JPS6053989B2 - Crystal defect compensation circuit - Google Patents

Crystal defect compensation circuit

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JPS6053989B2
JPS6053989B2 JP54011771A JP1177179A JPS6053989B2 JP S6053989 B2 JPS6053989 B2 JP S6053989B2 JP 54011771 A JP54011771 A JP 54011771A JP 1177179 A JP1177179 A JP 1177179A JP S6053989 B2 JPS6053989 B2 JP S6053989B2
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crystal defect
bit
signal
output
solid
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  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、撮像素子として、CCD、BBD等の電
荷転送素子を使用した撮像装置に使用して好適な結晶欠
陥補償回路に係り、特に結晶欠陥補償に基づく画像歪を
除去して画質の劣化を防止すると共にIC化に好適な結
晶欠陥補償回路を堤案するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a crystal defect compensation circuit suitable for use in an image pickup device using a charge transfer device such as a CCD or BBD as an image pickup device, and particularly relates to a crystal defect compensation circuit suitable for use in an image pickup device using a charge transfer device such as a CCD or BBD as an image pickup device. The present invention proposes a crystal defect compensation circuit that prevents deterioration of image quality by removing the defects and is suitable for IC implementation.

電荷転送素子として用いられる半導体素子に結晶欠陥
があると、その部分の信号は大レベルのノイズとなるか
ら、この結晶欠陥部分の信号を一般に1ビット (1絵
素)前の信号で補償するようにしている。
If there is a crystal defect in a semiconductor element used as a charge transfer device, the signal in that part will have a large level of noise, so the signal in this part of the crystal defect is generally compensated with a signal 1 bit (one pixel) earlier. I have to.

これは前値ホールド方式の補償回路と官われるものてあ
つて、第1図に示す如く、撮像素子1とサンプリングホ
ールド回路2を有し、さらに撮像素子1のどの部分に結
晶欠陥があるかの欠陥位置信号が記憶されたメモリ素子
を有する制御回路3が設けられ、欠陥位置信号が得られ
たときにはゲート回路4においてサンプリングパルスP
Hが阻止されて1ビット前のサンプリングホールド出力
がそのままホールドされるように構成されているもので
ある。 従つて、この補償動作では以下述べるような補
償後の画像が不完全となる場合がある。
This is known as a compensation circuit of a prior value hold type, and as shown in Fig. 1, it has an image sensor 1 and a sampling and hold circuit 2, and furthermore, it determines which part of the image sensor 1 has a crystal defect. A control circuit 3 having a memory element in which a defect position signal is stored is provided, and when a defect position signal is obtained, a sampling pulse P is generated in a gate circuit 4.
It is configured such that H is blocked and the sampling hold output of one bit before is held as is. Therefore, this compensation operation may result in an incomplete image after compensation as described below.

例えば、第2図Aのような白黒の被写体の場合で、その
境界線上に丁度結晶欠陥Xが対応したときには、補償後
の画像は同図Bのようになつてしまう。これは補償前の
伝送系の遅延時間と補償後の伝送系の遅延時間の不一致
に基づくもので、今補償前の伝送系の入力をs。て出力
をSxとすれば、 Sx■50・・・・・・(1) であるが、補償動作時は信号の伝送系に1ビットの遅延
時間丁をもつた遅延素子が介在されたのと等価になるか
ら、このときの出力SYはとな就このように出力SY中
に含まれるこの象相成分Exp(−jωτ)の存在で、
出力SxとSYとの間には112ビット分の遅延時間差
が生ずる。
For example, in the case of a black and white object as shown in FIG. 2A, if the crystal defect X corresponds exactly to the boundary line, the image after compensation will become as shown in FIG. 2B. This is based on the discrepancy between the delay time of the transmission system before compensation and the delay time of the transmission system after compensation, and now the input of the transmission system before compensation is s. If the output is Sx, then Sx■50... (1) However, during compensation operation, a delay element with a delay time of 1 bit is inserted in the signal transmission system. Since they are equivalent, the output SY at this time is due to the presence of this quadratic component Exp (-jωτ) contained in the output SY,
A delay time difference of 112 bits occurs between the outputs Sx and SY.

