JPS60500104A - Coated media for optical recording and related coating technology - Google Patents

Coated media for optical recording and related coating technology

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JPS60500104A
JPS60500104A JP50042584A JP50042584A JPS60500104A JP S60500104 A JPS60500104 A JP S60500104A JP 50042584 A JP50042584 A JP 50042584A JP 50042584 A JP50042584 A JP 50042584A JP S60500104 A JPS60500104 A JP S60500104A
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coating
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disk
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JP50042584A
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テンプル,マイケル・デイー
メイア,トーマス
ボーリング,ノーマン・エル
ランコート,ジエームズ・デイー
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バロ−ス・コ−ポレ−ション
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 光学記録のためのコートされた媒体と それに関するコーティング技術 本発明は新規な高密度情報記憶媒体に関し、特に光学データ記録に適する記録層 を含む媒体であって記録の特性を高めるためのコーティングと保護オーバコート 手段を有するものに関する。[Detailed description of the invention] coated media for optical recording and Coating technology related to it The present invention relates to a novel high-density information storage medium, and in particular to a recording layer suitable for optical data recording. Coatings and protective overcoats to enhance the recording properties of media containing Relating to something that has the means.

発明の背景 ディジタルデータの光学ストレージは比較的新しい技術であって、特殊な(OD D、”光学ディジタルデータ″)媒体たとえばODDディスクを用いかつ光学技 術を利用するディジタル情報の記憶と再生に関する技術である。類似のものとし て、従来、そのようなデータは今日の高速ディジタルコンピュータにおいて一般 に用いられているテープまたはディスクのような磁気媒体にストアされている。Background of the invention Optical storage of digital data is a relatively new technology and requires specialized (OD D. "Optical Digital Data") Using an ODD disk, for example, and optical technology. It is a technology related to the storage and reproduction of digital information that utilizes digital technology. be similar Traditionally, such data is not commonly used in today's high-speed digital computers. stored on magnetic media such as tape or disk used in

ここで述べられているのはディジタルデータのための感度の良い光学記録媒体を 作成する試みであって、その媒体は酸化または環境による劣化に耐えるものであ って、また感度が改善されかつ寄金を延長することができ、さらに現在のものよ りも製造の手間が簡略化されるものである。What is described here is a sensitive optical recording medium for digital data. An attempt to create a medium that resists oxidation or environmental degradation. Therefore, the sensitivity can be improved and the contribution can be extended, and even more than the current one. This simplifies the manufacturing process.

そのような媒体のための種々のタイプの保護オーバコーティングが、特に゛調整 された媒体″゛に関して技術者達によって提案されてきたくたとえば、゛ダーク ミラー”効果るパ光学情報ストレージ”、5PIE Vol、177.1979 .11.56以下; 13 artoliniによる光学記録媒体のレビューで ある゛光学記憶材料と方法”、5PIE Vol。Various types of protective overcoatings for such media are available, especially for For example, the ideas that have been proposed by engineers regarding the Mirror “Effective optical information storage”, 5PIE Vol. 177.1979 .. 11.56 or less; 13 Artolini's review of optical recording media "Optical Memory Materials and Methods", 5PIE Vol.

123、1977. ’D、2以下; CochranとFerrierによる “リアルタイム高密度データストレージのための金属フィルム中の溶融孔”、  SP IE Proceedings、 August 1977、p、17〜 32:および後述の他の引例を参照)。123, 1977. 'D, 2 or less; according to Cochran and Ferrier “Fused pores in metal films for real-time high-density data storage”, SP IE Proceedings, August 1977, p. 17~ 32: and other references below).

長期の記録保存寿命: 光学データ記憶技術は魅力的である。なぜならばそれは大きな記憶容量の可能性 があるからである。ここで考慮されるような光学データディスクは長期の保存寿 命にわたって情報をストアすることがめられ、その目標はデータ処理(DP)装 置に関する典型的なあるいは最も厳しい動作条件において5〜10年またはそれ 以上である。技術者達はそれを目指して長い間努力してきたが、そのような長期 の寿命は当該技術分野において未だ達成されていない目標である。本発明はその ような保存寿命により適した改良されたODD媒体を目指しており、すなわち特 に゛光学マス(質量)メモリ”やそのような応用に適した媒体であって、改善さ れたオーバコートおよび/またはスペーサ手段に重点が置かれている。Long storage life: Optical data storage technology is attractive. Because it has a large storage capacity This is because there is. Optical data discs, such as those considered here, have a long storage life. The goal is to store information throughout one's life, and the goal is to 5-10 years or more under typical or harshest operating conditions for That's all. Engineers have been striving for this for a long time, but such long-term lifetime remains an unmet goal in the art. The present invention The aim is to create an improved ODD media that is more suitable for shelf life such as It is a medium suitable for ``optical mass memory'' and such applications, and has been improved. Emphasis is placed on overcoat and/or spacer means.

したがってここでの特徴として、我々は好ましい長期の記録保存寿命を示すレコ ードのために新規なスペーサおよび/またはオーバコートの構造と材料の利用を 意図している。すなわち、そのレコードは典型的なりPストレージと使用の間の 酸化または環境による劣化に対して高い抵抗を示すものである。したがって、長 期の保存寿命にわたって記録された情報の゛ロス゛′はほとんどまたは全くなく て′“読出”するのに十分安定な反射能を備えている。そのような実際的な記憶 媒体またはそれに関連するシステムは未だ提供され得ず、特に゛良好な”感度も められる場合は尚更である。本発明はこの目標を目指す手段を示すものである。Therefore, as a feature here, we are looking for records that exhibit a favorable long-term archival life. utilizing novel spacer and/or overcoat structures and materials for Intended. That is, the record typically It exhibits high resistance to oxidation or environmental degradation. Therefore, long There is little or no loss of information recorded over the shelf life of the period. It has a reflectivity that is stable enough to be 'read out'. such a practical memory Media or associated systems have not yet been available, especially those with "good" sensitivity. This is especially true if you are being asked to do so. The present invention represents a means towards this goal.

新規なパスペーサ層”: さらにここでの顕著な態様によれば、スペーサ層(たとえば、そのような“ダー クミラー”構造において)は好ましくは反射体層上に蒸着される″軟質パッド” を含み、その上には次に吸収体く記録)層が重ねられる。このスペーサ層はその ように析出されたフルオロポリマーからなっており、それは意図された読出書込 波長に対して透過性が高く、また反射体層から吸収体層を隔離することによって 良好な熱的かつ機械的絶縁を提供する(さもなくば、通常その反射体は高伝導性 金属であるので、それはヒートシンクとして作用して記録エネルギを吸収体層か ら漏逸させ、その効率を減する)。“New Path Spacer Layer”: Further according to salient aspects herein, a spacer layer (e.g., such a (in a ``cum mirror'' structure) is preferably a ``soft pad'' deposited on the reflector layer. on which an absorbent (recording) layer is then superimposed. This spacer layer It is made of a fluoropolymer precipitated in such a way that it has the intended read and write properties. Highly transparent for wavelengths and by separating the absorber layer from the reflector layer Provide good thermal and mechanical insulation (otherwise the reflector is usually highly conductive) Since it is metal, it acts as a heat sink and transfers the recording energy to the absorber layer. leakage and reduce its efficiency).

したがって、以後にさらに述べられるように、−例として我々はポリテトラフル オロエチレン(PTFE)またはフッ化エチレンプ0ピレンコポリマー(FEP )のような真空蒸着されたフルオロポリマーを好む。Thus, as will be discussed further below - by way of example we Oloethylene (PTFE) or fluorinated ethylene propylene copolymer (FEP) ) prefer vacuum-deposited fluoropolymers.

そのようなスペーサとして硬質シリケートコーティング(酸化シリコンまたは二 酸化シリコン:“溶融シリカ″参照)を指定することはどちらがといえば従来技 術に属する(たとえば、3al1等の米国特許第4,195.312号または第 4,195.313号あるいは第4.216.501号を参照)。しかしながら 、そのような材料はここで設定された熱的かっ機械的目的のすべてを満足するこ とはできない。その1つとして、そのようなシリケートコーティングは容易に熱 を伝えすぎる。たとえば、“低エネルギ記録パルス(約40ナノ秒の中位から低 位の出力)は、単一の1/4波長光学厚さの5io2がAnt反射体上に用いら れるとき、記録することが困難である。この非常に薄いスペーサ層は、明らかに 記録のための熱をあまりに多(散逸させて浪費させる。これを防ぐために、より 分厚いスペーサ層を用いることももちろん可能であるが、分厚いSiO2層は製 造プロセスを複雑化して品位を下げる。それは特にその層が一般に吸収体を拘束 して感度を下げるからであり、また低い反射能を得るバンド幅を狭めるからであ る( J 、Rancourtにょる゛テルルの光学データディスクの設計と作 成”、5PIE Proceedings;Lz−Vスキル>技術における進歩 、Vol、299.1981. p、57参照)さらに、もし数個のよく分離さ れた読出/書込(R/W)波長が用いられるならば、必要な波長の“最小値神に 精密に設定するためにさらに“厚さ”制御がめられるので、スペーサの作成はさ らに複雑となる(光のエネルギを“3重層”の吸収層と効率的に結合させてビッ ト位置の反射能を増大させることによって゛書込″することがめられ、意図され たR/W波長において比較的低い反射能の書込まれていないバックグラウンドが められることに注目)。Hard silicate coatings (silicon oxide or silicon oxide) are used as such spacers. Specifying silicon oxide (see “fused silica”) is more of a conventional technique. (e.g., U.S. Pat. No. 4,195.312 or 4,195.313 or 4.216.501). however , such materials can satisfy all of the thermal and mechanical objectives set here. I can not do such a thing. For one, such silicate coatings are easily exposed to heat. convey too much. For example, a “low-energy recording pulse (approximately 40 nanoseconds) (output of about 100 nm) is achieved when a single 1/4 wavelength optical thickness of 5io2 is used on the Ant reflector. It is difficult to record when This very thin spacer layer is clearly Too much heat for recording (dissipation and waste).To prevent this, more It is of course possible to use a thick spacer layer, but a thick SiO2 layer cannot be manufactured. Complicating the manufacturing process and lowering quality. It is particularly important that the layer generally restrains the absorber. This is because it reduces the sensitivity and narrows the bandwidth for obtaining low reflectivity. (Design and production of tellurium optical data disks by J.Rancourt) 5PIE Proceedings; Lz-V Skills>Advances in Technology , Vol. 299.1981. (See p. 57) Furthermore, if several well-separated If a read/write (R/W) wavelength is used, the “minimum value” of the required wavelength The creation of spacers is difficult because the “thickness” control is required for precise setting. It becomes even more complex (the light energy is efficiently combined with the “triple layer” absorption layer to create a big effect). It is believed and intended to "write" by increasing the reflectivity at the target location. An unwritten background of relatively low reflectivity at the R/W wavelength )

逆に、この教示を利用する単一の“軟質パッド″(たとえば、フルオロポリマー )スペーサは感度に対してほとんど影響せず、またそれは単一の1/4波長であ るので広い反射率最小値(λ)を与え、したがって同時に多くのR/W波長にお いて機能することができる。Conversely, a single "soft pad" (e.g., a fluoropolymer) that takes advantage of this teaching ) The spacer has little effect on the sensitivity, and it is a single quarter wavelength. gives a wide reflectance minimum value (λ) and therefore supports many R/W wavelengths at the same time. and function.

この開示の1つの態様はそのような゛軟質バッド″スペーサ材料の調製と使用を 教示するとともに関連する析出方法を示すことであり、それは特にそのようなO Dディスクな適するものである。より特定的に言えば、それは一般に現在のレー ザ装置を用いる低エネルギ記録のために便利なものλある(たとえば、5〜20 m W/40n 、secパルスのHe−Neレーザによる書込;25MHz級 春照)。One aspect of this disclosure describes the preparation and use of such "soft pad" spacer materials. The purpose of the present invention is to teach and demonstrate related precipitation methods, particularly for such O A D disc is suitable. More specifically, it generally There is a convenient λ for low-energy recording using laser equipment (e.g., 5 to 20 m W/40n , sec pulse He-Ne laser writing; 25MHz class Harusho).

オーバコート;一般: そのように記録されたスポット(゛ピット”)は直径で約1ミクロンになるよう に意図されている。しかし、表面のパ汚れ″(たとえば、油や指紋)または空中 からの埃のような粒子状の汚染物はこの大きさまたはそれより大きく、したがっ て記録された゛ビット”の障害となり得る。たとえば、通常の煙の粒子は約6ミ クロン(6μm、または約240マイクロインチ)の直径である。したがって、 もし1つまたは数個のそのような汚染粒子がちょうどオーバコート上に載ってい れば、それらの粒子は一般に“マスク”として働いて記録された″′ビット”  (データ)を消してしまう。Overcoat; General: The spots (pits) so recorded are approximately 1 micron in diameter. is intended. However, dirt on the surface (e.g. oil or fingerprints) or airborne Particulate contaminants such as dust from For example, normal smoke particles have a particle size of about 6 microns. (6 μm, or approximately 240 microinches) in diameter. therefore, If one or several such contaminant particles just rest on the overcoat. If so, those particles generally act as a “mask” to reduce the recorded “bits” (data) will be erased.

したがって、そのような汚染粒子やすべての汚れ、汚点。Therefore, such pollution particles and all dirt, smudges.

または染をデフォーカスするために、従来、分厚いオーバコーティング層が用い られていた。たとえば、1oo〜180ミクロン厚さのオーダの透明なオーバコ ーティングが施されていた。したがって、そのような保護層の表面上に載ってい る(拭き取られていない)いずれの埃粒子も゛デフォーカス”される。すなわち 、それらの埃は記録されたデータを検知するために用いられる対物レンズの焦点 範囲や光学的照準位置から外されて光学的に゛消失″する。第2の目的として、 そのようなオーバコートは記録層のために機械的な保護を与えかつ取扱い(たと えば、製造中、テスト中、または使用中)などにおける損傷を防がなければなら ない。Traditionally, thick overcoating layers are used to defocus or defocus dyeing. It was getting worse. For example, transparent overcoats on the order of 10 to 180 microns thick. It had been coated. Therefore, resting on the surface of such a protective layer Any dust particles that are removed (not wiped) are 'defocused', i.e. , those dusts are in the focus of the objective lens used to detect the recorded data. It optically "disappears" by being removed from the range or optical aiming position.As a second purpose, Such an overcoat provides mechanical protection and handling protection for the recording layer. damage during manufacturing, testing, or use) must be prevented. do not have.

ところで、ある場合には技術者達は透光性保護オーバコートとして比較的°“硬 質″の材料を提案してきたが、他の場合には“軟質”の材料を提示してきた。た とえば、あるものはエラストーマの外部コートを提示したCGE社にょるS 1 lastic RT V”のようなシリコーンラバー参照:3el1等の米国特 許第4.101 、907号ヲ見に ;ソhによれば成る有機染料のような“拭 き取られ得る”吸収体はs+ 02の゛障壁層”でオーバコートされ、またはサ ッカローズ(蔗糖)または樹脂酸の誘導体の障壁層でオーバコートされて、これ はそのようなシリコーン樹脂でスーパコート(重ねコート)される)。しかし、 軟質で弾力的な(ゴムのような)材料の周知のオーバコーティングは“粘着性″ の露出表面を示す特色があり、それは容易に埃を吸着して保持する。また成る例 においては、そのような“エラストメトリック(弾力的な)パコーティングはな おその下層の吸収体を゛拘束”するようである。さらに、エラストーマは高すぎ る硬化温度を必要とするものがあり、あるいはそれらがもし室温で硬化する場合 には長ずざる時間がかかるであろうし、゛早期硬化”のために加熱されるときそ れらはその3重層に過熱という重大な危険を与える(RTVのようなシリコーン エラストーマは、これらのすべての欠点を示rとともに硬化応力や使用中に多す ぎる湿気の吸収を伴なう)。By the way, in some cases engineers have used relatively hard materials as transparent protective overcoats. In some cases, we have proposed materials with a "high quality" quality, while in other cases we have presented materials with a "soft" quality. For example, some are from CGE, which presented an elastomeric outer coat. silicone rubber such as ``lastic RT V'': US special rubber such as 3el1 No. 4.101, see No. 907; The ``absorber'' that can be scraped is overcoated with a ``barrier layer'' of s+02 or This is overcoated with a barrier layer of sucrose or resin acid derivatives. are supercoated (overcoated) with such silicone resins). but, The well-known overcoating of soft, elastic (rubber-like) materials is “sticky” Features an exposed surface that easily attracts and retains dust. another example In this case, no such “elastomeric coating It seems to "restrict" the underlying absorbent layer.Additionally, the elastomer is too expensive. some require a curing temperature of It will take a considerable amount of time to cure, and when heated for ``early curing,'' They pose a serious risk of overheating to the triple layer (silicone like RTV). Elastomers exhibit all of these drawbacks, as well as being subjected to hardening stresses and excessive stress during use. with excessive moisture absorption).

一方、他の技術者達は吸収層上に直接重ねられる゛硬質”の外部゛封止″オーバ コートを考えた(たとえば、B art。On the other hand, other engineers have developed a ``hard'' external ``seal'' overlay that is layered directly onto the absorbent layer. I thought about the coat (for example, B art.

l ini等による“光学ディスクシステムの出現”、IEEE3 pectr um 、 A ugust 1978を参照;それによれば゛3重層°′構造に おいて5iOzはチタンの吸収体の上下に施されている)。しかし、彼等はその ような硬質のオーバコートがその他の点では受入れ得る記録媒体を実質的に′“ 記録不能″のものとしてしまう点まで記、緑感度を劣化させるようである(おそ ら(そのオーバコートが変形せずに吸収体を押え付けて拘束するからである)こ とを認めざるを得なかった。また、5iOzのような硬質の外部コーティングは 長期間使用するにはあまりに吸収性である(たとえば、水蒸気の吸収)。“The emergence of optical disk systems” by L.ini, etc., IEEE3 pectr. See um, Agust 1978; according to it, it has a ``trilayer'' structure. 5iOz is applied on the top and bottom of the titanium absorber). But they A hard overcoat such as It even goes so far as to make it unrecordable, and it seems to deteriorate the green sensitivity (possibly). (This is because the overcoat presses down and restrains the absorbent body without deforming.) I had to admit that. Additionally, hard external coatings such as 5iOz Too absorbent (e.g. water vapor absorption) for long-term use.

゛硬質/軟質″オーバコート: したがって、この開示のもう1つの態様は前述の欠点のほとんどまたはすべてを 除去するオーバコーティングを提供することである。それは゛軟質バッド′″の 内側の層とパ硬質°′の外側封止層からなる2部のオーバコーティングを提供す ることによって行なわれ、すなわち゛硬質/軟質″オーバコートを備える。軟質 の内層パッドは゛柔らかなりッション″として変形しゃす(かつ圧縮されやすい ものに意図されており、それは隣接する吸収体が書込加熱の間に変形したり移動 したりできるようにし、同時にまた良好な熱絶縁を提供する(非常に低い熱伝導 性;比較的低い比熱〉。簡単に言えば、この゛軟質パッド″は機械的熱的により よく吸収体を隔離し、一方、゛硬質″外層コートは最適な機械的保護を与える( たとえば、蒸気の侵入に対するシール)。もちろん、そのような層はよく接合す るものでなければならず、また意図された読出/書込波長に対して高い透過性の ものでなければならず、さらに用いるのに便利で安価なものが好ましい。“Hard/Soft” overcoat: Accordingly, another aspect of this disclosure overcomes most or all of the aforementioned disadvantages. The objective is to provide an overcoating to be removed. It's a ``soft bad'' Provides a two-part overcoating consisting of an inner layer and a hard outer sealing layer. This is done by having a ``hard/soft'' overcoat. The inner pad is a ``soft cushion'' that deforms (and is easily compressed). It is intended that the adjacent absorber deform or move during burning heating. and at the same time also provide good thermal insulation (very low thermal conductivity) Characteristic: Relatively low specific heat>. Simply put, this "soft pad" is mechanically and thermally It isolates the absorber well, while the “hard” outer coat gives optimal mechanical protection ( For example, a seal against the ingress of steam). Of course, such layers bond well. must be transparent and highly transparent for the intended read/write wavelength. It must be convenient and inexpensive to use.

述べられたように、成るそのような゛軟質パッド″(たとえば、FEPまたはP EFE、後述参照)の機械的特性は“書込加熱”の間における下層の吸収体の動 きゃ変形をよりよく受入れるようである(たとえば、“上のパッド”として;も し軟質材料が“スペーサ”としても用いられる場合は“下のパッド″としても) 。そのような゛軟質パッド”は明らかに吸収体をその周囲の環境から機械的かつ 熱的に分離するので、゛感度″を著しく高め得ることがわかる(たとえば、溶融 シリカのような゛′硬質”オーバコーティングのみを用いて期待されるものより 優れており、すなわち後者のものは成るビットまたは゛ホーノヒ′を゛書込′。As mentioned, such a “soft pad” (e.g. FEP or P The mechanical properties of the EFE (see below) depend on the movement of the underlying absorber during "write heating". It seems to accept deformation better (e.g. as a “top pad”; (If the soft material is also used as a “spacer,” it can also be used as a “bottom pad.”) . Such "soft pads" clearly protect the absorber from its surrounding environment mechanically and It can be seen that 'sensitivity' can be significantly increased due to thermal separation (e.g. melting than would be expected using only a “hard” overcoating such as silica. The latter one is better, that is, the latter one consists of a bit or a ``write''.

するためにより大きなエネルギを必要とする)。゛軟質パッド”はそのような隔 離材として非常に効果的であるので(たとえば吸収体上のSiO□とともに)下 層の゛スペーサ”として用いるだけの場合であってもそれは(たとえばそれをs ; 02スペーサで置換える場合に比べて)感度を高めることがわかった。(requires more energy to do so). ``Soft pad'' Because it is very effective as a material release agent (e.g. with SiO□ on the absorber), Even if it is only used as a “spacer” for layers (e.g. it is ; It was found that the sensitivity was increased (compared to the case of replacing with 02 spacer).

また以下に述べられるように、そのような゛軟質パッド°′コーティングは、好 ましくは吸収体層を析出させるのに用いられたのと本質的に同じ装置を用いて蒸 着フィルムとして付与される(たとえば、共通の装置を用いて関連した引続く析 出ステップによって)。その結果としての便利さや、コストや時間などの節減は 明らかであろう。この特徴に従つて、我々はこれらのがなり厳しい゛軟質パッド ″要件(真空蒸着を含む)のほとんどまたはすべてを満足する好ましい材料の例 である前述のフルオロポリマー(FEPとPTFE)を発見した。そして都合の 良いことに、その同一ノ゛軟質パッドパ材料は吸収体の両側に(すなわち、スペ ーサとオーバコートとして)用いることができる。この代わりに、プラズマ高分 子化された種類のポリマーのたとえばポリエチレンまたはP ary!ene” (商標、ユニオンカーバイド社からバラキシレンとして、米国特許第3..34 2.754号参照)を用いてもよい。好ましくは、゛′軟質パッド″層のそのよ うな蒸着ぼ、吸収体層(および/またはスペーサ層)を析出させるものと同じ装 置を用いて同時に付与される。Also, as discussed below, such ``soft pad'' coatings are preferably by evaporation using essentially the same equipment used to deposit the absorber layer. applied as a fixed film (e.g., associated subsequent analysis using common equipment). (by exit step). The resulting convenience, cost, and time savings are It should be obvious. According to this characteristic, we have made these to be tough ゛soft pads. Examples of preferred materials that meet most or all of the requirements (including vacuum deposition) The aforementioned fluoropolymers (FEP and PTFE) were discovered. and convenient The good thing is that the same soft padding material is on both sides of the absorbent body (i.e. on both sides of the absorbent body). It can be used as a coater and overcoat. Instead of this, plasma polymer Polymers of the agglomerated type, such as polyethylene or Pary! ene” (Trademark, from Union Carbide Company as Baraxylene, U.S. Patent No. 3.34) 2.754) may be used. Preferably, such a “soft pad” layer The same equipment used to deposit the absorber layer (and/or spacer layer) It is given at the same time using the position.

この“軟質パッド′”オーバコート層は好ましくは吸収体層をどのような重ねコ ーティング(特に“軟質パラドパ上に付与される“硬質パ層)がらも熱的かつ機 械的に分離するためのものであり、また下層の吸収体層と都合良く接合しなけれ ばならない。それによって感度が劣化されることがなくかつ吸収体は硬質の“外 層″オーバコーティングから適切に“分離″される。そしてその硬質オーバコー ティングと/またはその上の何らかの応力が吸収体を拘束してそこへのビット形 成に干渉するのを防ぐ。またその゛軟質パッド″オーバコートは使用中に“剥離 ′°シたり湿気の侵入などを防ぐlこめに゛硬質″コートと十分よく接合される 。This “soft pad” overcoat layer preferably overlays the absorbent layer in any manner. coating (particularly a hard paradopa layer applied on a soft paradopa), but also thermally and mechanically for mechanical separation and must be conveniently joined to the underlying absorbent layer. Must be. Sensitivity is not degraded by this, and the absorber is made of a hard “outer”. layer” is properly “separated” from the overcoat and its hard overcoat. ting and/or any stress on it may bind the absorber and cause the bit shape to prevent interference with development. In addition, the "soft pad" overcoat "peels off" during use. It is well bonded with a hard coat to prevent moisture from entering. .

これらの剥離や湿気の侵入などは容易に必要な光学的特性破壊し得る)。そのよ うな有害な効果のいかなるものからも吸収体を保護することは重要なことであっ て、たとえば特に記録や゛ビットスポット″の形成中において変形しかつ/また は変位する吸収体を用いる場合に重要である。吸収体上に直接付与される硬質オ ーバコーティング(たとえば、周知の3i0またはSiO□)がその吸収体層を 拘束して“ビット書込”中のそのような変形や移動を抑制し得ることは技術音速 にとって明らかなことであろう。したがって、それはビット形成と干渉して感度 や記録効率を劣化させて、より多くの書込エネルギが必要となる。また、はとん どの酸化珪素は多くの湿気を吸収し過ぎる。我々は“冷たい″サブストレート上 に蒸着された5i02を用いてこのような問題を経験したが、FEPまたはPT FEのような材料(これらは、同様な条件の下に、比較的“無気孔”のフィルム として析出させることができる)でははるかに問題が少なかった。These peelings, moisture intrusion, etc. can easily destroy the desired optical properties). That's it It is important to protect the absorbent material from any harmful effects such as deformation and/or is important when using a displacing absorber. Hard oil applied directly onto the absorber An absorber coating (e.g., the well-known 3i0 or SiO□) covers the absorber layer. It is possible to restrain such deformation and movement during "bit writing" by restraining the technology. It would be obvious for. Therefore, it interferes with the bit formation and sensitivity This also degrades recording efficiency and requires more writing energy. Also, Haton Which silicon oxide absorbs too much moisture. We are on a “cold” substrate I experienced such problems with 5i02 deposited on FEP or PT Materials such as FE (which under similar conditions can form relatively “porous” films) ) was far less problematic.

