JPS6046557A - Lithographic original plate requiring no dampening water - Google Patents
Lithographic original plate requiring no dampening waterInfo
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- JPS6046557A JPS6046557A JP15302983A JP15302983A JPS6046557A JP S6046557 A JPS6046557 A JP S6046557A JP 15302983 A JP15302983 A JP 15302983A JP 15302983 A JP15302983 A JP 15302983A JP S6046557 A JPS6046557 A JP S6046557A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、感光波長域をカットする保護カバーを用いる
ことを特徴とする湿し水不要平版印刷原版に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a lithographic printing original plate that does not require dampening water and is characterized by using a protective cover that cuts the photosensitive wavelength range.
従来、シリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水不
要平版印刷原版としては種々のものが知られているが、
なかでも支持体に裏打ちされた感光層上にシリコーンゴ
ム層を設けてなる湿し水不要平版印刷版については過去
にいくつが提案されている。Conventionally, various types of lithographic printing plates that do not require dampening water have been known that use a silicone rubber layer as an ink-repellent layer.
Among them, several lithographic printing plates that do not require dampening water have been proposed in the past, which are formed by providing a silicone rubber layer on a photosensitive layer backed by a support.
たとえば、ネガ型に作用する版材としては、支持体上に
設けた光剥離性感光層上にシリコーンゴム層を設けて予
備増感されたものが、特開昭56−80046で提案さ
れている。また特開昭55−110249には支持体に
裏打ちされた光剥離性感光層上にアミノシランを含むシ
リコーンゴム層を設けてなる平版印刷版が提案されてい
る。For example, as a negative-working plate material, one in which a silicone rubber layer is provided on a photoreleasable photosensitive layer provided on a support and presensitized is proposed in JP-A-56-80046. . Further, JP-A-55-110249 proposes a lithographic printing plate in which a silicone rubber layer containing aminosilane is provided on a photoreleasable photosensitive layer backed by a support.
さらにポジ型に作用する版材としてはUSP−3677
18にはアルミ板に裏打ちされた光硬化型ジアゾ感光層
の上にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版が提案され
ている。Furthermore, USP-3677 is a plate material that works on positive type.
No. 18 proposes a lithographic printing plate in which a silicone rubber layer is provided on a photocurable diazo photosensitive layer backed by an aluminum plate.
このような印刷版において、該シリコーンゴム層上に保
護フィルムを設けるのが一般的であるが。In such printing plates, it is common to provide a protective film on the silicone rubber layer.
白色灯照明の暗室で印刷原版を取扱うと曝光され。When printing plates are handled in a dark room with white light, they are exposed to light.
使用不能になる。そのためPS版と同様、黄色螢光灯や
退色防止帯光灯のもとで取扱う必要がある。becomes unusable. Therefore, like the PS version, it must be handled under yellow fluorescent light or anti-fading light.
白色灯下でも取扱える明室安定性の良好な湿し水不要平
版印刷原版を得ることである。To obtain a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has good bright room stability and can be handled even under white light.
本発明は最−ヒ層にシリコーンゴム層を有する湿し水不
要平版印刷原版において、該シリコーンゴム層上に波長
が5000A以下の光線を60%以上カットする保護カ
バーを積層することを特徴とする湿し水不要平版印刷原
版に関するものである。The present invention is a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as the outermost layer, and is characterized in that a protective cover that cuts 60% or more of light having a wavelength of 5000 A or less is laminated on the silicone rubber layer. This invention relates to a lithographic printing original plate that does not require dampening water.
