JPS6080200A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
- Publication number
- JPS6080200A JPS6080200A JP58186926A JP18692683A JPS6080200A JP S6080200 A JPS6080200 A JP S6080200A JP 58186926 A JP58186926 A JP 58186926A JP 18692683 A JP18692683 A JP 18692683A JP S6080200 A JPS6080200 A JP S6080200A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fuse
- memory cell
- address
- bit pattern
- rom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
- G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
- G11C29/781—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices combined in a redundant decoder
Landscapes
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は半導体メモリ装置1%に冗長メモリセルを備え
た半導体メモリ装置に関する。TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device with redundant memory cells in 1% of the semiconductor memory device.
技術の背景
近年、半導体メモリ装置は飛躍的に集積度を増している
。例えば256kbitメモリも実用段階に入りつつあ
る。このような高集積化された半導体メモリ装置(以下
単にメモリとも略称する)では欠陥メモリセルを含む確
率も同時に高くなる。Background of the Technology In recent years, the degree of integration of semiconductor memory devices has increased dramatically. For example, 256 kbit memory is also entering the practical stage. In such highly integrated semiconductor memory devices (hereinafter simply referred to as memories), the probability of including defective memory cells also increases.
そこで数個以内の欠陥があるときには、メモリテップを
廃棄せず、その中に予め準備された冗長メモリセルによ
って欠陥メモリセルを代替することが行われている。使
用に際しては、アドレス比較回路により当該欠陥メモリ
セルがアドレス指定されたことを検知したとき、前記冗
長メモリセルへ −飛ぶようにする。ここに、アドレス
比較回路は通常の外部アドレス入力とヒユーズROM
(readonly memory )の出力とを比較
して両者の一致を検出する。該ヒユーズROMは前記欠
陥メモリセルのアドレスを固定的に保持するものである
。Therefore, when there are several defects, the defective memory cells are replaced by redundant memory cells prepared in advance without discarding the memory chip. In use, when the address comparison circuit detects that the defective memory cell has been addressed, the memory cell is skipped to the redundant memory cell. Here, the address comparison circuit is connected to the normal external address input and the fuse ROM.
(readonly memory) is compared to detect a match between the two. The fuse ROM holds the address of the defective memory cell in a fixed manner.
本発明は、このようなヒユーズROMについて主として
言及するものである。The present invention primarily refers to such a fuse ROM.
従来技術と問題点
第1図は半導体メモリ装置内に設けられるヒユーズRO
Mの従来構成例を示す回路図である。本図において、1
2−0.32−1 ・ 12−nはそれぞれピッ) B
、、 B、・・・BrLに対応するヒユーズであり、ビ
ットB、について溶断された状態を示し。Prior art and problems Figure 1 shows a fuse RO provided in a semiconductor memory device.
FIG. 2 is a circuit diagram showing a conventional configuration example of M. In this figure, 1
2-0.32-1 and 12-n each beep) B
,, B, . . . are fuses corresponding to BrL, and show a blown state for bit B.
これら全体でヒユーズROMをなす。このようにして形
成されたヒユーズItOMは、欠陥メモリセルのアドレ
スを表わしている。そこで、さらに後の工程では該RO
Mから一定のアドレスビット出力を取り出す所要の配線
を施しく図示せず)、既述のアドレス比較回路に導く。All of these constitute a fuse ROM. The fuse ItOM thus formed represents the address of the defective memory cell. Therefore, in a later step, the RO
Necessary wiring for taking out a certain address bit output from M (not shown) leads to the address comparison circuit described above.