この時間差のために上述したような不完全な補償画面と
なるものである。そこで、、この発明では上述のような
時間差が生じないようにして画像歪に基づく画質の劣化
を防止したものである。すなわち、この発明においては
結晶欠陥位置より得られるビット信号を、この結晶欠陥
位置と前後する各ビットより得られたビット信号の平均
値信号、または結晶欠陥のある水平ラインに対して隣り
合う2本の水平ラインの結晶欠陥位置に対応するビット
より得られたビット信号の平均値信号で補間するように
したものである。こうするためには、通常使用するビッ
ト信号は必ず所定時間だけ遅延された信号を使う必要が
あり、その場合の遅延時間は結晶欠陥のあるときに使用
される平均値信号の遅延時間と等しくなり、上述の目的
を達成することができる。
This time difference results in an incomplete compensation screen as described above. Therefore, in the present invention, the above-described time difference is prevented from occurring to prevent deterioration of image quality due to image distortion. That is, in the present invention, the bit signal obtained from the crystal defect position is determined by the average value signal of the bit signals obtained from each bit before and after the crystal defect position, or by two signals adjacent to the horizontal line where the crystal defect exists. Interpolation is performed using the average value signal of the bit signals obtained from the bits corresponding to the crystal defect position of the horizontal line. In order to do this, it is necessary to use a normally used bit signal that is delayed by a predetermined amount of time; in this case, the delay time is equal to the delay time of the average value signal used when there is a crystal defect. , the above objectives can be achieved.

このような遅延時間を考慮した場合には第3図に示すよ
うにも構成することができる。
If such a delay time is taken into consideration, a configuration as shown in FIG. 3 can be adopted.

5は第1の遅延回路で、この例では原出力、すなわちも
とのビット信号S。
5 is a first delay circuit, which in this example outputs the original output, that is, the original bit signal S;

が1ビット分だけ遅延されて出力される。この出力を第
1のビット信号S1とする。6は第2の遅延回路で、も
とのビット信号SOが2ビット分だけ遅延された第2の
ビット信号S2が出力される。
is output after being delayed by one bit. This output is defined as the first bit signal S1. A second delay circuit 6 outputs a second bit signal S2 obtained by delaying the original bit signal SO by two bits.

第2のビット信号S2ともとのビット信号S。The second bit signal S2 and the original bit signal S.

とは合成器7にて合成されると共に、その合成出力.(
SO+S2)が重み付け用の可変抵抗器8に供給されて
平均化される。9はスイッチング回路で、制御回路3の
制御パルスPcによつて切換の制御がなされる。
are synthesized by the synthesizer 7, and the synthesized output . (
SO+S2) is supplied to a weighting variable resistor 8 and averaged. Reference numeral 9 denotes a switching circuit whose switching is controlled by a control pulse Pc from the control circuit 3.

従つて、今もとのビット信号S。Therefore, the original bit signal S.

として第4図A.のものを考え、ビット出力A2とA4
に跨がるビット出力(X印)が結晶欠陥によるビット出
力であるものとすれば、第1のビット信号S1は同図B
であり、第2のビット信号S2は同図Cであるから、平
均値信号S3は同図Dの如くなる。ここで、結晶欠陥が
ない場合、最終的な合成ビット信号STとしては第1の
ビット信号S1が利用される。
As shown in Figure 4A. Considering the bit output A2 and A4
If it is assumed that the bit output (marked with X) that spans is the bit output due to a crystal defect, the first bit signal S1 is
Since the second bit signal S2 is as shown in C in the figure, the average value signal S3 is as shown in D in the figure. Here, if there is no crystal defect, the first bit signal S1 is used as the final composite bit signal ST.

