JPS6067675A - Pretreatment of plastic material for metal plating - Google Patents

Pretreatment of plastic material for metal plating

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JPS6067675A
JPS6067675A JP17616583A JP17616583A JPS6067675A JP S6067675 A JPS6067675 A JP S6067675A JP 17616583 A JP17616583 A JP 17616583A JP 17616583 A JP17616583 A JP 17616583A JP S6067675 A JPS6067675 A JP S6067675A
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JP
Japan
Prior art keywords
ozone
plastic
atmosphere
plated
conditioning
Prior art date
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Pending
Application number
JP17616583A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
アルバート・アンソニー・バークマイヤー
ゲイリー・アラン・ハーペル
ジエームズ・マイマル・レスコ
ブルース・エドワード・カーツ
ゴルドハンブハイ・ナサラル・パテル
ラストム・ペストンジ・ポンチヤ
アダム・ローレンス・スコブリンスキー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Allied Corp
Original Assignee
Allied Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Allied Chemical Corp filed Critical Allied Chemical Corp
Priority to JP17616583A priority Critical patent/JPS6067675A/en
Publication of JPS6067675A publication Critical patent/JPS6067675A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、普通の無電ブWめっきおよび電気めっき技術
を使用して金属めっきすべきプラスチック材料およびプ
ラスチック物品を、コンディショニングする方法に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、このようなプラスチッ
ク材料およびプラスチック物品を表面コンディショニン
グして、それらの表面を親水性とする改良された方法に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of conditioning plastic materials and plastic articles to be metal plated using conventional electroless W plating and electroplating techniques. More particularly, the present invention relates to an improved method of surface conditioning such plastic materials and articles to render their surfaces hydrophilic.

このコンディショニングにより、+?iJ記月別および
物品を無電)宵めつきおよび電気めっきして、未処理表
面上へめっきされた金属表面に比べてすぐれた接着性を
もつ金属めっきされた表面を得ることができる。また、
本発明は、本発明の方法により製造された製品に関する
With this conditioning, +? The article can be electroless plated and electroplated to yield a metal plated surface with superior adhesion compared to a metal surface plated onto an untreated surface. Also,
The present invention relates to products manufactured by the method of the present invention.

最近、プラスチックの電気メッキおよび金属被覆は、重
要性か絶えず増大するものとなってきた。
In recent times, electroplating and metallization of plastics has been of ever-increasing importance.

かたく結合した金属被膜を有するプラスチックを製造す
るために、プラスチックを予備処理工程に付し、その間
プラス−ツクの表面はそり、上に被覆された金属表面の
接着性を増大するように処理される。従来、種々の方法
がこのような予備処理工程において使用されてきている
。たとえば、このような先行技術の方法において、プラ
スチックの表面ば三酸化クロム、硫酸および水の混合物
、またはこのような成分およびリン酸の混合物で処理さ
れる。この方法は比較的有効であるが、ある欠点に悩ま
される。たとえば、この方法の効率は処理スべきプラス
チックの型に非常に依存する。したがって、それは狭い
クラスのプラスチックの予備処理における使用に主とし
て制約される。こうして、この方法は広い範囲の購l多
なプラスチックの普遍的な反応性をもたない。
To produce a plastic with a tightly bonded metal coating, the plastic is subjected to a pretreatment step during which the surface of the plastic is warped and treated to increase the adhesion of the overlying metal surface. . In the past, various methods have been used in such pretreatment steps. For example, in such prior art methods, the surface of the plastic is treated with a mixture of chromium trioxide, sulfuric acid and water, or a mixture of such components and phosphoric acid. Although this method is relatively effective, it suffers from certain drawbacks. For example, the efficiency of this method is highly dependent on the type of plastic to be treated. It is therefore primarily restricted to use in the pretreatment of a narrow class of plastics. Thus, this method does not have the universal reactivity of a wide range of commonly purchased plastics.

この方法の他の欠点は、三酸化クロム含有予備処理溶液
中の成分の相対量を前もって決定した、かなり狭い範囲
の濃度に維持しなくてはならないということである。こ
れらの最適量のむパーセントの偏りのみが許される。そ
うでなければ、金属の引き続く化学的析出のとき、プラ
スチック表面は完全には金属により被覆されずおよび/
または被膜全体は十分に高い剥離強さをもたない。さら
に、この既知の方法において、予備処理溶液は、その溶
液中のプラスチックの分解生成物および三価のクロム化
合物の濃度レベルがあるレベルに到達するとすぐに、役
に立たなくなる。こうして、この既知の予備処理を実施
する間、消費される化学物質を絶えず分析的に管理しか
つ投与すること、および分解生成物を絶えず監視するこ
とが必要である。この方法の連続したコントロールは、
その実施をかなり複雑とする。
Another disadvantage of this method is that the relative amounts of the components in the chromium trioxide-containing pretreatment solution must be maintained within a predetermined, fairly narrow range of concentrations. Only percentage deviations within these optimal quantities are allowed. Otherwise, during the subsequent chemical deposition of the metal, the plastic surface will not be completely coated with the metal and/or
Or the entire coating does not have a sufficiently high peel strength. Moreover, in this known method, the pretreatment solution becomes useless as soon as the concentration level of plastic decomposition products and trivalent chromium compounds in the solution reaches a certain level. Thus, while carrying out this known pretreatment, it is necessary to constantly analytically control and administer the chemicals consumed and to constantly monitor the decomposition products. The continuous control of this method is
Makes its implementation quite complex.

この既知の予備処理法のなお他の欠点は、使用する組成
物の廃棄に関連する困難から生ずる。使用した予備処理
組成物を排除するために、六価のクロム化合物を還元し
、次いで還元生成物を中和することが必要である。中相
手順において、大量の大きい体積の水酸化クロムが形成
し、その除去は使用した組成物の廃棄をかなり妨げる。
Still other disadvantages of this known pretreatment method arise from the difficulties associated with the disposal of the compositions used. In order to eliminate the pretreatment composition used, it is necessary to reduce the hexavalent chromium compounds and then neutralize the reduction products. In mesophase procedures, large volumes of chromium hydroxide are formed, the removal of which considerably hinders the disposal of the used composition.

こうして、使用する予備処理組成物の廃案はまたこの方
法の実施を複雑にし、そして時間、資本投下、技術的装
置およびプラントをかなり消費する。
Thus, the waste of the pretreatment composition used also complicates the implementation of the method and consumes considerable time, capital investment, technical equipment and plant.

最近、この方法の予備処理組成物は非常に)111食性
であり、そして予備処理されるプラスチック表面からそ
れを完全に除去するために水で大規模に洗浄することか
必要である。その結果、この方法の時間および費用をさ
らに増大する。
Currently, the pretreatment composition of this method is highly edible and requires extensive washing with water to completely remove it from the plastic surface being pretreated. This further increases the time and expense of this method.

無電解めっきまたは電気めっきされた金属表面の剥離強
さを増大するために、プラスチック表面を予備処理する
他の先行技術の方法は、米国特許第4.039,714
号に開示されている。この方法において、電気めつきず
べきプラスチックの表面を、三酸化イオウを含有する雰
囲気へメ・露することにより予備処理する。この則知の
予(1iii処理法も、いくつかの固有の欠点を有する
。たとえは、三酸化イオウはきわめて毒性の物質であり
、大気中の湿気と反応して憾酸を形成し、これは、きわ
めて腐食性の危険な物質である。こうして、三酸化イオ
ウを使用するとき、人間の皮崩との接触を防止するため
J/(極端な注意を必要と1゛る。さらに、三酸化イオ
ウはある種の有機物質と激しく反応して熱を生成し、そ
の結果この方法を用いろ者に追加の危険を及ぼす。三酸
化イオウの危険な性質は、この方法を用いるために時間
、コストおよび装置を増大させる。最近、硫酸アンモニ
ウム副生物の廃棄を含む三酸化イオウの厄介な紗費のか
かる三酸化イオウのアンモニアの中和も、このエツチン
グ法に固有なものである。
Other prior art methods of pretreating plastic surfaces to increase the peel strength of electroless or electroplated metal surfaces are described in U.S. Pat. No. 4,039,714.
Disclosed in the issue. In this method, the surface of the plastic to be electroplated is pretreated by exposure to an atmosphere containing sulfur trioxide. This well-known method also has some inherent drawbacks. For example, sulfur trioxide is an extremely toxic substance that reacts with atmospheric moisture to form acetic acid, which is an extremely corrosive and dangerous substance.Thus, when using sulfur trioxide, extreme care must be taken to prevent contact with human skin debris.Furthermore, sulfur trioxide Sulfur trioxide reacts violently with some organic materials to produce heat, thereby posing an additional risk to those using this method.The hazardous nature of sulfur trioxide adds to the time, cost, and Recently, the cumbersome and costly neutralization of sulfur trioxide with ammonia, including the disposal of the ammonium sulfate by-product, is also inherent in this etching process.