本発明の課題は、ヒユーズ12−0〜12−ルを如何に
、欠陥メモリセルのアドレスに従って溶断するかにある
。この第1図に示す従来のヒユーズROMでは、まず、
各ヒユーズ対応で溶断用バッド11−0.11−1・・
・11−ルを設け、溶断したいヒユーズにつながるパッ
ド(11−Q・・・11−几のいずれカリに対し選択的
に溶断するに十分な高電圧を印加する。この溶断作業は
パッケージ前のウェーハ状のメモリテップについてなさ
れ、従って。An object of the present invention is how to blow out the fuses 12-0 to 12- in accordance with the address of the defective memory cell. In the conventional fuse ROM shown in FIG. 1, first,
Fusing pad 11-0.11-1 for each fuse.
- Provide a 11-hole and apply a high enough voltage to selectively fuse any of the pads (11-Q...11-L) connected to the fuse you want to blow.This fusing operation is performed on the wafer before packaging. Therefore, it is made about the memory tip.
上記パッド11−0・・・11−71は、パッケージさ
れた後においてダε−パッドとなる。ところが、これら
ダミーパッドはそれぞれの所要面積Sが大である上に、
全体として(′7L+1)Sという面積を必要とする。The pads 11-0...11-71 become ε-pads after being packaged. However, each of these dummy pads requires a large area S, and
A total area of ('7L+1)S is required.
これは明°らかにメモリの高集積化に反し1問題である
。This is clearly a problem despite the high integration of memories.
発明の目的
上記問題に鑑み本発明は、所要面積の少ないヒユーズR
OMを備えた半導体メモリ装置を提供することを目的と
するものである。Purpose of the Invention In view of the above problems, the present invention provides a fuse R that requires less area.
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device equipped with an OM.
発明の構成
上記目的を達成するために本発明は、谷ヒユーズの一端
にそれぞれ直列接続されるトランジスタと、各該ヒユー
ズの他端に共通に接続する単一の溶断用バッドとを備え
、メモリに本来的な通常の複数のアドレス入力パッドが
対応する前記トランジスタのグー9トにも接続されるよ
うにしたことを特徴とするものである。Structure of the Invention In order to achieve the above object, the present invention includes transistors connected in series to one end of each valley fuse, and a single blowing pad commonly connected to the other end of each fuse, The present invention is characterized in that a plurality of address input pads that are originally normal are also connected to the gate terminals of the corresponding transistors.
発明の実施例 以下図面に従って本発明を説明する。Examples of the invention The present invention will be explained below with reference to the drawings.
第2図は半導体メモリ装置内に設けられる1本発明に基
づくヒユーズROMの基本構成例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the basic configuration of a fuse ROM provided in a semiconductor memory device according to the present invention.
本図において、12−0・・・124は既述のヒユーズ
であり、ヒユーズ12−1等は後に溶断されるものとす
る。各ヒユーズの一端にはそれぞれ直列にトランジスタ
22−0.22−1・・・22−n−が接続される。谷
ヒユーズの他端は共通に単一の溶断用パッド21に接続
される。さらに各トランジスタ22−0・・・22−f
Lの各ゲートは対応するアドレス入力パッド23−0.
23−L・・・23−ルに接続δれる。これらアドレス
人力バッド23−0゜23〜1・・・23−ルには、メ
モリセルアレイ内の所定のメモリセルを指定するアドレ
スA。、A4・・・ATLが印加される。このメモリの
指定のため9通常のメモリ使用時においてこれらアドレ
スはデコーダDECへ入力される。In this figure, 12-0...124 are the fuses mentioned above, and the fuses 12-1 and the like are assumed to be blown later. Transistors 22-0.22-1...22-n- are connected in series to one end of each fuse. The other ends of the valley fuses are commonly connected to a single fusing pad 21. Furthermore, each transistor 22-0...22-f
Each gate of L has a corresponding address input pad 23-0.
23-L...Connected to 23-L. These address pads 23-0°23 to 1 . , A4...ATL is applied. To designate this memory, these addresses are input to the decoder DEC during normal memory use.