したがって、技術音速は前述のタイプの適当な“軟質パッド″がいかに重要かつ 有用であるかを認識するであろうし、特にそれは隣接するOD吸収体層の記録効 率を高めようとする場合に有用である。したがって、この特徴のもう1つの形態 は吸収体層上に゛軟質バッド″コーティングを与えることであって、また可能な 場合には共通の析出技術を用いて行なうことである。関連する特徴の1つはある 場合に吸収体の下に類似の“軟質パッド゛スペーサ層を与えることであって、そ れによって吸収体層を上層や下層から生じる干渉から熱的かつ機械的に隔離でき る。Therefore, the technical speed of sound is determined by the importance of a suitable “soft pad” of the type mentioned above. will find it useful, especially that it improves the recording efficiency of the adjacent OD absorber layer. This is useful when trying to increase the rate. Therefore, another form of this feature is to provide a ``soft pad'' coating on the absorber layer and is also possible. In some cases, common deposition techniques may be used. One of the relevant characteristics is In some cases, providing a similar "soft pad" spacer layer under the absorbent body, This allows the absorber layer to be thermally and mechanically isolated from interference arising from upper and lower layers. Ru.

関連する特徴は、たとえば良好な蒸気障壁1機械的゛カバー″および静電防止表 面として働くように、また表面の汚れを“デフォーカシング″するための必要な 光学的な層を形成するために、この“軟質パッド”の外側に“硬質′。Relevant features include, for example, a good vapor barrier, a mechanical ``cover'' and an antistatic surface. to act as a surface and to “defocus” dirt on the surface. A “hard” layer is placed on the outside of this “soft pad” to form an optical layer.

保護オーバコーティングを重ねることである(すなわ、ち、“′硬質/軟質″オ ーバコート)。layering a protective overcoating (i.e., “hard/soft” overcoating). (Bacote).

上述のものへのもう1つの改良、はくフルオロポリマーの)゛′軟質パッド”を 付与することであって、それは十分に軟らかくて変形しやすく、そして隣接する 吸収体層を機械的に分離してその吸収体層が書込時に自由に゛移動″できるよう にするとともにそれを熱的に隔離する(すなわち、下層の“スペーサパとして、 または被さっている“軟質オーバコート”として、あるいはその両方として機能 する)。Another improvement to the above, a ``soft pad'' of fluoropolymer It should be soft enough and easy to deform, and the adjacent Mechanically separates the absorber layer so that it can move freely during writing. and thermally isolate it (i.e., as a “spacer” in the lower layer) or as a “soft overcoat”, or both. do).

もう1つの改良は成る有機層を用いてそのような゛軟質パッド″のスペーサを備 えることであって、その有機層は下にある反射体層に強力に粘着するようになさ れているとともにその上に重ねられる吸収体層へ幾分具なった強さで粘着するも のである。そして、関連する特徴はそのような゛軟質バッド″のオーバコートを 備えることであって、それは上に重ねられる硬質のオーバコートと比較的しっか りと接合するが下層の吸収体とは異なった強さで接合する。Another improvement is to provide such “soft pad” spacers using an organic layer of The organic layer must adhere strongly to the underlying reflector layer. At the same time, it adheres with some strength to the absorbent layer layered on top of it. It is. And the related feature is such a "soft pad" overcoat. It consists of a hard overcoat and a relatively sturdy one. The absorbent layer is bonded with the absorbent layer, but with a different strength from that of the underlying absorbent layer.

新規な゛硬質″スーパコート: 上述のように、ここでのもう1つの著しい特徴は、上記説明された゛軟質パッド ゛′オーバコートが好ましくは次に適合し得る“硬質”の外側保護層でスーパコ ートされることである。New “Hard” Super Coat: As mentioned above, another notable feature here is the soft padding described above. ``The overcoat is preferably super coated with a ``hard'' outer protective layer that is compatible with It is to be exported.

また、さらに特有の特徴として、新規な″″照射硬化ポリマー″の類がここで記 録保存OD(光学データ)ディスクのためのそのような゛硬質”の外側コーティ ングとして考慮されており、さらにそれに関連する好ましい新規な方法がそのよ うな材料を用いてそのようなディスクをコーティングするために考慮されている 。Additionally, as a more unique feature, a new class of ``irradiation-cured polymers'' is described here. Such “hard” outer coating for archival OD (optical data) discs and preferred novel methods related thereto. are being considered for coating such discs using materials such as .

新規なプレポリマー(lure −polymer )の調製は後に述べられて いる(たとえば、混合物H−1を見よ)。それはそのようなODディスク(長期 の記録保存寿命など)のためのそのような゛硬質″の保護オーバコーティングを 提供することが3図されており、特にそのような゛軟質パッド″オーバコート上 のスーパコートとして意図されている。より具体的に言えば、それは表面の埃な ど(たとえば、6〜8m1l (1/1000インチ)までの大きさ)を゛デフ ォーカス″する助けとなる厚さの゛透明な”コーティング(意図されたR/W波 長において透光性)を提供するように意図されており、さらに機械的干渉または 蒸気の侵入(特に、水、水霧、硫酸塩、Na CL または他の塩化物)に対す る環境障壁を提供するように意図されている。それはむしろ周知のオーバコーテ ィング(たとえば、゛ガラス”)のように働くよう意図されており、良好な機械 的保護を与える。それによってそのディスクは少々押え付けてもよくなるが、そ れは指の爪で引掻くような意識的な切断動作に耐える必要はない(注:そのよう な硬質スーパコーティングがなければ、軟質FEP層は容易に拭き取られ得るも のである)。The preparation of the novel prepolymer is described below. (see, for example, mixture H-1). It is such an OD disk (long term Such a ``hard'' protective overcoating for recordable shelf life etc.) It is shown in Figure 3 that it provides, especially on such "soft pad" overcoat. It is intended as a super coat. More specifically, it is surface dust. (for example, size up to 6 to 8 ml (1/1000 inch)) A thick ``transparent'' coating that helps focus the intended R/W waves. It is intended to provide long-term translucency) and further protect against mechanical interference or Against vapor ingress (especially water, water mist, sulfates, NaCl or other chlorides) It is intended to provide an environmental barrier for It is rather a well-known overcoat. It is intended to work like a piece of glass (e.g. glass) and is protection. This allows the disc to be pressed down a little, but It is not necessary to withstand conscious cutting movements such as fingernail scratching. Without a hard supercoating, the soft FEP layer can be easily wiped off. ).

周知の″゛硬質オーバコーティング: この技術分野の技術音速は類似の保護コーティングのために種々の材料を考えて きた。たどえば、″溶融シリカ″(s+ 02 、またはSi O)のような“ ガラス状″の形態のオーバコートが共通して提案されてきたが、本件の目的(O Dディスクなど)のためにはこれらは失格のようである。たとえば、それらは一 般に多孔質性が高くて湿気を取込みすぎる可能性がある。したがって、それらは 脹れ(SWell)でクラックが入る傾向が強く(特に前述の厳しい温度/湿度 サイクリングテストの下で)、またそのような湿気による汚染は光学的特性を著 しく劣化させる。さらに、それらは必要な真空蒸着に関して最適のものではない (たとえば、数milまたはそれ以上するには非実用的である)。Well-known hard overcoating: The technology in this field of technology considers various materials for similar protective coatings. came. For example, “fused silica” (s+02, or SiO) Overcoats in the form of "vitreous" have been commonly proposed, but for the present purpose (O D disk, etc.), these seem to be disqualified. For example, they are one They are generally highly porous and can trap too much moisture. Therefore, they are There is a strong tendency for cracks to form due to swelling (SWell) (especially in the severe temperature/humidity conditions mentioned above). (under cycling tests), and such moisture contamination can significantly alter the optical properties. cause serious deterioration. Furthermore, they are not optimal with respect to the required vacuum deposition. (eg impractical for a few mils or more).

そのような無機質のオーバコーティングに加えて、技術音速は同様な状況におい て保護オーバコートを与えるための成るいくつかの有機材料を考えた。たとえば 前述のように、成る技術音速はこのためにシリコーンラバーまた番ま類似のエラ ストメリックポリマーを用いることを考えた。たとえば、都合良く!温で硬化し 得る成る種のプラスチックであり、一般にそれらは硬化の間に酢酸のような有害 な汚染物質を遊離させる(または米田特許第4,334,233号の゛プラスチ ックシート”を見よ)。In addition to such inorganic overcoatings, the technology Several organic materials were considered to provide a protective overcoat. for example As mentioned above, the technology consists of silicone rubber and similar elastomers for this purpose. We considered using a stomeric polymer. For example, conveniently! hardens at temperature These are the types of plastics that are obtained and generally they contain harmful substances like acetic acid during curing. liberate contaminants (or the “plastic” method of Yoneda Patent No. 4,334,233). (see "Book Sheet").

同様な意図で、我々は周知のフルオロポリマーを用(することを考えた。しかし 、意図された厚さく6〜3m1l )において、典型的なフルオロポリマーの析 出方法は好まし0ものではない。たとえば、それは一般に多くの溶剤の飛散を必 要とする(後で述べる溶剤の飛散とそれに関連する収縮などに伴なう問題を参照 )。さらに重大なことに、これは全体を強く加熱する(約390℃)硬化加熱を 伴な0、一方、当該ODディスクとそれに関連するコーティング番よ約66℃以 上で耐えるようには意図されて(Xな(1(たとえば、それ以上の温度では有機 軟質FEPオーバコートや吸収体層のようケコーティングは破壊されるであろう し、力箋つ/またはその構成要素は移動したりするであろう)。さらに、そのよ うなポリマーは゛粘着性″で埃を保持しやすい表面を表わし、また当該読出/書 込波長(600〜900ナノメータ)において最適に透光性のものであるとは考 えられていない。With a similar intention, we considered using the well-known fluoropolymers. , an intended thickness of 6 to 3 ml), a typical fluoropolymer analysis The method of output is preferably not zero. For example, it generally requires a lot of solvent splashing. (See the problems with solvent splashing and related shrinkage discussed later.) ). More importantly, this requires intense curing heating (approximately 390°C). 0, while the OD disc and its associated coating number should be above about 66°C. X(1) (e.g., at temperatures above Coatings such as soft FEP overcoats and absorber layers will be destroyed. (and/or its components may move). Furthermore, that Such polymers present a ``sticky'' and dust-retentive surface, and the read/write It is considered that the material is optimally transparent at wavelengths including 600 to 900 nanometers. It has not been achieved.

さらに、そのような硬質保護オーバコートのために考えられたのは種々の“溶剤 ベース″の(溶質を付与された)ポリマーである。しかしながら、これらの乾燥 (硬化)は溶剤の大部分の消散を生じて、問題である大、きな収縮を伴なう。′ したがって、これらの材料は失格のようであって、特に意図された厚さのコーテ ィングのためには不適のようである(また、これらの材料のそのような分厚いコ ーティング中にはおそらく気泡などが形成されるであろう)。さらに考慮された のは“RTV−6” (GE社による)のような種々のパ2部硬化”ポリマーで ある。しかしながら、これらは付与するのが幾分困難であって、一般に比較的高 い粘性を有している(おそらく迅速かつスムーズな付与のために十分軟化させる ように、問題である加熱を必要とする)。また、それらは一般にパ脱ガス”問題 を生じ、さらにそれらの多くは比較的高い温度において比較的ゆっくりと硬化す る(たとえば、約66℃において15分であって、しかもその硬化した材料はし ばしば粘着性の表面を示し、また傷付けられやすくかつ剥離などしやすい)。さ らに、そのような材料は一般にあまりにも短い゛ポットライフ(pot −1i fe)”(1日のオーダ)しか有しておらず、さらに付与において欠点を有して いる。Furthermore, various “solvents” have been considered for such hard protective overcoats. base” (solute-loaded) polymers. However, these dry (curing) results in the dissipation of most of the solvent and is accompanied by large, problematic shrinkage. ′ Therefore, these materials seem to be disqualified, especially for coats of the intended thickness. (Also, such thick coats of these materials bubbles will probably form during the heating process). further considered is a variety of two-part cure polymers such as “RTV-6” (by GE). be. However, these are somewhat difficult to apply and are generally relatively expensive. have a high viscosity (possibly soften enough for quick and smooth application) (as in, they require heating, which is a problem). Also, they generally have “outgassing” problems Furthermore, many of them cure relatively slowly at relatively high temperatures. (e.g. 15 minutes at about 66°C, and the cured material is (often exhibits a sticky surface and is easily scratched and easily peeled off). difference Furthermore, such materials generally have too short a pot life. fe)” (daily order), and also has shortcomings in granting There is.

考慮されたもう1つの種類の保護材料はPVC(塩化ポリビニル)タイプのもの であったが、これらは実用的ではないようである。なぜならば、これらは溶剤を 必要とし、さらにより重大なことはそれらが一般に時間とともに結晶化して、許 容し得ることができない光学的“2色性″を生じるからである。この゛2色性″ は必要な読出/書込ビームの伝達と干渉するであろう(続出/書込レーザビーム は既に偏光などされており、結晶化したオーバコート番よ技術音速が認識するで あろうように明らかに光学的問題を生じるであろう)。当該好ましい照射硬化ア クリルポ1ツマ−【よ前述のような問題を生じないようであり、たとえ(fそれ らは結晶化しなくて゛′2色性”の問題を生じなし)。Another type of protective material considered is of the PVC (polyvinyl chloride) type. However, these do not seem to be practical. This is because they use solvents. and, more importantly, they generally crystallize over time and become less forgiving. This is because it results in optical "dichroism" that cannot be tolerated. This “dichroism” would interfere with the transmission of the required read/write beam (follow-up/write laser beam has already been polarized, and the crystallized overcoat cannot be recognized by the technical speed of sound. (which would obviously cause optical problems). The preferred radiation curing a Kurirupo 1 Tsuma [does not seem to cause the above-mentioned problem, even if it (They do not crystallize and do not cause the problem of ``dichroism'').

゛硬質オーバコート″のための好ましい材料:結果として、前述の種類の化学的 コーティング(よ望ましいものではない。゛照射硬化゛′型のアク1)Jレタイ ブのポ1ツマ−を用いて成る試みがなされた(アクlノルモノマー、または種々 の添加剤を含むプレポリマー混合物;後で議論される“混合物H−1”に類似し たもの)。幾分驚きで【まあるが、そのようなオーバコートは適切に付与される とき(たとえば、後で述べる゛スパイラル”技術参照;適当な゛セツティング界 面粘性材″と適当な゛溶媒平坦イヒ″などを用いる伊前述の要件を(もしすべて でなくても(まとんと)満たすことができ、一方、他の材料番よそのように満足 し得るものではなさそうである。したがって、この開示のもう1つの目的はその ような光学データディスクのための゛硬質゛′保護オーバコートとしてそのよう な照射硬化ポ1Jマー(特にアクリル系)の利用を教示し、さらにそれらをm& !して付与する関連した方法を教示することである。Preferred materials for “hard overcoats”: As a result, chemical Coating (not very desirable. ``Irradiation hardening'' type coating 1) J-retai Attempts have been made to use monomers such as acryl-normonomers, or various a prepolymer mixture containing additives; similar to “mixture H-1” discussed later ). I was somewhat surprised [but such an overcoat is properly granted] (see, for example, the ``Spiral'' technique described below; appropriate ``Setting Fields'') The above-mentioned requirements (if all It can be satisfied even if it is not (Matonto), while other material numbers can be satisfied as well. It doesn't seem possible. Therefore, another purpose of this disclosure is that Such as ``hard'' protective overcoat for optical data disks such as teaches the use of radiation-curable polymers (especially acrylics), and further develops them into m& ! The purpose is to teach related methods of applying

以下に詳述するように、好ましし)種類の硬質コート材料じ照射硬化ポリマー″ )は多くの゛アクlルモノマー″からなっている(または、゛ブレボIJマー″ 、すなわちさらに高分子化されるオリゴマーまたは樹脂;特に主要成分が適当な アクリレートまたはアクリルアミドの場合)。好ましい処方箋(混合物日−1) は、適当なアクIJ Jレエポキサイドとアクリルアクリレートとともにアク1 ル一ト架橋体および関連するアクリレート希釈剤とフォトイニシエータを含み、 さらに好ましくは所定の″セツティング界面活性材″を含む。また、その混合物 の小部分くたとえ(ま、10%)が1つまたはそれ以上の添加剤からなってし1 てもよい(好ましくはUV高分子化に参加する有機物、たとえGfスチレンまた は類似のビニルエーテル)。As detailed below, the preferred hard coat material is a radiation-cured polymer of ) is made up of many ``acrylic monomers'' (or ``brevo IJ mer'') , i.e. oligomers or resins to be further polymerized; especially if the main components are suitable for acrylates or acrylamides). Preferred prescription (mixture day -1) is a suitable Acrylic IJ J-repoxide and acrylic acrylate. comprising a fluorine crosslinker and an associated acrylate diluent and photoinitiator; More preferably, a predetermined "setting surfactant" is included. Also, the mixture A small portion (well, 10%) of the compound consists of one or more additives. (preferably organic substances that participate in UV polymerization, such as Gf styrene or is a similar vinyl ether).

そのようなアクリルはいくつかの理由、?+Xら非常に適切であることが明らか である。すなわち、それら【よ゛′収縮性溶剤″のような問題の成分を多くは含 んでおらず、またそれらは問題の硬化条件(たとえば過度の加熱)を必要としな い。それらはめられる特性を有する最終的な“″硬質″高分子オーバコートを付 与するのに特に適しているようである。Some reason why such acrylic? It is clear that +X et al. are very appropriate. It is. In other words, many of them contain problematic ingredients such as “shrinking solvents.” and they do not require problematic curing conditions (e.g. excessive heat). stomach. They are fitted with a final “hard” polymeric overcoat that has properties that allow them to be fitted. It seems particularly suitable for giving.

また、そのような゛″アクリル照射硬化ポリマー″【ま請求められる“硬質オー バコート″のその他の要件の【よとんどすべてを満足することが認識されよう。In addition, such “acrylic radiation-cured polymers” (also called “hard optical polymers”) It will be recognized that almost all of the other requirements of "Bacote" are satisfied.

すなわち、それらは容易には結晶化せず、それらは多量の溶剤成分を含まずある いはそれに関連する収縮の問題がなく、それら(よ過度の加熱を必要とせずに迅 速かつ都合良く硬化し、さらにそれらは付与するのが比較的容易である(たとえ ば、低粘性モノマー溶液として)。それらは通常の環境物質による腐蝕や劣化に 対する抵抗において特に優れているようであり、すなわちそれらは゛粘着性”ま たは埃を吸着しやすいものではなくて、また゛2部硬化″と異なってそれらは広 範囲かつ種々の添加剤と適合する(たとえば、後述の例で見られるように、それ らの硬化は添加材によって影響されない)。That is, they do not crystallize easily and they do not contain significant solvent components. or without the shrinkage problems associated with them Curing quickly and conveniently, they are also relatively easy to apply (e.g. e.g., as a low viscosity monomer solution). They are susceptible to corrosion and deterioration due to normal environmental substances. They appear to be particularly good in their resistance to They are not easy to absorb dust or dust, and unlike ``two-part curing'', they are not easily spread. Compatible with a range of additives (e.g., as seen in the examples below) curing is not affected by additives).

技術音速は請求められる硬化照射がU■ソース(適切なλと強度など)への数秒 間の露出のように安価で迅速かつ便利なものであってさらに5%はどの小さな収 縮しか伴なわないようなものであり得ることを認識するであろう。あるいは、コ ストが主要な関心事でない場合には、代わりに電子ビームまたはガンマ線照射に よって硬化させることもできる。代わりに、過酸化物(触媒)硬化もある場合に は実施可能である。また、主要な硬化モードがどのようなものであろうとも、成 る場合には光の補助的な熱が硬化の完了を促進させるために与えられることが理 解されよう。Technological speed of sound is claimed for curing irradiation of a few seconds to the source (appropriate λ and intensity, etc.) It is cheap, quick and convenient like exposure between It will be recognized that it can be something that involves only shrinkage. Or, If radiation is not a primary concern, consider electron beam or gamma irradiation instead. Therefore, it can also be hardened. Alternatively, if there is also a peroxide (catalytic) cure is possible. Also, whatever the predominant curing mode, It is reasonable that supplementary heat of the light may be applied to accelerate the completion of curing when It will be understood.

゛スパイラル状°としての付与: 関連する特徴によれば、そのようなアクリルオーバコートポリマーは好ましくは 主サブストレートディスク上にスパイラル状に付与され、その上で均一に分布さ せられて(たとえば、適当なディスクの回転と成る特殊なフルオロポリマーの゛ セツティング剤″の含有によって)、均等に流れて定着することができる。これ はその混合物をこの表面上に非常な平滑さと均一な厚さで拡)ブることがわかる 。Assignment as a spiral: According to related characteristics, such acrylic overcoat polymer preferably It is applied in a spiral onto the main substrate disk and evenly distributed over it. (e.g. rotation of a suitable disk) Containing a setting agent) allows for even flow and fixing. It can be seen that the mixture spreads over this surface with great smoothness and uniform thickness. .

たとえばそれはドーナツ状のディスクの数インチの幅(たとえば、14インチデ ィスクの外側の半分)にわたる7m11コーテイングにおいて±0.7〜7.0 ミクロンはどの小さな厚さの変動を生じる。これは全く驚くべきことである。当 該技術分野の技術音速は、そのようなアクリルコーティングまたは他のコーティ ングと関係しているか否かにかかわらず、そのようなコーティング技術の簡単さ や新規な利点は全く注目すべきものであることを認識するであろう。For example, it may be a donut-shaped disc several inches wide (e.g., 14 inches wide). ±0.7 to 7.0 in 7m11 coating over the outer half of the disk Microns, which give rise to small thickness variations. This is completely surprising. Current The technical sonic speed of the technology is that such acrylic coatings or other coatings The simplicity of such coating techniques, whether related to and the novel advantages are quite remarkable.

上述のような特殊な゛セツティング剤”の関連する発明は、驚(べきことに、濡 れ性や平坦化などを高めるような有用な界面活性特性をかなりの度合で与えるの みならず、その混合物を゛セット°′する。すなわち、スパイラルの列を生じて 、1度ホストディスクに付与されれば自分で平坦化するまで(または適当な平坦 化溶媒と接触させられる)までその位置に“セットアツプ”して留まる。そのよ うな“セツティング作用″はコーティング技術の簡略化を高めることがわかるで あろう。たとえば、それはこれらのスパイラルの列を付与する過程において、関 連する遠心力による材料の非対称の変形や移動を伴なうことなくホストディスク 表面をゆっくりと回転させることを可能にする。Surprisingly, the invention related to the above-mentioned special "setting agent" It provides a significant degree of useful surfactant properties, such as enhanced resistance and planarization. In addition, the mixture is set. i.e. giving rise to a series of spirals , once attached to the host disk, until it flattens itself (or if It "sets up" and remains in place until it is brought into contact with a oxidizing solvent. That's it It can be seen that this "setting effect" increases the simplification of the coating technology. Probably. For example, in the process of assigning these spiral columns, host disk without asymmetrical deformation or movement of the material due to associated centrifugal forces. Allows the surface to rotate slowly.

この新規な付与技術の1つの変形は゛溶媒平坦化″ステップを含み、ディスク上 の付与された混合物の列は適当な溶媒蒸気との接触によって(ディスク表面に対 して)“ウェット“になってかつ著しい均一性と速度でそのディスク表面に拡げ られることが可能となる。特殊な溶媒がこのために提案されており、好ましいコ ーティング材料とサブストレート表面に特に適するものである。One variation of this novel application technique involves a "solvent planarization" step, which The column of the mixture imparted with ) becomes “wet” and spreads over its disk surface with remarkable uniformity and speed. It becomes possible to be Special solvents have been proposed for this purpose, and the preferred It is particularly suitable for coating materials and substrate surfaces.

したがって、ここでの1つの目的は前述のおよび他の関連する特徴や利点を提供 することである。より特定的な目的は、゛光学記録層パに隣接する“軟質パッド ”材料の利用を教示しながらそうすることである。もう1つの目的は、改良され た記録感度や低出力レーザに適するのみならず長期の使用寿命のためのものを教 示することである。さらにもう1つの目的は、フルオロポリマー材料を用いて特 に真空蒸着によって析出させられるそのような゛軟質パッド”層の調製を教示す ることである。もう1つの目的は、そのような゛硬質″オーバコーティングと、 関連する好ましくA材料と、藺導する付与技術を提供することである。Therefore, one objective here is to provide the aforementioned and other related features and advantages. It is to be. A more specific purpose is to provide a soft pad adjacent to the optical recording layer. “To do so while teaching the use of materials. Another purpose is to Not only is it suitable for recording sensitivity and low power lasers, but it also has a long service life. It is to show. Yet another objective is to use fluoropolymer materials to teaches the preparation of such “soft pad” layers deposited by vacuum evaporation in Is Rukoto. Another purpose is to provide such “hard” overcoatings and It is an object of the present invention to provide related preferred materials and application techniques.

面の簡単な説明 本発明のこれらおよび他の特徴と利点は、添付された図面と関連して考慮される 好ましい本実施例の以下の詳細な説明を参照することによって、技術音速により よく理解されて認識されるであろう。なお図面において同様な参照符号は同様な 要素を示している。Brief description of the surface These and other features and advantages of the invention are considered in connection with the accompanying drawings. By reference to the following detailed description of the preferred embodiment, the technology will be better understood and recognized. In addition, similar reference numbers in the drawings are the same. Showing elements.

第1図は先行技術による記録媒体の理想化された部分の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of an idealized portion of a recording medium according to the prior art.

第2図は本発明の特徴による構造を示す新規な好ましい記録媒体の実施例の同様 な図である。FIG. 2 is a similar diagram of an embodiment of a new preferred recording medium showing a structure according to features of the present invention. This is a diagram.

第3図はここでのもう1つの特徴に従ってオーバコート材料を付与する好ましい 方法を概略的に示す図である。FIG. 3 shows a preferred method of applying an overcoat material according to another feature herein. 1 schematically illustrates the method; FIG.

第4図はそのように付与された材料の非常に理想化された断面図である。FIG. 4 is a highly idealized cross-sectional view of the material so applied.

第5図は一部変更された条件における同様な断面図である。FIG. 5 is a similar cross-sectional view under partially modified conditions.

第6図は外側コーティング厚さの変化を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing the change in outer coating thickness.

第8図はテーブルの回転速度とアームの速度をディスクの半径方向の位置の関数 として示す図であり、第7図はこれらの値を示す図である。Figure 8 shows the rotation speed of the table and the speed of the arm as a function of the radial position of the disk. FIG. 7 is a diagram showing these values.

典型的なOD記録(第1図;“オーバコート″を備えた3重層): そのような゛軟質バッド′°の1つの好ましい利用は、上述のようなディジタル データの光学記録に適用される周知の″“ダークミラー゛°(または調整された “31「)構造における“スペーサ゛としてのものである。このスペーサはもち ろん吸収体く記録)層と反射体層の間に配置される(たとえば、そのような媒体 は“ダークミラー″効果を利用している;本分中の他の文献を参照)。Typical OD record (Figure 1; triple layer with "overcoat"): One preferred use of such a "soft pad" is in the digital The well-known “dark mirror” (or adjusted It is used as a "spacer" in the "31") structure. This spacer is media (e.g. exploits the “dark mirror” effect; see other references in this article).