そのため、同図Fに示すように制御パルスPcが得られ
るまでは第1のビット信号S1がそのまま出力されてい
るが、制御パルスPcが得られると、その区間だけスイ
ッチは平均値信号S3側に切換えられるために、合成ビ
ット信号S,は同図Eの如くなる。すなわち、結晶欠陥
のある区間はこの結晶欠陥出力に代えて、この結晶欠陥
ビットと前後するビット出力A2,a4の平均化された
平均値信号S3が出力されるから、結晶欠陥位置の補償
を行なうことができる。さて、第1の遅延回路5の遅延
時間はγであるkから、第1及び第2のビット信号Sl
A,S2は .VJW−ワノとなる。
Therefore, as shown in FIG. Due to the switching, the composite bit signal S, becomes as shown in FIG. That is, in the section where a crystal defect exists, instead of this crystal defect output, an average value signal S3 obtained by averaging the bit outputs A2 and a4 before and after this crystal defect bit is output, so that the crystal defect position is compensated for. be able to. Now, since the delay time of the first delay circuit 5 is k, which is γ, the first and second bit signals Sl
A, S2 is . Become VJW-Wano.

それ故、平均値信号S3はCOsωTは振巾成分であり
、位相成分は(3)式と全く同じである。
Therefore, in the average value signal S3, COsωT is the amplitude component, and the phase component is exactly the same as in equation (3).

すなわち、(5)式の平均値信号S3の遅延時間は第1
のビット信号S1の遅延時間に等しく、第1の遅延回路
5を含んだ伝送系を通過する場合も、平均値回路10を
含んた伝送系を通過する場合も、ビット信号は全く同じ
時間だけ遅延することになる。そのため、第2図Aと全
く同じ撮像状態を想定しても、同図Bのような補償画面
とはならない。このように、結晶欠陥を補償する場合、
上述のように相前後するビットの信号を利用して補間す
ることによつて、第2図Aの場合でも、白と黒の平均し
たレベルで補間され、図Bのような輪部にはならない。
That is, the delay time of the average value signal S3 in equation (5) is the first
The bit signal is delayed by exactly the same amount of time whether it passes through the transmission system including the first delay circuit 5 or the transmission system including the average value circuit 10. I will do it. Therefore, even if the imaging state is exactly the same as that shown in FIG. 2A, the compensation screen as shown in FIG. 2B will not be obtained. In this way, when compensating for crystal defects,
By interpolating using the signals of successive bits as described above, even in the case of Fig. 2 A, the interpolation is performed at the average level of white and black, and the limbus as shown in Fig. B does not occur. .

つまり、なめらかな輪部となる。ところで、第3図に示
す従来例では、その構成がIC化に不向きである。それ
は、第3図に示すような従来の回路を1チップでIC化
する場合には、撮像素子用の基板と同一の基板上に第3
図に示すような回路を構成する必要があり、この場合ス
イッチング回路9が充分高速なものを得ることができな
いなどの理由によりIC化に不向きな構成となつている
からである。
In other words, it becomes a smooth limbus. By the way, in the conventional example shown in FIG. 3, its configuration is not suitable for IC implementation. When a conventional circuit as shown in Fig. 3 is integrated into a single chip, a third circuit is placed on the same substrate as that for the image sensor.
This is because it is necessary to configure a circuit as shown in the figure, and in this case, the switching circuit 9 is not suitable for IC implementation due to reasons such as the inability to obtain a sufficiently high-speed switching circuit 9.

そこで、この発明は上述の目的に加えてIC化に好適な
結晶欠陥補償回路を堤案するものてある。
Therefore, in addition to the above-mentioned object, the present invention proposes a crystal defect compensation circuit suitable for IC implementation.

第5図はその一例の原理的構成を示す系統図であつて、
出力信号路に対し3個のスイッチング回路SWa−SW
cが並列的に接続され、第2及び第3のスイッチング回
路SWb,SWcの出力側には重み付け用の可変抵抗器
12,13が接続される。
FIG. 5 is a system diagram showing the principle configuration of an example,
Three switching circuits SWa-SW for the output signal path
c are connected in parallel, and weighting variable resistors 12 and 13 are connected to the output sides of the second and third switching circuits SWb and SWc.