一方、メモリの製造段階では、欠陥メモリセルに相当す
るアドレス(Ao・・・ATL)をアドレス人力バッド
23−0.23−1・・・23−fL に与え、そのア
ドレスと同一のビットパターンをもって、トランジスタ
22−0.22−1・・・22−ルをオン又はオフ状態
にする。ここで、溶断用バッド21に高電圧を加えると
、オン状態のトランジスタにつながるヒユーズのみが前
記ビットパターンをもって溶断され、ヒユーズROM2
0が形成される。On the other hand, at the memory manufacturing stage, the address corresponding to the defective memory cell (Ao...ATL) is given to the address pad 23-0.23-1...23-fL, and the same bit pattern as that address is given. , turns on or off the transistors 22-0.22-1...22-. Here, when a high voltage is applied to the blowing pad 21, only the fuses connected to the transistors in the on state are blown with the bit pattern, and the fuse ROM 2
0 is formed.
第2図のヒユーズROMと第1図のヒユーズROMを比
べると、溶断用バッド21に要する而びに各パッド11
−0・・・1l−rL(第1図)の面積である。ここに
メモリの集積度tま大幅に増大する。Comparing the fuse ROM shown in FIG. 2 with the fuse ROM shown in FIG.
-0...1l-rL (Fig. 1). Here, the degree of memory integration t increases significantly.
この理由は、第1図に示したアドレス対応の複数のパッ
ド(it−o ・1t−rL) 1. iつのパッド2
1に置き換えたからである。このように単一のパッド2
LKすることができたのは1本来的な通常のアドレス入
力パッド23−0・・・23−ルを利用して、これらに
それぞれつながるゲートを備え大。The reason for this is that a plurality of pads (it-o, 1t-rL) corresponding to the addresses shown in FIG. i pad 2
This is because it was replaced with 1. Single pad 2 like this
The LK was made possible by using the original address input pads 23-0...23- and providing gates connected to each of them.
アドレス対応のトランジスタ22−0.22−1・・・
22−ルを設りたからである。この場合、トランジスタ
22−0・・・22−ルの形成に要する面積と。Transistors corresponding to addresses 22-0.22-1...
This is because 22-rules were established. In this case, the area required to form the transistors 22-0...22-.
各ゲートと各アドレス人力パッドの配線に要する面積と
が余分に必要となるが、パッド面積を(rL+1)Sか
らSへと激減させたことに比べれば。Although an extra area is required for wiring each gate and each address manual pad, this is compared to drastically reducing the pad area from (rL+1)S to S.
殆ど問題にならない面積増である。This is an increase in area that is hardly a problem.
第3図は第2図に示したヒユーズROMの位置づけを説
明するためのメモリ構成の全体図である。FIG. 3 is an overall diagram of the memory configuration for explaining the positioning of the fuse ROM shown in FIG. 2.
本図において、31はメモリセルアレイ(MCA)であ
り、その中に欠陥メモリセルを代替する冗長メモリセル
も含む。通常のメモリセルを選択するのがロウ・デコー
ダ(RDEC)32−Rおよびコラム・デコーダ(CD
EC)32−Cであり、冗長メモリセルを選択するのが
ロウ側冗長セルドライバ33−Rおよびデコーダ34−
Rと、コラム側冗長セルドライバ:33−Cおよびデコ
ーダ34−Cである。In this figure, 31 is a memory cell array (MCA), which also includes redundant memory cells to replace defective memory cells. The row decoder (RDEC) 32-R and column decoder (CD
EC) 32-C, and the row side redundant cell driver 33-R and decoder 34-R select redundant memory cells.
R, a column-side redundant cell driver: 33-C, and a decoder 34-C.
、これらデコーダ32−1ζ、32−C,34−R,3
4−Cの駆動はアドレスAi(第2図に示したA。・・
・Anの任意の1つを表わす)に基づきなされ、第2図
に示したアドレス入力パッド23−0・・・z3−yz
(任意の1つである23−iのみ示す)に入力される。, these decoders 32-1ζ, 32-C, 34-R, 3
4-C is driven by address Ai (A shown in Figure 2.