そのような゛軟質バッド″′スペーサの好ましい実施例のいくつかの例を説明す る前に、第1図に示された典型的な゛3重層′°光学記録構造の機能を以下に簡 単に述べる。Some examples of preferred embodiments of such "soft pad" spacers are described below. Before proceeding, the function of the typical ``trilayer'' optical recording structure shown in Figure 1 will be briefly explained below. Simply state.

第1図は光学データディスクR−ddの断面部分を概略的かつ理想化された様式 で描写しており、記録3重層丁を支えるサブストレートディスクSと上に被さる 保護オーバコート100を含んでいることがわかるであろう。ディスクR−dd は、そこへ成るビットを記録するために3重層丁へビームLBを照射する周知の 光源(レーザL)によって記録するために用いられるよう意図されていることが わかるであろう(吸収体層98内のサンプル゛ビットホール”98−a参照)。Figure 1 shows a cross section of the optical data disk R-dd in a schematic and idealized manner. It is depicted in , and covers the substrate disk S that supports the recording triple layer. It will be seen that a protective overcoat 100 is included. Disk R-dd is a well-known method that irradiates a beam LB onto a triple layer to record the bits consisting of it. that it is intended to be used for recording by a light source (laser L); As can be seen (see sample bit hole 98-a in absorber layer 98).

これらのビットは所定の関連する検知手段(DET)を用いて“読出”される。These bits are "read" using certain associated detection means (DET).

読出レーザビーム(第1図のLB)の波長はディスクR−ddの記録されていな い領域が必要な反射防止条件を示すように選択される。読出ビーム強度はディス ク上に記録されたデータの完全さを乱すことのないよう十分低く保たれる。サブ ストレートSは、好ましくは必要に応じて平滑化層92を備えた従来の磁気記録 ディスク90からなっている。3重層丁は、反射体フィルム94上の透孔スペー サ層96を含みかつ層96上に積層された適当な吸収体または記録フィルム98 を備えている。The wavelength of the readout laser beam (LB in Figure 1) is the same as the one recorded on the disc R-dd. The area is chosen to indicate the required anti-reflection condition. The read beam intensity is is kept low enough so as not to disturb the integrity of the data recorded on the disk. sub Straight S is preferably a conventional magnetic recording material with a smoothing layer 92 if necessary. It consists of a disk 90. The triple layer is a transparent space on the reflector film 94. A suitable absorbent or recording film 98 including a layer 96 and laminated thereon. It is equipped with

したがって、反射された読出ビームはデータが記録されたビット位置くたとえば 、゛ホール”98−a)における光学的に検知可能な変化によって強度変調され ることがわかるであろう。たとえば、読出ビームは“1ビツト″(たとえば、゛ ホール”98−a)を照射しているときに比較的高い反射を受け、書込まれてい ない領域を照射しているときに比較的低い反射を受ける。保護H100は、その 上表面上の埃粒子が光学システムの焦点面から遠く変位させられて(すなわち焦 点外へ置かれて)記録や読出動作へ影響を与えないように選択されて配置される 。Therefore, the reflected read beam is e.g. , intensity modulated by an optically detectable change in the hole "98-a)" You will see that. For example, the readout beam is "1 bit" (e.g. When irradiating hole "98-a), it received a relatively high reflection and was not written. receive relatively low reflections when illuminating areas that are not covered. Protection H100 is the Dust particles on the top surface are displaced far from the focal plane of the optical system (i.e. (placed outside the point) is selected and placed so as not to affect recording or reading operations. .

従来、“書込” (すなわち、薄いフィルム吸収体層98の反射能において、光 学的に検知可能な乱れを生じて“′記録パ)するレーザビームによって、吸収体 フィルム98は成る与えられたビット位置(98−a)において所定の(最小の )書込温度(Tw)へ加熱されなければならないと考えられている。最小温度T wのレベルは吸収体98の特性(たとえば、その厚さ、金属学的特性、微細構造 など)に依存し、また下層のスペーサ96の特性のみならずスペーサ96と吸収 体98の間の゛界面特性”に依存し、またオーバコート100と吸収体98の間 の界面特性にも依存し得ると考えられている。Traditionally, "writing" (i.e., in the reflective capacity of the thin film absorber layer 98) The absorber is exposed to a laser beam that produces a mechanically detectable disturbance. The film 98 consists of a predetermined (minimum) value at a given bit position (98-a). ) is considered to have to be heated to the writing temperature (Tw). Minimum temperature T The level of w depends on the characteristics of the absorber 98 (e.g., its thickness, metallurgical properties, microstructure). etc.), and also depends not only on the characteristics of the lower spacer 96 but also on the spacer 96 and absorption. depending on the "interfacial properties" between the absorbent body 98 and the overcoat 100 and the absorbent body 98. It is thought that it may also depend on the interfacial properties of the

゛ビット位置”(たとえば、書込レーザビームがフォーカスされると考えられる 領域9.8−a)への書込に関して、この必要な最小゛記録温度=lTwへ到達 するのに成る有限時間が必要であることがわかるであろう。しかし、“ビット位 置”98−aがそのように加熱されている間、通常はその与えられた熱のい(ら かが下にある1m体スペーサ96を介して(おそらく100をも介して)逃げて “浪費”されると考えられている。そのように熱が失われる限り、もちろん、よ り多くの時間/エネルギが゛書込″のために必要であり、すなわちそれだけ記録 感度が劣化する。また、そのようなヒートロスは記録の品質を低下させ、それに よって媒体の″“記録密度”を減すると考えられている。``Bit position'' (e.g. where the writing laser beam is considered to be focused) For writing to area 9.8-a), this required minimum recording temperature = lTw is reached. You will see that it takes a finite amount of time to do this. However, “bit position” While the station 98-a is so heated, the It escapes through the 1m spacer 96 (perhaps also through the spacer 100) underneath. It is considered to be “wasted”. Of course, as long as heat is lost that way, More time/energy is required for “writing”, i.e. more time/energy is required for “writing” Sensitivity deteriorates. Also, such heat loss reduces the quality of the recording and This is thought to reduce the "recording density" of the medium.

“3重層スペーサ″としての軟質パッド:好ましい材料:本発明によれば、成る ゛軟質パッド” (たとえば、フッ化炭化水素ポリマー)材料がそのような誘電 体スペーサ層96(第1図)として都合良く使用し得ることが発見された。そし て、重要なことに、そのような゛軟質パッドスペーサ”の使用は著しく書込エネ ルギの浪費を減少できることがわかった(すなわち、ビット位置における小さな 書込エネルギの損失)。Soft pad as "trilayer spacer": Preferred material: According to the invention, it consists of A “soft pad” (e.g., fluorocarbon polymer) material It has been discovered that it can be advantageously used as a body spacer layer 96 (FIG. 1). stop Importantly, the use of such "soft pad spacers" significantly reduces write energy. It has been found that the wastage of loss of write energy).

好ましい材料の1つはPTFE (ポリテトラフルオロエチレン)ポリマーであ って、もう1つはFEP (フッ化エチレンプロヒ◆ン)ポリマーであり、どち らも商業的に(たとえば、デュポン社の商標である1“テフロン″という名で) 入手可能な“フッ化ポリマー″である。そのようなフッ化ポリマーは反射層94 (第1図)上に薄い均一な層として蒸着することができ、特に、たとえば以下で 議論されるように適当な融液からの真空蒸発によって行なうことができる。その ようなコーティング材料は゛真空蒸発/析出°゛された状態にあると考えられる 。なぜならばそれらはそのような析出の後に゛一部変更された″状態にあると考 えられているからである。One preferred material is PTFE (polytetrafluoroethylene) polymer. Well, the other one is FEP (fluorinated ethylene propylene) polymer. commercially (e.g., under the name 1 “Teflon”, a trademark of the DuPont Company). It is a “fluorinated polymer” that is available. Such a fluorinated polymer can be used as a reflective layer 94. (Fig. 1) can be deposited as a thin homogeneous layer on, in particular, e.g. This can be accomplished by vacuum evaporation from a suitable melt as discussed. the Such coating materials are considered to be in a ``vacuum evaporated/deposited'' state. . because they are considered to be in a ``modified'' state after such precipitation. This is because they are being given.

サンプルO;比較基準(SiOzスペーサ):3重層丁の調製:(第1図): ようなサビング(5ubbin(] )層92で適当に平滑化されたアルミニウ ムディスク90上に、反射体94として施される。Sample O; Comparison standard (SiOz spacer): Preparation of triple layered plate: (Figure 1): An aluminum plate suitably smoothed with a subbing (5ubbin()) layer 92 such as A reflector 94 is applied on the disc 90 .

アルミニウム94は、均一性を高めるために大きなコーティング距離とサブスト レートの“2型回転″とを備えた対応する大きなバッチ型のコーティングチャン バ内で高真空において蒸発させることができる。構成部分上のすべての埃や汚れ は厳格な゛クリーンルーム″技術を用いて完全な最小値まで減少されねばならな い。Aluminum 94 has a large coating distance and substrate for increased uniformity. Corresponding large batch type coating chamber with “2 type rotation” of high speed. It can be evaporated in a high vacuum in a vacuum chamber. All dust and dirt on components must be reduced to an absolute minimum using rigorous “clean room” techniques. stomach.

スペーサ96は反射体94上に同様に析出させられる。Spacers 96 are similarly deposited on reflector 94.

本実施において、スペーサ96はレーザスペクトルの“動作部分パに対して比較 的透光性の誘電体材料として働く。In this implementation, the spacer 96 is Acts as a transparent dielectric material.

から当該目的のために(たとえば、λ=6328Aでの書込/読出のため)用い られるものであろう(注: 光学的観点から、厚さts=nλr/2のスペーサ は“消失”するであろう)。used for that purpose (e.g. for writing/reading at λ=6328A) from (Note: From an optical point of view, a spacer with a thickness of ts = nλr/2 will “disappear”).

吸収体層98はスペーサ1ii96の比較的平らな(〜≦λ/20)記録表面上 へ蒸着(熱的蒸発)されたテルルの比較的薄い層からなっていると考えてよい。The absorber layer 98 is formed on the relatively flat (~≦λ/20) recording surface of the spacer 1ii96. It can be thought of as consisting of a relatively thin layer of tellurium deposited (thermally evaporated) on the surface.

ここで、50Aのオーダの厚さのテルルのフィルムは、例示的吸収体層と考えら れる。テルルの類似の利用は、今日当該技術分野において知られている(たとえ ば、上記引例を参照:またAshとA11enによる°“データ記録のために用 いられるテルルのフィルムの光学的特性”、5PIEp roceedings 、 # 222 、1980参照:およびRancourtによる“′テルル光 学データディスクの設計と製造”、5PIE Proceedings、 #2 99.1981参照)。Here, a film of tellurium on the order of 50A thick is considered an exemplary absorber layer. It will be done. Similar uses of tellurium are known in the art today (e.g. See, for example, the above citation: also by Ash and A11en "Optical properties of tellurium films", 5PIEp roceedings , #222, 1980: and "'Tellurium Light" by Rancourt. “Design and Manufacturing of Scientific Data Disks”, 5PIE Proceedings, #2 99.1981).

低融点と低伝導性を有するテルルまたは他の゛吸収体金属″が一般に技術音速に 好まれる。なぜならば、それは優れた感度を示し、そして必要な(スレッショル ド)レーザ書込出力を最小にすると考えられるからである。その劣った記録保存 性のために、それはここでは特に推薦されるものではない。しかし、それは技術 音速によく理解されているので(夫妻その″“変形的″ホール形成機構がここで 教示されるような゛軟質パッドスーパコート″の利点を用いるのによく適してい るようであるので)本発明を説明する目的には非常に有用である。Tellurium or other "absorber metals" with low melting points and low conductivity are generally used for technology Liked. Because it shows excellent sensitivity and the required (threshold) (d) This is because it is considered to minimize the laser writing output. its poor record keeping; Due to its nature, it is not particularly recommended here. But it's a technology Since the speed of sound is well understood (the ``deformative'' hole formation mechanism is here Well suited to use the benefits of ``Soft Pad Supercoat'' as taught. This is very useful for the purpose of explaining the present invention.

たとえば、Be1lと3artOIiniの米国特許第4,222゜071号に おいて、同様なテルルの記録フィルムは、約20%の光学効率の仮定の下に適当 な続出を達成するために、その上への書込のために15mWのオーダのレーザ出 力を必要とするように説明されている。その目標は、記録されたビデオ信号を約 40〜50dBのS/Nまたは“′放送品質″で再生できるようにすることであ る。米国特許第4゜222.071号はまた類似の構造を説明しており、それに よれば固体のGa−A旦−ASインジェクションレーザが用いられて、ディスク が動かされている間にその記録表面へ直径約1ミクロンの連続的なR/Wビーム を与える(または米国特許第4.334.299号のビデオ記録材料参照)。For example, in Be1l and 3artOIini U.S. Pat. No. 4,222°071, A similar tellurium recording film is suitable under the assumption of an optical efficiency of about 20%. A laser power of the order of 15 mW is used for writing on it in order to achieve a It is described as requiring force. The goal is to reduce the recorded video signal to approximately The goal is to enable playback with an S/N of 40 to 50 dB or “broadcast quality.” Ru. U.S. Pat. No. 4,222,071 also describes a similar structure and According to a solid-state Ga-A-AS injection laser, a disk A continuous R/W beam of about 1 micron in diameter is directed onto the recording surface while the (or see the video recording material of U.S. Pat. No. 4,334,299).

ここでは、テスト記録は6328Aで動作するガス(He −4Je )レーザ ビームを用いて30〜470n 、 secの記録露出(通常は10m Wで4 On、secまたは約4001)J)で行なわれる。これは同一のまたは同様な レーザ装置を用いて最小の適当な読出(または約40dBのS/N )を生じる ように意図されており、そのときにたとえば150〜500DJ/cm2の低出 力で読出される(ここで1)J= 10− ” watt−secまたはジュー ルである)。この意図された設定において、レーザビームは1/2から1ミクロ ン直径(すなわち、5000〜10000A)のビット位置上にフォーカスされ るように意図されていて、それは約4On、sec長さの書込パルスである。ま たこれは18Q OrpHlのディスクの回転とそれに関連するガルボミラー( galvo−mirror)フォーカスの特性に適応する。Here, the test record is a gas (He-4Je) laser operating at 6328A. Recording exposure of 30 to 470n, sec using a beam (usually 10m, 4 at W On, sec or approximately 4001)J). This is the same or similar Use a laser device to produce the smallest reasonable readout (or about 40 dB S/N) It is intended that J = 10-” watt-sec or watt-sec (here 1) ). In this intended setting, the laser beam is 1/2 to 1 micron focused on the bit position of diameter (i.e. 5000-10000A). It is intended to be a write pulse of approximately 4 On, sec length. Ma This is due to the rotation of the 18Q OrpHl disk and the related galvo mirror ( (galvo-mirror) adapts to the characteristics of the focus.

当該レコードR−dd(第1図)はその上にそのように記録される。文献などに おける比較し得る状況に関して、比較的゛中位の出力″のレーザパルスがTeフ ィルムを十分に加熱して溶解し、周知の゛″ビツトまたは“クレータ”を生じて 、非常にわずかの゛°ノイズを伴なうが良好な続出(たとえば、λ=6328A において1〜3%のバックグラウンドに対して約50%のビット反射率)を与え 得ることがわかった。The record R-dd (FIG. 1) is so recorded thereon. For literature etc. For comparable situations in The film must be heated sufficiently to melt and produce the well-known "bits" or "craters". , with very little ゛° noise but good succession (e.g. λ=6328A gives about 50% bit reflectance against 1-3% background at I found out that I can get it.

以下は本発明による゛軟質パッド”材料を用いた多重層光学媒体のための好まし い構造の多くの例である。Below are preferred embodiments for multilayer optical media using "soft pad" materials according to the present invention. There are many examples of such structures.

サンプル■(スペーサとしてのFEP):以後に説明される以外はサンプルO( 比較基準)が複製される。Sample ■ (FEP as a spacer): Sample O (except as explained below) comparison criteria) are replicated.

この場合、光学データディスクは研磨されたガラスサブストレートを備えて構成 されており、そのサブストレートかれており、次にそのアルミニウム上には約1 100A厚さの゛軟質パッド″スペーサ層としてのFEP (フルオロエチレン プロピレン)コポリマーが重ねられ、さらにそのスペーサ上には約66A厚さの テルル吸収体フィルムが置かれている。反射体、スペーサ、および吸収体の層は 、上述のような良好な本実施に従って、単一の共通な装置を用いて真空蒸発によ って単一の連続的手順によって析出させられる。In this case, the optical data disk is constructed with a polished glass substrate. The substrate is coated and then the aluminum is coated with about 1 100A thick “soft pad” FEP (fluoroethylene) as spacer layer (propylene) copolymer is layered, and approximately 66A thick is placed on the spacer. A tellurium absorber film is placed. The reflector, spacer and absorber layers are , according to good practice as described above, by vacuum evaporation using a single common equipment. is precipitated by a single continuous procedure.

゛軟質パッド”スペーサの熱的有効性を最も劇的に示すためには横方向の最小の ヒートロスを有する吸収体を用いなければならない。Teは実際には最適ではな いが、ここで主に提示する。なぜならば、技術音速はそれに非常に慣れているし 、その有用な性能なも知っているからである。To most dramatically demonstrate the thermal effectiveness of a “soft pad” spacer, the minimum lateral Absorbers with heat loss must be used. Te is actually not optimal. However, I will mainly present it here. Because the speed of technology is very accustomed to it. , because its useful performance is also known.

もちろん、Teはここで理解されているように“記録保存性″が良くなく、した がって長期の“記録寿命パが必要な場合には他の吸収体が示されるであろう(他 の場所で引用されているR ancourtや、A、shなどによる文献を参照 )。Of course, Te, as understood here, does not have good "record keeping properties" and Therefore, other absorbers may be indicated if long-term "record life performance" is required. See references by R ancourt, A, sh, etc. cited in ).

技術音速は、Amフィルム上へFEPやPTFEのような有機材料の薄い層を高 真空の蒸着によって形成する好ましい方法に習熟しているであろう(同様な析出 に関して引用されたR ajlQOurtの文献参照)。好ましくは、その材料 は高真空チャンバ内の“ボート”またはそのような容器内で抵抗線加熱される。Technology The speed of sound increases by depositing a thin layer of organic material such as FEP or PTFE onto an Am film. You will be familiar with the preferred method of forming by vacuum evaporation (similar (See RajlQOurt's literature cited with respect to). Preferably the material The resistance wire is heated in a "boat" or such container within a high vacuum chamber.

たとえば、FEPロッドはそのボート内に置くのに都合のよい寸法に切断される 。FEPの沸点は非常に低いので、それを蒸発させるためには比較的小さな熱し か必要としない。電子銃蒸発は好ましくなく、なぜならばFEPを分解するであ ろうからである。また成る場合には、” p arylene”′(商品名、ユ ニオンカーバイド社)のような類似の塩化炭化水素と置換えることもできる。For example, FEP rods are cut to a convenient size for placement within the boat. . The boiling point of FEP is very low, so a relatively small amount of heat is required to vaporize it. Or don't need it. Electron gun evaporation is undesirable because it will decompose the FEP. This is because it is waxy. In addition, if the Similar chlorinated hydrocarbons such as Nion Carbide, Inc.) can also be substituted.

FEPの“変種”形態のものもそのように析出されることがわかるであろう。た とえば、デュポン社による“テフロン140”のような比較的高い分子量のフル オロポリマーがロッドから小片に切断されて真空蒸発されるとき、我々はそれが Am反射体フィルム上に異なった″ポリマーとして析出すると考える。すなわち 、それはおそらく低分子重量のものであって短いチェーンによって特徴付けられ 、もし全体のものであるならば弱くクロスリンクされたものであろう。たとえば 、それは非常にソフトで弱く結合されているので、指で摺ればそれは拭き去られ てしまうであろう。おそらく、高真空におけるそのような加熱の後にFEPが分 解され、そしてそれが凝縮して再高分子化するときに比較的冷たいAl1表面へ 移動する。一方、空気中でそのように加熱されれば、FEPは過フッ化プロピレ ンとテトラフルオロエチレンモノマーに分解すると考えられている。It will be appreciated that "variant" forms of FEP may also be deposited in this manner. Ta For example, relatively high molecular weight fluids such as DuPont's "Teflon 140" When the olopolymer is cut into small pieces from the rod and vacuum evaporated, we know that it It is assumed that the Am is deposited as different polymers on the reflector film, i.e. , it is probably of low molecular weight and characterized by short chains. , if it were a whole, it would be weakly cross-linked. for example , it is very soft and weakly bonded, so if you rub it with your finger it will wipe away. It will probably end up. Presumably, FEP is separated after such heating in high vacuum. and onto the relatively cool Al1 surface as it condenses and repolymerizes. Moving. On the other hand, if so heated in air, FEP becomes perfluorinated propylene. It is thought that it decomposes into fluorine and tetrafluoroethylene monomer.

FEPやPTFEのようなフルオロポリマーは水素の一部または全部がフッ素で 置換えられており、全体としてパラフィンのような構造である。どちらも商品名 ゛テフロン″でデュポン社から売られている。それらは非常に不活性(反応性の 化学薬品に影響されない)であって、意図された厳しい温度や湿度の下において も化学的機械的に全く安に接合するようである。Fluoropolymers such as FEP and PTFE contain hydrogen in which some or all of them are fluorine. It has an overall paraffin-like structure. Both are product names ``Teflon'' sold by DuPont. They are very inert (reactive) unaffected by chemicals) under the severe temperatures and humidity for which it was intended. It also appears to be quite easy to bond chemically and mechanically.

” F E Pコポリマー”はテトラフルオロエチレンとへキサフルオロプロピ レンの重合によって作られる。FEPは290℃の結晶融点を有しており、その 分子構造は主に次のような直線状のチェーンからなっている。"FEP copolymer" is tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene. Produced by polymerization of ren. FEP has a crystalline melting point of 290℃; The molecular structure mainly consists of linear chains as shown below.

PTFEは、テトラフルオロエチレンの(遊離基開始反応された)高分子化によ って形成された高い結晶性の完全にフッ化されたポリマーである。PTFEポリ マーは327℃の結晶融点を有しており、その分子構造は主に次のような直線状 のチェーンからなっている。PTFE is produced by polymerization (free-radically initiated) of tetrafluoroethylene. It is a highly crystalline, fully fluorinated polymer formed by PTFE poly Mer has a crystal melting point of 327℃, and its molecular structure is mainly linear as shown below. It consists of a chain.

+ CFz −cF’F刊F また、そのようなAmサブストレートは幾分活性で、高分子化やクロスリンクを 促進することができる( ” Z iegler触媒”のように;たとえば、M 、S、Toyによる文献であるJ、Polym、SCi、、Vol、34,19 71.D、273を参照)とともに、All金属またはAu中間化合物と比較的 強い化学的結合を導入し得る。+ CFz -cF'F publication F Also, such Am substrates are somewhat active and are not susceptible to polymerization and cross-linking. can be promoted (as in “Z Iegler catalyst”; for example, M , S. Toy, J, Polym, SCi,, Vol. 34, 19 71. D, 273) and relatively to All metal or Au intermediate compounds. Strong chemical bonds can be introduced.

そのような場合、FEPのクロスリンキングはAllフィルムに直接接触すると ころで最大となるように期待され、AmからFEPスペーサ厚さ方向に離れるに 従って減少するであろう(これはめられるパ吸収体隔離″や高められた感度など を得るために重要であるかもしれないし、そうでないかもしれない)。In such cases, the cross-linking of FEP is caused by direct contact with the All film. It is expected that it will be maximum at the roller, and as it moves away from Am in the FEP spacer thickness direction. Therefore, there will be a reduction in (which may or may not be important to obtain).

本目的において、パ感度”は書込エネルギEw、すなわち指定された最小の続出 を与えるに十分なほど反射能(またはそのような読出特性)を変えるのに必要な レーザご−ムを特定することがわかるであろう。For our purposes, the parameter sensitivity is defined as the write energy Ew, i.e. the specified minimum necessary to change the reflectivity (or such readout characteristics) enough to give It will be seen that the laser beam is identified.

ここで、フォーカスされた書込ビームの強度と露出時間は、反射能において指定 された変化を生じるように吸収体層98の温度を上げるのに十分なものであるこ とが理解されよう。その変化は、たとえば当該分野の技術音速によって理解され ているような適当なコントラストであるSlN比が実現されるように必要な読出 品質などを与える:約15MHzのバンド幅に関して40〜50dBの典型的な S/N比(RMSノイズに対するピークツーピーク信号)を参照。Here, the intensity and exposure time of the focused writing beam are specified in reflectivity. temperature of the absorber layer 98 to cause the change in temperature. It will be understood that The change can be understood, for example, by the technical speed of sound in the field. The required readout is such that an appropriate contrast SIN ratio is achieved. gives quality etc.: typical of 40-50dB for a bandwidth of about 15MHz See signal-to-noise ratio (peak-to-peak signal to RMS noise).

レーザ記録は、第1図に関連して言及された一般型の装置を用いて2400 r l)mの回転において、完成された光学媒体上になされる。ヘリウムネオンレー ザが再び記録のために用いられる(0.633μmの波長)。媒体フィルム98 上にフォーカスされたレーザビーム゛スポット”は約0.5μmである。そのよ うな記録の感度は非常に良好であって、サンプルOのような従来のものから予想 されるものより良好であることがわかるであろう。たとえば、テストによれば4 、許容し得る記録のために必要な書込エネルギは予想されたものの約1/2だけ であり、ビット位置からスペーサへの書込熱の漏れはFEPを用いれば非常に小 さいことがわかった。すなわち、そのFEPは全く望ましいものであって、たと えば、明らかに“感度”を高める助けとなる。Laser recording was carried out at 2400 r using equipment of the general type mentioned in connection with FIG. l) done on the finished optical medium in m rotations. helium neon light The laser is again used for recording (wavelength of 0.633 μm). media film 98 The upwardly focused laser beam “spot” is approximately 0.5 μm. The sensitivity of these recordings is very good and is much better than expected from conventional ones such as sample O. You will find that it is better than the one shown below. For example, according to the test 4 , only about 1/2 of the expected write energy is required for acceptable recording. Therefore, the leakage of write heat from the bit position to the spacer is extremely small if FEP is used. It turned out to be a big deal. That is, the FEP is entirely desirable and For example, it clearly helps increase "sensitivity".

また驚くべきことに、FEPは望ましい接着性を与え、その接着性はどちらかと 言えばA1反射体フィルムに対して強力であるが、上に被さっている(Te ) 吸収体フィルムに対しては異なっているようである。Also surprisingly, FEP provides desirable adhesion; In other words, it is stronger than the A1 reflector film, but it overlaps (Te) It appears to be different for absorber films.

