application of the insecticides |
US6559341B2 (en) | 1997-11-25 | 2003-05-06 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Phthalic acid diamide derivatives, fluorine-containing aniline compounds as starting material, agricultural and horticultural insecticides, and a method for application of the insecticides |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6324509B2 (en) | 1988-05-20 |
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