The address input pads 23-0...z3-yz shown in FIG.
(only an arbitrary one 23-i is shown).
なお、ロウ系の駆動とコラム系の駆動とはRAS(ro
w address 5trobe )信号とCAS
(columnaddress atro、be)信号
とにより、相互にタイミングをずらして択−交互的にな
される。外部アドレスAiは、アドレスバッファ(AD
B)35により、相補的な内部アドレスA′、およびA
i となる。Note that row system drive and column system drive are RAS (ro
w address 5trobe) signal and CAS
(column address atro, be) signals, the timings are shifted from each other and selection is made alternately. The external address Ai is stored in the address buffer (AD
B) 35 allows complementary internal addresses A' and A
i becomes.
これらアドレスA’i Aiはデコーダ32−R。These addresses A'i Ai are sent to the decoder 32-R.
32−Cのみならず、既述のアドレス比較回路(ロウ側
の36−Rおよびコラム側の36−C) にも供給され
る。回路36−Rおよび36−Cの各第1比較入力には
1本発明で言及するヒユーズROM37−R(ロウ側)
および37−C(コラム側) (いずれも第2図の20
に相当)からの出力が印加される。ただし図では冗長ア
ドレス出力の任意の1つ(a7−R,a7−0) Lか
描いていない。The signal is supplied not only to 32-C but also to the previously described address comparison circuits (36-R on the row side and 36-C on the column side). One fuse ROM 37-R (low side) referred to in the present invention is connected to each first comparison input of the circuits 36-R and 36-C.
and 37-C (column side) (both are 20 in Fig. 2)
(equivalent to ) is applied. However, the figure does not depict any one of the redundant address outputs (a7-R, a7-0) L.
外部から与えしれたアドレスとヒユーズROMのアドレ
スとが一致したとき、ロウ側スイッチ38−Rおよびコ
ラム側スイッチ38−Cを冗長側に切替えて、それぞれ
ワードドライバ出力WDおよびコラムイネーブルクロッ
クCEを、デコーダ34−Rおよび34−Cに与え、冗
長メモリセルをアクセスする。When the externally given address matches the fuse ROM address, the row side switch 38-R and column side switch 38-C are switched to the redundant side, and the word driver output WD and column enable clock CE are respectively set to the decoder. 34-R and 34-C to access redundant memory cells.
第4図は本発明に係るヒューズルOMの詳細な一例を部
分的に示す回路図であり、第5図は第4図の回路の動作
説明に用いる波形図である。第4図は第2図における1
ビット分の系(L番目のビット)のみしか描いていない
が、他のビット系も全てこルと同じ構成である。又、第
4図中のトランジスタz2−i (第2図中の任意の1
つのトランジスタ) + 溶Ivr用パッド21.冗長
アドレス出力aL 内部アドレ−” A’z ヒユーズ
1z−i (第2図中の任意の1つのヒユーズ)につい
ては、既に第2図又は第3図で説明したとおりである。FIG. 4 is a circuit diagram partially showing a detailed example of the fusel OM according to the present invention, and FIG. 5 is a waveform diagram used to explain the operation of the circuit of FIG. 4. Figure 4 is 1 in Figure 2.
Although only the bit system (L-th bit) is depicted, all other bit systems have the same configuration. Also, the transistor z2-i in FIG. 4 (any one in FIG.
(transistor) + IVR pad 21. Redundant address output aL Internal address "A'z Fuse 1z-i (any one fuse in FIG. 2) is as already explained in FIG. 2 or FIG. 3.
ロウ系のヒーーズを溶断するか否か、コラム系のヒーー
ズを溶断するか否かは、第5図の(1)および<2)K
示すRAS信号およびCAS信号のタイミングで定めら
れる。どちらの系であっても動作は同じである。ヒユー
ズ1z−iを溶断するか否かは、内部アドレスA’iC
第5図の(8)うの論理で定まる。”Hllなら、トラ
ンジスタ41がオン、トランジスタ22−iがオフとな
ってヒユーズ12−iはそのままである。従って逆にL
゛なら、ヒユーズ12−Lは醪堕きれる。Whether or not to melt the wax type heats and whether to melt the column type heats depends on (1) and <2) K in Figure 5.