この高められた感度はFEPの厚さ方向における前述のクロスリンクの変化で一 部説明することができ、またFEPとの強い接合に対する吸収体の不親和性で説 明することができる。上述のように、クロスリンクはAm層と直接接していると ころで最大であって、へ隻から離れるにつれ減少(低密度)して、Te吸収体に 接するところで最も弱いことがわかった。クロスリンクと接合におけるこの差は 吸収体からの熱の漏れを減少させるように働き、またその吸収体に書込まれると きのビット位置の変形または移動によりよく順応する。すなわち、この゛軟質パ ッド”スペーサは書込の間に吸収体98−aに隣接して都合良(変形し、“ホー ル″の形成に対してほとんどまたは全く抵抗とならないようである。これはこの サンプルが示す高められた感度の原因の一部と考えられる。This increased sensitivity is due to the aforementioned cross-link changes in the thickness direction of the FEP. This can be explained by the absorber's incompatibility with strong bonding with FEP. can be explained. As mentioned above, if the crosslink is in direct contact with the Am layer, It is maximum at about 1000 yen, decreases (lower density) as it moves away from the ship, and becomes a Te absorber. It turns out that it is weakest where it touches. This difference in cross-linking and joining is acts to reduce heat leakage from the absorber, and when written into the absorber Adapts better to deformation or movement of the bit position. In other words, this "soft material" The "head" spacer is conveniently (deformed) adjacent the absorber 98-a during writing. There appears to be little or no resistance to the formation of This may be partly responsible for the increased sensitivity exhibited by the sample.

Ai反射体へのFEPの強力な接合は、長期の厳しい温度/湿度サイクリングの 後に特に明らかである。すなわち、他のスペーサ層は剥離することがわかったが 、この接合は耐えた。また、光学的“スポット″または他の収差(Amフィルム における)はそのような温度/湿度サイクリングによって引起こされなかったが 、シリカのスペーサを用いるときはそれが生じる。シリカのスペーサは、あまり に多孔質であって過剰の湿気を吸収するなどして、低い゛″記録保存性″のもの となる傾向になることが明らかである。Strong bonding of FEP to Ai reflector allows for long-term severe temperature/humidity cycling. This is especially obvious later. In other words, it was found that other spacer layers peeled off, but , this bond withstood. Also, optical "spots" or other aberrations (Am film ) was not caused by such temperature/humidity cycling, but , which occurs when using silica spacers. Silica spacers are too have poor archival stability, such as being porous and absorbing excess moisture; It is clear that there is a tendency to

さらに、FEPは比較的低い屈折率(最適値より幾分高い値である溶融シリカの 約1.5に対して約1.3)を備えたすばらしい光学透明層を与える。Additionally, FEP has a relatively low refractive index (somewhat higher than the optimal value) of fused silica. 1.5 to about 1.3).

技術音速が認識するであろうように、成る場合には、これに代わってプラズマ高 分子化または弛の技術による析出も実施可能であろう。As the technology of sonic speed would recognize, this could be replaced by a plasma high Precipitation by molecularization or relaxation techniques may also be possible.

また、技術音速は他の類似の゛軟質パッド”ポリマーが真空蒸発によって同様に 析出させ得るかもしれないことを考えるであろう。しかし、その選択はむしろ厳 しい当該要件の観点から幾分限定されるであろう。好ましい材料と厚さは種々の ものに適することがわかった。たとえば、多くの場合において、このスペーサ( または以後に述べられるような“軟質パッド″オーバコート)の材料または厚さ を変えることなく、異なった吸収体金属を用いることができる。Also, the technology of sound velocity is similar to that of other similar “soft pad” polymers by vacuum evaporation. One would think that it might be possible to precipitate it. However, the choice is rather difficult. may be somewhat limited in view of the new requirements. Preferred materials and thicknesses vary. I found it suitable for things. For example, in many cases this spacer ( or the material or thickness of the “soft pad” overcoat as hereinafter described. Different absorber metals can be used without changing the

サンプルII(e酸体上の5102オーバコート):吸収体層が約2000A厚 さの溶融シリカ(st 02 )の保護層でコートされる以外はサンプル■のデ ィスクの構成が複製される。Sample II (5102 overcoat on e acid body): absorber layer approximately 2000A thick The design of sample ■ is coated with a protective layer of fused silica (ST02). The configuration of the disk is duplicated.

結果: サンプルIと同様に、感度は満足し得るものであるが幾分劣化することが予想さ れる。また技術音速が知っているように、その5i02は湿気を吸収する傾向に あって、それと関連して問題のスウェリング(膨張)を起こして光学的特性を劣 化させる。result: As with Sample I, the sensitivity is satisfactory, but some deterioration is expected. It will be done. Also, as TechSonic knows, its 5i02 tends to absorb moisture. This may lead to problematic swelling and deteriorate optical properties. to become

ように一部変更されたサンプル0(Si○2スペーサ)とこのサンプル(1)と を比較することは意義あることである(その一部変更されたサンプル0はここで サンプル■−Aとし、それはst 02層間に吸収体がサンドインチされている )。Sample 0 (Si○2 spacer) with some changes as shown and this sample (1) (a partially modified sample 0 is shown here). Sample ■-A, which has an absorber sandwiched between the st02 layers ).

サンプル■は°″低いが許容し得る″読出を生じ、サンプルIt−A(すなわち 、オーバコートされたサンプル0)は十分な読出を与えなかった。これは感度に おける著しい差異であって、今まで十分には認識されてぃなかったものである。Sample ■ yielded a “low but acceptable” readout, while sample It-A (i.e. , overcoated sample 0) did not give sufficient readout. This is due to sensitivity This is a significant difference between the two countries, and one that has not been fully recognized until now.

またこれは改善された熱保存性とパ軟質パッド″スペーサの機械的順応性による ことが明らかである。This is also due to the improved heat preservation and mechanical flexibility of the soft pad spacer. That is clear.

同様な(わずかに異なるが)改善は、吸収体の下でなくてその上に“軟質パッド 師が置かれたときに見られる。そのような“軟質パッド”は、たとえばこの例1 [−Aの吸収体直上に、後で述べる例Aのような“硬質/軟質″オーバコートと して重ねられる(Si 02オーバコートを“硬質/軟質゛′オーバコートで置 換える)。すなわち、そのような吸収体に(上および/または下に)隣接して置 かれたそのような“軟7質バッド″が感度を高めると結論され、特にそれは゛′ 軟質パッド″がSiC2のような従来の比較的硬いフィルムと置換わる場合であ る。A similar (but slightly different) improvement would be to use a “soft pad” on top of the absorbent body rather than under it. Seen when a master is placed. Such a "soft pad" is, for example, in this example 1. [-A "hard/soft" overcoat like Example A described later and (Si02 overcoat is replaced with “hard/soft” overcoat) exchange). i.e. placed adjacent (above and/or below) such an absorbent body. It was concluded that such a "soft pad" increases the sensitivity, and in particular it In some cases, "soft pads" replace traditional relatively hard films such as SiC2. Ru.

吸収体上のスーパコーティングとしての゛軟質バッド″:前述のように、そのよ うな゛軟質パッド”層は吸収体層上にスーパコートされた゛バッファ(緩衝)” としても考えられ、たとえばその吸収体層を熱的かっ機械的にさらに隔離する助 けとなり、特にそれは類似の°゛軟質パッド”が吸収体の直下に存在する場合で ある。たとえば、これは書込エネルギの保存においてさらに助けとなるとともに 書込加熱されている間にパビットホール”に対して移動または変形する自由をさ らに与える(たとえば、非常に拘束されたホール形成と考えられているシリカの スーパコートと比べて)。両方のことを考慮すれば感度は高められる筈である。“Soft pad” as a supercoating on the absorbent body: As mentioned above, such The ``soft pad'' layer is a ``buffer'' supercoated on the absorbent layer. For example, it may be possible to further isolate the absorber layer thermally or mechanically. This is especially true when a similar soft pad is present directly beneath the absorbent material. be. For example, this will further help in saving write energy and Allows freedom to move or deform relative to Pavitt holes while being heated. (e.g., silica, which is considered to have highly constrained hole formation) (compared to Super Coat). If both factors are taken into account, sensitivity should be increased.

そのようなことは、後に示すサンプル■のような場合であることがわかった。It has been found that such a case occurs in the case of sample ① shown later.

前述のタイプの゛軟質バッド°′層は吸収体(たとえば、前述のTeフィルム) 上のバッファスーパコートとして部会長クイ〔用し得ること(特にこの“軟質パ ッド″スーパコートが次に゛硬質″障壁層を伴なってオーバコートされる場合) を発見する過程において、我々はそのような゛軟質パッド″スーパコートが好ま しくは次のような特性(表I)を示すべきことを知った。The above-mentioned type of ``soft pad'' layer is an absorber (e.g. the above-mentioned Te film). The section head can be used as a buffer supercoat (especially this “soft coat”). (if the “hard” supercoat is then overcoated with a “hard” barrier layer) In the process of discovering the In addition, I learned that it should exhibit the following characteristics (Table I).

表 ■ (゛軟質パッド”スーパコートの必須要件)1、 光学的適合性: (R/W) λにおける良好な透光性。Table ■ (Essential requirements for “soft pad” super coat) 1. Optical compatibility: (R/W) Good transparency at λ.

込”とそれに伴なう吸収体の変形および/または移動に対して全(またはわずか じが抵抗とならず、さらにオレンジビール(蜜柑肌)や剥離などを生じない。All (or only a small amount) It does not cause resistance, and also does not cause orange beer (tangerine skin) or peeling.

4、(”硬質”)オーバコートに対する強力な接合=5、 意図された環境の下 に安定: (すなわち、温度や湿度の変化さらに汚染などにかかわらず安定): たとえば、劣化することなく使用温度に耐え(ホール形成位置に近接したところ でさえ):化学的にも安定:たとえば、硬化中やまたは厳しい温度と湿度のサイ クリングの下においても溶剤または他の汚染物質を放出しない。4. Strong bond to (“hard”) overcoat = 5. Under intended environment Stable: (i.e. stable despite changes in temperature and humidity, as well as pollution, etc.): For example, it can withstand operating temperatures without deterioration (in the vicinity of the hole formation position) chemically stable: for example, during curing or in severe temperature and humidity conditions. Does not release solvents or other contaminants even under cling.

6、 軟らかさと圧縮容易性: #3におけるように移動/変形を可能にし;オ ーバコーティングによる感度の劣化を最小にしたビット書込に適応するように十 分に分厚い。6. Softness and compressibility: allow movement/deformation as in #3; It is designed to accommodate bit writing with minimal sensitivity degradation due to server coating. Very thick.

7、 良好な熱絶縁性: たとえば、低い熱放散性、低い比熱;製造温度と゛書 込”の温度に耐えること。7. Good thermal insulation: For example, low heat dissipation, low specific heat; manufacturing temperature and To withstand temperatures including

ところで、他の技術音速はそのような吸収体のためのいくつかの種類の高分子ス ーパコーティングを提案した。たとえば、米国特許第4.101.907号はそ のための“シリコーン樹脂”について述べており、たとえばそれはゼネラルエレ クトリック社のRTV615またはRTV602(これらは成る硬化剤によって 空温で硬化する)またはダウコーニング社のS ylgardl 84があり、 これらはチタン上に使用されるように提案されている。これらは好ましくはsr  02の介在パ障壁層”または成る複合有機材料を伴なう。By the way, other technologies such as speed of sound use some kind of polymeric strips for such absorbers. I proposed a coating. For example, U.S. Patent No. 4.101.907 For example, it talks about “silicone resin” for general electronics. RTV615 or RTV602 (depending on the curing agent) (cures at air temperature) or Dow Corning's Sylgardl 84, These are proposed for use on titanium. These are preferably sr 02 with an intervening barrier layer" or a composite organic material consisting of.

サンプル■(吸収体上のFEP): 吸収体フィルムが約950OA厚さのFEPの層(スペーサ層と同様のものであ ってSiO□スーパコートを伴なわないもの)でカバーされていることを除けば サンプルIのディスクが複製される。Sample ■ (FEP on absorber): The absorber film is a layer of FEP (similar to the spacer layer) approximately 950 OA thick. Except that it is covered with SiO□ without supercoat) Sample I disk is duplicated.

結果: サンプルIと同様であるが、それより少し多いビット書込エネルギが必要である 。しかし、そのエネルギはサンプル■(吸収体上にSi 02 )の場合よりは るかに小さい。result: Similar to sample I, but requires slightly more bit write energy . However, the energy is lower than that of sample ■ (Si02 on absorber). Much smaller.

サンプル■: サブストレートディスクが標準的アルミニウム“ウィンチェスタ−″ディスク( コンピュータ媒体のために商業的磁気記録ディスクにおいて用いられるもの)で あることを除けばサンプル■のディスクが複製される。Sample ■: The substrate disc is a standard aluminum “Winchester” disc ( (used in commercial magnetic recording disks for computer media) The disc of sample ■ is duplicated except for one thing.

結果: 本質的にサンプル■と同様である。result: It is essentially the same as sample ■.

変わり得る“軟質パッド″の実施例: 技術者性は、そのような゛軟質パッドスペ・−サ”が適当な場合においては他の 方法で実施し得ることを認識するであろう(たとえば、他の比較的不活性で安定 かつ長持ちし、ざらに不完全に硬化するかまたは弱く高分子化して軽くクロスリ ンクした゛軟質”ポリマーを用いて:たとえば一部変更されたポリテトラフルオ ロエチレンであって一般に同様に分解して再高分子化するクロロフルオロポリマ ーまたはその他の類似の変種フルオロポリマー)。゛軟質パッドスーパコート” に関しても同様である。また適当な場合には他の析出技術も実施可能であって、 たとえばグロー放電のようなプラズマ析出技術(特にフルオロカーボンに関して )またはスパッタリングを用いることができ、特に化学的分解が完全でない場合 に実施される。また技術者性は光学吸収体を変えてもよく、たとえば他のよりよ く適合し得る高感度の薄いフィルムであってその軟質パッドと適切に結合する低 熱伝導材料に変えてもよい。さらに、技術者性は、そのような゛軟質パッド”層 が有利である類似の他の応用を考えるであろう。たとえば、類似の他の記録フィ ルム上および/または下の“隔離層”として、または後で述べられる゛硬質オー バコート”のような比較的“硬質″′のコーティングとTeフィルムのような記 録層との間の圧縮可能な軟質中間層として考えられ、特にこの゛軟質パッド″は その硬質オーバコートと良好に接合してその記録層と適当に結合する。技術者性 は単層または2重層の形態のODD記録層についての類似の応用をも知るであろ う。Examples of variable “soft pads”: Engineers should consider using other It will be appreciated that other relatively inert and stable It is long-lasting and does not harden roughly or incompletely or is slightly polymerized and lightly cross-resisted. using bonded “soft” polymers: e.g. modified polytetrafluor chloroethylene, a chlorofluoropolymer that generally similarly decomposes and repolymerizes - or other similar variant fluoropolymers). "Soft pad super coat" The same applies to Other deposition techniques may also be implemented where appropriate; Plasma deposition techniques such as glow discharge (particularly for fluorocarbons) ) or sputtering can be used, especially if chemical decomposition is not complete will be implemented. Engineers may also change the optical absorber, e.g. A highly sensitive thin film that is highly compatible and has a low It may be changed to a thermally conductive material. In addition, the engineer's ability to create such a "soft pad" layer One may think of other similar applications in which this would be advantageous. For example, other similar records as a “separation layer” above and/or below the relatively “hard” coatings such as “Bacote” and markings such as Te film. It can be thought of as a compressible soft intermediate layer between the recording layer, and especially this "soft pad" It bonds well with the hard overcoat and properly bonds with the recording layer. engineer nature would also know similar applications for ODD recording layers in the form of single or double layers. cormorant.

好ましいオーバコートの実施例:例A、第2図(゛硬質/軟質″オーバコート0 −C): 第2図のディスクRo (第1図に倣ってごく小さな概略断面が示されており、 説明される以外のものは本質的に第1図と同じである)は上述の特徴を有する好 ましい例を示しており、特に吸収体記録フィルムをカバーする“軟質パッド”層 上に付与される″゛硬質オーバコート、すなわち新規な°“硬質/軟質゛′オー バコーティング構造O−Cを(概略的に)教示している(サブストレートS 上 に与えられた前述と同種のODD”3重層”T−1の一部である吸収体e上の軟 質パッド層fと硬質コートgを第1図と比較せよ)。ここで、この概略図を参照 して説明する。Preferred overcoat embodiment: Example A, Figure 2 (“hard/soft” overcoat 0 -C): Disk Ro in Figure 2 (a very small schematic cross section is shown following Figure 1, (substantially the same as in FIG. 1 except as described) is a preferred embodiment having the characteristics described above. A good example is shown, especially the “soft pad” layer covering the absorbent recording film. A “hard overcoat” applied on top, i.e. a new “hard/soft” overcoat. teaches (schematically) the coating structure O-C (on substrate S). The soft material on the absorber e, which is part of the same type of ODD "triple layer" T-1 given in Compare the hard pad layer f and the hard coat g with Figure 1). See this schematic diagram here and explain.

特に説明する以外は、(ここで、またすべての実施例に関して)ここでのすべて の材料や方法および装置はこの良好な実施例に従って上述のようにまたは他の周 知の手段によって実施されることを理解するであろう。この説明の過程において 、成る状況の下において有用であるいくつかの変更例も指摘されるであろう。Everything here (and with respect to all examples) except as specifically described. The materials, methods, and apparatus of You will understand that it is carried out by means of knowledge. In the process of this explanation , some modifications that are useful under the circumstances will also be pointed out.

サブストレート: サブストレート部分はアルミニウムサブストレートディスクAとして考えてよ( 、それは必要に応じてその表面を十分に平滑にするために平滑化1またはサビン グ層Bで処理される。したがって、サブストレートAは好ましくはアルミニウム 合金の通常の゛ウィンチェスター″ディスクであって、たとえばコンピュータの メモリシステムにおいて用いられるようなディジタルデータの高速磁気記録のた めの製造用ディスクとして典型的なものである。そのようなディスクの表面は、 技術者性がよ(知っているように、通常はダイヤモンド研磨または他の方法によ る平滑化によって磨かれている。この代わりに、ある場合には適当なガラスまた はプラスチックのディスクを代用してもよい。substrate: Think of the substrate part as an aluminum substrate disk A ( , it can be smoothed 1 or savin to make its surface sufficiently smooth if necessary. processing layer B. Therefore, substrate A is preferably aluminum Alloy ordinary "Winchester" disks, for example computer For high-speed magnetic recording of digital data such as used in memory systems. This is a typical type of disc for manufacturing. The surface of such a disk is Good technical skills (as you know, usually by diamond polishing or other methods) Polished by smoothing. Alternatively, in some cases a suitable glass or may be replaced with a plastic disc.

゛°サビング層Bはよく清浄化された裸のディスク表面に与えられることがわか るであろう。・その゛′サビングは、好ましくはサブストレートAの表面上の微 細な不規則性を゛ホールサイズ(たとえば、直径で約0.5μmまたはそれ以下 )以下の良好なものに平滑化する有機材料からなっている。技術者性が知ってい るように、もしその表面が既に十分平滑であるならば(たとえば、高度に研磨さ れたガラスディスクが用いられる場合)、サビング層は必要でないかもしれない 。It can be seen that the subbing layer B is applied to a well-cleaned bare disk surface. There will be.・The ``subbing'' is preferably carried out on the surface of substrate A. Fine irregularities are defined by hole size (e.g., approximately 0.5 μm or less in diameter). ) Made of organic material that smooths into less good ones. As an engineer, I know If the surface is already sufficiently smooth (e.g. highly polished), subbing layer may not be necessary (if a glass disc is used) .

そして、このサブストレートは、約1800(〜数千)rpmで使用される良好 な表面平滑性を備えた14インチディスクからなっていると理解される。And this substrate is good for use at about 1800 (~1000s) rpm. It is understood that it consists of a 14-inch disc with a smooth surface.

所定のエネルギと波長の照射(レーザ)ビームがレーザソースしく第1図参照) から媒体Roへ与えられることが理解されよう。その照射ビームは、゛書込パの 過程において記録層e上の意図された読出に適する゛ビットIZ11ホール″ま たは類似の光学的゛特異点″(たとえば、第1図の98−a位置に類似するもの )を形成するために゛書込時間”において活性化されてフォーカスされる。さら に特定的に言えば、たとえば直径0.8μm (すなわち、8000A)のi  om wのガウス形ビームを用いて45IIl/seCでスキャンすることによ って成る最小の長さと幅(たとえば、0.8μm2であって、しかし必ずしも矩 形9円形。The irradiation (laser) beam with a predetermined energy and wavelength is a laser source (see Figure 1). to the medium Ro. The irradiation beam is In the process, a “bit IZ11 hole” or a hole suitable for the intended readout on the recording layer e is or similar optical “singularity” (e.g., similar to position 98-a in FIG. ) is activated and focused at the "write time" to form the Specifically, for example, i with a diameter of 0.8 μm (i.e., 8000 A) by scanning at 45IIl/sec using a Gaussian beam of omw. (e.g. 0.8 μm2, but not necessarily rectangular) Shape 9 circular.

または他の所定の形である必要はない)の光学的変調を形成するように意図する ことができる。ところで、たとえば記録保存レコードに関して技術音速が認識し ているように、この要件は従来の手段にとってあまりに厳し過ぎるものである。or any other predetermined form) be able to. By the way, for example, when it comes to record-keeping records, the technical speed of sound is As shown, this requirement is too stringent for traditional means.

そして、各゛ビット”(ビット)が記録される場所において、°゛反射防止”バ ックグラウンドは高コントラストの続出に適する“ビットマーク”を生じるよう に崩壊させられる。また、付録波長がシフトさせられるところでは、スペーサの 厚さは同様な結果を生じるように容易に変えられる。この“調整された″(“3 重層”または°゛ダークミラー゛′構造において、吸収体e上の表面反射率は吸 収体厚さとスペーサ厚さを調節することによってO″または他の選択された値に することができる。ここで、゛3重層”は1つの面上に吸収体を備えかつ他の面 上に反射体を備えた透光性のスペーサからなっているものと理解され、それらの 層の厚さは技術音速が知っているであろうように゛光学的調整″のために調節さ れる。Then, at the location where each “bit” (bit) is recorded, an “anti-reflection” barrier is applied. The background is designed to produce “bit marks” suitable for high-contrast succession. will be destroyed. Also, where the appendix wavelength is shifted, the spacer The thickness can be easily varied to produce similar results. This “adjusted” (“3 In the “multilayer” or “dark mirror” structure, the surface reflectance on the absorber e is O'' or other selected value by adjusting the housing thickness and spacer thickness. can do. Here, ``triple layer'' has an absorbent material on one side and the other side. It is understood to consist of a translucent spacer with a reflector on top; The layer thickness is adjusted for ``optical adjustment'' as the technology would know. It will be done.

したがって、コーティングのパラメータは、好ましくは書込ビームがこの吸収体 層上にフォーカスされるときに意図された記録周波数においてコートされたディ スクに″反射防止″条件を与えるように選択されることが理解されよう。そのよ うなことに関して、上述の記述と3ell とSpOngによる“光学記録のた めの反射防止構造” 、 Journalof Quantum l:Iect ronics、 Vol、’QE 14. NO,7゜JulV1978参照: また一般的な先行技術に関して、Bartolyniなどによる゛光学ディスク システムの出現″、IEEE Spectrum、August 1978.1 )、20、およびパ光学記憶材料と方法” 、 S P I E Procee dings。Therefore, the parameters of the coating are such that the writing beam preferably The coated disc at the intended recording frequency when focused onto the layer It will be appreciated that the selection is made to provide an "anti-reflective" condition to the screen. That's it Regarding this, the above description and “for optical recording” by 3ell and SpOng are used. Anti-reflection structure”, Journalof Quantum l:Iect ronics, Vol,'QE 14. NO, 7゜Refer to JulV1978: Regarding the general prior art, Bartolyni et al. "The Emergence of Systems", IEEE Spectrum, August 1978.1 ), 20, and ``Optical Memory Materials and Methods'', SPI Procee dings.

VOl、177、○ptical l nformation S torag e、 1979.1)、56の文献例を参照。VOl, 177, ○ptical lnformation S torag e, 1979.1), 56.

記録部分(゛ダークミラー″タイプ):に、適当な下層の“スペーサ層”dとそ のスペーサdの下の反射体層″Cを伴なった“吸収体層”eと考えることができ る。この開示のもう1つの態様として、そのような層(c 、 d 、 e ) は好ましくは単一の高真空チャンバ内で適当な材料を用いて連続的な蒸発コーテ ィングシーケンスによって与えられ、また好ましくは後で述べるように“軟質パ ッド′°オーバコーティングfも同時に付与される。Recording part (“dark mirror” type): Add a suitable lower “spacer layer” d and It can be considered as an "absorber layer" e with a reflector layer "C" under the spacer d. Ru. In another aspect of this disclosure, such layers (c, d, e) is preferably a continuous evaporation coat using suitable materials in a single high vacuum chamber. a “soft pattern” given by the A pad '° overcoating f is also applied at the same time.

この代わりに、これらの付与はフィルムを作成するための前述のタイプの適当な プラズマ高分子化技術または他の適当な方法によって行なうこともできるであろ う。Instead of this, these impregnations can be applied to any suitable It could also be done by plasma polymerization techniques or other suitable methods. cormorant.

技術音速は、共通の析出装置を用いるそのような一連の類似の析出ステップに適 応し得る材料と技術の開示を長所として認識するであろう(たとえば、特にスペ ーサ層dと軟質オーバコーティングfの両方が類似の°゛軟質パッド”からなっ ている場合に)。The technical sonic speed is applicable to such a series of similar precipitation steps using a common precipitation equipment. may recognize the advantage of disclosure of materials and techniques that are compatible (e.g., Both the outer layer d and the soft overcoating f consist of similar soft pads. ).

反射体層Cは好ましくは上述の蒸着アルミニウムのような高い反射能の金属の層 からなっており、たとえば意図された照射において層Cを通して見たときに層C が゛ちょうど不透明″になるまで析出される(蒸着反射体の作成について知識を 有する技術音速がよく知っているように、反射体は分厚すぎると反射能が劣化す る)。技術音速が知っているように、意図されたR/Wの波長において十分な高 反射率を示す限り他の金属を用いることができる。しかしながら、十分な注意が 払われなければ、代用反射体金属はA見がFEP (また同等なスペーサ材料) に関して示すような反応性や接合作用を生じないであろう。もう1つの選択は交 互に高低の指数の誘電体フィルムを1/4波長反射体とともに用いることである 。The reflector layer C is preferably a layer of a highly reflective metal such as vapor deposited aluminum as described above. for example, layer C when viewed through layer C in the intended irradiation. is deposited until it is ``just opaque'' (knowledge of the creation of vapor-deposited reflectors). As we know well, if a reflector is too thick, its reflective ability will deteriorate. ). As the technical sound velocity knows, at the wavelength of the intended R/W a sufficiently high Other metals can be used as long as they exhibit reflectance. However, due caution If not, an alternative reflector metal is FEP (also an equivalent spacer material) will not produce any reactivity or bonding effects as shown for Another option is The method is to use dielectric films with mutually high and low indices together with a quarter-wave reflector. .