そして、第2のスイッチング回路SWbを通過し、1/
2の重み付けがなされた第2のビット信号Sbは第1の
遅延回路15で1ビット分だけ遅,延され、その遅延出
力は第1のスイッチング回路SWaを通過した第1のビ
ット信号Saと共に合成器16に供給される。
Then, it passes through the second switching circuit SWb and 1/
The second bit signal Sb weighted by 2 is delayed by one bit in the first delay circuit 15, and its delayed output is combined with the first bit signal Sa passed through the first switching circuit SWa. is supplied to the vessel 16.

この合成出力はさらに第2の遅延回路17で1ビット分
だけ遅延されたのち、第3のスイッチング回μSWcを
通過し、112の重み付けが施された第3合ビット信号
Scと共に合成器18に供給されて、これより求めよう
とする最終的な合成ビット信号STが得られる。なお、
第5図においてSa″,Sb″は第1及び第2のビット
信号Sa,Sbの遅延出力である。さて、今撮像素子1
からのビット信号S。を第6図Aで示すようなものとし
た場合で、ビット出力A4とA6との間のビット出力(
X印)が結晶欠陥ノイズであるときには、制御回路3か
らは同図B〜Dに示すスイッチングパルスPA,PB,
PCが出力されるものとする。従つて、第1のビット信
号Saは結晶欠陥位置に対応したビット出力のみOにな
り、また第2及び第3のビット信号Sb,Scはビット
出力A4,a6のときのみ第2及び第3のスイッチング
回路SWb,SWcがオンするから、同図F,Gに示す
ような出力となる。
This combined output is further delayed by 1 bit in the second delay circuit 17, passes through the third switching circuit μSWc, and is supplied to the combiner 18 together with the third combined bit signal Sc weighted with 112. From this, the desired final composite bit signal ST is obtained. In addition,
In FIG. 5, Sa'' and Sb'' are delayed outputs of the first and second bit signals Sa and Sb. Now, image sensor 1
The bit signal S from . is as shown in FIG. 6A, and the bit output (
When the signal (X mark) is crystal defect noise, the control circuit 3 outputs switching pulses PA, PB,
It is assumed that the PC is output. Therefore, the first bit signal Sa becomes O only when the bit output corresponds to the crystal defect position, and the second and third bit signals Sb and Sc become O only when the bit outputs are A4 and a6. Since the switching circuits SWb and SWc are turned on, the outputs are as shown in F and G in the figure.

そして、第1及び第2の遅延回路15,17の存在で、
1ビット遅延された第1のビット信号Sa″(同図H)
と2ビット遅延された第2のビット信号Sb″(同図1
)とが得られるから、これらビット信号Sa″,Sb″
と第3のビット信号Scとを単に合成すれば、ビット出
力A4と〜の平均値信号(ν(A4+A6))によつて
結晶欠陥部分の信号が補間された同図Jのような合成ビ
ット信号STが得られることになる。第5図に示される
構成は第7図に示すようにIC化される。
And, due to the presence of the first and second delay circuits 15 and 17,
First bit signal Sa″ delayed by 1 bit (H in the same figure)
and the second bit signal Sb″ delayed by 2 bits (Fig. 1
) are obtained, these bit signals Sa″, Sb″
By simply synthesizing and the third bit signal Sc, a composite bit signal as shown in J in the figure is obtained, in which the signal of the crystal defect part is interpolated by the average value signal (ν(A4+A6)) of the bit output A4 and ~. ST will be obtained. The configuration shown in FIG. 5 is converted into an IC as shown in FIG.

すなわち、第7図はこの発明に係る結晶欠陥補償回路の
一例を示す構成図であつて、SRは電荷転送型のシフト
レジスタで、撮像素子1がCCDであるときには、電荷
転送の構造はCCDと同一構造になされる。
That is, FIG. 7 is a block diagram showing an example of the crystal defect compensation circuit according to the present invention, where SR is a charge transfer type shift register, and when the image sensor 1 is a CCD, the structure of the charge transfer is the same as that of the CCD. Made of the same structure.

そして、この1つのシフトレジスタSRで遅延回路15
,17と合成器16,18の働きが付与される。また、
このシフトレジスタSRは3ビットのシフトレジスタと
して構成される。
Then, with this one shift register SR, the delay circuit 15
, 17 and the functions of combiners 16 and 18 are provided. Also,
This shift register SR is configured as a 3-bit shift register.