本発明は、ポリマー材料から構成されたプラスチック表
面へり、C(F電解浴から析出した金属被膜の接着を改
良するために、前記表面を処理する方法に関し、この方
法は、前記表面を有効量のオゾンからなる雰囲気へ暴露
し、次いで前記表面を有効量の「コンディショニング溶
媒」と接触させることからなる。本発明の方法により処
理されたポリマー材料は、無′Fa解めっき法における
ポリマー支持体としてことに・h用である。このような
利料は、予備処理の直後にあるいは予備処理後の任意な
時間に、無電解めっきされて、ポリマー支持体が予備処
理されていない金属被覆プラスチック表面に比べて、例
外的に高い接着性を有する均一に金属被覆されブこプラ
スチック表面を形成する。無電解めっき手順後、普通の
電気めっき技術を用いて追加の金属を、得られた金属め
っき表面上へめっきすることができる。
The present invention relates to a method for treating a plastic surface composed of a polymeric material in order to improve the adhesion of a metal coating deposited from a C(F electrolytic bath), the method comprising: exposure to an atmosphere consisting of ozone and then contacting said surface with an effective amount of a "conditioning solvent".The polymeric material treated by the method of the invention is useful as a polymeric support in a Fa-free deplating process. These benefits can be achieved by electroless plating immediately after pretreatment or at any time after pretreatment, compared to metallized plastic surfaces where the polymer support is not pretreated. After the electroless plating procedure, additional metal is deposited onto the resulting metal-plated surface using conventional electroplating techniques. Can be plated.

従来の三酸化クロムのエツチング法に比べてこのオゾン
のエツチング法の1つの独接の利点は、従来の系におい
て経験する不都合は汚染の可能性を排除することである
。これは5 pprn程度に少ない六価クロムが無電解
ニッケル?t14液を阻害するので、無電解系において
重要である。その上、従来のクロム酸法と異なり、本発
明の方法は、オゾンのエツチング反応が自己停止性であ
るので1発泡プラスチックに対して理想的である。さら
に、拡散効果のため、返泡した部分の表面のみかメゾン
により攻撃され、これにより深い開口したセルの発現は
最小となる。本発明の方法のそれ以上の利点は、7〜1
0回程度に多い水洗を六価クロムのエツチング工程後に
要するクロム系において経験する、種間の排出の問題お
よび不都合な汚染の問題の排除である。
One unique advantage of this ozone etching method over the conventional chromium trioxide etching method is that it eliminates the possibility of contamination, a disadvantage experienced in conventional systems. Is this electroless nickel with only 5 pprn of hexavalent chromium? It is important in electroless systems because it inhibits t14 fluid. Moreover, unlike the conventional chromic acid method, the method of the present invention is ideal for single foam plastics because the ozone etching reaction is self-terminating. Furthermore, due to the diffusion effect, only the surface of the returned bubbles is attacked by the maison, thereby minimizing the development of deep open cells. A further advantage of the method of the invention is that 7-1
Elimination of interspecies emission problems and undesirable contamination problems experienced in chromium systems that require as many as zero water washes after the hexavalent chromium etching step.

本発明に従って予備処理されかつめっきされたこのよう
な月料は、多くの目的に有用である。たとえば、このよ
うな金属めっきされたプラスチックは、EMI/1(F
I遮断用途、装飾の目的および/または保護の目的に使
用できる。また、このように金属めっきされたプラスチ
ックは、印刷回路板の製作においておよびプラスチック
の強度および表面伝導を増大するために使用できる。ま
た本発明は、充実金属部品よりもかなり軽く、しかも金
属の伝導性、金属の表面特性および他の同様な金属特性
を有する。
Such monthly charges pretreated and plated according to the present invention are useful for many purposes. For example, such metal-plated plastics have an EMI/1 (F
Can be used for I-blocking applications, decorative purposes and/or protective purposes. Such metallized plastics can also be used in the fabrication of printed circuit boards and to increase the strength and surface conductivity of plastics. The present invention is also significantly lighter than solid metal parts, yet has the conductivity of a metal, the surface properties of a metal, and other similar metal properties.

本発明の方法は、2つの必須の工程を含む。第1の必須
工8において、予備処理すべきプラスチック相料の表面
を、「有効量のオゾン」を含有する雰囲気へ暴露する。
The method of the invention includes two essential steps. In a first essential step 8, the surface of the plastic phase to be pretreated is exposed to an atmosphere containing an "effective amount of ozone".

ここで使用するとき、「有効量のオゾン」は、プラスチ
ック材料の表面と接触したとき、このような表面をコン
ディショニングし、これにより引き続いて前記表11B
を1有効量のコンディショニング溶媒」←後に定義する
)と接触させ、その表面上に金属を無電解めっきして、
未処理表面上に被覆された金属の接着性に比べて増大し
た接着性を有する金属被膜を形成するために有効である
量である。本発明の範、囲をいかなる方法においても限
定したくないか、オゾンは処理された表面をエツチング
し、これを親水性とする機能をすると信じられる。通常
、暴露雰囲気中のオゾンの重量パーセントが大きくなる
につれて、エツチング度は増大しかつ処理された表面の
親水性は増大すると信じられる。逆に、暴露雰囲気中の
オゾンの量が少なくなると、エツチング度は減少し、か
つ処理された表面の親水q!f件は増大する。
As used herein, "an effective amount of ozone", when in contact with the surface of a plastic material, conditions such surface so that it subsequently conforms to Table 11B above.
contact with an effective amount of a conditioning solvent (as defined below), and electrolessly plate a metal onto the surface thereof,
The amount is effective to form a metal coating with increased adhesion compared to the adhesion of metal coated on an untreated surface. Without wishing to limit the scope of the invention in any way, it is believed that the ozone functions to etch the treated surface, rendering it hydrophilic. Generally, it is believed that as the weight percent of ozone in the exposure atmosphere increases, the degree of etching increases and the hydrophilicity of the treated surface increases. Conversely, as the amount of ozone in the exposure atmosphere decreases, the degree of etching decreases and the hydrophilicity of the treated surface q! The number of f cases increases.

特定の場合において用いられるオゾンの1“+1はある
数の因子、たとえば、暴露温度、オゾンにより攻撃され
る特定のプラスチック月相および暴露期間に依存するで
あろう。こうして、これらのパラメーターの変数は、エ
ツチングの速度および/または程度およびプラスチック
表面の親水特性が変更される程度を大きく増大しあるい
は減少することができ、こうして、これらの操作のパラ
メータが最大とされるかあるいは最小とされるかに依存
して、オゾンの少量または多量を使用できる。しかしな
がら、一般に、好ましい操作のパラメーターを用いると
き、コンディショニングされるプラスチック表面のまわ
りの暴露雰囲気中の気体の合計重量に基づいて、オゾン
の量が少なくとも0. I M量%であるとき、すぐれ
た結果が達成される。本発明の好ましい実施態様におい
て、オゾンの使用量は雰囲気中の気体の合計重量に基づ
いて少なくとも約0.5乗−1fi′%であり、そして
本発明のとくに好ましい実施態様に基づいて、オゾンの
袖は同じ基準で少なくとも約i、o沖、i%である。こ
れらのとくに好ましい実施態様のうちで、オゾンの量が
気体の合計重量に基づいて少なくとも約2.5重量%で
あるものは最も好ましい。
The 1"+1 of ozone used in a particular case will depend on a number of factors, such as the temperature of exposure, the phase of the moon on the particular plastic attacked by the ozone, and the duration of exposure. Thus, the variables in these parameters , the rate and/or extent of etching and the degree to which the hydrophilic properties of the plastic surface are modified can be greatly increased or decreased, thus depending on whether these operating parameters are maximized or minimized. Depending on the condition, smaller or larger amounts of ozone can be used. Generally, however, when using the preferred operating parameters, the amount of ozone will be at least Excellent results are achieved when the amount of ozone is at least about 0.5 -1 fi' based on the total weight of gases in the atmosphere. %, and according to particularly preferred embodiments of the invention, the ozone sleeve is at least about i, o, i% on the same basis. In these particularly preferred embodiments, the amount of ozone is Most preferably at least about 2.5% by weight based on the total weight of.

オゾンの上限のttパーセントは臨界的でないが、10
0%のオゾンからなる雰囲気を用いるとき、最良の結果
が達成されるであろう。17かしながら、オゾン発生の
経済性および/または約6゜重量%より多いオゾンから
構成された雰囲気の発生において固有の困難のため、こ
れより多い量のオゾンから構成される雰−囲気は通常使
用されない。
The upper tt percent of ozone is not critical, but 10
Best results will be achieved when using an atmosphere consisting of 0% ozone. 17 However, because of the economics of ozone generation and/or the inherent difficulties in generating atmospheres composed of more than about 6% ozone by weight, atmospheres composed of greater amounts of ozone are not typically used. Not used.