It is determined by the timing of the RAS signal and CAS signal shown in FIG. The operation is the same for either system. Whether or not to blow fuse 1z-i is determined by internal address A'iC.
It is determined by the logic in (8) in Figure 5. "Hll", the transistor 41 is on, the transistor 22-i is off, and the fuse 12-i remains as it is.
If so, fuse 12-L will be destroyed.
動作は筐ずCO倍信号′H”(第5図の(4))とする
ことから始まる。これによりトランジスタ42がオンと
なり、トランジスタ42′を経由して、はぼV。0がキ
ャパシタ43に充電される。その後補助溶断パッド44
に9例えば7〜10■の電圧を加える。ここにブートス
トラップ分効果により。The operation begins with the CO double signal ``H'' ((4) in FIG. 5). This turns on the transistor 42, and a voltage of V.0 is applied to the capacitor 43 via the transistor 42'. charged.Then the auxiliary fusing pad 44
For example, a voltage of 7 to 10 cm is applied. Here is the bootstrap minute effect.
オンとなっているトランジスタ45を通じて、ノードN
を10数Vに引上げる。10数Vの引上げが終えたのち
、AD倍信号第5図の(5))を加えてトランジスタ4
6をオンにし、トランジスタ45のゲート電位を引き下
げて、該トランジスタ45をオフにする。オフにしてお
かないと、後にアドレスNiによってトランジスタ41
がオンに7z+たとき、パッド43 (7〜IOVがか
かつている)からトランジスタ45全通して直流大電流
−t!x流れてし1うのである。なお、ノードNにto
@Vという高電圧を加えるのは、トランジスタ22−1
が十分ターンオンできるようにするためであり。Through the transistor 45 which is turned on, the node N
Increase the voltage to 10-odd V. After raising the voltage by more than 10 V, the AD double signal (5) in Figure 5 is added to the transistor 4.
6 is turned on, the gate potential of the transistor 45 is lowered, and the transistor 45 is turned off. If it is not turned off, the transistor 41 will be turned off later by the address Ni.
When 7z+ is turned on, a large DC current -t! flows through the entire transistor 45 from the pad 43 (to which 7~IOV is applied). x will flow. In addition, to node N
The transistor 22-1 applies the high voltage @V.
This is to enable sufficient turn-on.
もし、アドレスA’1(TTTj/ベルである)を直接
トランジスタ22−iのゲートに印加したとすると、ト
ランジスタ22−iを十分にターンオンできず、ヒユー
ズ溶断に失敗するおそれがあるからである。If the address A'1 (TTTj/bell) were to be applied directly to the gate of the transistor 22-i, the transistor 22-i would not be turned on sufficiently, and there is a risk that the fuse would fail to blow.
前記CO信号とAD傷信号、外部アドレスAiの変化(
第7図の(7))に前後して現われr ALがアドレス
バッファ(第3図の35)を通して内部アドレスAI、
(第5図の(8))となる。ここでA′2が°“L”
であるとすると、トランジスタ22−2はオンとなり、
溶断用バッド21からの高電圧HV(第5図)(6)’
) r例えば14v、がヒz−ス12− Lに印加享れ
、大電流が流れてこれを溶断する。Changes in the CO signal, AD scratch signal, and external address Ai (
Appears around (7) in Figure 7, r AL passes through the address buffer (35 in Figure 3) to the internal address AI,
((8) in Figure 5). Here A'2 is °“L”
If so, the transistor 22-2 is turned on, and
High voltage HV from fusing pad 21 (Fig. 5) (6)'
) R, for example 14V, is applied to the heat source 12-L, and a large current flows to fuse it.