本発明において使用される保護カバーとしては波長が5
000A以下の光線を60%以上カットできるものであ
り、たとえば、無機顔料(セラミックブラック、アイア
ンオキサイド、チタニウムオキサイド、ジンクオキサイ
ドなど)、有機顔料(カーボンブランク、ボーンブラッ
クなど)、紫外線吸収剤(2−(2/−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキ
シペンゾフエノン、フェニルサリチレートなト)するい
は染料等を混入したポリエステル、ポリスチレン、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニル、ナイロンポリプロピレン、
ポリカーボネート、セロハン。The protective cover used in the present invention has a wavelength of 5
It can cut 60% or more of light rays of 000A or less, and includes, for example, inorganic pigments (ceramic black, iron oxide, titanium oxide, zinc oxide, etc.), organic pigments (carbon blank, bone black, etc.), ultraviolet absorbers (2- (2/-hydroxy-5
- polyester, polystyrene, polyethylene, polyvinyl chloride, nylon polypropylene mixed with methylphenyl)benzotriazole, 2-hydroxypenzophenone, phenylsalicylate or dyes, etc.
Polycarbonate, cellophane.
セルローズトリアセテート等のフィルム、合成紙紙、ア
ルミコート紙、フィルムコート終等が挙げられる。Examples include films such as cellulose triacetate, synthetic paper, aluminum coated paper, and film coated paper.
上記の保護カバーは波長が5000X以下の光線を全部
カットするものは非常に好ましいが、少なくとも60%
以上カットする必要があり、好ましくは80%以上カッ
トするものが有効である。It is very preferable for the above protective cover to block all light rays with a wavelength of 5000X or less, but at least 60%
It is necessary to cut by 80% or more, and it is effective to cut by 80% or more.
保護カバーの厚みとしてI′i特に制限はないが。There is no particular limit to I'i as the thickness of the protective cover.
取扱い上1〜300μ、より好ましくは6〜150μで
ある。For handling purposes, the thickness is 1 to 300μ, more preferably 6 to 150μ.
本発明が適用される湿し水不要平版印刷原版は。The present invention is applied to a planographic printing original plate that does not require dampening water.
基板に裏打ちされた感光性シリコーンゴム層を有するも
のであってもよいし、またシリコーンゴム層下に必要な
らば接着層を介して基板に裏打ちされた公知の感光層を
有するものであってもよい。It may have a photosensitive silicone rubber layer lined to the substrate, or it may have a known photosensitive layer lined to the substrate via an adhesive layer if necessary under the silicone rubber layer. good.
以下に上記の湿し水不要平版印刷原版を構成する基板、
感光性を有するシリコーンゴム層、感光層およびシリコ
ーンゴム層について説明する。Below are the substrates constituting the above-mentioned dampening water-free lithographic printing original plate,
The photosensitive silicone rubber layer, photosensitive layer, and silicone rubber layer will be explained.
基板としては、厚さが約10μ〜2 mm 、好ましく
は約50〜500μの紙、プラスチックフィルムもしく
はソート、金属板などが適当であるが。As the substrate, paper, plastic film or sort, metal plate, etc. having a thickness of about 10 .mu.m to 2 mm, preferably about 50 .mu.m to 500 .mu.m are suitable.
ゴム弾性を有する基板、シリンダー状の基板を用いても
よい。A substrate having rubber elasticity or a cylindrical substrate may also be used.
感光性シリコーンゴム層ハシリコーンゴム層そのものが
感光性のものであって、この場合には感光層は不要であ
る。感光性シリコーンゴムとしては、ジメチルポリシロ
キサンの末端OH基にγ−メタクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン。Photosensitive silicone rubber layer The silicone rubber layer itself is photosensitive, and in this case, no photosensitive layer is required. As the photosensitive silicone rubber, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane is used as the terminal OH group of dimethylpolysiloxane.
あるいはモノノンナモイルジエトキシシランヲ脱アルコ
ール縮合させた化合物、またポリジオルガノシロキサン
にビスアジド化合物を添加、あるいは、アクリロイルク
ロリドやp−アジドベンゾエートを反応させた化合物な
どを挙げることができる。Alternatively, examples include compounds obtained by dealcoholization condensation of monononnamoyldiethoxysilane, compounds obtained by adding a bisazide compound to polydiorganosiloxane, or compounds obtained by reacting acryloyl chloride or p-azidobenzoate.
また、シリコーンゴムに公知の感光性物質を混合して感
光性シリコーンゴム層として使用することもできる。Further, a known photosensitive substance may be mixed with silicone rubber and used as a photosensitive silicone rubber layer.