3ビット目に相当する終段のシフトレジスタSR3に対
応する回路は第5図の合成器18の出力側に位置するが
、第5図には図示されていない。
A circuit corresponding to the final stage shift register SR3 corresponding to the third bit is located on the output side of the synthesizer 18 in FIG. 5, but is not shown in FIG.

そして、このシフトレジスタSRは図のように2相のク
ロックφ1,φ2によつて駆動され、領域C1〜C3は
チャージ領域、T1〜T3はトランスファ領域である。
3ビット用の各レジスタSRl,SR2,SR3の各チ
ャージ領域C1〜C3には入力回路20が設けられる。
As shown in the figure, this shift register SR is driven by two-phase clocks φ1 and φ2, and regions C1 to C3 are charge regions and T1 to T3 are transfer regions.
An input circuit 20 is provided in each charge region C1 to C3 of each register SRl, SR2, and SR3 for 3 bits.

すなわち、図のようにインプットソース部h1〜H3と
インプットゲート部G1〜G3とで入力回路20が形成
され、インプットソース部h1〜し。にはビット信号S
。が共通に供給される。そして、インプットゲート部G
1〜G3は図のように制御用インプットゲート部G,a
−G3aと■インプットゲートGl,〜G3bとで構成
され、制御用インプットゲートGla−G3aには第5
図において示した制御パルスPA−POが供給されて、
ビット信号S。に対する制御が行なわれる。従つて、こ
れら制御用インプットゲートGla−G38は第5図の
スイッチング回路SWa−SWcに相当する。そして、
ビット信号S。
That is, as shown in the figure, an input circuit 20 is formed by input source sections h1 to H3 and input gate sections G1 to G3, and input source sections h1 to h1. has a bit signal S
. is commonly supplied. And input gate section G
1 to G3 are control input gates G and a as shown in the figure.
-G3a and ■input gates Gl, ~G3b, and the control input gate Gla-G3a has a fifth
The control pulses PA-PO shown in the figure are supplied,
Bit signal S. control is performed. Therefore, these control input gates Gla-G38 correspond to switching circuits SWa-SWc in FIG. 5. and,
Bit signal S.

に対する重み付けをする)ために、この例ではインプッ
トゲート部G1〜G3のチャンネル領域が利用される。
すなわち、インプットゲート部G2のチャンネル幅C2
に対し、他のインプットゲート部Gl,G3のチャンネ
ル幅Cl,C3がその1/2に選定される。従つて、重
5み付けの分だけインプットゲート部Gl,G3のチャ
ンネルストッパの領域を拡大すればよい。このようにす
れば、インプットゲート部G2からは第1のビット信号
Saが、インプットゲート部G1からは第2のビット信
号Sbが、そしてインプットOゲート部G3からは第3
のビット信号Scが得られることになる。第1のビット
信号SaレジスタSR3まで転送されると、レジスタS
R2の存在でこれが1ビット遅延され、第2のビット信
号SbがレジスタSR3まで転送されると、レジスタS
Rl,SR2の存在でこれが2ビット分遅延されるから
、この終段のレジスタSR3に第3のビット信号Scを
供給すれば、上述したと同様な合成ビット信号STを得
ることができる。
In this example, the channel regions of the input gate sections G1 to G3 are used to weight the input gates G1 to G3.
That is, the channel width C2 of the input gate section G2
On the other hand, the channel widths Cl and C3 of the other input gate sections G1 and G3 are selected to be 1/2 of that width. Therefore, the area of the channel stopper of the input gate portions Gl and G3 may be expanded by the amount of weighting. In this way, the first bit signal Sa is sent from the input gate section G2, the second bit signal Sb is sent from the input gate section G1, and the third bit signal Sa is sent from the input O gate section G3.
A bit signal Sc of 1 is obtained. When the first bit signal Sa is transferred to the register SR3, the register S
This is delayed by one bit due to the presence of R2, and when the second bit signal Sb is transferred to register SR3, register S
Since this is delayed by 2 bits due to the presence of Rl and SR2, by supplying the third bit signal Sc to this final stage register SR3, a composite bit signal ST similar to that described above can be obtained.