スペーサ層dは、反射体層Cおよび吸収体層eとの組合せによってその″3重層 ′′アセンブリの反射率をゼロまで減少させるか、または他の予め決められた成 る反射率値まで減少させるように働くよう意図されている。その用いられる材料 は、好ましくは意図されたR/W波長に対して比較的゛非吸収性”でありかつ高 い透光性のものであろう。The spacer layer d is a triple layer formed by combining the reflector layer C and the absorber layer e. ``Reducing the reflectivity of the assembly to zero or other predetermined It is intended to act to reduce the reflectance to a value that the material used is preferably relatively "non-absorbing" and highly absorbent for the intended R/W wavelength. It must be transparent.

スペーサdの厚さはその光学的特性に依存し、かつこの3重層内の他の層の光学 的特性にも依存するであろう。好ましくは、0.5〜1.5の1/4波長の厚さ が用いられよう。この代わりに、技術音速が知るであろうように、多重の1/2 波長厚さを加えてもよい(注:光学的見地から、厚さTs=nλr/2のスペー サは見えなくなる”であろう)。The thickness of the spacer d depends on its optical properties and the optical properties of the other layers in this triple layer. It will also depend on the characteristics. Preferably a quarter wavelength thickness of 0.5 to 1.5 will be used. Instead of this, as the technology would know, 1/2 of the multiplex Wavelength thickness may be added (Note: From an optical point of view, a space of thickness Ts = nλr/2 (It will become invisible).

ここでの(上述の)特徴は当該スペーサ材料が好ましくはF”EP、PTFE、 または類似のフルオロポリマーからなっていることであって、好ましくはたとえ ば共通の真空装置内において上述のように層Cとeとともに(また必要に応じて Hfとともに)蒸着される。The feature here (mentioned above) is that the spacer material is preferably F"EP, PTFE, or a similar fluoropolymer, preferably a similar fluoropolymer. together with layers C and e (and optionally (along with Hf) is deposited.

層e (第2図)は照射作用゛書込エネルギ″が集中される吸収フィルムである 。サンプルIの吸収体を利用し得る。Layer e (FIG. 2) is an absorbing film in which the irradiation action "writing energy" is concentrated. . Sample I absorbers may be utilized.

オーバコート部分: ゛軟質パッド′°コーティングfは、好ましくは都合の良い厚さくたとえば、数 千へ)のFEPまたは類似のポリマーからなっている(たとえば、都合良くかつ 好ましくはスペーサ層0と同じ材料でかつ同じ析出方法である)。それは好まし くは上述のFEPコーティングとして吸収体e上に調製されて析出され、最も好 ましくは便利のために3重層T−Lとともに同じ析出シーケンスにおいて重ねら れる。Overcoat part: The ``soft pad'' coating f is preferably of a convenient thickness, e.g. of FEP or similar polymers (e.g., Preferably it is the same material and the same deposition method as spacer layer 0). That's good is prepared and deposited on the absorber e as a FEP coating as described above, and Preferably stacked in the same deposition sequence with the triple layer T-L for convenience. It will be done.

″°3重層重層用いる場合、1またはそれ以上の1/2波長として析出される層 fを用いて厚さを検知して制御することが便利であろう。技術音速が認識するで あろうように、多(の1/2波長の厚さはその軟質オーバコーティングを光学的 に゛消失”させて、吸収体層に与えられる読出/書込エネルギを反射しないであ ろう(これはシステムの効率を減少させよう)。″°When using a 3-layer multilayer, one or more layers deposited as 1/2 wavelength It may be convenient to use f to sense and control the thickness. technology recognizes the speed of sound As expected, the 1/2 wavelength thickness makes the soft overcoating optically The read/write energy applied to the absorber layer must not be reflected. (This would reduce the efficiency of the system).

°゛軟質パッド”スーパコーティングfは上述のように意図されたR/W波長( λ()に対して高い透光性であるのみならず、感度を最大にするために十分に変 形して圧縮し得るものであってかつ比較的低い比熱を有する比較的無孔質性で熱 的に絶縁性のものである。また、それは重ねられる障壁層にしっかりと接合し、 しかし下にある吸収体とはどちらかといえば弱く結合しくたとえば、その吸収体 は好ましくはその゛バッド″に対して比較的非反応性のもの)、またもちL/v  、フラッシュ中間コーティングを用いることもできる。またそれは化学的に安 定かつ適合し得るものであって(レコードRoにおいて汚染物質を放出しない) 、かつ隣接層(すなわち、吸収体eと硬質コートg)と熱的かつ機械的に適合し 得るべきである。また理想的には、それは付与するのが便利でかつコスト効率の 良いものである(たとえば、層c、d、eと同じ析出方法と装置を用いて)。°゛Soft pad'' super coating f has the intended R/W wavelength ( Not only is it highly transparent to λ(), but it is also sufficiently variable to maximize sensitivity. A relatively non-porous and heat-resistant material that can be shaped and compressed and has a relatively low specific heat. It is essentially insulating. It also firmly bonds to the superimposed barrier layer, However, it is rather weakly bonded to the underlying absorber; for example, the absorber is preferably relatively non-reactive with respect to the bud), and also has L/v , a flash intermediate coating can also be used. It is also chemically safe. (does not emit pollutants in record Ro) , and thermally and mechanically compatible with the adjacent layers (i.e. absorber e and hard coat g). You should get it. Ideally, it would also be convenient and cost-effective to grant. (e.g. using the same deposition method and equipment as layers c, d, e).

上述のような(真空蒸着などされた’)FEPとPTFEは、(上記の表■で要 約されているような)これらの厳しい要件のすべてではないにしてもそれらのほ とんどに適合することがわかろう。しかし、適当な場合には他の類似の材料(た とえば、類似の゛弱く高分子化″されたフルオロポリマー)が適するであろう。FEP and PTFE as described above (vacuum deposited, etc.) are Most if not all of these stringent requirements (such as You will find that it fits perfectly. However, other similar materials (such as For example, similar "weakly polymerized" fluoropolymers) would be suitable.

また、そのような“軟質パッド”が吸収体をその両側からサンドイッチ状に挾む とき、それによって与えられる“熱的機械的隔離″は著しいものであることが認 識されよう。In addition, such "soft pads" sandwich the absorbent material from both sides. It is recognized that the “thermal and mechanical isolation” provided by this is significant. be understood.

隣接するコーティングとの適合性や接合を最適にするために(たとえば、゛硬質 ″オーバコーティングへの付着性を高めかつ/または下にある吸収体・層との接 合を弱めるために)゛軟質パッド″オーバコーティングfのその後の処理が必要 であるかもしれない。たとえば、軟質FEPスーパコートの表面上に真空蒸着さ れた数原子層の酸化珪素(Si O2)またはAi、O,は、後で述べられる照 射硬化型のアクリル樹脂のような硬質オーバコーティングgの濡れ性などを高め るためにしばしば好ましいものであることがわかった。ここでの特徴として、そ のような1゛軟質パツド”スーパコーティングは、その上の硬質スーパコートに 対して強い接着性を与えるが下にある吸収体層に対しては比較的弱い結合である ことがわかる。To optimize compatibility and bonding with adjacent coatings (e.g. ``Improve adhesion to the overcoating and/or improve contact with underlying absorbent layers. subsequent treatment of the “soft pad” overcoating (to weaken the bond) is required. It may be. For example, vacuum deposited on the surface of a soft FEP supercoat. Several atomic layers of silicon oxide (SiO2) or Ai, O, are Improves the wettability of hard overcoatings such as radiation-curing acrylic resins. It has been found that this is often preferable for The feature here is that A 1" soft pad" super coating like the one above has a hard super coat on top. provides strong adhesion to the material but relatively weak bond to the underlying absorbent layer I understand that.

吸収体e上(すなわち、外側部分)のオーバコーティングO−Cの残りの部分は (ここで関連する特徴に従って)゛°硬質″オーバコーティング層gで形成され て、好ましくは後で述べられるアクリル樹脂製である。これは外側の機械的保護 や(パッドfとともに)必要なデフォーカシング厚さを与えるためのみならず、 良好な蒸気障壁や静電防止表面として働く。硬質オーバコートΩのための好まし い調製とそれを付与するための関連する好ましい方法は後で詳述される。The remaining part of the overcoating O-C on the absorber e (i.e. the outer part) is formed with a “hard” overcoating layer (according to the characteristics relevant here) It is preferably made of acrylic resin, which will be described later. This is the outer mechanical protection and (along with pad f) not only to provide the necessary defocusing thickness; Acts as a good vapor barrier and antistatic surface. Preferable for hard overcoat Ω The preparation and associated preferred methods for applying the same are detailed below.

層9の厚さは、ある程度まで、用いられる光学システムに依存する(たとえば、 対物レンズにおける球面収差の補正が関係するであろう)。この実施例に関して 100〜180ミクロンのオーダの厚さが全く適することがわかった。The thickness of layer 9 depends to some extent on the optical system used (e.g. correction of spherical aberration in the objective lens may be relevant). Regarding this example Thicknesses on the order of 100-180 microns have been found to be quite suitable.

結果= (例A、第2図): 上で提示された“硬質/軟質″オーバコートの実施例(たとえば、特に後述の例 ■のようなアクリル樹脂が第2図のような下層の吸収体である3重層などととも に上述の例■のような゛軟質パッド”上に付与される場合)は、驚くべき良好な 感度(たとえば、厚い5i0zオーバコートが吸収倉に被さっている類似のレコ ードより優秀)を与えるのみならず上述の他のめられる特性(たとえば、表I) をも与えることがわかるであろう。Result = (Example A, Figure 2): Examples of “hard/soft” overcoats presented above (e.g., especially the examples below) The acrylic resin shown in ■ is combined with the triple layer of absorbent material in the lower layer as shown in Figure 2. ■ If applied on a ``soft pad'' as in the example above), a surprisingly good Sensitivity (e.g. similar records with a thick 5i0z overcoat over the absorber) (e.g., Table I) It will be seen that it also gives

もちろん、技術音速はこの実施例(例A)がどちらかといえば概略的に述べられ ていることがわかるであろう。Of course, the technical speed of sound is described in this example (Example A) rather schematically. You will see that

°゛硬質″と゛軟質パッド″のコーティングの材料や析出などのより詳しい特徴 は他の部分で述べられる(″硬質”は例■などを参照;゛軟質パッド″はサンプ ル1.Iなどを参照)。More detailed characteristics such as materials and precipitation of coatings for °hard and soft pads are mentioned elsewhere (for “hard” see example ■, etc.; for “soft pad” Le1. (see I, etc.).

すなわち、概略的に上述された゛°軟質パッド”オーバコートは他の部分のいく つかの例において詳述される(たとえば、構造、材料、調製、使用などに関して サンプル■。That is, the "soft pad" overcoat generally described above is In some instances detailed (e.g., with respect to structure, materials, preparation, use, etc.) Sample ■.

■などをその示された結果や有利な特徴とともに参照せよ)。たとえば、そのよ うな゛軟質パッド”(FEPまたはPTFE)は溶融シリカのような通常のコー ティングより優秀なものである(たとえば、必要な書込エネルギを減少させ、環 境に対する長くかつ良好な安定性と有効性を与え、それはたとえば適当な゛″硬 質オーバコーティングと組合わされたときに湿気の吸収という観点において著し い)。(See ``■, etc.'' with their demonstrated results and advantageous features). For example, that Una "soft pad" (FEP or PTFE) is made from ordinary coatings such as fused silica. (e.g., reduces the required write energy and reduces the It provides long and good stability and effectiveness against significant in terms of moisture absorption when combined with a quality overcoat. stomach).

形成される゛硬質″オーバコートはそのような保護的外部コートの予想される通 常の特性(たとえば、硬度、擦傷抵抗性、非粘着性)を示し、容易に清浄化され (たとえば、埃、油、指紋)、λ に対して透明であって、さらに水蒸気や酸素 などのような汚染物質に対して低い浸透性を示す。The “hard” overcoat that is formed is consistent with the expected customs of such a protective outer coat. exhibits common properties (e.g. hardness, scratch resistance, non-stick properties) and is easily cleaned. (e.g., dust, oil, fingerprints), λ, and even water vapor and oxygen. It shows low permeability to pollutants such as.

さらに、それは“軟質パッド゛′に対して十分に接合する。Furthermore, it bonds well to the "soft pad".

そのような硬質コート材料は(良好な本実施に従って)スピンコーティングによ って付与され、または技術音速に知られている他の適当な技術によって付与され る(たとえば、成る場合には、スプレーコーティング、どぶ潰コーティング、流 れコーティングまたはカーテンコーティングが代わりに実施し得る)。後で詳述 されるような照射硬化型のアクリルコーティングは多くの場合に適するものであ ることが理解されよう。Such hard-coated materials can be prepared by spin coating (according to good practice). or by any other suitable technique known to the technology (e.g., spray coating, gutter coating, curtain coating or curtain coating may be performed instead). More details later Radiation-cured acrylic coatings, such as It will be understood that

硬質/軟質オーバコーティングのための他の材料:適当な場合には、他の°゛軟 質パッド”および/または゛′硬質オーバコート”材料がここで詳述された好ま しい実施例に示された機能のすべてまたはい(つかを発揮するように用いること ができることを技術音速は理解するであろう。たとえば、成る場合には硬質オー バコートが透光性のシートの形態をとってもよい(たとえば、“軟質パッド”上 に被せられた水晶または同様なガラス状の材料、逆の場合も同様)。また成る場 合にはその゛軟質パッド”は硬質コートのための接着剤としても働き得る。Other materials for hard/soft overcoatings: if appropriate, other ``hard pad'' and/or ``hard overcoat'' materials are preferred as detailed herein. be used to achieve all or some of the functions shown in the new embodiments; You will understand that the technology is capable of speed of sound. For example, if the The bacote may take the form of a translucent sheet (e.g. on a “soft pad”). (crystal or similar glass-like material overlaid, and vice versa). A place to be again In some cases, the "soft pad" can also act as an adhesive for the hard coat.

好ましい゛硬質オーバコート”材料: 前述のことを発展させて、我々は次に上述のような保護的゛硬質″オーバコーテ ィング(たとえば、第1図や第2図などのODディスク状の“軟質パラドパに被 さるスーパコーティングとして)用いるのに特にかつ驚くほど適した種類の材料 を述べる。その後に、我々はそのような゛硬質コーティング″材料をODディス クまたは類似の構造に付与するための好ましい新規な関連する技術を述べる。Preferred “hard overcoat” materials: Building on the foregoing, we next apply a protective "hard" overcoat as described above. (For example, when covered with an OD disc-shaped “soft paradopa” as shown in Figures 1 and 2) a type of material that is particularly and surprisingly suitable for use as a supercoating state. Subsequently, we apply such “hard coating” materials to OD disks. The present invention describes preferred new and related techniques for application to blocks or similar structures.

例I: (サンプル■上の゛硬質”コーティング:am。Example I: (“Hard” coating on sample ■: am.

付与、硬化): この例はサンプル■の実施例に(吸収体に被さるFEP゛軟質パッド″スーパコ ート上で)応用される好ましい照射硬化型のアクリル硬質コーティング混合物1 4 HI ITの調製と特性を述べることを意図しており、またこれをサブスト レートに付与してそれをその場で硬化させる一般的な方法を述べることをも意図 しており、またその後でこれを所定の光学データディスクへ付与するための特定 の好ましい方法の詳細が述べられる(第3図と第4図に関連する記述を参照)。application, curing): This example is based on the example of sample Preferred radiation-curable acrylic hard coating mixture for application (on boards) 4 HI It is intended to describe the preparation and properties of IT, and also to describe the preparation and properties of HI IT. It is also intended to describe a general method of applying to a rate and curing it in situ. and a specific specification for subsequently attaching this to a given optical data disc. Details of the preferred method are described (see description related to FIGS. 3 and 4).

空温とその他通常の条件における作業によって、次の゛硬質オーバコート″ポリ マー混合物H−1が約7m1l厚さの゛硬質”保護オーバコーティングとして付 与されるよう意図されて調製され、それは所定の光学データディスク表面上に均 一にスプレーされて硬化する前述の特性を有している。この表面は、適当に処理 されたアルミニウムディスクサブストレート(たとえば、その上に平滑化予備コ ートを有する)とその上に重ねられた3重層の光学記録母体とさらにその上の真 空蒸着された薄い(約9500A厚さに蒸発されて析出されて高分子化されたF EPまたは類似の゛軟質パラドパフルオロポリマー) ゛軟質パラドパスーパコ ーティングとからなっていると考えてよい。すなわち、そのような“変種FEP ポリマー”がここで選択されたサブストレートである。By working in air temperature and other normal conditions, the next ``hard overcoat'' poly The polymer mixture H-1 was applied as a ``hard'' protective overcoat approximately 7ml thick. It is intended to be prepared and distributed evenly over a given optical data disc surface. It has the above-mentioned properties of being sprayed and cured. This surface should be treated appropriately. aluminum disc substrate (for example, with a smoothed precoat on top) a triple-layered optical recording matrix overlaid on it, and a Vapor-deposited thin (approximately 9500A thick F) EP or similar "soft paradopa fluoropolymer" "soft paradopa supercopolymer" It can be thought of as consisting of That is, such “variant FEP Polymer” is the substrate of choice here.

混合物H−1重量割合 紅」1重層へi皿−Celrad 1700 (Cel anese社)120105〜135Celrad 3200 (Celane se社)4035〜45TMPTA 160 145〜175 2エチルへキシルアクリレート 180 160〜200(2−Eh A) ”FC−430”(3M社) 2.5 2.5Darocure 1173 5  5 Celrad 1700は比較的高い分子重量のアクリルアクリレートであって 、適当にイニシエート(開始)されるとき(後述のように)紫外線によって容易 に硬化されることがわかるであろう。この基本的プレポリマー物質は、比較的長 い使用寿命を超える硬化型のコーティングにめられる強靭性と化学的安定性を与 えるために選択され、またそれは非常に迅速にかつ便利に硬化して良好な透明度 を生ずるので選択され、さらに他のすべての成分と同様にそれは調製して対与す るのが一般に低コストでかつ容易であるのでここで好まれ、またさらにそれは( 他の部分で述べられるように請求められる゛記録保存″保護コーティングを生ず るので選択される。Mixture H-1 weight ratio Red to 1 layer i plate - Celrad 1700 (Cel anese) 120105-135 Celrad 3200 (Celane se company) 4035~45TMPTA 160 145~175 2-ethylhexyl acrylate 180 160-200 (2-Eh A) "FC-430" (3M Company) 2.5 2.5 Darocure 1173 5 5 Celrad 1700 is a relatively high molecular weight acrylic acrylate. , facilitated by ultraviolet light (as described below) when properly initiated. It will be seen that it is hardened. This basic prepolymer material has a relatively long Provides the toughness and chemical stability required for cured coatings that extend over a long service life. It is also selected to cure very quickly and conveniently with good clarity. It was chosen because it gives rise to is preferred here because it is generally low cost and easy to use, and furthermore it is Produces a claimed “archival” protective coating as described elsewhere. It is selected because

Ce1rad 3200は比較的低分子重量(1oOO〜2000の分列1のア クリルエポキサイドであって、サブストレート上にコーティングを流す場合に便 利な程度、の低い粘性に適している。またそれは擦傷抵抗やバルクの強度や他の 保護的特性を増大させて、かつ特に湿気に対する抵抗を高める(さもなくば、適 当な゛′湿度テスト”条件の下にその高分子化されたコーティングは、湿気を吸 収しすぎることによって膨張してクラックを生じやすくなるであろう)。Ce1rad 3200 has a relatively low molecular weight (1oOO to 2000 column 1 atom) Krylic epoxide, useful for pouring coatings onto substrates. Suitable for low viscosity. It also has scuff resistance, bulk strength and other Increases protective properties and especially resistance to moisture (otherwise suitable Under proper ``humidity test'' conditions, the polymerized coating absorbs moisture. (If it is packed too much, it will expand and become prone to cracking.)

そのような“低分子量″の希釈剤〈および他の低粘性添加剤)なしには、この調 製は付与するために粘性が高すぎて分厚くなるであろう(後述の好ましいスパイ ラル付与技術を参照;たとえば、混合物は配給ノズルを通して流れなければなら ない)。また、硬化したコーティングは膨張してクラックを生じる傾向にあるで あろう。その’ 3200 ”は比較的安価であって他の成分と適合し、まため られる高分子化に参加すると考えられている。Without such “low molecular weight” diluents (and other low viscosity additives), this preparation will be too viscous and thick to apply (see below for preferred spices). See ral application technique; for example, the mixture must flow through a dispensing nozzle. do not have). Also, cured coatings tend to swell and crack. Probably. The '3200' is relatively inexpensive, compatible with other ingredients, and It is thought that it participates in polymerization.

しかしながら、3200は時間とともにわずかに変色する傾向にあり、かつそれ はわずかに“′ゲル″の含有(もし濾過されないなら問題となる)を示すことが あるので、その濃度は通常は実施し得る範囲で最小にされるべきである。However, 3200 tends to discolor slightly over time, and may exhibit slight “gel” content (which would be a problem if unfiltered). As such, its concentration should normally be minimized to the extent practicable.

技術音速は、他の同様な低粘性のコモノマー(またはプレポリマー;低粘性の希 釈剤)が代用されて適宜粘性を調節し得ることを認識するであろう。たとえば、 他のCe1rad調製は分子量においてさらに低く、また粘性をさらに低く下げ るためにCe1rad 1700と換えることができるであろう。しかし、他の 一般的なコーティング用ポリマーは実用的でな(、たとえばあるシリコーン樹脂 は溶解性と硬化の問題を生じる。Technical sonic velocity is determined by other similar low viscosity comonomers (or prepolymers; low viscosity diluted It will be appreciated that diluents) may be substituted to adjust the viscosity as appropriate. for example, Other Ce1rad preparations are even lower in molecular weight and also lower in viscosity. It could be replaced with a Ce1rad 1700 in order to But other Common coating polymers are impractical (for example, some silicone resins creates solubility and hardening problems.

トリメチルオルプロパントリアクリレート<TMPTA)はこの混合物において 用いるのに適した゛低分子量″のクロスリンク剤である。トリメチルオルトリメ タクリレートのような他の類似のクロスリンク剤を代用することもできるであろ う。技術音速がよく知っているように、いくつかのそのようなりロスリンク子が コーティングの強度などを高めるために通常用い゛られ、それは好ましくは他の ゛低分子量”のクロスリンク子である。Trimethylolpropane triacrylate <TMPTA) in this mixture It is a “low molecular weight” cross-linking agent suitable for use with trimethyl orthotrimethane. Other similar cross-linking agents such as tacrylate could also be substituted. cormorant. As the technical speed of sound is well aware, some such loss linkers are It is usually used to increase the strength etc. of the coating, and it is preferably It is a "low molecular weight" crosslinker.

TMPTAまたはCe1radの省略(等価なもので置換えることなく)はあま りに粘性を低下させ、硬化したオーバコートを軟化させて湿気の侵入を許すこと によってその膨張によるクラックの発生を生じる傾向にある(たとえ□ば、後述 のH−2を参照)。Omitting TMPTA or Ce1rad (without replacing it with an equivalent) is not acceptable. to reduce viscosity and soften the cured overcoat to allow moisture ingress. tends to cause cracks due to its expansion (for example, (See H-2).

2エチルへキシルアクリレート(2−Eh A)は゛3200″に対する補足的 な有機希釈剤であって、それは最終のポリマーコートの柔軟性(たとえば、擦傷 抵抗)の改善と孟低い)粘性の調節のために加えられる。技術音速は、イソデシ ルアクリレート(iso −decyl’ acrylate) (Dような希 釈剤を代用することができることを認識するであろう(しかし、硬さや強靭性は 少し影響されるであろう)。2-ethylhexyl acrylate (2-Eh A) is a supplement to “3200” organic diluent that reduces the flexibility of the final polymer coat (e.g., Added to improve resistance (lower resistance) and adjust viscosity (lower resistance). Technical speed of sound is acrylate (iso-decyl' acrylate) (rare like D It will be appreciated that diluents can be substituted (but the hardness and toughness will be may be slightly affected).

” [) arocure 1173”はそのような混合物のそのようなCUV >硬化に適した光学イニシエータである。技術音速はチバガイギー社によるr  r(lacUre # 184またはI rgacLlre#651のような多 くの類似のイニシエータの1つを代用してもよい。"[)arocure 1173" is such a CUV of such a mixture > Optical initiator suitable for curing. Technical speed of sound is r by Ciba Geigy. r(lacUre#184 or IrgacLlre#651) One of many similar initiators may be substituted.

” F C−430”は有機高分子コーティングシステムのための“非イオン界 面活性剤″として特徴付けられるフルオロポリマーの゛界面活性”添加剤であっ て、前述のパセッティング″の機能を示す。それは濡れ性、平坦化2分散化など の機能の助けとなることが知られており、また成るサブストレート上の成るコー ティングの表面張力を減少させるのに適した流れ制御剤として知られている。そ れは非常に非反応性であって、水ベースまたは溶剤ベースのシステム(およびほ とんどのポリマー)と適合するものとして推奨されている。“’ F C−43 0”は成る調節によって類似の表面活性剤“FC−431”(これも3M社によ るものであってイソプロパツールとエチルアセテートによって50%薄められる が、それは高い高分子重量を有していてここでは好ましいものではない)で代用 することも可能であろう。"F C-430" is a "non-ionic field" for organic polymer coating systems. A ``surfactant'' additive to fluoropolymers characterized as a ``surfactant.'' This shows the functions of the above-mentioned ``Passetting''. It is known to aid in the functioning of It is known as a flow control agent suitable for reducing the surface tension of coatings. So It is very non-reactive and is compatible with water-based or solvent-based systems (and most Recommended as compatible with most polymers). “’ F C-43 0" is a similar surfactant "FC-431" (also from 3M). diluted by 50% with isopropanol and ethyl acetate. but it has a high polymer weight and is not preferred here) It would also be possible to do so.

また、FC−430は、゛変種F E P ”のようなサブストレート上のH− 1のようなアクリル混合物のために前述の゛セツティング″作用を与える他のそ のような界面活性剤で代用することも可能である。In addition, FC-430 is compatible with H- For acrylic mixtures such as No. 1 other It is also possible to substitute surfactants such as

後述されるように、ODディスク表面へスパイラルのループ状にモノマーの混合 物を付与する過程において(第3図のディスクCD上のスパイラル状のビードb と後の関連する記述を参照)、その゛ビード″が非常に容易に付与されるごとが わかったことは幾分驚きであった。すなわち、それらのビードは対称形の形でそ れらの場所に留まって、たとえば溶媒のステップが始まるときまで比較的わずか に拡がるだけである。この代わりに、後述の例M−2のように、もしそれらのビ ードが接触して施されるならば拡がりはすぐに起こる。そのような場合にはいく らかのまたはすべてのFC−430が共に配給されるであろう。しかし、ディス クの中心近くで“縁を保つ”ことは困難に違いない。As described later, monomers are mixed in a spiral loop onto the OD disk surface. In the process of adding objects (the spiral bead b on the disc CD in Figure 3) (see related description below), the "bead" is very easily attached. What I found out was somewhat of a surprise. That is, the beads are arranged in a symmetrical manner. remain in place until, for example, the solvent step begins. It only spreads. Alternatively, as in Example M-2 below, if those bits If the code is applied in contact, spreading will occur quickly. In such cases, go Any or all FC-430s will be distributed together. However, the disk It must be difficult to ``maintain the edges'' near the center of the ku.