感光層は活性な光線を照射することにより光硬化または
光度溶化する性質を有する層である。その厚さは任意で
あるが、好ましくは約100μ以下であり、さらに好ま
しくは約05〜10μのものがさらに有用である。The photosensitive layer is a layer that has the property of being photocured or photosolubilized by irradiation with active light. Although its thickness is arbitrary, it is preferably about 100 microns or less, more preferably about 05 to 10 microns.
感光性物質としては1次のような構成のものが適当であ
る。As the photosensitive material, one having the following first-order structure is suitable.
(1) ジアゾ化合物
p−ジアゾジフェニルアミンのアルデヒド(ホルムアル
デヒドなど)縮合体のようなジアゾ樹脂。(1) Diazo compound Diazo resin such as an aldehyde (such as formaldehyde) condensate of p-diazodiphenylamine.
ジアゾ化ノボラック樹脂、p−ジアゾキノン、p−イミ
ノジアゾキノン、ジアゾニウム塩とポリビニルアルコー
ルとからなる感光性組成物、ポリ(ヒドロキシエチルメ
タクリレート)とジアゾ樹脂など。Diazotized novolak resin, p-diazoquinone, p-iminodiazoquinone, photosensitive composition comprising diazonium salt and polyvinyl alcohol, poly(hydroxyethyl methacrylate) and diazo resin, etc.
(2) オルトキノンジアジド類
オルトキノンジアジド系の感光性物質、オルトナフトキ
ノンジアジドとノボラックタイプのフェノール樹脂とか
らなる感光性組成物、キノンジアジドスルホン酸とノボ
ラック樹脂のエステル、キノンジアジドスルホン酸とポ
リアミノスチレンとのスルホンアミド、キノンジアジド
スルホン酸とポリヒドロキシスチレンとのエステル、キ
ノンジアジドスルホン酸とポリ−p−ヒドロキシメタク
リルアニリドなど。(2) Orthoquinonediazides Orthoquinonediazide-based photosensitive substances, photosensitive compositions consisting of orthonaphthoquinonediazide and novolac-type phenolic resin, esters of quinonediazide sulfonic acid and novolak resin, sulfonamides of quinonediazide sulfonic acid and polyaminostyrene. , esters of quinonediazide sulfonic acid and polyhydroxystyrene, quinonediazide sulfonic acid and poly-p-hydroxymethacrylanilide, and the like.
(3) アジド類(スルボニルアジド、カルボニルアジ
ドを含む)
4.4/−ジアジドスチルベン−2,2/−ジスルホン
酸の如き水溶性芳香族アジド化合物とアクリルアミドや
アクリル系モノマの共重合性ポリマの混合物、2,6−
ジ(4′−アジドベンザル)−4−メチルノロキサンや
4,4/−ジアジドベンゾフェノンの如き非水溶性芳香
族アジド化合物とポリビニルピロリドンもしくはその共
重合体との混合物、ポリビニル−p−アジドベンゾエー
トやp−アジドベンズアルデヒドでアセタール化したポ
リビニル−p−アジドベンザールなど。(3) Azides (including sulbonyl azide and carbonyl azide) 4. Mixture of a water-soluble aromatic azide compound such as 4/-diazidostilbene-2,2/-disulfonic acid and a copolymerizable polymer of acrylamide or acrylic monomer ,2,6-
A mixture of a water-insoluble aromatic azide compound such as di(4'-azidobenzal)-4-methylnoroxane or 4,4/-diazidobenzophenone and polyvinylpyrrolidone or a copolymer thereof, polyvinyl-p-azidobenzoate, etc. Polyvinyl-p-azidobenzal acetalized with p-azidobenzaldehyde, etc.
(4) ジアゾ化合物と無機酸あるいは有機酸とのコン
プレックス
ジアゾジフェニルアミンとリンタングステン酸との感光
性コンプレックスなどが挙げられる。(4) A complex of a diazo compound and an inorganic or organic acid; a photosensitive complex of diazodiphenylamine and phosphotungstic acid; and the like.