なお、30は出力回路で、0Gはアウトプットゲート、
0Dはアウトプットの拡散領域である。
In addition, 30 is the output circuit, 0G is the output gate,
0D is the output diffusion region.

また、TpはプリチャージパルスPpによつて動作する
プリチャージ用のMOS−FET,TOは出力用のMO
S−FETである。以上説明したように、この発明によ
れば結晶欠陥ノイズの補償前の伝送系の遅延時間と、結
晶欠陥ノイズの補償時の伝送系の遅延時間とを等しくで
きるので、換言するなら相前後するビットの信号を平均
化したもので補間しているから、自然な補償画面を得る
ことができる効果がある。
In addition, Tp is a precharge MOS-FET operated by a precharge pulse Pp, and TO is an output MOSFET.
It is an S-FET. As explained above, according to the present invention, the delay time of the transmission system before compensating for crystal defect noise can be made equal to the delay time of the transmission system when compensating for crystal defect noise. Since interpolation is performed using an averaged signal, it is possible to obtain a natural compensation screen.

そのため、画像歪に基づく画質の劣化を防止することが
できる。そして、第5図に示す原理構成は、シフトレジ
スタSRとして電荷転送素子を使用することによつて、
第7図に示すように極めて簡単にIC化することができ
る。
Therefore, deterioration in image quality due to image distortion can be prevented. The principle configuration shown in FIG. 5 uses a charge transfer element as the shift register SR.
As shown in FIG. 7, it can be extremely easily integrated into an IC.

さらに、電荷転送型のシフトレジスタSRを使用する場
合には、入力加算や重み付け等が極めて容易に実現でき
るために、外部に加算回路や1/2の利得制御回路を設
ける必要が,なく、極めて簡単な構成で平均値補間が実
現できると共に、IC化に極めて好適な結晶欠陥補償回
路を実現できる。すなわち、第3図に示すような従来の
回路を1チップでIC化する場合には、撮像素子用の基
板!と同一の基板上に第3図のような回路を構成する必
要があり、この場合スイッチング回路9が充分高速なも
のを得ることができないなどの理由でIC化には不向き
であるからであり、また外部回路によつて上記目的を達
成しなければならないからである。
Furthermore, when using a charge transfer type shift register SR, input addition, weighting, etc. can be realized extremely easily, so there is no need to provide an external addition circuit or a 1/2 gain control circuit. Mean value interpolation can be realized with a simple configuration, and a crystal defect compensation circuit that is extremely suitable for IC implementation can be realized. In other words, when converting a conventional circuit as shown in FIG. 3 into an IC on one chip, a substrate for an image sensor! It is necessary to construct a circuit as shown in FIG. 3 on the same board as the switching circuit 9, and in this case, it is not suitable for IC implementation because the switching circuit 9 cannot be fast enough. This is also because the above objective must be achieved by an external circuit.

また、シフトレジスタSRの駆動クロックとしては固体
撮像素子(CCDイメージヤー)等に使用するクロック
をそのまま使用できるために、シフトレジスタSR用に
駆動クロック発生源を設け必要がなく、それだけ回路構
成を簡略できる特徴を有する。
In addition, since the clock used for a solid-state image sensor (CCD imager) can be used as the drive clock for the shift register SR, there is no need to provide a drive clock generation source for the shift register SR, which simplifies the circuit configuration. It has the characteristics of being able to

なお、上述した実施例では結晶欠陥ノイズを相前後する
ビット出力の平均値信号で補間するようにしているが、
結晶欠陥の在る水平ライインに対して隣り合う2本の水
平ラインの同一位置にあるビットより得られたビット信
号の平均値信号で補間するようにしても上述したと同様
の効果が得られる。
Note that in the embodiment described above, crystal defect noise is interpolated using the average value signal of successive bit outputs;
The same effect as described above can be obtained even if interpolation is performed using the average value signal of bit signals obtained from bits at the same position in two horizontal lines adjacent to the horizontal line in which the crystal defect exists.