A′、が”■工”“であると、ノードNの電位は低下し
。When A' is "■work", the potential of node N decreases.
トランジスタ22−iをオフとするからそのような大電
流は流れず、ヒユーズ1z−iはその筐まである。Since the transistor 22-i is turned off, such a large current does not flow, and the fuse 1z-i extends to its casing.
メモリの通常動作時においては、溶断されていないヒユ
ーズにつながるトランジスタには電源Vooが与えられ
ており、アドレス比較回路(36−R,36−C)に論
理″′H゛の信号を与え、残りのアドレスは全て論理″
L”である。このH″。During normal operation of the memory, the power supply Voo is applied to the transistors connected to the unblown fuses, and a logic ``H'' signal is applied to the address comparison circuits (36-R, 36-C), and the remaining All addresses are logical
This is L”.This H”.
”L″のビットパターンが、外部アドレスのビットパタ
ーンと一致したとき、すなわち欠陥メモリセルをアクセ
スしたとき、冗長メモリセルへ飛ぶ。When the "L" bit pattern matches the bit pattern of the external address, that is, when a defective memory cell is accessed, the process jumps to the redundant memory cell.
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、メモリチップの中に
占めるヒユーズROMのサイズを従来よりも大幅に縮小
した半導体メモリ装置が実現される。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION As described in detail, according to the present invention, a semiconductor memory device is realized in which the size of a fuse ROM occupying a memory chip is significantly reduced compared to the conventional one.
第1図は半導体メモリ装置内に設けられるヒユーズRO
Mの従来構成例を示す回路図、第2図は半導体メモリ装
置内に設けられる2本発明に基づくヒ二−ズROMの基
本構成例を示す回路図、第3図は第2図に示したヒュニ
ズROMの位置づけを説明するためのメモリ構成の全体
図、第4図は本発明に係るヒユーズ・ROMの詳fIl
lな一例を部分的に示す回路図、第5図は第4図の回路
の動作説明に用いる波形図である。
12−0. 12−1 ・124−・・ ヒユーズ。
20・・・ヒユーズROM、 21・・・溶断用バッド
。
22−0.22−1−−−22−n、−・トランジスタ
。
23−0.23−1 ・・2ニー14・・・アドレス人
力パッド。
31・・・メモリセルアレイ。
37−R,37−C・・・ヒューズROM0特許出願人
富士通株式会社
特許出願代理人
弁理士 育 木 朗
弁理士西舘和之
弁理士 内 1)幸 男
弁理士 山 口 昭 之
第1図
第2図 、。
Δo At AnFigure 1 shows a fuse RO provided in a semiconductor memory device.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the basic configuration of a Hi-Ni-Z ROM based on the present invention provided in a semiconductor memory device, and FIG. An overall diagram of the memory configuration for explaining the positioning of the HUNYZ ROM, FIG. 4 is a detailed diagram of the HUNYZ ROM according to the present invention.