(5)1分子中に不飽和基などを2つ以上有する多官能
性のモノマーやオリゴマーなどを適当なポリマーバイン
ダーと混合したもの。(5) A mixture of polyfunctional monomers, oligomers, etc. having two or more unsaturated groups in one molecule with a suitable polymer binder.
代表的な光重合性の不飽和基としては、ア、クリロイル
基、メタクリロイル基、アクリルアミド基。Typical photopolymerizable unsaturated groups include a, acryloyl group, methacryloyl group, and acrylamide group.
マレイン酸エステル基、アリル基、ビニルエーテル基、
ビニルチオエーテル基、ビニルアミノ基。maleate ester group, allyl group, vinyl ether group,
Vinylthioether group, vinylamino group.
グリシジル基、アセチレン性不飽和基などが挙げられる
。Examples include glycidyl groups and acetylenically unsaturated groups.
(6) 既存の高分子に感光性の基をぺ/ダントさせる
ことにより得られる感光性高分子、あるいはそれを改質
したもの。(6) Photosensitive polymers obtained by pedanting photosensitive groups to existing polymers, or modified versions thereof.
代表的な感光性の基としては、オレフィン基。A typical photosensitive group is an olefin group.
シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、フエ=
/I/ 7 シトM r ”アソ基、α−フェニルマレ
イミド基などが挙、けられる。Cinnamoyl group, cinnamylideneacetyl group, Fe=
/I/ 7 Mr ``Aso group, α-phenylmaleimide group, and the like.
本発明に用いられるシリコーンゴム層は9通常約0.5
〜100μ、好ましくは約0.5〜60μの厚みを有し
1次のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十刃
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。The silicone rubber layer used in the present invention is usually about 0.5
The main component is a linear organopolysiloxane having a thickness of ~100μ, preferably about 0.5~60μ, and a molecular weight of several thousand to several dozen blades and having a repeating unit such as the first order.
(ここで、nは2以上の整数、Rは炭素数1〜10のア
ルキル基、アルクニル基あるいはアリール基であり、R
の60%以上がメチル基であるものが好ましい)
この線状有機ポリシロキサンには1通常架橋剤。(Here, n is an integer of 2 or more, R is an alkyl group, alknyl group, or aryl group having 1 to 10 carbon atoms, and R
(Preferably, 60% or more of the methyl groups are methyl groups.) This linear organopolysiloxane usually contains a crosslinking agent.
触媒等が添加される。A catalyst etc. are added.
架橋剤としては、たとえばアセトキシシラン。Examples of crosslinking agents include acetoxysilane.
ケトオキシムンラン、アルコキシシラン、アミノシラン
などが、また触媒としては、たとえば有機スズ化合物等
が用いられる。Ketooxysilane, alkoxysilane, aminosilane, etc. are used, and as the catalyst, for example, an organic tin compound etc. are used.
シリコーンゴム層の厚さは05〜20μが望ましい。ま
た必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層間あるいは
シリコーンゴム層または感光層と基板間の接着のために
1層間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカップ
リング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光
層に公知のシリコーンプライマ′やシランカップリング
剤を添加することも効果的である。The thickness of the silicone rubber layer is preferably 05 to 20 microns. In addition, if necessary, a known silicone primer or silicone coupling agent layer may be provided between the silicone rubber layer and the photosensitive layer or between the silicone rubber layer or the photosensitive layer for adhesion between the silicone rubber layer or the photosensitive layer and the substrate. It is also effective to add a known silicone primer or silane coupling agent.
次に本発明の湿し水不要平版印刷原版の製造方法の手順
について説明する。Next, the steps of the method for manufacturing a lithographic printing original plate that does not require dampening water according to the present invention will be explained.