FC−430はこの゛セツティング″作用を高めるようであり、その機能は今ま で知られていなかった。FC-430 seems to enhance this "setting" effect, and its function has not been achieved until now. was not known for.

、F C−430は、第3図と第4図に図解されたタイプの場合に、すなわちデ ィスクを回転させてそのディスクの上にモノマーの混合物を分配する過程におい てこの゛セツティング作用″を高めるように意図されている。なぜならば、その ように付与される“ビード”はそれらが非対称に変位しないように遠心力に耐え なければならない。技術音速が理解するであろうように、その非対称な変位は不 均等なコーティングの原因となるものである。, FC-430 is of the type illustrated in Figures 3 and 4, i.e. In the process of rotating a disk and distributing the monomer mixture onto the disk. It is intended to enhance the "setting action" of the lever because its The “beads” applied in this way withstand centrifugal forces so that they do not displace asymmetrically. There must be. As the technology of sound speed will understand, its asymmetrical displacement is This causes uniform coating.

もちろん、他のコーティング方法を用いることによってFC−430添加剤は重 要なものではなくなって省略し得るかもしれない(たとえば、異なった゛非セツ ティング″界面活性剤を使用し得る)。たとえば、サブストレートディスクが混 合物を付与される間回転し続けない場合である(たとえば、その混合物は゛自己 平坦化′°するであろう;後述参照)。Of course, by using other coating methods the FC-430 additive can be It may no longer be essential and can be omitted (for example, a different surfactants may be used). For example, if the substrate disk is This is the case when the mixture does not continue to rotate while being applied (for example, the mixture flattening (see below).

すべてではないにしてもほとんどの通常の関連する界面活性剤は不適当であろう 。たとえば、SWSシリコーン社による°′シリコーン液F−815”は通常の シリコーン界面活性剤であって、平滑性と均一性を促進するためにコーティング において広く用いられている。しかし、それはく混合物H−1の)スパイラル状 のビードに時機尚早に流れを起こさせる(不十分な′″セツテイング作用;゛′ リング状″または半径方向に非対称な厚さとなる)。E hecryl−350 (バージニアケミカル社)は同様に不満足なものであった。Most if not all common associated surfactants may be unsuitable . For example, °'Silicone Fluid F-815" by SWS Silicone Co., Ltd. Silicone surfactant, coated to promote smoothness and uniformity It is widely used in However, the spiral shape of the mixture H-1 causes the bead to flow prematurely (insufficient ′′setting action; ゛′ ring-shaped or radially asymmetric thickness). E hecryl-350 (Virginia Chemical Company) was similarly unsatisfactory.

混合物H−1はどのような場合にも分配やディスク付与を最適にするように″° 粘性調節パされ、ここで当該環境条件(室温、FEPサブストレート表面など) において最終的な粘性は100〜150cpの範囲内であるべきである。Mixture H-1 was prepared in such a way as to optimize distribution and disc application in all cases. The viscosity is adjusted under the relevant environmental conditions (room temperature, FEP substrate surface, etc.) The final viscosity should be in the range of 100-150 cp.

後で提示されるように、H−1(および同様な混合物)のような調製は広範な化 学的な他のどのような添加剤にも全く許容的であって、したがって適当な場合に はそれらの添加剤を加えることができる。As presented later, preparations like H-1 (and similar mixtures) It is perfectly acceptable to use any other chemical additives and therefore may be used where appropriate. can add those additives.

硬化: 当該ディスクの(FEP)表面上へのほぼ完全に酸素が除去された状態でのくた とえば、後述のようにN2または同様な不活性ガスによる予備洗浄によって)材 料の塗布(たとえば、後述のスパイラル技術を介して;サンプル■参照)におい て、そのコーティングはディスクがゆっ(つと回転されている間に紫外線による 数分間の露出によって光硬化する。これによって良好で十分に硬化した゛硬質パ オーバコーティングが形成される(補足的な熱が不要で、高分子化を完成させる ための時効時間が不要)。Curing: Debris on the (FEP) surface of the disk in an almost completely deoxygenated state. (for example, by pre-cleaning with N2 or similar inert gas as described below). odor application (e.g. via the spiral technique described below; see sample ■). The coating is exposed to ultraviolet light while the disc is slowly rotated. Light cures by exposure for several minutes. This results in a good, well-cured hard part. An overcoating is formed (no supplemental heat is required and completes the polymerization) (no statute of limitations required).

より特定的にかつ好ましくは、窒素による予備洗浄(たとえば、すべての酸素を 除去するために約30秒)から始められ、次に窒素下において約1分から3分の 間またはそのコーティングを必要なだけ硬化させるのに十分なだけUVに露出さ せる。好ましくは、これはディスクをゆっくりと(たとえば、1 / 2 ro mから2rom)回転させながら行なわれ、その間に約40°〜80’の扇形が 各瞬間においてUVにさらされている。好ましいUVビームは2つの熱フィルタ に通されて、それは単色ではないが大部分が0゜3〜0.4μmの範囲のλ内に あり、強度はλとともに変化する(たとえば、0.366μmにおいて1/2分 〜5分の照射は10σ’Ill W/cm2)。用いられるイニシエータが少な くて硬化に長くかかるような場合は、等価な長い低強度による露出よりも比較的 高強度の短い露出の方が好ましいようである。明らかにそれは゛酸素クエンチ” を妨げるからである。More specifically and preferably, pre-cleaning with nitrogen (e.g. to remove all oxygen) (approximately 30 seconds) and then under nitrogen for approximately 1 to 3 minutes. exposed to UV for a period of time or long enough to cure the coating as required. let Preferably, this is done by rolling the disc slowly (e.g. 1/2 ro This is done while rotating (from m to 2rom), during which a fan shape of approximately 40° to 80' is At each moment it is exposed to UV. The preferred UV beam has two thermal filters , it is not monochromatic but mostly within λ in the range of 0°3-0.4 μm. Yes, the intensity changes with λ (for example, 1/2 minute at 0.366 μm ~5 minutes of irradiation is 10σ'Ill W/cm2). Fewer initiators are used In cases where the Short exposures of high intensity appear to be preferable. Obviously it's "oxygen quench" This is because it prevents

プロセス最適化: 1、 小さな気泡は゛″ピンホールまたは類似の散乱場所を生じゃすい;溶液の 真空脱ガスとその後の注意深い取扱いによってこれを除去できる。Process optimization: 1. Small air bubbles create “pinholes” or similar scattering sites; This can be removed by vacuum degassing and subsequent careful handling.

2、 コーティングの“オレンジビール”組織が起こりやすい。それは硬化雰囲 気において酸素を除去することによって防ぐことができ、たとえばその硬化は3 0秒間の窒素による予備洗浄と硬化サイクル中の窒素の使用によって行なわれる 。これはまた硬化時間を著しく短縮する。2. “Orange beer” texture of the coating is likely to occur. It is a hardening atmosphere can be prevented by removing oxygen in the atmosphere, e.g. Performed by pre-rinsing with nitrogen for 0 seconds and using nitrogen during the curing cycle. . This also significantly reduces curing time.

適当な場合には、(長期の記録保存寿命にわたる)適当な安定性の保証に注意し つつがっ(たとえば、熱影響による揮発または不適切な硬化による)材料の応力 クラックまたは分解の発生の防止に注意しつつ、他の関連する技術および/また は材料とそれに付随する調整で代用することができることを技術音速は認識する であろう。Where appropriate, care should be taken to ensure adequate stability (over long archival lifetimes). Stress in the material due to poking (e.g. due to volatilization or improper curing due to thermal effects) Other related techniques and/or The technology recognizes that the speed of sound can be substituted by the material and its attendant adjustments. Will.

照射硬化は他の関連する方法より好ましい。たとえば、゛過酸化硬化″は一般に 制御するのが複雑でかつ困難であって、それは短い“ポットライフ”を示す。さ らに、その過酸化硬化反応は発熱的かっ“ガス放出的”であって過熱されやすく 、制御するのが困難でかつ取扱いに危険が伴なうことを技術音速は認識するであ ろう。たとえば、過酸化硬化の良好な制御のためには、温度は低(保たれなけれ ばならず、したがって望まざる長時間の硬化時間となる。また、ガスが放出され るので、もしその硬化が迅速に進めばこれらのガスは適切に消散されずに、望ま れざる曇りを含むこととなり、光を散乱する半透明のコーティングとなる。Radiation curing is preferred over other related methods. For example, "peroxide curing" is generally Complex and difficult to control, it exhibits a short "pot life". difference Additionally, the peroxide curing reaction is exothermic or “outgassing” and easily overheated. The technical speed of sound must recognize that it is difficult to control and dangerous to handle. Dew. For example, for good control of peroxide cure, temperatures must be kept low ( This results in undesirably long curing times. Also, gas is released If the curing proceeds quickly, these gases will not be properly dissipated and may not be as desired. This results in a translucent coating that scatters light.

結果: 混合物H−1は、ディスク(FEP表面)上に付与されて硬化されるとき、硬質 で透明な保護コーティングを与え、前述の当該要件(たとえば、湿気の侵入とそ れに関連する膨張クラックを防ぎ、優れた光学的透明性を備えかつ良好な擦傷抵 抗を示し、さらにたとえば室温における単純な石鹸洗いによって容易に洗浄され る)のすべてをほとんど満足することがわかるであろう。result: Mixture H-1 is hard when applied onto the disk (FEP surface) and cured. provide a transparent protective coating to meet the requirements mentioned above (e.g. moisture ingress and It prevents the expansion cracks associated with resistant and is also easily cleaned, e.g. by a simple soap wash at room temperature. It will be seen that almost all of the above are satisfied.

耐湿性は特に驚異的かつ印象的であって、たとえば100%の不浸透性ではない が、この硬質コートは水中への長い浸漬(1回のテストにおいて14日間)の後 であっても膨張クランクは生じない。同様に、その硬質オーバコートは厳しい温 度/湿度サイクリング(たとえば、室温から140℃で約40%の湿度から80 %の湿度までの範囲で何週間もの間〉に耐えることが観察された。Moisture resistance is particularly impressive and impressive, e.g. not 100% impermeable However, this hard coat does not survive after long immersion in water (14 days in one test). However, no expansion crank occurs. Similarly, its hard overcoat degree/humidity cycling (e.g. from room temperature to 140°C and about 40% humidity to 80°C) It has been observed to withstand humidity levels up to 10% for many weeks.

さらに、この外部コーティングは長期にわたる安定性を示すことがわかる。たと えば、かなり厳しい温度/湿度サイクリングに対する長期間の露出に耐え、また その硬質コーティングはODDの他の層へ移動して劣化させがちなく表面活性剤 または感光性化剤またはそれらの副産物のような〉″′低低分子重量成分管含ま ないようである。この“安定性″とそれに関連する強靭性などは、生成されたそ れぞれのクロスリンクされた長いチェーンのポリマーグループから生じると考え られる。Furthermore, it can be seen that this outer coating exhibits long-term stability. and For example, it can withstand long-term exposure to fairly severe temperature/humidity cycling and Its hard coating does not tend to migrate to other layers of the ODD and degrade the surfactants. or contains low molecular weight components such as photosensitizers or their by-products. Apparently not. This “stability” and its associated toughness are the thought to arise from each cross-linked long chain polymer group It will be done.

また、この硬質コートは請求められるようにF E P ”軟質パッド″に十分 に粘着する。その硬質コートおよび/または゛軟質パッド″が変えられればその ような粘着力は生じないであろう。そのような場合、適合し得る(たとえば、十 分に透光性の)“粘着性の中間層″が必要とされるであろうが、それは好ましく ない(たとえば、それは厚さの制御を複雑にする)。In addition, this hard coat is sufficient for FEP "soft pad" as claimed. stick to. If its hard coat and/or “soft pad” are changed, No such adhesion will occur. In such cases, it may be suitable (e.g. ten A “sticky interlayer” (transparent) may be required, but it is preferred. not (e.g. it complicates thickness control).

フォトイニシエータの濃度は重要なようである。過剰な濃度のイニシエータはコ ーティングの下側部分の硬化に先立って上側の表面部分の時機尚早な硬化を生じ て、その硬化したオーバコートに大きな“皺″′を生じる結果となることが観察 された。これは明らかにその上側表面がまず硬化して収縮し、そして比較的まだ 硬化していない幾分液状である下側部分に対して滑るからである。The concentration of photoinitiator appears to be important. Excess concentration of initiator causing premature curing of the upper surface portion of the coating prior to curing of the lower portion of the coating. It was observed that this resulted in large “wrinkles” in the cured overcoat. It was done. This apparently means that its upper surface hardens and shrinks first, and then relatively still This is because it slips against the uncured, somewhat liquid lower part.

また、粘性と平坦化特性を制御することも重要である(たとえば、混合物H−1 の粘性を平坦化するのに十分なほど低くかつセットするのに十分なほど高く保つ )。アクリルプレポリマー(混合物H−1)の粘性の制御は付与されるコーティ ングの良好な゛平坦化゛′のための1つのキーである。たとえば、もし粘性が低 すぎるならば、そのコーティングビードはあまりに容易に゛流れ゛を起こして適 当に“セットアツプ″シないであろう。もし粘性が高すぎるならば、ビードはあ まりにゆっくりと平坦化しまたは完全には平坦化しない。これに関連するコーテ ィング技術分野の技術音速やそのようなアクリル材料を調製して用いることに関 係する人達は、広い領域にわたって“比較的ぞんざいに″配布されたものである 比較的分厚いコーティングの均一性に驚かされるであろう。すなわち、7ffl i1 または180μmのコーティングを3インチから4インチのコーティング スパンにわたって±0.7〜7μmのオーダに制御することは全く注目すべきこ とである(たとえば、第3図の4インチのバンドBj参照、それは14インチデ ィスクdの周囲から6インチの半径方向の点まで延びている)。It is also important to control the viscosity and flattening properties (e.g., mixture H-1 keep the viscosity low enough to flatten and high enough to set ). Control of the viscosity of the acrylic prepolymer (mixture H-1) is achieved by applying a coating. This is one key to good ``flattening'' of the surface area. For example, if the viscosity is If too much, the coating bead will “flow” too easily and cannot be properly applied. There really won't be any "set-up". If the viscosity is too high, the bead will Flatten very slowly or not completely flatten. related to this technology in the field of sound velocity and the preparation and use of such acrylic materials. The people involved were distributed “relatively carelessly” over a wide area. You will be surprised at the uniformity of a relatively thick coating. That is, 7ffl i1 or 180μm coating from 3 inches to 4 inches Control on the order of ±0.7 to 7 μm over the span is quite remarkable. (For example, see the 4-inch band Bj in Figure 3, which is a 14-inch band Bj. (extending to a radial point 6 inches from the circumference of disk d).

ところで、技術音速は、アクリルコーティングおよび他の同様なコーティングで あって金属オーバコーティングのためのベースとして自動車工業におけるような またはフォトレジスト技術におけるようなどちらかといえば関係の薄いある種の 応用のためのコーティングについても知らされた。しかし、これらの他の応用は 比較的゛高粘性材料”°を利用し、通常は厚さの正確な直接的な制御のようなも のは何も行なわれずに幾分大雑把な方法で幾分薄い厚さにノズルでスプレー7れ る。自動車工業における類似のコーティングのためには、単に滑らかで見栄えの 良い外観だけがめられる。しかし、レーザ検知される散乱限定された光学的特性 は、平滑さや均一性においてはるかに厳密なもので後述のように(混合物hl− IA)修正された特性以外は例■が繰返されて、その混合物は同様に調製され、 かつ同様に付与されて硬化される。By the way, the technology sonic in acrylic coatings and other similar coatings such as in the automotive industry as a base for metal overcoatings or some rather unrelated types, such as in photoresist technology. Coatings for applications were also informed. However, these other applications Utilizes relatively “highly viscous materials”°, usually with precise direct control of thickness. It is sprayed with a nozzle to a somewhat thinner thickness in a somewhat crude manner without doing anything. Ru. For similar coatings in the automotive industry, simply smooth and good-looking Only good appearance is admired. However, laser-detected scattering has limited optical properties is much stricter in terms of smoothness and uniformity, and as described later (mixture hl- IA) Example ■ is repeated and the mixture is similarly prepared, except for the modified properties; and similarly applied and cured.

混1合−物HIA 重量割合 比」幻」」」ニニュΩ−Celrad 1700  80 (120)Celrad 3200 80 (40)TMPTA 16 0 (同一) 2−EhA 180 (〃) FC−4302,5(〃) 合計 507.5 (〃) 結果: 粘性が低く(ここでは3200が多めに用いられて1700が少なめである)、 その混合物がより容易に流れて拡がること以外は例Iの場合と同様である。Mixture 1 - HIA Weight Proportion Ratio "Illusion" Ninu Ω-Celrad 1700 80 (120) Celrad 3200 80 (40) TMPTA 16 0 (same) 2-EhA 180 (〃) FC-4302,5(〃) Total 507.5 (〃) result: The viscosity is low (3200 is used more here and 1700 is used less), As in Example I except that the mixture flows and spreads more easily.

uL= 異なった混合物“H−2”が下に示したように調製されることを除けば例Iが再 現されて、その混合物は同様に調製されかつ付与されて硬化される。uL= Example I is repeated except that a different mixture "H-2" is prepared as shown below. The mixture is similarly prepared and applied and cured.

混合物H−2重量割合 比較(hl−1)Celrad 1700 120 ( 120)(Celrad 3200 −・・除り) O(40)(TMPTA  ・・・除<) O(160)2エチルへキシルアクリレート 185 (180 )(2−Eh A) “FC−430” 2.5 (2,5)合計 312.5 (507,5) 結果: そのオーバコートがより゛軟質”であって湿気を吸収して゛膨張クラック″を生 じやすいことを除けば例■の結果とほぼ同様であった。Mixture H-2 weight ratio comparison (hl-1) Celrad 1700 120 ( 120) (Celrad 3200--excluding) O(40) (TMPTA ...Excluding <) O(160)2ethylhexyl acrylate 185 (180 ) (2-Eh A) “FC-430” 2.5 (2,5) Total 312.5 (507,5) result: The overcoat is ``softer'' and absorbs moisture, causing ``expansion cracks.'' The results were almost the same as in Example 2, except that it was easier to apply.

iL: イソデシルアクリレートが2−Eh Aと置換えられたこと以外はH−1と同様 のもう1つの代わり得る混合物H−3が調製されかつ付与されて硬化される。iL: Same as H-1 except that isodecyl acrylate was replaced with 2-Eh A Another alternative mixture H-3 is prepared and applied and cured.

混合物H−3重量割合 Ce1rad 1700 120 Celrad 3’200 40 TMPTA 160 イソデシルアクリレート 180 結果: 擦傷抵抗(表面硬さ)が改善されるが幾分膨張クラックを伴なうこと以外は、は ぼH−1と同様である。Mixture H-3 weight percentage Ce1rad 1700 120 Celrad 3'200 40 TMPTA 160 Isodecyl acrylate 180 result: The scratch resistance (surface hardness) is improved, but there are some expansion cracks. It is the same as H-1.

好ましからざる調製: 幾分驚くべきことに、成る同様な゛照射硬化型アクリル”の混合物は実際的でな くて当該目的に好ましいものでない。Undesirable preparation: Somewhat surprisingly, similar "irradiation-cured acrylic" mixtures of Therefore, it is not preferable for the purpose in question.

たとえば、下記の混合物H−4のような調製は(意図された0、4〜0.8μm の波長において)十分に透明かつ透光性ではなくて、特に光硬化後において曇っ たり変色しやすいものである。For example, preparations such as mixture H-4 below (intended 0, 4-0.8 μm not sufficiently transparent and translucent (at wavelengths of It is easily discolored.

混合物H−4: 2− E h ’Aの゛柔軟性ポリマー″を″ステアリルメタクリレートで置換 えること以外は混合物H−1が再現される。Mixture H-4: 2- Replacement of “flexible polymer” in Eh’A with “stearyl methacrylate” Mixture H-1 is reproduced except that

結果: いくらかの゛曇り″などが現われる(上記のように;明らかに相分離による)。result: Some "haze" etc. appears (as above; apparently due to phase separation).

そのコーティングは十分に透明ではなくて透光性ではない。The coating is not sufficiently transparent or translucent.

混合物H−5: 2−Eh Aがメチルメタクリレート(MMA)で置換え−られること以外は混 合物H−1が再現される。Mixture H-5: 2-Eh Mixed except that A is replaced with methyl methacrylate (MMA). Compound H-1 is reproduced.

結果: スパイラル状の付与が全く満足のいくものではない(明らかに粘性が低すぎる) 。また透明性が損われ、かつ硬化による収縮が大きい。result: Spiralization is not entirely satisfactory (viscosity is clearly too low) . In addition, transparency is impaired and shrinkage due to curing is large.

Ce1rad 1700と3200がアクリルウレタンで置換えられる以外はH −1のようである。Ce1rad H except 1700 and 3200 are replaced with acrylic urethane -1.

結果: ゛曇り”および膨張、クラック、さらに分離が過ぎる。result: Too much "cloudiness" and swelling, cracking, and separation.

混合物H−6のアクリルウレタンのような関連するアクリルポリマーが前述の“ 湿度テスト”の下にクラックと剥離を生じかつ/または湿気の吸収の結果として 曇ることがわかったことは驚くべきことである。たとえば、H−1の成る変更例 は硬化に際して剥離してカールし、厳しい温度/湿度サイクリングの後にサビン グコーティングを引き剥がして小片破壊してしまうことがわかった。また、その 硬質オーバコートが多くの湿気を取り込むことも驚くべきことであった(明らか にその゛硬質′″アクリルコーティングは考えられていたよりも親水性のもので ある)。Related acrylic polymers such as the acrylic urethane of mixture H-6 may be cracks and peels under the “humidity test” and/or as a result of moisture absorption It is surprising that it turned out to be cloudy. For example, a modification example consisting of H-1 peels and curls upon curing and sabins after severe temperature/humidity cycling. It was found that the coating could be peeled off and destroyed in small pieces. Also, that It was also surprising that the hard overcoat took in so much moisture (obviously The ``hard'' acrylic coating is more hydrophilic than thought. be).

また、前述のタイプの添加剤の成るものは、形成されるオーバコートを曇らせる かまたは変色させるようである。Additionally, additives of the aforementioned type may cloud the overcoat formed. or discoloration.

たとえば、1MA(H−5参照)のようなモノマーに溶媒樹脂を溶すとき、゛オ イルスポット″が結果として現われたく明らかに成る成分が時機尚早に高分子化 されて析出するからである)。For example, when dissolving a solvent resin in a monomer such as 1MA (see H-5), The components that become apparent as a result of "il spots" are prematurely polymerized. ).

コーティング方法: 以下は、ODディスクの外部保護オーバコートを形成するために(FEPのよう な)ODディスクサブストレルー上に前述の例のような“硬質コーティング”混 合物を付与するための新規な技術の例である。特に数mil厚さで高い均一性の ものが照射によってその場硬化されて、前述の長い寿命にわたってそのディスク のために前述の環境などに対する保護を与える。これらの技術は、非常に正確な 厚さとその厚さの均一性を制御できる便利でかつ経済的なコーティングと硬化の 方法であることを認識するであろう。Coating method: The following is used to form an external protective overcoat for the OD disk (such as FEP). ) A “hard coating” mixture on the OD disk substratum as in the example above. This is an example of a novel technique for applying compounds. Highly uniform, especially at a thickness of several mils The disc is cured in-situ by irradiation and lasts for a long lifespan as described above. For this reason, it provides protection against the environment mentioned above. These techniques are highly accurate Convenient and economical coating and curing method that allows control of thickness and thickness uniformity. You will recognize that it is a method.

当該コーティングでは約7m1lの高度に均一な厚さに付与されるが、技術音速 は約3Qmi1 までの厚さが満足できる状態で形成されることを認識するであ ろう。The coating is applied to a highly uniform thickness of approximately 7 ml, but the technical sound velocity It should be recognized that a thickness of up to about 3Qmi1 can be formed satisfactorily. Dew.

前述のような“′硬質コートの調製゛°は、ここでのもう1つの特徴による(た とえば、後述の°ようなODディスクへの)新規な゛スパイラル状の付与の方法 に全く適するものであることを認識するであろう。そのような材料は、配付の驚 くべき簡単さと容易さにもかかわらず、前述の驚くべき正確さの厚さの均一性の 制御に適するものである。``Preparation of the hard coat'' as described above is due to another feature here. For example, a new method for imparting a spiral shape to an OD disk as described below. You will find it perfectly suitable for Such materials are a surprise for distribution. Despite the remarkable simplicity and ease of the above-mentioned remarkable accuracy of thickness uniformity It is suitable for control.

たとえば請求められるコーティング厚さを知ることによって、その厚さに対応す る走行距離あたりのビード質量(Om/cm)の値のビードに容易に換算するこ とができる。For example, by knowing the requested coating thickness, you can The bead mass per running distance (Om/cm) can be easily converted into a bead value. I can do it.

その場合、平坦化機構によって予め決定されるスパイラルの間隔で必要な数のス パイラルを実験的に決定する。たとえば、第3図におけるバンドBbに近い約3 .5インチから約7インチの半径に拡がっているスパイラル状のバンドに関して 、これらの条件の下に20〜30のスパイラルが約7mi+厚さの非常に均一な コーティングを与えることがわかった。一方、10またはそれ以下のスパイラル 状(よひどく乱れた厚さの均一性を生じ、30よりはるかに多いスパイラルは多 すぎる。いかなる場合にも、スパイラルは重なり合ってはならない。In that case, the required number of strokes at the spiral spacing predetermined by the flattening mechanism Determine the spiral experimentally. For example, about 3 near band Bb in FIG. .. Regarding a spiral-shaped band extending from a radius of 5 inches to about 7 inches , under these conditions 20-30 spirals are formed into a very uniform layer of approximately 7 mi + thickness. It was found that it gives a coating. On the other hand, a spiral of 10 or less (produces a highly disturbed thickness uniformity; spirals with much more than 30 Too much. In no case should the spirals overlap.

したがって、技術音速は、慈図されたディスクの回転速度(たとえば、ここでは 4〜10rpm)が与えられれば、その材料の供給速度を計算して制御すること ができる。この簡単な技術によって一定のコーティング密度を付与することがで きる。すなわち、均一な“ビード”サイズはノズルからの成る一定の配給速度を 必要とする。認識されるであろうように、スパイラルの回転長さにおける一定の 変化にもかかわらずビード寸法と間隔を一定に保つために、ノ速度が調節される 。ディスクの回転は、材料が付与されたならばその材料を″移動″させたりまた は歪ませたりするようなものであってはならないし、もちろん“°遠(lzカ″ によブXディスクから落してはならない。Therefore, the technical speed of sound is defined as the rotational speed of the disc (for example, here 4-10 rpm) to calculate and control the feed rate of the material. Can be done. This simple technique provides a constant coating density. Wear. That is, a uniform "bead" size ensures a constant delivery rate from the nozzle. I need. As will be appreciated, a constant in the rotational length of the spiral The speed is adjusted to keep bead dimensions and spacing constant despite changes. . Rotation of the disc causes the material to “move” once it has been applied, or It must not be distorted, and of course it must not be “°far” (lzka). Do not drop the disc.