以上から明らかなように、オゾン含有昼囲気は100%
のオゾンではなく、が゛もしばしば1種またはそれ以上
のキャリヤーガスを含むであろう。
As is clear from the above, the daytime air containing ozone is 100%.
Rather than ozone, it will often also contain one or more carrier gases.

好ましくは、このキャリヤーガスは酸素である。Preferably the carrier gas is oxygen.

しかしながら、他のガス、たとえば、空気、窒素、二酸
化炭素、貴ガス、前記ガスの混合物およびオゾンと非反
応性の要求を満足する仙のガスをこの目的に使用するこ
ともできる。
However, other gases can also be used for this purpose, such as air, nitrogen, carbon dioxide, noble gases, mixtures of said gases and other gases that meet the requirement of non-reactivity with ozone.

プロセス温度は臨界的でなく、そして必要に応じて変え
ることができろが、湿度はコンディショニングされるプ
ラスチック月1のこ太T月3りな岑づ杉を防ぐために十
分に低く、さらに温度はプラスデックの反応の動力学を
オゾンに起こさぜるために好適なほどに十分にiA<あ
るべきである。さらに、過度に高い温度は、オゾンの酸
素へのG’l”4されえないほどに高い逆転を防止また
はff1.1j延−4るために、回避することが好まし
い。これらの相互に作用する現像のため、オゾン化温度
、オゾン濃度および暴露時間の間の関係が存在する。好
ましい条件下で操作するとき、この方法は約−60℃以
下程度に低くかつ約150℃までの温度において、エツ
チングされる特定のプラスチック拐料に依存して、好適
に実施することができる。この方法は通常約45°C〜
約100℃、好ましくは約5o0c〜約90℃の温度に
おいて実施される。
The process temperature is not critical and can be varied as needed, but the humidity is low enough to prevent plastic conditioning from sagging, and the temperature is low enough to prevent plastic conditioning. iA should be sufficiently large to cause ozone to undergo the reaction kinetics of . Furthermore, excessively high temperatures are preferably avoided in order to prevent an unacceptably high inversion of ozone to oxygen or to increase the rate at which these interact. For development, a relationship exists between ozonization temperature, ozone concentration, and exposure time. When operated under preferred conditions, this method etches at temperatures as low as about -60°C or less and up to about 150°C. Depending on the particular plastic material to be used, the method may be suitably carried out at temperatures between about 45°C and 45°C.
It is carried out at a temperature of about 100<0>C, preferably about 50<0>C to about 90<0>C.

プロセス圧力は同材に臨界的でなく、広く変化させるこ
とができる。この方法は減圧、大気圧および過圧におい
て実施できる。ルチャトリエの原理に基づいて、有益な
反応特性は過圧において発生させることができることが
認められる。しかしながら、この方法は通常便宜上大気
圧または自発生圧において実施される。
The process pressure is not critical for the material and can be varied widely. This process can be carried out at reduced, atmospheric and superatmospheric pressures. Based on Le Chatelier's principle, it is recognized that beneficial reaction properties can be generated at overpressure. However, this process is usually conveniently carried out at atmospheric or autogenous pressure.

本発明の方法の第1工程において、プラスチック材料を
オゾン雰囲気に十分な時間暴露させて、このような材料
の表面をエツチングしかつ親水性とし、これによって引
き続いて強塩基で処理しかつ金属をその上に無電解めっ
きしたとき、金属被膜の接着を所望程度に改良する。上
に示したように、暴露の期間はある数の因子、たとえば
、暴露温度、暴露雰囲気中のオゾンのに士な止に依イ目
−るであろう。暴露時間は臨界的で7g <、そして前
述の結果が得られるかぎり広い範囲にわたつ′C変える
ことができる。たとえば、暴露時間はV秒から約24時
間以上まで変化させることかできろ。しかしながら、大
ていの場合において、暴露+1.’7間は好ましい条件
下で約1〜約5秒から約1〜約2時間まで変化し、そし
てこれらの、V−a lljr間は暴露時間の好ましい
範囲を表わ1゛。
In the first step of the method of the invention, plastic materials are exposed to an ozone atmosphere for a sufficient period of time to etch and render the surface of such materials hydrophilic, thereby allowing subsequent treatment with a strong base and removing the metal from its surface. When electroless plated thereon, it improves the adhesion of the metal coating to the desired degree. As indicated above, the duration of exposure will depend on a number of factors, such as the exposure temperature, the presence of ozone in the exposure atmosphere. The exposure time is critical and can be varied over a wide range as long as the aforementioned results are obtained. For example, exposure times could vary from V seconds to about 24 hours or more. However, in most cases, exposure +1. The time range varies from about 1 to about 5 seconds to about 1 to about 2 hours under preferred conditions, and these values represent a preferred range of exposure times.

特定の用途についての暴屍温度および暴露雰囲気中のオ
ゾンの濃度は、本発明の方法に伺されるプラスチック拐
料の種類に依存するでル)ろつ。こうして、特定の用途
についての方法のパラメーターの好ましい組は、特定の
目的に対して表1111の最適なエツチングおよび表面
の親水特性の最適な変化が得られるように、プラスチッ
ク制料の化学的構造および反応性に従って選択される。
The explosion temperature and the concentration of ozone in the exposure atmosphere for a particular application will depend on the type of plastic material used in the process of the present invention. Thus, a preferred set of method parameters for a particular application will be based on the chemical structure of the plastic material and Selected according to reactivity.

本発明の方法における険相に選は、lするプラスチツク
材料は、オゾンと反応しゃすい官能基、好ま′シ<は1
またはそれ以上の不飽和の化学結合を含有する官能基を
含有すべきである。このような拐料は、天然に産出され
るポリマーおよびプラスチックおよび、熱iJ塑性、熱
硬化性およびエラストマーのポリマーであることができ
ろ他の合成ポリマー材料を包含する。
A critical aspect of the process of the invention is that the plastic material has a functional group that does not react with ozone, preferably 1
or more, it should contain functional groups containing unsaturated chemical bonds. Such materials include naturally occurring polymers and plastics and other synthetic polymeric materials which can be thermoplastic, thermosetting and elastomeric polymers.

有用な熱可塑性ポリマーの例は、次のとおりである:ポ
リオレフィン、たとえば高いまたは低い密度のポリエチ
レン、ぼりプロピレン、ポリフルオロエチレン、エチレ
ン−プロピレンコポリマーナト: yN +)サルファ
イド;ポリアセタール;ポリ塩化ビニルおよびポリ塩化
ビニルのコポリマー;ポリ酢酸ビニルなど;ポリスルホ
ン;ポリスチレンおよびアクリロニトリル−ブタジェン
−スチレンコポリマーなど; 、、@リアミド、たとえ
ばポリ(ヘキサメチレンアジパミド)、ポリヵゾロラク
タム、ポリ(ヘキサメチレンアジパミド)、ポリ(ウン
デカミド″′ンなど;ポリフェニレンオキシド;飽和ポ
リエステル、たとえはポリアルカルシンテレフタレート
など;ポリカーボネート;ポリアクリルポリマー、たと
えばポリ(メタクリレート)、ポリアクリル酸、ポリア
クリロニトリルなど;セルロースエステル;およびポリ
ウレタンまたはポリアミドイミド。本発明における使用
に適する有用な熱硬化性ポリマーの例は、フェノール樹
脂;アミノシラスチック;不飽和ポリエステル;ポリエ
ポキシド、およびポリイミドであり、そして有用なエラ
ストマーは天然または合成のゴム、シリコーンゴム、ポ
リウレタンエラストマーなどである。
Examples of useful thermoplastic polymers are: polyolefins such as high or low density polyethylene, polypropylene, polyfluoroethylene, ethylene-propylene copolymers (N +) sulfides; polyacetals; polyvinyl chloride and polystyrene. Copolymers of vinyl chloride; such as polyvinyl acetate; polysulfones; such as polystyrene and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers; polyphenylene oxides; saturated polyesters, such as polyalcalcine terephthalates; polycarbonates; polyacrylic polymers, such as poly(methacrylate), polyacrylic acid, polyacrylonitrile, etc.; cellulose esters; and polyurethanes or polyamides. Imides. Examples of useful thermosetting polymers suitable for use in the present invention are phenolic resins; aminosilastics; unsaturated polyesters; polyepoxides, and polyimides, and useful elastomers include natural or synthetic rubbers, silicone rubbers, Polyurethane elastomer, etc.