まず基板の上に、リバースロールコータ、エアーナイフ
コータなどの通常のコータあるいはボエラのような回転
塗布装置を用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布
、乾燥および必要に応じて熱キュア後、シリコーンガム
溶液を感光層上に同様の方法で塗布し2通常100〜1
20℃の温度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめて
シリコーンゴム層を形成する。First, a composition solution to form a photosensitive layer is applied onto the substrate using a conventional coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, or a rotary coating device such as Boera, followed by drying and heat curing if necessary. , a silicone gum solution is applied on the photosensitive layer in the same manner as 2, usually 100 to 1
Heat treatment is performed at a temperature of 20° C. for several minutes to fully cure and form a silicone rubber layer.
次に保護層として、波長が5000A以下の光線を60
チ以上カットする保護カバーをシリコーンゴム層上にラ
ミネータ等を用いて張り合わせることにより湿し水不要
平版印刷原版が得られる。Next, as a protective layer, light rays with a wavelength of 5000A or less are
A lithographic printing original plate that does not require dampening water can be obtained by laminating a protective cover that is cut more than one inch onto the silicone rubber layer using a laminator or the like.
このようにして得られた湿し水不要平版印刷原版は、保
護カバーを剥離し、真空密着された原画フィルムを通し
て活性光線で露光される。露光後。The thus obtained lithographic printing original plate that does not require dampening water is exposed to actinic rays through an original film that is vacuum-adhered after the protective cover is peeled off. After exposure.
湿し水不要平版印刷版にとって公知の現像液で現像する
ことにより印刷版が得られる。A printing plate is obtained by developing with a known developer for a lithographic printing plate that does not require dampening water.
本発明になる湿し水不要平版印刷原版によれば次のよう
な効果が達成される。According to the lithographic printing original plate that does not require dampening water according to the present invention, the following effects can be achieved.
(1) 明室灯下に印刷原版を放置しておいても活性光
線があたらないため印刷原版が使用不能になることはな
い。(1) Even if the original printing plate is left under a bright room light, the original printing plate will not become unusable because it will not be exposed to active rays.
(2)製造工程での印刷原版のカッティング梱包作業な
どを明室下で行なえるため1作業能率が向上する。(2) Work efficiency is improved because printing original plate cutting and packaging operations can be performed in a bright room during the manufacturing process.
(3) 印刷原版へのゴミ等の異物の付着防止などに効
果が発揮できる。(3) Effective in preventing foreign matter such as dust from adhering to printing plates.
以下実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples.
実施例1〜4 比較例1,2
化成処理アルミ板(住友軽金属製:厚さ0.24−)に
下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃・2分加熱
処理して厚さ2.2μの感光層を設けた。Examples 1 to 4 Comparative Examples 1 and 2 The following photosensitive layer composition was spin coated on a chemically treated aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals, thickness 0.24-), and heated at 120°C for 2 minutes to give a thickness of 2. .2 micron photosensitive layer was provided.
(a)エステル化度44%のフェノールノボラック樹脂
(スミライトレジンpR5023,5,住友デュレズ製
)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル 100部(b) 4* ”−ジフェニルメタ
ンジイソシアナートろ 0部
(C) パラトルエンスルホン
(d) ジブチルスズジアセテート 02部(θ) テ
トラヒドロフラン 2000音す続いてこの上に下記の
シリコーンゴム組成物を回転塗布後,120℃・3分で
力n熱硬イヒして厚み2、6μのシリコーンゴム層を設
けた。(a) 100 parts of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of phenol novolac resin (Sumilight Resin pR5023, 5, manufactured by Sumitomo Durez) with a degree of esterification of 44% (b) 4*''-diphenylmethane diisocyanate Natoro 0 parts (C) Paratoluenesulfone (d) Dibutyltin diacetate 02 parts (θ) Tetrahydrofuran 2,000 parts Then, after spin-coating the silicone rubber composition below, heat it at 120°C for 3 minutes. A silicone rubber layer with a thickness of 2.6 μm was provided by hardening.
