JPS6076534A - アルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法 - Google Patents

アルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法

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JPS6076534A
JPS6076534A JP18437783A JP18437783A JPS6076534A JP S6076534 A JPS6076534 A JP S6076534A JP 18437783 A JP18437783 A JP 18437783A JP 18437783 A JP18437783 A JP 18437783A JP S6076534 A JPS6076534 A JP S6076534A
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JP
Japan
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group
containing polyorganosiloxane
reaction
ketal
parts
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JP18437783A
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Takashi Imai
今井 高史
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Momentive Performance Materials Japan LLC
Original Assignee
Toshiba Silicone Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、アルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの
製造方法に関し、更に詳しくは、シラノール基含有ポリ
オルガノシロキサンとケタールを反応させることを特徴
とするアルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製造
方法に関する。
[技術的背景とその問題点] アルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンは、ケイ素原
子に直接結合したアルコキシ基が適度の加水分解性を有
し、且つ、加水分解により生ずる副生物がアルコールで
あるために、例えば、種々のシリコーン変性有機重合体
を製造するための反ン組成物の一成分として有用なもの
である。
このようなアルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンを
製造する方法としては、例えば、ケイ素原子に直接結合
したハロゲン原子、アミノ基又はアミド基等の加水分解
性基を有するポリオルガノシロキサンの加アルコール分
解反応により製造する方法、ケイ素原子に直接結合した
水素原子を有するポリオルガノハイドロジエンシロキサ
ンとアルコールとをアルカリ触媒の存在下に脱水素反応
させることにより製造する方法、並びにアルコキシ基含
有オルガノシラン又はポリシロキサンの部分加水分解縮
合反応により製造する方法等が知られている。更に、シ
ラノール基含有ポリオルガノシロキサンとアルコキシ基
含有オルガノシラン又はポリシロキサンとを脱アルコー
ル反応させることにより製造する方法も知られており、
例えば、特開昭58−3211158号公報には上記反
応の触媒として置換ヒドロキシルアミンを使用すること
が開示されている。
しかしながら、上記の製造方法は、製造されるアルコキ
シ基含有ポリオルガノシロキサンの分子量が比較的低く
、特に直鎖状高分子のものを得るのは困難である。即ち
、加アルコール分解反応及び脱水素反応による方法では
、出発物質として比較的高分子量のポリオルガノシロキ
サンを使用スる必要があるが、この高分子量ポリオルガ
ノシロキサン自体を製造することが困難であるという問
題点を有している。又、部分加水分解縮合反応を用いる
力性においては、ポリマー主鎖の成長と側鎖の反応が併
発して三次元化が起こり、直鎖状高分子量ポリオルガノ
シロキサンが得難いという問題点を有している。一方、
脱アルコール反応により製造する方法においては、出発
物質として使用する高分子量のシラノール基含有ポリオ
ルガノシロキサンの入手が容易であり、反応も速やかに
進行し、高分子量のアルコキシ基含有ポリオルガノシロ
キサンが得られるという利点を有している。
しかし、上記反応においては有機スズ塩やアミン類等の
触媒の使用が不可欠であり、その除去が困難であること
から硬化物の特性に悪影響を及ぼすという問題点を有し
ている。かかる触媒は、ポリシロキサン鎖のアルコール
によるクラッキング反応の触媒ともなるため、生成物の
安定性が劣るという問題点をも有している。
[発明の目的] 本発明の目的は、高分子量を有し、優れた特性を有する
アルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンを簡便な方法
で得ることが可能な製造方法を提供することにある。
[発明の概要] 本発明者は上記問題点を解決するために鋭意検討を重ね
た結果、本発明を完成するに至った。即ち、本発明のア
ルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法は、 シラノール基含有ポリオルガノシロキサンと、次式[■