今、調製H−1が第1図における○Dディスク表表面へ成る好ましいスパイラル 様式で付与される場合に00で述べる。これは、前述の3重層の光学記録構造力 \付与されてさらにこの上に改善された°゛真空蒸着のFEP”の層(または類 似の゛軟質パッド″高分子表面)を備えたアルミニウムディスクとして理解され る。Now, Preparation H-1 is a preferable spiral that forms the surface of the ○D disk in Figure 1. When given in the form, it is stated in 00. This is due to the optical recording structure of the triple layer described above. A further improved layer of ``vacuum deposited FEP'' (or similar understood as an aluminum disc with a similar “soft pad” (polymer surface) Ru.

一般にその方法は、所定の(FEP)ディスク表面上に所定の数のスパイラルの 列または゛ビード″でコーティング材料を付与することを伴なうのがわかるであ ろう。次に、それらのビードは非常に平滑でかつ均一なコーティングに拡げられ るかまたは″゛平坦化”される。その後に、このコーティングはめられる”硬質 ”保護オーバコートを形成するように硬化させられる。この付与方法の成る特定 の好ましい形態のいくつかが述べられる。Generally, the method involves the formation of a predetermined number of spirals on a given (FEP) disk surface. It can be seen that this involves applying the coating material in rows or "beads". Dew. The beads are then spread out into a very smooth and even coating. or “flattened”. This coating is then applied to the “hard” ``cured to form a protective overcoat. Some preferred forms will be described.

例M−1: FEPサブストレートへのH−1の付与新規なコーティング方法の 好ましい形態が述べられる。Example M-1: New coating method for applying H-1 to FEP substrate Preferred forms are mentioned.

好ましい硬質コーティング混合物(好ましくは上記のH−1” )は、均一で対 称な゛ビード″のスパイラル状の列でディスクに付与するために選択されて用意 されかつ配置されることがわかるであろう。その後に、それらのビードは同時に ゆっくりと回転されているディスクによって°゛溶媒平坦化″(所定のFEP表 面上にビードの迅速かつ高度に均一な“平坦化″)される。そのディスクの回転 は非対称な重力(撮動または不等方なディスクの向き)を打消すのに十分なだけ の速さであり、かつ材料が軟化されて平滑かつ均一な層になるときにその材料の 2方向の対称的な定着化を乱すような遠心力を生じないほど十分に遅いものでよ り特定的に第3図と第4図を参照して、混合物H−1は技術音速が知っているよ うに往復運動可能なアームAに取付けられたく技術音速が知っているような注射 針のような)所定の制御された割合で配給する手段nへ与えられる。Preferred hard coating mixtures (preferably H-1” above) are uniform and symmetrical. Selected and prepared to be applied to the disc with a spiral row of named "beads" It will be seen that the Then those beads are simultaneously ° ``Solvent flattening'' (predetermined FEP table) by a slowly rotating disk Rapid and highly uniform "flattening" of the bead on the surface). rotation of that disk is just enough to counteract the asymmetric gravity (imaging or asymmetric disk orientation) speed and when the material is softened into a smooth and uniform layer. It should be slow enough not to generate centrifugal forces that would disrupt symmetrical fixation in two directions. With specific reference to Figures 3 and 4, mixture H-1 has a technical speed of sound as known. Injections such as those known to the technical speed of sound that are attached to arm A that can reciprocate (such as a needle) to a means n for dispensing at a predetermined and controlled rate.

ノズルnは、一定の割合で当該ディスクdの表面(FEP)上にその混合物の所 定の注意深く制御された均一な流れstを配給するために、周知の手段によって 用いられて制御される。それは好ましくは第3図に示されたディスクの周囲から スタートする。こうして、第5図と関連して後述されているように、遠心力Fc は対立させられて、隣接する拡がりつつあるビードからの押圧力F によるいく らかの拡がった変位と対立する。その間、アームAはディスクdの半径方向(内 向き)に連続的に変位させられて注意深く制御されることがわかるであろう。そ うして、この流れstはディスクdが回転する間そのディスクの半径方向に動い て、それによって特定のスパイラルSRを描く。たとえば、アームAはビーにの 均一な間隔と寸法を保ちながら磁気記録ヘッドに用いられるようなりニアモータ によって移動させられる。必要な場合にはディスクのrpmも変えることができ る(後述参照)。技術音速が認識するであろうように、均一なサイズのビードを 配付するために、ディスクのrpIll。The nozzle n deposits the mixture on the surface (FEP) of the disk d at a constant rate. by known means to deliver a constant, carefully controlled, uniform flow st. used and controlled. It is preferably from the periphery of the disc shown in FIG. Start. Thus, as discussed below in connection with FIG. 5, the centrifugal force Fc are opposed, and the force F from the adjacent expanding bead causes the It is opposed to a wide spread displacement. Meanwhile, arm A moves in the radial direction (inner direction) of disk d. It will be seen that the displacement direction (orientation) is continuously and carefully controlled. So Thus, this flow st moves in the radial direction of the disk d while it rotates. Then, a specific spiral SR is drawn. For example, arm A is Near motors are now used in magnetic recording heads while maintaining uniform spacing and dimensions. moved by. You can also change the disc rpm if necessary. (see below). As the technology Sonic would recognize, uniformly sized beads rpIll on disk for distribution.

アームの速度、および配給割合の3つの変数のうちの1つまたはい(つかを変え ることができ、しかし他の変数は一定に保たれる。One or more of three variables: arm speed, and delivery rate. but other variables are held constant.

したがって、ノズルnはディスクdが回転されている間にそのディスクの所定の 半径を横切って制御可能に移動させられる。そして、技術音速が認識するであろ うように、均一な間隔とサイズと形のパビード”部分すの連続的で均一なスパイ ラルSRとして混合物を展開する。その混合物は、そのようなスパイラル(たと えば、3.5インチの半径方向のバンドB にわたる25本のビード)を形成す るために所定の割合で配給するように設けられた周知の圧力オリフィス制御手段 (詳述せず)を介してノズルnへ与えられる。Therefore, the nozzle n moves to a predetermined position on the disk d while the disk is being rotated. Controllably moved across the radius. And the technology speed of sound will recognize Continuous and uniform spikes of paved sections of uniform spacing, size and shape to ensure Develop the mixture as RAL SR. The mixture is formed into such a spiral (and For example, to form 25 beads spanning a 3.5 inch radial band B) well known pressure orifice control means provided for dispensing at a predetermined rate to (not detailed) to the nozzle n.

技術音速は、3つの隣接するビードの列すを示す第4図の断面部分概略図に示さ れているように形成されたビード分布を認識するであろう。それらの列は所定の ギャップ!+!+で隔てられており(注: それらは触れ合ったり重なり合うこ とはない)、またそれらの断面形状9寸法、および分量はく当該技術分野で周知 のように前もってなされた適切な計算による。)所定の値に保たれて用いられ、 均一に平坦化されればディスクd上にめられる厚さの保護オーバコートを生ずる (第2図の外部コーティング9参照)。The technical sound velocity is shown in the cross-sectional partial schematic diagram of Figure 4 showing a row of three adjacent beads. You will recognize the bead distribution formed as shown in the figure. Those columns are given gap! +! separated by + (note: they cannot touch or overlap) ), their cross-sectional shape, nine dimensions, and quantities are well known in the art. By appropriate calculations made in advance, such as. ) is used while being kept at a predetermined value, Uniform planarization results in a protective overcoat of the thickness applied over disk d. (See external coating 9 in Figure 2).

たとえば、“通常の′°(部屋の)温度において混合物H−1を用いてかつ前述 のような高分子化されたFEPのサブストレート表面を用いて、約3.5インチ の半径から始めて約3.5インチ・幅のディスクバンドにわたって均一に配列さ れた20本から30本のスパイラル部分すは(適当な平坦化と硬化を仮定して) 約7n11厚さの高度に均一なコーティングを生ずることがわかった。一方、1 0本またはそれ以下の列はコーティング厚さをあまりに減少させてその厚さを不 均一なものにした。また、もし最小ギャップUが維持されずに特にもし列SRが 重なり合えばめられる正確な厚さ制御を達成することは事実上不可能であった( その制御は7m:1コーテイングに関して±0.7〜7ミクロン;これはそのよ うな簡単なコーティング装置を用いてそのような大きなサブストレート上に与え られたこの材料としては全く驚くべき均一性である)。For example, using mixture H-1 at normal '° (room) temperature and the Using a polymerized FEP substrate surface such as evenly spaced across a approximately 3.5 inch wide disc band starting from a radius of 20 to 30 spiral sections (assuming proper flattening and hardening) It was found to yield a highly uniform coating of approximately 7n11 thickness. On the other hand, 1 Zero or fewer rows reduce the coating thickness so much that it becomes unusable. Made it uniform. Also, if the minimum gap U is not maintained and especially if the column SR It was virtually impossible to achieve precise thickness control for overlapping fittings ( Its control is ±0.7 to 7 microns for 7m:1 coating; onto such large substrates using simple coating equipment such as (The uniformity is quite surprising for this material.)

配給割合が一定に保たれる場合、均一なビードを形成するためにディスクの回転 を変えることができる(たとえば、最も内側の半径において4〜5 rpmのオ ーダの場合に徐々に減速して最も外側において約2 rpmになり、そして均一 で一定のビード分量を与える)。均一で等間隔の列すを維持するために、アーム Aによるノズルnの半径方向の移動も当該技術分艮周知のように(ディスク中心 からのその距離に従って)制御的に変化させられる。この代わりに、技術音速が よく知っているように、同一の均一なスパイラルを形成するために配給割合を変 化させてもよい。If the distribution rate is kept constant, rotation of the disc to form a uniform bead (e.g. 4-5 rpm at the innermost radius) In the case of a (gives a constant bead volume). To maintain uniform and evenly spaced rows, The movement of the nozzle n in the radial direction by A is also well known in the art (disk center (according to its distance from). Instead of this, the technical speed of sound is As we know, we can change the distribution ratio to form the same uniform spiral. It may be made into

詳述されたディスクの回転とアームの移動は均一に隔てられた゛ビード′°を形 成するであろう(それは所定の間隔Uで半径方向に配置されており、たとえば好 ましくは3゜5インチの半径方向のバンドにわたって25本のビードが並んでい る〉。離隔距離Qgは成る限度内において変えることができる。しかし、いかな る場合においても、“ビード″は“重なる”べきではないし、他方また、意図し た“溶媒平坦化パによってビードが流れて1つになって目標厚さの均一性を形成 し得ないほど遠く離れてもいけない。また、各ビードは適当に“盛上がる″こと ができるように十分なサブストレートとの接触(面積)を得るのに(その高さに 対して、すなわち良好なwZh比を得るために)十分な幅のものでなければなら ない。次に、このスパイラル状のビード付与が十分になされれば、流れstが終 了させられて、そしてディスクの回転は″′溶媒平坦化″のためにセットされる (好ましくは約1〜2rl1m)。The rotation of the disc and the movement of the arm detailed form uniformly spaced beads. (which are arranged radially at a predetermined distance U, e.g. Preferably, 25 beads are lined up over a radial band of 3.5 inches. ru〉. The separation distance Qg can be varied within the following limits. But I wonder The “beads” should not “overlap” even if The “solvent flattening agent causes the beads to flow and unite to form the target thickness uniformity.” Don't go too far away. Also, each bead should be appropriately “raised”. (at its height) to obtain sufficient contact (area) with the substrate to allow (i.e. to obtain a good wZh ratio) do not have. Next, if this spiral bead is sufficiently applied, the flow st will end. the disk rotation is set for ``solvent flattening''. (preferably about 1-2 rl1m).

前述のように、H−1のような混合物はこれに関して魅力的なものである。なぜ ならば、それは所定の均一で対称な形態を維持しかつ十分に゛セットアツプ″す るからである。そして、ディスク表面に対する゛ビードの傾斜″は比較的゛急峻 ″(通常に比べて小さな″濡れ角度″)である。As mentioned above, mixtures such as H-1 are attractive in this regard. why If so, it maintains a given uniform and symmetrical form and is sufficiently “set up”. This is because that. The slope of the bead relative to the disk surface is relatively steep. ” (smaller “wetting angle” than normal).

すなわち、ビードは平坦化のために溶媒蒸気と触れさせられてその濡れ角度を急 速に増大させるまで崩れ落ちたり移動したりまたは変形したりあるいはく第4図 と第5図において示されているような〉その対称性を変えてはならない。That is, the bead is brought into contact with solvent vapor for flattening and its wetting angle is steepened. Figure 4. and its symmetry as shown in FIG.

前述のように、FC−430添加剤はそのような(FEP)サブストレート上の (そのような混合物の)ビードの濡れと“セットアツプ″を制御して改善するた めに選択されて設計される。As previously mentioned, the FC-430 additive is suitable for use on such (FEP) substrates. to control and improve bead wetting and “set-up” (of such mixtures). selected and designed for

ステップ#3: 溶剤平坦化: 次に、スパイラル状の配列のビードは溶媒蒸気の均一な゛霧゛′にさらされて、 それによってビードの表面とそれとかかわりあう(FEP)サブストレートは急 速に“濡れる”(それは溶媒の凝縮により、好ましくはすべてのビードと露出し ているサブストレートにわたって凝縮した比較的連続的な薄膜を生じる)。そし て、濡れている表面張力を即座に下げて、ビードをパ軟化”させて急速に“平坦 化”させる(すなわち、即座に拡がって重力によって押え付けられ、そして対称 的に平坦化してめられる均一なコーティングとなる)。正確な厚さ制御が非常に 重要であることが認識されよう。したがって、もしそのようにコートされたディ スクdの表面が完全な水平面になくてそのビードにかかる重力が完全に対称では ない場合、いかなる不均一性または非対称性を打消すのに十分なだけディスクd を回転させなければな”Jlい(当該分野の技術音速が認識するであろうように 、溶媒平坦化の間のディスク面の゛振動″やそのようなものをも打消す)。Step #3: Solvent planarization: The spiral array of beads is then exposed to a uniform "mist" of solvent vapor, This causes the surface of the bead and the interacting (FEP) substrate to suddenly ``wet'' quickly (by condensation of solvent, preferably all beads and resulting in a relatively continuous thin film condensed across the substrate). stop instantly lowers the wet surface tension, softening the bead and rapidly flattening it. ” (i.e., immediately expands, is held down by gravity, and becomes symmetrical) (This results in a uniform coating that can be flattened and polished). Very precise thickness control be recognized as important. Therefore, if so coated di The surface of the disk d is not in a perfectly horizontal plane and the gravity acting on the bead is not perfectly symmetrical. If not, the disk d is sufficient to counteract any non-uniformity or asymmetry. (as the technology in the field of sound speed will recognize) , also counteracts "vibration" of the disk surface during solvent planarization and things like that).

したがって、溶媒平坦化が始まるとディスクdは好ましくは回転される(たとえ ば、ここでは1〜2rom)。そしてそのビードの流れは比較的完全なコーティ ングの均一性を与えるであろう。しかしその回転は遠心力による流れを生じるほ ど速いものではない。Therefore, disk d is preferably rotated once solvent planarization begins (e.g. In this case, 1 to 2 ROM). And the bead flow is relatively perfect coated. This will give uniformity of the results. However, this rotation produces a flow due to centrifugal force. It's not fast.

所定の溶媒蒸気へディスクd (その上にはスパイラル状のビードが施されてい る)をさらすとき、そのディスクをフード内に置いて所定の圧力と濃度の蒸気を 導入することができる(または技術音速が認識するであろうような他の方法によ って)。A disk d (on which a spiral bead is applied) is applied to the specified solvent vapor. When exposing the disc to a hood, place the disc in a hood and apply steam at a predetermined pressure and concentration. can be introduced (or by other methods as the technology will recognize) ).

したがって、そのようなビードの軟化と溶媒平坦化に関して、その溶媒が列b  (ビード)とそれとかかわり合うFEPサブストレールーに比較的均一で連続的 なフィルムとして非常に迅速に凝縮し、それらビードとサブストレートを互いに “濡れ”させるように溶媒とその伯の条件を選択しなければならない。そして、 今秋化されたビードが隣接するFEP表面をカバーするように(重力によって押 え付けられて)崩れ落ちて流れるのに十分なだけ溶媒が凝縮される(その溶媒は 良好な′濡れ′°を促進させ、この場合それはFEPに対する混合物H−1の濡 れである)。Therefore, for such bead softening and solvent flattening, the solvent is in column b (bead) and the FEP substray that interacts with it are relatively uniform and continuous. The beads and substrate condense very quickly as a film The solvent and its conditions must be selected to produce "wetting". and, The applied bead covers the adjacent FEP surface (pushed by gravity). the solvent is condensed enough to collapse and flow (the solvent is promotes good 'wetting', in this case it is the wetting of mixture H-1 on the FEP. ).

ここで簡単のために、アセトンがその溶媒として用いられることを仮定し、さら にそれはビード上とそれとがかわり合うFEPサブストレートにわたって迅速に 凝縮できるような条件(温度/圧力環境)の下にそのビード上に蒸気または飽和 された“霧″として単に注がれると仮定する。Here, for simplicity, we assume that acetone is used as the solvent, and further It quickly moves over the bead and across the FEP substrate it interacts with. Steam or saturation on that bead under conditions (temperature/pressure environment) that allow it to condense Assume that it is simply poured out as a "mist".

たとえば、ここではこれらの表面全体が急に゛光沢”を帯びるが、液滴や大きな 液溜りは示さない。すなわち、ビードまたはディスク上に凝縮“液滴″または大 きな液溜りを生じないほど少なく保たれ、もしそれが起これば揮発性を増大させ ねばならない。この露出は、当該゛ビード″を即座に軟化させてそれらを迅速に 互いに流し合わせるのに十分であろう(この例の場合、実際に瞬間的である)。For example, here all these surfaces suddenly become "shiny", but droplets and large No puddles are shown. i.e. “droplets” or large condensation on the bead or disk. It is kept low enough not to cause significant puddles and increase volatility if this occurs. Must be. This exposure instantly softens the ``beads'' and quickly removes them. It will be enough to flush each other (actually instantaneously in this case).

溶媒の揮発性は好ましくは十分に高いものであって、したがって一度ビードとそ れとかかわり合う(FEP)ディスク表面が十分に濡らされたとき、その溶媒蒸 気は迅速に揮発して消散するであろう(またはたとえばポンプ引きによって抜き 去られる)。したがって、平坦化の間に溶媒はほとんどまたは全く残存しなくて 好ましい。The volatility of the solvent is preferably high enough so that once the bead When the (FEP) disk surface is sufficiently wetted, the solvent evaporates. Qi will quickly evaporate and dissipate (or be removed, e.g. by pumping). (leaved). Therefore, little or no solvent remains during planarization. preferable.

そのような゛溶媒平坦化″の結果は驚くべきことである。The results of such "solvent planarization" are surprising.

隣接するビードは゛平坦化″動作において1つに流れ合うのが観察され、それは 驚くほど迅速でかつ注目すべきコーティングの均一性を形成する。Adjacent beads are observed to flow together in a "flattening" operation, which Forms surprisingly quickly and with remarkable coating uniformity.

溶媒特性、一部変更: 溶媒は、当該作用温度、サブストレート表面、および混合物の化学的性質に照ら して、この温度においてサブストその混合物を軟化させて容易な流れを生じて“ 平坦化″させる。すなわち、溶媒はこれらの条件に関して特定化されかつそれら の条件が変われば調節を必要とするであろう(たとえば、異なったコーティング 混合物または異なったサブストレート表面に関して)。Solvent properties, some changes: Solvents should be selected based on the working temperature, substrate surface, and chemistry of the mixture. At this temperature, the substance softens the mixture and produces easy flow. i.e. the solvent is specific for these conditions and may require adjustment if conditions change (e.g., different coatings). (on mixtures or different substrate surfaces).

ここでのアセトンのような溶媒の使用における1つの利点は、硬化が開始する前 に溶媒が蒸発せずに残留するということがほとんどまたは全くないということで ある。それ以外の方法では、コーティング混合物H−1との共重合が期待できる 溶媒を代用しなければならず(メチルアクリレート溶媒はそのように共重合し得 る)、また高分子化を決して抑制するものではないかまたはめられる特性に全く 影響しない溶媒を用いなければならない。One advantage of using a solvent like acetone here is that it can be used before curing begins. This means that little or no solvent remains without evaporation. be. In other methods, copolymerization with coating mixture H-1 can be expected. Solvents must be substituted (methyl acrylate solvents cannot be copolymerized as such). ), and does not in any way inhibit polymerization or have any properties that can be considered. Non-affecting solvents must be used.

この代わりに、当該分野の技術音速が認識するであろうように、成る場合には十 分な揮発性を備えていればポリスチレンモノマーが平坦化溶媒として用いること ができ、またはエチルアセテート、塩化メチレンあるいはメチルエチルケトン( MEK)のような溶媒を用いることができる。Alternatively, as those skilled in the art would recognize, Polystyrene monomer can be used as a planarizing solvent if it has sufficient volatility. or ethyl acetate, methylene chloride or methyl ethyl ketone ( A solvent such as MEK) can be used.

スチレンはそのアクリル混合物と少なくともある程度共重合すると予想されるが 、他のものはそうではないので十分に揮発させてしまわなければならない。Although styrene is expected to copolymerize at least to some extent with the acrylic mixture, , other things are not like that, so they must be volatilized sufficiently.

したがって、ディスク表面の特性または化学的性質を変えることはくたとえば、 FEP上に薄い酸化物の″“フラッシュコーティング″を用いて)、一般に“濡 れ″特性を変えてその°゛平坦化作用″に何らかの変化を生ずる(しばしば異な った溶媒蒸気を必要とする)。たとえば、FEP上のA負20.またはSiOあ るいはS: O2の薄いフィルムは濡れを促進させるようであり、特に前述のア セトン溶媒蒸気を用いたときに著しい。Therefore, changing the properties or chemistry of the disk surface is difficult, e.g. (using a ``flash coating'' of thin oxide on FEP), generally ``wetting'' changes its ``characteristics'' and causes some change in its ``flattening effect'' (often with different (requires solvent vapor). For example, A negative 20. on FEP. Or SiOa RuiwaS: A thin film of O2 seems to promote wetting, especially for the previously mentioned Significant when using setone solvent vapor.

また、そのような゛溶媒平坦化″を用いる場合は、サブストレートに始めからあ まりによく濡れるものでない混合物くたとえばH−1)を調製する。さもなくば 、その混合物はスパイラル状に付与されている間にその形を維持するのに十分な ほど良好にサブストレートに“セットアツプ”しないであろう。たとえば、その 混合物はスパイラル形成中にディスクが回転されるので溶媒と接触する前に遠心 力によって非対称に崩れ落ちるであろう。FC−430’“界面活性剤″のよう な゛セットアツプ″を促進する添加剤はもちろんこの点に関して助けとなる。同 様な理由で、ビードはサブストレートと十分な接触面積を持たなければならない 。Also, when using such "solvent planarization", it is necessary to A mixture that is not very wettable, for example H-1), is prepared. otherwise , enough that the mixture maintains its shape while being applied into a spiral. It will not "set up" as well on the substrate. For example, that The mixture is centrifuged before contacting the solvent as the disk is rotated during spiral formation. It will collapse asymmetrically due to the force. FC-430'like "surfactant" Additives that promote "set-up" can of course help in this regard. For various reasons, the bead must have sufficient contact area with the substrate. .

混合物の粘性の制御は良好な分布と均一な定着を得るために非常に重要であるこ とがわかる。たとえば、混合物H−1へMMAのようなより揮発性のモノマーを 加えれば、FEPサブストレートの過剰の濡れによってビードbの間に非常に凝 縮しやすくなり、したがって不適当なパセットアップ″uじて時機尚早のビード の゛定着″を起こす。Controlling the viscosity of the mixture is very important to obtain good distribution and uniform fixation. I understand. For example, adding a more volatile monomer such as MMA to mixture H-1 In addition, excessive wetting of the FEP substrate can result in very condensation between bead b. tends to shrink and therefore causes improper pas- sage set-up, resulting in premature beads. cause "fixation" of

逆に、“脱落部″または“ピンホール″が生じないように注意しなければならな い。それらは溶媒がほとんどまたは全く凝縮しないボイドであって、そこは異な った′濡れ°′または全く濡れない状態となる(注: 周囲の温度が上がればそ のようなボイドが大きくなるようであり、これはおそらく溶媒の蒸発が速すぎる からである)。Conversely, care must be taken to avoid creating "drop-outs" or "pinholes." stomach. They are voids where little or no solvent condenses; (Note: As the ambient temperature rises, it will become wetter.) The voids seem to get bigger, which is probably due to the solvent evaporating too quickly. ).

もちろん、その混合物が即座に゛自己平坦化″シ得るものの場合には、溶媒にさ らす必要はないであろうし、またその混合物を“セットアツプ″するためにFC −430のような界面活性剤をも必要としないであろう(後述のIVI−2参照 )。Of course, if the mixture can be immediately ``self-planarized,'' There would be no need to remove the FC to “set up” the mixture. -430 (see IVI-2 below) ).

ステツブシ4: (硬化): 完全に平坦化してディスクdの表面にコーティングが均等に分布されれば、それ はめられる硬質の保護オーバコーティングを生じるようにそのまま(さもなくば 処理されて)硬化される。そして、ディスクの回転は静められてそのディスクは 硬化条件に置かれる。それは好ましくはコーティングの均一性が損われないよう にまたは汚染物の導入(たとえば、その粘着性の表面上への埃の定着)が起こら ないように、そのディスクを“溶媒平坦化″ステーションから動かすことなく行 なわれる。Step 4: (hardening): If it is completely flattened and the coating is evenly distributed on the surface of the disk d, then it Leave intact (otherwise processed) and hardened. Then, the rotation of the disk is stopped and the disk is placed in curing conditions. It is preferably done so that the uniformity of the coating is not compromised. or the introduction of contaminants (e.g. settling of dust on the sticky surface). to avoid moving the disk from the “solvent flattening” station. be called.

したがって、UV硬化はその溶媒平坦化ステーションで行なわれる。すなわち、 材料が当該ディスク表面に均等に拡げられれば、そのコーティングは適当に硬化 されて“硬質″となるまで不活性雰囲気(たとえば、すべての酸素を追出すよう なN2吹付け)において紫外線への露出によって光硬化させられる。0.3〜0 .4μmのLIV(たとえば、0.366μmで100 m W/cm2の引l への約5〜20秒のトータル露出で十分であることがわかる。Therefore, UV curing is performed at the solvent planarization station. That is, Once the material is spread evenly over the surface of the disc, the coating will cure properly. in an inert atmosphere (e.g. to expel all oxygen) until it becomes “hard”. It is photocured by exposure to ultraviolet light (N2 spray). 0.3~0 .. LIV of 4 μm (for example, 100 mW/cm2 at 0.366 μm A total exposure of about 5 to 20 seconds to is found to be sufficient.