(a) ジメチルポリシロキサン 100部(分子量約
so,ooo末端水酸基)
(b) ビニルトリメチルエチルケト 8部オキシムシ
ラン
(C) ジブチルスズジアセテー) 0. 2 部(d
) γーアミノプロピルトリメト 2部キシシラン
(θ) アイツノニーE 1soo部
さらに,このシリコーンゴム層の上に表1に示す保護カ
バーをラミネータで張り合わせ,湿し水不要平版印刷原
版を作成した。(a) Dimethylpolysiloxane 100 parts (molecular weight approximately so, ooo terminal hydroxyl group) (b) Vinyltrimethylethylketo 8 parts oximesilane (C) dibutyltin diacetate) 0. 2 parts (d
) 2 parts of γ-aminopropyl trimeto Xysilane (θ) 1 part of Aitunony E Furthermore, a protective cover shown in Table 1 was laminated onto this silicone rubber layer using a laminator to prepare a lithographic printing original plate that did not require dampening water.
上記のようにして得られた湿し水不要子n反印届11原
版を白色灯下1.5mの所に放置し曝光許容時間を調べ
た。曝光許容時間は現像液でグレースケール感度を評価
したとき曝光の有無によるグレースケール感度の変化幅
を2以下となる時間とする。The dampening water unnecessary child n anti-seal notification 11 original plate obtained as described above was left at a distance of 1.5 m under a white light, and the allowable exposure time was examined. The permissible exposure time is defined as the time at which the range of change in gray scale sensitivity due to the presence or absence of light exposure is 2 or less when the gray scale sensitivity is evaluated using a developer.
実施例1のように活性光線をまったく通さない場合は曝
光許容時間が大幅に改善されている。また実施例2〜4
の如き5000X以下の波長のカット率が小さくなるに
したがって曝光許容時間が短くなったが,実用性を有す
る保護カバーであると判断される。When no actinic rays are transmitted at all as in Example 1, the allowable exposure time is significantly improved. Moreover, Examples 2 to 4
Although the allowable exposure time became shorter as the cut rate for wavelengths of 5000X or less became smaller, it is judged that the protective cover has practical utility.
一方,比較例のポリプロピレンまたは保護カバーなしの
場合においては曝光許容時間が3〜5分と非常に短かっ
た。On the other hand, in the comparative example of polypropylene or without a protective cover, the allowable exposure time was very short, 3 to 5 minutes.
実施例5 比較例3
厚み0.24 mmのアルミ板(住友軽金属製)にレゾ
ール樹脂(スミライトレジンPC−1:住友デュレズ製
)を1μの厚みに塗布し、180r:で6分間キュアし
て基板とした。この基板にエステル化度44%の7エノ
ールノボラツク樹脂(住人デュレズ製:スミレジンPR
50235)のナフトキノン−1,2−、、>アジド−
5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分97重
量%、エステル化度はIRスペクトルから定量)の6重
量係ジオキサン溶液をホエラで回転塗布、乾燥させて2
μの感光層を形成した。この上に次の組成物を回転塗布
後、12DC・4分で加熱硬化して厚み25μのシリコ
ーンゴム層を設けた。Example 5 Comparative Example 3 A resol resin (Sumilight Resin PC-1: manufactured by Sumitomo Durez) was applied to a thickness of 1μ on an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal) with a thickness of 0.24 mm, and cured at 180r for 6 minutes. It was used as a substrate. This substrate was coated with a 7-enol novolac resin with a degree of esterification of 44% (Sumiresin PR manufactured by Jumyu Durez).
50235) naphthoquinone-1,2-,,>azide-
A 6-weight dioxane solution of 5-sulfonic acid ester (ethanol-soluble component: 97% by weight, degree of esterification determined from IR spectrum) was spin-coated with a wheal and dried.
A photosensitive layer of μ was formed. A silicone rubber layer having a thickness of 25 μm was provided by spin-coating the following composition on top of this and curing it by heating at 12 DC for 4 minutes.