本発明の方法における使用において、炭素酸素二重結合
、炭素/炭素三重結合および炭素/炭素二重結合を含有
するポリマーは好ましい。このようなポリマーの例は、
次のとおりである:ナイロン66(ポリ(ヘキサメチレ
ンアジパミド))、ナイロン6(ポリカプロラククム)
など;ポリアセチレン;ポリイソプレン;ブタジェン/
スチレンコポリマー;ポリクロロプレン:不飽和ポリエ
ステル; ABS (アクリロニ) +1ル、ブタジェ
ンおよびスチレンのブロックコポリマー);ポリブタジ
ェン:およびポリエステル、たとえばポリ(エチレンテ
レフタレート)。また、使用に好ましいポリマーは、た
とえば、ポリザルファイト8、ポリアセクール、ポリス
ルホン、ポリフェニレンオキシドなどである。本発明の
方法における使用にとくに好ましいものは、反復炭素/
炭素二重結合を含む、ホモポリマーおよび、ランダム、
ブロックおよび/またはグラフトコポリマー、たとえば
アクリロニトリル−ツクジエン−スチレンコポリマー、
ポリブタジェン、ポリイソプレン、ブタジェン/スチレ
ンコポリマー、不飽和ポリエステル、およびホリマ一連
鎖中に炭素/炭素二重結合を有する同様なプラスチック
およびポリザルファイド、ポリスルホン、ポリアセター
ルおよびポリフェニレンオキシド9である。
Polymers containing carbon-oxygen double bonds, carbon/carbon triple bonds and carbon/carbon double bonds are preferred for use in the method of the invention. Examples of such polymers are
They are: nylon 66 (poly(hexamethylene adipamide)), nylon 6 (polycaprolaccum)
etc; polyacetylene; polyisoprene; butadiene/
Styrene copolymers; polychloroprene: unsaturated polyesters; ABS (acryloni, block copolymers of butadiene and styrene); polybutadiene: and polyesters, such as poly(ethylene terephthalate). Preferred polymers for use are also, for example, polysulfite 8, polyacecool, polysulfone, polyphenylene oxide, and the like. Particularly preferred for use in the method of the invention are repeating carbon/
Homopolymers and random, containing carbon double bonds
block and/or graft copolymers, such as acrylonitrile-tsukudiene-styrene copolymers,
Polybutadiene, polyisoprene, butadiene/styrene copolymers, unsaturated polyesters, and similar plastics with carbon/carbon double bonds in the polymer chain and polysulfides, polysulfones, polyacetals and polyphenylene oxides9.

本発明の方法において用いるオゾン含有雰囲気を生成す
る方法は、臨界的でなく、普通の手順を用いることがで
きる。たとえば、オゾン成分は空気から発生させて、オ
ゾンと空気とから構成された有用な雰囲気を形成できる
。オゾン発生器は小小型の実験室のモデルから非常に大
型の水処理において使用される発生器までのf+Ji々
の大きさで商業的に入手できる。これらの普通の型の発
生器のいずれも、本発明の実施にお(・て使用できろ。
The method of producing the ozone-containing atmosphere used in the method of the invention is not critical and conventional procedures can be used. For example, the ozone component can be generated from air to form a useful atmosphere comprised of ozone and air. Ozone generators are commercially available in sizes ranging from small and compact laboratory models to very large generators used in water treatment. Any of these common types of generators may be used in the practice of the present invention.

オゾン発生器は本発明においてことに有用である。Ozone generators are particularly useful in the present invention.

すなわち、オゾン発生器は必要に応じて答易にスイッチ
を開閉してオゾンを発生することかでき、こうして大量
の過剰のオゾンの発生を防止することができる。オゾン
は長い期間の毒性効果(」、報告されていす、そして0
.1 pprn程1%:に低い濃1.Ll、においてに
おいにより検出できるが、化学物質の大過剰量を生成し
ないことが好ましい。大過剰:什が生成された場合、使
用されないオゾンを二酸化マンガンまたはアルミナで接
触的に1°品゛元して潜在的な汚染の問題を防止するこ
とができる。
That is, the ozone generator can easily open and close the switch to generate ozone as needed, thereby preventing the generation of a large amount of excess ozone. Ozone has been reported to have long-term toxic effects, and 0
.. Concentration as low as 1%: 1 pprn. Although detectable by odor in Ll, it is preferred not to produce large excess amounts of the chemical. Large excess: If a large excess is produced, the unused ozone can be catalytically replaced with manganese dioxide or alumina to prevent potential contamination problems.

本発明の方法の第2の必須工程にj6いて、処理された
プラスチック表面を[イl効、ii−のコンディショニ
ング溶媒」と接触させろ。ここで使用′1−ろとき、「
有効量のコンディショニング溶媒」は、有効量のオゾン
に前もって暴露されたプラスチック表面と接触させたと
き、オゾン/プラスチック分解生成物をオゾン接触表面
から除去して処理された表面を提供することができる量
の溶媒であり、この処理された表面上に、改良さ”1t
だ剥離強さを有する金属皮嘆を普通の無電解めっきを技
術により析出することができる。有用なコンディショニ
ング溶媒の例は、「強塩基」の溶液である。ここで使用
するとき、少なくとも約8、如ましくは少なくとも約1
0のpHを有する水浴液を形成できる塩基である。有用
な塩基の浴液の例は、アルカリ金属おはぴアルカリ土類
金属の水酸化物およびアルコキシド、たとえば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリ
ウムメトキシド8、ナトリウムメトキシド5、および非
金属の水酸化物、たとえば、アンモニウム水酸化物の、
塩基を溶媒和することができかつこのような溶液と非反
応性である溶媒中の溶液である。有用な非反応性溶媒の
例は、水および極性有機溶媒、たとえば酢eエチル、エ
タノール、メタノール、ジメチルホルムアミドゝ、ジメ
チルスルホキシド8などである。本発明のとくに好まし
い実施態様にお(1て、強い無機塩基、たとえば、水酸
化ナト1)ラム、水酸化リチウム、水酸化力1jウム、
水酸化アンモニウムなどの水溶液を用いる。#媒中の塩
基の濃度は、溶媒の合計車量に基づいて、好ましくは少
なくとも約0.001重量%であり、そしてとくに好ま
しい実施態様において、約2〜約3 [] :*<量%
である。これらのと(に好ましい実施態様のうちで、同
じ基準に基づいて約5〜約10軍九1%の塩基含景は最
も好ましい。
In the second essential step of the method of the invention, contact the treated plastic surface with a conditioning solvent. When used here, ``
An effective amount of conditioning solvent is an amount that, when contacted with a plastic surface previously exposed to an effective amount of ozone, is capable of removing ozone/plastic degradation products from the ozone-contacting surface to provide a treated surface. of the solvent, and on this treated surface, an improved
Metallic strips with peel strength can be deposited by conventional electroless plating techniques. An example of a useful conditioning solvent is a solution of a "strong base." As used herein, at least about 8, preferably at least about 1
It is a base that can form a water bath solution with a pH of 0. Examples of useful base baths include hydroxides and alkoxides of alkali metals, alkaline earth metals, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium methoxide, sodium methoxide, and nonmetallic hydroxides, such as ammonium hydroxide,
A solution in a solvent that is capable of solvating the base and is non-reactive with such solutions. Examples of useful non-reactive solvents are water and polar organic solvents such as ethyl acetate, ethanol, methanol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and the like. Particularly preferred embodiments of the invention include (1) strong inorganic bases such as sodium hydroxide, lithium hydroxide, 1jium hydroxide,
Use an aqueous solution such as ammonium hydroxide. The concentration of base in the medium is preferably at least about 0.001% by weight, based on the total amount of solvent, and in particularly preferred embodiments from about 2 to about 3% by weight.
It is. Among these preferred embodiments, a base content of about 5 to about 91% based on the same criteria is most preferred.

本発明の方法に付した後、全屈表面を灯ましくは水洗し
て、処理されたプラスチック表面へ利殖するコンディシ
ョニング溶媒を除去する。次も・で表面を普通の手順に
より無11℃角r(I!/)つきし、次も・で同様に普
通の手段により、′1れ気めっきして、均一な、よく付
着した金、黄銅、力1’ミウム、クロム。
After being subjected to the method of the present invention, the total flexural surface is rinsed with light or water to remove conditioning solvents that may have accreted onto the treated plastic surface. Next, the surface was plated with a 11° angle r (I!/) by the usual procedure, and then the surface was plated with a 11 degree pneumatic plating by the same ordinary means at . Brass, strength 1'mium, chromium.

ニッケルー金、錯、白金、亜鉛ン工どの金属表iru 
1mを[−fるポリマー材料およびポリマー物品を得る
ことができる。
Metal surface such as nickel-gold, complex, platinum, zinc alloy etc.
Polymer materials and articles of 1 m can be obtained.

