JPS6063785A - Magnetic bubble memory element - Google Patents

Magnetic bubble memory element

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Publication number
JPS6063785A
JPS6063785A JP58171108A JP17110883A JPS6063785A JP S6063785 A JPS6063785 A JP S6063785A JP 58171108 A JP58171108 A JP 58171108A JP 17110883 A JP17110883 A JP 17110883A JP S6063785 A JPS6063785 A JP S6063785A
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JP
Japan
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magnetic bubble
layer
magnetic
film thickness
spacer layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP58171108A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Hiroshima
實 廣島
Masahiro Yanai
雅弘 箭内
Hironori Kondo
裕則 近藤
Mitsuru Sekino
充 関野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6063785A publication Critical patent/JPS6063785A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetic bubble memory element of superhigh density which can stably act by setting the film thickness of the spacer layer to less than the specified value at least in the part of minor loop. CONSTITUTION:In the part of minor loop, a small magnetic bubble transfer route layer 14 having a film thickness of d2 is formed on the ion implantation layer 12. The film thickness of the conventional spacer layer is reduced to 1,000Angstrom or below, namely, the film thickness d1 of the spacer layer 13 is minimized (d1= 0Angstrom ). In other words, the spacer layer 13 is removed. By this condition, the dimension d2 between the magnetic bubble transfer route layer 14 and the ion implantation layer 12 is reduced, and the interaction of the transfer route layer 14 and the magnetic bubble is strengthened. Also by minimizing the film thickness d2, the anti-magnetic field coefficient becomes smaller and the transfer pattern becomes easy to be magnetized by rotation.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気バブルメモリ素子、特に記憶容量子に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to magnetic bubble memory devices, and in particular to storage capacitors.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

第1図は通常用いられている磁気バブルメモリ素子の一
例を示す要部拡大平面図である。同図において、1は情
報を貯えるマイナループ、2は読み出し情報を転送する
リードメジャライン、3は書き込み情報を転送するライ
トメシャライ/、4は磁気バブルを電気信号に変換する
磁気バブル検出器、5は情報をライトメシャライン3上
に書き込む磁気バブル発生器、6はライナループ1上の
情報をリードメジキライン2上に接写するレプリケート
ゲート、Iはライトメシャライン3上の情報とライナル
ープ1中の情報とを入れ替えるスワップゲート、8は外
周部からの不要な磁気バブルの侵入を阻止するためのガ
ードレール、9はこれらの転送回路を外部回路と接続す
るだめのポンディングパッドである。
FIG. 1 is an enlarged plan view of essential parts of an example of a commonly used magnetic bubble memory element. In the figure, 1 is a minor loop that stores information, 2 is a read measure line that transfers read information, 3 is a write measure line that transfers write information, 4 is a magnetic bubble detector that converts magnetic bubbles into electrical signals, and 5 is a magnetic bubble generator that writes information on the write mesh line 3, 6 is a replicate gate that closes up the information on the liner loop 1 onto the read mesh line 2, and I is the information on the write mesh line 3 and the inside of the liner loop 1. 8 is a guardrail for preventing unnecessary magnetic bubbles from entering from the outer periphery, and 9 is a bonding pad for connecting these transfer circuits with external circuits.