(a) ジメチルポリシロキサン 100部(分子量約
30,000.末端OH基)(b) メチルトリアセト
キシシラン 6部(C) ジブチルススジアセテート
02部(d) γ−アミノプロピルトリエト 35部キ
7ンラン
(θ)アイソパーE 1500部
次いでこのシリコーンゴム層上に実施例1で用いたカー
ボンブラックを混入したルミラー(50μ)をラミネー
タで張り合わせて湿し水不要平版印刷原版を作成した。(a) Dimethylpolysiloxane 100 parts (molecular weight approximately 30,000, terminal OH group) (b) Methyltriacetoxysilane 6 parts (C) Dibutylstin diacetate
02 parts (d) 35 parts of γ-aminopropyl triethate 1500 parts of Quinane (θ) Isopar E Next, Lumirror (50μ) mixed with carbon black used in Example 1 was laminated on this silicone rubber layer using a laminator. A lithographic printing original plate that does not require dampening water was created.
上記のようにして得られた湿し水不要平版印刷原版を明
室下に数日放置してから、ルミラーを剥いで150線/
インチの網点画像を持つネガフィルムを通してメタルハ
ライドランプ(岩崎電気製アイドルフィン2000)を
用い、1mの距離から60秒照射した。次いで、この露
光された印刷原版は、エタノール/アイソパーE (6
5/ 35重量比)からなる現像液を用いて現像したと
ころ。The lithographic printing original plate that does not require dampening water obtained as described above was left in a bright room for several days, and then the Lumirror was removed and 150 lines/
The film was irradiated for 60 seconds from a distance of 1 m using a metal halide lamp (Idolfin 2000, manufactured by Iwasaki Electric) through a negative film having a halftone dot image of 1.5 inches. This exposed printing plate was then treated with ethanol/isopar E (6
5/35 weight ratio).
露光部は容易に除去されて基板が露出し、一方。On the other hand, the exposed area is easily removed to expose the substrate.
未露光部はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネ
ガフィルムを忠実に再現した画像を持つ印刷原版が得ら
れた。The silicone rubber layer remained firmly in the unexposed areas, and a printing original plate with an image that faithfully reproduced the negative film was obtained.
一方、比較例として保護カバーを剥いだ湿し水不要平版
印刷原版を明室下に10分間放置した後。On the other hand, as a comparative example, a lithographic printing original plate that does not require dampening water was left in a bright room for 10 minutes with the protective cover removed.
上記に示したように露光、現像したところ9本来非画線
部となるべきシリコーン層までが除去され。When exposed and developed as shown above, even the silicone layer 9, which should originally be a non-image area, was removed.
印刷版を得ることができなかった。It was not possible to obtain a printed version.
特許出願人 東 し 株 式 会 社Patent applicant Higashi Shikikai Co., Ltd.
Claims (1)
原版において、該シリコーンゴム層上に波長が5000
A以下の光線を60%以上カットする保護カバーを積層
したことを特徴とする湿し水不要平版印刷原版。In a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as the uppermost layer, the silicone rubber layer has a wavelength of 5000 nm.
A lithographic printing original plate that does not require dampening water and is characterized by being laminated with a protective cover that cuts 60% or more of light rays of A or lower.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15302983A JPS6046557A (en) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | Lithographic original plate requiring no dampening water |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15302983A JPS6046557A (en) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | Lithographic original plate requiring no dampening water |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6046557A true JPS6046557A (en) | 1985-03-13 |
Family
ID=15553406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15302983A Pending JPS6046557A (en) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | Lithographic original plate requiring no dampening water |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6046557A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02235064A (en) * | 1989-03-09 | 1990-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Damping-waterless photosensitive planographic printing plate |
JPH04299351A (en) * | 1991-03-28 | 1992-10-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming photosensitive laminated material |
JPH0779030A (en) * | 1993-07-27 | 1995-03-20 | Man Roland Druckmas Ag | Preparation of pzt layer |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP15302983A patent/JPS6046557A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02235064A (en) * | 1989-03-09 | 1990-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Damping-waterless photosensitive planographic printing plate |
JPH04299351A (en) * | 1991-03-28 | 1992-10-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming photosensitive laminated material |
JPH0779030A (en) * | 1993-07-27 | 1995-03-20 | Man Roland Druckmas Ag | Preparation of pzt layer |
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