この代わりに、他の同様な硬化方法(たとえば、電子ビームまたはIR照射)も ある場合には適当な調節(たとえば、フォトイニシエータの濃度の調節など)を 行なうことによって用いることができる。Alternatively, other similar curing methods (e.g. electron beam or IR irradiation) may also be used. In some cases, appropriate adjustments (e.g. adjustment of photoinitiator concentration) may be made. It can be used by doing.

結果: 前述のように、厚さの均一性(公称7m1lコーテイングに関して3.5インチ のバンドにわたって±0.7〜7μmのオーダ)は全く注目すべきものであって 、特にその付与装置の簡単さと用いられるコーティング混合物のタイプの観点か らして注目すべきである。前述のように、硬化の時間と温度はその他の処理条件 と同様に全く都合の良いものである。result: As previously mentioned, thickness uniformity (3.5 inches for a nominal 7ml coating) (on the order of ±0.7-7 μm over the band) is quite remarkable. , especially in terms of the simplicity of its application equipment and the type of coating mixture used. Therefore, it is worth paying attention to. As mentioned above, curing time and temperature depend on other processing conditions. It's just as convenient.

温度(熱)がこの(スパイラル列b)の溶媒平坦化の間にかなり高くなった場合 に、流れの速度が増大したり平坦化が速くなったりしなかったという事実は幾分 驚くべきことであった。むしろその列は、よりビードが盛上がって、拡がるより もむしろ幅が狭まるようであった。その原因は確実にはわかっていないが、溶媒 (アセトン蒸気)が適当に凝縮すて表面を濡らすには熱くなりすぎたためと考え ら溶媒平坦化ステップを用いる必要なしに直接゛自己平坦化″を生じるように隣 接するビードが実際に接触して置かれる例であって、後で詳述されること以外は 例IV11が繰返される。If the temperature (heat) becomes considerably high during this (spiral train b) solvent flattening The fact that the flow did not increase in velocity or flatten faster is somewhat It was surprising. Rather, the rows are more bead raised and spread out. In fact, the width seemed to be narrowing. The cause is not known for sure, but the solvent This is thought to be because the acetone vapor became too hot to properly condense and wet the surface. adjacent to cause direct “self-planarization” without the need to use a solvent planarization step. Examples where abutting beads are actually placed in contact, except as detailed below. Example IV11 is repeated.

より特定的に言えば、硬質コーティング混合物(たとえば、H−1)が再び用意 され(FC−430は必要でないかもしれない;上記参照)、ディスクよに連続 的なスパイラル配列として配付されるが、ビード間のギャップU(第4図)はほ ぼゼロに減少される。これは第5図において理想化されたシーケンシャルな様式 で幾分概略的に示されており、最初のビードb−1が破線で示されている。ビー ドb−1は実際上即座に崩れ落ちて平坦化しく実線のb−1)、したがって隣の ビードb−2が置かれるときにそれはく少し拡がった)b−1と接触するであろ う。m−1の“拡がり動作”はb−2をディスク中心の方へ押圧する傾向となる (拡がり力Fs参照〉。したが9て、連続的な各ビードは自己拡がりをそのよう に押圧されるので、ディスク中心の方に向けて幾分非対称になる(破線のb−2 を参照)。外側から内側へスパイラルを描く方式はディスクの回転による遠心力 成分(FC)を拡がり力F、に対向させるように意図されている(第5図の矢印 を参照)。配付された混合物のパターン(スパイラル状の列)に°“平坦化溶媒 ″を与える必要なしに“自己平坦化゛を起こさせるために、温度/サブストレー ト条件によってその混合物の粘性における適当な減少がめられるであろうことを 技術音速は認識するであろう。より遅いディスクの回転(または無回転)やFC −430の他の表面活性剤への置換えのような他のいくつかの適用するための調 整も勧められる。もちろん、ディスクdの表面を確実に水平面に維持するという 問題は依然として存在するであろう。したがって、゛振動″または不均等な“重 力”を打消すために適当なディスクの回転が勧められる。More specifically, the hard coating mixture (e.g. H-1) is again prepared. (FC-430 may not be necessary; see above), and continuous They are distributed in a typical spiral arrangement, but the gap U between the beads (Fig. 4) is almost reduced to almost zero. This is the idealized sequential pattern in Figure 5. , with the first bead b-1 shown in dashed lines. Bee The line b-1 actually collapses immediately and becomes flat (the solid line b-1), and therefore the neighboring When bead b-2 is placed it will come into contact with b-1 (which expanded slightly) cormorant. The "spreading motion" of m-1 tends to push b-2 toward the center of the disk. (See the spreading force Fs.) However, each successive bead will self-spread in such a way. Since the disk is pressed by ). The method of drawing a spiral from the outside to the inside is the centrifugal force caused by the rotation of the disk. component (FC) is intended to oppose the spreading force F (arrow in Fig. 5). ). Flattening solvent in the pattern of the distributed mixture (spiral-like columns) temperature/substrate to cause “self-flattening” without having to provide It is assumed that the temperature conditions will result in an appropriate reduction in the viscosity of the mixture. Technology speed of sound will recognize. Slower disk rotation (or no rotation) or FC -430 for some other applications, such as the replacement of other surfactants. Separation is also recommended. Of course, the surface of disk d must be maintained in a horizontal plane. The problem will still exist. Therefore, “vibration” or uneven “weight” Appropriate disk rotation is recommended to counteract the force.

したがって、゛自己平坦化”するビードを用いることによって、多くの場合に用 いられる溶媒平坦化を省略して簡単な゛′ラワンテップ”のコーティングシーケ ンスが実現される。その硬化はIVI−1の場合のように行なわれ、その形成さ れたコーティングはM−1の場合と本質的に同じであろう(実際は、いくつかの 場合において均一性が優れている)。Therefore, by using a ``self-flattening'' bead, it is possible to A simple “raw step” coating sequence that eliminates the necessary solvent planarization performance is realized. Its curing is carried out as in the case of IVI-1, and its formation The applied coating will be essentially the same as for M-1 (in fact, some (excellent uniformity in all cases).

もちろん、前の場合のように、流速(rf、ノズルnからディスク上へ)、ディ スクのrom (w、t ) 、およびアーム速度(Vえ )の3つの7アクタ は、いずれの場合においてもビードの位置の変化(すなわち、各ビードセグメン トの半径方向の位置db )にかかわらず均一なサイズと形のビードを配付する ように調節されるであろう。Of course, as in the previous case, the flow rate (rf, from nozzle n onto the disc), di Three 7 actors: screen ROM (w, t), and arm speed (Ve) In each case, the change in bead position (i.e., each bead segment Distribute beads of uniform size and shape regardless of the radial position of the bead (db) It will be adjusted accordingly.

この特定の例として第6図ないし第8図が示されている。A particular example of this is shown in FIGS. 6-8.

第6図は、一定に保たれた流速(R)においてディスクのrpm (w、)とア ーム速度(ハ)を比較的均一に増大させて(たとえば、ディスクの周囲から開始 してほぼ1:2のように)、最終的なコーティング厚さt。がディスクの半径方 向にどのように変化するかを(非常に概略的に)描いている。この“自己定着” 作用は均一なコーティングのプロセスを複雑化していることがわかる。Figure 6 shows the disc rpm (w,) and the aperture at a constant flow rate (R). By increasing the speed (c) relatively uniformly (e.g. starting from the periphery of the disc) (approximately 1:2), the final coating thickness t. is the radius of the disk It depicts (very schematically) how things change in this direction. This “self-fixation” It can be seen that the effect complicates the process of uniform coating.

これを矯正するために、第7図と第8図に示されているようにrpmを連続的に 増加(ΔWメーα又=φ半径)させかつアームを始めに幾分加速(aユ =Δ■ エ /l)して次に幾分減速し、そして最後に加速(aニーφ′半径)させる修 正されたモードにおけるコーティングを我々は提案する。ディスクのrpmはい かなる場合にも好ましくは最小限にされるであろう。すなわち、一般にそれはそ れらのスパイラルが゛相互流れ”をちょうど起こし得るようなrpl[lである 。To correct this, increase the rpm continuously as shown in Figures 7 and 8. Increase (ΔW ma α or = φ radius) and accelerate the arm somewhat (ayu = Δ■ /l), then some deceleration, and finally acceleration (a knee φ' radius) We propose a coating in a corrected mode. disc rpm yes In any case it will preferably be minimized. That is, generally it is rpl[l such that these spirals can just cause "mutual flow". .

今までに、技術音速には゛デフォーカシングオーバコートパを付与する他の方法 が示された。°たとえば、1eVinの米国特許第4.340.959号におい T、0.05〜1゜示されており、そのコーティング技術においてはディスクが モールドとして配置される必要があって“スピニング″方法による付与は排除さ れる( l evinによって引用された参考文献を見よ)。Until now, other methods of imparting defocusing overcoat to the technical sound velocity have been proposed. It has been shown. °For example, in U.S. Pat. No. 4.340.959 to 1eVin T, 0.05-1° is shown, and in that coating technique the disc is Must be placed as a mold and application by “spinning” methods is excluded. (See references cited by l evin).

第7図において、流速が一定に保たれた場合についてW〆と■えにおける変化が ビード位置(db )の関数として表示されている。第8図において、それらの 値が幾分理想化されて描かれている。スライダの速度変化(加速)は幾分驚くべ きようなものであることがわかった。すなわち、最初は徐々に速度を増加しく第 8図において曲線■の位置a−+b)、次に急速に落ちて(位置b−+c)、最 後に連続的な増加モードにされる(指数的増加;位置c−+dなどを参照)。そ れは、ビード厚が最初軽″りて次にそれが増大するので、ある種の平衡状態に到 達するまで(位置C)スライダアームの減速が必要となり(位置b→C)、そし てビードの円弧の減少に対応して連続的な加速が必要となる(c−+d)。In Figure 7, when the flow velocity is kept constant, the changes in W and ■ are shown. Displayed as a function of bead position (db). In Figure 8, those The values are depicted as somewhat idealized. The speed change (acceleration) of the slider is somewhat surprising. It turned out to be something like this. That is, the speed should be gradually increased at first. In Figure 8, the curve ■ is at position a-+b), then rapidly falls (position b-+c), and reaches its maximum. It is later put into continuous increasing mode (exponential increase; see position c-+d, etc.). So This occurs because the bead thickness first becomes lighter and then it increases, so that some kind of equilibrium is reached. It is necessary to decelerate the slider arm until it reaches (position C) (position b → C), and then Therefore, continuous acceleration is required in response to the decrease in the arc of the bead (c-+d).

例M−3: (FEP上の3i0zフラツシユ)二また、どのようなコーティン グ付与技術が用いられようとも、濡れ粘着性または他の特性を高めるために上で 示されたようにサブストレートを予備処理することが勧められよう。たとえば、 上記の例M−1(スパイラル状にFEP上に付与されて溶剤平坦化されるH−1 )またはその変更例に従えば、(FEP)サブストレートの親水性やH−1ビー ドのそのサブストレートへの濡れ性を高めることが望まれよう。そのような場合 、H−1または類似のビードを付与する前にFEP上に3i0zの非常に軽い゛ ′フラッシュ″コーティングー(たとえば、第2図の層f上のSi 02 )を 施せば都合の良いことがわかった。Example M-3: (3i0z flash on FEP) Also, what kind of coating No matter which adhesion technique is used, it may be necessary to It would be advisable to pre-treat the substrate as indicated. for example, Example M-1 above (H-1 applied spirally onto FEP and flattened with solvent) ) or its modifications, the hydrophilicity of the (FEP) substrate It would be desirable to increase the wettability of the substrate to the substrate. in such case , 3i0z very light on FEP before applying H-1 or similar bead. 'Flash' coating (e.g. Si02 on layer f in Figure 2) I found out that it would be convenient if I applied it.

例M−4: (FEPが吸収体をサンドインチ状に挾んだM−1のようなもの) : 両方のFEP層がその3重層に共通な真空チャンバで蒸着されることによってサ ンプル■が再現される。FEP“スペーサ゛′はn /l y / 4光学厚さ であって、一方、FEP゛軟貿パッド″スーパコートは約1〜2μm厚さである 。Example M-4: (Similar to M-1 in which FEP sandwiched the absorber in a sandwich-like manner) : Both FEP layers are supported by being deposited in a vacuum chamber common to the triple layer. sample ■ is reproduced. FEP “spacer” is n/l y/4 optical thickness On the other hand, the FEP "soft pad" supercoat is about 1-2 μm thick. .

(たとえば、好ましくは吸収体フィルムの厚さの100倍のオーダ)。その“1 硬質”オーバコーティングは表面の埃などをデフォーカスするのに十分な厚さの ものであって、上記の好ましい方法M−2におけるように施される。(eg, preferably on the order of 100 times the thickness of the absorber film). The “1” The "hard" overcoat is thick enough to defocus surface dust, etc. and is carried out as in preferred method M-2 above.

異なった利用: そのような“硬質”コーティングは変更された“軟質パッド″コーティングのよ うな幾分具なった他の表面へ施すように調製し得ることを技術音速は認識するで あろう。また、そのサブストレート表面が根本的に異なったもの(たとえば、G E社のRTVのようなシリコーンエラストーマ)の場合であっても、成る場合に は、“不適合な″サブストレートが上記のような°゛硬質″オーバコートの付与 に適応するように予備コートまたは他の予備処理を施し得ることを技術音速は認 識するであろう。たとえば、プラスチックのコーティングや加工の技術において 、“濡れ性″を高めるために広範な種々の高分子サブストレートを処理するため の種々の方法が知られている。たとえば、ハロゲンまたは活性な酸化剤によって 軽く酸化させるか、またはプロパントーチによって軽く焼くか、あるいは放電に よるか、さらに前述のようにSiO2のような予備コートを挿入するような方法 である。それらは適当な場合に利用することができるし、本発明と組合わせるこ とも可能である。Different uses: Such “hard” coatings are similar to modified “soft pad” coatings. Technics recognizes that it can be prepared for application to other somewhat textured surfaces. Probably. Also, those whose substrate surfaces are fundamentally different (for example, G Even in the case of silicone elastomer (such as RTV made by Company E), The “non-conforming” substrate is coated with a “hard” overcoat as described above. Technological Speed recognizes that a pre-coat or other pre-treatment may be applied to accommodate the you will understand. For example, in plastic coating and processing technology. , for processing a wide variety of polymeric substrates to enhance their “wettability” Various methods are known. For example, by halogens or active oxidizing agents. Lightly oxidize or burnt with a propane torch or exposed to electrical discharge. or even inserting a pre-coat such as SiO2 as described above. It is. They can be used where appropriate and can be combined with the present invention. Both are possible.

ここで述べられた好ましい実施例は単なる例示であって、本発明はその構成や利 用において発明の精神から離れることなく多くの修正や変更の可能なことが理解 されよう。The preferred embodiments described herein are merely illustrative, and the present invention is not limited to its configuration or use. It is understood that many modifications and changes may be made in the application without departing from the spirit of the invention. It will be.

たとえば、ここで開示されたようなものに類似した゛軟質パッド″コーティング は、他のサブストレートおよび/または他のスーパコーティングを有するサブス トレートを保護するためにも適用できるであろう(たとえば、与えられた“隔離 ”を有利に利用するために)。また、本発明は他の同様、な記録材料に隣接する パ隔離層”を備えるために利用し得る。For example, “soft pad” coatings similar to those disclosed herein Substrates with other substrates and/or other supercoatings It could also be applied to protect traits (e.g. a given “isolation” ”).The present invention also relates to other similar recording materials. It can be used to provide a "parasol isolation layer".

さらに、ここで教示されたものと類似の“硬質パ外部コーティングは、もちろん 類似の目的のための他のサブストレートをカバーして保護するように用いること ができるし、前述の゛スパイラル″コーティング方法はく適当な調整によって) 他の材料についても用いることができる。さらに、そのようなコーティング構造 は、適当な場合に他の方法によって形成することも可能である。たとえば、パ硬 質コーティング″サブストレート(たとえば、7mi+アクリレートルース唄上 に゛′軟軟質パッド管析出させて、次に軟質パッド上に吸収体を析出させ、次に 吸収体上に必要なだけスペーサ/反射体を析出させて、最後に関連する“ウィン チェスタ−ディスク”または類似の“担体”上に接着剤を付与してこれを圧接す るような方法である。Additionally, a “hard outer coating” similar to that taught here could of course be used. used to cover and protect other substrates for similar purposes (The above-mentioned "spiral" coating method can be applied by appropriate adjustment) Other materials can also be used. Additionally, such coating structures can also be formed by other methods if appropriate. For example, quality coating” substrate (for example, 7mi + acrylate loose Utajo) A soft pad tube is deposited on the soft pad, an absorbent material is deposited on the soft pad, and then an absorbent material is deposited on the soft pad. Deposit as many spacers/reflectors as necessary on the absorber and finally Adhesive is applied onto a ``Chester disk'' or similar ``carrier'' and pressed together. This is a method that allows

さらに本発明の変更が可能である。たとえば、ここで開示された手段と方法は、 ゛軟質パッド″のコートされた記録テープやフロッピィディスクまたはそのよう なものへも適用−可能である。さらに、本発明は、IR露出を用いてデータが記 録および/または再生されるような記録および/または記録システムの他の形態 において用いられる媒体のために同様な保護外部コーティングを与えるように適 用し得るものである。Further modifications of the invention are possible. For example, the means and methods disclosed herein are Recording tapes or floppy disks coated with “soft pads” or similar It can also be applied to objects. Furthermore, the present invention provides that data is recorded using IR exposure. other forms of recording and/or recording systems such as recording and/or reproduction; Adapted to provide a similar protective external coating for media used in It can be used.

本発明の可能な変更例の上記の例は単に説明のためである。したがって、本発明 は添付された特許請求の範囲によって限定される発明の範囲内で生ずるすべての 可能な修正や変更を含むものと考えられるべきである。The above examples of possible variations of the invention are merely illustrative. Therefore, the present invention shall cover all matters arising within the scope of the invention as defined by the appended claims. It should be considered to include all possible modifications and changes.

FIG、6゜ FIQ7 1)淫 調 査 報 告 第1頁の続き ■Int、CI、’ 識別記号 庁内整理番号o発 明 者 ポーリング、ノー マン・エル アメリロウ・ 0発 明 者 ランコート、ジエームズ・ディ アメリー ヤーウ 力合衆国、95401 カリフォルニア州、サシタ・ローザ ロロード、276 9 力合衆国、95405 カリフォルニア州、サシタ・ローザ ジッド・ドライブ 、129FIG, 6° FIQ7 1) Indecency investigation report Continuation of page 1 ■Int, CI,' Identification code Internal reference number o Originator Polling, No Man L Amerilou 0 shots: Rancourt, James D. Amelie Yau Power United States, 95401 California, Sashita Rosa Loroad, 276 9 Power United States, 95405 California, Sashita Rosa Gid Drive , 129

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1. 中位から高い粘性のコーティングをディスクサブストレートへ付与して非 常に精密な厚さ均一性を生じる方法において、 コーティング混合物を調製するステップと、前記ディスク表面に円状またはスパ イラル状に延びる1法ないし数本のアーチ状のビードセグメントを形成するため に、前記ディスク表面へ所定の流れでこの混合物を付与するステップを含み、 前記混合物は平坦化してめられるコーティングを形成するように調製されて付与 されることを特徴とするコーティングを付与する方法。 2、 前記混合物は″“自己平坦化″するように調製されて、前記ビードセグメ ントは互いに隣接またはほぼ接触して配布されることを特徴とする請求の範囲第 1項記載の方法。 3、 前記混合物は配布するのに適した所定の粘性を示すのみならず前にディス ク表面に対する所定のチキントロビ(を旧xotropy)と濡れ特性を示すよ うに調製されてノズルを介して配布され、それによってその配布されたビードセ グメントが平坦化するのに十分な時間だけ前記ディスク表面上で“セットアツプ ”できることを特徴とする請求の範囲第1項記載の方法。 4、 前記混合物は゛自己平坦化”するように調製され、前記ビードセグメント は互いに隣接またはほぼ接触した状態で配布されることを特徴とする請求の範囲 第3項記載の方法。 5、 前記ビード形成ステップの後に、前記混合物と前記ディスク表面を濡らす のに適した所定の溶媒の所定の比較的均一かつ連続的な“溶媒霧”の付与が続き 、この霧は付与されたビードと介在しているディスク表面を比較的連続的に濡ら してコートするように付与され、またこの溶媒は前記平坦化を開始させて促進さ せるように選択されて付与されることを特徴とする請求の範囲第3項記載の方法 。 6、 前記ビードは平坦化動作に適した所定のビード間隔で隔てられた一連の隣 り合うセグメントとなる1本の連続的なスパイラルとして与えられることを特徴 とする請求の範囲第1項記載の方法。 7、 前記混合物は配布するのに適した所定の粘性を示すのみならず前記セグメ ントと前記ディスク表面に対して所定のチキソトロビと濡れ特性をも示すように 調製されてノズルを介して配布され、それによって前記ビードは平坦化するのに 十分な時間だけ前記ディスク表面上で°゛セツトアツプ″きることを特徴とする 請求の範囲第6項記載の方法。 8、 前記混合物は前記“°濡れ性″のみならず前記“セットアツプ″作用を与 えるために特定化された所定の“セツティング界面活性剤”を含むように調製さ れることを特徴とする請求の範囲第7項記載の方法。 9、 前記混合物は少なくとも1つのアクリレートと少なくとも1つの関連する 粘性制御希釈剤および適合し得るクロスリンク成分を含み、さらに前記“濡れ性 ″と前記“セットアツプ”を与えるのに適した1またはそれ以上の適合し得る界 面活性材をも含むことを特徴とする請求の範囲第7項記載の方法。 10、前記ディスク表面は所定のポリマからなっており、前記ビードとこのポリ マ表面の前記濡れ性を与えるのみならず前記ビードを゛′上セツトツプ”するよ うに、対応する界面活性剤が仕立てられて含まれていることを特徴とする請求の 範囲第9項記載の方法。 11、 前記溶媒平坦化はアセトン、エチルアセテート。 塩化メチレン、またはメチルエチルケトンのような溶媒の非常薄い連続的なフィ ルムの付与によって達成されることを特徴とする請求の範囲第10項記載の方法 。 12、 請求の範囲第1項記載の方法による生成物。 13、 請求及範囲第2項記載の方法による生成物。 14、 請求の範囲第3項記載の方法による生成物。 15、 請求の範囲第10項記載の方法による生成物。 16、 前記ノズル手段は所定の配給速度で前記混合物を配布するように適合さ せられて制御され、前記ノズル手段は前記ディスクの半径方向に移動するように 適合させられて制御されるアーム手段上に装着されており、前記ディスクは非対 称なビード平坦化を打消すのに適したOから所定のrpmで随意に回転させられ ることを特徴とする請求の範囲第3項記載の方法。 17、 前記配給速度、前記移動速度、および前記ディスクのrpmは所定の均 一な寸法と形状の前記セグメントを所定の一定なセグメント間隔で配布するため に相互に制御されることを特徴とする請求の範囲第16項記載の方法。 18、 前記セグメントは隣接してまたはほぼ接触して配布され、それによって 自己平坦化が始められ、その配布は隣接するセグメントによる内向きの押圧を打 消すために“外から内″へ進められることを特徴とする請求の範囲第17項記載 の方法。 19、一定の配給速度のために、ディスクのrpmはセグメントの半径方向の位 置の関数として連続的に増大させられて、アーム速度も制御可能に変化させられ 、それによって最終的コーティングの厚さの均一性を改善することを特徴とする 請求の範囲第18項記載の方法。1. Apply a medium to high viscosity coating to the disc substrate for non-stick In a way that consistently produces precise thickness uniformity, preparing a coating mixture and applying a circular or sputtered coating onto the disk surface; To form one or several arch-shaped bead segments extending in an irradial shape. applying the mixture in a predetermined flow to the disk surface; The mixture is prepared and applied to form a flattened coating. A method for applying a coating characterized in that: 2. The mixture is prepared to be "self-flattening" so that the bead segment Claim 1, characterized in that the components are distributed adjacent to or substantially in contact with each other. The method described in Section 1. 3. The mixture not only exhibits a predetermined viscosity suitable for distribution, but also to show the wetting properties of a given chicken trobi (formerly known as xotropy) and bead set and distributed through the nozzle, thereby distributing the distributed beads. ``Set-up'' on the disk surface for a sufficient period of time to flatten the component. 2. The method according to claim 1, wherein: 4. The mixture is prepared to be "self-flattening" and the bead segments are distributed adjacent to or substantially in contact with each other. The method described in Section 3. 5. After the bead forming step, wetting the disk surface with the mixture This is followed by the application of a relatively uniform and continuous “solvent fog” of a given solvent suitable for , this mist wets the applied bead and intervening disk surface relatively continuously. The solvent also initiates and promotes the planarization. The method according to claim 3, characterized in that the method is selected and applied so as to . 6. The beads are arranged in a series of adjacent beads separated by a predetermined bead spacing suitable for the planarization operation. It is characterized by being presented as one continuous spiral with intersecting segments. The method according to claim 1. 7. The mixture not only exhibits a predetermined viscosity suitable for distribution but also and also exhibit predetermined thixotropic and wetting characteristics for the disc surface. prepared and distributed through a nozzle, thereby flattening the bead. ``setup'' on the disk surface for a sufficient period of time. The method according to claim 6. 8. The mixture provides not only the "wettability" but also the "set-up" effect. Formulated to contain a specific “setting surfactant” to 8. A method according to claim 7, characterized in that: 9. The mixture comprises at least one acrylate and at least one related including a viscosity controlling diluent and a compatible cross-linking component, further adding ” and one or more compatible fields suitable for providing said “setup”. 8. The method of claim 7, further comprising a surface-active material. 10. The disk surface is made of a predetermined polymer, and the bead and this polymer It not only provides the wettability of the surface of the matrix but also ``top-sets'' the bead. sea urchin, and a corresponding surfactant is included in the claim. The method described in Scope Item 9. 11. The solvent planarization is acetone, ethyl acetate. Very thin continuous filaments of solvents such as methylene chloride, or methyl ethyl ketone The method according to claim 10, characterized in that the method is achieved by adding a lume. . 12. A product produced by the method according to claim 1. 13. A product obtained by the method according to claim 2. 14. A product produced by the method according to claim 3. 15. A product produced by the method according to claim 10. 16. The nozzle means is adapted to dispense the mixture at a predetermined dispensing rate. and controlled so that said nozzle means moves in a radial direction of said disk. mounted on adapted and controlled arm means, said disc being non-paired; rotated at will at a predetermined rpm from O suitable to counteract typical bead flattening. 4. The method according to claim 3, characterized in that: 17. The dispensing speed, the moving speed, and the rpm of the disk are at a predetermined uniformity. for distributing said segments of uniform size and shape at predetermined constant segment intervals; 17. A method as claimed in claim 16, characterized in that the steps are mutually controlled. 18. said segments are distributed adjacently or nearly touching, thereby Self-flattening begins and its distribution counteracts inward pressure by adjacent segments. Claim 17, characterized in that it is advanced "from outside to inside" for erasing. the method of. 19. For a constant delivery rate, the rpm of the disk depends on the radial position of the segment. The arm speed is also controllably varied by being increased continuously as a function of the position. , thereby improving the uniformity of the final coating thickness. The method according to claim 18.
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