また、磁気バブル転送路であるマイナルーブ1゜リード
メジャライン2およびライトメジャラインロイ薄膜バタ
ン10で形成されている。そして、これらのバタン10
を、バタン面内で回転する外部磁界HRで磁化すること
により、移動する磁気バブル吸引磁極を発生し、同図に
おいて回転磁界HRが反時計回υに回転するとき、磁気
バブルは矢印P方向に転送さする。この場合、回転磁界
HRが1回転するとき、磁気バブルはバタン10の1周
期λ分だけ転送されることになる。なお、同図(、)は
ハーフディスクバタン、同図(b)は非対称シェブロン
バタン、同図(C)はワイドギャップバタンと称され、
近年では最も多く採用されている。また、このような転
送方式の磁気バブル転送路は、ハーフロイ駆動方式と称
され、これも一般的に多く採用されている。本発明の磁
気バブルメモリ素子もこの方式である。
Further, it is formed of a minor lube 1° lead measure line 2 and a write measure line Roy thin film batten 10, which are magnetic bubble transfer paths. And these bangs 10
is magnetized by an external magnetic field HR rotating within the batten plane, a moving magnetic bubble attracting magnetic pole is generated. In the figure, when the rotating magnetic field HR rotates counterclockwise υ, the magnetic bubble moves in the direction of arrow P. Transfer. In this case, when the rotating magnetic field HR rotates once, the magnetic bubble is transferred by one period λ of the baton 10. In addition, the figure (,) is called a half disk baton, the figure (b) is called an asymmetric chevron batten, and the figure (C) is called a wide gap batan.
It has been most commonly adopted in recent years. Further, the magnetic bubble transfer path of such a transfer method is called a half-loy drive method, and this is also commonly employed. The magnetic bubble memory element of the present invention also uses this method.

近年、高密度磁気バブルメモリ素子を実現するために、
使用する磁気バブル転送路のバタン周期λが微小化し、
これに用いる磁気バブル径dも小さくなり、現在では1
Mビットの磁気バブルメモリ素子が実用化されている。
In recent years, in order to realize high-density magnetic bubble memory elements,
The bang period λ of the magnetic bubble transfer path used is miniaturized,
The magnetic bubble diameter d used for this has also become smaller and is currently 1
M-bit magnetic bubble memory devices have been put into practical use.

そして、この素子で使用されている磁気バブル径dは約
2μm、マイナループの転送路バタンの周期λは7〜8
μm程度であシ、この場合の記憶密度はIMb/、+2
である。
The magnetic bubble diameter d used in this element is approximately 2 μm, and the period λ of the minor loop transfer path bang is 7 to 8.
In this case, the storage density is IMb/, +2
It is.

最近、記憶密度をさらに高密度化した、いわゆる超高密
度磁気バブルメモリ素子の実現が各分野から要求されて
いる。例えば、使用する磁気バブル径dが1.0〜1.
5μmであり、転送路バタン周期λが4〜6μmの4M
b li磁気バブルメモリ素子実現である。しかしなが
ら、このような超高密度磁気バブルメモリ素子を実現す
る゛ためには、従来の磁気バブルメモリ素子のバタンを
単に比例縮小して形成したのでは、安定に動作する満足
な磁気バブルメモリ素子を得ることができず、葦だ充分
に広いバイアス磁界マージンが得られなかった。
Recently, various fields have been demanding the realization of so-called ultra-high-density magnetic bubble memory devices with even higher storage densities. For example, the magnetic bubble diameter d used is 1.0 to 1.0.
5 μm, and the transfer path slam period λ is 4 to 6 μm.
b li magnetic bubble memory device implementation. However, in order to realize such an ultra-high-density magnetic bubble memory element, it is difficult to form a magnetic bubble memory element that operates stably and satisfactorily by simply proportionally reducing the battens of the conventional magnetic bubble memory element. However, a sufficiently wide bias field margin could not be obtained.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

したがって本発明の目的は、前述した問題をW(決し、
安定に動作できる超高密度の磁気バブルメモリ素子を提
供することにある。
Therefore, it is an object of the present invention to solve the above-mentioned problem by W (never,
An object of the present invention is to provide an ultra-high density magnetic bubble memory element that can operate stably.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

このような目的を達成するために不発りjによる磁気バ
ブルメモリ素子は少なくともアイナループ部のスペーサ
層の膜厚を100OA以下としたものである。
To achieve this purpose, the magnetic bubble memory element based on the non-explosion j has a spacer layer having a film thickness of 100 OA or less at least in the inal loop portion.