FIG. 5 is a waveform diagram used to explain the operation of the circuit shown in FIG. 4. 12-0. 12-1 ・124-... Hughes. 20...Fuse ROM, 21...Bud for fusing. 22-0.22-1---22-n,--transistor. 23-0.23-1...2 knees 14...Address human power pad. 31...Memory cell array. 37-R, 37-C...Fuse ROM0 Patent applicant Fujitsu Ltd. Patent application agent Patent attorney Akira Ikuki Patent attorney Kazuyuki Nishidate Patent attorney 1) Yukio Patent attorney Akiyuki Yamaguchi Figure 1 Figure 2 figure ,. Δo At An
Claims (1)
陥メモリセルを代替する冗長メモリセルと。 該メモリセルアレイ内の所定のメモリセルを指定するア
ドレスを受信する複数のアドレス入力パッドと、前記欠
陥メモリセルに相当する前記アドレスと同一のビットパ
ターンを備えたヒーーズRO,Mと、を有し、該ヒユー
ズROM内のビットパターンと同一の前記アドレスが受
信されたときは前記冗長メモリセルをアクセスするよう
にした構成を有し、前記ヒユーズIζOMが、溶断によ
って前記ビットパターンを形成する複数のヒユーズと、
各該ヒユーズの一端にそれぞれ直列接続されるトランジ
スタと、各該ヒユーズの他端に共通に接続される単一の
溶断用パッドとからなり、各該トランジスタのゲートは
対応する前記アドレス入力パッドに接続もれることをI
l+f徴とする半導体メモリ装置。[Claims] 1. A memory cell array and a redundant memory cell to replace a defective memory cell in the memory cell array. a plurality of address input pads for receiving an address specifying a predetermined memory cell in the memory cell array; and a heater RO,M having a bit pattern identical to the address corresponding to the defective memory cell; The fuse IζOM has a configuration in which the redundant memory cell is accessed when the address that is the same as the bit pattern in the fuse ROM is received, and the fuse IζOM is connected to a plurality of fuses that form the bit pattern by blowing. ,
It consists of a transistor connected in series to one end of each fuse, and a single blowing pad commonly connected to the other end of each fuse, and the gate of each transistor is connected to the corresponding address input pad. I hope it will leak
A semiconductor memory device having l+f characteristics.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58186926A JPS6080200A (en) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58186926A JPS6080200A (en) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6080200A true JPS6080200A (en) | 1985-05-08 |
JPH0326479B2 JPH0326479B2 (en) | 1991-04-10 |
Family
ID=16197124
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58186926A Granted JPS6080200A (en) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6080200A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62138400U (en) * | 1986-02-19 | 1987-09-01 | ||
JPS62138399U (en) * | 1986-02-19 | 1987-09-01 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5744296A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Fujitsu Ltd | Storage device |
-
1983
- 1983-10-07 JP JP58186926A patent/JPS6080200A/en active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5744296A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Fujitsu Ltd | Storage device |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62138400U (en) * | 1986-02-19 | 1987-09-01 | ||
JPS62138399U (en) * | 1986-02-19 | 1987-09-01 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0326479B2 (en) | 1991-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR0135108B1 (en) | Semiconductor memory apparatus including stress test circuit | |
JP3273440B2 (en) | Efficient method for obtaining usable part from partially good memory integrated circuit | |
US5761138A (en) | Memory devices having a flexible redundant block architecture | |
JP3645296B2 (en) | Burn-in control circuit for semiconductor memory device and burn-in test method using the same | |
JP2731136B2 (en) | Redundancy circuit and method for semiconductor memory device | |
JP2001514428A (en) | Selective power distribution circuit for integrated circuits. | |
JPH04232693A (en) | Static type semiconductor storage device | |
JPH0320840B2 (en) | ||
KR20030042411A (en) | Fuse circuit | |
JPS60170100A (en) | Cmos semiconductor integrated circuit | |
JPH0444359B2 (en) | ||
US20010050578A1 (en) | Semiconductor apparatus | |
JPH0997499A (en) | Semiconductor storage device | |
US6178125B1 (en) | Semiconductor memory device preventing repeated use of spare memory cell and repairable by cell substitution up to two times | |
JPS6080200A (en) | Semiconductor memory device | |
US20010026481A1 (en) | Method and apparatus for repairing defective columns of memory cells | |
JPH10241395A (en) | Semiconductor memory device equipped with redundant circuit | |
JP3020561B2 (en) | Semiconductor storage device | |
JPS59124098A (en) | Redundant decoder of semiconductor memory | |
JPH04271099A (en) | Static ram | |
US6185136B1 (en) | Method and apparatus for repairing defective columns of memory cells | |
JPS6138560B2 (en) | ||
JP3198546B2 (en) | Semiconductor device having redundant memory cells | |
KR940008212B1 (en) | Semiconductor memory device with redundant cell test apparatus | |
JPH0373959B2 (en) |