本発明の方法によって処理され、次いで′畠法で無電解
めっきされ、そして必要に応じて電気めっきされた、ポ
リマー材料は多くの用途を有することができる。たとえ
ば、このようにめっきされた表面は、電子ハウジング上
のEMI/RFIシールドならびに装飾の目−的に使用
できる。また、金属表面は、摩耗などに対する保護被膜
を提供する。
Polymeric materials treated by the method of the invention and then electrolessly plated using the Hatake process and optionally electroplated can have many uses. For example, such plated surfaces can be used for EMI/RFI shielding on electronic housings as well as for decorative purposes. The metal surface also provides a protective coating against wear and the like.

さらに、本発明の方法に従ってめっきされたプラスチッ
ク材料は印刷された回路板の製作できる。
Additionally, plastic materials plated according to the method of the invention can be used to fabricate printed circuit boards.

このような板は、普通の技術により銅などのような金属
をめっきされた平ら1j、、プラスチック板である。
Such plates are flat plastic plates plated with a metal such as copper or the like by conventional techniques.

実施例1−XV アクリロニトリル/ブタジェン/スチレンコポリマーか
ら構成された0、05 raX O,10#lXO,0
02WLのブラックを、ガス入口オリフィスおよびガス
出口オリフィスを個]える21容のガラス樹脂びんへ入
れる。ガラス入口オリフィスへオゾン発生器(Wels
bach Gor、poratt、on 製、間品名W
elsbach Lahoratory 0zonat
or、T’−26型)を取り付ける。約2重量%のオゾ
ンおよび残部の酸を含有する混合物を、オゾン発生器に
より発生させ、約0.0017m/分 の速度で樹脂び
ん中に供給する。各ブラックをオゾン雰囲気に変化する
温度で変化する時間において琴貨する。暴露後、各ブラ
ックを取り出し、一部分をほぼ1重量%の水酸化す) 
IIウム溶液で処理する。
Example 1-XV 0,05 raX O,10#lXO,0 constructed from acrylonitrile/butadiene/styrene copolymer
02WL black into a 21 volume glass resin bottle containing a gas inlet orifice and a gas outlet orifice. Ozone generator (Wels) to glass inlet orifice
Made by Bach Gor, Porat, on, product name: W
elsbach Lahoratory 0zonat
or, T'-26 type). A mixture containing about 2% by weight ozone and the balance acid is generated by an ozone generator and fed into the resin bottle at a speed of about 0.0017 m/min. Each black is heated in an ozone atmosphere at varying temperatures and for varying times. After exposure, each black was removed and a portion was hydroxylated to approximately 1% by weight).
Treat with IIum solution.

表1 ABS(アセトニトリル、ブタジェン スチレンコ、IF +17−)の処理 エツチング前Dエツチング使〕オゾンの処理 温 度■
 あり あり 2 70 ■ なし あり 2 70 ■ あり あり 5 70 ■ なし あり 5 70 ■ あり あり 7 70 ■ あり あり 10 70 ■1 あり あり 2 80 なし あり 2 80 X あり あり 5 80 XI なし あり 5 80 X■ あり あり 7 80 xiu あり あり 10 80 x■ あり あり 15 80 実施例x v −xx■ 実施例1−X IVにおいて予備処理されたブラックの
各々を、次のように無電解めっきするニブラックを活性
他剤溶液(MacDerrnict Inc。
Table 1 ABS (acetonitrile, butadiene styrene, IF +17-) treatment Before etching using D etching] Ozone treatment Temperature ■
Yes Yes 2 70 ■ No Yes 2 70 ■ Yes Yes 5 70 ■ No Yes 5 70 ■ Yes Yes 7 70 ■ Yes Yes 10 70 ■1 Yes Yes 2 80 No Yes 2 80 X Yes Yes 5 80 XI No Yes 5 80 ■ Yes Yes 7 80 xiu Yes Yes 10 80 x ■ Yes Yes 15 80 Example Active agent solution (MacDernict Inc.)

から入手、Macwpltx Activator’ 
Ll−34,/eラジウム、第一スズ、第二スズ、およ
び塩化水素を含有する水溶液)中に28℃で2分間浸漬
し、水中で1分間洗浄する。次いでそれをHO2、塩化
第二スズおよび水の促進剤溶液(Macupl、tx 
D −45Accelerator、 MacDerr
nLcLXnc、)中[50℃において浸漬し、再び1
分間水中で洗浄する。次いで各ブラックを無電解めっき
浴中に入れる。ニッケルめっき浴は、4’40−のエン
プレイド(Enplate) Nz−4i 4A(Ey
+f!AO+zg IルC,)を81のDI水と混合し
、次いで400m1のエンプレイドNi−414B(I
j;+LtAOILg It+、C1) 溶液をかきま
ぜながらゆっくり加えることKよって調製する。得られ
る溶液は塩化ニッケルまたは硫化ニッケル、水酸化アン
モニウム、次亜リン酸ナトリウムおよび水を含有する。
Obtained from Macwpltx Activator'
Ll-34,/e (aqueous solution containing radium, stannous, stannic, and hydrogen chloride) at 28° C. for 2 minutes, and washed in water for 1 minute. It was then treated with an accelerator solution of HO2, stannic chloride and water (Macupl, tx
D-45 Accelerator, MacDerr
nLcLXnc,) [soaked at 50°C and again 1
Wash in water for minutes. Each black is then placed in an electroless plating bath. The nickel plating bath was a 4'40-Enplate Nz-4i 4A (Ey
+f! AO+zg IlC,) was mixed with 81 DI water, then 400 ml of Emplaid Ni-414B (I
j;+LtAOILg It+, C1) Prepared by slowly adding the solution while stirring. The resulting solution contains nickel chloride or nickel sulfide, ammonium hydroxide, sodium hypophosphite and water.

この溶液の7)Hな水酸化アンモニウムで約8.8〜9
に調ffする。ブラックをこの浴中に7〜10分間室温
においてfジαtし、次いで1分間水洗する。次い′で
ブラックをめっきラックに固定し、5%のH2SO4溶
液中に浸漬し、θシ、浄せずに銅めっき浴中に入れる。
This solution's 7)H ammonium hydroxide is about 8.8 to 9
Adjust to ff. The black is left in this bath for 7-10 minutes at room temperature and then washed with water for 1 minute. The black is then fixed on a plating rack, immersed in a 5% H2SO4 solution, and placed in a copper plating bath without cleaning.

銅めっき浴は次のようにして調製する:無水CヵSo、
i (7,5K9)を451の蒸留水中に溶かす。この
沼畝に、1775m/の濃H2So4を加え、次いで1
6m(4の濃HCl3を加える。次いでこの溶液に順次
に300m/!のエンドフライト(FJnthohrt
、 te) CtLi Q 256 W (KntA、
on、e■71.c)、10’mlの10256 L 
(Enthone Inc)を加える。このブラックを
0.06〜005アンばア/鑞2の電流密度で約90分
間めっきする。無電解めっきの間、この溶液をフィルタ
ーを備えろセトニ(Sethco)ポンプにより循)3
?Hさせろ。
A copper plating bath is prepared as follows: anhydrous C/So;
Dissolve i (7,5K9) in 451 distilled water. Add 1775m/concentrated H2So4 to this marsh, then add 1
6 m(4) of concentrated HCl3 is added. This solution is then sequentially injected with 300 m/!
, te) CtLi Q 256 W (KntA,
on, e■71. c), 10'ml of 10256 L
(Enthone Inc). This black is plated for about 90 minutes at a current density of 0.06 to 0.05 amperes/2 of solder. During electroless plating, this solution was circulated by a Sethco pump equipped with a filter.
? Let me have sex.

上の手順を用いて各ブラックを剣”RE lす’i’め
っきした後、各めっき被膜の剥離強さを評価し、結夕1
−を下表■に記載する。
After plating each black using the above procedure, the peel strength of each plating film was evaluated and
− is listed in the table ■ below.

表■ XV I O,45 XVI II O,14 X■ III O,11 X■ IV O,23 XIX V O,11 XX Vl O,23 XXI 〜It O,25 XXII ■ 0.11 XXIII IX O,2ろ XXIvX O,30 XXV XI O,10 XXVI Xll O,25 XX■ X1ll O,30 XX■ XIV O,31 実施例XXIX アクリロニトリル−ブタジェン−スチレンコポリマーか
ら構成されたブラックを、習通の技術により、ブラック
をクロム酸溶液で約7分間66℃の温度において処理す
ることにより、エツチングした。次いでこのプ?ツクを
DI水で洗浄し、中和溶液中に49℃において2分間入
れる。ブラックを再び2分間DI水で洗浄し、実施例X
v〜XN■の手順に従ってめっきした。金属被膜の剥離
強さは約0.64〜約o、426に9/rILであった
Table ■ XV I O, 45 XVI II O, 14 X ■ III O, 11 XXIvX O, 30 XXV XI O, 10 XXVI Xll O, 25 XX■ X1ll O, 30 XX■ was etched by treatment with a chromic acid solution for about 7 minutes at a temperature of 66°C. Next is this pu? Wash the tubes with DI water and place in the neutralizing solution for 2 minutes at 49°C. Wash the black again with DI water for 2 minutes and
Plating was carried out according to the procedure of v~XN■. The peel strength of the metal coating was about 0.64 to about 0.426 to 9/rIL.