1: (式中、R1及びR2は同一でも異なってい−sL、/
l!Jyk116+−An)Iatrs害1しji婁ま
む)ノを士R1及びR2とが結合してこれらを含む5員
環若しくは6員環を形成する基を表わし、R3は一価の
炭化水素基を表わす。) で示されるケタールと反応させることを特徴とするもの
である。
以下において本発明を更に詳しく説明する。
本発明において反応成分の−として使用されるシラノー
ル基含有ポリオルガノシロキサンは、特に限定されず、
通常ポリオルガノシロキサンとして使用されているもの
であればいかなるものでもよい。即ち、その構造は直鎖
状、分岐状、環状又は三次元網目状の何れのものであっ
てもよく、これらの組合せであってもよい。又、ケイ素
原子に結合した有機基としては、置換又は非置換の炭化
水素基であれば特に限定されず1例えば、メチル基、エ
チル基及びプロピル基等のアルキル基;ビニル基及びア
リル基等のアルケニル基;フェニル基及びトリル基等の
アリール基;ベンジル基及びα−フェネチル基等の7ラ
ルキル基:メトキシメチル基等のアルコキシアルキル票
:乃び3.3.3− トリフルオロプロピル基及びクロ
ロフェニル基等のハロゲン置換アルキル基及びアリール
基等が挙げられる。
本発明の反応成分の他の−を構成するケタールは、上記
式 [I]で示されるものである0式中、R1及びR2
で表わされる炭化水素基としては、メチル基、エチル基
、プロピル基又はブチル基等の炭素数1〜4の一価の炭
化水素基又はR1及びR2とで構成されるテトラメチレ
ン基又はペンタメチレン基等の二価の炭化水素基が挙げ
られる。
又、R3で表わされる一価の炭化水素基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基及びオクチル基等が挙げられる。
このようなケタールとしては、例えば、アセトンジメチ
ルケタール、アセトンジエチルケタール、アセトンジオ
クチルケタール、メチルエチルケトンジメチルケタール
、メチルイソブチルケトンジメチルケタール、シクロペ
ンタノンジメチルケタール、シクロヘキサノンジメチル
ケタール及びシクロヘキサノンジエチルケタール等が挙
げられる。これらの中でも、入手が容易であること及び
反応時に副生ずるケトンの除去が容易であることからア
セトン及びメチルエチルケトンのケタールが好ましく、
特にアセトンジメチルケタールが好ましい。
又、アルデヒドの7セタールを用いた場合にも本発明と
同様のアルコキシ化は可能であるが、反応副生物として
アルデヒドが生成するので好ましくない。
本発明のアルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製
造方法は、室温、常圧下において、上記シラノール基含
有ポリオルガノシロキサントケタールを任意の割合で混
合し1反応させることにより製造することが可能なもの
である。シラノール基含有ポリオルガノシロキサンとケ
タールの混合比は、特に限定されないが、反応を速やか
に進行させるためには、ケタールをシラノール基含有ポ
リオルガノシロキサンに対して2倍モル以上使用するこ
とが好ましい。この場合、過料のケタールは反応終了後
1反応副生物のケトンと共に回収し、分離するか、或い
は分離することなくケトンをケタール化し、本反応の出
発原料として使用してもよい。又、反応を速やかに進行
させるためには、加熱下において反応を行なうことが好
ましく、ケタールの通流温度(50℃〜200″C)で
反応を行なうことが更に好ましい、更に、本発明におい
ては、無機酸の存在下に反応を行なうことにより、反応
がより速やかに進行する。このような無機酸としては5
例えば、塩酸、硫酸等が挙げられ、その雄加量は、反応
基質に対して100ppri以下の量で充分である。上
記無機酸は1反応終了後、中和もしくは吸着により容易
に除去することが可能である。
[発明の効果] 本発明の製造方法によれば、直鎖状高分子量のアルコキ
シ基含有ポリオルガノシロキサンを容易に得ることが可
能である。
[発明の実施例] 目下において牢雄側を掲げ、本発明を更に詳しく説明す
る。尚、実施例中、部は重量部を表わし、粘度は25℃
における値を示した。
実施例1 平均重合度約20のα、ω−ジヒドロキシポリジメチル
シロキサン(約2.3zのOH基含有) 100部に7
セトンジメチルケタ一ル30部を加え、 80’Cで6
時間加熱撹拌した。次いで、この反応混合物を20mm
HHの減圧下において100”Cで1時間撹拌し、未反
応のアセトンジメチルケタールと副生物のアセトンを除
去した。
残留している油状物50部にテトラブチルオルソチタネ
ー) 0.25部を添加し、混合したがゲル化は起こら
なかった。このことから、上記油状物にはシラノール基
が含まれていないことが確認された。又、上記油状物に
ついてNIIRスペクトル分析を行なったところ、下記
式を有するジメトキシポリジメチルシロキサンであるこ
とが確認された。
NMRδppm : 0.03 (Si−C:R3)、
 3.42 (Si−0−CH3)。
実施例2〜4 実施例1において、第1表に示したような無機酪を使用
した他は全て同様の操作にて反応を行なった− 得られた反応物について実施例1と同様にしてシラノー
ル基の有無を調べたところ、シラノール基は存在せず、
アルコキシ化物が得られたことが確認された。
第1表 実施例5〜11 実施例1において、ケタールとしてアセトンジメチルケ
タールの持わりに第2表に示したようなケタールを使用
した他は全て同様の反応を行なった。
得られた反応物について実施例1と同様にしてシラノー
ル基の有無を調べたところ、シラノール基は存在せず、
アルコキシ化物が得られたことが確認された。又、 N