この場合、遅延回路15,17は1Hの遅延時間に選定
されるからシフトレジスタSRは?の遅延量となる。
In this case, since the delay circuits 15 and 17 are selected to have a delay time of 1H, what about the shift register SR? is the amount of delay.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は結晶欠陥補償回路の従来例を示す系統図、第2
図は補償動作の説明に供する図、第3図は従来回路の他
の例を示す系統図、第4図はその動作説明に供する図、
第5図はこの発明の原理的構成を示す系統図、第6図は
その動作説明に供する図、第7図はこの発明に係る結晶
欠陥補償回路の一例を示す第5図の具体的構成の説明図
である。 1は撮像素子、3は制御回路、5,6,15,17は遅
延回路、10は平均値回路、SRはシフトレジスタ、G
1〜G3はインプットゲート部である。
Figure 1 is a system diagram showing a conventional example of a crystal defect compensation circuit;
FIG. 3 is a system diagram showing another example of the conventional circuit; FIG. 4 is a diagram explaining the operation;
FIG. 5 is a system diagram showing the principle configuration of the present invention, FIG. 6 is a diagram for explaining its operation, and FIG. 7 is a diagram showing an example of the crystal defect compensation circuit according to the present invention, showing the specific configuration of FIG. It is an explanatory diagram. 1 is an image sensor, 3 is a control circuit, 5, 6, 15, 17 are delay circuits, 10 is an average value circuit, SR is a shift register, G
1 to G3 are input gate sections.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 半導体素子が水平及び垂直方向にマトクリス状に配
された固体撮像装置の結晶欠陥位置より得られるビット
信号を、この結晶欠陥位置と水平方向に前後する各ビッ
トより得られたビット信号の平均値信号、または上記結
晶欠陥のある水平ラインに対して隣り合う2本の水平ラ
インの上記結晶欠陥位置に対応するビット信号の平均値
信号で補間するようにした固体撮像装置の結晶欠陥補償
回路において、上記固体撮像装置よりの出力信号を第1
、第2及び第3の入力ゲートを介して電荷転送型のシフ
トレジストの3つの異なる第1、第2及び第3の遅延位
置に並列的に供給し、、上記各遅延位置は第1、第2、
第3の順に遅延量が小となされ、かつ第1、第3の入力
ゲートのチャンネル幅を上記第2の入力ゲートのチャン
ネル幅に比し略1/2となるようにし、上記固体撮像装
置の結晶欠陥位置情報に応じて、上記第1、第2及び第
3の入力ゲートを制御し、通常は上記第2の入力ゲート
の出力信号が出力され、結晶欠陥のあるところでは上記
第1及び第3の入力ゲートの出力の平均値出力が出力さ
れるようになされた固体撮像装置の結晶欠陥補償回路。
1 A bit signal obtained from a crystal defect position of a solid-state imaging device in which semiconductor elements are arranged horizontally and vertically in a matrix pattern is calculated as the average value of the bit signals obtained from each bit horizontally before and after this crystal defect position. In a crystal defect compensation circuit for a solid-state imaging device, the crystal defect compensation circuit of a solid-state imaging device performs interpolation using a signal or an average value signal of bit signals corresponding to the crystal defect position of two horizontal lines adjacent to the horizontal line with the crystal defect, The output signal from the solid-state imaging device is
, are supplied in parallel to three different first, second and third delay positions of the charge transfer type shift resist through second and third input gates, and each of the delay positions is connected to the first, second and third delay positions of the charge transfer type shift resist. 2,
The delay amount is made smaller in the third order, and the channel width of the first and third input gates is set to be approximately 1/2 of the channel width of the second input gate, so that the solid-state imaging device The first, second and third input gates are controlled according to the crystal defect position information, and normally the output signal of the second input gate is output, and where there is a crystal defect, the first and third input gates are controlled. A crystal defect compensation circuit for a solid-state imaging device is configured to output an average value of outputs from three input gates.
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