実施例XXX −系列の実験を実施して、オゾンで処理後の塩基による
J リマー材料の処理の37i要性をより詳しく明らか
にした。これらの実jlにおいて、ABSプラスチック
から構成された4つのブラックを1重量%のオゾンを含
有する雰囲気に70 ”Cで10分間暴露した。種々の
処理後、名ブラックを実施例XV−XX■ の手順に従
って無電解めっきした。
Example XXX - A series of experiments was carried out to better elucidate the 37i nature of the treatment of J remer material with base after treatment with ozone. In these examples, four blacks constructed from ABS plastic were exposed to an atmosphere containing 1% ozone by weight at 70"C for 10 minutes. After various treatments, the blacks were tested as described in Examples XV-XX■. Electroless plating was performed according to the procedure.

各処理およびめっきにおいて用いた手順および剥離強さ
を下表■に記載する。
The procedures and peel strength used in each treatment and plating are listed in Table 1 below.

表■ ブラックの めっきおよび 1 処理なし めっきされず 2 水 洗 めっきされず 6 1%HGlで洗浄 めっきされず 4 1%NaOHで洗浄 きわめてすぐれためつき、の
剥離強さ 実施例XXX プラスチック材料および他のプロセスのパラメータを適
当に選択して、広範な種類のこのような材料を本発明の
方法に従って処理し、無電解めっきして、剥離強さが増
大した金属めっきされた表面を形成する。これらの例示
的実施態様のプロセスのパラメーターを、下表■に記載
する。
Table ■ Black plating and 1 Not treated Not plated 2 Washed with water Not plated 6 Washed with 1% HGl Not plated 4 Washed with 1% NaOH Very good peel strength and peel strength Examples XXX Plastic materials and other With appropriate selection of process parameters, a wide variety of such materials can be processed and electrolessly plated according to the method of the present invention to form metal plated surfaces with increased peel strength. Process parameters for these exemplary embodiments are listed in Table 1 below.

表■ 重量% オゾン処理 オゾン 温度剥離ポリプロピ””
 10%NH4OH902,060”ポリインプレン 
20%Lt、OH,1803,550”ポリ塩化ビニル
 10%NaOH15,640“ブタジェン/スチレ 
5%KOH200、,885〃ンコポリマー ポリカプロラクタム 60%LLOH2401,010
0〃ポリ(ウンテカミド)5%NHOH360,151
5”ポリブタジェン 25%NαOFi 10 22 
25 ”ABS 15%KOH153,840“ポリツ
タジエン 2%NaOH903,585“ABS 19
%NHoH600,0550“ポリアセチレン 25%
NcLOH100,890“ABS 35%KO)1 
120 .91 110 ”ポリイソプレン 60%N
HO)1 150 1.Ll 121J 〃ポリクロロ
プレン 25%KOH1oo 6.o 15 〃アクリ
ロニトリル/ 1%NαOH504,50”ブタジェン
コポリマー ABS 6%NαOH903,25” ポリシタジエン 2%KOH1204,065“浴液の
残部は水である。
Table ■ Weight % Ozone treatment Ozone Temperature release polypropy
10%NH4OH902,060” polyimprene
20% Lt, OH, 1803,550" polyvinyl chloride 10% NaOH 15,640" butadiene/styrene
5% KOH200, 885 Copolymer Polycaprolactam 60% LLOH2401,010
0〃Poly(untechamide) 5%NHOH360,151
5” Polybutadiene 25%NαOFi 10 22
25 “ABS 15%KOH153,840”Polytutadiene 2%NaOH903,585”ABS 19
%NHoH600,0550"Polyacetylene 25%
NcLOH100,890"ABS 35%KO) 1
120. 91 110” Polyisoprene 60%N
HO) 1 150 1. Ll 121J Polychloroprene 25%KOH1oo 6. o 15 Acrylonitrile/1% NaOH 504,50" Butadiene copolymer ABS 6% NaOH 903,25" Polycitadiene 2% KOH 1204,065" The remainder of the bath liquid is water.

実施例xxx t アクリロニトリル/ブタジェン/スチレンコポリマー 
(Borg WarrLer、 Inc、製および販売
、商品名GycolacIR)KJB) (1)試料ヲ
密閉シタ反応室内ニ入れる。この室は直接接触加熱およ
び循環設備を有する。コポリマーをエツチングできるキ
ャリヤーガスを通過させることかできるガス人口および
出口オリフィスを設ける。この反応において用いるエツ
チング材はオゾンである。オゾンは発4生器(Wels
h、ach Corporatton 製、商品名We
lshαch Gorporatt、oILOzona
tor、T−23型)により生成させる。キャリヤーガ
スは室を辿して約80Dec/分の一定速度で流す。加
熱および循環を開始して、反応温度を所望レベル、たと
えば、90℃に急速に上げる。反応温度が4i(Ii立
されたとき、循環を停止させ、オゾンを導入する。これ
は反応の開始であり、そし1反応器内のオゾンの濃度は
本質的にゼロである。反応は約18分絖ける次いで反応
ガスの循環を再ひ開始し、こうして約2.2重量%の最
終濃度の均質なオゾン券囲気を形成させる。オゾン濃艮
をHC[PCfオゾン・コーJ L/= ショア (O
zone Corp、 ) ;fシアー7ナライザーに
より監視する。反応は約20分の合H1の時間後完結す
る。
Example xxx t Acrylonitrile/butadiene/styrene copolymer
(manufactured and sold by Borg WarrLer, Inc., trade name: Gycolac IR) KJB) (1) Place the sample into a sealed reaction chamber. This chamber has direct contact heating and circulation equipment. A gas port and exit orifice is provided through which a carrier gas capable of etching the copolymer can be passed. The etching agent used in this reaction is ozone. Ozone is produced by a generator (Wels).
h, ach Manufactured by Corporation, product name: We
lshαch Gorporatt, oILOzona
tor, T-23 type). The carrier gas is flowed through the chamber at a constant rate of about 80 Dec/min. Begin heating and cycling to rapidly raise the reaction temperature to the desired level, eg, 90°C. When the reaction temperature reaches 4i (Ii), the circulation is stopped and ozone is introduced. This is the beginning of the reaction, and the concentration of ozone in one reactor is essentially zero. The reaction is approximately 18 The circulation of the reactant gas is then restarted, thus forming a homogeneous ozone atmosphere with a final concentration of about 2.2% by weight. O
Zone Corp, ); Monitored by f Shear 7 Analyzer. The reaction is complete after a time of about 20 minutes of synthesis H1.

オゾン暴露手順に従い、試料を約1亜型%の濃度の籾α
OH水浴液で処理する。
Following the ozone exposure procedure, the sample was exposed to paddy α at a concentration of approximately 1% subtype.
Treat with OH water bath.

引き続く処理は、次に記載する無市岸(めつぎ技術を含
む: 試料を活性他剤溶液(Macwlilex Actvv
atoγD −34,MacDerrntd、 Inc
、 製、パラジウム、第一スズ、第二スズおよび塩化水
素を含イ1f/)水溶i)中に28℃で2分間浸漬し、
1分間水洗オーる。
Subsequent processing involves the Muichigi technique described below:
atoγD-34, MacDerrntd, Inc.
, immersed in an aqueous solution i) containing palladium, stannous, stannic and hydrogen chloride for 2 minutes at 28°C,
Rinse with water for 1 minute.