NRスペクトルで確認した構造式を以下に示す。
エトキシ化体: NMRδppm : 0.05 (Sl−CH5)、1
.23 (C−CH3)。
3.81 (Sl−0−CH2−)。
n−ブトキシ化体・ NMRδppm : 0.05 (Si−(Jl )、
 0.97 (C−CH3)。
約1.2 (C−CH−C)、 3.75 (Sl−0
−CH2)。
第2表 実施例12 粘度3.+00 cPのα、ω−ジヒドロキシポリジメ
チルシロキサン500部にアセトンジメチルケタール8
部及び濃塩酸0.003部を加え、80°Cで1時間加
熱撹拌した。次いで、5 mmHgの減圧下において8
0°Cで1時間撹拌し、未反応のアセトンジメチルケタ
ール及び反応副生物のアセトンを除去した。
残留している油状物50部にテトラブチルオルソチタネ
ート0.25部を添加し混合したがゲル化は起こらず、
その粘度は3,200 cPであった。このことから、
上記油状物にはシラノール基が含まれていないことが確
認された。
実施例13 トリメチルクロロシラン5部、ジメチルジクロロシラン
 145部及びメチルトリクロロシラン50部を共加水
分解してポリメチルシロキサン反応生成物を得た。かか
る生成物は粘度48 cPで、0 、 l 3 、Tl
C量%のシラノールノルを含有していた。
上記ポリメチルシロキサン100部に、アセトンジメチ
ルケタール2部を加え、80℃で5時間加熱撹拌した。
次いで、5 mmHgの減圧下において80℃で1時間
撹拌し、未反応のアセトンジメチルケタール及び反応副
生物のアセトンを除去した。
残留している油状物50部にテトラブチルオルンチタネ
ー) 0.25部を添加し混合したがゲル化は起こらず
、その粘度は4? cPであった。このことから、上記
油状物にはシラノール基が含まれていないことが確認さ
れた。
実施例11パ 粘度270 cPで、両末端がシラノール基でM釦され
、30モル%にジフェニルシロキシ単位と残余のジメチ
ルシロキシ単位から成るポリジオルカッシロキサン50
0部に、アセトンジエチルケタール5部を加え、 +0
0°Cで1時間の加熱撹拌を行なって、未反応のアセト
ンジエチルケタール及び反応副生物のアセトンを除去し
た。
油状物の粘度は2B2 cP であった。この油状物5
0部に正ケイ酸n−プロピル1部及びオクタン酸スズ0
.5部を添加して30分間室温で混合撹拌した。もし、
シラノール基が残存していたなら、正ケイ酸n−プロピ
ルによって架橋して増粘する筈であるが、オクタン酸ス
ズを添加しないで同様の撹拌を行なったものとの粘度比
は1.03であって、このことから、油状物にシラノー
ル基が残存していないことが確認された。
比較例1〜3 実施例1に用いたα、ω−ジヒドロキシポリジメチルシ
ロキサン100部に、第3表に示すアルコールと濃塩酸
0.001部を加え、第3大に示す温度で4時間加熱撹
拌した。重曹によって酸を中和し、口過した後、この反
応程合物を10mmHgの減圧下に 100℃で1時間
加熱撹拌し、未反応のアルコールと副生物の水を除去し
て油状物を得た。
得られた油状物のOH基含有量をカール拳フィッシャー
法によって測定した。その結果を第3表に示す。又、こ
の油状物50部にテトラブチルオルソチタネート0.2
5部を添加し、密栓して混合した後、室温で24時間放
置したところ、いずれもゲル状物を生じた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、シラノール基含有ポリオルガノシロキサンと、次式
    : (式中、R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、
    炭素数1〜4の一価の炭化水素基又はR1及びR2とが
    結合してこれらを含む5員環若しくは6員環を形成する
    基を表わし R3は一価の炭化水素基を表わす、) で示されるケタールと反応させることを特徴とするアル
    コキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法。 2、反応が無機酸の存在下に行なわれる特許請求の範囲
    第1項記載のアルコキシ基含有ポリオル3、反応が50
    ℃〜200℃の範囲で行なわれる特許請求の範囲第1項
    記載のアルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製造
    方法。 4、ケタールが7セトンジメチルケタールである特許請
    求の範囲第1項記載のアルコキシ基含有ポリオルガノシ
    ロキサンの製造方法。
JP18437783A 1983-10-04 1983-10-04 アルコキシ基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法 Pending JPS6076534A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998047943A1 (en) * 1997-04-21 1998-10-29 Alliedsignal Inc. Stable inorganic polymers
WO2019059398A1 (ja) * 2017-09-25 2019-03-28 日産化学株式会社 保存安定性に優れたポリシロキサンの製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1998047943A1 (en) * 1997-04-21 1998-10-29 Alliedsignal Inc. Stable inorganic polymers
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