一般に磁気バブルメモリ素子の高密度化を行なうために
マイナルーグ部の転送路パタンの周期λを縮小すると、
次のような問題が発生する。すなわち、 (1)マイナループ部の転送路パタンの周期λに反比例
して転送路パタンの反磁界係数が大きくなる。
Generally, in order to increase the density of magnetic bubble memory elements, when the period λ of the transfer path pattern in the minor loop section is reduced,
The following problems occur: That is, (1) the demagnetizing field coefficient of the transfer path pattern increases in inverse proportion to the period λ of the transfer path pattern in the minor loop portion.

(2)磁気バブルを転送するためにパーマロイ転送路パ
ターンを磁化するだめの回転磁界HRの心安強度は反磁
界係数に比例して大きくなる。
(2) The reassuring strength of the rotating magnetic field HR used to magnetize the permalloy transfer path pattern to transfer magnetic bubbles increases in proportion to the demagnetizing field coefficient.

(3)回転磁界HRの強度は、消費′心力の制約から大
きくすることができず、不足する。
(3) The strength of the rotating magnetic field HR cannot be increased due to the restriction of consumed core force, and is therefore insufficient.

(4)この結果、バイアス磁界マージンは転送路バタン
周期λに比例して少なくなる。
(4) As a result, the bias magnetic field margin decreases in proportion to the transfer path slam period λ.

このような問題を解決するためには、転送路の反磁界係
数を小さくすれば良い。しかしなか呟反磁界係数を小さ
くすることは、原理的な制約から限度がある。
In order to solve this problem, it is sufficient to reduce the demagnetizing field coefficient of the transfer path. However, there are limits to reducing the demagnetizing field coefficient due to theoretical constraints.

したがって、以上の問題を解決するために本発明は回転
磁界によって磁化さノまたパーマロイバタンと転送する
磁気バブルとの相互作用を強くしようとするものでアシ
、転送路と磁気バブルとの距 ′離を実質的に零とした
点に特徴がある。
Therefore, in order to solve the above problems, the present invention aims to strengthen the interaction between the permalloybatan and the transferred magnetic bubbles, which are magnetized by a rotating magnetic field. It is distinctive in that it is virtually zero.

第3図は従来の磁気バブルメモリ素子マイナルーブ部の
要部断面構成図である。同図において、11は磁気バブ
ル媒体となるバブル磁性膜、12は磁性膜110表(8
)に打込まれてノ・−トノくプルを抑制するイオン打込
み層、13はイオン打込B’112上に5i02等で形
成されたスペーサ層、14はとのスペーサ層13上にパ
ーマロイ等で形成されたマイナルーグ部の磁気バブル転
送路層、15は転送路14上にS 10.等で形成され
た保護膜層である。
FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram of a main part of a minor lube portion of a conventional magnetic bubble memory element. In the figure, 11 is a bubble magnetic film serving as a magnetic bubble medium, 12 is a magnetic film 110 (8
13 is a spacer layer formed of 5i02 etc. on the ion implanted B'112, 14 is a permalloy etc. layer formed on the spacer layer 13. The magnetic bubble transfer path layer 15 of the formed minor loop portion is formed on the transfer path 14 by S10. This is a protective film layer formed by et al.

この場合、スペーサ層13の膜厚d1は2500A〜6
000 kの範囲で形成され、転送路層14の膜)「ノ
d2〔発明の実施例〕 次に図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
In this case, the film thickness d1 of the spacer layer 13 is 2500A to 6
000 k, and the film of the transfer path layer 14) d2 [Embodiments of the Invention] Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第4図は本発明による磁気バブルメモ!j素子C+−例
を示す前記第3図に相当するマイナループ部の要部断面
構成図であシ、第3図と同一部分は同一記号を付す。同
図において、イオン打込層12上には膜厚d2の小さい
磁気バブル転送路層14が形成されている。すなわち、
@3図に示すスペーサ層13の膜厚d1 を100OA
以下、つまりスペーサ層13の膜厚diを最小(d1=
OA)とした、換言すればスペーサ層13を無くしたも
のである。
Figure 4 shows a magnetic bubble memo according to the present invention! This is a cross-sectional configuration diagram of a main part of a minor loop portion corresponding to the above-mentioned FIG. 3 showing an example of J element C+-, and the same parts as in FIG. 3 are given the same symbols. In the figure, a magnetic bubble transfer path layer 14 having a small thickness d2 is formed on the ion implantation layer 12. That is,
The film thickness d1 of the spacer layer 13 shown in Figure @3 is 100OA.
Below, that is, the film thickness di of the spacer layer 13 is set to the minimum (d1=
OA), in other words, the spacer layer 13 is eliminated.