次いで試料を促進剤溶7fi(Macuρtex Ac
celeratoγD−45,MacDermcd X
nc、製、HC71まひ編体第二ススを含有′1−ろ水
1rlu中に5LI℃で2分間浸漬し、再び1分間水況
′1−る。仄いで試料を無電解めっき浴中に入れる。こ
の銅浴は6 W iii%のエンプレイド(Knpla
t e) Qu、−75Q A (3nthoneIn
c、)、5各重%のエンゾレイトGLL−7508(E
nthone Inc、) 2.25容量%のエンプレ
イドCドア 500(Enthont Inc、) オ
ヨヒ0.5容、t%の67%ホルムアルデヒドゝを混合
することにj−って調製する。試料をこの浴中に15分
間25℃で浸漬し、次いで1分間水洗する。次ぎに、試
料を1.5容量%のエンプレイド440 (Wntho
ne■FLC0)および1容量%の濃f−101から構
成された水浴血中で再活性化゛する。これを25℃で約
5分間で完結し、次いで1分間水洗する。最後釦、試料
を無電解ニッケルめっき浴中に入れる。この浴は6容量
%のニブレイトtb−419A および9容量%のエン
プレイド” −419B (EnthorLeInc、
)を混合することによって調製する。この浴液のpHを
水削化アンモニウムで約8〜8.9に調整1−る。試料
をこの浴に約10分間25℃で浸漬し、次いで1分間水
洗する。
The sample was then soaked in accelerator solution 7fi (Macutex Ac
celeratoγD-45, MacDermcdX
The HC71 paralyzed knitted body manufactured by N.C., Inc. was immersed in 1 rlu of filtrated water containing secondary soot for 2 minutes at 5LI DEG C., and then left in water for 1 minute again. Place the sample into the electroless plating bath while keeping the temperature low. This copper bath contains 6 W iii% Emplaid (Knpla).
te) Qu, -75Q A (3nthoneIn
c, ), 5% by weight each of Enzolate GLL-7508 (E
Enthone Inc.) 2.25% by volume of Enthone C-Door 500 (Enthone Inc.) 0.5 volume of 67% formaldehyde. The sample is immersed in this bath for 15 minutes at 25°C and then rinsed with water for 1 minute. Next, the sample was mixed with 1.5% by volume of Enplaid 440 (Wntho
neFLC0) and 1% by volume of concentrated f-101. This is completed in about 5 minutes at 25°C, and then washed with water for 1 minute. Finally, put the sample into the electroless nickel plating bath. This bath consisted of 6% by volume Niblate tb-419A and 9% by volume Enpraid"-419B (EnthorLeInc,
) is prepared by mixing. The pH of this bath solution is adjusted to about 8 to 8.9 using ammonium water. The sample is immersed in this bath for approximately 10 minutes at 25°C and then rinsed with water for 1 minute.

次いで、試料上の無電解めっきの接着特性を測定する。The adhesion properties of the electroless plating on the sample are then measured.

とくにEMi/HFI用途のためのきびしい接着性試駁
は、めつさされたプラスチックの熱サイクルを含む。こ
れらの試験に2いて、めつきされたプラスチックは、少
なくとも6回の一40°C〜+80℃の温度サイクルに
、ふくれ、割れ、剥離または他の物理的劣化を起こさな
いで耐えなくてはならない。また、−めっきされたプラ
スチックを、定量的テープ剥離試験に伺−4〜。めっき
にレザー刃で十字に切り、接着テープ(ScotchM
agムCTαpg810) を十字にψJつだ表面にし
つかり通用″1−る。このテープを急速にはかし、はが
れためつきの鴛を記録する。許容されうるめつきされた
プラスチックは、この試験に:Jもいて/、i2属がは
がれてはならない。
Severe adhesion testing, particularly for EMi/HFI applications, involves thermal cycling of the plated plastic. Under these tests, the plated plastic must withstand at least six temperature cycles from 140°C to +80°C without blistering, cracking, peeling or other physical deterioration. . Additionally, the plated plastic was subjected to a quantitative tape peel test. Cut the plating crosswise with a razor blade and apply adhesive tape (ScotchM
Apply agmu CTαpg810) crosswise to the surface of the ψJ joint.The tape is peeled off rapidly and any peelings are recorded.Plastics with an acceptable lubricant are tested for this test: J Also, the i2 genus must not come off.

実施例X X X II 実施例XXX I の手順を用い、アク+1 c+ニト
リル/スタジエン/スチレンコポリマー(BorgWa
rntr In、c、 により製作され、セしてB(j
柳CycoLαC■KJB として市販されている)反
復実験試料をオゾンで5分間エツチングし、次いでNα
OHの19′o水溶液で処理1−ろ。引きhいて、無電
解ニッケルめっきと、♂許容されうるめつきされ ・た
プラスチックが得られる。
EXAMPLE X X
Produced by rntr In, c, and set by B(j
A replicate sample (commercially available as Yanagi CycoLαC KJB) was etched in ozone for 5 minutes, then Nα
Treatment with 19'o aqueous solution of OH 1-filter. The result is an electroless nickel plated and acceptable lubricated plastic.

実施例xxxm 実施例XXX Iの手順を用い、ポリスルホン(IJn
t、orLGarbtd、g GorporαttoB
により製作され、そして商標MLnctel■Mとして
市販されている)反復実験試料をオゾンで同様にエツチ
ングし、次いでNaOHの1%水浴液で処理′1−ろ。
Example XXXm Using the procedure of Example XXX I, polysulfone (IJn
t, orLGarbtd, g GorporαttoB
A replicate sample (manufactured by MLnctel M, Inc. and commercially available under the trademark MLnctel M) was similarly etched with ozone and then treated with a 1% water bath of NaOH.

引き続いて、無電解めっきと、許容されう°ろめっきさ
れたプラスチックが得られる。
Subsequently, electroless plating and an acceptable gloss-plated plastic are obtained.

実施例xxxtv 実施例XXX Iの手順を用い、ボリエニレンサルファ
イド(Phtlltps Petrolewm Inc
、により製作され、そして商標Hy、ton■−10と
して市販されている)反復実験試料をオゾンで同様にエ
ツチングし、次いでNαO)lの1%水浴液で処理する
Example XXXtv Using the procedure of Example XXX I, polyenylene sulfide (Phtlltps Petrolewm Inc.
A replicate sample (manufactured by Co., Ltd. and commercially available under the trademark Hy, ton -10) was similarly etched with ozone and then treated with a 1% water bath of NαO)l.

引き続いて、無電解ニッケルめっきと、許容されうるめ
つきされたプラスチックか得られる。
Subsequently, with electroless nickel plating, an acceptable plated plastic is obtained.

実施例xxxv 実施例XXX lの手順を用い、ホルムアルデヒド9の
ホモポリマー(DtbporLt 社により製作され、
そして商標IJtlrLn■として市販されている)反
復実験試料をオゾンで同様にエツチングし1次いでNα
OHの1%水溶液で処理する。引き絖(゛て、無電解ニ
ッケルめっきと、許容されうるめつきされたプラスチッ
クが得られろ。
Example xxxv Using the procedure of Example XXXl, a homopolymer of formaldehyde 9 (manufactured by Dtbpor Lt,
and commercially available under the trade mark IJtlrLn)) were similarly etched with ozone and then Nα
Treat with a 1% aqueous solution of OH. Electroless nickel plating and acceptable wet-plated plastics are obtained.

実施例xxxv+ 実施例XXX Iの手順を用い、トリオキサンとエチレ
ンオキシドとのコポリマー(CelaneseInc、
 により製作され、そして商標Creltton■とし
て市販されている)反復実験試料をメゾンで同様にエツ
チングし、次いで豹α(JHの1%水溶液で処理する。
Example xxxv+ Using the procedure of Example XXX I, a copolymer of trioxane and ethylene oxide (Celanese Inc.
A replicate sample (manufactured by Co., Ltd. and sold under the trademark Crelton ■) was similarly etched with Maison and then treated with a 1% aqueous solution of Leopard α (JH).

引き続いて、無電解ニッケルめっきと、許容されうるめ
つきされたプラスチックが得られる。
Subsequently, electroless nickel plating and an acceptable plated plastic are obtained.

実施例XXX■ 実施例xxx tの手順を用い、ポリフェニレンオキシ
ド9とポリスチレンとのコポリマ〜(Crene?″a
lELec’trtc Xnc、により製作され、そし
て商標Noryl■ 225 として市販されている)
反復実験試料をオゾンで同様にエツチングし、次いでN
αOHの1%水浴液で処理jろ。引き絖い−C1無電解
ニッケルめっきと、許容されうるめつきされたプラスチ
ックが得られる。
Example XXX ■ A copolymer of polyphenylene oxide 9 and polystyrene ~(Crene?''a
(manufactured by IELec'trtc Xnc, and marketed under the trademark Noryl 225)
Repeat samples were similarly etched with ozone and then N
Treat with a 1% water bath solution of αOH. An acceptable plated plastic is obtained with a C1 electroless nickel plating.

実施例XXx■1 1i例XXXIの手順を用い、ポリフェニレンオキシド
9とポリスチレンとのコポリマー(Cten、eral
Electrtc Inc、により製作され、そして商
標Noryl■ 225 として市販されている)反復
実験試料をオゾンで同様にエツチングする。 N17.
OHの1%水溶准による25℃における処理を排除する
。引き続いて、無電解ニッケルめっきと、許容されえな
いめっきされたプラスチックが祷られる。
Example XXXx■1 1i Using the procedure of Example XXXI, a copolymer of polyphenylene oxide 9 and polystyrene (Cten,
A replicate sample (manufactured by Electrtc Inc. and sold under the trademark Noryl 225) is similarly etched with ozone. N17.
Eliminate treatment with 1% aqueous solution of OH at 25°C. Subsequently, electroless nickel plating and unacceptable plated plastics are considered.

実施例XXXIX 実施例XXXIの手順を用い、ポリフェニレンオキシド
とポリスチレンとのコポリマー(CTeneralEl
ectrt、c’ IrLc、により製作され、そして
商標Noγyt■ 225 として市販されている反復
実験試料をオゾンで120℃の一定温度においてエツチ
ングする。オゾン雰囲気の最終m1隻は約1.4車量%
である。NIZOHの1%水浴液による処理を排除する
。引き就いて、無電解ニッケルめっきと、許容されえな
いめっきされたプラスチックがイムられる。
Example XXXIX Using the procedure of Example XXXI, a copolymer of polyphenylene oxide and polystyrene (CTeneralEl
A replicate sample prepared by electrt, c' IrLc, and sold under the trademark Noγyt 225, is etched with ozone at a constant temperature of 120°C. The final m1 ship in ozone atmosphere is approximately 1.4% by car volume.
It is. Eliminate treatment with a 1% water bath of NIZOH. Consequently, electroless nickel plating and non-acceptable plated plastics are imprinted.

実施例XL、一 実施例X X、 X Iの手順を用い、ポリフェニレン
オキシドゝとポリスチレンとのコポリマー((xene
rαLElectric Inc、により製作され、そ
して藺標NoryL■ 225 として市販されている
)反復実験試料をオゾンで75℃の一定温度においてエ
ツチングする。オゾン雰囲気の最終濃)U−は、約2.
4重量%である。N(ZOHの1%水浴液による処理を
排除する。引き続いて、無電解ニッケルめっきと、許容
されえないめっきされたプラスチックか14にられる。
A copolymer of polyphenylene oxide and polystyrene ((xene
Replicate samples (manufactured by RαLE Electric Inc. and commercially available under the trademark NoryL 225) are etched with ozone at a constant temperature of 75°C. The final concentration (U-) of the ozone atmosphere is approximately 2.
It is 4% by weight. Treatment with a 1% water bath of N(ZOH) is excluded. Subsequently, electroless nickel plating and plated plastics are not acceptable.

実施例XLI 実施例XXXIの手順を用い、ポリフェニレンオキシド
とポリスチレンとのコポリマー(CreneralKt
ectτtc Inc、により製作され、そして商標1
i o r y L■ 225 として市販されている
)反復実験試料をオゾンで50℃の一定温度においてエ
ツチングする。オゾン雰囲気の最終纜度は1.f12.
5M量%である。N(ZOHの1%水浴畝による処理を
排除する。引き続いて、無”4L解ニツケルめっきと、
許容されえないめっきされたプラスチックか得られる。
Example XLI Using the procedure of Example XXXI, a copolymer of polyphenylene oxide and polystyrene (CreneralKt
Manufactured by ectτtc Inc, and trademark 1
A replicate sample (commercially available as ior y L 225) is etched with ozone at a constant temperature of 50°C. The final purity of the ozone atmosphere is 1. f12.
The amount is 5M%. Eliminate the treatment with a 1% N (ZOH) water bath.
Unacceptable plated plastic or obtained.

(外4名) 1頁の続き 発 明 者 ブルース・エドワー アメリカ合衆国ニュ
ーヨード・カーラ −ルス・ロード 2645発 明 
者 ゴルドハンブハイφす アメリカ合衆国ニューヨー
サラル・パテル ヤーサイド・レイン 158発明者 
ラストム・ペストン アメリカ合衆国ニューヨージ・ボ
ンチャ オード・ドライブ 23発明者 アダム・ロー
レンス・ アメリカ合衆国ニューヨースコブリンスキー
 ルΦロード(番地なし)り州13918.マーセラス
、フオ ク州13031.カミラス、ファイ ク州13219.サイラカス、ギフ ク州13112.メンフイス、カナ
(4 others) Continued on page 1 Inventor Bruce Edward 2645 Carla Rus Road, New York, USA Invention
Goldhambhai φS United States of America New York Saral Patel Yasaid Lane 158 Inventor
Rustom Peston Boncha Ord Drive, New York, USA 23 Inventor Adam Lawrence 13918 Le Φ Road (no street address), Kobrinski, New York, USA. Marcellus, Huoc 13031. Camillas, Fike 13219. Sairakas, Gifuku 13112. Memphis, Kana

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、天然または合成の樹脂材料を、コンディショニング
して金属の接着を改良し、そして前記コンディショニン
グされた表面上に金属被膜を無電解めっき浴から析出す
ることにより、前記材料を金属めっきする方法において
、前記利刺を有効量のオゾンからなる雰囲気へ暴露し、
次いで有効量のコンディショニング溶媒と接触1−る、
コンディショニング工程を含む、ことを特徴とする方法
。 28 前記月利は、反復上ツマ一単位の少なくとも1つ
の型が炭素/炭素不飽和を含むブロックコポリマーおよ
びグラフトコポリマー類、ポリジフェニレンスルホン類
、ポリアセタール類、ポリフェニレンサルファイド類お
よヒホリフエニレンオキシド類から成る群より選ばれた
プラスチックである、特許請求の範囲第1項記載の方法
。 3、前記ゾロツクコポリマーおよびグラフトコポリマー
中の前記炭素/炭素不飽和は二重結合である、特許請求
の範囲第2項記載の方法。 4、前記プラスチックはA B S 樹脂である、特許
請求の範囲第3項記載の方法。 5、前記材料は、ポリジフェニレンスルホン類、ポリフ
ェニレンサルファイド類、ポリアセタール類およびポリ
フェニレンオキシド類から成る群より選ばれる、特許請
求の範囲第2項記載の方法。 6、前記雰囲気中のオゾンの量は、雰囲気の合計重量に
基づいて少な(とも約o、1m目仕%である、特許請求
の範囲第1項記載の方法。 7、前記量は、少なくとも約0.80411すfl−%
である、特許請求の範囲第6項記載の方法。 8、前記コンディショニング溶媒は、強い無機または有
機の塩基の溶液である、44 rr 請求の1flit
囲第1項記載の方法。 9、−前記塩基は、水酸化す) IJウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウムおよび水lツ化アンモニウムから
成る群より選ばれる、特許請求の範囲第8項記載の方法
。 10.前記溶液中の塩基の濃度は、浴液の合計重量に基
づいて少なくとも約0.51に景%である、特許請求の
範囲第9項記載の方法。
Claims: 1. Conditioning a natural or synthetic resin material to improve metal adhesion and depositing a metal coating on the conditioned surface from an electroless plating bath. In a method of metal plating, exposing the strip to an atmosphere comprising an effective amount of ozone;
then contacting with an effective amount of a conditioning solvent;
A method comprising a conditioning step. 28 Said monthly rate is based on block copolymers and graft copolymers in which at least one type of monomer unit contains carbon/carbon unsaturation, polydiphenylene sulfones, polyacetals, polyphenylene sulfides and hyphophenylene oxides. The method of claim 1, wherein the plastic is selected from the group consisting of: 3. The method of claim 2, wherein the carbon/carbon unsaturation in the Zoroku copolymer and graft copolymer is a double bond. 4. The method according to claim 3, wherein the plastic is an ABS resin. 5. The method according to claim 2, wherein the material is selected from the group consisting of polydiphenylene sulfones, polyphenylene sulfides, polyacetals, and polyphenylene oxides. 6. The method of claim 1, wherein the amount of ozone in the atmosphere is small (approximately 0.1 m scale %) based on the total weight of the atmosphere. 7. The amount is at least about 0.80411 fl-%
The method according to claim 6, wherein the method is: 8. The conditioning solvent is a solution of a strong inorganic or organic base, 1 flit of claim 44
The method described in box 1. 9. The method of claim 8, wherein the base is selected from the group consisting of hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and ammonium hydroxide. 10. 10. The method of claim 9, wherein the concentration of base in the solution is at least about 0.51% based on the total weight of the bath liquid.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250468A (en) * 1987-04-08 1988-10-18 Nippon Ozon Kk Pretreatment of stock before electroless plating
JPH0192377A (en) * 1987-10-02 1989-04-11 Nippon Ozon Kk Pretreatment for electroless plating material
US5468918A (en) * 1992-12-21 1995-11-21 Yazaki Corporation Conductive member for electric circuit and electric circuit body, and method for fabricating them

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