このような構成によれば、磁気バブル転送路層14とイ
オン打込層12との間の寸法dzが小さくなυ、したが
って磁気バブル転送路RiJ14と磁気バブルとの相互
作用が強化される。また、磁気バブル転送路14の膜厚
d2を小さくすることにより、反磁界係数が小さくなり
、転送バタンか回転により磁化されやすくなる。
According to such a configuration, the dimension dz between the magnetic bubble transfer path layer 14 and the ion implantation layer 12 is small, and therefore the interaction between the magnetic bubble transfer path RiJ14 and the magnetic bubbles is strengthened. Furthermore, by reducing the film thickness d2 of the magnetic bubble transfer path 14, the demagnetizing field coefficient becomes smaller, making it easier to be magnetized by rotation of the transfer button.

第5図は本発明による磁気バブルメモリ素子の実施例の
効果を示す図であり、前述したマイナループ部の磁気バ
ブル転送路層14の膜厚d2を100OAとし、スペー
サ層13の膜厚di を小さくしたときのマイナループ
バブル転送特性のバイアス磁界マージン幅ΔHB(チ)
を実験的にめた結果を示したものである。同図において
、膜厚d1を100OA以下と実質的にdl:oとする
と、充分に大き力ΔHBマージンを得ることができる。
FIG. 5 is a diagram showing the effect of the embodiment of the magnetic bubble memory element according to the present invention, in which the film thickness d2 of the magnetic bubble transfer path layer 14 in the aforementioned minor loop portion is set to 100 OA, and the film thickness di of the spacer layer 13 is made small. Bias magnetic field margin width ΔHB (chi) of the minor loop bubble transfer characteristic when
This shows the results obtained experimentally. In the figure, if the film thickness d1 is set to 100 OA or less, which is substantially dl:o, a sufficiently large force ΔHB margin can be obtained.

なお、膜厚dl=OAの場合はスペーサ層13を無くシ
、省略したことになるので、磁気バブルメモリ素子の製
作プロセスを簡易化できる効果が得られる。
Note that when the film thickness dl=OA, the spacer layer 13 is omitted, so that the manufacturing process of the magnetic bubble memory element can be simplified.

第6図は本発明による磁気バブルメモリ素子の他の実施
例の効果を示す図であり、前述したマイナループ部のス
ペーサ層13の膜厚d !I=OAとし、磁気バブル転
送路層14の膜厚d1 を小さくしたときのマイナルー
プバブル転送特性のバイアス磁界マージン幅ΔHB (
%)を実験的にめた結果を示したものである。同図にお
いて、磁気バブル転送路層14の膜厚d2を2000A
以下とすると、充分に大きなΔHBマージンを得ること
ができる。
FIG. 6 is a diagram showing the effect of another embodiment of the magnetic bubble memory element according to the present invention, in which the film thickness d! of the spacer layer 13 in the aforementioned minor loop portion is ! Bias magnetic field margin width ΔHB (
%) is shown experimentally. In the figure, the film thickness d2 of the magnetic bubble transfer path layer 14 is 2000A.
If it is set below, a sufficiently large ΔHB margin can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、マイナループ部の
スペーサ層膜厚を小さくすることにより、充分に大き汝
ΔHBマージンが得られるので、動作安定性の高い高密
度磁気バブルメモリ素子が得られる。また、スペーサ層
膜厚を小さくするとともに、磁気バブル転送路層膜厚も
同時に小さくすることによって、さらに大きいΔHBマ
ージンが得られるので、動作安定性のさらに高い高密度
磁気バブルメモリ素子が実現可能となるなどの極めて優
れた効果か得られる。
As described above, according to the present invention, by reducing the thickness of the spacer layer in the minor loop portion, a sufficiently large ΔHB margin can be obtained, so that a high-density magnetic bubble memory element with high operational stability can be obtained. Furthermore, by reducing the thickness of the spacer layer and the thickness of the magnetic bubble transfer path layer at the same time, an even larger ΔHB margin can be obtained, making it possible to realize a high-density magnetic bubble memory element with even higher operational stability. You can get extremely excellent effects such as:

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は磁気バブルメモリ素子の一例を示す要部拡大平
面図、第2図(a) 、 (b) 、 (c)は磁気バ
ブル転送路バタン例を示す拡大平面図、第3図は磁気バ
ブルメモリ素子のマイナループ部の要部断面構成図、第
4図は本発明による磁気バブルメモリ素子の一例を示す
マイナループ部の装部断面構成図、第5図、第6図は本
発明による磁気バブルメモリ素子の効果を説明する図で
ある。 1・・・・マイナルーブ、11・・・・磁気バブル磁性
膜、12・・・・イオン打込層、13・・・・スペーサ
層、14・・・・磁気バブル転送路層、15・・・・保
護膜層。 第1図 第2図 第3図 ? □ 第5図 0 1000 2000 3000 4000又々−サ
謹斥d+f入)
Figure 1 is an enlarged plan view of essential parts showing an example of a magnetic bubble memory element, Figures 2 (a), (b), and (c) are enlarged plan views showing examples of magnetic bubble transfer path slams, and Figure 3 is a magnetic FIG. 4 is a cross-sectional diagram of the main part of the minor loop part of the bubble memory element, FIG. 4 is a cross-sectional diagram of the minor loop part showing an example of the magnetic bubble memory element according to the present invention, and FIGS. 5 and 6 are diagrams showing the magnetic bubble according to the present invention. FIG. 3 is a diagram illustrating the effect of a memory element. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Minor lube, 11... Magnetic bubble magnetic film, 12... Ion implantation layer, 13... Spacer layer, 14... Magnetic bubble transfer path layer, 15...・Protective film layer. Figure 1 Figure 2 Figure 3? □ Fig. 5 0 1000 2000 3000 4000 Matata - Sakanjyu d+f included)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、磁気バブル磁性膜の表面にイオン打込層をtb成し
さらにこのイオン打込層上にスペーサ層および磁気バブ
ル転送路層を順次積層形成してなる磁気バブルメモリ素
子において、前記スペーサ層の膜厚を少なくともマイナ
ループ部において100OA以下としたことを特徴とす
る磁気バブルメモリ素子。 2、前記スペーサ層の膜厚を少なくともマイナループ部
において零としたことを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の磁気バブルメモリ素子。 3、前記マイナループ部の磁気バブル転送路層の膜厚を
2000 A以下としたことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の磁気バブルメモリ素子。
[Claims] 1. A magnetic bubble memory element formed by forming an ion implantation layer tb on the surface of a magnetic bubble magnetic film, and further laminating a spacer layer and a magnetic bubble transfer path layer on this ion implantation layer in sequence. 2. A magnetic bubble memory device according to claim 1, wherein the spacer layer has a thickness of 100 OA or less at least in the minor loop portion. 2. Claim 1, characterized in that the thickness of the spacer layer is zero at least in the minor loop portion.
The magnetic bubble memory device described in . 3. The magnetic bubble memory device according to claim 1, wherein the thickness of the magnetic bubble transfer path layer in the minor loop portion is 2000 Å or less.
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